ガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法
【課題】本発明は、バッフルプレート又はバッフルプレート本体をＳｉ３Ｎ４で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、鋼帯の両面に対するめっき付着量を均一化することを目的とする。
【解決手段】本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法は、めっき槽(4)中を経て上方へ走行するめっき鋼帯(5)の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置(1)で用いるバッフルプレートにおいて、前記バッフルプレートのバッフルプレート本体(20)はＳｉ３Ｎ４で形成されている構成と方法である。
【解決手段】本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法は、めっき槽(4)中を経て上方へ走行するめっき鋼帯(5)の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置(1)で用いるバッフルプレートにおいて、前記バッフルプレートのバッフルプレート本体(20)はＳｉ３Ｎ４で形成されている構成と方法である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法に関し、特に、バッフルプレート本体をＳｉ３Ｎ４で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、鋼帯の両面に対するめっき付着量を均一化するための新規な改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、用いられていたガスワイピング装置としては、例えば、特許文献１に開示された装置構成を図８に概略図として開示することができる。
すなわち、図８において符号１で示されるものはガスワイピング装置であり、このガスワイピング装置１には互いに対向配置される第１、第２ワイピングノズル２，３が互いに離間して配設されている。
【０００３】
前記ガスワイピング装置１の下方位置には、めっき槽４が配設され、このめっき槽４中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯５は、その両面にめっき６が付着された状態で上方へ巻き取られる構成であり、各ワイピングノズル２，３からの噴出ガスの量によってめっき６の付着量を制御していた。
【０００４】
前述の場合、各ワイピングノズルの幅は、一般的にめっき鋼帯幅Ｗ（図９）より広く、その全幅からガスを噴出するように構成されている。
前述の図８の構成を平面的に示すと、図９のようになり、めっき鋼帯５のめっき鋼帯幅方向Ｗａにおける前記めっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂから外れた位置Ａ，Ｂにおいて矢印Ｇで示されるように、ワイピングガスの噴流の衝突が発生する。
【０００５】
前述の図９の前記位置Ａ，Ｂにおける噴流は、若干外向きの衝突乱流となるため、前記両端部５ａ，５ｂのめっきの溶融金属がめっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂから引き剥がされて飛散（スプラッシュと云う）され、この飛散した溶融金属は雰囲気ガスによって表面が酸化されたり、冷却により部分的に凝固してしまうなど、その物性が変化するため、めっき鋼帯５の品質低下の要因となっていた。
その発生量は、めっき鋼帯５の通過速度が上がるほど増加し、ワイピングガスの圧力が高いほど増加する。
また、衝突噴流により大きい騒音が発生し、めっき処理工程の現場では、その周囲環境が大変悪い状態となっていた。
【０００６】
前述の従来構成の課題を克服するために、例えば、特許文献２等に開示されている図１１の概略図の構成を挙げることができる。
すなわち、前記めっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂの外側には、前記めっき鋼帯５と同一面となるように配設された第１、第２バッフルプレート１０，１１が設けられており、各バッフルプレート１０，１１によりワイピングガス噴流の衝突を防止し、めっき鋼帯５の外側のワイピングガスの噴流状態をめっき鋼帯５におけるワイピングガスの噴流状態に近づけることができた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭６０−８２６５２号公報
【特許文献２】特開平１−２０８４４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来のガスワイピング装置用バッフルプレートは、以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。
すなわち、図１２に示されるように、前記めっき鋼帯５とバッフルプレート１１を近づけると、各ワイピングノズル２，３からのワイピングガスの噴流の衝突を防止する効果は大きくなるが、この状態では、図１２に示されるように、前記めっき鋼帯５とバッフルプレート１１間の衝突噴流によるスプラッシュがバッフルプレート１１に固着金属１２として付着し、そのまま固着する場合があった。
【０００９】
前述のスプラッシュによる溶融金属の固着からなる固着金属１２の状態が進行すると、ワイピングガスの噴流に大きい乱流成分Ｃ（図１２）が発生することになり、各ワイピングノズル２，３にめっきの溶融亜鉛が飛散して付着し、ワイピングガス圧が部分的に低下することによって、めっき鋼帯５のめっき付着にバラツキが生じ、溶融めっきの部分的なオーバーコートが発生していた。
