【課題】本発明は、良好な色相を呈し、耐光性、耐熱性に優れた色画素を有すると共に、色画素との密着性に優れた酸素遮断層を有し、該酸素遮断層による輝度変化の小さい、平坦性に優れたカラーフィルタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上にブラックマトリクスを設けるブラックマトリクス形成工程と、基板上に形成されたブラックマトリクスにより区画された凹部に、染料、および、重合性化合物を含有するインク組成物を充填する組成物充填工程と、充填されたインク組成物を予備処理する予備処理工程と、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布する塗布工程と、充填されたインク組成物および塗布された酸素遮断性組成物を硬化する硬化工程と、をこの順に有する、カラーフィルタの製造方法。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、ならびにそれを用いる液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ、特に大画面液晶テレビの発達に伴い、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。このようなカラー液晶ディスプレイには、色画素としてカラーフィルタが用いられている。カラーフィルタは、通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３原色の着色パターンを備える。このカラーフィルタを備える液晶ディスプレイにおいては、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素に対応する電極をＯＮ、ＯＦＦさせることで液晶がシャッタとして作動し、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素を光が通過してカラー表示が行われる。
【０００３】
従来のカラーフィルタの製造方法としては、例えば、染色法が挙げられる。この染色法は、まず、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工程により所望のパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
【０００４】
また、他の方法としては、顔料分散法がある。この方法は、まず、基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。さらに、この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
【０００５】
しかしながら、いずれの方法も、Ｒ、Ｇ、およびＢの３色を着色するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になるという問題や、同様の工程を繰り返すため歩留まりが低下するという問題がある。これらの問題を解決するカラーフィルタの製造方法として、インクジェット法で着色インクを吹き付けして着色層（色画素）を形成する方法が提案されている（特許文献１）。
【０００６】
インクジェット法は、非常に微細なノズルからインク液滴を記録部材に直接吐出、付着させて、文字や画像を得る記録方式である。インクジェット法は、インクジェットヘッドを順次移動させることにより、大面積のカラーフィルタを高生産性で製造でき、低騒音で操作性がよいという利点をもつ。このようなインクジェット法によるカラーフィルタの製造法として、着色材として染料を用いた手法が提案されている（特許文献２）。
【０００７】
着色材として染料を使用した場合、顔料を用いた手法と比較して概してカラーフィルタのコントラストやヘイズなど光学特性の向上が期待される。また、着色インクの色材として染料を使用すると、吐出安定性も高く、インクの粘度の増加などに伴うノズルの目詰まりがあった場合でも、ワイピングやパージにより容易にインク吐出状態が回復することが期待される。
しかしながら、色画素の耐光性や耐熱性といった堅牢性に関しては顔料と比較して未だ不十分であり、実用上必ずしも満足できるものではなかった。また、形成される色画素の画素平坦性に関しても改良の余地があった。
【０００８】
一方で、従来から色画素を保護する手段として、色画素上に酸素遮断層といった保護層を設ける手法が知られている（特許文献３）。色画素上に設けられた保護層は、色画素を物理的な応力などから保護する。このような手法で色画素の耐光性や耐熱性といった前述の染料特有の問題を解決する場合、極めて厚い保護層を設ける必要があった。一方で、このような厚い保護層を使用すると、カラーフィルタを通過して得られる光の輝度が低下するため、結果としてカラーフィルタのコントラストの低下を招くという問題が生じていた。
さらには、上記のような問題点のほかにも、保護層（例えば、酸素遮断層）の密着性に関して近年その要求特性が高まっており、耐熱性・耐光性の向上および輝度変化の低減を図りつつ、保護層の密着性を改良する必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭５９−７５２０５号公報
【特許文献２】特開２００９−１４４１４９号公報
【特許文献３】特開２００７−３２３０６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、良好な色相を呈し、耐光性、耐熱性に優れた色画素を有すると共に、色画素との密着性に優れた酸素遮断層を有し、該酸素遮断層による輝度変化の小さい、平坦性に優れたカラーフィルタおよびその製造方法、ならびに高輝度バックライトに対応できる、高コントラスト、高彩度の液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、鋭意検討を行った結果、上記課題が以下の構成により解決できることを見出した。
【００１２】
＜１＞ 基板上にブラックマトリクスを設けるブラックマトリクス形成工程と、
基板上に形成された前記ブラックマトリクスにより区画された凹部に、染料および重合性化合物を含有するインク組成物を充填する組成物充填工程と、
充填されたインク組成物を予備処理する予備処理工程と、
予備処理工程で得られた基板上に、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布する塗布工程と、
充填されたインク組成物および塗布された酸素遮断性組成物を硬化する硬化工程と、
をこの順に有する、カラーフィルタの製造方法。
＜２＞ 酸素遮断性化合物またはその前駆体が、有機ポリマーまたは金属アルコキシ基含有化合物を含む、＜１＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜３＞ 酸素遮断性組成物が溶媒として水を含む、＜１＞または＜２＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
【００１３】
＜４＞ 基板上に、
ブラックマトリクスと、
前記ブラックマトリクスにより区画された領域に設けられた、少なくとも染料を含有するカラーフィルタ層と、
ブラックマトリクスとカラーフィルタ層を覆う、少なくとも酸素遮断性化合物を含有する酸素遮断層とを備えるカラーフィルタであって、
カラーフィルタ層と酸素遮断層の間に染料と酸素遮断性化合物とを含有する混合層を備え、混合層の膜厚が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、酸素遮断層の膜厚が１５μｍ以下であるカラーフィルタ。
＜５＞ 染料が、後述する一般式（６）で表される染料と、後述する一般式（５）で表される染料、後述する一般式（５−１）で表される染料、および後述する一般式（５−２）で表される染料からなる群から選ばれる少なくとも１種の染料とを含む、＜４＞に記載のカラーフィルタ。
＜６＞ ＜４＞または＜５＞に記載のカラーフィルタを備える液晶ディスプレイ。
＜７＞ ＜４＞または＜５＞に記載のカラーフィルタを備える画像表示デバイス。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、良好な色相を呈し、耐光性、耐熱性に優れた色画素を有すると共に、色画素との密着性に優れた酸素遮断層を有し、該酸素遮断層による輝度変化の小さい、平坦性に優れたカラーフィルタおよびその製造方法、ならびに高輝度バックライトに対応できる、高コントラスト、高彩度の液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態における製造工程を示すフローチャートである。
【図２】（ａ）〜（ｆ）は、それぞれ本発明のカラーフィルタの製造方法における基板からカラーフィルタに至る製造工程順に示す基板およびカラーフィルタの模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明に係るカラーフィルタ、およびその製造方法、ならびにそれを用いる液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスについて詳細に説明する。
本発明のカラーフィルタは、基板上に、ブラックマトリクスと、ブラックマトリクスにより区画された領域に設けられた、少なくとも染料を含有するカラーフィルタ層と、ブラックマトリクスとカラーフィルタ層を覆う、少なくとも酸素遮断性化合物を含有する酸素遮断層とを備えるカラーフィルタである。さらに、カラーフィルタ層と酸素遮断層の間に染料と酸素遮断性化合物とを含有する混合層を備え、混合層の膜厚が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、酸素遮断層の膜厚が１５μｍ以下である。
まず、本発明のカラーフィルタを構成するカラーフィルタ層、酸素遮断層、混合層の構成、および、各層を製造するために使用される材料・組成物について詳細に説明する。
【００１７】
＜カラーフィルタ層、インク組成物＞
本発明のカラーフィルタ層は、後述の染料および重合性化合物を含有するインク組成物を用いて形成される。より具体的には、後述する基板とブラックマトリクスとで構成される凹部に染料および重合性化合物を含有するインク組成物を充填する組成物充填工程、後述する予備処理工程、硬化工程を経ることで形成される。
まず、以下にカラーフィルタ層を形成するために使用される、インク組成物の構成成分について詳述する。
【００１８】
＜染料＞
インク組成物は、少なくとも染料を含有する。インク組成物が染料を含むことによって、良好な色相を呈するカラーフィルタ層が得られる。本発明に用いられる染料としては、有機溶剤可溶性染料が好ましい。ここで、有機溶剤可溶性とは、２５℃における水に対する溶解度（水１００ｇに溶解できる染料の質量）が１ｇ以下であることを意味する。有機溶剤可溶性染料の水に対する溶解度は０．５ｇ以下であることが好ましく、０．１ｇ以下であることがより好ましい。
本発明に用いられる有機溶剤可溶性染料としては、任意のものを用いることができる。例えば、カップリング成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピラゾロン類、ピリドン類、開鎖型活性メチレン化合物類を有するアリールもしくはヘテリルアゾ染料；例えばカップリング成分として開鎖型活性メチレン化合物類を有するアゾメチン染料；例えばベンジリデン染料やモノメチンオキソノール染料等のようなメチン染料；例えばナフトキノン染料、アントラキノン染料等のようなキノン系染料；キノフタロン染料、ニトロ・ニトロソ染料、アクリジン染料、アクリジノン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料のようなカルボニウム染料；フタロシアニン染料；アントラキノン染料；インジゴ・チオインジゴ染料などが挙げられる。
【００１９】
各染料は、クロモフォア（発色性の原子団）の一部が解離して初めてイエロー、マゼンタ、シアンの各色を呈するものであってもよく、その場合のカウンターカチオンはアルカリ金属や、アンモニウムのような無機のカチオンであってもよいし、ピリジニウム、４級アンモニウム塩のような有機のカチオンであってもよく、さらにはそれらを構造に有するポリマーカチオンであってもよい。
【００２０】
また、本発明に好適に用いられる有機溶剤可溶性染料としては、下記一般式（１）で表される染料、一般式（２）で表される染料、一般式（３−ａ）で表される染料、一般式（３−ｂ）で表される染料、一般式（３−ｃ）で表される染料、一般式（３−ｄ）で表される染料、一般式（３−ｅ）で表される染料、一般式（３−ｆ）で表される染料、一般式（４）で表される染料、一般式（５）〜一般式（５−２）で表される染料、一般式（６）で表される染料が挙げられる。これは１種のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
以下に、各式で表される染料について説明する。
【００２１】
＜一般式（１）＞
本発明に使用される染料の好ましい例の一つとして、一般式（１）で表される染料が挙げられる。
【００２２】
【化１】

【００２３】
一般式（１）中、Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４の、直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−ノルボルニル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜１８のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環基で、例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜３８、より好ましくは炭素数３〜１８のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環オキシ基で、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、
【００２４】
アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル（下記構造式（ｉ）で表される基））、
【００２５】
【化２】

【００２６】
アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のアミノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアニリノ基で、例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環アミノ基で、例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のウレイド基で、例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数２４以下のイミド基で、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルアミノ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、
【００２７】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環チオ基で、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）、またはこれらを組み合わせた基が挙げられる。
【００２８】
Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆の置換基が更に置換可能な基である場合には、Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆で説明した置換基を有していてもよく、２個以上の置換基を有している場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００２９】
Ｒ₂₁とＲ₂₂、Ｒ₂₂とＲ₂₃、Ｒ₂₄とＲ₂₅、および／またはＲ₂₅とＲ₂₆とが、各々独立に、互いに結合して５員、６員、若しくは７員の飽和環、または不飽和環を形成していてもよい。形成される５員、６員、および７員の環が、更に置換可能な基である場合には、上記Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆で説明した置換基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３０】
一般式（１）中のＲ₂₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、上記Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆の置換基で説明したハロゲン原子、アルキル基、アリール基、およびヘテロ環基と同じ基を表し、その好ましい範囲も同様である。
Ｒ₂₇のアルキル基、アリール基、およびヘテロ環基が、更に置換可能な基である場合には、上記Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆の置換基で説明した置換基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３１】
一般式（１）中のＸ¹およびＹ¹は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、水酸基、アルキルチオ基、アリールチオ基、またはヘテロ環チオ基を表す。これらの基は、上記Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆の置換基で説明した各基と同義であり、好ましい範囲は、上記Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆で述べたのと同様である。
【００３２】
一般式（１）中のＸ¹およびＹ¹が置換可能な基である場合には、上記Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆の置換基で説明した基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
一般式（１）中において好ましくは、Ｒ₂₁およびＲ₂₆は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₂₂およびＲ₂₅は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、または上記構造式（ｉ）で表される基を表し、Ｒ₂₃およびＲ₂₄は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アニリノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₂₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｘ¹およびＹ¹は、各々独立に、フッ素原子、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。
【００３４】
より好ましくは、一般式（１）において、Ｒ₂₁およびＲ₂₆は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₂₂およびＲ₂₅は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、または上記構造式（ｉ）で表される基を表し、Ｒ₂₃およびＲ₂₄は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表し、Ｒ₂₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｘ¹およびＹ¹は、各々独立に、フッ素原子、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。
【００３５】
特に好ましくは、一般式（１）中、Ｒ₂₁およびＲ₂₆の少なくとも一つは、アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、またはイミド基を表し、Ｒ₂₁およびＲ₂₆の他の一つは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₂₂およびＲ₂₅の少なくとも一つは、シアノ基、または上記構造式（ｉ）で表される基を表し、Ｒ₂₂およびＲ₂₅の他の一つは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基、または上記構造式（ｉ）で表される基を表し、Ｒ₂₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｘ¹およびＹ¹は、各々独立に、フッ素原子、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。
【００３６】
最も好ましくは、一般式（１）中、Ｒ₂₁およびＲ₂₆の少なくとも一つは、アミノ基を表し、Ｒ₂₁およびＲ₂₆の他の一つは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₂₂およびＲ₂₅の少なくとも一つは、シアノ基、または上記構造式（ｉ）で表される基で表され、Ｒ₂₂およびＲ₂₅の他の一つは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、または上記構造式（ｉ）で表される基を表し、Ｒ₂₇は、メチル基または水素原子を表し、Ｘ¹およびＹ¹は、フッ素原子を表す。
【００３７】
一般式（１）中、Ｒ₂₁とＲ₂₂、Ｒ₂₂とＲ₂₃、Ｒ₂₄とＲ₂₅、および／またはＲ₂₅とＲ₂₆とが、各々独立に、互いに結合して、置換基を有しない５員、６員もしくは７員の飽和環、または不飽和環を形成する場合、置換基を有しない５員、６員もしくは７員の飽和環、または不飽和環としては、例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環が挙げられ、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環が挙げられる。また、置換基を有する場合、置換基としては、例えば、上記Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆で説明した置換基が挙げられ、好ましい置換基もＲ₂₁〜Ｒ₂₆と同様である。
なお、一般式（１）で表される染料は、互変異性体であってもよい。
【００３８】
一般式（１）で表される染料の具体例としては、特開２０１０−９２０１２号明細書の段落番号［００５９］〜［００６１］に記載の染料、特願２００８−１５２２７２号明細書の段落番号［００３５］〜［００５５］に記載される染料が挙げられる。
【００３９】
＜一般式（２）＞
本発明に使用される染料の好ましい例の一つとして、一般式（２）で表される染料が挙げられる。
【００４０】
【化３】

