う蝕治療用殺菌水及びその生成方法並びに生成装置
【課題】脱灰と殺菌力の両方を満たすｐＨで、なおかつバイオフィルム内に棲息するミュータンスレンサ球菌やラクトバチラス菌といったう蝕病原菌を確実に死滅させる。
【解決手段】本発明に係る殺菌水の生成装置１は、原液２を貯留する原液タンク３と、該原液タンクに連通接続されたストロークポンプ４と、該ストロークポンプに連通接続された電解槽５と、該電解槽に連通接続された吐出管６と、希釈水７が貯留された希釈水タンク８と、該希釈水タンク内の水位を計測する水位計測手段としての水位センサ９とを備えるとともに、吐出管６の先端が希釈水タンク８に貯留された希釈水７の水位以下となるように、吐出管６の先端位置に対する希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしてある。
【解決手段】本発明に係る殺菌水の生成装置１は、原液２を貯留する原液タンク３と、該原液タンクに連通接続されたストロークポンプ４と、該ストロークポンプに連通接続された電解槽５と、該電解槽に連通接続された吐出管６と、希釈水７が貯留された希釈水タンク８と、該希釈水タンク内の水位を計測する水位計測手段としての水位センサ９とを備えるとともに、吐出管６の先端が希釈水タンク８に貯留された希釈水７の水位以下となるように、吐出管６の先端位置に対する希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしてある。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主としてミュータンスレンサ球菌を殺菌するう蝕治療用殺菌水及びその生成方法並びに生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
う蝕は、主としてミュータンスレンサ球菌を原因菌とした細菌感染症であり、主として乳幼児期に母親の唾液を介して感染すると考えられている。
【０００３】
ミュータンスレンサ球菌(mutans streptococci)は現在７菌種に分類されており、ヒトの口腔からは、主としてストレプトコッカス・ミュータンス(S.mutans, Streptococcus mutans)とストレプトコッカス・ソブリナス(S. sobrinus, Streptococcus sobrinus) の２菌種が検出される。
【０００４】
う蝕は、ミュータンスレンサ球菌がショ糖（スクロース）を発酵させて乳酸等の有機酸を生成し、かかる有機酸が歯のエナメル質を溶かすことによって歯の脱灰が進行する疾患であるが、ミュータンスレンサ球菌は、ショ糖を基質として粘着不溶性のグルカンを合成し、該グルカンの粘着性によって歯の表面上で病原性バイオフィルムを形成する。
【０００５】
そして、いったんバイオフィルムが形成された後は、ミュータンスレンサ球菌は、バイオフィルムによって抗生剤や殺菌剤からの攻撃を免れながら、該バイオフィルム内で棲息し続けるとともに、バイオフィルムによる有機酸の希釈拡散防止作用と相俟って、歯の脱灰を促進させやすい。
【０００６】
歯面上に形成される病原性バイオフィルムは、歯科分野では歯垢（デンタルプラーク）としてよく知られているものであり、日常的なブラッシングでその形成を防止することはある程度可能であるが、唾液中のカルシウムやリン酸が沈着して石灰化が進み、歯石へと変化すると、もはや日常のブラッシングによって除去することは困難となる。
【０００７】
かかる場合には、ＰＭＴＣと呼ばれる歯面清掃処理を行って歯垢あるいは歯石を物理的に除去するとともに、３ＤＳという除菌方法で歯の除菌を行う。
【０００８】
３ＤＳは、患者それぞれの歯列に合ったトレーを用いて歯面に薬剤を塗布することにより、ミュータンスレンサ球菌を殺菌することができるものであり、ＰＭＴＣとの併用によるう蝕の治療方法として期待されている。
【０００９】
【特許文献１】特開平９−１８３７０６
【特許文献２】特開平１０−８７４６２
【特許文献３】特開２００１−３２７９７５
【特許文献４】特開平６−２９２８９２
【特許文献５】特開平１０−３１４７４６
【特許文献６】特開昭６３−２８６１４８
【特許文献７】特開平５−７６５５０
【特許文献８】特開平４−９９４７８５
【特許文献９】特開平７−３１３９８２
【特許文献１０】特開平８−１９７８２
【特許文献１１】特開平８−１０８１８２
【特許文献１２】特開２００６−６８３５４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、３ＤＳによる除菌は、トレイ作成のために患者一人一人の歯型をとる必要があるのみならず、除菌に使う薬剤の関係上、除菌操作一回あたり、５分程度の時間を要するとともに、除菌操作自体を何度か繰り返さねばならず、治療側及び患者側とも時間的負担が大きく、治療の手順も煩雑でコストもかかるという問題を生じていた。
【００１１】
一方、次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＯＣＬ、次亜塩素酸ソーダ）の殺菌性については従来から広く知られているが、実際に殺菌力を持つのは、加水分解で生成される次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）であるところ、かかる次亜塩素酸は、高いｐＨではほとんど水溶液中に存在し得ず、代わりに殺菌力の弱い次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）に形態を変化させてしまうとともに、そもそも高いｐＨでは刺激性が高く人体組織を腐蝕させるおそれがあるため、口腔内で使用することはできない。さりとてｐＨを下げ過ぎれば、猛毒の塩素ガスが発生する。
【００１２】
そのため、次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＯＣＬ）は、予め酸を添加してｐＨを下げた上、手の消毒、果実・野菜の消毒、食品の製造ラインの殺菌消毒、浴室等の消毒、プール水の消毒、漂白剤、下水処理後の排水の消毒等にとどまっているのが現状である。
【００１３】
また、次亜塩素酸ナトリウムと塩酸を希釈混合反応させ、pHを５．５から６．５の弱酸性にした弱酸性水が市販されているが、用途としては概ね上述した範囲内であって、歯科分野での使用を前提としたものではなく、ましてう蝕治療としては何ら安全性や効能について実証されていない。
【００１４】
ここで、特許文献１には、口腔内に含んで使用する次亜塩素酸殺菌水が開示されており、実施例として塩化ナトリウム溶液に塩酸を添加して電気分解し、ｐＨが６．５、残留塩素濃度が５０ｐｐｍの殺菌水を生成できる旨、記載されている。また、特許文献２には、次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍである口腔洗浄水が開示されている。
【００１５】
しかしながら、かかる殺菌水や洗浄水では、バイオフィルムで守られたミュータンスレンサ球菌を死滅させることなど到底できないことが本出願人の臨床試験で明らかになった。加えて、特許文献１における特許請求の範囲には、ｐＨの範囲が３〜８となっているが、少なくともｐＨ３〜ｐＨ５程度の範囲では、脱灰のおそれが強く、口腔内に使用することはできない。
【００１６】
また、特許文献３には、塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、酢酸及び水を原液とし、かかる原液を電気分解することによって次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）を生成し、これを歯科用水道水として用いる点が開示されているが、次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）は、上述したように次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）より殺菌力が小さいばかりか、高いｐＨで存在し得る次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）を使用することは、人体組織への影響が大きすぎる。
【００１７】
また、特許文献４には、塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、無機酸及び水を原液とし、かかる原液を電気分解して活性酸素を生成する点や活性酸素とともに生成される次亜塩素酸によって、調理環境衛生用、手洗い用、食品材料用、おしぼり用の殺菌水をはじめ、食品加工流通分野などの種々の分野で利用可能であるとの記載があるものの、ミュータンスレンサ球菌に対する作用効果については何らの記載もなく、そもそも歯科分野への適用について何ら言及されていない。
【００１８】
また、特許文献５には、特許文献６〜９で解決されていない課題、すなわち口腔洗浄水として使用する場合のｐＨに関する課題を解決すべく、あらたな原液組成が開示されており、かかる原液を電気分解することで３０ｐｐｍ程度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）からなる殺菌水を生成することができる点が開示されているとともに（表２，図３）、う蝕予防にも使用できるとの開示もなされてはいるが（段落番号２８）、実際に試験された菌体にはミュータンスレンサ球菌は含まれておらず、効能が明らかでないばかりか、上述したと同様、かかる殺菌水ではミュータンスレンサ球菌を死滅させることなど到底不可能である。
【００１９】
また、特許文献１０，１１は、口腔内での使用を前提としておらず、ミュータンスレンサ球菌はもとより、そもそもデンタルプラークを死滅させる効能があるかどうかさえ不明である。
【００２０】
また、従来における殺菌水の生成方法では、塩酸や酢酸を添加せねばならず、ｐＨ管理が難しくなるとともに、当初から水に含まれている成分とも相まって、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）以外にさまざまな物質、特に味覚や嗅覚を刺激する物質が生成される原因となり、口腔内で使用する際にはおのずと限度があった。
【００２１】
例えば、特許文献１２には、従来公知の口腔殺菌液では、実際の口腔内での使用時において、口腔粘膜の炎症、刺激等の問題があり、日常的な使用に耐えられないと記載されている。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明は、上述した事情を考慮してなされたもので、脱灰と殺菌力の両方を満たすｐＨで、なおかつバイオフィルム内に棲息するミュータンスレンサ球菌やラクトバチラス菌といったう蝕病原菌を確実に死滅させることが可能なう蝕治療用殺菌水及びその生成方法並びに生成装置を提供することを目的とする。
【００２３】
また、本発明は、ｐＨ管理が容易でなおかつ味覚や嗅覚を刺激する物質を生成することのない殺菌水の生成方法及び生成装置を提供することを目的とする。
【００２４】
上記目的を達成するため、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は請求項１に記載したように、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水において、
【００２５】
前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７とするとともに、う蝕病原菌の殺菌を用途としたものである。
【００２６】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は、前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとしたものである。
【００２７】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は、前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７としたものである。
【００２８】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は、前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３としたものである。
【００２９】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は請求項５に記載したように、水に塩化ナトリウム及び酸を添加してなる原液を電気分解して得られる１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウム及び前記酸の添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにするものである。
【００３０】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は請求項６に記載したように、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにするものである。
【００３１】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は請求項７に記載したように、純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにするものである。
【００３２】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は、前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとするものである。
【００３３】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は、前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とするものである。
【００３４】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は、前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とするものである。
【００３５】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は請求項１１に記載したように、電解槽中の原液を電気分解して次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水を生成する装置において、
【００３６】
前記原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続された電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管と、希釈水が貯留された希釈水タンクとを備えるとともに、前記吐出管の先端が前記希釈水タンクに貯留された希釈水の水位以下となるように前記吐出管の先端位置に対する前記希釈水タンクの設置位置を相対的に位置決めしてなり、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成するものである。
【００３７】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は請求項１２に記載したように、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、水を逆浸透膜に通して得られた通過水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたものである。
【００３８】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は請求項１３に記載したように、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、純水を所定期間大気中に放置して得られた放置水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたものである。
【００３９】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は、前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとしたものである。
【００４０】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は、前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７としたものである。
【００４１】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は、前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３としたものである。
【００４２】
（殺菌水に係る発明）
【００４３】
う蝕病原菌は、う蝕に関与する口腔内細菌を指すものとし、具体的にはミュータンスレンサ球菌及びラクトバチラス菌(Lactobacilli)を含む。また、ミュータンスレンサ球菌のうち、ヒトの口腔内で検出されるのは、主としてストレプトコッカス・ミュータンス(S.mutans, Streptococcus mutans)とストレプトコッカス・ソブリナス(S. sobrinus, Streptococcus sobrinus) の２菌種である。
【００４４】
本出願人は、蒸散機能のある波長２．９４μｍのレーザーを発生するＥｒ:ＹＡＧレーザーを用いたレーザー治療や抗生剤投与による治療を行いながら、このようなう蝕病原菌を死滅させることがいかに困難であるかを知り、従来から知られている次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の殺菌力を利用することができないかに着眼して研究を積み重ねた。
【００４５】
しかし、既に述べたようにう蝕病原菌は、歯の表面に形成されたバイオフィルム内に棲息するため、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む公知の殺菌水を含嗽（がんそう）したところで、口腔内の有機物を酸化するにとどまり、殺菌力が保持された状態でバイオフィルム内に送り込むことなど到底不可能であることがわかった。
【００４６】
また、バイオフィルムを物理的に破壊しながら公知の殺菌水を注入したとしても、その殺菌力は、周囲の有機物を酸化することでほとんど消費されてしまい、バイオフィルム内に棲息しているう蝕病原菌を死滅させることはやはり不可能であることもわかった。
【００４７】