また、このバッフルプレート１０，１１へのスプラッシュの固着を防止するには、バッフルプレート１１をめっき鋼帯５から離間させればよいが、前述のように、スプラッシュの発生量の増大につながるため、相反する課題となっていた。また、前記バッフルプレート１１を一般的なセラミックとする案も提供されているが、濡れ性が良いため、前述と同様の課題が発生していた。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレートは、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はＳｉ３Ｎ４で形成されている構成であり、また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられている構成であり、また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなる構成であり、また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されている構成であり、また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されている構成であり、また、前記金属板は、ステンレスからなる構成であり、また、請求項１ないし６の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いる方法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びこれを用いたガスワイピング方法は、以上のように構成されていたため、次のような効果を得ることができる。
すなわち、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はＳｉ３Ｎ４で形成されていることにより、濡れ性が低く、一般のセラミックよりもスプラッシュによる溶融金属の金属密着性が大幅に低減し、周囲環境であるワイピングガス圧及びバッフルプレート自身の振動によりスプラッシュによる溶融金属が落下するため、溶融めっき鋼帯の品質に影響を及ぼすことなく、スプラッシュの低減を図ることができる。
また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられていることにより、全体を高価なＳｉ３Ｎ４で作らなくて済み、コストダウンとなり、強度も向上し、装置への取付けも容易となる。
また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなることにより、バッフルプレート本体を金属板の保持溝部に挿入係合させて保持できるため、金属板とバッフルプレート本体を簡単かつ確実に保持して接続させることができる。
また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されていることにより、万一の交換時においても、バッフルプレート本体の交換が容易である。
また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されていることにより、破損しやすいＳｉ３Ｎ４の衝撃による破損を防止し、耐久性のあるバッフルプレートとして用いることができる。
また、前記金属板は、ステンレスからなることにより、耐久性に優れたバッフルプレートを用いることができる。
請求項１ないし６の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることにより、スプラッシュの少ない安定したガスワイピングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレートの要部の平面図である。
【図２】図１の要部を示す側面図である。
【図３】図１のバッフルプレートの他の形態の平面図である。
【図４】図３の他の形態を示す平面図である。
【図５】図４のバッフルプレート本体を示す平面図である。
【図６】図４の要部を示す側面図である。
【図７】図４の金属板を示す平面図である。
【図８】従来のワイピングノズル装置を示す正面図である。
【図９】図８の平面図である。
【図１０】図１の要部の斜視構成図である。
【図１１】図１０の構成にバッフルプレートを設けた従来構成である。
【図１２】図１１の従来構成でバッフルプレートに固着金属が付着した状態を示す拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明は、バッフルプレートをＳｉ３Ｎ４で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、めっき付着量を均一的にするようにしたガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法を提供することを目的とする。
【実施例】
【００１４】
以下、図面と共に本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法の好適な実施の形態について説明する。
尚、従来例と同一又は同等部分には、同一符号を付して説明すると共に、図１０及び図１１の従来構成についても本発明の構成に援用するものとする。
図１において符号１で示されるものはガスワイピング装置であり、このガスワイピング装置１に設けられ互いに対向しかつ離間した一対のワイピングノズル２，３間には、図８のめっき槽４中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯５が通過するように構成され、前記各ワイピングノズル２，３からのワイピングガス２ａ，３ａが前記めっき鋼帯５に吹付けられることにより、このめっき鋼帯５に付着するめっき付着量すなわち厚さを一定とするように調整する構成である。
【００１５】
前記ガスワイピング装置１のめっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂ（図１１で示す）には一対のバッフルプレート１０，１１が設けられているが、図１で図示を省略して一方のバッフルプレート１１のみを示している。