【００４１】
一般式（２）および後述する一般式（２−１）の各基の説明において「置換基」は、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜２８の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、１−ノルボルニル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基である。例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、２−オキサゾリル、２−チアゾリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜２４、より好ましくは炭素数３〜１２のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ））、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニルオキシ基である。例えば、フェニルスルホニルオキシ）、
【００４２】
アシル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアニリノ基である。例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは２〜１２のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数１２以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールチオ基である。例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、
【００４３】
アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のスルファモイル基である。例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、
【００４４】
スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）、またはこれらを組み合わせた基を表す。
これらの置換基は、さらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合は、それら置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００４５】
一般式（２）中、Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ₁〜Ｒ₄で表される各基は、上記で説明した置換基を有していてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。Ｒ₁〜Ｒ₄は、好ましくはアルキル基、またはアリール基である。Ｒ₁〜Ｒ₄で表される各基は、上記で説明した置換基で列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【００４６】
以下、一般式（２）中のＲ₁〜Ｒ₄の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なかでも、好ましくはａ−８、ａ−２０、ａ−２３、ａ−２５、ａ−２６、ａ−２７、ｂ−１、ｂ−２、ｂ−８、ｂ−９、ｂ−１３、ｂ−２０、ｂ−２１、ｂ−２５、ｂ−２６である。
【００４７】
【化４】

【００４８】
【化５】

【００４９】
【化６】

【００５０】
一般式（２）中、ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。ｗ、ｘ、ｙおよびｚの総和（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０ではなく、好ましくは４、３、または２であり、さらに好ましくは３または４である。
【００５１】
一般式（２）中、Ｚ₁〜Ｚ₄は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子から選ばれる原子群で、結合している２個の炭素原子と共に構成される５員環または６員環を形成する原子群を表す。５員環または６員環は、芳香族または非芳香族のどちらでもよい。結合している２個の炭素原子と共に構成される５員環または６員環としては、例えば、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環などが挙げられ、好ましくはベンゼン環、またはピリジン環である。形成される５員環または６員環には、さらにベンゼン環などの環が縮合していてもよい。形成される５員環または６員環は、上記で説明した置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有する場合は、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００５２】
一般式（２）中のＭ₁は、金属原子、または金属酸化物を表す。金属原子としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、およびＦｅなどが挙げられる。金属酸化物としては、ＴｉＯ、ＶＯなどが挙げられる。金属水酸化物としては、ＡｌＯＨなどが挙げられる。好ましくは、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｎである。
【００５３】
上述の一般式（２）で表される染料のうち、好ましくは一般式（２−１）で表される染料である。
【００５４】
【化７】

【００５５】
一般式（２−１）中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、ｗ、ｘ、ｙ、ｘ、およびＭ₁は、上述の一般式（２）中のそれらの定義と同一である。
【００５６】
一般式（２−１）中、Ｒ₆〜Ｒ₉は、それぞれ独立に置換基を表す。この置換基の定義は、上記で説明した置換基の定義と同一である。Ｒ₆〜Ｒ₉で表される置換基が、更に置換可能な基である場合には、上記の置換基で説明した基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
【００５７】
一般式（２−１）中、ｍ、ｎ、ｐ、およびｑは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。ただし、ｍとｗとの和（ｍ＋ｗ）、ｎとｘとの和（ｎ＋ｘ）、ｐとｙとの和（ｐ＋ｙ）、ｑとｚとの和（ｑ＋ｚ）が、それぞれ４以下である。
【００５８】
一般式（２−１）で表される構造式は、好ましくはＲ₁がアルキル基またはアリール基で、Ｍ₁がＣｕ，Ｃｏ，Ｚｎ，またはＶ＝Ｏで、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。より好ましくは、Ｒ₁がアルキル基またはアリール基で、Ｍ₁がＣｕ，Ｃｏ，Ｚｎ，またはＶ＝Ｏで、ｗ、ｘ、ｙ、ｚのうち２つが１で、他の２つは０で、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。さらに好ましくは、Ｒ₁がアルキル基またはアリール基で、Ｍ₁がＣｕ，Ｃｏ，Ｚｎ，またはＶ＝Ｏで、ｗ、ｘ、ｙ、ｚのうち３つ以上が１で、他の１つは０で、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。最も好ましくは、Ｒ₁がアルキル基またはアリール基で、Ｍ₁がＣｕで、ｗ、ｘ、ｙ、ｚのうち３つ以上が１で、他の１つは０で、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。
【００５９】
一般式（２）および一般式（２−１）で表される染料の具体例としては、特開２０１０−９２０１２号明細書の段落番号［００７９］〜［００８３］に記載される染料、特願２００７−３０３６１１明細書の段落番号［００４１］〜［００４３］に記載される染料などが挙げられる。
【００６０】
＜一般式（３−ａ）〜一般式（３−ｆ）＞
本発明に使用される染料の好ましい例の一つとして、一般式（３−ａ）〜一般式（３−ｆ）で表される染料が挙げられる。これらの染料は、可視光部の最大吸収波長が４００〜５００ｎｍ、好ましくは４２０〜４８０ｎｍであり、イエロー色調用のインクとして好適である。
【００６１】
＜一般式（３−ａ）＞
以下に、一般式（３−ａ）で表される染料について説明する。
【００６２】
【化８】

【００６３】
一般式（３−ａ）中、Ｒ₃₀は水素原子、または置換基を表す。Ｒ₃₀で表される置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜２８の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、１−ノルボルニル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基である。例えば、チオフェン環、ピリジン環、フラン環、ピリミジン環、ベンゾトリアゾール環、ピラゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環）、シリル基（好ましくは炭素数３〜２４、より好ましくは炭素数３〜１２のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ））、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニルオキシ基である。例えば、フェニルスルホニルオキシ）、
【００６４】
アシル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアニリノ基である。例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数１２以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールチオ基である。例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、
【００６５】
アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のスルファモイル基である。例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、
【００６６】
スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）、またはこれらを組み合わせた基を表す。これらの置換基は、さらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合は、それら置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００６７】
一般式（３−ａ）中、Ｒ₃₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。なかでも、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が好ましく、アリール基、ヘテロ環基がより好ましく、特に、含窒素へテロ環基、電子求引性基が置換したアリール基が好ましい。電子求引性基としては、ハメットの置換基定数σｐが０．２０以上のものが好ましく、例えば、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、ハロゲン化アルキル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、ハロゲン原子などが挙げられる。ハメットの置換基定数については、例えば、J. A. Dean編、「Lange's Handbook of Chemistry」第１２版、１９７９年（Mc Graw-Hill）や「化学の領域」増刊、１２２号、９６〜１０３頁、１９７９年（南光堂）に詳しく述べられている。なお、本発明において各置換基をハメットの置換基定数σｐ値により限定したり、説明したりするが、これは上記に成書で見出せる文献既知の値が有る置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合に、その範囲内に含まれるであろう置換基をも含むものである。Ｒ₃₁で表される各基は、上記Ｒ₃₀で表される置換基に列挙された各基と同義である。Ｒ₃₁で表される各基は、さらに上記Ｒ₃₀で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００６８】
一般式（３−ａ）中、Ｘ₃₀は、−ＯＭ基、または−Ｎ(Ｒ₃₂)(Ｒ₃₃)を表す。Ｍは、水素原子、アルキル基、または、電荷を中和する為に必要な金属原子若しくは有機塩基対を表し、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｍで表される金属原子としては、金属カチオン種、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉄、亜鉛などが挙げられる。また、Ｍで表される有機塩基対としては、有機カチオン種、例えば、４級アンモニウム、グアニジニウムカチオン、トリアルキルアンモニウムなどが挙げられる。Ｒ₃₂およびＲ₃₃で表される各基は、上記Ｒ₃₀で表される置換基に列挙された各基と同義であり、その好ましい態様も同様である。一般式（３−ａ）中、Ｘ₃₀はヒドロキシル基、または無置換のアミノ基が好ましく、中でも無置換のアミノ基が好ましい。
【００６９】
一般式（３−ａ）中、Ａ₃₀は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。中でも、５員または６員の含窒素へテロ環基、もしくは電子求引性基が置換したアリール基が好ましい。好ましい電子求引性基は、ハメットの置換基定数σｐが０．２０以上のものが挙げられる。Ａ₃₀で表されるアリール基は、上記Ｒ₃₀で表される置換基に列挙されたアリール基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ａ₃₀で表される芳香族へテロ環基は、上記Ｒ₃₀で表される置換基に列挙されたヘテロ環基のうち芳香族性のものを意味する。Ａ₃₀で表される各基は、さらに上記のＲ₃₀で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００７０】
＜一般式（３−ｂ）＞
以下に、一般式（３−ｂ）で表される染料について説明する。
【００７１】
【化９】

【００７２】
一般式（３−ｂ）中、Ｒ₃₄は、水素原子または置換基を表す。Ｒ₃₄で表される置換基は、上記一般式（３−ａ）中のＲ₃₀で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【００７３】
なお、後述する一般式（３−ｂ）〜一般式（３−ｊ）中の各基の説明において「置換基」も、一般式（３−ａ）中のＲ₃₀で表される置換基と同義である。これらの置換基は、さらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合は、それら置換基は同一でも異なっていてもよい。
また、後述する一般式（３−ｂ）〜一般式（３−ｊ）中で説明される各基（例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基など）は、一般式（３−ａ）中のＲ₃₀で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同じである。また、これらの各基は、さらに上記「置換基」で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合は、それら置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００７４】
一般式（３−ｂ）中、Ｒ₃₅は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表し、水素原子が好ましい。
【００７５】
一般式（３−ｂ）中、Ｚ₃₀およびＺ₃₁は、それぞれ独立に、−Ｃ(Ｒ₃₆)＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ₃₆は水素原子または置換基を表す。
【００７６】
一般式（３−ｂ）中、Ａ₃₁は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。Ａ₃₁で表される各基は、上記一般式（３−ａ）中のＡ₃₀で表される各基と同義であり、好ましい態様も同じである。
【００７７】
＜一般式（３−ｃ）＞
以下に、一般式（３−ｃ）で表される染料について説明する。
【００７８】
【化１０】

【００７９】
一般式（３−ｃ）中、Ｒ₃₇、Ｒ₃₈、Ｒ₃₉およびＲ₄₀は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表し、なかでも、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基が好ましく、特に、アルキル基、アリール基、アシル基が好ましい。
【００８０】
一般式（３−ｃ）中、Ｚ₃₂、Ｚ₃₃、およびＺ₃₄は、それぞれ独立に、−Ｃ(Ｒ₄₁)＝または−Ｎ＝を表し、なかでもＺ₃₂、Ｚ₃₃、Ｚ₃₄のうちの少なくとも１つが−Ｎ＝であることが好ましい。Ｒ₄₁は、水素原子または置換基を表す。
【００８１】
一般式（３−ｃ）中、Ａ₃₂は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。Ａ₃₂で表される各基は、上記一般式（３−ａ）中のＡ₃₀で表される各基と同義であり、好ましい態様も同じである。
【００８２】
＜一般式（３−ｄ）＞
以下に、一般式（３−ｄ）で表される染料について説明する。
【００８３】
【化１１】

【００８４】
一般式（３−ｄ）中、Ｒ₄₂は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、なかでもアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基が好ましい。
【００８５】
一般式（３−ｄ）中、Ｒ₄₃およびＲ₄₄は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、なかでもＲ₄₃は電子求引性の置換基であることが好ましい。
【００８６】
一般式（３−ｄ）中、Ａ₃₃は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。Ａ₃₃で表される各基は、上記一般式（３−ａ）中のＡ₃₀で表される各基と同義であり、好ましい態様も同じである。
【００８７】
＜一般式（３−ｅ）＞
以下に、一般式（３−ｅ）で表される染料について説明する。
【００８８】
【化１２】

【００８９】
一般式（３−ｅ）中、Ｒ₄₅、Ｒ₄₆、およびＲ₄₇は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
【００９０】
一般式（３−ｅ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。ａが２以上の場合、Ｒ₄₆で表される基は同一であっても、異なっていてもよい。ｂが２以上の場合、Ｒ₄₇で表される基は同一であっても、異なっていてもよい。
【００９１】
＜一般式（３−ｆ）＞
以下に、一般式（３−ｆ）で表される染料について説明する。
【００９２】
【化１３】

【００９３】
一般式（３−ｆ）中、Ｒ₄₈およびＲ₄₉は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。
【００９４】
一般式（３−ｆ）中、Ｒ₅₀は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアリール基を表し、中でも水素原子が好ましい。
【００９５】
一般式（３−ｆ）中、Ｒ₅₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表し、なかでも水素原子が好ましい。
【００９６】
一般式（３−ｆ）中、Ｚ₃₅、Ｚ₃₆、Ｚ₃₇、およびＺ₃₈は、それぞれ独立に、−Ｃ(Ｒ₅₂)＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ₅₂は水素原子または置換基を表す。
【００９７】
一般式（３−ａ）〜一般式（３−ｆ）におけるＲ₃₀〜Ｒ₅₂で表される各置換基は、さらに上記一般式（３−ａ）のＲ₃₀で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００９８】
一般式（３−ａ）〜一般式（３−ｆ）の中で、好ましくは、一般式（３−ａ）〜一般式（３−ｄ）中のＡ₃₀〜Ａ₃₃が、それぞれ独立に、以下一般式（イ）〜一般式（ホ）である染料、一般式（３−ｅ）で表される染料、および一般式（３−ｆ）で表される染料である。
【００９９】
【化１４】

【０１００】
一般式（イ）中、Ｒ₅₃およびＲ₅₄は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、またはアシル基を表す。
【０１０１】
【化１５】

【０１０２】
一般式（ロ）および一般式（ハ）中、Ｒ₅₅は、水素原子または置換基を表す。
【０１０３】
一般式（ロ）および一般式（ハ）中、Ｒ₅₆は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。
【０１０４】
一般式（ロ）および一般式（ハ）中、Ｚ₃₉は、−Ｃ(Ｒ₅₇)＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ₅₇は、水素原子または置換基を表す。
【０１０５】
【化１６】

