【課題】電子線装置における電子ビームの集束条件の設定の際に電子ビームを試料に照射する機会や時間を低減することを目的とする。
【解決手段】走査電子顕微鏡１の電子ビームＢの集束状態を検出するために電子ビーム照射面１３ａを使用する。電子ビーム照射面１３ａは、電子ビームＢの光軸方向である高さ方向の位置がその面内位置により異なり、また電子ビームＢを照射されることにより反射電子及び二次電子のうちの少なくとも一方を発生する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高い効率で焦点位置の検出を行うと共に、試料の帯電（チャージング）、損傷などを防ぐ。
【解決手段】荷電粒子ビームが照射された試料からの２次荷粒子に基づいて画像信号を取得し試料像を形成する走査電子顕微鏡１０のオートフォーカス方法である。オートフォーカス装置４０として複数の走査ラインからなる１フレーム分の試料領域を走査するに際して収束手段を駆動して荷電粒子ビームの焦点位置を所定範囲にわたって移動させる画像情報取得工程と、得られた１フレーム内の焦点の変更された試料像に対し、画像信号を解析して適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得する焦点位置検出工程と、得られた焦点位置に荷電粒子ビーム照射するように収束手段を設定する焦点位置設定工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 試料の電子線損傷を低減するためのＭＤＳにおける三つのモードのそれぞれについて複数の条件を記憶して、繰り返し作業を簡単に行うと共に、試料や目的に応じて最適な条件を任意に設定できるＴＥＭを提供する。
【解決手段】 サーチ、フォーカス、フォトの各モードに複数の条件を記憶しておく。例えば、ボックス３１ａにおいてサーチモードの条件をプルダウンメニュー３３ａにより表示し、マウスポインタ３６によりＴｒｕｃｋｉｎｇを選択する。ボタン３２ａをクリックすると装置は選択した条件に設定される。サーチモード操作から他のモード操作に移るか又は撮影実行又はＭＤＳ操作を終了するとき、直前の装置の状態が３１ａに表示されている名称で記憶される。
フォーカスモード、フォトモードについても同様に記憶されている複数の条件から任意の条件を選択し、その条件に装置を設定できる。 （もっと読む）

【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ凹部の形状が鮮明な画像を得ることができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ１８に合焦位置を変更可能にして荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づきウエハ１８の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡１７と、回転楕円反射鏡１７に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器３３と、ウエハ１８の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器２５と、荷電粒子検出器２５の検出信号に基づき凹部の位置を求める信号処理部２４とを備え、照射系により荷電粒子を凹部に照射するときに、信号処理部２４は光検出器３３の検出信号に基づいて荷電粒子の合焦位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】本発明は荷電粒子ビーム装置における非点補正・フォーカスの自動調整方法及び装置に関し、非点補正・フォーカスの自動調整を行なう方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】Ｘ，Ｙ方向に周期的なパターンを持つ調整用試料からの強度分布信号に対してトリミングを行なって第１のフーリエ級数展開を行ない周期パターンを求める手段２５と、この周期パターンに対してトリミング領域を決定して第２のフーリエ級数展開を行なう手段２５と、前記第１のフーリエ級数展開と第２のフーリエ級数展開の結果の差分を求める演算手段２５と、該演算手段２５により求めた差分と非点補正量及びフォーカス値を記憶する記憶手段２７と、該記憶手段２７に記憶されたものの中から差分が最小となる時の非点補正量とフォーカス値が最適になるものを読み出して荷電粒子ビーム装置の動作を調整する非点補正・フォーカス調整手段２８とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】試料に形成されたパターンから取得した画像のオートフォーカス評価値を利用して、簡単なアルゴリズムで且つ迅速に非点収差調整を行うこと。
【解決手段】電子ビームを試料Ｗに照射し、該試料から放出される電子、反射電子、後方散乱電子等の二次電子を検出することによって前記試料を観察評価する電子ビーム装置は、電子ビームの非点収差調整を行う非点収差調整手段１７を備え、試料Ｗに形成されたパターンの画像から得たフォーカス評価値を最大にする補正電圧を非点収差調整手段１７に与える。非点収差調整手段１７は電子ビームの光軸を中心として対向する複数対の電極又はコイルを備える多極子である。 （もっと読む）

【課題】３次元構造を持つ電子デバイス構造等を全体的且つ高精度に評価しうる立体観察方法及び電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子線を生成する電子銃４０と、電子銃４０により生成された電子線を収束して試料４２に入射する収束レンズ４４と、試料４２を透過した電子線の散乱角を制御する結像レンズ４６と、試料４２を透過し記電子線を検出する検出器２０とを有する電子顕微鏡を用い、試料４２を透過した電子線の強度を、電子線の焦点位置を試料４２の深さ方向に変化させて測定することにより、試料４２による電子線の吸収及び散乱の深さ方向の分布を測定する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、測定対象へのダメージの低減と、測定の高精度化の両立が可能な荷電粒子線装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
上記目的を解決するため、本発明によれば、試料上に形成された第１のパターンへの荷電粒子線の走査に基づいて形成される第１の画像に基づいて、荷電粒子線の焦点，画像の明るさ、及び／又は画像のコントラストを調整し、当該調整された荷電粒子線、及び／又は調整された画像を形成する調整条件を用いて、第１のパターンとは異なる第２のパターンに対する前記荷電粒子線の走査を行う。 （もっと読む）

【課題】集束レンズの強度を変化させて照射電流を変化させるに際して、集束レンズの強度変化に対して、照射電流の急激な変化を抑えることができる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子ビームを発生させる電子源と、前記電子ビームを集束させるための第１及び第２の集束レンズ６，９と、前記電子ビームを試料上に細く絞るための対物レンズ１４と、前記試料上を二次元的に走査するための偏向系と、前記電子ビームの照射により前記試料から発生した二次電子を検出するための検出系１３を具備した走査電子顕微鏡において、前記第１及び第２の集束レンズ６，９との間に、前記試料１５側に前記電子ビーム５の不要部分を遮断するための第１の絞り板８ａと第２の絞り板８ｂを順次配置したものである。 （もっと読む）

【課題】各ビーム個別のビーム特性の計測及びビーム間の配列間隔の計測の高速化が可能で、かつマルチ荷電粒子ビームの高精度な計測と補正を実現するマルチ荷電粒子ビームの計測方法、露光装置 及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】マルチ荷電粒子ビームを発生する発生装置（電子銃１、コンデンサレンズ群３）と、マルチ荷電粒子ビームの照射により発光する蛍光体材料を有する試料４１と、マルチ荷電粒子ビームが照射される試料４１上の被照射位置の蛍光体材料の発光を導入してマルチ荷電粒子ビームの特性を検出する検出部（画像入力手段４７）とを有し、蛍光体材料の発光の検出に基づいてマルチ荷電粒子ビームの特性（照射位置、強度）を比較演算手段５１、個別偏向手段４５、コンデンサレンズ群３により制御（補正）する。 （もっと読む）