そこで、本出願人は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２００ｐｐｍ程度まで上げれば、酸化力が徐々に低下したとしても、バイオフィルム内のう蝕病原菌を死滅させることができるのではないかと考え、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を上げることに研究開発の視点を移した。
【００４８】
しかしながら、２００ｐｐｍを越える高濃度の歯科用次亜塩素酸水は、本出願時において全く明らかにされていない。
【００４９】
すなわち、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を計測するには、例えば「残留塩素試験紙アクアチェック」なる商品名でオルガノ株式会社が販売している残留塩素計があるが、測定範囲は、０、０．１、０．５、１．０（ｍｇ／Ｌ）となっており、１ｐｐｍ以上の場合、濃度計測不能である。同様に、「デジタル残留塩素計HI 95シリーズ」は０．００〜５．００ｍｇ／Ｌ、「ポケット残留塩素計（ハック社製）」は０．０２〜２．００ｍｇ／Ｌ、「ポータブル残留塩素計OR-52」は０．０５〜２．００ｍｇ／Ｌ、「ポータブル水質計WA-1」は ０．０５〜２．００ｍｇ／Ｌとなっており、５ｐｐｍ以上は測定不能である。また、株式会社堀場アドバンスドテクノから「残留塩素計CR-200」の商品名で販売されているものは測定範囲が ０〜２．０ｍｇ／Ｌ、有限会社エムケー・サイエンティフィックから「残留塩素計C-201(完全防水型)」の商品名で販売されているものは０．０１〜６．０ｍｇ／Ｌであり、測定上限値は、ほとんどが５〜６ｐｐｍとなっている。
【００５０】
ちなみに、株式会社テックジャムから「残留塩素測定器 RC-7Z 」の商品名で販売されているものは、測定範囲が１０〜２００ｍｇ／Ｌ、株式会社イワキから「高濃度用残塩計(ドレンタイプ) CL-50H」の商品名で販売されているものは２０〜２００ｍｇ／Ｌ、AQUALYTIC（ドイツ製）の商品名で株式会社東興化学研究所から販売されている「ＤＰＤ錠剤法 デジタル残留塩素濃度計」は高濃度有効塩素の測定範囲が０〜２００ｍｇ／Ｌであるが、それでも２００ｐｐｍが測定上限値である。
【００５１】
一方、バイエルメディカル株式会社からは、高濃度測定試験紙として「日産アクアチェックＨＣ」の商品名で試験紙が販売されており、「遊離残留塩素濃度として０，５０，１００，２００，４００，６００ｍｇ／Ｌの高範囲な測定域」を持つ旨、説明がなされているが（http://www.aquachek.net/aq_08b06.html、２００５年１２月１４日インターネット検索）、「本法は高濃度の次亜塩素酸ナトリウム(強アルカリ性)（中略）の測定を考慮し、ｐＨについて影響の少ないクロモーゲンを用いている。」（同上）という説明からもわかるように、次亜塩素酸ナトリウム（強アルカリ性）の濃度を計測することを前提としたものであって、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）について計測ニーズがあることを裏付けるものではない。
【００５２】
同様に、津元理化産業株式会社から「簡易水質検査キット シンプルパック 残留塩素３００ ＣｌＯ３００」の商品名で販売されている計測機器や、遠藤科学株式会社から「パックテストＷＡＫ−ＣｌＯ（Ｃ）」の商品名で販売されている計測機器を用いて、それぞれ５０〜３００ｍｇ／Ｌ、５〜１００００ ｍｇ／Ｌの濃度範囲で残留塩素を計測できる旨の記載があるが（http://www.tsumoto-rika.co.jp, http://www.endokagaku.co.jp、2005年12月16日検索）、これらの計測機器はいずれも、次亜塩素酸ナトリウム（強アルカリ性）の濃度を計測することを前提としたものであって、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）について計測ニーズがあることを裏付けるものではない。
【００５３】
このように、濃度が２００ｐｐｍを越える次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を計測するニーズは、本出願の時点で計測機器分野には存在せず、ゆえに２００ｐｐｍを越える次亜塩素酸水は未だ公知の物質ではないと推定できる。
【００５４】
加えて、バイオフィルム内に棲息するう蝕病原菌を死滅させることを用途とした次亜塩素酸水は、従来技術において全く開示されていないことは上述した通りである。
【００５５】
本発明に係る殺菌水において、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を高くしなければならない理由は以下の通りである。
【００５６】
(a)う蝕病原菌も他の細菌と同様、浮遊状態で存在する割合よりもバイオフィルムを形成してその内部に棲息している割合が圧倒的に大きく、かかるバイオフィルム内のう蝕病原菌を死滅させるには、口腔内の有機物や他の菌体を酸化してもなお十分な殺菌力を保持していることが要求される。
【００５７】
(b)長時間、例えば６０秒以上かけて殺菌を行うことは、数十万の細菌を体内（血管内）に送り込んで菌血症を招き全身疾患を誘発する懸念があるため、３０秒以内、できれば１０秒以内に死滅させなければならない。
【００５８】
(c)バイオフィルムには３００〜４００種の細菌が一定の均衡を維持しながら寄生的に繁殖して細菌叢(そう)を形成しているが、これがなんらかの原因で他の菌と置換されたり、少数の菌が異常に増えたりすると、菌交代現象とよばれる細菌叢の変化が生じる。すなわち、一部のう蝕病原菌が殺菌されずに生き残ると、菌交代現象が発生し、残った細菌が急激に増殖する。このような事態を防止するためには、バイオフィルムに棲息する細菌を全て死滅させなければならない。
【００５９】
本発明に係る殺菌水は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７とするとともに、う蝕病原菌の殺菌を用途とするものであり、使用時においては、例えば炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、その後、上記殺菌水を口腔内に含んで数秒〜数十秒間、含嗽する。
【００６０】
このようにすると、上記殺菌水は、口腔内に存在する有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、バイオフィルム内のう蝕病原菌を短時間に殺菌できるだけの酸化力を保持しているため、歯牙表面に棲息しているう蝕病原菌や、歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を確実に死滅させることができる。もちろん、その際、歯の脱灰についても未然に防止される。
【００６１】
ここで、歯面清掃を行う際、水に代えて上記殺菌水を用いてもよいし、超音波スケーラーを用いて事前に歯石を除去するのであれば、その際にも上記殺菌水を用いることができる。
【００６２】
ちなみに、２０１ｐｐｍ以上としたのは、２００ｐｐｍ以下の濃度では上記(a)〜(c)を達成することが困難だからであり、６００ｐｐｍ以下としたのは、６００ｐｐｍを上回る濃度は上記(a)〜(c)を達成するためには不必要な濃度だからである。
【００６３】
ここで、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を３００〜６００ｐｐｍにした場合、歯牙表面に棲息し又は歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を３０秒程度以内に完全殺菌することができる。また、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を４００〜６００ｐｐｍにした場合には１０秒程度以内に完全殺菌することができる。
【００６４】
なお、塩酸や酢酸を添加する方法で本発明に係る殺菌水を生成する場合、生成時に同時に生じる刺激物質が臭いや味となって患者に刺激を与えるため、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を５００ｐｐｍ以下とし、さらに４００ｐｐｍ以下とするのが望ましい。
【００６５】
（殺菌水の生成方法及び生成装置に係る発明）
【００６６】
本発明に係る殺菌水を生成するにあたり、殺菌水を口腔内に注入する以上、歯が脱灰しないｐＨを維持することは絶対条件となるところ、永久歯のエナメル質はｐＨ５．５で、象牙質はｐＨ６．２で脱灰し、乳歯はｐＨ６．２で脱灰するため、ｐＨ範囲は、ｐＨ５．６以上に限定される。また、エナメル質で被覆されずに象牙質が露出している場合を想定すれば、ｐＨ範囲は、ｐＨ６．３以上に限定される。
【００６７】
一方、塩素は、ｐＨ環境によって、塩素ガス、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）、次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ-）とその形態を変化させる化学物質であるとともに、塩素ガスに毒性があることは広く知られているところであり、濃度調整のために希釈を行うと、ｐＨが変動して塩素の形態も変化する。
【００６８】
具体的には、塩素を次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の形態で水溶液中に十分な割合で含有させるためには、目安としてｐＨ２．２〜ｐＨ７（有効塩素存在百分率において次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）が約８０％以上）、望ましくはｐＨ２．８〜ｐＨ６．７（有効塩素存在百分率において次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）が約９０％以上）であることが必要となる。
【００６９】
したがって、高濃度の次亜塩素酸水を殺菌水として生成するにあたっては、殺菌水のｐＨが５．６以上７以下（６．３以上７以下）、望ましくは５．６以上６．７以下（６．３以上６．７以下）という非常に厳しい範囲内におさまるように希釈しなければならないとともに、希釈後の殺菌水は当然ながら所望の高濃度になっていなければならない。換言すれば、希釈後のｐＨを精度よく管理しつつ、希釈による次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度変動をも同時に考慮しなければならないというきわめて困難な課題が生じた。
【００７０】
翻って、塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、酸及び水を原液とし、かかる原液を単に電気分解する公知の手法は、手の消毒、果実・野菜の消毒、食品の製造ラインの殺菌消毒、浴室等の消毒、プール水の消毒、漂白剤、下水処理後の排水の消毒等が用途であるため、厳密なｐＨ管理は必要ではない。むしろ、ｐＨは、衛生上、問題のない範囲、例えば４〜６程度でかまわないから、大量の殺菌水を必要とする。
【００７１】
そのため、上述した公知の手法では、電気分解の際、電解槽内を強酸性側（例えばｐＨ１程度）にｐＨ調整するとともに、電解槽に接続された吐出管に送水管を合流させることで、電解槽から出てきた強酸性水を１０3〜１０5倍程度に希釈し、数十ｐｐｍの次亜塩素酸水を大量に得ていた。
【００７２】
かかる方法では、生成された次亜塩素酸水のｐＨは上述した４〜６の範囲に入っているとはいえ、大量希釈であるため、目標値通りのｐＨで次亜塩素酸水を生成することなど精度上、到底不可能であり、何より次亜塩素酸の濃度が数十ｐｐｍと当然ながら低くなる。
【００７３】
このように、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７あるいは６．３〜７とした殺菌水の生成方法は、従来技術において全く明らかにされていない。
【００７４】
これに加えて、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７あるいはｐＨが６．３〜７となるように殺菌水を生成するには、本質的に困難な理由がある。
【００７５】
すなわち、高濃度の次亜塩素酸水を生成する以上、当然ながら希釈倍率を下げる必要があるが、希釈倍率が小さい場合、希釈水のポンプによる送水速度（送水量）が小さくなって脈流が発生し、均質な次亜塩素酸水の生成が困難となる。
【００７６】
従来においては、ｐＨが１程度の強酸性水を配管内で大量希釈していたため、塩素ガスが生成されるリスクは少ないとともに、塩素ガスが一時的に生成揮散したとしても、配管内ゆえ、外部への漏洩を懸念する必要がなかったが、少量希釈でしかもポンプを使えないとなると、配管内での希釈ができなくなり、万一、電気分解時のトラブル、すなわち、過電流が流れたり原液組成が設計通りのものでなかったりすることに起因してｐＨが酸性側にシフトし塩素ガスが発生するトラブルが発生した場合、何らかの安全策を講じておく必要も生じる。
【００７７】
さりとて希釈そのものをしない、すなわち上述した条件の次亜塩素酸水を電気分解で直接生成することは、原液組成や電解槽の動作条件の設定がきわめて難しく、かつ安定性や精度の面で現実性に欠ける。
【００７８】
そこで、本出願人は、濃度とｐＨに関する厳しい要求を満たしつつ、均質にかつ安全に生成可能な殺菌水の生成方法に関し、以下のようにあらたな知見を得た。
【００７９】
すなわち、本発明に係る殺菌水の生成方法においては、水に塩化ナトリウム及び酸を添加してなる原液を電気分解して得られる１次生成水を希釈して殺菌水を生成するにあたり、まず、殺菌水に含まれる次亜塩素酸の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７あるいは６．３〜７となるように、塩化ナトリウムや酸の添加量といった原液に関するパラメータ（以下、原液組成条件）、電圧値や電流値といった電気分解に関するパラメータ（以下、電気分解条件）及び希釈倍率や希釈水の種類といった希釈に関するパラメータ（以下、希釈条件）を設定する。
【００８０】
酸は、ｐＨ調整剤として機能するため、塩酸、酢酸など任意の酸を用いることができる。
【００８１】
また、原液の構成要素である水は、井戸水、水道水などを使用することが可能であり、あえて純水を使用する必要はない。但し、電解槽の電極損傷や電極反応の低下を未然に防止するためには、カルシウムイオン、マグネシウムイオンなどを含まない純水を使用した方がよいことは言うまでもない。
【００８２】
なお、希釈水についても同様であり、井戸水、水道水、純水等を使用することができる。なお、希釈水は、生成された殺菌水のｐＨが上述した範囲になるよう、ｐＨを適宜設定する。
【００８３】
設定された原液組成条件に従って原液を作製した後、これを原液タンクに貯留する。
【００８４】
次に、電気分解条件に従って原液を電解槽に入れ、該原液を電気分解する。
【００８５】
次に、電解槽内で生成された１次生成水を、該電解槽に連通接続された吐出管を介して、予め希釈水タンクに貯留された希釈水内に注入する。
【００８６】
ここで、希釈水タンクは、吐出管の先端位置が希釈水タンクの中に貯留された希釈水の水位以下となるように、その設置位置を相対的に位置決めしてある。
【００８７】
そのため、１次生成水を吐出管を介して希釈水内に注入するようにすれば、空気と非接触の状態で注入されることとなる。
【００８８】
このようにすれば、万一、原液の配合比率や電解槽の動作条件が設計値と異なり、それが原因で塩素ガスが発生したとしても、該塩素ガスは、ｐＨ環境が中性に近い希釈水の中でその形態が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）に変化するとともに、塩素ガスとして気中に揮散する懸念もなくなる。
【００８９】
また、希釈水は、希釈条件で設定された希釈倍率で１次生成水が希釈されるように予めこれを計量してから希釈水タンクに貯留しておき、希釈倍率に対応する量の１次生成水が希釈水タンクに注入されたならば、該注入作業を終了する。
【００９０】
このように、吐出管の先端が希釈水タンクの中に貯留された希釈水の水位以下となるように位置決めしておくとともに、希釈条件で設定された希釈倍率で１次生成水が希釈されるように予め希釈水を計量して希釈水タンクに貯留するようにしたので、設計通りの濃度及びｐＨの次亜塩素酸水を安全かつ均質に生成することが可能となる。
【００９１】
希釈倍率は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の必要濃度に応じて決めればよい。例えば、濃度が４００ｐｐｍの次亜塩素酸水が必要なのであれば、１次生成水中の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０００ｐｐｍとなるように、原液組成条件及び電気分解条件を適宜設定するとともに、希釈倍率を１０とすればよい。
【００９２】
（殺菌水及びその生成方法に係る発明〜塩酸や酢酸の不添加〜）
【００９３】
上述した殺菌水の生成方法によって、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７あるいは６．３〜７の殺菌水を作ることができるとともに、かかる殺菌水によれば、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を数秒〜３０秒程度の短時間で死滅させることができる。
【００９４】
しかしながら、かかる殺菌水の生成方法にあたっては、原液に塩酸や酢酸を添加する必要があるため、ｐＨ管理が難しくなるとともに、当初から水に含まれている成分とも相まって、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）以外にさまざまな物質、特に味覚や嗅覚を刺激する刺激物質が生成され、患者に不快感を与える。
【００９５】
そのため、上述した生成方法で生成された殺菌水を口腔内で使用するにあたっては、５００ｐｐｍ、できれば４００ｐｐｍを上限とするのが望ましい。
【００９６】
かかる濃度であっても、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を１０秒〜３０秒程度の短時間で殺菌することはできるが、臭いや味に関する患者の不快感をもっと軽減できないか、あるいはｐＨ管理を含めた殺菌水生成プロセスをもっと簡素化できないかという点に着目して本出願人がさらなる研究を重ねた結果、画期的な殺菌水の製法開発に成功した。かかる殺菌水の生成方法によれば、次亜塩素酸水の生成に必須と考えられていた塩酸や酢酸の添加が不要になるとともに、それに伴って刺激物質の生成も未然に防止されることとなり、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を６００ｐｐｍに高めても、臭いや味に関して患者に不快感を与えずに済む。
【００９７】