【０１０６】
一般式（ニ）および一般式（ホ）中、Ｒ₅₈は水素原子または置換基を表す。
一般式（ニ）および一般式（ホ）中、Ｘ₃₁は酸素原子または硫黄原子を表す。
【０１０７】
一般式（イ）〜一般式（ホ）における＊は、一般式（３−ａ）〜一般式（３−ｄ）における窒素原子と結合する位置を表す。
【０１０８】
一般式（イ）〜一般式（ホ）において説明した各基は、さらに上記一般式（３−ａ）のＲ₃₀で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１０９】
さらに好ましくは、一般式（３−ｃ）中のＡ₃₂が一般式（ロ）〜一般式（ホ）のいずれかで表される染料、一般式（３−ｄ）中のＡ₃₃が一般式（イ）で表される染料、一般式（３−ｅ）中のＲ₄₅が水素原子で、Ｒ₄₆が水素原子または置換基で、Ｒ₄₇がアルコキシカルボニル基またはカルバモイル基で表される染料、一般式（３−ｆ）中のＲ₅₀が水素原子で、Ｒ₅₁が水素原子またはアルキル基で、Ｚ₃₅およびＺ₃₆のいずれか一方が−Ｎ＝で、他方が−Ｃ(Ｒ₅₂)＝で、Ｚ₃₇およびＺ₃₈のいずれか一方が−Ｎ＝で、他方が−Ｃ(Ｒ₅₂)＝で、Ｒ₅₂が水素原子または置換基で表される染料が挙げられる。
【０１１０】
さらに好ましくは、一般式（３−ｃ）中のＺ₃₃が−Ｃ(Ｒ₄₁)＝で、Ｒ₄₁が水素原子または置換基で、Ｚ₃₂およびＺ₃₄の少なくとも一方は−Ｎ＝で、Ａ₃₂が一般式（ロ）〜一般式（ホ）のいずれかで表される染料、一般式（３−ｄ）中のＲ₄₂がアルキル基またはアリール基で、Ｒ₄₃がシアノ基で、Ｒ₄₄がアルキル基またはアリール基で、Ａ₃₃が一般式（イ）で表される染料、一般式（３−ｅ）中のＲ₄₅が水素原子で、Ｒ₄₆がアルキル基で、ａが０または１で表される染料、一般式（３−ｆ）中のＲ₅₀が水素原子で、Ｒ₅₁が水素原子またはアルキル基で、Ｚ₃₅およびＺ₃₆のいずれか一方は−Ｎ＝で、他方は−Ｃ(Ｒ₅₂)＝で、Ｚ₃₇およびＺ₃₈のいずれか一方は−Ｎ＝で、他方は−Ｃ(Ｒ₅₂)＝で、Ｒ₅₂は水素原子または置換基で、Ｒ₄₈およびＲ₄₉は、それぞれ独立に、３級アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で表される染料が挙げられる。
【０１１１】
さらに好ましくは、下記一般式（３−ｇ）〜一般式（３−ｊ）で表される染料が挙げられる。
【０１１２】
【化１７】

【０１１３】
一般式（３−ｇ）中、Ｒ₆₀、Ｒ₆₁、Ｒ₆₂、およびＲ₆₃は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、Ｒ₆₀とＲ₆₁とが同時に水素原子であることはなく、Ｒ₆₂とＲ₆₃とが同時に水素原子であることはない。Ｒ₆₄は、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｒ₆₅は、水素原子または置換基を表す。Ｒ₆₇は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ₆₈は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｒ₆₉は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。
【０１１４】
【化１８】

【０１１５】
一般式（３−ｈ）中、Ｒ₇₀、Ｒ₇₁、Ｒ₇₂、Ｒ₇₃、Ｒ₇₄、およびＲ₇₅は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、Ｒ₇₀とＲ₇₁とが同時に水素原子であることはなく、Ｒ₇₂とＲ₇₃とが同時に水素原子であることはなく、さらに、Ｒ₇₄とＲ₇₅とが同時に水素原子であることはない。Ｒ₇₆は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ₇₇は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｒ₇₈は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。
【０１１６】
【化１９】

【０１１７】
一般式（３−ｉ）および一般式（３−ｊ）中、Ｒ₇₉およびＲ₈₀は、それぞれ独立に、三級アルキル基を表す。Ｒ₈₁およびＲ₈₂は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ₈₃は、水素原子、またはアルキル基を表す。
【０１１８】
一般式（３−ａ）〜一般式（３−ｆ）で表される染料の具体例としては、特開２０１０−９２０１２号明細書の段落番号［０１３９］〜［０１４５］に記載される染料、特願２００７−３０３６１１号明細書の段落番号［０２０８］〜［０２１７］に記載される染料などが挙げられる。
【０１１９】
＜一般式（４）＞
本発明に使用される染料の好ましい例の一つとして、一般式（４）で表される染料が挙げられる。
【０１２０】
【化２０】

【０１２１】
一般式（４）中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆における置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４の、直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−ノルボルニル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜１８のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環基である。例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜３８、より好ましくは炭素数３〜１８のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ（例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ））、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、
【０１２２】
アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニルオキシ基である。例えば、フェニルスルホニルオキシ）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは６〜２４のアニリノ基である。例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数２４以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、
【０１２３】
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールチオ基である。例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のスルファモイル基である。例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）、またはこれらを組み合わせた基などを表す。
【０１２４】
上記のＲ₁₁〜Ｒ₁₆の置換基が更に置換可能な基である場合には、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆で説明した置換基を有していてもよく、２個以上の置換基を有している場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０１２５】
一般式（４）中のＲ₁₁とＲ₁₂、Ｒ₁₂とＲ₁₃、Ｒ₁₄とＲ₁₅、および／またはＲ₁₅とＲ₁₆とは、各々独立に互いに結合して５員、６員、もしくは７員の飽和環、または不飽和環を形成していてもよい。形成される５員、６員、および７員の環が、更に置換可能な基である場合には、上記Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆で説明した置換基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０１２６】
一般式（４）中のＲ₁₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｒ₁₇のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、およびヘテロ環基は、上記Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆で説明したハロゲン原子、アルキル基、アリール基、およびヘテロ環基とそれぞれ同義であり、その好ましい範囲も同様である。Ｒ₁₇のアルキル基、アリール基、およびヘテロ環基が、更に置換可能な基である場合には、上記Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆で説明した置換基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０１２７】
一般式（４）において好ましくは、Ｒ₁₁およびＲ₁₆は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シリル基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₁₂およびＲ₁₅は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表し、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シリル基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アニリノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₁₇は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
【０１２８】
より好ましくは、上記一般式（４）において、Ｒ₁₁およびＲ₁₆は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ₁₂およびＲ₁₅は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表し、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表し、Ｒ₁₇は、水素原子、またはアルキル基を表す。
【０１２９】
特に好ましくは、一般式（４）において、Ｒ₁₁およびＲ₁₆は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはホスフィノイルアミノ基を表し、一般式（４）において、Ｒ₁₂およびＲ₁₅は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表し、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｒ₁₇は水素原子を表す。
【０１３０】
＜一般式（５）＞
本発明に使用される染料の好ましい例の一つとして、一般式（５）で表される染料が挙げられる。
【０１３１】
【化２１】

【０１３２】
一般式（５）中のＲ₁₁〜Ｒ₁₇は、一般式（４）中のＲ₁₁〜Ｒ₁₇と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１３３】
一般式（５）中のＭａは、金属原子または金属化合物を表す。金属原子または金属化合物としては、錯体を形成可能な金属原子または金属化合物であればいずれであってもよく、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、または２価の金属塩化物が含まれる。例えば、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ等の他に、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ₂、ＳｎＣｌ₂、ＳｉＣｌ₂、ＧｅＣｌ₂などの金属塩化物、ＴｉＯ、ＶＯ等の金属酸化物、Ｓｉ(ＯＨ)₂等の金属水酸化物も含まれる。
これらの中でも、錯体の安定性、分光特性、耐熱性、耐光性、および製造適性等の観点から、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｖ＝Ｏ、またはＣｕが好ましく、Ｚｎが最も好ましい。
【０１３４】
一般式（５）中のＸ₁は、金属原子Ｍａに結合可能な基であればいずれであってもよく、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール）、カルボン酸類（例えば、酢酸）等、更に「金属キレート」［１］坂口武一・上野景平著（１９９５年 南江堂）、同［２］（１９９６年）、同［３］（１９９７年）等、に記載の化合物が挙げられる。
【０１３５】
一般式（５）におけるＸ₂は、Ｍａの電荷を中和する為に必要な基を表し、例えば、ハロゲン原子、水酸基、カルボン酸基、燐酸基、スルホン酸基等が挙げられる。または、該基を有する化合物（例えば、水、アルコール類、カルボン酸類（酢酸））がＭａに結合していてもよい。
【０１３６】
一般式（５）におけるＸ₁とＸ₂とが互いに結合して、Ｍａとともに５員、６員または７員の環を形成してもよい。形成される５員、６員および７員の環は、飽和環であっても不飽和環であってもよい。また、５員、６員および７員の環は、炭素原子のみで構成されていてもよく、窒素原子、酸素原子、および／または硫黄原子から選ばれる原子を少なくとも１個有するヘテロ環を形成していてもよい。
【０１３７】
＜一般式（５−１）＞
一般式（５）で表される染料の他の好適な実施形態として、一般式（５−１）で表される染料が挙げられる。
【０１３８】
【化２２】

【０１３９】
一般式（５−１）中、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。Ｒ₁₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｍａは、金属原子または金属化合物を表す。Ｘ₃は、ＮＲ（Ｒは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。）、窒素原子、酸素原子、または硫黄原子を表し、Ｘ₄は、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。）、酸素原子、または硫黄原子を表し、Ｙ₁は、ＮＲｃ（Ｒｃは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。）、窒素原子、または炭素原子を表し、Ｙ₂は、窒素原子、または炭素原子を表す。Ｒ₁₈およびＲ₁₉は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。Ｒ₁₈とＹ₁は、互いに結合して５員、６員、または７員の環を形成していてもよく、Ｒ₁₉とＹ₂は、互いに結合して５員、６員、または７員の環を形成していてもよい。Ｘ₅はＭａと結合可能な基を表し、ａは０、１または２を表す。
【０１４０】
一般式（５−１）中のＲ₁₂〜Ｒ₁₅、およびＲ₁₇は、それぞれ一般式（５）中のＲ₁₂〜Ｒ₁₅、およびＲ₁₇とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式（５−１）中のＭａは、金属原子または金属化合物を表し、一般式（５）において説明した、金属原子または金属化合物と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
【０１４１】
一般式（５−１）中、Ｒ₁₈およびＲ₁₉は、それぞれ独立に、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ドデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２４、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基で、例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１８のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ドデシルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ（好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは炭素数１〜１８のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、ナフチルオキシ）、アルキルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１８のアルキルアミノ基で、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ヘキシルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、イソプロピルアミノ、ｔ−ブチルアミノ、ｔ−オクチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）、アリールアミノ（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールアミノ基で、例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノ）、またはヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環アミノ基で、例えば、２−アミノピロール、３−アミノピラゾール、２−アミノピリジン、３−アミノピリジン）を表す。
【０１４２】
一般式（５−１）中、Ｒ₁₈およびＲ₁₉で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、およびヘテロ環アミノ基が、更に置換可能な基である場合には、上記一般式（４）のＲ₁₁〜Ｒ₁₆で説明した置換基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０１４３】
一般式（５−１）中、Ｘ₃は、ＮＲ、窒素原子、酸素原子、または硫黄原子を表し、Ｘ₄は、ＮＲａ、酸素原子、または硫黄原子を表す。ＲとＲａは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ドデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２４、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基で、例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数２〜１８のアシル基で、例えば、アセチル、ピバロイル、２−エチルヘキシル、ベンゾイル、シクロヘキサノイル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１８のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル）を表す。
ＲとＲａで表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基は、更に、上記一般式（４）のＲ₁₁〜Ｒ₁₆の置換基で説明した基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０１４４】
一般式（５−１）中、Ｙ₁は、ＮＲｃ、窒素原子、または炭素原子を表し、Ｙ₂は、窒素原子、または炭素原子を表す。Ｒｃは、上記Ｘ₃のＲと同義である。
【０１４５】
一般式（５−１）中、Ｒ₁₈とＹ₁とが互いに結合して、Ｒ₁₈、Ｙ₁、および炭素原子と共に５員環（例えば、シクロペンタン、ピロリジン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、テトラヒドロチオフェン、ピロール、フラン、チオフェン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン）、６員環（例えば、シクロヘキサン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ペンタメチレンスルフィド、ジチアン、ベンゼン、ピペリジン、ピペラジン、ピリダジン、キノリン、キナゾリン）、または７員環（例えば、シクロヘプタン、ヘキサメチレンイミン）を形成してもよい。
【０１４６】
一般式（５−１）中、Ｒ₁₉とＹ₂とが互いに結合して、Ｒ₁₉、Ｙ₂、および炭素原子と共に５員、６員、又は７員の環を形成していてもよい。形成される５員、６員、および７員の環は、上記のＲ₁₈とＹ₁および炭素原子で形成される環から、１個の結合が二重結合に変化した環が挙げられる。
【０１４７】
一般式（５−１）中、Ｒ₁₈とＹ₁、およびＲ₁₉とＹ₂が結合して形成される５員、６員、および７員の環が、更に置換可能な環である場合には、上記一般式（４）のＲ₁₁〜Ｒ₁₆の置換基で説明した基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０１４８】
一般式（５−１）中、Ｘ₅はＭａと結合可能な基を表し、上記一般式（５）におけるＸ₁と同様な基が挙げられる。ａは０、１、または２を表す。
【０１４９】
一般式（５−１）で表される化合物の好ましい態様としては、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅、Ｒ₁₇、およびＭａはそれぞれ、一般式（４）で表される染料の説明で記載した好ましい態様であり、Ｘ₃はＮＲ（Ｒは水素原子、アルキル基）、窒素原子、又は酸素原子であり、Ｘ₄はＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基、ヘテロ環基）、又は酸素原子であり、Ｙ_１はＮＲｃ（Ｒｃは水素原子、又はアルキル基）、窒素原子、又は炭素原子であり、Ｙ_２は窒素原子、又は炭素原子であり、Ｘ₅は酸素原子を介して結合する基であり、Ｒ₁₈およびＲ₁₉は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、若しくはアルキルアミノ基であり、又はＲ₁₈とＹ₁とが互いに結合して５員若しくは６員環を形成し、又はＲ₁₉とＹ₂とが互いに結合して５員若しくは６員環を形成し、ａは０又は１を表す。
【０１５０】
一般式（５−１）で表される化合物の更に好ましい態様としては、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅、Ｒ₁₇、Ｍａはそれぞれ、一般式（４）で表される染料の説明で記載した特に好ましい態様であり、Ｘ₃およびＸ₄は、酸素原子であり、Ｙ₁はＮＨであり、Ｙ₂は窒素原子であり、Ｘ₅は酸素原子を介して結合する基であり、Ｒ₁₈およびＲ₁₉は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、若しくはアルキルアミノ基であり、又はＲ₁₈とＹ₁とが互いに結合して５員若しくは６員環を形成し、又はＲ₁₉とＹ₂とが互いに結合して５員若しくは６員環を形成し、ａは０又は１を表す。
【０１５１】
＜一般式（５−２）＞
一般式（５）で表される染料の他の実施形態として、一般式（５−２）で表される染料が挙げられる。
【０１５２】
【化２３】

