【課題】マイクロ波イオン源のプラズマチャンバの例えば真空窓を保護する。
【解決手段】マイクロ波イオン源１０は、マイクロ波を受け入れるための真空窓２４を有するプラズマチャンバ１２と、マイクロ波の伝搬方向またはその逆方向を向く磁場を発生させる電磁石２０と、永久磁石２２と、を含み、電磁石２０による磁場と同一方向を向く合成磁場をプラズマチャンバ１２に発生させる磁場発生器１６と、を備える。永久磁石２２は、合成磁場の強度分布のピークを、電磁石２０による磁場の強度分布のピークよりも真空窓２４に近づけるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオン源の製造コストを低減させる。
【解決手段】ＥＣＲイオン源のミラー磁場発生装置１は、プラズマを生成し閉じ込めるプラズマチャンバー２と、正多角形または円形の複数の永久磁石３２がプラズマチャンバー２の周囲に配置され、該複数の永久磁石３２によりプラズマチャンバー２内のプラズマを閉じ込めるミラー磁場を生成するミラー磁場生成部３と、を備える。汎用性のある永久磁石を用いてプラズマチャンバーにミラー磁場を発生させることができるので、永久磁石の配置や個数を調整することでミラー磁場を簡便に調整することができる。つまり、ＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、新たな仕様に応じたサイズや特性の異なる永久磁石を作成することなく、仕様変更に対応可能となる。この結果、プラズマチャンバーの大型化などＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、製造コストを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオン源を用いて、原子内包フラーレンを容易に形成し、かつイオンビームとして引き出し、分析するＥＣＲイオン源装置を提供する。
【解決手段】常温で気体の物質と、高融点の物質のガスのＥＣＲプラズマを生成可能なＥＣＲチェンバ部１ａと、フラーレンガス供給用の蒸発源１０８を有するプロセスチェンバ部１ｂと、イオン引き出しメッシュ電極１０４と、イオンアパーチャ１０７とを備え、イオン引き出しメッシュ電極１０４とイオンアパーチャ１０７への印加電圧を制御することにより、ＥＣＲプラズマのプラズマポテンシャルを制御し、ＥＣＲプラズマからイオンのみをプロセスチェンバ部１ｂへ抽出し、当該イオンをフラーレンにイオン注入し、フラーレン誘導体を生成すると同時に、イオンアパーチャ１０７よりイオンビーム９４として引き出し、分析するＥＣＲイオン源装置５０。 （もっと読む）

【課題】効率的なガス供給並びに、イオン源の作動ガス交換時の迅速な反応時間を可能にすること。
【解決手段】プラズマチャンバと電極を有しており、当該電極はプラズマチャンバの方へ延在しており、イオン化されるガスのためのガス線路が前記電極の全長にわたって当該電極に対して平行に延在している、粒子線を生成するためのイオン源。 （もっと読む）

高密度の幅広リボンビームを生成することができる、１または複数のプラズマ源を利用するイオン源が開示される。このイオン源は、拡散チャンバをさらに含む。この拡散チャンバは、プラズマ源の誘電体シリンダと同じ軸の方向に向いた抽出用開口を有している。一実施例において、拡散チャンバの対向する端部に位置する、デュアルプラズマ源を使用してより均一な抽出イオンビームを生成する。更なる実施例において、マルチカスプ磁場を使用して、抽出イオンビームの均一性を更に改善する。
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【課題】小型で軽量、かつ高安定で長寿命なイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１００は、プラズマ１０１を生成するための誘電体からなる放電管１０２が、マイクロ波発振器１０３と接続された導波管１０４を貫通して配置されている。また、プラズマ１０１からイオンビーム１０６を引き出すための引き出し電極１０７ａ，１０７ｂが設けられている。さらに、放電管１０２が貫通している導波管１０４の両面には、永久磁石１０９，１１０が配置されており、その両者は、強磁性部材１１１によって磁気的に接続されている。さらに、導波管１０４の終端にはファン１１４が設けられており、放電管１０２を気流により直接冷却可能な構造となっている。 （もっと読む）

本発明は、長軸(ＡＡ')に沿う軸方向の対称性を持つ真空気密チェンバー(２)、
軸(ＡＡ')に関して回転対称性を持つ磁場を発生させるための手段(３、４、５、６)、そ
して高周波を伝搬するための手段からなるＥＣＲイオン・ゼネレータ(１)に関する。チェンバー(２)は、イオンが生成されるイオン化ゾーン(１０)を持つチェンバー(２)の一端にイオン化第一ステージ(７)、ゾーン(１０)内で軸(ＡＡ')にほぼ平行な磁場、そして伝搬
手段から来る第一の高周波を使用する生成されたイオンを磁気的に閉じ込めるための第二のステージ(８)を持つ。磁場が、ゾーン(１０)と第二のステージ(８)との間で軸(ＡＡ')
にほぼ平行であるため、ゾーン(１０)内で生成されたイオンは、第二のステージ(８)の方へ移動する。また、第一および第二のステージ(７、８)は、同じＤＣプラズマを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、プラズマ生成用の磁場が引き出し電極空間へ漏洩するのを防ぎ、電極表面の汚染や損傷を抑えて長時間安定なイオンビームを得ることができるイオン源を提供することにある。さらに漏洩磁場によるビームの発散を抑えた収束性のよいイオンビームが得られるイオン源を提供することにある。
【解決手段】
円筒状の放電室１と、該放電室１に磁場を発生する手段と、矩形断面から円形断面に変換するマイクロ波の変換導波管９により前記放電室１にマイクロ波を導入してプラズマを生成し、生成されたプラズマから３枚以上で構成されるイオン引き出し電極によってイオンビームを引き出すイオン源において、前記磁場を発生する手段の周囲あるいは周囲の一部に磁性体を配置するようにしたものである。さらに変換導波管９の一部及び放電室１の一部を磁性体で構成するとともにプラズマ電極１１を磁性体で構成したものである。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオンソースに関し、小さな体積で引出側の磁場強度を強めることができるようにすることによって、低費用高効率のイオンビーム生成が可能であり、小型軽量にて装置の消費電力節減をもたらして経済性を確保することができるようにする。
【解決手段】イオン引出部１ｂ側のプラズマチェンバー１に縮管部が形成され、縮管部の外側に第４永久磁石部６が具備され、縮管部によって縮小された直径分だけ第４永久磁石部６を含むイオン引出部１ｂ側の全体的な外径が小さくなるように構成し、縮管部は、内部に直径の縮小されたプラズマ電極１１及び引出電極１２とを含むことによって、低費用高効率のイオンビーム生成が可能である。 （もっと読む）

【課題】単位時間当たりの中性子発生量を増加することができるイオン発生装置および中性子発生装置を提供すること。
【解決手段】中性子発生装置１は、イオン発生装置２を備え、このイオン発生装置２は、重水素ガスまたは三重水素ガスが供給されるイオン発生管２１と、イオン発生管２１の外部に配置され、このイオン発生管２１に磁界を発生させる磁石２３と、イオン発生管２１の外部に配置され、このイオン発生管２１に電界を発生させるプラズマ発生用アンテナ２２と、プラズマ発生用アンテナ２２に高周波電力を供給する高周波電源２４と、を備える。高周波電源２４は、イオン発生管２１においてプラズマの非定常状態を繰り返し発生するように、プラズマ発生用アンテナ２２に、高周波電力をパルス制御して供給する。 （もっと読む）