請求項６及び請求項７に係る殺菌水の生成方法においては、請求項５に係る発明と概ね同様の手順で原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定するが、請求項６に係る発明では、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製し、請求項７に係る発明では純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製するものであり、塩酸、酢酸等の酸は一切添加しない。また、原液組成条件は、塩化ナトリウムの添加量が主たるパラメータとなる。
【００９８】
逆浸透膜は、孔の大きさが百万分の１ｍｍオーダーであるため、それより一回り小さな水分子は通すが、それ以上大きな分子は、通さないようになっているとともに、イオンを電気的に排除する機能もあるため、ナトリウムイオンなど百万分の１ｍｍよりも小さな物質であっても、他のイオンと同様、ほぼ完全に除去される。
【００９９】
このような逆浸透膜は、当初、海水淡水化の手段として研究が始まったが、今では、半導体洗浄等工業用の純水や超純水の製造等に広く用いられている。
【０１００】
しかし、このような高い浄水機能を持つ逆浸透膜でも、気体の通過を阻止することは難しく、水に溶存している酸素や二酸化炭素などの気体は、逆浸透膜を通過する。
【０１０１】
それゆえ、ｐＨ要求が厳しいプロセスにおいては、逆浸透にかける前に予め脱気を行って溶存気体を除去することも少なくない。また、生成されたばかりの純水には、大気中の二酸化炭素が短時間にかつ容易に溶け込む。
【０１０２】
本出願人は、このような逆浸透膜や純水に関する性質を逆に利用できないかという点に着眼し、水道水を逆浸透膜にかけて純水を作製し、実験を繰り返した。
【０１０３】
その結果、水道水のｐＨは、約６〜８と全国的にかなりのばらつきがあるにもかかわらず、逆浸透膜を通過した水のｐＨは概ね５〜６を示した。
【０１０４】
これは、ミネラル分をはじめとしたさまざまな物質が水道水に含まれているため、水道水自体のｐＨはばらつくものの、ｐＨに寄与するイオンは、逆浸透膜でほぼ完全に除去され、二酸化炭素によるｐＨ寄与だけが顕在化したことが理由であると考えられる。
【０１０５】
この性質を利用すれば、塩酸や酢酸といった酸を添加せずとも、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水を生成することができるのではないかと、本出願人はさらに研究を進めた結果、上述した発明をなすに至ったものである。
【０１０６】
すなわち、逆浸透膜を通過した水や、純水を一定期間大気中に放置した水のｐＨは大気中の二酸化炭素に依存し、塩酸や酢酸といった酸をわざわざ添加せずとも、弱酸性の原液をｐＨが概ね確定した状態でかつ安全に得ることが可能となり、しかもｐＨ値が既知であることにより、電気分解条件や希釈条件の設定も容易に行うことができる。
【０１０７】
そして何より、水道水や井戸水に含まれる溶存物質が逆浸透膜で予め除去され、又は純水であるがゆえに当初から除去されており、かつ塩酸や酢酸が全く添加されていないため、無味無臭の殺菌水を生成することが可能となり、その結果、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が５００ｐｐｍ〜６００ｐｐｍであっても、患者に何ら不快感を与えることなく、かつ歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を数秒〜３０秒程度の短時間で完全殺菌することができるという画期的な作用効果を奏する。
【０１０８】
なお、電気分解以降の殺菌水の生成手順については請求項５に係る発明と同様であるので、ここではその詳細な説明を省略する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１０９】
以下、本発明に係るう蝕治療用殺菌水及びその生成方法並びに生成装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。なお、従来技術と実質的に同一の部品等については同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１１０】
（第１実施形態）
【０１１１】
本実施形態に係る殺菌水は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜４００ｐｐｍ、望ましくは３００〜４００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００ｐｐｍ程度、ｐＨを６．３〜６．７とするとともに、う蝕病原菌であるミュータンスレンサ球菌の殺菌を用途とするものである。
【０１１２】
ここで、２０１ｐｐｍ以上としたのは、バイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持させるのみならず、ミュータンスレンサ球菌を３０秒程度以内（４００ｐｐｍの場合は１０秒程度以内）に完全殺菌するためであり、４００ｐｐｍ以下としたのは、口腔内に与える刺激を緩和するためである。
【０１１３】
本実施形態に係る殺菌水でう蝕の治療を行うには、必要に応じて超音波スケーラー等を用いたスケーリングで歯面上に形成された歯石を予め除去した後、例えば、炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、次いで、上記殺菌水を口腔内に含んで数十秒間、含嗽する。
【０１１４】
このようにすると、本実施形態に係る殺菌水は、口腔内の有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持し、ミュータンスレンサ球菌を短時間に死滅させることができる。もちろん、その際、歯の脱灰についても未然に防止することができる。
【０１１５】
加えて、本実施形態に係る殺菌水によれば、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜４００ｐｐｍ、望ましくは３００〜４００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００ｐｐｍ程度に調整してあるので、歯の表面に残存する歯垢や歯石の内部あるいは歯の表層といった部位においてバイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を１０秒〜３０秒以内（５００ｐｐｍ近傍の濃度では瞬間的）に完全殺菌することができる。
【０１１６】
なお、吹付けや超音波スケーラーを用いた歯面清掃を行う際、水に代えて上記殺菌水を用いてもよい。
【０１１７】
次に、本実施形態に係る殺菌水の生成装置を図１に示す。
【０１１８】
同図でわかるように、本実施形態に係る殺菌水の生成装置１は、原液２を貯留する原液タンク３と、該原液タンクに連通接続されたストロークポンプ４と、該ストロークポンプに連通接続された電解槽５と、該電解槽に連通接続された吐出管６と、希釈水７が貯留された希釈水タンク８と、該希釈水タンク内の水位を計測する水位計測手段としての水位センサ９とを備えるとともに、吐出管６の先端が希釈水タンク８に貯留された希釈水７の水位以下となるように、吐出管６の先端位置に対する希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１１９】
原液２は、例えば塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、塩酸（ＨＣＬ）及び水から構成することができるが、塩酸に代えて、ｐＨ調整剤として機能する他の酸、例えば酢酸を用いてもよい。
【０１２０】
電解槽５は、例えば葵エンジニアリング株式会社が「エピオスエコ」の商品名で販売している電解中性水生成装置で使用されている電解槽を使用することができる。
【０１２１】
水位センサ９は、例えば超音波センサや電極式センサ等から適宜選択すればよい。
【０１２２】
希釈水７は、井戸水、水道水、純水その他任意の水を使用することができるが、生成される殺菌水のｐＨが上述した範囲になるようにｐＨを適宜選択する。
【０１２３】
本実施形態に係る生成装置１はさらに、１次生成水が希釈水タンク８内において希釈水７で希釈されてなる２次生成水１０に注水側が連通された脱気モジュール１１を備えており、該脱気モジュールは、真空ポンプ１２による減圧によって２次生成水１０の溶存酸素を除去するようになっているとともに、２次生成水１０から溶存酸素が除去された３次生成水を殺菌水１３として貯留する３次生成水タンク１４を備えている。
【０１２４】
脱気モジュール１１は、例えば大日本インキ化学工業株式会社から販売されている中空糸膜脱気モジュールを使用することができる。特に、脱気膜にポリテトラフルオロエチレン中空糸を使用した、接液部全てがフッ素樹脂の薬液用脱気モジュールが望ましい。
【０１２５】
なお、生成装置１に用いるチューブ類あるいは必要に応じて適宜設ける電磁弁は、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）による酸化で劣化のおそれがあるため、フッ素で形成するのが望ましい。
【０１２６】
本実施形態に係る殺菌水の生成装置１を用いて上述の殺菌水１３を生成するには、まず、２次生成水の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜４００ｐｐｍ、望ましくは３００〜４００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００ｐｐｍ程度、ｐＨが６．３〜６．７となるように、原液２の組成、その配合比率、電気分解時の動作条件（例えば電圧値や電流値）及び希釈条件（希釈倍率や希釈水のｐＨ）を定めるとともに、配合された原液２を原液タンク３に貯留する。
【０１２７】
次に、原液２をストロークポンプ４で電解槽５に送りつつ、定められた動作条件で電解槽５を動作させ、原液２を電気分解する。
【０１２８】
次に、電解槽５内で生成された１次生成水を、該電解槽に連通接続された吐出管６を介して、予め希釈水タンク８に貯留された希釈水７内に注入する。
【０１２９】
ここで、希釈水タンク８は、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水７の水位以下となるように、その設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１３０】
そのため、１次生成水は、空気（外気）と接触することなく、吐出管６を介して希釈水７内に注入される。また、１次生成水は、予め計量された希釈水７に注入されるいわばバッチ方式で注入されることになるため、従来のような配管内混合とは異なり、１次生成水は、希釈水７に均質に混合される。
【０１３１】
希釈水７の水量は、１次生成水が上記希釈倍率で希釈されるように予め計量しておき、水位センサ９で得られる計測水位上昇値が上記希釈倍率に相当する目標水位上昇値に一致したとき、吐出管６を介した１次生成水の注入を終了する。
【０１３２】
次に、２次生成水１０を脱気モジュール１１に通すことにより、溶存ガス、特に溶存酸素が除去された３次生成水を生成し、これを殺菌水１３として３次生成水タンク１４に貯留する。
【０１３３】
以上説明したように、本実施形態に係る殺菌水の生成装置１によれば、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水７の水位以下となるように、希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしたので、１次生成水は、空気（外気）と非接触の状態で希釈水７内に注入されることとなり、かくして、原液２の配合比率や電解槽５の動作条件が設計値と異なり、それが原因で塩素ガスが発生したとしても、該塩素ガスは、ｐＨ環境が中性に近い希釈水７の中でその形態が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）に変化するとともに、塩素ガスとして気中に揮散する懸念もなくなる。
【０１３４】
また、電解槽５内で生成された１次生成水は、予め計量された希釈水７内にバッチ方式で注入されるため、従来のような配管内混合とは違って均質な混合が可能となり、２次生成水１０のｐＨ及びそれに含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を設計値通りに合わせることが可能となる。
【０１３５】
また、本実施形態に係る殺菌水の生成方法及び生成装置１によれば、２次生成水１０から溶存ガスを除去して３次生成水１３を生成し、これを殺菌水としたので、口腔内での発泡現象を防止し、ミュータンスレンサ球菌を体内（血管内）に送り込むという事態を未然に防止することが可能となる。
【０１３６】
本実施形態では、２次生成水１０中の溶存ガスを脱気モジュール１１を用いて除去するようにしたが、２次生成水１０中の溶存ガスの濃度が低いために発泡現象が起きる懸念がないのであれば、溶存ガスを除去する工程を省略してもかまわない。かかる場合には、２次生成水１０がすなわち殺菌水となる。
【０１３７】
図２は、溶存ガスの除去工程を省略する際に用いる生成装置１ａを示した図であり、脱気モジュール１１、真空ポンプ１２及び３次生成水タンク１４を生成装置１から省略してある。
【０１３８】
また、本実施形態では、ｐＨが６．３〜６．７あるいは６．３〜７となるように殺菌水を生成する例を説明したが、ｐＨが５．６〜６．３となるように殺菌水を生成する場合についても全く同様の手順で行うことができる。
【０１３９】
また、本実施形態では、水位計測手段として水位センサ９を用いたが、これに代えて、例えば希釈水タンク８に予め目盛りを付しておき、この目盛りを水位計測手段として水位を計測するようにしてもかまわない。
【０１４０】
また、本実施形態では、原液２を電解槽５に送る移送手段としてストロークポンプ４を用いたが、かかる移送手段としてどのようなポンプを用いるかは任意であり、例えば、ストローク長やストローク数を調節して吐出量を制御可能な定量ポンプを採用することが可能である。
【０１４１】
なお、かかる定量ポンプは、吐出量が制御可能であるため、希釈水タンク内の水位を間接的に計測することが可能であり、水位計測手段として機能させることができる。
【０１４２】
一方、水位計測手段は、本発明に係る殺菌水の生成装置において必須構成要素ではなく任意の構成要素である。すなわち、殺菌水１バッチ分に対応する量の原液２と希釈水７とを、それぞれ原液タンク３と希釈水タンク８に予め貯留するのであれば、水位計測手段を省略することが可能であり、殺菌水１バッチ分よりも多い量、例えば数バッチ分に対応する量の原液２を原液タンク３に予め貯留しておくのであれば、殺菌水１バッチ分に対応する原液２の量をそのつど計量するための水位計測手段が必要となる。
【０１４３】
また、本実施形態では、説明の便宜上、殺菌の対象となる細菌をミュータンスレンサ球菌としたが、う蝕病原菌としてこれ以外にもラクトバチラス菌が含まれることは言うまでもない。
【０１４４】
（第２実施形態）
【０１４５】
次に、第２実施形態について説明する。なお、第１実施形態と実質的に同一の部品等については同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１４６】
本実施形態に係る殺菌水は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、望ましくは３００〜６００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００〜６００ｐｐｍ、ｐＨを６．３〜６．７とするとともに、ミュータンスレンサ球菌の殺菌を用途とするものである。
【０１４７】
ここで、２０１ｐｐｍ以上（３００ｐｐｍ以上、又は４００ｐｐｍ以上）としたのは、バイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持させるのみならず、ミュータンスレンサ球菌を３０秒程度以内（３００ｐｐｍの場合は２０秒程度以内、４００ｐｐｍの場合は１０秒程度以内、５００ｐｐｍの場合は数秒程度以内）に完全殺菌するためである。また、６００ｐｐｍ以下としたのは、ミュータンスレンサ球菌を殺菌するのにそれ以上の濃度にする必要がないからである。
【０１４８】
本実施形態に係る殺菌水でう蝕の治療を行うには、第１実施形態と同様、必要に応じて超音波スケーラー等を用いたスケーリングで歯面上に形成された歯石を予め除去した後、例えば、炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、次いで、上記殺菌水を口腔内に含んで数十秒間、含嗽する。
【０１４９】
このようにすると、本実施形態に係る殺菌水は、口腔内の有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持し、ミュータンスレンサ球菌を短時間に死滅させることができる。もちろん、その際、歯の脱灰についても未然に防止することができる。
【０１５０】
加えて、本実施形態に係る殺菌水によれば、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、望ましくは３００〜６００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００〜６００ｐｐｍに調整してあるので、歯の表面に残存する歯垢や歯石の内部あるいは歯の表層といった部位においてバイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を３０秒程度以内（３００ｐｐｍの場合は２０秒程度以内、４００ｐｐｍの場合は１０秒程度以内、５００ｐｐｍ近傍の濃度では数秒以内）に完全殺菌することができる。
【０１５１】
なお、吹付けや超音波スケーラーを用いた歯面清掃を行う際、水に代えて上記殺菌水を用いてもよい。
【０１５２】
次に、本実施形態に係る殺菌水の生成装置を図３に示す。
【０１５３】
同図でわかるように、本実施形態に係る殺菌水の生成装置２１は、原液２２を貯留する原液タンク３と、該原液タンクに連通接続されたストロークポンプ４と、該ストロークポンプに連通接続された電解槽５と、該電解槽に連通接続された吐出管６と、希釈水２７が貯留された希釈水タンク８とを備えるとともに、吐出管６の先端が希釈水タンク８に貯留された希釈水２７の水位以下となるように、吐出管６の先端位置に対する希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１５４】
原液２２は、水道水を逆浸透膜に通して得られた通過水に塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）のみが添加されてなり、塩酸や酢酸などの酸は添加されていない。
【０１５５】
電解槽５は、例えば葵エンジニアリング株式会社が「エピオスエコ」の商品名で販売している電解中性水生成装置で使用されている電解槽を使用することができる。
【０１５６】
希釈水２７は、井戸水、水道水、純水その他任意の水を使用することができるが、生成される殺菌水のｐＨが上述した範囲になるようにｐＨを適宜選択する。