【０１５３】
一般式（５−２）中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆はそれぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。Ｒ₁₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｍａは、金属原子または金属化合物を表す。
【０１５４】
一般式（５−２）中のＲ₁₁〜Ｒ₁₇は、それぞれ一般式（５）中のＲ₁₁〜Ｒ₁₇と同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式（５−２）中のＭａは、金属原子または金属化合物を表し、一般式（５）において説明した、金属原子または金属化合物と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
【０１５５】
一般式（５）、一般式（５−１）、および一般式（５−２）で表される染料の具体例としては、特開２０１０−９２０１２号明細書の段落番号［０１７９］〜［０１８２］に記載の染料、特願２００８−１４９４６７号明細書の段落番号［００５８］〜［００７４］に記載の染料などが挙げられる。より具体的には、以下のような染料が挙げられる。
【０１５６】
【化２４】

【０１５７】
【化２５】

【０１５８】
＜一般式（６）で表される染料＞
本発明に使用される染料の好ましい例の一つとして、一般式（６）で表される染料が挙げられる。
この染料（シアン染料）を含有することにより、耐熱性・耐光性・耐薬品性に優れたカラーフィルタを製造することができる。また、一般式（５）〜一般式（５−２）で表される染料（ジピロメテン系染料）と併用することにより、得られる色画素中における染料の分散性がより向上され、より優れた色相・輝度を示す色画素を形成することができる。一般式（６）で表される染料と、ジピロメテン系染料とでは、その構造が一部類似しており、分子間相互作用が働きやすいため、それぞれの染料の凝集がより抑えられたものと推測される。
【０１５９】
【化２６】

【０１６０】
一般式（６）中、Ｒ¹は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。
Ｒ¹で表される「置換基」としては、置換可能な基であればよく、例えば、脂肪族基（総炭素数１〜１５のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基が好ましい。例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、イソプロペニル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）、アリール基（総炭素数６〜１６が好ましく、総炭素数６〜１２がより好ましい。例えば、フェニル基、４−ニトロフェニル基、２−ニトロフェニル基、２−クロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−メトキシカルボニル−４−ニトロフェニル基等が挙げられる。）、ヘテロ環基（総炭素数３〜１５が好ましく、総炭素数３〜１０がより好ましい。例えば、３−ピリジル基、２−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、１−ピペリジル基等が挙げられる。）、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基（総炭素数１〜１６が好ましく、総炭素数１〜１２がより好ましい。例えば、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メトキシエチルカルバモイル基、ビス（２−メチルブチル）カルバモイル基、ビス（２−エチルヘキシル）カルバモイル基、ビス（メトキシエチル）カルバモイル基、ビス（エトキシエチル）カルバモイル基、ビス（プロポキシエチル）カルバモイル基、Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−メチルカルバモイル基等が挙げられる。）、
【０１６１】
脂肪族オキシカルボニル基（総炭素数２〜１６が好ましく、総炭素数２〜１０がより好ましい。例えば、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（総炭素数７〜１７が好ましく、総炭素数７〜１５がより好ましい。例えば、フェノキシカルボニル基等が挙げられる。）、アシル基（総炭素数２〜１５が好ましく、総炭素数２〜１０がより好ましい。例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等が挙げられる。）、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基（総炭素数１〜１２が好ましく、総炭素数１〜１０がより好ましい。例えば、メトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシ基、メトキシジエトキシ基、フェノキシエトキシ基、チオフェノキシエトキシ基等が挙げられる。）、アリールオキシ基（総炭素数６〜１８が好ましく、総炭素数６〜１４がより好ましい。例えば、フェノキシ基、４-メチルフェノキシ基等が挙げられる。）、アシルオキシ基（総炭素数２〜１４が好ましく、総炭素数２〜１０がより好ましい。例えば、アセトキシ基、メトキシアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。）、カルバモイルオキシ基（総炭素数１〜１６が好ましく、総炭素数１〜１０がより好ましい。例えば、ジメチルカルバモイルオキシ基、ジイソプルピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ビス（メトキシエチル）−カルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ビス（エトキシエチル）-カルバモイル基等が挙げられる。）、ヘテロ環オキシ基（総炭素数１〜１５が好ましく、総炭素数３〜１０がより好ましい。例えば、３-フリルオキシ基、３-ピリジルオキシ基、Ｎ-メチル２-ピペリジルオキシ基等が挙げられる。）、
【０１６２】
アシルアミノ基（総炭素数２〜１５が好ましく、総炭素数３〜１２がより好ましい。例えば、Ｎ-メチルアセチルアミノ基、Ｎ-エトキシエチルベンゾイルアミノ基、Ｎ-メチルメトキシアセチルアミノ基等が挙げられる。）、カルバモイルアミノ基（総炭素数１〜１６が好ましく、総炭素数１〜１２がより好ましい。例えば、Ｎ，Ｎ-ジメチルカルバモイルアミノ基、Ｎ-メチル-Ｎ-メトキシエチルカルバモイルアミノ基等が挙げられる。）、スルファモイルアミノ基（総炭素数０〜１６が好ましく、総炭素数０〜１２がより好ましい。例えば、Ｎ，Ｎ-ジメチルスルファモイルアミノ基が挙げられる。）、脂肪族オキシカルボニルアミノ基（総炭素数２〜１５が好ましく、総炭素数２〜１０がより好ましい。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（総炭素数７〜１７が好ましく、総炭素数７〜１５がより好ましい。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、４-メトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。）、脂肪族スルホニルアミノ基（総炭素数１〜１２が好ましく、総炭素数１〜８がより好ましい。例えば、メタンスルホニルアミノ基、ブタンスルホニルアミノ基等が挙げられる。）、アリールスルホニルアミノ基（総炭素数６〜１７が好ましく、総炭素数６〜１５がより好ましい。例えば、フェニルスルホニルアミノ基、４−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。）、脂肪族チオ基（総炭素数１〜１６が好ましく、総炭素数１〜１２がより好ましい。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、エトキシエチルチオ基等が挙げられる。）、アリールチオ基（総炭素数６〜２２が好ましく、総炭素数６〜１４がより好ましい。例えば、フェニルチオ基、２-ｔ-ブチルチオ基等が挙げられる。）、脂肪族スルホニル基（総炭素数１〜１５が好ましく、総炭素数１〜８がより好ましい。例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、メトキシエタンスルホニル基等が挙げられる。）、
【０１６３】
アリールスルホニル基（総炭素数６〜１６が好ましく、総炭素数６〜１２がより好ましい。例えば、ベンゼンスルホニル基、４-ｔ-ブチルベンゼンスルホニル基、４-トルエンスルホニル基、２-トルエンスルホニル基等が挙げられる。）、スルファモイル基（総炭素数０〜１６が好ましく、総炭素数０〜１２がより好ましい。例えば、スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジエチルスルファモイル基等が挙げられる。）、脂肪族スルホニルカルバモイル基（総炭素数２〜１７が好ましく、総炭素数２〜１３がより好ましい。例えば、メチルスルホニルカルバモイル基、ブチルスルホニルカルバモイル基、２−メチルブチルスルホニルカルバモイル基等が挙げられる。）、アリールスルホニルカルバモイル基（総炭素数７〜２１が好ましく、総炭素数７〜１７がより好ましい。例えば、フェニルスルホニルカルバモイル基等が挙げられる。）、脂肪族カルボニルスルファモイル基（総炭素数２〜１７が好ましく、総炭素数２〜１３がより好ましい。例えば、メチルカルボニルスルファモイル基、ブチルカルボニルスルファモイル基、２−エチルヘキシルカルボニルスルファモイル基等が挙げられる。）、アリールカルボニルスルファモイル基（総炭素数７〜２１が好ましく、総炭素数７〜１７がより好ましい。例えば、フェニルカルボニルスルファモイル基等が挙げられる。）、脂肪族スルホニルスルファモイル基（総炭素数１〜１６が好ましく、総炭素数１〜１２がより好ましい。例えば、メチルカルボニルスルファモイル基、ブチルカルボニルスルファモイル基、２−エチルヘキシルカルボニルスルファモイル基等が挙げられる。）、アリールスルホニルスルファモイル基（総炭素数６〜１６が好ましく、総炭素数６〜１２がより好ましい。例えば、フェニルスルホニルスルファモイル基等が挙げられる。）、スルホ基、イミド基、ホスホン酸基、ヘテロ環チオ基、またはこれらを組み合わせた基が挙げられる。
【０１６４】
上記の「脂肪族基」としては、その脂肪族部位が直鎖、分岐鎖、または環状であって飽和および不飽和のいずれであってもよく、例えば、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基を含み、無置換であっても置換基で置換されていてもよい。また、「アリール基」は、単環および縮合環のいずれでもよく、無置換であっても置換基で置換されていてもよい。「ヘテロ環基」は、そのヘテロ環部位が環内にヘテロ原子（例えば、窒素原子、イオウ原子、酸素原子）を持つものであり、飽和環および不飽和環のいずれであってもよく、単環および縮合環であってもよく、無置換であっても置換基で置換されていてもよい。
【０１６５】
Ｒ¹の置換基が更に置換可能な基である場合には、さらに該置換基を有していてもよく、２個以上の置換基を有している場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０１６６】
本発明の効果の点で、Ｒ¹は、ハロゲン原子、脂肪族基（アルキル基など）、シアノ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、脂肪族スルホニルカルバモイル基、アリールスルホニルカルバモイル基、脂肪族カルボニルスルファモイル基、アリールカルボニルスルファモイル基、脂肪族スルホニルスルファモイル基、アリールスルホニルスルファモイル基、イミド基、またはこれらを組み合わせた基である場合が好ましく、脂肪族基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、脂肪族オキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、脂肪族スルホニルカルバモイル基、脂肪族カルボニルスルファモイル基、脂肪族スルホニルスルファモイル基、イミド基、またはこれらを組み合わせた基である場合が更に好ましく、カルバモイル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族オキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、カルバモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールスルホニル基、脂肪族スルホニルカルバモイル基、脂肪族カルボニルスルファモイル基、脂肪族スルホニルスルファモイル基、イミド基、脂肪族スルホニル基、またはこれらを組み合わせた基である場合が最も好ましい。
【０１６７】
一般式（６）中、Ｌはそれぞれ独立に、脂肪族または芳香族の連結基を表す。これらの連結基を使用すると、得られる色画素の外観・色相がより優れる。なお、それぞれのＬは同一でも異なってもよい。
Ｌで表される脂肪族の連結基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜２０の脂肪族基が好ましく、総炭素数１〜１５の脂肪族基がより好ましい。例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
Ｌで表される芳香族の連結基としては無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜２０の芳香族基が好ましく、総炭素数６〜１６の芳香族基がより好ましい。例えば、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ、最も好ましいのはフェニレン基である。
なお、ｎ＝０の場合は、Ｒ¹とＳ（硫黄原子）とが直接結合する。
【０１６８】
一般式（６）中、Ｚ¹は２つの炭素原子と共に６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、４つのＺ¹は同一でも異なっていてもよい。形成される６員環は、アリール環またはヘテロ環のいずれであってもよく、縮環していてもよく、縮環した環が更に置換基を有していてもよい。６員環としては、例えば、ベンゼン環、ピリジン環、シクロヘキセン環、ナフタレン環等が挙げられ、ベンゼン環である態様が好適である。
【０１６９】
一般式（６）において、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、または２価の金属塩化物を表す。該Ｍとしては、例えば、ＶＯ、ＴｉＯ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ₂、ＳｎＣｌ₂、ＳｉＣｌ₂、ＧｅＣｌ₂、Ｓｉ(ＯＨ)₂、Ｈ₂等が挙げられ、ＶＯ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏである態様が好適である。本発明の効果の点でＭはＶＯ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＺｎまたはＭｇである場合が好ましく、ＶＯ、Ｃｏ、ＣｕまたはＺｎである場合が更に好ましく、Ｃｕである場合が最も好ましい。
【０１７０】
一般式（６）において、ｍはそれぞれ独立に１または２を表し、ｍは２である場合が好ましい。
ｎはそれぞれ独立に０または１を表し、ｎは１である場合が好ましい。
ｐはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、１〜３である場合が好ましく、１である場合がより好ましい。
【０１７１】
本発明においては、分子中の複数のＲ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。なかでも、Ｒ¹は、−ＯＹ、−ＣＯＯＹ、−ＳＯ₃Ｙ、−ＣＯＮ(Ｙ)ＣＯＷ、−ＣＯＮ(Ｙ)ＳＯ₂Ｗ、−ＳＯ₂Ｎ(Ｙ)ＣＯＷ、または−ＳＯ₂ＮＨＷを少なくとも一つ有する。これにより、得られる色画素の外観特性や耐薬品性がより向上する。
上記−ＯＹ、−ＣＯＯＹ、−ＳＯ₃Ｙ、−ＣＯＮ(Ｙ)ＣＯＷ、−ＣＯＮ(Ｙ)ＳＯ₂Ｗ（スルホニルカルバモイル基）、−ＳＯ₂Ｎ(Ｙ)ＣＯＷ（アシルスルファモイル基）、または−ＳＯ₂ＮＨＷは、一般式（６）において、連結基Ｌに結合していてもよく、連結基Ｌを介さずに−Ｓ(＝Ｏ)_m−と直接結合していてもよい。連結基Ｌを介さずに−Ｓ(＝Ｏ)_m−と直接結合している場合、Ｒ¹は−ＯＹであることが好ましく、−Ｓ(＝Ｏ)_m−と共にテトラアザポルフィリン環に直接結合する−ＳＯ₃Ｙを構成する（ｍ＝２）ことが好ましい。
【０１７２】
Ｙは水素原子、金属原子または共役酸を表す。Ｙで表される金属原子はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａが挙げられ、好ましいのはＬｉ、Ｎａ、Ｋである。Ｙで表される共役酸を形成する塩基としては、３級アミン類（例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、４−メチルモルホリン）、グアニジン類（例えば、グアニジン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルグアニジン、１，３−ジ−o−トリルグアニジン）、ピリジン類（例えば、ピリジン、２-メチルピリジン）等が挙げられる。中でも、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルグアニジン、１，３−ジ−ｏ−トリルグアニジンが好ましい。
本染料は有機溶剤可溶性が必要である為、Ｙは水素原子、又は３級アミン類、グアニジン類、ピリジン類が好ましい。
Ｗは置換基を表し、該置換基はＲ¹で表される「置換基」と同義である。
【０１７３】
ｒ¹、ｒ²、ｒ³及びｒ⁴はそれぞれ独立に０または１を表し、ｒ¹＋ｒ²＋ｒ³＋ｒ⁴は１以上であり、ｒ¹＋ｒ²＋ｒ³＋ｒ⁴が２〜４であることが好ましい。また、ｒ¹、ｒ²、ｒ³及びｒ⁴は各々１であることもまた好ましい。
【０１７４】
以下、上記「−Ｓ(Ｏ)_m−(Ｌ)_n−(Ｒ¹)_p」で表される基の例を示す。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。なお、以下の例の中では、好ましくはＴ−９５、Ｔ−９７、Ｔ−１１４、Ｔ−１１５、Ｔ−１１７、Ｔ−１２７、Ｔ−１３０が挙げられる。
【０１７５】
【化２７】

