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国際特許分類[H01J9/46]の内容

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動作位置間で加工物が自動的に移動するもの

国際特許分類[H01J9/46]に分類される特許

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【課題】ローラーシャフトのたるみを防止できる平板ディスプレイ用ガラスのローラーシャフトのたるみ防止装置を提供する。
【解決手段】ローラーシャフト110の左右両側に形成された固定ハウジング100の内部に第1エアテンション部160と第2エアテンション部161を形成し、圧縮空気を供給することにより、圧縮空気の張力で、第1スライディング・ピストン170と第2スライディング・ピストン171をスライディングスペース180、181にスライディングさせる。 (もっと読む)


【課題】基板を割れ無く搬送でき、且つ、搬送経路中の不要基板を容易に搬送経路から除去できる搬送方法・搬送装置を提供する。
【解決手段】ローラー1ごとの加熱・冷却手段を具備し、搬送時には、基板2の表面最高温度をTmax、表面最低温度をTminとし、基板2と基板2が到達する直前のローラー1の表面最高温度をTrmax、表面最低温度をTrminとした場合、|Trmax−Tmin|<100℃および|Tmax−Trmin|<100℃となるようローラー表面温度を制御する。また、搬送経路中に不要な基板がある場合は、|Trmax−Tmin|≧100℃および|Tmax−Trmin|≧100℃となるようローラー表面温度を制御し、炉内搬送中の不要基板を破砕し搬送経路から除去する。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイパネルの排気ホールの加工を効率よく行うとともに、加工部位にバリが形成されるのを防止して後工程の熱処理の際にクラックや破損が生じないようにする。
【解決手段】紫外線レーザーによる非接触式加工により次のように排気孔を加工する。基板の設定モデル別にレーザーユニットのマーキングヘッド座標を設定し、マーキングのための待機位置にレーザーユニットを移動させる。前記基板を移送コンベヤーにローディングし加工ステージに進入させる。前記加工ステージの上側に空気を吹き出して基板を浮上させ加工ステージの中央に整列させる。真空吸着によって加工ステージに基板を固定させレーザーによって基板の加工位置にレーザーを走査して排気ホールを加工する。前記移送コンベヤーによって基板を排出させる。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても変形しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のガラス基板熱処理用セッターは、セラミック焼結体からなるガラス基板熱処理用セッターにおいて、セラミック焼結体は、600℃での熱処理後の吸水率が0〜0.14質量%であることを特徴とする。また、本発明のガラス基板熱処理用セッターの製造方法は、原料粉末を焼結させることにより原板を作製するガラス基板熱処理用セッターの製造方法において、原料粉末が、結晶粉末及び/又は結晶化ガラス粉末と、フリット粉末とを含有し、結晶粉末又は結晶化ガラス粉末と、フリット粉末との30〜600℃における平均熱膨張係数の差が40×10-7/K以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被搬送物の損傷を振動によって早期に拡大し、被搬送物のスクリーニングを容易にすること。
【解決手段】被搬送物を搬送する搬送部と、搬送中の被搬送物を搬送部から分離して保持し再び搬送部へ戻す保持部と、保持部に保持された被搬送物に試験または検査のための振動を与える振動部とを備える。 (もっと読む)


【課題】保護層の表面に第2保護膜を形成する必要がなく、しかも、エージング工程を不要にすることができる、ないしエージングに要する時間を大幅に短縮することができる、作業雰囲気の空気成分制御方法を提供する。
【解決手段】クリーンルーム5に、前面板にMgO保護層を形成する真空チャンバ6と、前面板に背面板を封着する封着装置7とを設置する。そして、クリーンルーム5に人工空気製造装置3を接続するとともに、作業者1は特定の保護具2を装着する。この保護具2は、作業者1の顔面の少なくとも鼻および口を覆う面体21と、この面体21の内側とクリーンルーム5の外側とが連通しているホース22とを備えている。 (もっと読む)


【課題】封着の際における封着材の発泡を防止するとともに、不純物、特にCH系の汚染物質を確実に除去することができるプラズマディスプレイパネルの製造技術を提供する。
【解決手段】本発明は、真空中においてプラズマディスプレイパネル用の前面板と背面板を封着材を用い所定の温度で加熱して封着を行う封着工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、封着工程(S6)の前に、真空処理槽内において、封着材を配置した背面板を、封着工程(S6)における温度より高い温度で加熱して真空排気を行う第1の脱ガス工程(S2)と、真空処理槽内にO2ガスを導入して、背面板を、封着工程(S6)における温度より高い温度で加熱して真空排気を行う第2の脱ガス工程(S3)とを有するものである。 (もっと読む)


【課題】セッターレス方式の熱処理を行う場合に、炉内での被処理物の割れの発生を安価なコストで早期かつ確実に検出できるようにする。
【解決手段】搬送経路に沿って搬送ローラ2の下方に配置された複数の耐熱ガラス32のそれぞれの一部を露出部5として炉外に露出させ、この露出部5に振動センサ4を配置した。振動センサ4の検出信号に基づいて、被搬送物の一部が割れの発生によって耐熱ガラス32上へ落下したことを検出する。このとき、搬送ローラ2の回転を停止する。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイパネルに反りを生じることがないように搬送できるようにすることを目的とする。
【解決手段】少なくとも前面側が透明な一対の基板を基板間に複数の放電セルを形成して対向配置した平板形状のプラズマディスプレイパネル105の搬送方法において、一対の基板の両面に平行に配した平板(底面102及び上蓋107)に延伸剥離式の複数の短冊形状の接着材104により粘着させて搬送する方法であり、プラズマディスプレイパネル105を縦方向に配置して搬送する。 (もっと読む)


【課題】 基板を収納自在なカセットと基板に処理を施すプロセス装置との間で基板を搬送する基板移載装置において、前記カセットにおける基板の収納効率を上げることができ、構成が簡素であると共に、設置面積を小さくすることができる基板移載装置を提供する。
【解決手段】 カセットCSから基板Wを搬出可能なカセット側コンベヤ3と、前記基板Wに加工を施すプロセス装置へ前記基板Wを供給可能なプロセス側移載ハンド5と、前記カセット側コンベヤ3と前記プロセス側移載ハンド5との間で前記基板Wを受け渡すことが可能な基板受け渡し手段7とを有する。 (もっと読む)


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