【０１５７】
本実施形態に係る生成装置２１はさらに、１次生成水が希釈水タンク８内において希釈水２７で希釈されてなる２次生成水３０に注水側が連通された脱気モジュール１１を備えており、該脱気モジュールは、真空ポンプ１２による減圧によって２次生成水３０の溶存酸素を除去するようになっているとともに、２次生成水３０から溶存酸素が除去された３次生成水を殺菌水３３として貯留する３次生成水タンク１４を備えている。
【０１５８】
なお、生成装置２１に用いるチューブ類あるいは必要に応じて適宜設ける電磁弁は、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）による酸化で劣化のおそれがあるため、フッ素で形成するのが望ましい。
【０１５９】
本実施形態に係る殺菌水の生成装置２１を用いて上述の殺菌水３３を生成するには、まず、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液２２を作製する。
【０１６０】
逆浸透膜を備えた浄水器は、いくつかのメーカーから市販されているので、それらから適宜選択して採用すればよい。
【０１６１】
水は、どのような性状のものでもよいが、逆浸透膜やそれを使った浄水器の負担を軽減し、あるいは捨て水の量をなるべく少なくするという意味では、ある程度浄化された水が望ましいし、より安全に殺菌水を生成するという意味では、ｐＨが中性に近い水を使用するのが望ましい。例えば、地下水、水道水又は市販されているミネラルウォータ（市販水）を使用することができる。
【０１６２】
このような水を逆浸透膜に通せば、通過水のｐＨは概ね５〜６となる。
【０１６３】
これは、ミネラル分をはじめとしたさまざまな物質が水に含まれていたとしても、ｐＨに寄与するイオンは、逆浸透膜でほぼ完全に除去され、溶存気体である二酸化炭素だけが通過し、大気中から溶け込んでくる二酸化炭素とも相まって、次式、
【０１６４】
Ｈ２ＣＯ３ →Ｈ＋ ＋ＨＣＯ３−
【０１６５】
のように解離するからである。
【０１６６】
次に、逆浸透膜を通過した水に塩化トリウムを添加して原液２２とし、これを殺菌水１バッチ分に相当する量だけ計量し原液タンク３に貯留するとともに、同じく殺菌水１バッチ分に相当する量の希釈水２７を希釈水タンク８に貯留しておく。殺菌水１バッチ分に相当する希釈水２７の量は、希釈倍率や希釈水のｐＨに応じて適宜定めればよい。
【０１６７】
次に、原液２２をストロークポンプ４で電解槽５に送り、定められた動作条件で電解槽５を動作させ、原液２２を電気分解する。
【０１６８】
ここで、原液組成条件である塩化ナトリウムの添加量や電気分解時の動作条件（例えば電圧値や電流値）は、電気分解によって生成される１次生成水が希釈された後、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、望ましくは３００〜６００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００〜６００ｐｐｍ、ｐＨが６．３〜６．７の２次生成水が生成されるように適宜設定しておく。
【０１６９】
次に、電解槽５内で生成された１次生成水を、該電解槽に連通接続された吐出管６を介して、予め希釈水タンク８に貯留された希釈水２７内に注入する。
【０１７０】
ここで、希釈水タンク８は、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水２７の水位以下となるように、その設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１７１】
そのため、１次生成水は、空気（外気）と接触することなく、吐出管６を介して希釈水２７内に注入される。また、１次生成水は、予め計量された希釈水２７に注入されるいわばバッチ方式で注入されることになるため、従来のような配管内混合とは異なり、１次生成水は、希釈水２７に均質に混合される。
【０１７２】
次に、２次生成水３０を脱気モジュール１１に通すことにより、溶存ガス、特に溶存酸素が除去された３次生成水を生成し、これを殺菌水３３として３次生成水タンク１４に貯留する。
【０１７３】
以上説明したように、本実施形態に係る殺菌水の生成方法及び生成装置２１によれば、逆浸透膜を通過した水のｐＨは、大気中の二酸化炭素に依存し、概ね５〜６となる。
【０１７４】
したがって、塩酸や酢酸といった酸をわざわざ添加せずとも、弱酸性の原液をｐＨが確定した状態でかつ安全に得ることが可能となり、しかもｐＨ値が既知であることにより、電気分解条件や希釈条件の設定も容易に行うことができる。
【０１７５】
そして何より、水道水や井戸水に含まれる溶存物質が逆浸透膜で予め除去されており、かつ塩酸や酢酸が全く添加されていないため、無味無臭の殺菌水を生成することが可能となり、その結果、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が５００ｐｐｍ〜６００ｐｐｍであっても、患者に何ら不快感を与えることなく、かつ数秒〜３０秒程度という短時間でミュータンスレンサ球菌を完全殺菌することができるという画期的な作用効果を奏する。
【０１７６】
また、本実施形態に係る殺菌水の生成装置２１によれば、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水２７の水位以下となるように、希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしたので、１次生成水は、空気（外気）と非接触の状態で希釈水２７内に注入されることとなり、かくして、原液２２の配合比率や電解槽５の動作条件が設計値と異なり、それが原因で塩素ガスが発生したとしても、該塩素ガスは、ｐＨ環境が中性に近い希釈水２７の中でその形態が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）に変化するとともに、塩素ガスとして気中に揮散する懸念もなくなる。
【０１７７】
また、電解槽５内で生成された１次生成水は、予め計量された希釈水２７内にバッチ方式で注入されるため、従来のような配管内混合とは違って均質な混合が可能となり、２次生成水３０のｐＨ及びそれに含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を設計値通りに合わせることが可能となる。
【０１７８】
また、本実施形態に係る殺菌水の生成方法及び生成装置２１によれば、２次生成水３０から溶存ガスを除去して３次生成水３３を生成し、これを殺菌水としたので、口腔内での発泡現象を防止し、ミュータンスレンサ球菌を体内（血管内）に送り込むという事態を未然に防止することが可能となる。
【０１７９】
本実施形態では、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製するようにしたが、これに代えて、純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製するようにしてもかまわない。
【０１８０】
かかる構成においても、大気中の二酸化炭素によって原液のｐＨが定まることに変わりはない。また、生成方法や生成装置についても上述した実施形態と同様であるので、ここではその説明を省略する。
【０１８１】
また、本実施形態では、２次生成水３０中の溶存ガスを脱気モジュール１１を用いて除去するようにしたが、２次生成水３０中の溶存ガスの濃度が低いために発泡現象が起きる懸念がないのであれば、溶存ガスを除去する工程を省略してもかまわない。かかる場合には、２次生成水３０がすなわち殺菌水となる。
【０１８２】
図４は、溶存ガスの除去工程を省略する際に用いる生成装置２１ａを示した図であり、脱気モジュール１１、真空ポンプ１２及び３次生成水タンク１４を生成装置２１から省略してある。
【０１８３】
また、本実施形態では、ｐＨが６．３〜６．７あるいは６．３〜７となるように殺菌水を生成する例を説明したが、ｐＨが５．６〜６．３となるように殺菌水を生成する場合についても全く同様の手順で行うことができる。
【０１８４】
また、本実施形態では、殺菌水１バッチ分に対応する量の原液２２と希釈水２７とを計量し、それぞれを原液タンク３と希釈水タンク８に予め貯留するようにしたが、これに代えて、殺菌水１バッチ分よりも多い量、例えば数バッチ分に対応する量の原液２２を原液タンク３に予め貯留しておくのであれば、殺菌水１バッチ分に対応する原液２２の量をそのつど計量するための水位計測手段が必要となる。
【０１８５】
なお、水位計測手段については第１実施形態と同様であるので、ここではその説明を省略する。
【０１８６】
また、本実施形態では、説明の便宜上、殺菌の対象となる細菌をミュータンスレンサ球菌としたが、う蝕病原菌としてこれ以外にもラクトバチラス菌が含まれることは言うまでもない。
【実施例１】
【０１８７】
（殺菌水の生成に関する実験）
【０１８８】
まず、逆浸透膜を備えた浄水器に水道水を注水し、次いで、逆浸透膜を通過した水に塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）を添加して原液を作製した。
【０１８９】
次に、電解槽で原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を水道水で希釈した。
【０１９０】
電解槽は、葵エンジニアリング株式会社が「エピオスエコ」の商品名で販売している電解中性水生成装置の電解槽を用いた。
【０１９１】
また、希釈にあたっては、電解槽に連通接続してある吐出管をその先端が希釈水タンクに貯留された希釈水の水位以下となるように、吐出管と希釈水タンクとの相対位置を位置決めした。
【０１９２】
以上のプロセスで電気分解及び希釈を行ったところ、ｐＨ６．３〜６．７の範囲内で５００ｐｐｍの殺菌水を生成することができた。なお、殺菌水中における次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を測定するにあたっては、２００ｐｐｍを越える濃度測定が可能な計器や試験紙あるいは試薬がなかったため、二倍希釈を二度繰り返すことで計測した。
【０１９３】
また、５００ｐｐｍの殺菌水の作用効果を確認するためのコントロール（標準試薬）として、同様な手順で４０ｐｐｍの殺菌水も併せて作製した。
【実施例２】
【０１９４】
（殺菌水を用いた臨床試験）
【０１９５】
超音波スケーラー等を用いたスケーリングで歯面上に形成された歯石を予め除去した後、炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、次いで、上記殺菌水を口腔内に含んで数十秒間、含嗽する臨床試験を行った。
【０１９６】
殺菌水を口腔内に注入して溶菌処理を行った後、唾液を採取して該唾液中のストレプトコッカス・ミュータンス(Streptococcus mutans)、ストレプトコッカス・ソブリナス(Streptococcus sobrinus)及びラクトバチラス(Lactobacilli)の菌体数（唾液１ｍｌ中当たり）を調べた。試験は、株式会社モリタから販売されている「シーエーティー２１ファスト」（短時間う蝕活動性試験）を用いた。
【０１９７】
２０分培養後（３７゜Ｃ）と２４時間培養後（３７゜Ｃ）の２ケースを行い、菌体数を調べたところ、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０ｐｐｍである場合においては、２０分培養後では１０2〜１０3（安全域〜注意域）、２４時間培養後では１０5〜１０6（危険域）であった。
【０１９８】
それに対し、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が５００ｐｐｍである場合においては、２０分培養後及び２４時間培養後のいずれの場合も、１０0〜１０2（安全域）であった。
【０１９９】
これらの試験結果から、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０ｐｐｍ程度では、う蝕原因菌を十分に殺菌することができないことがわかった。特に、歯面清掃によってバイオフィルムを物理的に除去したとしても、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０ｐｐｍの殺菌水では、う蝕病原菌を殺菌できていない。
【０２００】
これは、歯面清掃を行ったとしても、う蝕病原菌がわずかなりともバイオフィルムに覆われているからであって、厳密には浮遊状態ではないからであると思われる。
【０２０１】
それに対し、５００ｐｐｍの場合には、う蝕病原菌をほぼ完全に殺菌できることがわかった。これは、十分に高い濃度であれば、上述した状態であっても、う蝕病原菌を殺菌することが可能であることを示唆するものである。
【０２０２】
加えて、口腔内には、歯面、舌、頬粘膜、喉頭などの部位に、ストレプトコッカス・サングイス、ストレプトコッカス・サリバリウス、ストレプトコッカス・ミティス、ナイセリアといった様々な常在菌が棲息しているとともに、唾液、歯肉溝滲出液、血液等には多くの有機物が含まれているため、その点からも、従来公知の数十ｐｐｍ程度の殺菌水では、口腔内のう蝕病原菌を殺菌することは不可能であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０２０３】
【図１】第１実施形態に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【図２】変形例に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【図３】第２実施形態に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【図４】変形例に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【符号の説明】
【０２０４】
１，２１ う蝕治療用殺菌水の生成装置
２，２２ 原液
３ 原液タンク
５ 電解槽
６ 吐出管
７，２７ 希釈水
８ 希釈水タンク
９ 水位センサ
１１ 脱気モジュール
１４ ３次生成水タンク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主としてミュータンスレンサ球菌を殺菌するう蝕治療用殺菌水及びその生成方法並びに生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
う蝕は、主としてミュータンスレンサ球菌を原因菌とした細菌感染症であり、主として乳幼児期に母親の唾液を介して感染すると考えられている。
【０００３】
ミュータンスレンサ球菌(mutans streptococci)は現在７菌種に分類されており、ヒトの口腔からは、主としてストレプトコッカス・ミュータンス(S.mutans, Streptococcus mutans)とストレプトコッカス・ソブリナス(S. sobrinus, Streptococcus sobrinus) の２菌種が検出される。
【０００４】
う蝕は、ミュータンスレンサ球菌がショ糖（スクロース）を発酵させて乳酸等の有機酸を生成し、かかる有機酸が歯のエナメル質を溶かすことによって歯の脱灰が進行する疾患であるが、ミュータンスレンサ球菌は、ショ糖を基質として粘着不溶性のグルカンを合成し、該グルカンの粘着性によって歯の表面上で病原性バイオフィルムを形成する。
【０００５】
そして、いったんバイオフィルムが形成された後は、ミュータンスレンサ球菌は、バイオフィルムによって抗生剤や殺菌剤からの攻撃を免れながら、該バイオフィルム内で棲息し続けるとともに、バイオフィルムによる有機酸の希釈拡散防止作用と相俟って、歯の脱灰を促進させやすい。
【０００６】
歯面上に形成される病原性バイオフィルムは、歯科分野では歯垢（デンタルプラーク）としてよく知られているものであり、日常的なブラッシングでその形成を防止することはある程度可能であるが、唾液中のカルシウムやリン酸が沈着して石灰化が進み、歯石へと変化すると、もはや日常のブラッシングによって除去することは困難となる。
【０００７】
かかる場合には、ＰＭＴＣと呼ばれる歯面清掃処理を行って歯垢あるいは歯石を物理的に除去するとともに、３ＤＳという除菌方法で歯の除菌を行う。
【０００８】
３ＤＳは、患者それぞれの歯列に合ったトレーを用いて歯面に薬剤を塗布することにより、ミュータンスレンサ球菌を殺菌することができるものであり、ＰＭＴＣとの併用によるう蝕の治療方法として期待されている。
【０００９】
【特許文献１】特開平９−１８３７０６
【特許文献２】特開平１０−８７４６２
【特許文献３】特開２００１−３２７９７５
【特許文献４】特開平６−２９２８９２
【特許文献５】特開平１０−３１４７４６
【特許文献６】特開昭６３−２８６１４８
【特許文献７】特開平５−７６５５０
【特許文献８】特開平４−９９４７８５
【特許文献９】特開平７−３１３９８２
【特許文献１０】特開平８−１９７８２
【特許文献１１】特開平８−１０８１８２
【特許文献１２】特開２００６−６８３５４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、３ＤＳによる除菌は、トレイ作成のために患者一人一人の歯型をとる必要があるのみならず、除菌に使う薬剤の関係上、除菌操作一回あたり、５分程度の時間を要するとともに、除菌操作自体を何度か繰り返さねばならず、治療側及び患者側とも時間的負担が大きく、治療の手順も煩雑でコストもかかるという問題を生じていた。
【００１１】
一方、次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＯＣＬ、次亜塩素酸ソーダ）の殺菌性については従来から広く知られているが、実際に殺菌力を持つのは、加水分解で生成される次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）であるところ、かかる次亜塩素酸は、高いｐＨではほとんど水溶液中に存在し得ず、代わりに殺菌力の弱い次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）に形態を変化させてしまうとともに、そもそも高いｐＨでは刺激性が高く人体組織を腐蝕させるおそれがあるため、口腔内で使用することはできない。さりとてｐＨを下げ過ぎれば、猛毒の塩素ガスが発生する。
【００１２】
そのため、次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＯＣＬ）は、予め酸を添加してｐＨを下げた上、手の消毒、果実・野菜の消毒、食品の製造ラインの殺菌消毒、浴室等の消毒、プール水の消毒、漂白剤、下水処理後の排水の消毒等にとどまっているのが現状である。
【００１３】
また、次亜塩素酸ナトリウムと塩酸を希釈混合反応させ、pHを５．５から６．５の弱酸性にした弱酸性水が市販されているが、用途としては概ね上述した範囲内であって、歯科分野での使用を前提としたものではなく、ましてう蝕治療としては何ら安全性や効能について実証されていない。