【０１７６】
【化２８】

【０１７７】
以下に一般式（６）で表される染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１７８】
【化２９】

【０１７９】
【化３０】

【０１８０】
なお、上記一般式（６）で表される染料（テトラアザポルフィリン系染料）は、例えば、特開２００６−５８７８７号公報、特開２００６−１２４３７９号公報、特開２００６−１２４６７９号公報等に記載の方法で合成することができる。
【０１８１】
インク組成物中、染料の総含有量は、組成物全量に対して、１〜３０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましい。含有量が少なすぎる場合、カラーフィルタとして必要な光学濃度を達成するために、膜厚が厚くなる。そのためブラックマトリクスも厚くする必要があり、ブラックマトリクス形成が困難になるので好ましくない。含有量が多すぎる場合、塗布液の粘度が高くなり吐出が困難になる、また溶媒へ溶解しにくくなるので好ましくない。
【０１８２】
なお、染料としては、一般式（６）で表される染料と、下記一般式（５）で表される染料、下記一般式（５−１）で表される染料、および下記一般式（５−２）で表される染料からなる群から選ばれる少なくとも１種の染料とを併用することが好ましい。その場合、インク組成物中、一般式（６）で表される染料（シアン染料）と一般式（５）〜一般式（５−２）で表される染料（ジピロメテン系染料）との質量比（シアン染料／ジピロメテン系染料）は、特に限定されないが、本発明の効果がより優れる点で、その質量比は０．３〜４が好ましく、１〜３がより好ましい。
【０１８３】
＜有機溶剤＞
インク組成物は、有機溶剤を含有してもよい。有機溶剤としては、各成分の溶解性を満足すれば特に限定されない。有機溶剤の具体例としては、エステル類、例えば、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチルなど；３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチルなどの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチルなど；２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピルなどの２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチルなど；ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチルなど；エーテル類、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなど；ケトン類、例えば、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノンなど；芳香族炭化水素類、例えば、キシレンなど；ジシクロヘキシルメチルアミンなどの有機溶剤、などが好適に挙げられる。これらは１種または２種以上を併用して使用しても構わない。
【０１８４】
インク組成物中の有機溶剤の含有量は、組成物全量に対して、３０〜９０質量％が好ましく、５０〜９０質量％がさらに好ましい。３０質量％以上であると１画素内に打滴される組成物量が保たれ、画素内での組成物の濡れ広がりが良好である。また、９０質量％以下であると、組成物中の機能膜（例えば画素など）を形成するための溶媒以外の成分量を所定量以上に保つことができる。これより、カラーフィルタを形成する場合には、１画素当たりの組成物必要量が多くなり過ぎることがなく、例えば隔壁で区画された凹部にインクジェット法で塗布液を付与する場合に、凹部からの組成物溢れや隣の画素との混色の発生を抑制することができる。
【０１８５】
有機溶剤の沸点は、１３０〜２８０℃が好ましい。沸点が低すぎると、面内の画素の形状の均一性の点で好ましくない。沸点が高すぎると、プリベークによる溶媒除去の点で好ましくない。なお、有機溶剤の沸点は、圧力１ａｔｍのもとでの沸点を意味し、化合物辞典（Ｃｈａｐｍａｎ ＆ Ｈａｌｌ 社）などの物性値表により知ることができる。
【０１８６】
有機溶剤の好ましい使用形態の一つとして、沸点が１６０℃以上の有機溶剤を、有機溶剤全量中の１０質量％以上含むことが好ましい。なかでも、沸点が１６０〜２５０℃の有機溶剤が好ましく、１８０〜２４０℃がより好ましい。沸点が上記所定範囲の有機溶剤の含有量は、使用される有機溶剤全量中、１０質量％以上が好ましく、２０〜１００質量％が好ましく、２５〜７５質量％がより好ましい。所定の沸点を有する有機溶剤を上記範囲内で含有すると、組成物の乾燥を制御でき、吐出安定性が付与できる点、吐出後の組成物のレベリング性向上の点で好ましい。一方、沸点の低い有機溶剤を含む場合は、インクジェットヘッド上でもすばやく蒸発するため、ヘッド上での組成物の粘度上昇や固形分の析出等を容易に引き起こし、吐出性の悪化を伴う場合が多い。また、塗布液が基板面に着弾し、基板面上を濡れ拡がる場合も、濡れ拡がりの縁の部分において溶媒が蒸発することで組成物の粘度上昇が起こり、ピニング（ＰＩＮＮＩＮＧ）という現象により、濡れ拡がりが抑えられる場合がある。
【０１８７】
＜重合性化合物＞
インク組成物は、重合性化合物を含有する。重合性化合物としては、重合性モノマーおよび重合性ポリマーのいずれも用いることができる。重合性化合物の添加により、後述する基板とカラーフィルタ層との密着性が向上する。併せて、特に、上述したジピロメテン系金属錯体化合物を染料として用いた場合、染料の分散均一性の向上や、耐候性・耐熱性などの堅牢性の向上が期待できる。
【０１８８】
重合性化合物としては、重合性基を有していれば、特に制限は無く用いることができる。例えば、（メタ）アクリル系モノマー、エポキシ系モノマー、及びオキセタニル系モノマーのごとき重合性モノマー、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、アルキド樹脂のごとき重合性ポリマーなどが好適に用いられる。
なかでも、各種置換基のバリエーションが多く、入手が容易な点で、（メタ）アクリル基を有するモノマー、エポキシ基を有するモノマー、及びオキセタニル基を有するモノマーから選択される１種以上を含有することが好ましい。
【０１８９】
重合性化合物としては、重合性基を２つ以上有するモノマーも好ましい。膜の強度や耐溶剤性などの点から、重合性基を３つ以上有するモノマーがより好ましい。
【０１９０】
上述した重合性基の種類としては、特に制限はないが、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が特に好ましい。重合性モノマーの具体例としては、特開２００２−３７１２１６号公報の段落番号［００１６］に記載のアクリレートモノマーおよびメタクリレートモノマー、並びに、シーエムシー出版「反応性モノマーの市場展望」に記載のモノマーなどが挙げられる。
【０１９１】
また、（メタ）アクリル系モノマーであるアクリレートモノマーおよびメタクリレートモノマーとしては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、などの単官能のアクリレートまたはメタアクリレートや、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレートなどのアクリレートまたはメタクリレートや、グリセリンやトリメチロールエタンなどの多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化して得られるトリメチロールプロパンＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレートやトリメチロールプロパンＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号の各公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類などの多官能のアクリレートやメタアクリレート、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０１９２】
上述した重合性化合物の含有量は、インク組成物の固形分中の３０〜８０量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。重合性化合物の使用量が上記範囲内であれば、画素部の重合が十分となるため、画素部の膜強度の不足に起因する傷の発生が起こりにくくなったり、透明導電膜を付与する際にクラックやレチキュレーションが発生しにくくなったり、配向膜を設ける際の耐溶剤性が向上したり、電圧保持率を低下させない等の効果が得られる。ここで、配合割合を特定するためのインク組成物の固形分とは、溶剤を除く全ての成分を含み、液状の重合性モノマーなども固形分に含まれる。
また、重合性化合物の含有量は、インク組成物の全量に対して、５〜５０質量％が好ましく、より好ましくは７〜３０質量％である。
【０１９３】
＜添加剤＞
上述のインク組成物は、必要に応じて、他の添加剤を含有していてもよい。以下に、その一例を説明する。
【０１９４】
＜重合開始剤＞
インク組成物は、重合性化合物の重合反応を促進する目的で、重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、インク組成物に用いる重合性化合物の種類、重合経路にあわせて選択することができる。重合反応を活性エネルギー線により行わせる場合には光重合開始剤が用いられ、重合反応を熱により行わせる場合には熱重合開始剤が用いられる。光重合開始剤としては、ハロメチルオキサジアゾール系化合物およびハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物から選択される少なくとも一つの活性ハロゲン化合物、３−アリール置換クマリン化合物、ロフィン２量体、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体およびその塩、オキシム系化合物、などが挙げられる。
また、熱重合開始剤としては、一般に知られている有機過酸化物系化合物やアゾ系の化合物を用いることができる。例えば、特許出願２００７−３０３６５６号明細書の段落番号［００８６］〜［０１１７］に記載される熱重合開始剤を用いてもよい。
【０１９５】
上述した重合開始剤の含有量は、インク組成物中の全固形分に対して、０．０１〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％である。含有量が上述の範囲内であると、より良好な感度と強固な硬化部を形成することができる。また、上記、酸を発生させる化合物は１種または２種以上を混合して使用することができる。
また、上述した重合開始剤の含有量は、インク組成物全量に対して、０．１〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜３質量％である。
【０１９６】
＜その他＞
その他の添加剤としては、特開２００９−１４４１４９号公報の段落[０２０４]〜[０２０８]に記載の添加剤、特開２０００−３１０７０６号公報の段落番号[００５８]〜[００７１]に記載の添加剤、荷電調整剤、香料、ｐＨ調整剤などが挙げられる。
【０１９７】
＜インク組成物の製造方法＞
インク組成物の製造方法は、特に制限されない。例えば、有機溶剤中に染料を溶解させた後、他の各成分（例えば、重合性モノマーやバインダーなど）を溶解させてインク組成物を調製することができる。
インク組成物を調製する際には、有機溶剤に対して使用する素材の溶解性が低い場合には、インク組成物に含まれる重合性化合物が重合反応を起こさない範囲内で、加熱や超音波処理等の処理を適宜行うことが可能である。
【０１９８】
＜インク組成物の物性＞
インク組成物の粘度は、後述するインクジェット法での塗布時に安定吐出する観点で、２５℃において３０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２〜３０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２〜２０ｍＰａ・ｓがさらに好ましい。また、装置で吐出する際には、インク組成物の温度を２０〜８０℃の範囲でほぼ一定温度に保持することが好ましい。装置の温度を高温に設定すると、インク組成物の粘度が低下し、より高粘度のインク組成物を吐出可能となる。しかし、温度が高くなることにより、ヘッド内での熱によるインク組成物の変性や熱重合反応の発生や、インク組成物を吐出するノズル表面で溶剤の蒸発がおこりやすくなり、ノズル詰まりが起こりやすくなるため、装置の温度は２０〜８０℃の範囲が好ましい。
【０１９９】
なお、粘度は、２５℃に塗布液を保持した状態で、一般に用いられるＥ型粘度計（例えば、東機産業（株）製Ｅ型粘度計（ＲＥ−８０Ｌ）を用いることにより測定される値である。
【０２００】
また、インク組成物の２５℃の表面張力（静的表面張力）としては、非浸透性の基板に対する濡れ性の向上、および吐出安定性の点で、２０〜４０ｍＮ／ｍが好ましく、２０〜３５ｍＮ／ｍがより好ましい。また、装置で吐出する際には、インク組成物の温度を２０〜８０℃の範囲で略一定温度に保持することが好ましく、そのときの表面張力を２０〜４０ｍＮ／ｍとすることが好ましい。
【０２０１】
上述の表面張力は、一般的に用いられる表面張力計（例えば、協和界面科学（株）製、表面張力計ＦＡＣＥ ＳＵＲＦＡＣＥ ＴＥＮＳＩＯＭＥＴＥＲ ＣＢＶＢ−Ａ３など）を用いて、ウィルヘルミー法で液温２５℃、６０％ＲＨにて測定される値である。
【０２０２】
＜カラーフィルタ層＞
上記のインク組成物を用いて形成されたカラーフィルタ層の膜厚は、０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。また、膜厚の測定方法としては、後述する混合層の膜厚測定方法と同様の手法が適用でき、その詳細な測定条件も同様である。
カラーフィルタ層には上述した染料が含有されており、使用される染料の種類に応じて、Ｒ、Ｇ、Ｂなどの所望の色画素を形成することができる。カラーフィルタ層中における染料の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２０〜８０質量％が好ましい。
また、カラーフィルタ層中には、後述する硬化処理によって得られる重合性化合物の重合体も含有される。カラーフィルタ層中のおける、染料と該重合体との質量関係は特に制限されないが、該重合体１００重量部に対して、２０〜８０質量部であることが好ましい。
【０２０３】
＜酸素遮断層、酸素遮断性組成物＞
次に、酸素遮断層、およびその構成成分について詳細に説明する。
酸素遮断層は、後述の酸素遮断性化合物を含む酸素遮断性組成物を用いて形成される。より具体的には、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布する塗布工程、後述する硬化工程を経ることで酸素遮断層を形成することができる。
まず、酸素遮断層の製造に使用される酸素遮断性組成物の構成成分について詳述する。
【０２０４】
＜酸素遮断性化合物またはその前駆体＞
酸素遮断性組成物は、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含む。酸素遮断性化合物の前駆体としては、硬化処理によって酸素遮断性化合物となるものを適宜用いることができる。
酸素遮断性化合物またはその前駆体としては、特に制限されないが、例えば、有機ポリマーまたはその前駆体が挙げられる。より具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、特開２００３―２８７６１８号公報の段落番号［００１８］〜［００２８］に記載のものや、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタレート、またはこれらの変性樹脂、共重合体、ならびにこれらの前駆体などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、水または各種有機溶剤への溶解性に優れることから、ポリ塩化ビニリデンまたはその誘導体、ポリビニルアルコールまたはその誘導体が好ましく、ポリビニルアルコールまたはその誘導体がより好ましい。
また、酸素遮断性化合物またはその前駆体は市販品を用いてもよく、具体的には、商品名オプトマーＳＳ６６９９Ｇ（ＪＳＲ社製）、商品名エバールＬＲ１７１Ｂ（クラレ社製）、スミライトＶＳＬ―４５１０−Ｂ（住友ベークライト社製）、ポバールＰＶＡ−２１７（クラレ社製）、テックバリアシリーズ（三菱樹脂社製）など、が挙げられる。また、下記式で表されるポリマーＡなどのアルコキシシラン基を有するポリマーを好ましく用いることができる。
【０２０５】
【化３１】

【０２０６】
なお、アルコキシシラン基を有するポリマーとは、加水分解性アルコキシシラン基を有するポリマーであって、好ましくは以下の繰り返し単位を有するポリマーが挙げられる。
【０２０７】
【化３２】

