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国際特許分類[H01S5/18]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 誘導放出を用いた装置 (18,077) | 半導体レーザ (12,571) | 光共振器の構造または形状 (2,204) | 表面放出型レーザ (1,121)

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【課題】配線の浮遊容量が略同一となるように可変容量素子を付加し、高速駆動に対応する。
【解決手段】配線2に、可変容量素子(可変容量ダイオード)3を接続し、配線2の浮遊容量と可変容量素子3の可変容量との合成容量が、全ての配線で略同一となるように設定する。これにより、発光素子毎の配線の容量成分がほぼ同一となるので、全ての発光素子1で信号変調特性が同じになり、高速変調時の信号劣化のばらつきが低減される。 (もっと読む)


【課題】 面方位(100)面等の通常基板上に作製した場合においても、偏波モードの制御性や量産性が高い高性能な面発光型半導体素子を得ることを可能にする。
【解決手段】 発光領域を有する半導体活性層4と、垂直方向の共振器を形成する、第1半導体多層膜反射鏡6及び第2半導体多層膜反射鏡2と、半導体活性層に電流を注入するための電極9、10と、半導体活性層の近傍に形成され、Alを含む第1被酸化層32、30を有し、第1被酸化層の側部が酸化され中央部が未酸化である電流狭窄部と、少なくとも第1被酸化層の最表面層まで到達する溝深さの第1凹部12aと、第1被酸化層を貫通する第2凹部12bと、第1および第2凹部に囲まれたメサ部100と、第1および第2凹部のうちの少なくとも第2凹部に埋め込まれた絶縁膜200とを備え、第1被酸化層は、第1凹部が設けられた方向と、第2の凹部が設けられた方向とで酸化された領域の大きさが異なる。 (もっと読む)


【目的】 ビームスプリッタ等の、高価で精密な取り扱いを要する光学部品を用いることなく、さらに略単一波長を出力する光源を用いて、中短距離の半ニ重光通信を実現する、光通信装置を提供する。
【解決手段】 一方の面発光型半導体レーザ501は、受信状態では、直流成分として0.5mW程度の強度で発光させている。この面発光型半導体レーザ501にから0.3mW程度の強い光を照射することで、発光状態を乱す。発光状態が乱れた面発光型半導体レーザ501の発光強度は例えば0.1mWくらいにまで低下する。この発光強度の変化を光センサ503で受信する。また、他方の光通信装置511に割り込みをかける時には、一方の面発光型半導体レーザ501の発光強度を上げて、他方の面発光型半導体レーザ502の発光状態を乱すことで割り込みを伝達する。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で面型の受発光素子を利用できるようにすると共に、光クロストークの低減を図ることができる光導波路モジュールを提供する。
【解決手段】導波路シート2は、第1のコア4aと第2のコア4bを備え、第1のコア4aの他方の端部側の辺に第1の傾斜端面7aが形成され、第1の傾斜端面7aに露出した第1のコア4aの端面によって第1の反射面9aが形成されて、第1の反射面9aに対向して面型発光素子12が実装される。また、第2のコア4bの一方の端部側の辺に第2の傾斜端面7bが形成され、第2の傾斜端面7bに露出した第2のコア4bの端面によって第2の反射面9bが形成され、第2の反射面9bに対向して面型受光素子13が実装される。更に、第1の傾斜端面7a及び第2の傾斜端面7bの下面には、各反射面の直下に窓部8aを備えた遮光膜8が形成される。 (もっと読む)


【課題】 裏面出射型の面発光型半導体レーザを用いた場合に、曲率半径の小さなマイクロレンズなどの光学部を容易に形成することができ、かつへき開処理で個別の光装置に分離する場合に用いられる粘着性を有する保護シートによるマイクロレンズなどの光学部の剥がれが防止される光装置、光装置の製造方法、および光伝達装置を提供する。
【解決手段】 基板101の表面側に形成されており、基板101の裏面側に光出力面を備えた面発光型半導体レーザ109と、面発光型半導体レーザ109の光出力面を取り囲むように底部を設けた、基板101の裏面側に配置された第1凹状部111と、第1凹状部111の底部の外周部からなる第1保護部115と、第1凹状部111の底部に、第1凹状部111の側面と接触せぬ位置にある液状の光学部前駆体1201に、エネルギーを付加することで硬化させた光学部としての凸レンズ113を形成する。 (もっと読む)