【００１４】
ここで、特許文献１には、口腔内に含んで使用する次亜塩素酸殺菌水が開示されており、実施例として塩化ナトリウム溶液に塩酸を添加して電気分解し、ｐＨが６．５、残留塩素濃度が５０ｐｐｍの殺菌水を生成できる旨、記載されている。また、特許文献２には、次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍである口腔洗浄水が開示されている。
【００１５】
しかしながら、かかる殺菌水や洗浄水では、バイオフィルムで守られたミュータンスレンサ球菌を死滅させることなど到底できないことが本出願人の臨床試験で明らかになった。加えて、特許文献１における特許請求の範囲には、ｐＨの範囲が３〜８となっているが、少なくともｐＨ３〜ｐＨ５程度の範囲では、脱灰のおそれが強く、口腔内に使用することはできない。
【００１６】
また、特許文献３には、塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、酢酸及び水を原液とし、かかる原液を電気分解することによって次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）を生成し、これを歯科用水道水として用いる点が開示されているが、次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）は、上述したように次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）より殺菌力が小さいばかりか、高いｐＨで存在し得る次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）を使用することは、人体組織への影響が大きすぎる。
【００１７】
また、特許文献４には、塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、無機酸及び水を原液とし、かかる原液を電気分解して活性酸素を生成する点や活性酸素とともに生成される次亜塩素酸によって、調理環境衛生用、手洗い用、食品材料用、おしぼり用の殺菌水をはじめ、食品加工流通分野などの種々の分野で利用可能であるとの記載があるものの、ミュータンスレンサ球菌に対する作用効果については何らの記載もなく、そもそも歯科分野への適用について何ら言及されていない。
【００１８】
また、特許文献５には、特許文献６〜９で解決されていない課題、すなわち口腔洗浄水として使用する場合のｐＨに関する課題を解決すべく、あらたな原液組成が開示されており、かかる原液を電気分解することで３０ｐｐｍ程度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）からなる殺菌水を生成することができる点が開示されているとともに（表２，図３）、う蝕予防にも使用できるとの開示もなされてはいるが（段落番号２８）、実際に試験された菌体にはミュータンスレンサ球菌は含まれておらず、効能が明らかでないばかりか、上述したと同様、かかる殺菌水ではミュータンスレンサ球菌を死滅させることなど到底不可能である。
【００１９】
また、特許文献１０，１１は、口腔内での使用を前提としておらず、ミュータンスレンサ球菌はもとより、そもそもデンタルプラークを死滅させる効能があるかどうかさえ不明である。
【００２０】
また、従来における殺菌水の生成方法では、塩酸や酢酸を添加せねばならず、ｐＨ管理が難しくなるとともに、当初から水に含まれている成分とも相まって、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）以外にさまざまな物質、特に味覚や嗅覚を刺激する物質が生成される原因となり、口腔内で使用する際にはおのずと限度があった。
【００２１】
例えば、特許文献１２には、従来公知の口腔殺菌液では、実際の口腔内での使用時において、口腔粘膜の炎症、刺激等の問題があり、日常的な使用に耐えられないと記載されている。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明は、上述した事情を考慮してなされたもので、脱灰と殺菌力の両方を満たすｐＨで、なおかつバイオフィルム内に棲息するミュータンスレンサ球菌やラクトバチラス菌といったう蝕病原菌を確実に死滅させることが可能なう蝕治療用殺菌水及びその生成方法並びに生成装置を提供することを目的とする。
【００２３】
また、本発明は、ｐＨ管理が容易でなおかつ味覚や嗅覚を刺激する物質を生成することのない殺菌水の生成方法及び生成装置を提供することを目的とする。
【００２４】
上記目的を達成するため、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は請求項１に記載したように、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水において、
【００２５】
前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７とするとともに、う蝕病原菌の殺菌を用途としたものである。
【００２６】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は、前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとしたものである。
【００２７】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は、前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７としたものである。
【００２８】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水は、前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３としたものである。
【００２９】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は請求項５に記載したように、水に塩化ナトリウム及び酸を添加してなる原液を電気分解して得られる１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウム及び前記酸の添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにするものである。
【００３０】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は請求項６に記載したように、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにするものである。
【００３１】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は請求項７に記載したように、純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにするものである。
【００３２】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は、前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとするものである。
【００３３】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は、前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とするものである。
【００３４】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成方法は、前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とするものである。
【００３５】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は請求項１１に記載したように、電解槽中の原液を電気分解して次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水を生成する装置において、
【００３６】
前記原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続された電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管と、希釈水が貯留された希釈水タンクとを備えるとともに、前記吐出管の先端が前記希釈水タンクに貯留された希釈水の水位以下となるように前記吐出管の先端位置に対する前記希釈水タンクの設置位置を相対的に位置決めしてなり、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成するものである。
【００３７】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は請求項１２に記載したように、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、水を逆浸透膜に通して得られた通過水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたものである。
【００３８】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は請求項１３に記載したように、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、純水を所定期間大気中に放置して得られた放置水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたものである。
【００３９】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は、前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとしたものである。
【００４０】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は、前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７としたものである。
【００４１】
また、本発明に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置は、前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３としたものである。
【００４２】
（殺菌水に係る発明）
【００４３】
う蝕病原菌は、う蝕に関与する口腔内細菌を指すものとし、具体的にはミュータンスレンサ球菌及びラクトバチラス菌(Lactobacilli)を含む。また、ミュータンスレンサ球菌のうち、ヒトの口腔内で検出されるのは、主としてストレプトコッカス・ミュータンス(S.mutans, Streptococcus mutans)とストレプトコッカス・ソブリナス(S. sobrinus, Streptococcus sobrinus) の２菌種である。
【００４４】
本出願人は、蒸散機能のある波長２．９４μｍのレーザーを発生するＥｒ:ＹＡＧレーザーを用いたレーザー治療や抗生剤投与による治療を行いながら、このようなう蝕病原菌を死滅させることがいかに困難であるかを知り、従来から知られている次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の殺菌力を利用することができないかに着眼して研究を積み重ねた。
【００４５】
しかし、既に述べたようにう蝕病原菌は、歯の表面に形成されたバイオフィルム内に棲息するため、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む公知の殺菌水を含嗽（がんそう）したところで、口腔内の有機物を酸化するにとどまり、殺菌力が保持された状態でバイオフィルム内に送り込むことなど到底不可能であることがわかった。
【００４６】
また、バイオフィルムを物理的に破壊しながら公知の殺菌水を注入したとしても、その殺菌力は、周囲の有機物を酸化することでほとんど消費されてしまい、バイオフィルム内に棲息しているう蝕病原菌を死滅させることはやはり不可能であることもわかった。
【００４７】
そこで、本出願人は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２００ｐｐｍ程度まで上げれば、酸化力が徐々に低下したとしても、バイオフィルム内のう蝕病原菌を死滅させることができるのではないかと考え、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を上げることに研究開発の視点を移した。
【００４８】
しかしながら、２００ｐｐｍを越える高濃度の歯科用次亜塩素酸水は、本出願時において全く明らかにされていない。
【００４９】
すなわち、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を計測するには、例えば「残留塩素試験紙アクアチェック」なる商品名でオルガノ株式会社が販売している残留塩素計があるが、測定範囲は、０、０．１、０．５、１．０（ｍｇ／Ｌ）となっており、１ｐｐｍ以上の場合、濃度計測不能である。同様に、「デジタル残留塩素計HI 95シリーズ」は０．００〜５．００ｍｇ／Ｌ、「ポケット残留塩素計（ハック社製）」は０．０２〜２．００ｍｇ／Ｌ、「ポータブル残留塩素計OR-52」は０．０５〜２．００ｍｇ／Ｌ、「ポータブル水質計WA-1」は ０．０５〜２．００ｍｇ／Ｌとなっており、５ｐｐｍ以上は測定不能である。また、株式会社堀場アドバンスドテクノから「残留塩素計CR-200」の商品名で販売されているものは測定範囲が ０〜２．０ｍｇ／Ｌ、有限会社エムケー・サイエンティフィックから「残留塩素計C-201(完全防水型)」の商品名で販売されているものは０．０１〜６．０ｍｇ／Ｌであり、測定上限値は、ほとんどが５〜６ｐｐｍとなっている。
【００５０】
ちなみに、株式会社テックジャムから「残留塩素測定器 RC-7Z 」の商品名で販売されているものは、測定範囲が１０〜２００ｍｇ／Ｌ、株式会社イワキから「高濃度用残塩計(ドレンタイプ) CL-50H」の商品名で販売されているものは２０〜２００ｍｇ／Ｌ、AQUALYTIC（ドイツ製）の商品名で株式会社東興化学研究所から販売されている「ＤＰＤ錠剤法 デジタル残留塩素濃度計」は高濃度有効塩素の測定範囲が０〜２００ｍｇ／Ｌであるが、それでも２００ｐｐｍが測定上限値である。
【００５１】
一方、バイエルメディカル株式会社からは、高濃度測定試験紙として「日産アクアチェックＨＣ」の商品名で試験紙が販売されており、「遊離残留塩素濃度として０，５０，１００，２００，４００，６００ｍｇ／Ｌの高範囲な測定域」を持つ旨、説明がなされているが（http://www.aquachek.net/aq_08b06.html、２００５年１２月１４日インターネット検索）、「本法は高濃度の次亜塩素酸ナトリウム(強アルカリ性)（中略）の測定を考慮し、ｐＨについて影響の少ないクロモーゲンを用いている。」（同上）という説明からもわかるように、次亜塩素酸ナトリウム（強アルカリ性）の濃度を計測することを前提としたものであって、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）について計測ニーズがあることを裏付けるものではない。
【００５２】
同様に、津元理化産業株式会社から「簡易水質検査キット シンプルパック 残留塩素３００ ＣｌＯ３００」の商品名で販売されている計測機器や、遠藤科学株式会社から「パックテストＷＡＫ−ＣｌＯ（Ｃ）」の商品名で販売されている計測機器を用いて、それぞれ５０〜３００ｍｇ／Ｌ、５〜１００００ ｍｇ／Ｌの濃度範囲で残留塩素を計測できる旨の記載があるが（http://www.tsumoto-rika.co.jp, http://www.endokagaku.co.jp、2005年12月16日検索）、これらの計測機器はいずれも、次亜塩素酸ナトリウム（強アルカリ性）の濃度を計測することを前提としたものであって、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）について計測ニーズがあることを裏付けるものではない。
【００５３】
このように、濃度が２００ｐｐｍを越える次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を計測するニーズは、本出願の時点で計測機器分野には存在せず、ゆえに２００ｐｐｍを越える次亜塩素酸水は未だ公知の物質ではないと推定できる。
【００５４】
加えて、バイオフィルム内に棲息するう蝕病原菌を死滅させることを用途とした次亜塩素酸水は、従来技術において全く開示されていないことは上述した通りである。
【００５５】
本発明に係る殺菌水において、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を高くしなければならない理由は以下の通りである。
【００５６】
(a)う蝕病原菌も他の細菌と同様、浮遊状態で存在する割合よりもバイオフィルムを形成してその内部に棲息している割合が圧倒的に大きく、かかるバイオフィルム内のう蝕病原菌を死滅させるには、口腔内の有機物や他の菌体を酸化してもなお十分な殺菌力を保持していることが要求される。
【００５７】
(b)長時間、例えば６０秒以上かけて殺菌を行うことは、数十万の細菌を体内（血管内）に送り込んで菌血症を招き全身疾患を誘発する懸念があるため、３０秒以内、できれば１０秒以内に死滅させなければならない。
【００５８】
(c)バイオフィルムには３００〜４００種の細菌が一定の均衡を維持しながら寄生的に繁殖して細菌叢(そう)を形成しているが、これがなんらかの原因で他の菌と置換されたり、少数の菌が異常に増えたりすると、菌交代現象とよばれる細菌叢の変化が生じる。すなわち、一部のう蝕病原菌が殺菌されずに生き残ると、菌交代現象が発生し、残った細菌が急激に増殖する。このような事態を防止するためには、バイオフィルムに棲息する細菌を全て死滅させなければならない。
【００５９】
本発明に係る殺菌水は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７とするとともに、う蝕病原菌の殺菌を用途とするものであり、使用時においては、例えば炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、その後、上記殺菌水を口腔内に含んで数秒〜数十秒間、含嗽する。
【００６０】