前記バッフルプレート１１は、バッフルプレート本体２０のみで構成される場合もあるが、このバッフルプレート本体２０はＳｉ３Ｎ４で形成されているため、金属板と比較すると衝撃で破損する場合があるため、図２及び図３で示されるように、バッフルプレート本体２０受けとしてのステンレス等からなる金属板２１に接続部２２Ａをなす接続板２２を介してめっき鋼帯５側に位置しＳｉ３Ｎ４からなるバッフルプレート本体２０をボルト２３によって接続して構成されている。すなわち、金属板２１をバッフルプレート本体２０の補強材として使用し、耐衝撃性が大きくなるように構成している。
【００１６】
前記金属板２１は、前記バッフルプレート本体２０を接続するための前記接続板２２と、前記金属板２１の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体２０を保持するための保持溝部２４とからなり、前記保持溝部２４は、前記金属板２１のＬ字型に形成された先端部２５に直線状に形成されている。
尚、前記保持溝部２４は直線状に形成され、前記バッフルプレート本体２０は直線部分で組み合わされたほぼ長方形状で形成されている。
【００１７】
図４から図７で示される図３のバッフルプレート１１の他の形態においては、前記バッフルプレート本体２０の一側に直線部３０及びこの直線部３０に連続する外側曲折部３１が形成されている。
前記金属板２１の一側の先端部２５側には、直線状の前記保持溝部２４に連続して曲折溝部３２が形成されている。
【００１８】
前記バッフルプレート本体２０は、前記直線部３０が前記保持溝部２４内に挿入されて嵌合し、前記外側曲折部３１が前記曲折溝部３２内に挿入されて嵌合することにより、前記バッフルプレート本体２０は前記金属板２１と接続されてバッフルプレート１１が形成される。
さらに、前記バッフルプレート本体２０と金属板２１とは、前記金属板２１に設けられた接続部２２Ａとしての複数の長手接続板３５がバッフルプレート本体２０の取付孔３６に設けられるボルト３７を介してバッフルプレート本体２０に取付けられることにより、互いに強固に一体接続されている。
尚、図４においてノズル高さＨとして表示されている位置は、前述の図１における各ワイピングノズル２，３からのワイピングガスを噴射するノズル位置を示している。
また、図７は、金属板２１からバッフルプレート本体２０を除去し、バッフルプレート本体２０を新品と交換する又は取付前のような場合を示している。
【００１９】
前記バッフルプレート本体２０は、前述のように、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）で構成されたファインセラミックよりなるセラミック板であり、一般のセラミックスと比較して耐熱衝撃性、耐化学薬品性に優れ、熱膨張率が低く、高温まで高強度であるという特性を有しており、めっき槽４のめっき液に対して十分な濡れ性を有している。
従って、金属が付着する際の４００〜７００度程度の急激な温度変化に耐えることができ、金属との熱膨張率の差が大きいため、金属（溶融めっき液）とＳｉ３Ｎ４との界面が容易に乖離し、Ｓｉ３Ｎ４の焼結組織が密な部分が表面となるように、Ａｉ３Ｎ４のバッフルプレート本体２０は表面研磨を行った後に用いた方が金属密着性が小さくなる。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びそのガスワイピング方法は、めっき鋼帯に対するめっき付着制御に限ることなく、食品や薬品等の製造ラインにも適用できる。
【符号の説明】
【００２１】
１ ガスワイピング装置
２ ワイピングノズル
２ａ ワイピングガス
３ ワイピングノズル
３ａ ワイピングガス
４ めっき槽
５ めっき鋼帯
６ めっき
１１ バッフルプレート
２０ バッフルプレート本体
２１ 金属板
２２ 接続板
２２Ａ 接続部
２４ 保持溝部
２５ 先端部
３０ 直線部
３１ 外側曲折部
３２ 曲折溝部
３５ 長手接続板
３６ 取付孔
３７ ボルト
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法に関し、特に、バッフルプレート本体をＳｉ３Ｎ４で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、鋼帯の両面に対するめっき付着量を均一化するための新規な改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、用いられていたガスワイピング装置としては、例えば、特許文献１に開示された装置構成を図８に概略図として開示することができる。
すなわち、図８において符号１で示されるものはガスワイピング装置であり、このガスワイピング装置１には互いに対向配置される第１、第２ワイピングノズル２，３が互いに離間して配設されている。
【０００３】
前記ガスワイピング装置１の下方位置には、めっき槽４が配設され、このめっき槽４中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯５は、その両面にめっき６が付着された状態で上方へ巻き取られる構成であり、各ワイピングノズル２，３からの噴出ガスの量によってめっき６の付着量を制御していた。
【０００４】
前述の場合、各ワイピングノズルの幅は、一般的にめっき鋼帯幅Ｗ（図９）より広く、その全幅からガスを噴出するように構成されている。
前述の図８の構成を平面的に示すと、図９のようになり、めっき鋼帯５のめっき鋼帯幅方向Ｗａにおける前記めっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂから外れた位置Ａ，Ｂにおいて矢印Ｇで示されるように、ワイピングガスの噴流の衝突が発生する。
【０００５】
前述の図９の前記位置Ａ，Ｂにおける噴流は、若干外向きの衝突乱流となるため、前記両端部５ａ，５ｂのめっきの溶融金属がめっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂから引き剥がされて飛散（スプラッシュと云う）され、この飛散した溶融金属は雰囲気ガスによって表面が酸化されたり、冷却により部分的に凝固してしまうなど、その物性が変化するため、めっき鋼帯５の品質低下の要因となっていた。
その発生量は、めっき鋼帯５の通過速度が上がるほど増加し、ワイピングガスの圧力が高いほど増加する。