【０２０８】
上記式中、Ｒ₁は水素原子またはアルキル基を表す。Ｌは、単結合または２価の連結基（例えば、アルキレン基、−Ｏ−、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、またはこれらを組み合わせた基）を表す。Ｒ₂は、アルキル基（好ましくは、炭素数１〜２）を表す。
【０２０９】
また、酸素遮断性組成物に含まれる酸素遮断性化合物の前駆体としては、例えば、Ｒ¹_n−Ｍ−(ＯＲ²)_m（Ｍ：金属元素、Ｒ¹、Ｒ²：炭素数１〜８の有機基、ｎ：０以上の整数、ｍ：１以上の整数、ｎ＋ｍ：Ｍの原子価）で表される金属アルコキシ基含有化合物なども好適に用いることができる。該化合物のゾルゲル反応を介して、酸素遮断層が形成される。
Ｍで表される具体的な金属元素としては、珪素元素、チタニウム元素、ジルコニウム元素、アルミニウム元素などが挙げられ、珪素元素、チタニウム元素、アルミニウム元素が好ましく、珪素元素、チタニウム元素がより好ましい。Ｒ¹、Ｒ²で表される有機基としては、直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。好ましいアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基などが挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基がより好ましく、メチル基、エチル基がもっとも好ましい。好ましいｎ、ｍの数値としては、ｎが０以上２以下であることが好ましく、０であることがより好ましい。即ち、ｍがＭの価数であることがもっとも好ましい。Ｒ¹およびＲ²は、同一であっても、異なっていてもよい。
【０２１０】
金属アルコキシ基含有化合物の具体的な例としては、テトラエトキシシラン、オルトチタン酸テトラエチル、テトラメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、などが挙げられる。中でも、緻密な層が作製可能で酸素遮断能が高い点で、テトラエトキシシラン、オルトチタン酸テトラエチル、テトラメトキシシランが好ましく、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシランがより好ましい。
【０２１１】
酸素遮断性化合物またはその前駆体は、塗布性や、インクジェットの吐出適性に関する観点から、水に対する溶解度が高い物（水溶性化合物）が好ましい。好ましい溶解度としては、２５℃における水への溶解度が１〜３３ｇ／ｍＬが好ましく、３〜２５ｇ／ｍＬがより好ましく、５〜２０ｇ／ｍＬがもっとも好ましい。
【０２１２】
上述した化合物またはその前駆体は、酸素遮断性組成物に少なくとも１つ含まれていればよく、２種以上を併用してもよい。酸素遮断性組成物に含まれる上記化合物またはその前駆体の総含有量としては、酸素遮断性組成物全量に対して、１〜３３質量％が好ましく、３〜２５質量％がより好ましい。
【０２１３】
＜溶媒＞
酸素遮断性組成物は、溶媒を含有することが好ましい。溶媒としては、不純物を含まないイオン交換水、蒸留水などを用いることが好ましい。組成物中における溶媒の含有量は特に制限されないが、取り扱い性、塗布性などの点から、酸素遮断性組成物の全量に対して、３３〜９９質量％であることが好ましく、５０〜９５質量％であることがより好ましい。
【０２１４】
酸素遮断性組成物は、溶媒として水溶性有機溶媒を用いてもよい。本発明で用いることのできる水溶性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクタム、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、Ｎ-メチルピロリドン等を挙げることができる。水溶性有機溶媒の含有量としては、酸素遮断性組成物の全量に対して、１〜５０量％であることが好ましく、５〜３３質量％であることがより好ましい。
【０２１５】
酸素遮断性組成物の粘度は、２５℃において１００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２〜５０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、４〜３０ｍＰａ・ｓがさらに好ましい。酸素遮断性組成物の粘度の測定は、前述したインク組成物の粘度測定と同様の手法を用いて行うことができる。
【０２１６】
その他、酸素遮断性組成物には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、公知の添加剤を併用することができる。
【０２１７】
＜酸素遮断層＞
本発明の酸素遮断層は、上記の所定の材料を含有する酸素遮断性組成物に加熱処理などの硬化処理を施すことにより形成され、高い酸素遮断能、高透明性、及び低光散乱性を示す。酸素遮断層に含有される酸素遮断性化合物としては、上述した有機ポリマーのような有機素材、または、上述した金属アルコキシ基含有化合物などから形成される無機素材などが挙げられる。
有機素材としては、上述したような有機ポリマーが挙げられる。
また、無機素材としては、例えば、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＣａＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、Ｇａ₂Ｏ、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣａＦ₂のごとき無機セラミクスが挙げられる。
なお、酸素遮断層は、酸素遮断能により優れる点で、実質的に上記酸素遮断性化合物で構成されることが好ましい。
【０２１８】
本発明において、酸素遮断層は１５μｍ以下の膜厚であることが求められる。
酸素遮断層の膜厚が上記範囲にあるとき、形成される色画素の輝度や平坦性などが優れ、カラーフィルタの酸素遮断層として好適に機能する。酸素遮断層の膜厚が１５μｍを超える場合は、酸素遮断層の酸素透過性を抑制することはできるが、カラーフィルタ層を通過する光の輝度が低下する。酸素遮断層の膜厚は、好ましくは１〜１２μｍであり、より好ましくは２〜８μｍである。
上記酸素遮断層の膜厚は、後述する混合層の膜厚測定方法と同様の手法が適用でき、その詳細な条件も同様である。
【０２１９】
酸素遮断層は、酸素透過率が２００ｍｌ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましく、１００ｍｌ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがより好ましく、５０ｍｌ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが最も好ましい。下限は特に限定されないが、０ｍｌ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍが好ましい。酸素透過率が上記範囲の場合、染料の退色防止の観点で好適に機能する。
【０２２０】
酸素遮断層の酸素透過率を測定する方法としては、例えば、以下のようにして測定することができる。酸素電極としてオービスフェアラボラトリーズジャパンインク製ｍｏｄｅｌ３６００を使用する。電極隔膜としては、最も応答速度が速く感度が高いポリフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）２９５６Ａを使用する。電極隔膜にシリコーングリス（ＳＨ１１１、東レダウコーニング（株）製）を薄く塗布し、その上に測定する薄膜材料を貼付し、酸素濃度値を測定する。なお、シリコーングリスの塗布膜は、酸素透過速度に影響を与えないことが確認されている。次に、酸素濃度値に対する酸素透過速度（ｍｌ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）を換算する。
【０２２１】
また、酸素遮断層としては、透明性が高いものが好ましく、前述のカラーフィルタ層を通過した光の輝度変化が小さいことが求められる。即ち、酸素遮断層を通過する前後の、光の輝度変化率が少なければ少ない程好ましい。輝度の変化率（％）［｛（酸素遮断層なしのカラーフィルタの輝度）−（酸素遮断層ありのカラーフィルタの輝度）｝／（酸素遮断層なしのカラーフィルタの輝度）×１００］としては、０％以上１５％未満の範囲にあることが好ましく、より好ましくは０％以上７％未満の範囲であり、最も好ましくは０％以上３％未満の範囲である。
【０２２２】
＜混合層＞
本発明のカラーフィルタは、上記カラーフィルタ層と上記酸素遮断層との間に染料と酸素遮断性化合物とを含有する混合層を有することを特徴とする。
この混合層の形成メカニズムとしては、まず、後述する予備処理工程の後に、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布することで、酸素遮断性組成物を硬化されていないインク組成物の塗膜の表面部分に含浸させることができ、染料と酸素遮断性化合物とが混在する領域が形成される。この工程の後に、後述の硬化工程を経ることで、前述の酸素遮断性組成物の含浸部分が、染料と酸素遮断性化合物とが混合する混合層となる。上記のようにインク組成物を硬化させる前に、酸素遮断性組成物と接触させることにより、所望の性質を示す混合層を得ることができる。
【０２２３】
この混合層を形成すると、酸素遮断性組成物の含浸部分が硬化後にナノアンカーとして働くため、形成された酸素遮断層はカラーフィルタ層との密着性に優れ、密着不良のおそれが低減される。また、この混合層の存在によって、膜厚が比較的薄くても、酸素遮断能に優れた酸素遮断層を形成できる。さらに、形成された酸素遮断層はカラーフィルタ層を通過する光の輝度を損なわず、良好な色相を呈するカラーフィルタを得ることができる。
【０２２４】
混合層としては、膜厚１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが求められる。混合層の膜厚が１０ｎｍ未満であると、酸素遮断層の充分な密着性を得られない、または、カラーフィルタの耐光性が損なわれる。２００ｎｍより大きいと前述の通りカラーフィルタ層を通過する光の輝度が損なわれる。混合層の厚さとしては、４０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましい。
【０２２５】
混合層の膜厚は、カラーフィルタの断面を観察することで確認できる。本発明においては、ＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いて観察し確認する。斜め切削法で切り出したサンプルを観察した結果から、後述の方法で決定した混合層と酸素遮断層の接触面と、混合層とカラーフィルタ層の接触面との間の長さの平均値を混合層の膜厚とする。平均値は、等間隔置きに計測した２０点平均値を用いて算出する。
カラーフィルタ層、酸素遮断層、および混合層の表面は、カラーフィルタの断面における基板表面からの垂直方向相当での組成線分析結果を用いて決定する。具体的には、基板上の得られた層（カラーフィルタ層、混合層、酸素遮断層）断面での垂直方向相当での組成線分析において、染料由来の元素と酸素遮断性化合物由来の元素とが混在する領域を混合層と規定して、上記方法にて該層の厚みを求める。また、基板側の該混合層表面と接する面をカラーフィルタ層表面とし、基板側とは反対側の該混合層表面と接する面を酸素遮断層表面とし、カラーフィルタ層および酸素遮断層の厚みを計算する。
【０２２６】
混合層には上述した染料および酸素遮断性化合物が含有されるが、その含有割合は特に制限されない。なかでも、染料と酸素遮断性化合物との質量比は、本発明の効果がより優れる点から、０．０５〜１０が好ましく、０．１〜５がより好ましい。
本発明の効果がより優れる点で、混合層中における前述の染料と酸素遮断性化合物の存在比が、深さ方向に対して傾斜をもって存在する方が好ましい。すなわち、基板とは反対側の混合層の表面から、基板方向に向かって、染料と酸素遮断性化合物と質量割合（染料／酸素遮断性化合物）が、増大する傾斜構造を有することが好ましい。言い換えると、混合層とカラーフィルタ層の界面付近では染料の存在比が高く、混合層と酸素遮断層の界面付近では、酸素遮断性化合物の存在比が高い方が好ましい。
具体的な存在比としては、前述の手法で確認した酸素遮断層と混合層との界面から、カラーフィルタ層方向に向けて混合層の膜厚の１／５に相当する深さの位置における、染料：酸素遮断性化合物の存在割合（質量比）が１０：９０〜４０：６０の範囲であることが好ましく、２５：７５〜３３：６７であることがより好ましい。また同様に、混合層の膜厚の４／５に相当する位置における、染料：酸素遮断性化合物の存在割合（質量比）が９０：１０〜６０：４０の範囲であることが好ましく、７５：２５〜６７：３３であることがより好ましい。
【０２２７】
混合層の膜厚は、種々の手法によって調整される。例えば、酸素遮断性組成物を塗布した後に、後述の硬化工程を行うまでの時間を調節する方法、酸素遮断性組成物の温度を調整する方法、酸素遮断性組成物の粘度を調整する方法、などが挙げられる。これらの手法において、酸素遮断層がカラーフィルタ層表面部分に含浸される深さを任意に調整できる。これらの条件は、各組成物に含有される材料、気温、及び湿度などの条件に合わせて適宜変更される。
【０２２８】
以下に、混合層の膜厚を調整する手法のうち、酸素遮断性組成物を塗布した後に、後述の硬化工程を行うまでの時間を調節する方法の好ましい例を示すが、本発明の調整手法は下記に限定して解釈されるものではない。本発明では、酸素遮断性組成物を塗布した後、１０秒〜１２時間静置した後に硬化工程を行う態様が好ましい。更に好ましくは３０秒〜６０分静置した後に硬化工程を行う態様が好ましい。前記時間の範囲において、均一な膜厚の混合層が形成される。
【０２２９】
＜カラーフィルタの製造方法＞
次に、図面に示す好適実施形態を参照して、本発明のカラーフィルタの製造方法について詳細に説明する。本発明のカラーフィルタは、以下の工程を実施することにより製造することが好ましい。
（１）基板上にブラックマトリクスを設けるブラックマトリクス形成工程
（２）基板上に形成されたブラックマトリクスにより区画された凹部に、染料および重合性化合物を含有するインク組成物を充填する組成物充填工程
（３）充填されたインク組成物を予備処理する予備処理工程
（４）酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布する塗布工程
（５）インク組成物および酸素遮断性組成物を硬化する硬化工程
【０２３０】
図１は、本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態における製造工程を示すフローチャートであり、図２（ａ）〜（ｆ）は、本発明のカラーフィルタの製造方法における基板からカラーフィルタに至る製造工程順に示す基板およびカラーフィルタの模式的断面図である。
図１および図２（ａ）〜（ｆ）に示すように、本発明のカラーフィルタ１０の製造方法は、基板１２に隔壁（バンク）となるブラックマトリクス１４を形成するブラックマトリクス形成工程Ｓ１０２（図２（ｂ）参照）と、ブラックマトリクス１４に撥液性を付与する撥液処理工程Ｓ１０４と、隣接する隔壁１４間の凹部１６に、インク組成物１８を付与してカラーフィルタ層２２を形成する画素形成工程Ｓ１０６（図２（ｃ）〜（ｆ）参照）とを有する。
【０２３１】
また、画素形成工程Ｓ１０６は、上述したように、ブラックマトリクス１４間の凹部１６にインク組成物１８を充填する組成物充填工程Ｓ１０８（図２（ｃ）参照）と、凹部１６に充填されたインク組成物１８に加熱処理または露光処理を施して、インク組成物塗膜１８ａとする予備処理工程Ｓ１１０（図２（ｄ）参照）と、形成されたインク組成物塗膜１８ａ上に酸素遮断性組成物を塗布して、酸素遮断性組成物塗膜２０を形成させる塗布工程Ｓ１１２（図２（ｅ）参照）と、基板１２上の凹部１６内のインク組成物塗膜１８ａと酸素遮断性組成物塗膜２０に加熱処理を施し、カラーフィルタ層２２、酸素遮断層２４および混合層２６を形成する硬化工程Ｓ１１６（図２（ｆ）参照）とを有する。
以下に各工程での手順について詳述する。
【０２３２】
＜工程（１）：ブラックマトリクス形成工程Ｓ１０２＞
工程（１）は、基板１２上にブラックマトリクス１４を形成する工程である（図２（ｂ）参照）。該工程により、ブラックマトリックス１４により区画された、インク組成物１８が付与される凹部１６が形成される。なお、ブラックマトリックス１４は所望のパターン状（例えば、ストライプ状、格子状、デルタ配列状など）に形成されていてもよい。
用いられる基板は特に制限されず、公知のカラーフィルタ用の基板が用いられる。例えば、ガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタラート、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリエーテル、ポリイミド、ナイロンなどの樹脂板を用いることができる。
【０２３３】
工程（１）で使用されるブラックマトリクス１４は公知のカラーフィルタ用ブラックマトリクスを使用することができる。例えば、特開２００７−１９３０９０号公報の段落番号［０１０８］〜［０１２６］や、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２１］〜［００７４］や、特開２００４−２４００３９号公報の段落番号［００１２］〜［００２１］に記載のブラックマトリクス（いわゆる樹脂ブラックマトリックス）や、特開２００６−１７９８０号公報の段落番号［００１５］〜［００２０］や、特開２００６−１０８７５号公報の段落番号［０００９］〜［００４４］に記載のインクジェット用ブラックマトリクスなどが挙げられる。
【０２３４】
また、このようなブラックマトリクス１４は、インクの混色を防ぐために、撥液処理を施してもよい。このような撥液処理としては、例えば、特開２００７−１８７８８４号公報の段落番号［００８６］〜［００８７］に記載された撥液処理方法、具体的には、（１）撥液性物質をブラックマトリクスに練りこむ方法（例えば、特開２００５−３６１６０号公報参照）、（２）撥液層を新たに設ける方法（例えば、特開平５−２４１０１１号公報参照）、（３）プラズマ処理により撥液性を付与する方法（例えば、特開２００２−６２４２０号公報参照）、（４）ブラックマトリクスの壁上面に撥液材料を塗布する方法（例えば、特開平１０−１２３５００号公報参照）、などが挙げられ、特に（３）基板上に形成された隔壁にプラズマによる撥液化処理を施す方法が好ましい。
なお、ブラックマトリクス１４が撥インク性を備えている場合には、撥液処理工程は不要であるが、その場合においても、基板１２と、ブラックマトリクス１４とで構成される凹部１６に親液処理を施してもよい。
【０２３５】
＜工程（２）：組成物充填工程Ｓ１０８＞
工程（２）は、工程（１）で得られたブラックマトリクス１４で区画された凹部１６領域に、上述したインク組成物１８を充填する工程である（図２（ｃ）参照）。図２（ｃ）においては、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の３色のインク組成物１８が充填されているが、後述するように単色のインク組成物のみを凹部１６に充填してもよい。
インク組成物１８の充填方法は特に制限されず、公知の方法が使用される。具体的にはインク組成物１８を、インクジェットヘッドで吐出し塗布する手法、スピンコート法、スリットコート法、バーコート法、フィルムのラミネート、などが挙げられる。なかでも、現像処理が不要でインク組成物１８を無駄にすることなく用いられる点で、インクジェットヘッドで吐出し塗布する方法が好ましい。
【０２３６】
組成物充填工程Ｓ１０８において用いられるインクジェット方式としては、特に限定されず、帯電したインクジェット用インクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクジェット用インクを噴射する方法、インクジェット用インクを加熱してその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の、各種の方法を採用できる。
使用されるインクジェットヘッドとしては、コンティニュアス型やオンデマンド型のピエゾ方式、サーマル方式、ソリッド方式、静電吸引方式等の種々の方式のインクジェットヘッド（吐出ヘッド）を用いることができ、オンデマンド型の種々の方式のインクジェットヘッドを用いることが好ましく、特に、オンデマンド型のピエゾ方式のインクジェットヘッドを用いることが好ましい。また、インクジェットヘッドの吐出部（ノズル）は、単列配置に限定されず、複数列としても千鳥格子状に配置としてもよい。
【０２３７】
さらに、ヘッドは、インクの温度が管理できるように温調機能を持つものが好ましい。射出時の粘度は、５〜２５ｍＰａ・ｓとなるように射出温度を設定し、粘度の変動幅が±５％以内になるようにインク温度を制御することが好ましい。また、駆動周波数としては、１〜５００ｋＨｚで稼動することが好ましい。ノズルの形状は、必ずしも円形である必要はなく、楕円形、矩形等の形状に制限されるものではない。ノズル径は、１０〜１００μｍの範囲であることが好ましい。なお、ノズルの開口部自身は必ずしも真円とは限らないが、その場合、ノズル径は該開口部の面積と同等の円で表したときの径とする。
【０２３８】
凹部１６に充填されるインク組成物１６としては、単色のみならず、イエロー（Ｙ）とマゼンタ（Ｍ）とでなる赤色（Ｒ）、イエロー（Ｙ）とシアン（Ｃ）とでなる緑色（Ｇ）、マゼンタ（Ｍ）とシアン（Ｃ）とでなる青色（Ｂ）のインク組成物が充填されうる。また、これら以外に、さらに、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の色画素を形成することができる公知のインク組成物を使用することもできる。
【０２３９】
＜工程（３）：予備処理工程Ｓ１１０＞
工程（３）は、充填されたインク組成物を熱（加熱）または光（露光）により予備処理する工程である（図２（ｄ）参照）。より具体的には、該工程では、凹部１６に付与されたインク組成物１８に加熱処理または露光処理を施してインク組成物塗膜１８ａとする。該工程によって、組成物中に含有される有機溶剤の蒸発が促進され、カラーフィルタを効率的に作製することができる上に、塗膜の粘度が熱により一時的に低下するため、より高い流動性が得られ、高い平坦性の画素を有する、カラーフィルタを得ることが可能になる。
予備処理工程における加熱温度は特に制限は無く、組成物中に有機溶媒が含まれる場合に該溶媒を揮発除去できる温度であること好ましい。なかでも、重合性化合物の熱重合が開始する温度をＴ℃とした場合に、Ｔ℃未満であり、未硬化の塗膜に含まれる重合性化合物が重合されない温度が好ましい。加熱温度としては、５０〜１００℃がより好ましく、６０〜９０℃がさらに好ましい。加熱時間としては、１〜３０分が好ましく、５〜１５分がより好ましい。
【０２４０】
温度Ｔは、以下のようにして求めることができる。インク組成物を加熱し、加熱によりインク組成物中の重合性化合物の重合が開始し、インク組成物のゲル化などが観察される温度をＴとする。より具体的には、加熱前のインク組成物粘度に対して、加熱後のインク組成物粘度の上昇が５ｍＰａ・ｓ以上の場合の加熱温度をＴとする。
【０２４１】
上記予備処理工程では、上記加熱処理以外に、活性エネルギー線の露光処理が行われてもよい。該露光によってインク組成物を予備硬化させることもできる。活性エネルギー線の露光によって予備硬化する場合も、溶剤を含みうる場合は上記の加熱工程が適用できる。
露光条件は特に制限されないが、活性エネルギー線の波長は、使用される重合性化合物の種類によって異なるが、２５０〜４５０ｎｍが好ましく、２５４〜３７０ｎｍがより好ましい。活性エネルギー線の照射時間としては、使用される重合性化合物などの種類に応じて最適な条件が選択されるが、例えば、１〜６０秒とすることができる。
なお、活性エネルギー線の露光によって硬化する塗膜の場合、上述の重合性化合物が熱重合を開始する温度Ｔは、熱によって光重合開始剤などが分解して重合反応が開始する温度または、モノマー自体が熱によって分解し、重合反応が開始する温度を意味する。
【０２４２】
＜工程（４）：塗布工程Ｓ１１２＞
工程（４）は、工程（３）で得られた基板上に、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布する工程である（図２（ｅ）参照）。より具体的には、工程（３）で得られたブラックマトリクス１４とインク組成物塗膜１８ａ上に、酸素遮断性組成物を塗布して、その塗膜（酸素遮断性組成物塗膜２０）を得る工程である。該工程において、酸素遮断性組成物中に含まれる酸素遮断性化合物またはその前駆体が、インク組成物塗膜１８ａと接触して、混合することにより、染料と酸素遮断性化合物とが混在した層領域が形成される。
【０２４３】
酸素遮断性組成物の塗布方法は特に制限されないが、インクジェットヘッドで吐出し塗布する方法、スピンコート法、スリットコート法、バーコート法、フィルムのラミネートなどが挙げられる。中でも、真空工程を簡素化できる点で、インクジェットヘッドで吐出し塗布する方法、スピンコート法、スリットコート法、バーコート法、フィルムのラミネートが好ましい。
【０２４４】
酸素遮断性組成物の塗布方法としては、酸素遮断性組成物がインク組成物塗膜１８ａの表面部分に含浸される限りにおいて、２つ以上の方法を組み合わせて用いることができる。具体的な例としては、例えば前述のインクジェットヘッドで吐出し第一層目の酸素遮断性組成物塗膜を塗布した後に、蒸着を用いてさらなる酸素遮断性組成物塗膜を形成させることなどが挙げられる。
なお、後述する硬化工程を実施した後に、酸素遮断層の厚みを増加させるために、該工程と後述する硬化工程を再度実施してもよい。
【０２４５】
工程（４）において、酸素遮断性組成物塗膜２０を形成した後に、必要に応じて、塗膜中に含有される有機溶媒などを除去するために予備加熱処理などが実施されてもよい。なお、予備加熱処理の条件は使用される材料などによって異なり、適宜最適な条件が選択される（例えば、６０〜９０℃で、１〜１０分が好ましい）が、通常はインク組成物塗膜１８ａの硬化が起こらない条件が選択される。
【０２４６】
＜任意工程：照射工程Ｓ１１４＞
後述する硬化工程Ｓ１１６の前後に、活性エネルギー線を照射して、インク組成物塗膜１８ａと酸素遮断性組成物塗膜２０に露光処理を施す照射工程Ｓ１１４を設けてもよい。該工程を設けることにより、膜の物理的強度の向上、酸素遮断性向上の点で好ましい。
露光処理は活性エネルギー線を放射により塗膜の硬化が進行する。活性エネルギー線の放射により、硬化させる場合のエネルギー源としては、例えば、４００〜２００ｎｍの紫外線、遠紫外線、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザ光、ＡｒＦエキシマレーザ光、電子線、Ｘ線、分子線、またはイオンビームなど、既述の重合開始剤が感応するものを適宜選択して用いることができる。具体的には、２５０〜４５０ｎｍ、好ましくは３６５±２０ｎｍの波長領域に属する活性光線を発する光源、例えば、ＬＤ、ＬＥＤ（発光ダイオード）、蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、キセノンランプ、ケミカルランプなどを用いて好適に行うことができる。好ましい光源には、ＬＥＤ、高圧水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。
活性エネルギー線の照射時間としては、例えばインク組成物に含まれるモノマーや重合開始剤との組合せに応じて適宜設定することができるが、例えば、１〜３０秒とすることができる。
【０２４７】
＜工程（５）：硬化工程Ｓ１１６＞
工程（５）は、工程（４）で得られたインク組成物塗膜１８ａと酸素遮断性組成物塗膜２０を熱により硬化する工程である（図２（ｆ）参照）。該硬化工程によって、カラーフィルタ層２２および酸素遮断層２４と、カラーフィルタ層２２と酸素遮断層２４との間に染料と酸素遮断性化合物とを含有する混合層２６が形成される。
【０２４８】
加熱の方法は特に制限されないが、例えば、塗膜が形成されている基板を、電気炉、乾燥器などに入れて加熱する、あるいは赤外線ランプを照射して加熱することができる。
このときの加熱温度および加熱時間は、使用される材料や塗膜の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、耐アルカリ性、および紫外線吸光度を確保する観点から、約１２０℃〜約２５０℃（好ましくは１７０〜２２０℃）で約１０分〜約１２０分間（好ましくは２０〜６０分）加熱することが好ましい。
【０２４９】
以上のようにして製造されたカラーフィルタは、液晶ディスプレイ、電子ペーパーや有機ＥＬなどのカラー画像表示デバイスのカラーフィルタとして好適に用いることができる。
【０２５０】
以上、本発明に係るカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、ならびにそれを用いる液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスについて、種々の実施形態を詳細に説明したが、本発明は、上記の実施形態には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってよいのは、もちろんのことである。
【実施例】
【０２５１】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の範囲から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断りのない限り「％」および「部」は、「質量％」および「質量部」を表し、分子量とは重量平均分子量のことを示す。
【０２５２】
（酸素遮断性組成物の合成）
（特定ポリマーＡの合成）
３００ｍｌ三口フラスコにホスマーＰＥ（ユニケミカル社製）１９．８ｇ、アクリルアミド６．８ｇ、アクリルアミド−３−（トリエトキシシリル）プロピル１０．６ｇ、及び１−メトキシ−２−プロパノール１６０ｇを入れ、８０℃窒素気流下、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル１．５ｇを加えた。６時間攪拌しながら同温度に保った後、室温まで冷却した。得られた反応液をｎ−ヘキサン２リットル中に投入し、析出した固体をろ取した。得られた固体をｎ−ヘキサンにて洗浄後、下記特定ポリマーＡを得た。乾燥後の質量は３４．６ｇであった。ＧＰＣ（ポリエチレンオキシド標準）により質量平均分子量１４，０００のポリマーであった。
【０２５３】
【化３３】