このようにすると、上記殺菌水は、口腔内に存在する有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、バイオフィルム内のう蝕病原菌を短時間に殺菌できるだけの酸化力を保持しているため、歯牙表面に棲息しているう蝕病原菌や、歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を確実に死滅させることができる。もちろん、その際、歯の脱灰についても未然に防止される。
【００６１】
ここで、歯面清掃を行う際、水に代えて上記殺菌水を用いてもよいし、超音波スケーラーを用いて事前に歯石を除去するのであれば、その際にも上記殺菌水を用いることができる。
【００６２】
ちなみに、２０１ｐｐｍ以上としたのは、２００ｐｐｍ以下の濃度では上記(a)〜(c)を達成することが困難だからであり、６００ｐｐｍ以下としたのは、６００ｐｐｍを上回る濃度は上記(a)〜(c)を達成するためには不必要な濃度だからである。
【００６３】
ここで、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を３００〜６００ｐｐｍにした場合、歯牙表面に棲息し又は歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を３０秒程度以内に完全殺菌することができる。また、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を４００〜６００ｐｐｍにした場合には１０秒程度以内に完全殺菌することができる。
【００６４】
なお、塩酸や酢酸を添加する方法で本発明に係る殺菌水を生成する場合、生成時に同時に生じる刺激物質が臭いや味となって患者に刺激を与えるため、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を５００ｐｐｍ以下とし、さらに４００ｐｐｍ以下とするのが望ましい。
【００６５】
（殺菌水の生成方法及び生成装置に係る発明）
【００６６】
本発明に係る殺菌水を生成するにあたり、殺菌水を口腔内に注入する以上、歯が脱灰しないｐＨを維持することは絶対条件となるところ、永久歯のエナメル質はｐＨ５．５で、象牙質はｐＨ６．２で脱灰し、乳歯はｐＨ６．２で脱灰するため、ｐＨ範囲は、ｐＨ５．６以上に限定される。また、エナメル質で被覆されずに象牙質が露出している場合を想定すれば、ｐＨ範囲は、ｐＨ６．３以上に限定される。
【００６７】
一方、塩素は、ｐＨ環境によって、塩素ガス、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）、次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ-）とその形態を変化させる化学物質であるとともに、塩素ガスに毒性があることは広く知られているところであり、濃度調整のために希釈を行うと、ｐＨが変動して塩素の形態も変化する。
【００６８】
具体的には、塩素を次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の形態で水溶液中に十分な割合で含有させるためには、目安としてｐＨ２．２〜ｐＨ７（有効塩素存在百分率において次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）が約８０％以上）、望ましくはｐＨ２．８〜ｐＨ６．７（有効塩素存在百分率において次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）が約９０％以上）であることが必要となる。
【００６９】
したがって、高濃度の次亜塩素酸水を殺菌水として生成するにあたっては、殺菌水のｐＨが５．６以上７以下（６．３以上７以下）、望ましくは５．６以上６．７以下（６．３以上６．７以下）という非常に厳しい範囲内におさまるように希釈しなければならないとともに、希釈後の殺菌水は当然ながら所望の高濃度になっていなければならない。換言すれば、希釈後のｐＨを精度よく管理しつつ、希釈による次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度変動をも同時に考慮しなければならないというきわめて困難な課題が生じた。
【００７０】
翻って、塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、酸及び水を原液とし、かかる原液を単に電気分解する公知の手法は、手の消毒、果実・野菜の消毒、食品の製造ラインの殺菌消毒、浴室等の消毒、プール水の消毒、漂白剤、下水処理後の排水の消毒等が用途であるため、厳密なｐＨ管理は必要ではない。むしろ、ｐＨは、衛生上、問題のない範囲、例えば４〜６程度でかまわないから、大量の殺菌水を必要とする。
【００７１】
そのため、上述した公知の手法では、電気分解の際、電解槽内を強酸性側（例えばｐＨ１程度）にｐＨ調整するとともに、電解槽に接続された吐出管に送水管を合流させることで、電解槽から出てきた強酸性水を１０3〜１０5倍程度に希釈し、数十ｐｐｍの次亜塩素酸水を大量に得ていた。
【００７２】
かかる方法では、生成された次亜塩素酸水のｐＨは上述した４〜６の範囲に入っているとはいえ、大量希釈であるため、目標値通りのｐＨで次亜塩素酸水を生成することなど精度上、到底不可能であり、何より次亜塩素酸の濃度が数十ｐｐｍと当然ながら低くなる。
【００７３】
このように、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７あるいは６．３〜７とした殺菌水の生成方法は、従来技術において全く明らかにされていない。
【００７４】
これに加えて、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７あるいはｐＨが６．３〜７となるように殺菌水を生成するには、本質的に困難な理由がある。
【００７５】
すなわち、高濃度の次亜塩素酸水を生成する以上、当然ながら希釈倍率を下げる必要があるが、希釈倍率が小さい場合、希釈水のポンプによる送水速度（送水量）が小さくなって脈流が発生し、均質な次亜塩素酸水の生成が困難となる。
【００７６】
従来においては、ｐＨが１程度の強酸性水を配管内で大量希釈していたため、塩素ガスが生成されるリスクは少ないとともに、塩素ガスが一時的に生成揮散したとしても、配管内ゆえ、外部への漏洩を懸念する必要がなかったが、少量希釈でしかもポンプを使えないとなると、配管内での希釈ができなくなり、万一、電気分解時のトラブル、すなわち、過電流が流れたり原液組成が設計通りのものでなかったりすることに起因してｐＨが酸性側にシフトし塩素ガスが発生するトラブルが発生した場合、何らかの安全策を講じておく必要も生じる。
【００７７】
さりとて希釈そのものをしない、すなわち上述した条件の次亜塩素酸水を電気分解で直接生成することは、原液組成や電解槽の動作条件の設定がきわめて難しく、かつ安定性や精度の面で現実性に欠ける。
【００７８】
そこで、本出願人は、濃度とｐＨに関する厳しい要求を満たしつつ、均質にかつ安全に生成可能な殺菌水の生成方法に関し、以下のようにあらたな知見を得た。
【００７９】
すなわち、本発明に係る殺菌水の生成方法においては、水に塩化ナトリウム及び酸を添加してなる原液を電気分解して得られる１次生成水を希釈して殺菌水を生成するにあたり、まず、殺菌水に含まれる次亜塩素酸の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７あるいは６．３〜７となるように、塩化ナトリウムや酸の添加量といった原液に関するパラメータ（以下、原液組成条件）、電圧値や電流値といった電気分解に関するパラメータ（以下、電気分解条件）及び希釈倍率や希釈水の種類といった希釈に関するパラメータ（以下、希釈条件）を設定する。
【００８０】
酸は、ｐＨ調整剤として機能するため、塩酸、酢酸など任意の酸を用いることができる。
【００８１】
また、原液の構成要素である水は、井戸水、水道水などを使用することが可能であり、あえて純水を使用する必要はない。但し、電解槽の電極損傷や電極反応の低下を未然に防止するためには、カルシウムイオン、マグネシウムイオンなどを含まない純水を使用した方がよいことは言うまでもない。
【００８２】
なお、希釈水についても同様であり、井戸水、水道水、純水等を使用することができる。なお、希釈水は、生成された殺菌水のｐＨが上述した範囲になるよう、ｐＨを適宜設定する。
【００８３】
設定された原液組成条件に従って原液を作製した後、これを原液タンクに貯留する。
【００８４】
次に、電気分解条件に従って原液を電解槽に入れ、該原液を電気分解する。
【００８５】
次に、電解槽内で生成された１次生成水を、該電解槽に連通接続された吐出管を介して、予め希釈水タンクに貯留された希釈水内に注入する。
【００８６】
ここで、希釈水タンクは、吐出管の先端位置が希釈水タンクの中に貯留された希釈水の水位以下となるように、その設置位置を相対的に位置決めしてある。
【００８７】
そのため、１次生成水を吐出管を介して希釈水内に注入するようにすれば、空気と非接触の状態で注入されることとなる。
【００８８】
このようにすれば、万一、原液の配合比率や電解槽の動作条件が設計値と異なり、それが原因で塩素ガスが発生したとしても、該塩素ガスは、ｐＨ環境が中性に近い希釈水の中でその形態が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）に変化するとともに、塩素ガスとして気中に揮散する懸念もなくなる。
【００８９】
また、希釈水は、希釈条件で設定された希釈倍率で１次生成水が希釈されるように予めこれを計量してから希釈水タンクに貯留しておき、希釈倍率に対応する量の１次生成水が希釈水タンクに注入されたならば、該注入作業を終了する。
【００９０】
このように、吐出管の先端が希釈水タンクの中に貯留された希釈水の水位以下となるように位置決めしておくとともに、希釈条件で設定された希釈倍率で１次生成水が希釈されるように予め希釈水を計量して希釈水タンクに貯留するようにしたので、設計通りの濃度及びｐＨの次亜塩素酸水を安全かつ均質に生成することが可能となる。
【００９１】
希釈倍率は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の必要濃度に応じて決めればよい。例えば、濃度が４００ｐｐｍの次亜塩素酸水が必要なのであれば、１次生成水中の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０００ｐｐｍとなるように、原液組成条件及び電気分解条件を適宜設定するとともに、希釈倍率を１０とすればよい。
【００９２】
（殺菌水及びその生成方法に係る発明〜塩酸や酢酸の不添加〜）
【００９３】
上述した殺菌水の生成方法によって、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７あるいは６．３〜７の殺菌水を作ることができるとともに、かかる殺菌水によれば、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を数秒〜３０秒程度の短時間で死滅させることができる。
【００９４】
しかしながら、かかる殺菌水の生成方法にあたっては、原液に塩酸や酢酸を添加する必要があるため、ｐＨ管理が難しくなるとともに、当初から水に含まれている成分とも相まって、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）以外にさまざまな物質、特に味覚や嗅覚を刺激する刺激物質が生成され、患者に不快感を与える。
【００９５】
そのため、上述した生成方法で生成された殺菌水を口腔内で使用するにあたっては、５００ｐｐｍ、できれば４００ｐｐｍを上限とするのが望ましい。
【００９６】
かかる濃度であっても、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を１０秒〜３０秒程度の短時間で殺菌することはできるが、臭いや味に関する患者の不快感をもっと軽減できないか、あるいはｐＨ管理を含めた殺菌水生成プロセスをもっと簡素化できないかという点に着目して本出願人がさらなる研究を重ねた結果、画期的な殺菌水の製法開発に成功した。かかる殺菌水の生成方法によれば、次亜塩素酸水の生成に必須と考えられていた塩酸や酢酸の添加が不要になるとともに、それに伴って刺激物質の生成も未然に防止されることとなり、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を６００ｐｐｍに高めても、臭いや味に関して患者に不快感を与えずに済む。
【００９７】
請求項６及び請求項７に係る殺菌水の生成方法においては、請求項５に係る発明と概ね同様の手順で原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定するが、請求項６に係る発明では、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製し、請求項７に係る発明では純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製するものであり、塩酸、酢酸等の酸は一切添加しない。また、原液組成条件は、塩化ナトリウムの添加量が主たるパラメータとなる。
【００９８】
逆浸透膜は、孔の大きさが百万分の１ｍｍオーダーであるため、それより一回り小さな水分子は通すが、それ以上大きな分子は、通さないようになっているとともに、イオンを電気的に排除する機能もあるため、ナトリウムイオンなど百万分の１ｍｍよりも小さな物質であっても、他のイオンと同様、ほぼ完全に除去される。
【００９９】
このような逆浸透膜は、当初、海水淡水化の手段として研究が始まったが、今では、半導体洗浄等工業用の純水や超純水の製造等に広く用いられている。
【０１００】
しかし、このような高い浄水機能を持つ逆浸透膜でも、気体の通過を阻止することは難しく、水に溶存している酸素や二酸化炭素などの気体は、逆浸透膜を通過する。
【０１０１】
それゆえ、ｐＨ要求が厳しいプロセスにおいては、逆浸透にかける前に予め脱気を行って溶存気体を除去することも少なくない。また、生成されたばかりの純水には、大気中の二酸化炭素が短時間にかつ容易に溶け込む。
【０１０２】
本出願人は、このような逆浸透膜や純水に関する性質を逆に利用できないかという点に着眼し、水道水を逆浸透膜にかけて純水を作製し、実験を繰り返した。
【０１０３】
その結果、水道水のｐＨは、約６〜８と全国的にかなりのばらつきがあるにもかかわらず、逆浸透膜を通過した水のｐＨは概ね５〜６を示した。
【０１０４】
これは、ミネラル分をはじめとしたさまざまな物質が水道水に含まれているため、水道水自体のｐＨはばらつくものの、ｐＨに寄与するイオンは、逆浸透膜でほぼ完全に除去され、二酸化炭素によるｐＨ寄与だけが顕在化したことが理由であると考えられる。
【０１０５】
この性質を利用すれば、塩酸や酢酸といった酸を添加せずとも、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水を生成することができるのではないかと、本出願人はさらに研究を進めた結果、上述した発明をなすに至ったものである。
【０１０６】
すなわち、逆浸透膜を通過した水や、純水を一定期間大気中に放置した水のｐＨは大気中の二酸化炭素に依存し、塩酸や酢酸といった酸をわざわざ添加せずとも、弱酸性の原液をｐＨが概ね確定した状態でかつ安全に得ることが可能となり、しかもｐＨ値が既知であることにより、電気分解条件や希釈条件の設定も容易に行うことができる。
【０１０７】
そして何より、水道水や井戸水に含まれる溶存物質が逆浸透膜で予め除去され、又は純水であるがゆえに当初から除去されており、かつ塩酸や酢酸が全く添加されていないため、無味無臭の殺菌水を生成することが可能となり、その結果、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が５００ｐｐｍ〜６００ｐｐｍであっても、患者に何ら不快感を与えることなく、かつ歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したう蝕病原菌を数秒〜３０秒程度の短時間で完全殺菌することができるという画期的な作用効果を奏する。
【０１０８】
なお、電気分解以降の殺菌水の生成手順については請求項５に係る発明と同様であるので、ここではその詳細な説明を省略する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１０９】
以下、本発明に係るう蝕治療用殺菌水及びその生成方法並びに生成装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。なお、従来技術と実質的に同一の部品等については同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１１０】
（第１実施形態）
【０１１１】
本実施形態に係る殺菌水は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜４００ｐｐｍ、望ましくは３００〜４００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００ｐｐｍ程度、ｐＨを６．３〜６．７とするとともに、う蝕病原菌であるミュータンスレンサ球菌の殺菌を用途とするものである。
【０１１２】
ここで、２０１ｐｐｍ以上としたのは、バイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持させるのみならず、ミュータンスレンサ球菌を３０秒程度以内（４００ｐｐｍの場合は１０秒程度以内）に完全殺菌するためであり、４００ｐｐｍ以下としたのは、口腔内に与える刺激を緩和するためである。
【０１１３】
本実施形態に係る殺菌水でう蝕の治療を行うには、必要に応じて超音波スケーラー等を用いたスケーリングで歯面上に形成された歯石を予め除去した後、例えば、炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、次いで、上記殺菌水を口腔内に含んで数十秒間、含嗽する。
【０１１４】
このようにすると、本実施形態に係る殺菌水は、口腔内の有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持し、ミュータンスレンサ球菌を短時間に死滅させることができる。もちろん、その際、歯の脱灰についても未然に防止することができる。
【０１１５】
加えて、本実施形態に係る殺菌水によれば、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜４００ｐｐｍ、望ましくは３００〜４００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００ｐｐｍ程度に調整してあるので、歯の表面に残存する歯垢や歯石の内部あるいは歯の表層といった部位においてバイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を１０秒〜３０秒以内（５００ｐｐｍ近傍の濃度では瞬間的）に完全殺菌することができる。