また、衝突噴流により大きい騒音が発生し、めっき処理工程の現場では、その周囲環境が大変悪い状態となっていた。
【０００６】
前述の従来構成の課題を克服するために、例えば、特許文献２等に開示されている図１１の概略図の構成を挙げることができる。
すなわち、前記めっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂの外側には、前記めっき鋼帯５と同一面となるように配設された第１、第２バッフルプレート１０，１１が設けられており、各バッフルプレート１０，１１によりワイピングガス噴流の衝突を防止し、めっき鋼帯５の外側のワイピングガスの噴流状態をめっき鋼帯５におけるワイピングガスの噴流状態に近づけることができた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭６０−８２６５２号公報
【特許文献２】特開平１−２０８４４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来のガスワイピング装置用バッフルプレートは、以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。
すなわち、図１２に示されるように、前記めっき鋼帯５とバッフルプレート１１を近づけると、各ワイピングノズル２，３からのワイピングガスの噴流の衝突を防止する効果は大きくなるが、この状態では、図１２に示されるように、前記めっき鋼帯５とバッフルプレート１１間の衝突噴流によるスプラッシュがバッフルプレート１１に固着金属１２として付着し、そのまま固着する場合があった。
【０００９】
前述のスプラッシュによる溶融金属の固着からなる固着金属１２の状態が進行すると、ワイピングガスの噴流に大きい乱流成分Ｃ（図１２）が発生することになり、各ワイピングノズル２，３にめっきの溶融亜鉛が飛散して付着し、ワイピングガス圧が部分的に低下することによって、めっき鋼帯５のめっき付着にバラツキが生じ、溶融めっきの部分的なオーバーコートが発生していた。
また、このバッフルプレート１０，１１へのスプラッシュの固着を防止するには、バッフルプレート１１をめっき鋼帯５から離間させればよいが、前述のように、スプラッシュの発生量の増大につながるため、相反する課題となっていた。また、前記バッフルプレート１１を一般的なセラミックとする案も提供されているが、濡れ性が良いため、前述と同様の課題が発生していた。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレートは、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はＳｉ３Ｎ４で形成されている構成であり、また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられている構成であり、また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなる構成であり、また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されている構成であり、また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されている構成であり、また、前記金属板は、ステンレスからなる構成であり、また、請求項１ないし６の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いる方法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びこれを用いたガスワイピング方法は、以上のように構成されていたため、次のような効果を得ることができる。
すなわち、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はＳｉ３Ｎ４で形成されていることにより、濡れ性が低く、一般のセラミックよりもスプラッシュによる溶融金属の金属密着性が大幅に低減し、周囲環境であるワイピングガス圧及びバッフルプレート自身の振動によりスプラッシュによる溶融金属が落下するため、溶融めっき鋼帯の品質に影響を及ぼすことなく、スプラッシュの低減を図ることができる。
また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられていることにより、全体を高価なＳｉ３Ｎ４で作らなくて済み、コストダウンとなり、強度も向上し、装置への取付けも容易となる。
また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなることにより、バッフルプレート本体を金属板の保持溝部に挿入係合させて保持できるため、金属板とバッフルプレート本体を簡単かつ確実に保持して接続させることができる。
また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されていることにより、万一の交換時においても、バッフルプレート本体の交換が容易である。
また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されていることにより、破損しやすいＳｉ３Ｎ４の衝撃による破損を防止し、耐久性のあるバッフルプレートとして用いることができる。
また、前記金属板は、ステンレスからなることにより、耐久性に優れたバッフルプレートを用いることができる。
請求項１ないし６の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることにより、スプラッシュの少ない安定したガスワイピングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレートの要部の平面図である。
【図２】図１の要部を示す側面図である。
【図３】図１のバッフルプレートの他の形態の平面図である。
【図４】図３の他の形態を示す平面図である。
【図５】図４のバッフルプレート本体を示す平面図である。
【図６】図４の要部を示す側面図である。
【図７】図４の金属板を示す平面図である。