【課題】 短波長の光に効果を及ぼす、良好な特性を持った2次元回折格子を有する半導体レーザ素子を提供する。
【解決手段】 半導体レーザ素子1は、主面3aを有する基板3と、主面3aが延びる方向に沿って基板3上に形成された2次元回折格子7と、基板3上に形成されたn型クラッド層4と、基板3上に形成されたp型クラッド層6と、n型クラッド層4およびp型クラッド層6に挟まれ、キャリアが注入されると発光する活性層5とを備えている。2次元回折格子7は、GaNよりなるエピタキシャル層2aと、エピタキシャル層2aよりも低屈折率である複数の回折格子点2bとを含んでいる。基板3は導電性GaNまたは導電性SiCのいずれか一方よりなっている。 (もっと読む)


【課題】 光の取り出し効率が高く、かつ発振強度のムラを抑制できる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】 半導体発光素子30においては、アノード電極(電流注入用電極)14は、二次元フォトニック結晶2により媒質の表面に対して垂直な方向に発せられた光の放出面に形成されている。このアノード電極14は、平面的な外形形状が二次元フォトニック結晶2の二次元回折格子の方位に合わせた多角形状よりなっている。 (もっと読む)


【課題】 スペックルを含み且つ放射パターンマスクに適合した放射強度分布を呈する光源装置を提供する。
【解決手段】 光源装置は、出射光の拡散程度が小さく大きなスペックル量を呈する半導体レーザ1を用いており、IrDA1.1に適用される。その場合、IrDA1.1に関する(最大放射強度)/(放射角度が±Θ以内での最小放射強度)および(放射角度が±2Θよりも外側での最大放射強度)/(放射角度が±Θ以内での最小放射強度)に応じて要求されるスペックル量と指向半値角度/通信角度との関係から、スペックル量に応じた指向半値角度になるようにエポキシ製のレンズ6の形状を制御する。こうすることによって、最小の光出力で、IrDA1.1の放射パターンマスクに適合した放射強度分布を有する光源装置を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 面発光型装置及びその製造方法に関して、静電破壊を防止して、信頼性の向上を図ることにある。
【解決手段】 面発光型装置は、基板10と、基板10の上方に、基板10側から配置された、第1の導電型からなる第1の半導体部22と、活性層として機能する第2の半導体部24と、第2の導電型からなる第3の半導体部26,28と、を含む発光素子部20と、基板10の上方に、基板10側から配置された、第1の半導体部22と同一組成からなる第1の支持部42と、第2の半導体部24と同一組成からなる第2の支持部44と、第4の半導体部46,48と、第5の半導体部50と、を含む整流素子部40と、発光素子部20を駆動する第1及び第2の電極30,32と、を含む。第4及び第5の半導体部46,48,50は、第1及び第2の電極30,32の間に並列接続され、発光素子部20とは逆方向の整流作用を有する。 (もっと読む)


【課題】 製造が容易で、高い光利用効率で高強度の近接場光を出射することができる近接場光出射素子および光ヘッドを提供するを提供する。
【解決手段】 半導体レーザ3から出射したレーザ光4aは、コリメータレンズ5によって平行光4bに整形され、透明媒体6の第1面6aに入射し、第3面6cの表面に形成された反射膜6dで反射し、浮上スライダ2の下面2aに設けられた金属フィルム10の開口10dに集光する。この開口10dに集光したレーザ光によって金属フィルム10の第1および第2の表面10a,10bに表面プラズモンが励起され、その表面プラズモンが端面10cで反射して開口10dに収束し、開口10d付近においてレーザ光とプラズモンとの相互作用により開口10dから出射される近接場光4eが大幅に増強する。 (もっと読む)


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