【０１１６】
なお、吹付けや超音波スケーラーを用いた歯面清掃を行う際、水に代えて上記殺菌水を用いてもよい。
【０１１７】
次に、本実施形態に係る殺菌水の生成装置を図１に示す。
【０１１８】
同図でわかるように、本実施形態に係る殺菌水の生成装置１は、原液２を貯留する原液タンク３と、該原液タンクに連通接続されたストロークポンプ４と、該ストロークポンプに連通接続された電解槽５と、該電解槽に連通接続された吐出管６と、希釈水７が貯留された希釈水タンク８と、該希釈水タンク内の水位を計測する水位計測手段としての水位センサ９とを備えるとともに、吐出管６の先端が希釈水タンク８に貯留された希釈水７の水位以下となるように、吐出管６の先端位置に対する希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１１９】
原液２は、例えば塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）、塩酸（ＨＣＬ）及び水から構成することができるが、塩酸に代えて、ｐＨ調整剤として機能する他の酸、例えば酢酸を用いてもよい。
【０１２０】
電解槽５は、例えば葵エンジニアリング株式会社が「エピオスエコ」の商品名で販売している電解中性水生成装置で使用されている電解槽を使用することができる。
【０１２１】
水位センサ９は、例えば超音波センサや電極式センサ等から適宜選択すればよい。
【０１２２】
希釈水７は、井戸水、水道水、純水その他任意の水を使用することができるが、生成される殺菌水のｐＨが上述した範囲になるようにｐＨを適宜選択する。
【０１２３】
本実施形態に係る生成装置１はさらに、１次生成水が希釈水タンク８内において希釈水７で希釈されてなる２次生成水１０に注水側が連通された脱気モジュール１１を備えており、該脱気モジュールは、真空ポンプ１２による減圧によって２次生成水１０の溶存酸素を除去するようになっているとともに、２次生成水１０から溶存酸素が除去された３次生成水を殺菌水１３として貯留する３次生成水タンク１４を備えている。
【０１２４】
脱気モジュール１１は、例えば大日本インキ化学工業株式会社から販売されている中空糸膜脱気モジュールを使用することができる。特に、脱気膜にポリテトラフルオロエチレン中空糸を使用した、接液部全てがフッ素樹脂の薬液用脱気モジュールが望ましい。
【０１２５】
なお、生成装置１に用いるチューブ類あるいは必要に応じて適宜設ける電磁弁は、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）による酸化で劣化のおそれがあるため、フッ素で形成するのが望ましい。
【０１２６】
本実施形態に係る殺菌水の生成装置１を用いて上述の殺菌水１３を生成するには、まず、２次生成水の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜４００ｐｐｍ、望ましくは３００〜４００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００ｐｐｍ程度、ｐＨが６．３〜６．７となるように、原液２の組成、その配合比率、電気分解時の動作条件（例えば電圧値や電流値）及び希釈条件（希釈倍率や希釈水のｐＨ）を定めるとともに、配合された原液２を原液タンク３に貯留する。
【０１２７】
次に、原液２をストロークポンプ４で電解槽５に送りつつ、定められた動作条件で電解槽５を動作させ、原液２を電気分解する。
【０１２８】
次に、電解槽５内で生成された１次生成水を、該電解槽に連通接続された吐出管６を介して、予め希釈水タンク８に貯留された希釈水７内に注入する。
【０１２９】
ここで、希釈水タンク８は、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水７の水位以下となるように、その設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１３０】
そのため、１次生成水は、空気（外気）と接触することなく、吐出管６を介して希釈水７内に注入される。また、１次生成水は、予め計量された希釈水７に注入されるいわばバッチ方式で注入されることになるため、従来のような配管内混合とは異なり、１次生成水は、希釈水７に均質に混合される。
【０１３１】
希釈水７の水量は、１次生成水が上記希釈倍率で希釈されるように予め計量しておき、水位センサ９で得られる計測水位上昇値が上記希釈倍率に相当する目標水位上昇値に一致したとき、吐出管６を介した１次生成水の注入を終了する。
【０１３２】
次に、２次生成水１０を脱気モジュール１１に通すことにより、溶存ガス、特に溶存酸素が除去された３次生成水を生成し、これを殺菌水１３として３次生成水タンク１４に貯留する。
【０１３３】
以上説明したように、本実施形態に係る殺菌水の生成装置１によれば、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水７の水位以下となるように、希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしたので、１次生成水は、空気（外気）と非接触の状態で希釈水７内に注入されることとなり、かくして、原液２の配合比率や電解槽５の動作条件が設計値と異なり、それが原因で塩素ガスが発生したとしても、該塩素ガスは、ｐＨ環境が中性に近い希釈水７の中でその形態が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）に変化するとともに、塩素ガスとして気中に揮散する懸念もなくなる。
【０１３４】
また、電解槽５内で生成された１次生成水は、予め計量された希釈水７内にバッチ方式で注入されるため、従来のような配管内混合とは違って均質な混合が可能となり、２次生成水１０のｐＨ及びそれに含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を設計値通りに合わせることが可能となる。
【０１３５】
また、本実施形態に係る殺菌水の生成方法及び生成装置１によれば、２次生成水１０から溶存ガスを除去して３次生成水１３を生成し、これを殺菌水としたので、口腔内での発泡現象を防止し、ミュータンスレンサ球菌を体内（血管内）に送り込むという事態を未然に防止することが可能となる。
【０１３６】
本実施形態では、２次生成水１０中の溶存ガスを脱気モジュール１１を用いて除去するようにしたが、２次生成水１０中の溶存ガスの濃度が低いために発泡現象が起きる懸念がないのであれば、溶存ガスを除去する工程を省略してもかまわない。かかる場合には、２次生成水１０がすなわち殺菌水となる。
【０１３７】
図２は、溶存ガスの除去工程を省略する際に用いる生成装置１ａを示した図であり、脱気モジュール１１、真空ポンプ１２及び３次生成水タンク１４を生成装置１から省略してある。
【０１３８】
また、本実施形態では、ｐＨが６．３〜６．７あるいは６．３〜７となるように殺菌水を生成する例を説明したが、ｐＨが５．６〜６．３となるように殺菌水を生成する場合についても全く同様の手順で行うことができる。
【０１３９】
また、本実施形態では、水位計測手段として水位センサ９を用いたが、これに代えて、例えば希釈水タンク８に予め目盛りを付しておき、この目盛りを水位計測手段として水位を計測するようにしてもかまわない。
【０１４０】
また、本実施形態では、原液２を電解槽５に送る移送手段としてストロークポンプ４を用いたが、かかる移送手段としてどのようなポンプを用いるかは任意であり、例えば、ストローク長やストローク数を調節して吐出量を制御可能な定量ポンプを採用することが可能である。
【０１４１】
なお、かかる定量ポンプは、吐出量が制御可能であるため、希釈水タンク内の水位を間接的に計測することが可能であり、水位計測手段として機能させることができる。
【０１４２】
一方、水位計測手段は、本発明に係る殺菌水の生成装置において必須構成要素ではなく任意の構成要素である。すなわち、殺菌水１バッチ分に対応する量の原液２と希釈水７とを、それぞれ原液タンク３と希釈水タンク８に予め貯留するのであれば、水位計測手段を省略することが可能であり、殺菌水１バッチ分よりも多い量、例えば数バッチ分に対応する量の原液２を原液タンク３に予め貯留しておくのであれば、殺菌水１バッチ分に対応する原液２の量をそのつど計量するための水位計測手段が必要となる。
【０１４３】
また、本実施形態では、説明の便宜上、殺菌の対象となる細菌をミュータンスレンサ球菌としたが、う蝕病原菌としてこれ以外にもラクトバチラス菌が含まれることは言うまでもない。
【０１４４】
（第２実施形態）
【０１４５】
次に、第２実施形態について説明する。なお、第１実施形態と実質的に同一の部品等については同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１４６】
本実施形態に係る殺菌水は、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、望ましくは３００〜６００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００〜６００ｐｐｍ、ｐＨを６．３〜６．７とするとともに、ミュータンスレンサ球菌の殺菌を用途とするものである。
【０１４７】
ここで、２０１ｐｐｍ以上（３００ｐｐｍ以上、又は４００ｐｐｍ以上）としたのは、バイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持させるのみならず、ミュータンスレンサ球菌を３０秒程度以内（３００ｐｐｍの場合は２０秒程度以内、４００ｐｐｍの場合は１０秒程度以内、５００ｐｐｍの場合は数秒程度以内）に完全殺菌するためである。また、６００ｐｐｍ以下としたのは、ミュータンスレンサ球菌を殺菌するのにそれ以上の濃度にする必要がないからである。
【０１４８】
本実施形態に係る殺菌水でう蝕の治療を行うには、第１実施形態と同様、必要に応じて超音波スケーラー等を用いたスケーリングで歯面上に形成された歯石を予め除去した後、例えば、炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、次いで、上記殺菌水を口腔内に含んで数十秒間、含嗽する。
【０１４９】
このようにすると、本実施形態に係る殺菌水は、口腔内の有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、歯牙表面に棲息しあるいは歯面清掃によって口腔内に飛散したミュータンスレンサ球菌を殺菌するだけの酸化力を保持し、ミュータンスレンサ球菌を短時間に死滅させることができる。もちろん、その際、歯の脱灰についても未然に防止することができる。
【０１５０】
加えて、本実施形態に係る殺菌水によれば、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、望ましくは３００〜６００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００〜６００ｐｐｍに調整してあるので、歯の表面に残存する歯垢や歯石の内部あるいは歯の表層といった部位においてバイオフィルム内に棲息しているミュータンスレンサ球菌を３０秒程度以内（３００ｐｐｍの場合は２０秒程度以内、４００ｐｐｍの場合は１０秒程度以内、５００ｐｐｍ近傍の濃度では数秒以内）に完全殺菌することができる。
【０１５１】
なお、吹付けや超音波スケーラーを用いた歯面清掃を行う際、水に代えて上記殺菌水を用いてもよい。
【０１５２】
次に、本実施形態に係る殺菌水の生成装置を図３に示す。
【０１５３】
同図でわかるように、本実施形態に係る殺菌水の生成装置２１は、原液２２を貯留する原液タンク３と、該原液タンクに連通接続されたストロークポンプ４と、該ストロークポンプに連通接続された電解槽５と、該電解槽に連通接続された吐出管６と、希釈水２７が貯留された希釈水タンク８とを備えるとともに、吐出管６の先端が希釈水タンク８に貯留された希釈水２７の水位以下となるように、吐出管６の先端位置に対する希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１５４】
原液２２は、水道水を逆浸透膜に通して得られた通過水に塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）のみが添加されてなり、塩酸や酢酸などの酸は添加されていない。
【０１５５】
電解槽５は、例えば葵エンジニアリング株式会社が「エピオスエコ」の商品名で販売している電解中性水生成装置で使用されている電解槽を使用することができる。
【０１５６】
希釈水２７は、井戸水、水道水、純水その他任意の水を使用することができるが、生成される殺菌水のｐＨが上述した範囲になるようにｐＨを適宜選択する。
【０１５７】
本実施形態に係る生成装置２１はさらに、１次生成水が希釈水タンク８内において希釈水２７で希釈されてなる２次生成水３０に注水側が連通された脱気モジュール１１を備えており、該脱気モジュールは、真空ポンプ１２による減圧によって２次生成水３０の溶存酸素を除去するようになっているとともに、２次生成水３０から溶存酸素が除去された３次生成水を殺菌水３３として貯留する３次生成水タンク１４を備えている。
【０１５８】
なお、生成装置２１に用いるチューブ類あるいは必要に応じて適宜設ける電磁弁は、高濃度の次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）による酸化で劣化のおそれがあるため、フッ素で形成するのが望ましい。
【０１５９】
本実施形態に係る殺菌水の生成装置２１を用いて上述の殺菌水３３を生成するには、まず、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液２２を作製する。
【０１６０】
逆浸透膜を備えた浄水器は、いくつかのメーカーから市販されているので、それらから適宜選択して採用すればよい。
【０１６１】
水は、どのような性状のものでもよいが、逆浸透膜やそれを使った浄水器の負担を軽減し、あるいは捨て水の量をなるべく少なくするという意味では、ある程度浄化された水が望ましいし、より安全に殺菌水を生成するという意味では、ｐＨが中性に近い水を使用するのが望ましい。例えば、地下水、水道水又は市販されているミネラルウォータ（市販水）を使用することができる。
【０１６２】
このような水を逆浸透膜に通せば、通過水のｐＨは概ね５〜６となる。
【０１６３】
これは、ミネラル分をはじめとしたさまざまな物質が水に含まれていたとしても、ｐＨに寄与するイオンは、逆浸透膜でほぼ完全に除去され、溶存気体である二酸化炭素だけが通過し、大気中から溶け込んでくる二酸化炭素とも相まって、次式、
【０１６４】
Ｈ２ＣＯ３ →Ｈ＋ ＋ＨＣＯ３−
【０１６５】
のように解離するからである。
【０１６６】
次に、逆浸透膜を通過した水に塩化トリウムを添加して原液２２とし、これを殺菌水１バッチ分に相当する量だけ計量し原液タンク３に貯留するとともに、同じく殺菌水１バッチ分に相当する量の希釈水２７を希釈水タンク８に貯留しておく。殺菌水１バッチ分に相当する希釈水２７の量は、希釈倍率や希釈水のｐＨに応じて適宜定めればよい。
【０１６７】
次に、原液２２をストロークポンプ４で電解槽５に送り、定められた動作条件で電解槽５を動作させ、原液２２を電気分解する。
【０１６８】
ここで、原液組成条件である塩化ナトリウムの添加量や電気分解時の動作条件（例えば電圧値や電流値）は、電気分解によって生成される１次生成水が希釈された後、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、望ましくは３００〜６００ｐｐｍ、さらに望ましくは４００〜６００ｐｐｍ、ｐＨが６．３〜６．７の２次生成水が生成されるように適宜設定しておく。
【０１６９】
次に、電解槽５内で生成された１次生成水を、該電解槽に連通接続された吐出管６を介して、予め希釈水タンク８に貯留された希釈水２７内に注入する。
【０１７０】
ここで、希釈水タンク８は、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水２７の水位以下となるように、その設置位置を相対的に位置決めしてある。
【０１７１】
そのため、１次生成水は、空気（外気）と接触することなく、吐出管６を介して希釈水２７内に注入される。また、１次生成水は、予め計量された希釈水２７に注入されるいわばバッチ方式で注入されることになるため、従来のような配管内混合とは異なり、１次生成水は、希釈水２７に均質に混合される。
【０１７２】
次に、２次生成水３０を脱気モジュール１１に通すことにより、溶存ガス、特に溶存酸素が除去された３次生成水を生成し、これを殺菌水３３として３次生成水タンク１４に貯留する。
【０１７３】
以上説明したように、本実施形態に係る殺菌水の生成方法及び生成装置２１によれば、逆浸透膜を通過した水のｐＨは、大気中の二酸化炭素に依存し、概ね５〜６となる。
【０１７４】
したがって、塩酸や酢酸といった酸をわざわざ添加せずとも、弱酸性の原液をｐＨが確定した状態でかつ安全に得ることが可能となり、しかもｐＨ値が既知であることにより、電気分解条件や希釈条件の設定も容易に行うことができる。
【０１７５】
そして何より、水道水や井戸水に含まれる溶存物質が逆浸透膜で予め除去されており、かつ塩酸や酢酸が全く添加されていないため、無味無臭の殺菌水を生成することが可能となり、その結果、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が５００ｐｐｍ〜６００ｐｐｍであっても、患者に何ら不快感を与えることなく、かつ数秒〜３０秒程度という短時間でミュータンスレンサ球菌を完全殺菌することができるという画期的な作用効果を奏する。
【０１７６】
また、本実施形態に係る殺菌水の生成装置２１によれば、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水２７の水位以下となるように、希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしたので、１次生成水は、空気（外気）と非接触の状態で希釈水２７内に注入されることとなり、かくして、原液２２の配合比率や電解槽５の動作条件が設計値と異なり、それが原因で塩素ガスが発生したとしても、該塩素ガスは、ｐＨ環境が中性に近い希釈水２７の中でその形態が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）に変化するとともに、塩素ガスとして気中に揮散する懸念もなくなる。
【０１７７】
また、電解槽５内で生成された１次生成水は、予め計量された希釈水２７内にバッチ方式で注入されるため、従来のような配管内混合とは違って均質な混合が可能となり、２次生成水３０のｐＨ及びそれに含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を設計値通りに合わせることが可能となる。