【図８】従来のワイピングノズル装置を示す正面図である。
【図９】図８の平面図である。
【図１０】図１の要部の斜視構成図である。
【図１１】図１０の構成にバッフルプレートを設けた従来構成である。
【図１２】図１１の従来構成でバッフルプレートに固着金属が付着した状態を示す拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明は、バッフルプレートをＳｉ３Ｎ４で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、めっき付着量を均一的にするようにしたガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法を提供することを目的とする。
【実施例】
【００１４】
以下、図面と共に本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法の好適な実施の形態について説明する。
尚、従来例と同一又は同等部分には、同一符号を付して説明すると共に、図１０及び図１１の従来構成についても本発明の構成に援用するものとする。
図１において符号１で示されるものはガスワイピング装置であり、このガスワイピング装置１に設けられ互いに対向しかつ離間した一対のワイピングノズル２，３間には、図８のめっき槽４中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯５が通過するように構成され、前記各ワイピングノズル２，３からのワイピングガス２ａ，３ａが前記めっき鋼帯５に吹付けられることにより、このめっき鋼帯５に付着するめっき付着量すなわち厚さを一定とするように調整する構成である。
【００１５】
前記ガスワイピング装置１のめっき鋼帯５の両端部５ａ，５ｂ（図１１で示す）には一対のバッフルプレート１０，１１が設けられているが、図１で図示を省略して一方のバッフルプレート１１のみを示している。
前記バッフルプレート１１は、バッフルプレート本体２０のみで構成される場合もあるが、このバッフルプレート本体２０はＳｉ３Ｎ４で形成されているため、金属板と比較すると衝撃で破損する場合があるため、図２及び図３で示されるように、バッフルプレート本体２０受けとしてのステンレス等からなる金属板２１に接続部２２Ａをなす接続板２２を介してめっき鋼帯５側に位置しＳｉ３Ｎ４からなるバッフルプレート本体２０をボルト２３によって接続して構成されている。すなわち、金属板２１をバッフルプレート本体２０の補強材として使用し、耐衝撃性が大きくなるように構成している。
【００１６】
前記金属板２１は、前記バッフルプレート本体２０を接続するための前記接続板２２と、前記金属板２１の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体２０を保持するための保持溝部２４とからなり、前記保持溝部２４は、前記金属板２１のＬ字型に形成された先端部２５に直線状に形成されている。
尚、前記保持溝部２４は直線状に形成され、前記バッフルプレート本体２０は直線部分で組み合わされたほぼ長方形状で形成されている。
【００１７】
図４から図７で示される図３のバッフルプレート１１の他の形態においては、前記バッフルプレート本体２０の一側に直線部３０及びこの直線部３０に連続する外側曲折部３１が形成されている。
前記金属板２１の一側の先端部２５側には、直線状の前記保持溝部２４に連続して曲折溝部３２が形成されている。
【００１８】
前記バッフルプレート本体２０は、前記直線部３０が前記保持溝部２４内に挿入されて嵌合し、前記外側曲折部３１が前記曲折溝部３２内に挿入されて嵌合することにより、前記バッフルプレート本体２０は前記金属板２１と接続されてバッフルプレート１１が形成される。
さらに、前記バッフルプレート本体２０と金属板２１とは、前記金属板２１に設けられた接続部２２Ａとしての複数の長手接続板３５がバッフルプレート本体２０の取付孔３６に設けられるボルト３７を介してバッフルプレート本体２０に取付けられることにより、互いに強固に一体接続されている。
尚、図４においてノズル高さＨとして表示されている位置は、前述の図１における各ワイピングノズル２，３からのワイピングガスを噴射するノズル位置を示している。
また、図７は、金属板２１からバッフルプレート本体２０を除去し、バッフルプレート本体２０を新品と交換する又は取付前のような場合を示している。
【００１９】
前記バッフルプレート本体２０は、前述のように、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）で構成されたファインセラミックよりなるセラミック板であり、一般のセラミックスと比較して耐熱衝撃性、耐化学薬品性に優れ、熱膨張率が低く、高温まで高強度であるという特性を有しており、めっき槽４のめっき液に対して十分な濡れ性を有している。
従って、金属が付着する際の４００〜７００度程度の急激な温度変化に耐えることができ、金属との熱膨張率の差が大きいため、金属（溶融めっき液）とＳｉ３Ｎ４との界面が容易に乖離し、Ｓｉ３Ｎ４の焼結組織が密な部分が表面となるように、Ａｉ３Ｎ４のバッフルプレート本体２０は表面研磨を行った後に用いた方が金属密着性が小さくなる。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びそのガスワイピング方法は、めっき鋼帯に対するめっき付着制御に限ることなく、食品や薬品等の製造ラインにも適用できる。
【符号の説明】
【００２１】
１ ガスワイピング装置
２ ワイピングノズル
２ａ ワイピングガス
３ ワイピングノズル
３ａ ワイピングガス
４ めっき槽
５ めっき鋼帯
６ めっき
１１ バッフルプレート
２０ バッフルプレート本体
２１ 金属板
２２ 接続板
２２Ａ 接続部
２４ 保持溝部
２５ 先端部
３０ 直線部
３１ 外側曲折部
３２ 曲折溝部
３５ 長手接続板
３６ 取付孔
３７ ボルト
