【課題】反応器の直径が大きくても、装置全体のサイズが可及的に小さくでき、小さなスペースに設置し得るマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】カバー部材１０の上面にはアンテナ１１が設けてあり、アンテナ１１は、カバー部材１０の上面に固定してあり、断面視がコ字状の導波管型アンテナ部１２と、カバー部材１０の導波管型アンテナ部１２に対向する部分に開設した複数のスリット１５，１５，…とを備えている。導波管型アンテナ部１２の一端は、マイクロ波発振器２０に連接した導波管２１が連結してあり、導波管型アンテナ部１２の他端は閉塞してある。導波管型アンテナ部１２の一端側は直線状であり、他端側は円弧状又は略一巻き渦巻き状等、適宜の曲率に成形した曲成部１２ａになしてある。また、スリット１５，１５，…の開設位置は、導波管型アンテナ部１２の閉塞した端部からｎ・λｇ／２の位置に定めてある。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性に優れ、かつ、ハロゲンプラズマプロセスでも、該セラミックスの構成原料に起因する不純物金属汚染を抑制することができ、イットリアに代わって、半導体・液晶製造用等のプラズマ処理装置の構成部材に好適に使用することができるセリアを主成分としたプラズマ処理装置用部材を提供する。
【解決手段】少なくともプラズマに曝露される部分が、純度９９％以上の酸化セリウム１００重量部に、純度９９％以上のイットリアが３重量部以上１００重量部以下添加されたセラミックスからなり、気孔率２％以下の部材、または、純度９９％以上のイットリアが３〜３０重量％添加されたプラズマ溶射膜で被覆された部材を用いる。 （もっと読む）

【課題】サセプタに均一に高周波電力を供給する。
【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置１０は、処理容器１００と、処理容器の内部にて基板Ｇを載置するサセプタ１０５と、高周波電力Ｐｗを出力する高周波電源１３０と、サセプタ１０５に位置する複数の給電ポイントＡにてサセプタ１０５に接続され、高周波電源１３０から出力された高周波電力Ｐｗを複数の給電ポイントＡからサセプタ１０５に供給する複数の供給棒Ｂと、高周波電源１３０と複数の給電棒Ｂとの間に設けられ、複数の給電棒Ｂに一対一に接続された複数の可変コンデンサＣｍを含み、出力側とプラズマ側のインピーダンスをマッチングさせる整合器１２５と、各給電ポイント近傍のコンデンサＣｐの電圧を検出するセンサＳｒと、センサＳｒにより検出された電圧に基づき複数の可変コンデンサＣｍをフィードバック制御する制御装置７００とを備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマ密度分布の容易かつ自在な制御を可能とし、プラズマプロセスの均一性や歩留まりを向上させる。
【解決手段】このプラズマ処理装置は、サセプタ１２をサセプタ中心電極１２Ａとサセプタ周辺電極１２Ｂとに半径方向で２分割し、高周波放電またはプラズマ生成のために高周波電源１６より出力される高周波をサセプタ周辺電極１２Ｂ上に下部給電導体１８を介して優先的に供給すると同時に、サセプタ中心電極１２Ａ上にも可変容量結合部２８を介して可変の分配比で該高周波を供給するように構成している。 （もっと読む）

【課題】電力損失にともなう発熱の問題を生じさせずに、かつ簡易に電力合成することができる電力合成器を提供すること。
【解決手段】電力合成器１００は、筒状をなす本体容器１と、本体容器１の側面に設けられた電力を電磁波として導入する複数の電力導入ポート２と、複数の電力導入ポート２にそれぞれ設けられた複数の給電アンテナ６と、複数の給電アンテナ６から本体容器１内に放射された電磁波を空間合成する合成部１０と、合成部１０で合成された電磁波を出力する出力ポート１１とを具備し、給電アンテナ６は、電力導入ポート２から電磁波が供給される第１の極２１および供給された電磁波を放射する第２の極２２を有するアンテナ本体２３と、アンテナ本体２３から側方へ突出するように設けられた、電磁波を反射させる反射部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】 装置の大型化を招くことがなく、被処理物の全面に亘って均一に垂直磁場が印加されるようにした簡単な構造のＲＩＥ装置を提供する。
【解決手段】 処理室２内で被処理物の保持を可能とするステージ８と、処理室内でステージに対向配置されたガス導入部３を有するガス導入手段とを備え、真空雰囲気にて処理室内にエッチングガスを導入してプラズマ化すると共に、ステージに高周波電位を印加し、プラズマ中のイオン種やラジカルを前記基板ステージで保持された被処理物Ｓに加速して衝突させ、被処理物をエッチングする反応性イオンエッチング装置であって、ステージで保持された被処理基板に対して垂直磁場を印加する磁場発生手段を設けたものにおいて、磁場発生手段は、処理室内で相互に向かい合う面の極性を変えて対向配置した一対の磁石９ａ、９ｂから構成される。 （もっと読む）

【課題】通常困難であるとされている真空装置中の水成分を除去し、真空装置中の清浄度およびベース真空度を格段に向上させる手段、方法を実現する。
【解決手段】開閉可能な真空容器２と、真空容器２内に設けられたプラズマ発生装置と、排気装置５を備え、プラズマ発生装置は、アノード電極６と、電力投入電極７と、アノード電極と電力投入電極間に高周波電圧を印加する高周波電源８と、アノード電極６を加熱する加熱装置とを備え、加熱装置は、アノード電極６を加熱することにより、真空容器２内の水成分を抽出し、前記排気装置５により真空容器２外に除去可能とし、アノード電極の加熱温度は、１００℃以上である。 （もっと読む）

【課題】誘電体とスロットとの位置関係を規定することにより、よりプラズマ着火性および着火安定性に優れたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１１は、上部開口を有する処理容器１２と、下面に厚み寸法が連続的に変化するように傾斜する傾斜面１６ａ，１６ｂを有し、処理容器１２の上部開口を閉鎖するように配置される誘電体１５と、誘電体１５の上面に配置され、誘電体１５にマイクロ波を供給して誘電体１５の下面にプラズマを発生させるアンテナ２４とを備える。そして、アンテナ２４は、傾斜面１６ａ，１６ｂの鉛直上方に位置する複数のスロット２５を有する。 （もっと読む）

電力分割器および／または結合器について記載する。電力分割器は、プラズマ源内の複数の電極に電力を供給する際に有利に使うことができる広帯域、受動、Ｎ分配の電力分割器として実現することができる。電力分割器は、伝送ラインと、伝送ラインのまわりに配置された複数のＮ本の二次巻線とを備える。
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【課題】メンテナンス時期を予知することができるインピーダンス整合装置を提供する。
【解決手段】可変コンデンサＶＣ1，ＶＣ2と、モータ７ａ，７ｂを駆動源として可変コンデンサの操作軸を操作する操作機構と、可変コンデンサの操作軸の目標位置を設定する目標位置設定部９と、検出された可変コンデンサの操作軸の位置を設定された目標位置に一致させるようにモータを制御するモータ制御部１３と、操作軸の目標位置と現在位置との偏差が所定値を超えたときに異常判定を行う異常判定部１１と、異常判定部により最初の異常判定が行われるまでの間モータの出力トルクを初期トルクに設定し、最初の異常判定が行われた時にモータの出力トルクを初期トルクよりも大きい異常検出後トルクに設定する出力トルク設定部１２と、モータの出力トルクを出力トルク設定部により設定されたトルクとするようにモータを駆動するモータ駆動部１０とを備えた。 （もっと読む）