【課題】
走査型電子顕微鏡を用いて検査装置によって検出された試料上の欠陥を観察する場合において，オートフォーカス処理にかかる時間を削減する。また，安定性を向上させる。
【解決手段】
走査型電子顕微鏡を用いて検査装置によって検出された試料上の欠陥を観察する場合において，半導体の設計情報からオートフォーカスに用いる領域を撮像領域内もしくはその周辺に１箇所以上設定し，設定した領域を用いてオートフォーカス処理を実行し，撮像領域における合焦位置を求め，得られた合焦位置を低倍撮像と高倍撮像に用いる。また，半導体の設計情報をもとに各撮像領域に適したオートフォーカス処理を選択する。 （もっと読む）

【課題】一次電子ビームと二次電子ビームとの重複領域で二次電子ビームの空間電荷効果による収差増大を抑制する。
【解決手段】電子ビームを生成して試料である基板Ｓに一次電子ビームＢｐとして照射する電子銃１１と、一次電子ビームＢｐの照射を受けて基板Ｓから放出される二次電子、反射電子および後方散乱電子の少なくともいずれかを検出して基板Ｓの状態を表わす信号を出力する電子検出部３０と、上記二次電子、上記反射電子および上記後方散乱電子の少なくともいずれかを導いて二次電子ビームＢｓとして拡大投影し、電子検出部３０のＭＣＰ検出器３１の検出面に結像させる二次光学系２０と、を備える基板検査装置１に、一次電子ビームＢｐの軌道と二次電子ビームＢｓの軌道との重複領域が縮小するように一次電子ビームＢｐを偏向する偏向器６８をさらに設ける。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高い効率で焦点位置の検出と試料の帯電損傷などとを防ぐことができると共に、撮像領域の周縁部を含む全ての領域で鮮明で歪みのない画像を取得する。
【解決手段】荷電粒子ビームが照射された試料からの二次荷粒子に基づいて画像信号を取得し試料像を形成する走査電子顕微鏡１０の撮像方法である。オートフォーカス装置４０として複数の走査ラインからなる１フレーム分の試料領域を走査するに際して収束手段を駆動して荷電粒子ビームの焦点位置を観察範囲を含む所定範囲にわたって移動させて帯電させる前処理工程と、得られた１フレーム内の焦点の変更された試料像に対し、画像信号を解析して適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得する焦点位置検出工程と、得られた焦点位置に荷電粒子ビーム照射するように収束手段を設定する焦点位置設定工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料傾斜時の像を試料水平時の像に歪み無く補正する。
【解決手段】電子線の照射中心から見た一方の偏向角度αともう一方の偏向角度βを異なる角度で偏向できるようにするとともに、台形補正、湾曲歪補正、傾斜焦点補正と組合せることにより、試料傾斜時の像を試料水平時の像に歪み無く補正する。 （もっと読む）

【課題】走査形電子顕微鏡において、低倍像では深い焦点深度を、高倍像では高分解能像を得るために集束レンズの結像位置を高速に、再現性良く変更する。
【解決手段】試料を保持する試料保持部と、電子線源と、電子線源から放出された電子線を収束するための集束レンズと、集束された電子線を試料上に微小スポットとして照射する対物レンズと、電子線を試料上に走査する走査コイルと、電子線照射によって試料から発生した試料信号を検出する検出器と、検出器にて検出された試料信号を画像として表示する表示部とを備え、集束レンズが発生する磁界中には軸対称の電極を設置して電圧を印加する構成とする。 （もっと読む）

【課題】
試料面上の凹凸等の影響により、画像内にて焦点の合う個所と、合わない個所が併存するような試料を測定，検査する際に、画像内の全体、或いは所定の領域内にて鮮明な画像を取得するのに好適な荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】
半導体製造工程中に形成される試料に対し、荷電粒子線を走査する際の走査領域内の各個所の焦点調整条件を予め求めておき、当該求められた焦点調整条件を、前記焦点調整条件を求めた試料と同じ製造条件にて形成されたパターンに選択的に適用して、前記荷電粒子線走査を行う装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】表面が平板と見なせるような試料であってもフォーカスを合わせることができるオートフォーカス決定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 試料上の電子ビームのフォーカス状態をステップ状に変化させ、その変化の都度、試料上の帯状領域を電子ビームで走査し、走査に伴って得られたデータとその時のフォーカス状態に対応するフォーカス値とを画像データとしてメモリに格納する。メモリに格納した画像データを読み出して、データ上で複数区画に分割し、各分割した区画の画像データ各々について、複数種類のフォーカス値に対する輝度の特性を求める。複数種類の特性の内、特定の種類の特性についてフォーカス値毎に積算して平均を取ったものをフォーカス関数とする。フォーカス関数を２次曲線に近似し、２次曲線からピーク点のフォーカス値を求め、フォーカス値に基づいて電子ビームのフォーカス状態を設定する。 （もっと読む）

【課題】２つの異なる方向から入射する荷電粒子ビームを１本の光路に集約でき、両ビームの透過率が高く、且つ加工が容易なセクターマグネットを備える荷電粒子ビーム偏向器を提供する。
【解決手段】入射側端面２１と出射側端面２２を有する二重集束型のセクターマグネット２０を備える。入射側端面２１の角度αと出射側端面２２の角度βは、セクターマグネット２０の出射側端面２２から荷電粒子ビーム１０の集束点Ｑまでの距離をＶとするとき、それぞれ、ｄＶ／ｄα＝０を満たす値α_０、ｄＶ／ｄβ＝０を満たす値β_０の近傍に設定する。セクターマグネット２０の背面には、直進する荷電粒子ビーム４０を集束させる磁界レンズ２７を設ける。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビームの焦点距離の急速な調節の為のシステム及び方法を提供する。
【解決手段】 荷電粒子ビームの焦点距離を急速に変更する装置および方法であって、上記方法は、荷電粒子ビームの焦点距離と制御信号電圧値との関係に応答して、制御信号を変更するステップを備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、荷電粒子線を試料へ照射して画像を得る装置において、特にビーム傾斜時のように、垂直ビームとは異なる条件にてビーム条件を調整するのに好適なビーム条件調整方法、及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
非点補正，焦点調整、及び視野ずれ補正を行うように、非点補正器，対物レンズ、及び偏向器を自動的に制御する制御装置を備え、非点補正，焦点調整、及び前記視野ずれ補正の少なくとも１つの実施を禁止するための選択手段を備えた。 （もっと読む）