【課題】本発明は、荷電粒子ビームに対する浮遊磁場の直接的な影響を抑制することが可能な荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子源と対物レンズの間に、荷電粒子ビームの集束位置を調整する集束レンズを備えた荷電粒子線装置において、当該集束レンズによる荷電粒子ビームの集束位置を変化させると共に、当該集束位置を変化させる過程で検出される荷電粒子に基づいて、異なる複数の集束位置における検出信号を取得し、像揺れ量或いは像ずれ量の評価値が相対的に小さい集束位置の集束レンズ条件を選択する荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】静電電極を用いたリフォーカスレンズによるリフォーカス時間を短縮するとともにリフォーカス精度を向上させることのできる電子ビーム露光装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子銃と、電子ビームを整形するための開口を有する整形手段と、電子ビームの焦点を補正する静電多重極電極からなるリフォーカスレンズと、リフォーカスレンズの各電極に印加する補正用の電圧を生成するフォーカス補正電圧発生回路と、補正用の電圧に加算するオフセット電圧を生成するオフセット電圧発生回路と、フォーカス補正電圧発生回路及びオフセット電圧発生回路をそれぞれ独立に制御する制御手段と、を備える。制御手段は、オフセット電圧発生回路を、電子ビーム露光装置の筐体を基準として動作させ、フォーカス補正電圧発生回路を、オフセット電圧発生回路により出力されるオフセット電圧を基準として動作させるようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】リフォーカス用の静電レンズの電極の配置誤差に起因する収差及び照射位置ずれを補正可能な電子ビーム露光装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子ビームを放射する電子銃と、電子ビームを試料面上へ結像させる投影レンズと、投影レンズの上方に設置され、電子ビームの焦点を補正する静電多重極電極からなるリフォーカスレンズと、リフォーカスレンズの各電極に対して光軸の回りに回転させて配置した静電多重極電極からなる寄生収差補正用レンズと、電子ビームの断面の面積に応じた電圧を、リフォーカスレンズを構成する電極及び寄生収差補正用レンズを構成する静電多重極電極に印加する制御手段とを備える。寄生収差補正用レンズを構成する多重極電極は、リフォーカスレンズを構成する電極に対し、隣接する２つの当該電極間の角度の１／２だけ光軸の周りに回転させた位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】オートフォーカス結果が、良好なものであるか否かを自動的に判定する。
【解決手段】試料の撮領域中の特定領域各走査ラインを順次焦点位置を変更しつつ荷電粒子ビームで走査し予備画像信号を取得する予備撮像を行い、予備画像信号中で最大鮮鋭度となる走査ラインを判定し前記収束手段の状態を合焦状態として試料の撮像領域の本撮像を行って得られるオートフォーカス画像の良否を、予備撮像において最大鮮鋭度位置となった走査ラインの画像信号プロファイルＦａ（ｔ）を取得し（ステップＳＴ１）、本撮像における前記予備撮像で最大鮮鋭度となった走査ラインに相当する走査ラインの画像信号プロファイルＦｂ（ｔ）を取得し（ステップＳＴ２）、両画像信号プロファイルから算出した類似度Ｓ（ｔ）と閾値Ｔ１との比較（ステップＳＴ４）、類似度Ｓ（ｔ）が最大値となる値Ｔのずれ量ΔＴと閾値Ｔ２との比較（ＳＴ５）により判定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、焦点深度の深い観察条件においても、高精度なフォーカス調整を実現する。
【解決手段】一次電子線の不要な領域を除去する絞り板に複数の穴径の絞り穴を配置し、絞り穴を変更することで絞り穴を通過する一次電子線の開き角を制御し、集束レンズ、対物レンズのレンズ条件を変化させずに、高分解能と焦点深度の浅い条件に設定することで、フォーカスの合わせ精度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】コストアップと装置の大型化を防ぎなから、試料の表面の立体形状を容易に得ることができる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】対物レンズにより電子ビームを集束させて試料を走査し、試料から発生する信号を検出して第１の画像を生成して表示装置の画面へ表示させ、対物レンズの励磁を変えた後に電子ビームを集束させて試料を走査し、試料から発生する信号を検出して第２の画像を生成して表示装置の画面へ表示させ、表示装置の画面に表示させた第２の画像の焦点が合うように制御電極に印加される電圧を調整した後に電子ビームを集束させて試料を走査し、試料から発生する信号を検出して第３の画像を生成し、表示装置の画面に表示させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は透過型電子顕微鏡の自動最適合焦点調整方法及び装置に関し、最適合焦点位置を確実に検出することを目的としている。
【解決手段】対物レンズ８と、該対物レンズを透過した透過電子線像を蛍光板１２に拡大結像させる結像系レンズ群１０と、該結像系レンズ群１０から投影された透過電子線像を受ける蛍光板１２と、該蛍光板の透過電子線像を撮像するカメラ１４と、該カメラで撮像された透過電子線像を記憶する記憶手段１６ａと、該記憶手段に記憶された透過電子線像を読み出して所定の画像処理を行なう画像処理装置１６を有する透過型電子顕微鏡において、前記画像処理装置１６は、前記記憶手段１６ａに記憶されている透過電子線像を読み出してエッジ評価値を算出し、算出されたエッジ評価値のプロットからフィッティングを行ってフィッティング関数を求め、フィッティング関数の最小値を最適合焦点位置とするように構成する。 （もっと読む）

【課題】焦点合せを欠陥候補の撮像領域外で行って、撮像画像の帯電やコンタミネーションを防ぐとともに、焦点のずれのない撮像画像を得ることができるレビュー装置及びレビュー方法を得る。
【解決手段】試料を移動させて、欠陥候補の位置を含む撮像領域に電子ビームを位置付け、電子ビームの光軸を平行移動させて、欠陥候補の画像を撮像する領域の外の焦点合せ領域に光軸を位置付け、焦点合せ領域で電子ビームを偏向させるとともに、電子ビームの焦点位置を変えながら、焦点合せ領域から発生した二次信号の強度を取得し、該二次信号の強度に基づいて合焦点位置を求め、その後、焦点合せ領域に位置付けられた電子ビームの光軸を欠陥候補の位置に移動させ、撮像領域に電子ビームを照射して発生する二次信号から画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】微細構造体パターンのエッチング深さなどの段差を測定することの出来る段差測定方法、段差測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】信号プロファイル生成部３５は、微細パターンに電子線を照射して得た走査画像から、フォーカス位置の異なる複数の信号波形のプロファイルを生成する。データ処理部３６は、生成された信号波形のプロファイルを微分し、微分プロファイルを生成する。データ解析部３８は、生成された微分プロファイルからパターンの上層部と下層部に相当する微分ピーク値を抽出し、フォーカス位置とともに記憶する。また、データ解析部３８は、微分ピーク値とフォーカス位置の関係図を作成し、関係図から微細パターンの段差を算出する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料に対する荷電粒子ビームの照射を行うことなく、正確な試料表面電位の測定、或いは試料表面の電位に応じた焦点調整を行う荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束して試料に照射する対物レンズと、負電圧の印加によって試料に到達する荷電粒子ビームを減速する電界を形成する負電圧印加電源と、当該負電圧印加電源を制御して、前記荷電粒子ビームの焦点調整を行う制御装置を備えた荷電粒子線装置において、当該制御装置は、前記試料の物性データと前記荷電粒子ビームの走査条件に基づいて、前記試料電位を求め、当該表面電位に基づいて、前記負電圧印加電源を制御することを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）