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国際特許分類[H05H1/28]の内容

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国際特許分類[H05H1/28]に分類される特許

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【課題】冷却性能を向上して温度上昇を抑制するプラズマ切断トーチを実現する。
【解決手段】作動ガス導入管が中央に挿入されたトーチ本体金具の先端部に、先端に陰極材を有する電極を取り付け、電極と同軸上で電極外周部にプラズマ流を緊縮するチップと耐熱性を有するオリフィスとを隣接して設け、作動ガス導入管に導入した作動ガスが電極およびトーチ本体金具の内面と作動ガス導入管の外面との間の環状経路を通ってオリフィスを介してチップの内外面に通るように構成されたプラズマ切断トーチであり、電極内に挿入筒を設け、挿入筒の外周部に螺旋状の溝を設け、挿入筒の端部が電極の底部又は陰極材と接するように電極の内部に挿入筒を設ける。また、作動ガス導入管の外周部に螺旋状の溝を設け、作動ガス導入管の外周部とトーチ本体金具の内面とが接触するように作動ガス導入管をトーチ本体金具内に設ける。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、或いは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットTにおいて、ソレノイドコイル3及び石英管15が石英ブロック4に接合され、石英ブロック4は、ソレノイドコイル3及び石英管15内を流れる水によって冷却される。誘導結合型プラズマトーチユニットTの最下部にプラズマ噴出口8が設けられる。長尺チャンバ内部の空間7にガスを供給しつつ、ソレノイドコイル3に高周波電力を供給して、長尺チャンバ内部の空間7にプラズマを発生させ、基材2に照射する。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットTにおいて、全体としてコイルをなす銅棒3が、石英ブロック4に接合された石英管12内に配置され、石英ブロック4は、石英管12及び石英管15内を流れる水によって冷却される。誘導結合型プラズマトーチユニットTの最下部にプラズマ噴出口8が設けられる。長尺チャンバのチャンバ内部空間7にガスを供給しつつ、銅棒3に高周波電力を供給して、長尺チャンバのチャンバ内部空間7にプラズマを発生させ、基材2に照射する。 (もっと読む)


【課題】ノズル内面に電極材が付着して切断品質が低下するのを抑える。
【解決手段】このプラズマ切断装置用ノズル6は、先端側に配置されたワークにプラズマジェットを噴出してワークを切断するためのプラズマ切断装置に用いられ、ハフニウム又はジルコニウムからなる電極3の先端部が内部に配置されるとともに電極3との間に酸素を含む作動ガスが供給されるものである。このノズル6は、筒状部6aと、先端部6bと、を備えている。筒状部6aは、内周部に形成され先端側に向かうほど径が小さくなるテーパ内面25bと、外周部に形成され冷却液によって冷却される水冷面22と、テーパ内面25bに形成されたセラミック系材料の被膜Cと、を有する。先端部6bは、筒状部6aの先端側に形成され、テーパ内面25bのさらに先端側に形成されたオリフィス26を有する。 (もっと読む)


【課題】掃除およびメンテナンスが容易なプラズマトーチを提供する。
【解決手段】陽極で形成されたノズル20と、陰極で形成された電圧棒10と、前記二つの電極間に電気的アークを発生させるアーク発生部と、前記アーク発生部に反応ガスを供給する反応ガス供給手段と、プラズマの発生による高温状態を冷却させるための冷却媒体供給手段と、前記アーク発生部の電圧棒10に付着した異物を除去するためのクリーン空気供給手段とを含む。 (もっと読む)


【課題】 複数ノズル部材をチップ基体に着脱可にしたインサートチップの、ノズル部材冷却の向上。ノズルの指向方向の設定,ノズル部材脱着を容易,簡易化。
【解決手段】 ノズル3a付き笠部21a,これに一体の幹部22a,雄ねじ部24aおよびシール材23aがあり、内部に電極空間2aがある、複数ノズル部材;雄ねじ部から幹部までが挿通するノズル部材挿入穴18a,これらの穴に挿通したノズル部材の笠部が先端平面1dに当接することにより閉じられる、ノズル部材挿入穴の一部をなし幹部との間に冷媒空間を形成する冷媒循環穴1f,冷媒受穴1h,冷媒出穴1i,隣り合う冷媒循環穴をつなぐ冷媒通し穴1j,冷媒循環穴1fを冷媒受穴につなぐ冷媒通し穴1k、および、冷媒循環穴1gを冷媒出穴につなぐ冷媒通し穴1l、を有するチップ基体1;および、ノズル部材をチップ基体に固定する結合手段25a;を備える。 (もっと読む)


【課題】 安定したアークで高温割れやアンダーカットのない溶接をより高速で行うことができる、冷却能力が高いインサートチップおよびこれを用いるプラズマトーチを提供する。
【解決手段】 2個の電極配置空間と、各電極配置空間にそれぞれが連通する2個のノズルと、該2個のノズルの中間点で該2個のノズルが分布する平面に対して交差する平面にあって冷却水が折り返すV型の冷却水流路と、を備えるインサートチップ。それの各電極配置空間にそれぞれの先端部を挿入した2電極と、を備えるプラズマトーチ。 (もっと読む)


【課題】プラズマトーチのノズルへ供給される冷却液の流量を増大させ、プラズマトーチの寿命を延ばす。
【解決手段】プラズマトーチ(10)内で、電極(80)に冷却液を供給する電極冷却液通路(60、84、85、86および64)と、ノズル(88)に冷却液を供給するノズル冷却液水通路(56、70、92、72および68)とが、並列つまり独立な水路として分離され、互いに電気的に絶縁されている。ノズル冷却液通路には、電極冷却液通路よりも大きい流量で冷却水が流される。 (もっと読む)


【課題】プラズマジェットの調節を容易にし、かつ電極部の磨耗を抑制して装置の寿命を向上できるコンパクトなプラズマトーチ装置を提供する。
【解決手段】アノード54と電気的に通じる第1金属ボディ部20と、第1金属ボディ部20と組み立てられる絶縁ボディ部30と、絶縁ボディ部30に内在されてカソード52と電気的に通じる第2金属ボディ部40とを含む装置ボディ部10と、カソード52と、その前方にプラズマノズル部を形成するように間隔を置いて配置されるアノード54とを含み、放電を通じプラズマを発生させる電極部50と、装置ボディ部10に夫々備えられ、電極部50側にガスを供給し、及び装置を冷却するためのボディ一体型ガス通路60及び冷却水通路70と、を含みボディ一体型冷却水通路70は、装置ボディ部10の第1金属ボディ部20と、絶縁ボディ部30及び第2金属ボディ部40に備えられた冷却水路70と空間とを含んだ構成。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することのできる熱プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】内部に不活性ガス5を流す熱プラズマノズル1と基材2との間に配置されたノズルカバー7に線状スリット9が設けられ、熱プラズマノズルに電力を供給して、噴出口Fから熱プラズマジェット10を発生させ、線状スリット9を通過したエネルギー束が基材2の表面に作用し、基材2の表面近傍11を熱処理する。 (もっと読む)


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