【課題】装置構成が簡単で、低価格で、作業時間が短くて済むパターン修正装置を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置では、被修正ガラス基板１０を保持するチャックステージ１１を３つの副ステージ１１ａ〜１１ｃに分割し、３つの副ステージ１１ａ〜１１ｃの間に、被修正ガラス基板１０を下側から支持して運搬するロボットハンド４０，４１を挿入するための隙間１２，１３を設けた。したがって、従来のようにリフタ５６を使用することなく、被修正ガラス基板１０を搬入および搬出することができ、リフタ５６を省略することができる。 （もっと読む）

【課題】１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、フィルム３に開けられた孔３ａと電極２の欠陥部２ａとを隙間Ｇを開けて対峙させ、修正ペースト１２が付着した塗布針１１先端の平坦面１１ａで孔３ａを閉蓋するようにしてフィルム３を基板１に押圧し、欠陥部２ａに修正ペースト１２を塗布した後、塗布針１１を退避させてフィルム３の復元力でフィルム３を基板１から剥離させる。したがって、毛細管現象によって修正ペースト１２がフィルム３と基板１の隙間に侵入することを防止できる。 （もっと読む）

【課題】１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、レーザ光が欠陥部１３ａに照射されない状態で低粘着フィルム４１にレーザ光を照射して孔４０ａの開いたマスク４０を形成し、マスク４０を基板１４に密着させ、孔４０ａを介して欠陥部１３ａに修正液２０を塗布する。レーザ光は、孔４０ａの周りの低粘着層４１ｂが劣化しない低いパワーに設定する。したがって、レーザ光によって孔４０ａの周りの低粘着層４１ｂがダメージを受けるのを防止することができ、修正液２０がフィルム４１と基板１４の隙間に侵入するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、孔３ａの開いたフィルム３をマスクとして電極２のオープン欠陥部２ａに修正ペースト７を塗布する場合に、フィルム３の厚さＦｔと孔３ａの短軸長Ｓｗとの関係をＦｔ＞Ｓｗにする。これにより、修正ペースト７を孔３ａ内に保持する力を強くすることができ、孔３ａに塗布された修正ペースト７がフィルム３と基板１との隙間に吸い込まれることを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、レーザ光が欠陥部１３ａに照射されない状態で低粘着フィルム４１にレーザ光を照射して孔４０ａの開いたマスク４０を形成し、マスク４０を基板１４に密着させ、マスク４０を基板１４に押圧した後、孔４０ａを介して欠陥部１３ａに修正液２０を塗布する。したがって、レーザ光によって欠陥部１３ａ周辺がダメージを受けるのを防止することができ、修正液２０がマスク４０と基板１４の隙間に侵入するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、レーザ光が欠陥部１３ａに照射されない状態で低粘着フィルム４１にレーザ光を照射して孔４０ａの開いたマスク４０を形成し、マスク４０を基板１４に密着させ、孔４０ａを介して欠陥部１３ａに修正液２０を塗布する。したがって、レーザ光によって欠陥部１３ａ周辺がダメージを受けるのを防止することができ、修正液２０がマスク４０と基板１４の隙間に侵入するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰの製造工程において、工程数の大幅な増加を伴うことなく誘電体層の欠陥部分を補修することが出来る方法を提供する。
【解決手段】前面ガラス基板１上に形成された誘電体層２内または誘電体層２と前面ガラス基板１との間に発生している気泡Ｂを消滅させて誘電体層２の補修を行うために、誘電体層２の気泡Ｂが発生している部分に対してレーザ光Ｌの照射を行い、この誘電体層２の気泡Ｂが発生している部分を溶融させて、気泡Ｂ内の空気を誘電体層２の溶融部分を通過させることによって放出させ、この気泡Ｂ内の空気が放出された後に、溶融した誘電体層２の流動性によって誘電体層２の表面を平坦化させる。 （もっと読む）

【課題】作業時間の増大を防ぐとともに、修正対象または装置の破損を防ぐことが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。
【解決手段】パターン欠陥修正方法は、基板上に形成されたリブ８３の欠損部３２にベース部３１を塗布する塗布ステップと、塗布されたベース部３１を工具７によって整形するステップとを含み、整形するステップにおいては、工具７に加わる負荷を検出し、検出結果に基づいて工具７を操作する。 （もっと読む）

【課題】基板に悪影響を与えることなく、修正部を迅速に焼成または硬化させることが可能なパターン修正装置を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置では、修正部２４を焼成する場合、まず予備加熱装置３０をオンして基板２０上の修正部２４を含む広い範囲にレーザ光αを照射し、温度センサ３１の検出温度が焼成温度よりも若干低い所定の温度になるように予備加熱した後、スポット加熱装置３２をオンして基板２０上の修正部２４を含む微小範囲にレーザ光βを所定時間照射し、修正部２４を焼成する。したがって、基板２０に影響を与えることなく修正部２４の温度を短時間で上昇させることができる。 （もっと読む）

【課題】蛍光塗料が付着したウエスを洗浄することで該ウエスを再利用可能にし、且つ金属蛍光体を回収することが可能なウエス洗浄装置を提供すること。
【解決手段】内部に空間を有する洗浄機本体Ａ１内に、蛍光塗料が付着したウエスから蛍光塗料を除去するための洗浄液剤又は濯ぎ液剤を貯留するための洗浄タンクＡ２を備え、該洗浄タンクＡ２の上方に前記洗浄タンクＡ２内に貯留された洗浄液剤又は濯ぎ液剤に浸漬させながらウエスを巻き取るための、第１のリールａ１と第２のリールａ２とを備える。また、洗浄液剤中に溶解する蛍光塗料を除去し、且つ蛍光塗料除去後の洗浄液剤を貯蔵するための洗浄液剤供給回収部Ｂと、濯ぎ液剤中に溶解する蛍光塗料を除去し、且つ蛍光塗料除去後の濯ぎ液剤を貯蔵するための濯ぎ液剤供給回収部Ｃと、洗浄機本体Ａ１内に供給されるガスから気化した洗浄液剤又は濯ぎ液剤を液化させて回収するための排ガス分離部Ｄとを備える。 （もっと読む）