【０１７８】
また、本実施形態に係る殺菌水の生成方法及び生成装置２１によれば、２次生成水３０から溶存ガスを除去して３次生成水３３を生成し、これを殺菌水としたので、口腔内での発泡現象を防止し、ミュータンスレンサ球菌を体内（血管内）に送り込むという事態を未然に防止することが可能となる。
【０１７９】
本実施形態では、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製するようにしたが、これに代えて、純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液を作製するようにしてもかまわない。
【０１８０】
かかる構成においても、大気中の二酸化炭素によって原液のｐＨが定まることに変わりはない。また、生成方法や生成装置についても上述した実施形態と同様であるので、ここではその説明を省略する。
【０１８１】
また、本実施形態では、２次生成水３０中の溶存ガスを脱気モジュール１１を用いて除去するようにしたが、２次生成水３０中の溶存ガスの濃度が低いために発泡現象が起きる懸念がないのであれば、溶存ガスを除去する工程を省略してもかまわない。かかる場合には、２次生成水３０がすなわち殺菌水となる。
【０１８２】
図４は、溶存ガスの除去工程を省略する際に用いる生成装置２１ａを示した図であり、脱気モジュール１１、真空ポンプ１２及び３次生成水タンク１４を生成装置２１から省略してある。
【０１８３】
また、本実施形態では、ｐＨが６．３〜６．７あるいは６．３〜７となるように殺菌水を生成する例を説明したが、ｐＨが５．６〜６．３となるように殺菌水を生成する場合についても全く同様の手順で行うことができる。
【０１８４】
また、本実施形態では、殺菌水１バッチ分に対応する量の原液２２と希釈水２７とを計量し、それぞれを原液タンク３と希釈水タンク８に予め貯留するようにしたが、これに代えて、殺菌水１バッチ分よりも多い量、例えば数バッチ分に対応する量の原液２２を原液タンク３に予め貯留しておくのであれば、殺菌水１バッチ分に対応する原液２２の量をそのつど計量するための水位計測手段が必要となる。
【０１８５】
なお、水位計測手段については第１実施形態と同様であるので、ここではその説明を省略する。
【０１８６】
また、本実施形態では、説明の便宜上、殺菌の対象となる細菌をミュータンスレンサ球菌としたが、う蝕病原菌としてこれ以外にもラクトバチラス菌が含まれることは言うまでもない。
【実施例１】
【０１８７】
（殺菌水の生成に関する実験）
【０１８８】
まず、逆浸透膜を備えた浄水器に水道水を注水し、次いで、逆浸透膜を通過した水に塩化ナトリウム（ＮａＣＬ）を添加して原液を作製した。
【０１８９】
次に、電解槽で原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を水道水で希釈した。
【０１９０】
電解槽は、葵エンジニアリング株式会社が「エピオスエコ」の商品名で販売している電解中性水生成装置の電解槽を用いた。
【０１９１】
また、希釈にあたっては、電解槽に連通接続してある吐出管をその先端が希釈水タンクに貯留された希釈水の水位以下となるように、吐出管と希釈水タンクとの相対位置を位置決めした。
【０１９２】
以上のプロセスで電気分解及び希釈を行ったところ、ｐＨ６．３〜６．７の範囲内で５００ｐｐｍの殺菌水を生成することができた。なお、殺菌水中における次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を測定するにあたっては、２００ｐｐｍを越える濃度測定が可能な計器や試験紙あるいは試薬がなかったため、二倍希釈を二度繰り返すことで計測した。
【０１９３】
また、５００ｐｐｍの殺菌水の作用効果を確認するためのコントロール（標準試薬）として、同様な手順で４０ｐｐｍの殺菌水も併せて作製した。
【実施例２】
【０１９４】
（殺菌水を用いた臨床試験）
【０１９５】
超音波スケーラー等を用いたスケーリングで歯面上に形成された歯石を予め除去した後、炭酸水素ナトリウムの微粉末と水とを圧縮空気で歯の表面に吹き付ける歯面清掃方法で歯の表面に形成されているバイオフィルムを物理的に除去し、次いで、上記殺菌水を口腔内に含んで数十秒間、含嗽する臨床試験を行った。
【０１９６】
殺菌水を口腔内に注入して溶菌処理を行った後、唾液を採取して該唾液中のストレプトコッカス・ミュータンス(Streptococcus mutans)、ストレプトコッカス・ソブリナス(Streptococcus sobrinus)及びラクトバチラス(Lactobacilli)の菌体数（唾液１ｍｌ中当たり）を調べた。試験は、株式会社モリタから販売されている「シーエーティー２１ファスト」（短時間う蝕活動性試験）を用いた。
【０１９７】
２０分培養後（３７゜Ｃ）と２４時間培養後（３７゜Ｃ）の２ケースを行い、菌体数を調べたところ、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０ｐｐｍである場合においては、２０分培養後では１０2〜１０3（安全域〜注意域）、２４時間培養後では１０5〜１０6（危険域）であった。
【０１９８】
それに対し、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が５００ｐｐｍである場合においては、２０分培養後及び２４時間培養後のいずれの場合も、１０0〜１０2（安全域）であった。
【０１９９】
これらの試験結果から、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０ｐｐｍ程度では、う蝕原因菌を十分に殺菌することができないことがわかった。特に、歯面清掃によってバイオフィルムを物理的に除去したとしても、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が４０ｐｐｍの殺菌水では、う蝕病原菌を殺菌できていない。
【０２００】
これは、歯面清掃を行ったとしても、う蝕病原菌がわずかなりともバイオフィルムに覆われているからであって、厳密には浮遊状態ではないからであると思われる。
【０２０１】
それに対し、５００ｐｐｍの場合には、う蝕病原菌をほぼ完全に殺菌できることがわかった。これは、十分に高い濃度であれば、上述した状態であっても、う蝕病原菌を殺菌することが可能であることを示唆するものである。
【０２０２】
加えて、口腔内には、歯面、舌、頬粘膜、喉頭などの部位に、ストレプトコッカス・サングイス、ストレプトコッカス・サリバリウス、ストレプトコッカス・ミティス、ナイセリアといった様々な常在菌が棲息しているとともに、唾液、歯肉溝滲出液、血液等には多くの有機物が含まれているため、その点からも、従来公知の数十ｐｐｍ程度の殺菌水では、口腔内のう蝕病原菌を殺菌することは不可能であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０２０３】
【図１】第１実施形態に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【図２】変形例に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【図３】第２実施形態に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【図４】変形例に係るう蝕治療用殺菌水の生成装置を示した概略図。
【符号の説明】
【０２０４】
１，２１ う蝕治療用殺菌水の生成装置
２，２２ 原液
３ 原液タンク
５ 電解槽
６ 吐出管
７，２７ 希釈水
８ 希釈水タンク
９ 水位センサ
１１ 脱気モジュール
１４ ３次生成水タンク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水において、
前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７とするとともに、う蝕病原菌の殺菌を用途としたことを特徴とする殺菌水。
【請求項２】
前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとした請求項１記載の殺菌水。
【請求項３】
前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とした請求項１又は請求項２記載の殺菌水。
【請求項４】
前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とした請求項１又は請求項２記載の殺菌水。
【請求項５】
水に塩化ナトリウム及び酸を添加してなる原液を電気分解して得られる１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウム及び前記酸の添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにすることを特徴とする殺菌水の生成方法。
【請求項６】
水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにすることを特徴とする殺菌水の生成方法。
【請求項７】
純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにすることを特徴とする殺菌水の生成方法。
【請求項８】
前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとする請求項５乃至請求項７のいずれか一記載の殺菌水の生成方法。
【請求項９】
前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とする請求項５乃至請求項７のいずれか一記載の殺菌水の生成方法。
【請求項１０】
前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とする請求項５乃至請求項７のいずれか一記載の殺菌水の生成方法。
【請求項１１】
電解槽中の原液を電気分解して次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水を生成する装置において、
前記原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続された電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管と、希釈水が貯留された希釈水タンクとを備えるとともに、前記吐出管の先端が前記希釈水タンクに貯留された希釈水の水位以下となるように前記吐出管の先端位置に対する前記希釈水タンクの設置位置を相対的に位置決めしてなり、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成することを特徴とする殺菌水の生成装置。
【請求項１２】
う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、水を逆浸透膜に通して得られた通過水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたことを特徴とする殺菌水の生成装置。
【請求項１３】
う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、純水を所定期間大気中に放置して得られた放置水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたことを特徴とする殺菌水の生成装置。
【請求項１４】
前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとした請求項１２又は請求項１３記載の殺菌水の生成装置。
【請求項１５】
前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とした請求項１２又は請求項１３記載の殺菌水の生成装置。
【請求項１６】
前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とした請求項１２又は請求項１３記載の殺菌水の生成装置。
【請求項１】
次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水において、
前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度を２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨを５．６〜７とするとともに、う蝕病原菌の殺菌を用途としたことを特徴とする殺菌水。
【請求項２】
前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとした請求項１記載の殺菌水。
【請求項３】
前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とした請求項１又は請求項２記載の殺菌水。
【請求項４】
前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とした請求項１又は請求項２記載の殺菌水。
【請求項５】
水に塩化ナトリウム及び酸を添加してなる原液を電気分解して得られる１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウム及び前記酸の添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにすることを特徴とする殺菌水の生成方法。
【請求項６】
水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにすることを特徴とする殺菌水の生成方法。
【請求項７】
純水を所定期間大気中に放置し、その放置水に塩化ナトリウムのみを添加して原液とし、該原液を電気分解して１次生成水とし、該１次生成水を希釈することにより、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成方法であって、前記殺菌水に含まれる次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を含む原液組成条件、電気分解条件及び希釈条件を設定し、前記原液組成条件に従って原液を作製した後、前記電気分解条件に従って前記原液を電気分解し、しかる後、電気分解で生成された１次生成水を前記希釈条件に従って希釈する工程からなり、前記希釈工程において、１次生成水を所定の吐出管を介して希釈水に注入するとともに、注入の際、前記吐出管の先端位置が希釈水の水位以下となるようにすることを特徴とする殺菌水の生成方法。
【請求項８】
前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとする請求項５乃至請求項７のいずれか一記載の殺菌水の生成方法。
【請求項９】
前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とする請求項５乃至請求項７のいずれか一記載の殺菌水の生成方法。
【請求項１０】
前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とする請求項５乃至請求項７のいずれか一記載の殺菌水の生成方法。
【請求項１１】
電解槽中の原液を電気分解して次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を含む殺菌水を生成する装置において、
前記原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続された電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管と、希釈水が貯留された希釈水タンクとを備えるとともに、前記吐出管の先端が前記希釈水タンクに貯留された希釈水の水位以下となるように前記吐出管の先端位置に対する前記希釈水タンクの設置位置を相対的に位置決めしてなり、う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成することを特徴とする殺菌水の生成装置。
【請求項１２】
う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、水を逆浸透膜に通して得られた通過水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたことを特徴とする殺菌水の生成装置。
【請求項１３】
う蝕病原菌の殺菌を用途とした殺菌水を生成する殺菌水の生成装置であって、純水を所定期間大気中に放置して得られた放置水に塩化ナトリウムのみが添加されてなる原液を貯留する原液タンクと、該原液タンクに連通接続され前記原液を電気分解して１次生成水を生成する電解槽と、該電解槽に連通接続された吐出管を介して吐出される前記１次生成水を希釈して殺菌水とする希釈水が予め貯留され前記吐出管の先端が前記希釈水の水位以下となるように前記吐出管を相対的に位置決めしてなる希釈水タンクとを備えるとともに、前記殺菌水内の前記次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の濃度が２０１〜６００ｐｐｍ、ｐＨが５．６〜７となるように、前記塩化ナトリウムの添加量を定め、前記電解槽の動作条件を定め又は希釈条件を定めたことを特徴とする殺菌水の生成装置。
【請求項１４】
前記２０１〜６００ｐｐｍに代えて４００〜６００ｐｐｍとした請求項１２又は請求項１３記載の殺菌水の生成装置。
【請求項１５】
前記５．６〜７に代えて６．３〜６．７とした請求項１２又は請求項１３記載の殺菌水の生成装置。
【請求項１６】
前記５．６〜７に代えて５．６〜６．３とした請求項１２又は請求項１３記載の殺菌水の生成装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−２８０２７２（Ｐ２００８−２８０２７２Ａ）
【公開日】平成２０年１１月２０日（２００８．１１．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１２４５２７（Ｐ２００７−１２４５２７）
【出願日】平成１９年５月９日（２００７．５．９）
【出願人】（５０４３３９２３９）野口歯科医学研究所株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１１月２０日（２００８．１１．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月９日（２００７．５．９）
【出願人】（５０４３３９２３９）野口歯科医学研究所株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
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