【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき槽(4)中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯(5)の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置(1)で用いるバッフルプレート本体(20)からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、
前記バッフルプレート本体(20)はＳｉ３Ｎ４で形成されていることを特徴とするガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項２】
前記バッフルプレート本体(20)は、金属板(21)に取付けられていることを特徴とする請求項１記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項３】
前記金属板(21)は、前記バッフルプレート本体(20)を接続するための接続部(22A)と、前記金属板(21)の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体(20)を保持するための保持溝部(24)と、からなることを特徴とする請求項２記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項４】
前記接続部(22A)は、複数の長手接続板(35)又は一枚の接続板(22)からなり、前記各長手接続板(35)又は一枚の接続板(22)及びボルト(23)によって前記金属板(21)とバッフルプレート本体(20)は接続されていることを特徴とする請求項３記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項５】
前記保持溝部(24)の先端部(25)は、前記バッフルプレート本体(20)の外側曲折部(31)の形状に沿って曲折する曲折溝部(32)を有し、前記バッフルプレート本体(20)の一側の直線部(30)及び前記直線部(30)に続く外側曲折部(31)が前記曲折溝部(32)に挿入されていることを特徴とする請求項３又は４記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項６】
前記金属板(21)は、ステンレスからなることを特徴とする請求項２ないし５の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項７】
請求項１ないし６の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることを特徴とするガスワイピング方法。
【請求項１】
めっき槽(4)中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯(5)の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置(1)で用いるバッフルプレート本体(20)からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、
前記バッフルプレート本体(20)はＳｉ３Ｎ４で形成されていることを特徴とするガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項２】
前記バッフルプレート本体(20)は、金属板(21)に取付けられていることを特徴とする請求項１記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項３】
前記金属板(21)は、前記バッフルプレート本体(20)を接続するための接続部(22A)と、前記金属板(21)の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体(20)を保持するための保持溝部(24)と、からなることを特徴とする請求項２記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項４】
前記接続部(22A)は、複数の長手接続板(35)又は一枚の接続板(22)からなり、前記各長手接続板(35)又は一枚の接続板(22)及びボルト(23)によって前記金属板(21)とバッフルプレート本体(20)は接続されていることを特徴とする請求項３記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項５】
前記保持溝部(24)の先端部(25)は、前記バッフルプレート本体(20)の外側曲折部(31)の形状に沿って曲折する曲折溝部(32)を有し、前記バッフルプレート本体(20)の一側の直線部(30)及び前記直線部(30)に続く外側曲折部(31)が前記曲折溝部(32)に挿入されていることを特徴とする請求項３又は４記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項６】
前記金属板(21)は、ステンレスからなることを特徴とする請求項２ないし５の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。
【請求項７】
請求項１ないし６の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることを特徴とするガスワイピング方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１２−１４０６９３（Ｐ２０１２−１４０６９３Ａ）
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０８４（Ｐ２０１１−１０８４）
【出願日】平成２３年１月６日（２０１１．１．６）
【出願人】（０００００４５８１）日新製鋼株式会社 (1,178)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１月６日（２０１１．１．６）
【出願人】（０００００４５８１）日新製鋼株式会社 (1,178)
【Ｆターム（参考）】
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