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国際特許分類[H01G7/02]の内容

国際特許分類[H01G7/02]に分類される特許

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【課題】エレクトレット誘電体膜に帯電している表面電圧を簡易な手法にて所定の電圧に調整し得るようにする。
【解決手段】例えば固定極20側に一体に含まれているエレクトレット誘電体膜23に帯電している表面電圧を調整するにあたって、アルコール蒸気を含む圧搾空気47をエレクトレット誘電体膜23の全面に吹き付けて、エレクトレット誘電体膜23の表面電圧を所定の電圧値に調整する。 (もっと読む)


【課題】エレクトレット膜に蓄積される電荷が小さくなるのを抑制することが可能なエレクトレット素子を提供する。
【解決手段】このエレクトレット素子100は、電荷を蓄積することが可能なエレクトレット膜2と、エレクトレット膜2の側端面の周囲を取り囲むように形成され、エレクトレット膜2に蓄積された電荷が流出するのを抑制する電荷流出抑制膜3とを備える。 (もっと読む)


【課題】エレクトレット膜に蓄積された電荷が減少するのを抑制することが可能なエレクトレット素子を提供する。
【解決手段】このエレクトレット素子100は、電子が注入されたエレクトレット膜3と、エレクトレット膜3の表面上に設けられるとともに、エレクトレット膜3の電子親和力Vよりも小さい電子親和力Vを有するバリア膜4とを備えている。 (もっと読む)


【課題】運動エネルギと電気エネルギとの変換効率を向上させることが可能な静電誘導型変換装置を提供する。
【解決手段】この静電誘導型発電装置(静電誘導型変換装置)300は、集電電極321および322を含む固定基板320と、エレクトレット部材312を含む可動基板310とを備えている。そして、可動基板310および固定基板320は、間隔を隔てて対向するように設けられるとともに、互いに相対的に移動可能なように構成されている。 (もっと読む)


【課題】シリコン酸化膜からなるエレクトレット膜の表面電位を大きくすることが可能なエレクトレット素子を提供する。
【解決手段】このエレクトレット素子10は、主表面1aに溝部1bが形成されたシリコン基板1と、シリコン基板1の主表面1a上に、溝部1bの内表面を覆うように形成されたシリコン酸化膜からなるエレクトレット膜2とを備えている。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板をマイクロ加工して形成されるコンデンサマイクロホンの誘電体膜を、無理なくエレクトレット化することが可能であり、また、製造ばらつきや部品の特性ばらつきに起因して生じるマイクロホン感度の変動についても対策可能である、コンデンサマイクロホン用の新規なエレクトレット化技術を提供する。
【解決手段】シリコンウェハを加工することにより、複数の音孔を有する固定電極と、この固定電極と所定間隔を隔てて配置される導電性の振動膜と、この振動膜上に設けられる誘電体膜とを有するコンデンサマイクロホンを形成する工程と、前記シリコンウェハをダイシングラインに沿ってダイシングし、コンデンサマイクロホンを形成する工程とを含み、ダイシングに先立ち、コロナ放電を行い、発生するイオンを前記固定電極に設けられた前記複数の音孔を経由して、前記誘電体膜のエレクトレット化を行うエレクトレット化工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】高い電荷密度を有する領域をエレクトレット膜に形成することが可能なエレクトレット素子を提供する。
【解決手段】このエレクトレット素子10は、電荷を蓄積することが可能なエレクトレット膜2と、エレクトレット膜2の高い電荷密度を有する領域21の上面上に形成され、エレクトレット膜2に蓄積された電荷が流出するのを抑制する電荷流出抑制膜3とを備える。 (もっと読む)


【課題】コンデンサの使用可能な帯域を広くする。
【解決手段】一対の電極と、該一対の電極に挟まれた誘電体とを有するコンデンサにおいて、前記誘電体の配向分極が消失する周波数が、コンデンサの自己共振周波数より低く設定されている。例えば、図の特性を有する誘電体では10Hz付近において誘電緩和が発生しているが、この誘電体を使用する場合には自己共振周波数が10Hz以上となるようにする。具体的には、そのように誘電体について緩和時間を調整し、その誘電体を用いてコンデンサを作製する。 (もっと読む)


【課題】耐湿性等の信頼性を向上させたエレクトレットコンデンサを提供する。
【解決手段】エレクトレットコンデンサは、固定電極となるポリシリコン膜115と、当該ポリシリコン膜115とエアギャップ125を挟んで対向し且つ振動電極となるポリシリコン膜102と、当該ポリシリコン膜102におけるエアギャップ125側の面上に設けられ且つエレクトレット膜となるシリコン酸化膜105とを備えている。振動電極となるポリシリコン膜102の面積は、固定電極となるポリシリコン膜115の面積よりも小さい。また、固定電極となるポリシリコン膜115の容量生成部には複数の音孔124がエアギャップ125と接続するように設けられている。さらに、固定電極となるポリシリコン膜115の非容量生成部には複数の貫通孔126がエアギャップ125と接続するように設けられている。 (もっと読む)


【課題】 微細加工の困難性を回避しつつ、容量の抑制を図り、良好なチューナビリティを確保する。
【解決手段】 SiO2を含有する有機物溶媒を高誘電率層16の主面上にスピンコートして加熱脱媒処理することで、低誘電率層18が点在形成する。上面電極20側から見ると、高誘電率層16が電極間に挟まれた領域と、高誘電率層16及び低誘電率層18が電極間に挟まれた領域とが存在するようになる。これを等価回路として示すと、図1(C)のように、高誘電率層16による容量CHA及び低誘電率層18による容量CLAの直列接続に、高誘電率層16による容量CHBを並列接続した回路となり、電極14,20間の全容量は、C≒CHB+CLAとなる。低誘電率層18の占有面積を調節することにより、容量の増加を抑制しつつ、チューナビリティが確保される。 (もっと読む)


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