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国際特許分類[H01J27/24]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | イオンビーム管 (482) | イオン源;イオン銃 (482) | 光電離を利用するもの,例.レーザビームを用いるもの (22)

国際特許分類[H01J27/24]に分類される特許

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本発明は、長軸(AA')に沿う軸方向の対称性を持つ真空気密チェンバー(2)、
軸(AA')に関して回転対称性を持つ磁場を発生させるための手段(3、4、5、6)、そ
して高周波を伝搬するための手段からなるECRイオン・ゼネレータ(1)に関する。チェンバー(2)は、イオンが生成されるイオン化ゾーン(10)を持つチェンバー(2)の一端にイオン化第一ステージ(7)、ゾーン(10)内で軸(AA')にほぼ平行な磁場、そして伝搬
手段から来る第一の高周波を使用する生成されたイオンを磁気的に閉じ込めるための第二のステージ(8)を持つ。磁場が、ゾーン(10)と第二のステージ(8)との間で軸(AA')
にほぼ平行であるため、ゾーン(10)内で生成されたイオンは、第二のステージ(8)の方へ移動する。また、第一および第二のステージ(7、8)は、同じDCプラズマを含む。 (もっと読む)


【課題】ターゲットに照射したレーザー光がもつエネルギーを効率良くイオン加速に利用することができるイオン加速方法及び装置を実現する。
【解決手段】レーザー光3を照射する前段部分2aの電子密度を臨界条件とし、前段部分に後続する後段部分2bの電子密度が漸次に減少する構成のターゲット2を使用し、ターゲットの前段部分にレーザー光を照射して入射したレーザー光の群速度を該前段部分において0にまで減速させることによりレーザー光のエネルギーを電子に伝達し、エネルギーを受け取った前記電子を前段部分に後続する後段部分により漸次的に加速して該電子によりイオンを加速して該後段部分から放出する。 (もっと読む)


【課題】測定時間を短縮して従来にはない高精度の測定が可能になるように、偏極率が18%を超える高い偏極率をもった偏極イオンビームを発生させる方法とその装置を提供する。
【解決手段】偏極イオンビーム発生方法は、2への遷移に対応するD線に波長調整した円偏光と直線偏光とを互いに直角の照射方向から準安定ヘリウム原子へ照射して光ポンピングすることを特徴とする構成を採用した。 (もっと読む)


【課題】ヘリウムイオンビームを用いて、表面・界面の原子配列を解析する装置に用いるイオンビーム発生装置に関し、簡便で汎用性のあるイオンビームの大電流化方法を提供する。
【解決手段】イオンビーム発生装置は、高周波放電によりヘリウムプラズマを発生させる高周波放電管1と、波長調整可能で光ポンピングが可能なレーザ発生装置13と、レーザ発生装置からのレーザ光を高周波放電管内に照射するレーザ照射装置と、レーザ光の波長を観察する観察装置とからなる。イオンビーム発生方法は、高周波放電によるヘリウムプラズマ中に波長1083nmのレーザ光を照射して光ポンピングする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、化学的に安定な金属クラスター錯体等の多核金属分子(金属クラスター錯体等)を使うことによって、サイズの揃ったクラスターのビームを安定に得るとともに、装置の小型化を実現することを目的とする。
【解決手段】 本発明の分子ビーム装置は、金属クラスター錯体を用いてイオンビームを生成する分子ビーム装置において、気化させた金属クラスター錯体をイオン化することを特徴とする。
また、本発明の分子ビーム装置は、気化させた金属クラスター錯体を電子衝撃によりイオン化することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、化学的に安定な金属クラスター錯体等の多核金属分子を使うことによって、サイズの揃ったクラスターのビームを安定に得るとともに、装置の小型化を実現することを目的とする。
【解決手段】
(1)本発明の多核金属分子ビーム装置は、多核金属分子を用いてイオンビームを生成する装置において、多核金属分子を気化させると同時にイオン化することを特徴としている。
(2)また、本発明の多核金属分子ビーム装置は、上記(1)において、多核金属分子をレーザーアブレーションによりイオン化することを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】高効率のレーザー→高速イオン変換により高速イオンを発生させるための方法及び装置を提供することである。
【解決手段】有効な厚みが0.3mm以下である低密度導電性第一ターゲットにレーザーを1015W/cm以上に集光し、該第一ターゲットのレーザー照射部の裏側から高速イオンを放出させる工程を含む、高速イオンの発生方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】内包フラーレンの製造などに用いられる接触電離方式のプラズマ源は、タングステン製の平坦な円板状加熱金属体にイオン生成対象の金属蒸気を噴射して金属イオンを発生していたが、イオン化確率が小さく、十分なイオン電流がとれないという問題があった。
【解決手段】イオン生成対象の金属蒸気に加熱金属体上で光を照射し金属原子における電子を励起することにした。加熱金属体の材料として、仕事関数の大きいRe、Os、又はIrを用いることにした。さらに、加熱金属体の表面を凹凸状に加工することにより、イオン化確率を高め、大きなイオン電流の取り出しが可能になった。
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【解決手段】 レーザー加速イオンビームを設計する方法を開示している。当該方法は、重イオン層と、電場と、最大の軽い陽イオンエネルギーを有した高エネルギーの軽い陽イオンとを含むシステムをモデル化する工程と、前記重イオン層と、前記電場と、前記最大の軽い陽イオンエネルギーとの物理パラメータを、前記モデルを使って相関する工程と、前記高エネルギーの軽い陽イオンのエネルギー分布を最適化するため、前記重イオン層の前記パラメータを変化させる工程とを含む。一方法は、2次元PIC(particle in cell)シミュレーションおよび1次元解析モデルを使って、高出力レーザーパルスと2層構造の標的との相互作用から軽い陽イオン(例えば陽子)の加速を解析する工程を含む。加速された軽い陽イオン(陽子など)が獲得する最大エネルギーは、このモデルにおいて、前記重イオン層の物理特性―電子とイオンとの質量比およびイオンの実効荷電状態―に依存する。電子種および重イオン種の双方についての流体力学方程式の解と、陽子についてのテスト粒子近似値とが、適用される。前記重イオンの運動が長手方向の電場分布を修正し、軽い陽イオンに対する加速条件を変化させることがわかった。 (もっと読む)


【課題】 ビーム内への不純物の混入を抑え、照射対象物中に残留するビーム粒子を大幅に減少させ、しかも微小イオンビームを長時間安定供給することができる微小イオンビーム発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】 この出願の発明は、レーザーをターゲット気体中で集光させてプラズマを発生させ、発生したプラズマ中のイオンを引き出して集束させることにより微小イオンビームを形成することを特徴とする。 (もっと読む)


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