【０２５４】
（酸素遮断性組成物の調製）
＜酸素遮断性組成物１の調製＞
まず、エバールＬＲ１７１Ｂ（クラレ製）を５ｇはかりとり、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド２５ｇに対し温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。さらに攪拌しながら、精製水７０ｇを添加して、温度２５℃（±２℃）下、１５０ｒｐｍで３０分攪拌することによって、酸素遮断性組成物１を得た。
【０２５５】
＜酸素遮断性組成物２の調製＞
テトラエトキシシランを１６ｇはかりとり、精製水１００ｇに対し温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで２時間攪拌した。さらに攪拌しながら、温度２５℃（±２℃）で下記組成１を添加して、１５０ｒｐｍで３０分攪拌することによって、酸素遮断性組成物２を得た。
【０２５６】
（組成１）
界面活性剤（下記化合物１）を５％含有する水溶液：２．５ｇ
チタンアセチルアセトナート：１ｇ
アセチルアセトン：０．５ｇ
オルトチタン酸テトラエチル：０．５ｇ
【０２５７】
【化３４】

【０２５８】
＜酸素遮断性組成物３の調製＞
特定ポリマーＡ８ｇ、及びテトラエトキシシラン８ｇをはかりとり、精製水１００ｇに対し温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。さらに攪拌しながら、温度２５℃（±２℃）で上記組成１を添加して、１５０ｒｐｍで３０分攪拌することによって、酸素遮断性組成物３を得た。
【０２５９】
（粘度の測定）
得られた塗布液を２５℃に調温したまま、東機産業（株）製Ｅ型粘度計（ＲＥ−８０Ｌ）を用いて以下の条件で測定した。
（測定条件）
使用ロータ：１° ３４’×Ｒ２４
測定時間 ：２分間
測定温度 ：２５℃
【０２６０】
【表１】

