【課題】本発明の目的は、特許文献３と非特許文献１に開示されている対物レンズ、つまり、対物レンズの内側磁極と外側磁極より電子銃側に、試料を配置する対物レンズにおいて、高分解能化（低収差化）を実現することにある。
【解決手段】上記の課題を解決するための磁界型レンズの設計基本方針は、レンズの光軸上磁束密度分布Ｂ（ｚ）において如何にしてＢを強く、かつレンズの厚み（つまりＢ分布のｚ幅）を薄くするかに尽きる。そのためには対物レンズ１３の内側磁極と外側磁極の形状や配置を見直し、試料上の電子ビーム照射部近傍のみに磁界を集中させる必要がある。そのためには先ず図４に示すように内側磁極１３ａを円錐台形状にし、試料１２はその円錐台の台側近くに配置するように構成した。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、電子顕微鏡の電子源の電界強度を向上させ、取得する観察画像を鮮明とすることにある。
【解決手段】上記目的を解決する本発明の特徴は、カーボンナノチューブを有する電子放出陰極と、電子を電界放出させる引出装置とを有する電子顕微鏡であって、先端部に略円錐形状の鋭角部を有するカーボンナノチューブを用いる点にある。また、鋭角部を有するカーボンナノチューブを、相転移温度より低温側及び高温側で静置して熱処理する工程を有する製造方法を用いる点にある。 （もっと読む）

【課題】確立されたフォトリソグラフィ技法を使用してバッチを製作する方法を提供すること。
【解決手段】大規模大量生産に適切な反復可能で信頼性のある方式で、ナノ粒子またはナノデバイスを製作し、巨視的デバイスに実装することが可能になる。ナノ粒子は、容易に操作して、様々なデバイスにおいて標準的なマウントをはめ込むように成形することができる巨視的「モジュール」の上に成長させることができる。 （もっと読む）

【課題】繊維状炭素を用いた電子源において、エネルギー幅の小さい電子線を放出可能な電子源を提供する。
【解決手段】繊維状炭素を基材に接合した電子源において、該繊維状炭素中は窒素，ボロン，リン，硫黄の少なくとも１種類を１〜５原子％含有し、ラマン分光強度のＩＧ／ＩＤ比（ＩＧ；グラファイト構造における炭素の伸縮運動に対応するラマン散乱強度、ＩＤ；結晶格子乱れに対応するラマン散乱強度）が０.７５ 以上であることを特徴とする。グラファイト構造の割合を高めることにより、電子線のエネルギー幅を小さくできる。 （もっと読む）

【課題】
ＣＮＴ等の高輝度荷電電粒子線源からの荷電粒子線を安定に放出し、高分解能で長時間安定な荷電粒子線装置技術を提供する。
【解決手段】
本発明では、表面クリーニング（清浄化）手段を設け、これにより、例えば、ＣＮＴ表面に付着した非晶質のコンタミ膜を除去するよう構成する。そのために、表面クリーニング手段として、反応ガス導入手段５、６とガス活性化手段３０を備え、ＣＮＴ等の電子源１を入れるクリーナーを構成し、使用前に電子源１を処理する構造とする。あるいは、電子銃装置に、反応ガス導入手段とガス活性化手段を組み込み、装置内で表面クリーニングする構成とする。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブ層を表層部に備えた金属板よりなる電子放出源において、前記カーボンナノチューブ層に供給する電力に対する電子の放出能力を大きくすること。
【解決手段】前記カーボンナノチューブ層の表面部を窒化する。このカーボンナノチューブ層は炭素六員環と炭素五員環とが垂直方向に起立した状態で構成されており、炭素六員環及び炭素五員環の先端部の炭素原子を窒素プラズマによって窒素原子に置換することで、置換された窒素原子と炭素原子とを結ぶ結合手の長さが炭素原子と炭素原子とを結ぶ結合手の長さよりも長くなることから、炭素六員環または炭素五員環のＣ−Ｃ−Ｃ角に比べてＣ−Ｎ−Ｃ角の方が鋭角となる。この鋭角の頂点に位置する窒素原子に電界が集中する。 （もっと読む）

【課題】 電子放出特性の劣化を抑制可能であり、低コストな電界放出型電子銃、電子顕微鏡、及び電子ビーム露光機を提供する。
【解決手段】 本発明の一実施の形態に係る電界放出型電子銃は、（ａ）絶縁性のベースと、（ｂ）ベースに設けられた端子と、（ｃ）先鋭化された端部を有するダイヤモンド製の電界放出エミッタと、（ｄ）電界放出エミッタを把持し、且つ、電界放出エミッタと端子とを電気的に接続する導電部材と、を備えている。一実施の形態の電子顕微鏡、及び電子ビーム露光機は、この電界放出型電子銃を備えている。 （もっと読む）

【課題】試料に対して照射する電子ビームの強度や加速電圧を低く抑え、かつ高いＳ／Ｎの電子顕微鏡画像を得ることを可能とする電子顕微鏡制御装置を提供する。
【解決手段】電子線照射行列設定部６５は、プロジェクタ８から出射すべき電子ビームの２次元パターンの時系列を示す電子線照射行列を設定する。この電子線照射行列は、２次元パターンに含まれるピクセルのうち、電子ビームが照射されるピクセルを複数含むように設定されるとともに、２次元パターンに含まれるピクセル数と等しい数の２次元パターンを、互いに独立した２次元パターンの時系列となるように設定される。行列演算部６６は、上記電子線照射行列と、上記２次電子検出器において検出された時系列の検出信号を表したベクトルとに基づいて行列演算を行うことによって、試料の電子顕微鏡画像を示すベクトルを算出する。 （もっと読む）

【課題】 電界放出型電子銃を搭載する電子線装置において、試料上の電子線スポットの周りに拡がる散乱電子を除去する。
【解決手段】 引出電極５と加速電極６の間にリペラ電極１０を配置し、リペラ電極１０に所定の電圧を印加するためのリペラ電源１１を設ける。エミッタから引き出された電子が引出電極５に衝突して発生し加速電極６側に流れ込む二次電子ＳＥはリペラ電極１０により跳ね返されて試料には到達しない。 （もっと読む）

電子ビームカラムは電子ビームを生成する熱電界放出電子源と、電子ビームブランカと、ビーム整形モジュールと、複数の電子ビームレンズを含む電子ビーム光学系とを備える。１バージョンでは、電子ビームブランカ、ビーム整形モジュール、および電子ビーム光学系の光学パラメータは、約１／４から約３ｍｒａｄの受容半角βを達成するように設定される。受容半角βとは、描画面で電子ビームによって張られる角度の半分である。ビーム整形モジュールはまた、上部および下部投影レンズを使用して単レンズとして動作することもできる。電子ビームカラム用の多機能モジュールについても記載する。
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