【０２６１】
＜インク組成物の調製＞
下記の表の成分を各々混合し、１時間攪拌した。その後、平均孔径０．２５μｍのミクロフィルタで減圧濾過してインク組成物（Ｒ−１、Ｒ−２、Ｇ−１、Ｇ−２、Ｂ−１、Ｂ−２）を調製した。
【０２６２】
用いた素材の詳細を以下に示す。
（有機溶剤）
・シクロヘキサノン（和光純薬社製）
・Ｎ−メチルピロリドン（和光純薬社製）
・ＤＣＨＭＡ（東京化成社製）：ジシクロヘキシルメチルアミン
（モノマー）
・ＤＰＣＡ−60（日本化薬社製（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０））：カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
・ＤＰＨＡ（重合禁止剤ＭＥＨＱ５００ｐｐｍ含有、日本化薬(株)製（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
（界面活性剤）
・ＫＦ−３５３（信越シリコーン社製）：ポリエーテル変性シリコーンオイル
・Ｆ７８１−Ｆ（大日本インキ化学工業製（メガファックＦ７８１Ｆ））
（染料）
・染料Ｍ−１（上記一般式（３−ｃ）で表される染料）
・染料Ｙ−１（上記一般式（３−ｄ）で表される染料）
・染料Ｃ−１（上記一般式（２）で表される染料）
・染料Ｙ−２（上記一般式（３−ａ）で表される染料）
・染料Ｃ−２（上記一般式（６）で表される染料）
・染料Ｍ−２（上記一般式（５−１）で表される染料）
なお、Ｃ−１中、硫黄元素を含む４つの官能基は、それぞれ各ベンゼン環上に置換する。また、表２中の各化合物の含有量は、組成物全量に対する質量％で表される。
【０２６３】
【化３５】

【０２６４】
【表２】

【０２６５】
（粘度、表面張力の測定）
得られた塗布液を２５℃に調温したまま、東機産業（株）製Ｅ型粘度計（ＲＥ−８０Ｌ）を用いて以下の条件で測定した。
（測定条件）
使用ロータ：１° ３４’×Ｒ２４
測定時間 ：２分間
測定温度 ：２５℃
【０２６６】
得られた塗布液を２５℃に調温したまま、協和界面科学（株）製表面張力計（ＦＡＣＥ ＳＵＲＦＡＣＥ ＴＥＮＳＩＯＭＥＴＥＲ ＣＢＶＢ−Ａ３）を用いて測定した。
【０２６７】
（ブラックマトリクス形成用の濃色組成物の調製）
濃色組成物Ｋ１は、まず表３に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、さらに攪拌しながら、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスジエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍで３０分間攪拌することによって得られた。なお、表３に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０２６８】
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） １３．１％
・分散剤（下記化合物２） ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比
のランダム共重合物、分子量３．７万） ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７９．５３％
【０２６９】
【化３６】

【０２７０】
＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比
のランダム共重合物、分子量３．８万） ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３％
【０２７１】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ
ＤＰＨＡ） ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４％
【０２７２】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１ ３０％
・メチルエチルケトン ７０％
【０２７３】
【化３７】

【０２７４】
【表３】

【０２７５】
（ブラックマトリクスの形成）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃で３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上述のように調製した濃色組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃で３分間プリベークして膜厚２．３μｍの濃色組成物層Ｋ１を得た。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と濃色感光層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ²で隔壁幅２０μｍ、スペース幅１００μｍにパターン露光した。
【０２７６】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、濃色組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製を１００倍希釈したもの）を２３℃で８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２５００ｍＪ／ｃｍ²にて基板の濃色組成物層Ｋ１が形成された面側からポスト露光を行って、オーブンにて２４０℃で５０分加熱し、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状のブラックマトリクス（隔壁）を得た。
【０２７７】
（撥液化プラズマ処理）
ブラックマトリクスを形成した基板に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて、以下の条件にて撥液化プラズマ処理を行った。
使用ガス ：ＣＦ₄
ガス流量 ：８０ｓｃｃｍ
圧力 ：４０Ｐａ
ＲＦパワー：５０Ｗ
処理時間 ：３０ｓｅｃ
【０２７８】
＜実施例１：スピンコート法（スピンコート１）＞
上記で調製されたインク組成物（Ｒ−１）を用いて、上記で得られた基板上のブラックマトリクス（隔壁）で区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製インクジェットプリンターＤＭＰ−２８３１を用い、吐出を行った。インク組成物の吐出量は、作製されるカラーフィルタ中のカラーフィルタ層の膜厚が後述の測定方法で２．０μｍとなるよう調整した。その後、１００℃オーブン中で２分間予備処理を行った。作製したブラックマトリクスおよびカラーフィルタ層上へ、上記で調製された酸素遮断性組成物１をＭＩＫＡＳＡ社製スピンコーターにより、２５０ｒｐｍで少量滴下し、硬化後の酸素遮断層の膜厚が６μｍとなるように繰り返し塗布した。酸素遮断性組成物１の塗布後、室温で１０分間静置した後、次に、２２０℃のオーブン中で３０分間静置することにより、単色のカラーフィルタを作製した。
【０２７９】
＜実施例２：インクジェット法（インクジェット１）＞
富士フィルムＤｉｍａｔｉｘ社製インクジェットプリンターＤＭＰ−２８３１を用いて、上記で調製された酸素遮断性組成物２の吐出を行い、実施例１と同様に作製したブラックマトリクスおよびカラーフィルタ層上へ塗布した。酸素遮断性組成物２の塗布後、室温で１０分間静置した後、次に、２２０℃のオーブン中で３０分間静置することにより、単色のカラーフィルタを作製した。
【０２８０】
以下、インク組成物、酸素遮断性組成物、酸素遮断層形成方法、酸素遮断層の膜厚、混合層の膜厚を変え、カラーフィルタを作製し、実施例および比較例とした。
なお、カラーフィルタ層を硬化後、酸素遮断性組成物を塗布し、酸素遮断性組成物の硬化処理する場合は、インク組成物を塗布した後、２２０℃のオーブン中で３０分間静置してインク組成物を硬化させ、さらに酸素遮断性組成物を実施例２に記載の方法で塗布した後、再度８０℃のオーブン中で５分間静置し、カラーフィルタを作製した（インクジェット２に該当）。
【０２８１】
（膜厚測定方法）
全体の膜厚の測定は、ＶＩＯＬＥＴＬＡＳＥＲ ＣＯＬＯＲ ３Ｄ ＰＲＯＦＩＬＥ ＭＩＣＲＯＳＣＯＰＥ ＶＫ−９５１０（ＫＥＹＥＮＣＥ製）を用いておこなった。上記実施例で得られたカラーフィルタを、グラスカッターで割り、断面観察用のサンプルを作成した。
各層の膜厚の測定は、ポリイミドフィルム上へガラス上と同様に作製されたサンプルをミクロトームにより斜め切削を行い、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ（ＩＯＮ−ＴＯＦ社製）で観察し、上述した手法に従って、カラーフィルタ層、酸素遮断層、混合層のそれぞれの膜厚を測定した。
【０２８２】
＜評価内容と結果＞
（輝度評価）
輝度の測定は、ＵＶ−５６０（日本分光社製）を用いておこなった。具体的には、上記で作製したカラーフィルタのＹ値（輝度）と、同インク組成物を用いて製造した酸素遮断層を有さないカラーフィルタを作製した場合のＹ値（輝度）とを比較し、輝度の変化率を求めた。輝度変化率（％）は［｛（酸素遮断層なしのカラーフィルタの輝度）−（酸素遮断層ありのカラーフィルタの輝度）｝／（酸素遮断層なしのカラーフィルタの輝度）×１００］として計算した。その変化率が３％未満を◎、３％以上７％未満を○、７％以上１５％未満を△、１５％以上を×とした。
【０２８３】
（密着性）
酸素遮断層の密着性の評価は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に準じて行い、分類０を◎、分類１を○、分類２、３を△、分類４、５を×とした。
【０２８４】
（耐光性評価）
キセノンランプ褪色試験機（同潤光機社製）を用い、赤外、ＵＶカットフィルタを光源とカラーフィルタの間に設置し、４８時間、及び９６時間の照射を行い、色相を測定した。色相の測定にはＵＶ−５６０（日本分光社製）を用いた。試験前後のΔＥａｂが３未満を◎とした。ΔＥａｂが３以上７未満を○とした。ΔＥａｂが７以上１５未満を△と、ΔＥａｂが１５以上を×とした。なお、ΔＥａｂは、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編 新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥａｂ＝｛（ΔＬ）²＋（Δａ）²＋（Δｂ）²｝^1/2
【０２８５】
（耐熱性評価）
上記で作製した各色の単色カラーフィルタを、２３０℃のオーブン内に１時間設置し、その前後の色相を測定した。試験前後のΔＥａｂが３未満を◎とした。ΔＥａｂが３以上７未満を○とした。ΔＥａｂが７以上１５未満を△と、ΔＥａｂが１５以上を×とした。
【０２８６】
（画素平坦性）
画素平坦性は、カラーフィルタ１画素内の最大膜厚差をＶＩＯＬＥＴ ＬＡＳＥＲ顕微鏡：VK-９５１０（ＫＥＹＥＮＣＥ社製）を用いて測定した。０．１μｍ未満を◎、０．１μｍ以上０．２５μｍ未満を○、０．２５μｍ以上０．４μｍ未満を△、０．４μｍ以上を×とした。
【０２８７】
以下の表４に、各カラーフィルタの評価結果をまとめて示す。以下の評価結果において、実用上の使用の観点から、×が含まれていないことが必要である。
なお、表４中の比較例の混合層膜厚欄における「＜１０」は、膜厚が１０ｎｍ未満であることを示す。
【０２８８】
【表４】

【０２８９】
表４に示すように、本発明のカラーフィルタは、耐熱性および耐光性といった耐久性に優れるとともに、酸素遮断層の密着性に優れていた。さらに、輝度変化も小さく、画素平坦性にも優れていた。また、実施例１〜９の混合層は、酸素遮断層からカラーフィルタ層の方向において、染料と酸素遮断性化合物と質量割合（染料／酸素遮断性化合物）が増大する傾斜構造を有することが確認された。
一方、比較例においては実用上求められる性能のいずれかが欠けており、実用性に欠いていた。
【符号の説明】
【０２９０】
１０ カラーフィルタ
１２ 基板
１４ ブラックマトリクス
１６ 凹部
１８ インク組成物
１８ａ インク組成物塗膜
２０ 酸素遮断性組成物塗膜
２２ カラーフィルタ層
２４ 酸素遮断層
２６ 混合層

【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にブラックマトリクスを設けるブラックマトリクス形成工程と、
基板上に形成された前記ブラックマトリクスにより区画された凹部に、染料および重合性化合物を含有するインク組成物を充填する組成物充填工程と、
充填された前記インク組成物を予備処理する予備処理工程と、
予備処理工程で得られた基板上に、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布する塗布工程と、
充填された前記インク組成物および塗布された前記酸素遮断性組成物を硬化する硬化工程と、
をこの順に有する、カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記酸素遮断性化合物またはその前駆体が、有機ポリマーまたは金属アルコキシ基含有化合物を含む、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記酸素遮断性組成物が溶媒として水を含む、請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
基板上に、
ブラックマトリクスと、
前記ブラックマトリクスにより区画された領域に設けられた、少なくとも染料を含有するカラーフィルタ層と、
前記ブラックマトリクスと前記カラーフィルタ層を覆う、少なくとも酸素遮断性化合物を含有する酸素遮断層とを備えるカラーフィルタであって、
前記カラーフィルタ層と前記酸素遮断層の間に前記染料と前記酸素遮断性化合物とを含有する混合層を備え、前記混合層の膜厚が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
前記酸素遮断層の膜厚が１５μｍ以下であるカラーフィルタ。
【請求項５】
前記染料が、下記一般式（６）で表される染料と、下記一般式（５）で表される染料、下記一般式（５−１）で表される染料、および下記一般式（５−２）で表される染料からなる群から選ばれる少なくとも１種の染料とを含む、請求項４に記載のカラーフィルタ。
【化１】


（一般式（６）中、Ｒ¹は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｌは、それぞれ独立に、脂肪族または芳香族の連結基を表す。Ｚ¹は２つの炭素原子と共に６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、４つのＺ¹は同一であっても異なっていてもよい。Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物または２価の金属塩化物を表す。ｍはそれぞれ独立に１または２を表し、ｎはそれぞれ独立に０または１を表す。ｐはそれぞれ独立に１〜５の整数を表す。ｒ¹、ｒ²、ｒ³及びｒ⁴はそれぞれ独立に０または１を表し、ｒ¹＋ｒ²＋ｒ³＋ｒ⁴≧１を満たす。複数のＲ¹中、少なくとも１つのＲ¹は、−ＯＹ、−ＣＯＯＹ、−ＳＯ₃Ｙ、−ＣＯＮ(Ｙ)ＣＯＷ、−ＣＯＮ(Ｙ)ＳＯ₂Ｗ、−ＳＯ₂Ｎ(Ｙ)ＣＯＷ、または−ＳＯ₂ＮＨＷを有する。Ｙは水素原子、金属原子または共役酸を表す。Ｗは、置換基を表す。）
【化２】


（一般式（５）中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆はそれぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。Ｒ₁₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｍａは、金属原子または金属化合物を表す。Ｘ₁は、Ｍａに結合可能な基を表し、Ｘ₂は、Ｍａの電荷を中和する為に必要な基を表す。Ｘ₁とＸ₂は、互いに結合して５員、６員、または７員の環を形成していてもよい。）
【化３】


（一般式（５−１）中、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。Ｒ₁₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｍａは、金属原子または金属化合物を表す。Ｘ₃は、ＮＲ（Ｒは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。）、窒素原子、酸素原子、または硫黄原子を表し、Ｘ₄は、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。）、酸素原子、または硫黄原子を表し、Ｙ₁は、ＮＲｃ（Ｒｃは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。）、窒素原子、または炭素原子を表し、Ｙ₂は、窒素原子、または炭素原子を表す。Ｒ₁₈およびＲ₁₉は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。Ｒ₁₈とＹ₁は、互いに結合して５員、６員、または７員の環を形成していてもよく、Ｒ₁₉とＹ₂は、互いに結合して５員、６員、または７員の環を形成していてもよい。Ｘ₅はＭａと結合可能な基を表し、ａは０、１または２を表す。）
【化４】


（一般式（５−２）中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆はそれぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。Ｒ₁₇は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｍａは、金属原子または金属化合物を表す。）
【請求項６】
請求項４または５に記載のカラーフィルタを備える液晶ディスプレイ。
【請求項７】
請求項４または５に記載のカラーフィルタを備える画像表示デバイス。

【図１】

【図２】

【公開番号】特開２０１１−２４８１９７（Ｐ２０１１−２４８１９７Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２２７０３（Ｐ２０１０−１２２７０３）
【出願日】平成２２年５月２８日（２０１０．５．２８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】