ガス放電レーザチャンバの改善
【課題】ハイパワー高出力パルス繰返し数高安定性ＵＶ光源、例えばＤＵＶ光の生成において用いられるガス放電レーザを提供する。
【解決手段】開示された場合の方法及び機器は、ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源を含むことができ、この光源は、垂直壁及び隣接する底部壁を含む内壁を含むガス放電チャンバと、内部垂直壁及び隣接する底部壁に隣接するガス流路を作り出すためのガス循環ファンと、内壁に沿うことができ、かつ少なくとも１つのメッシュ状スクリーン、例えば少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含むことができる複数のメッシュ状スクリーンを含むことができる低ガス流量の領域に配置されたチャンバ内ダストトラップとを含むことができる。ダストトラップは、チャンバの底部内壁及び／又は内壁の垂直部分に沿って延びることができる。ダストトラップは、第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、第１のメッシュ状スクリーンと内壁の間にあり、第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンとを含むことができる。チャンバは、単一部分凹部と、互いに対して角度の付いた２つの区域を含むことができる複数部分凹部とを含む群から選択することができる、チャンバの垂直内壁及び底部壁の少なくとも一方にある複数のダスト収集凹部を含むことができる。ダストトラップは、主絶縁体の一部分とチャンバの内壁との間に配置された圧力トラップを含むことができる。チャンバは、渦制御ポケットを含むことができるファン遮断器を有する交差流ファンを含むガス循環ファンを含むことができる。チャンバは、柔軟部材を含むことができる予備電離管内の細長い開口部内の接地ロッドを収容する予備電離管を含む予備電離機構、自動予備電離遮断機構、予備電離開始制御機構、及び／又は集束要素を含むことができる。チャンバは、細長いバッフル板を含むことができ、このバッフル板は、複数のピラミッド状構造を含むことができ、この構造は、様々な個数のほぼピラミッド状の要素を含み、様々な個数のほぼピラミッド状の要素の群として配向され、かつ縦軸線に沿って及びそれと横断方向に配向されている。チャンバ内の音響共振はまた、レーザ放電のタイミングの中に人工的なジッターを導入し、パルス間周期をランダムに又はバースト内のパルスからパラスに反復するパターンで変化させることによっても低減することができる。
【解決手段】開示された場合の方法及び機器は、ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源を含むことができ、この光源は、垂直壁及び隣接する底部壁を含む内壁を含むガス放電チャンバと、内部垂直壁及び隣接する底部壁に隣接するガス流路を作り出すためのガス循環ファンと、内壁に沿うことができ、かつ少なくとも１つのメッシュ状スクリーン、例えば少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含むことができる複数のメッシュ状スクリーンを含むことができる低ガス流量の領域に配置されたチャンバ内ダストトラップとを含むことができる。ダストトラップは、チャンバの底部内壁及び／又は内壁の垂直部分に沿って延びることができる。ダストトラップは、第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、第１のメッシュ状スクリーンと内壁の間にあり、第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンとを含むことができる。チャンバは、単一部分凹部と、互いに対して角度の付いた２つの区域を含むことができる複数部分凹部とを含む群から選択することができる、チャンバの垂直内壁及び底部壁の少なくとも一方にある複数のダスト収集凹部を含むことができる。ダストトラップは、主絶縁体の一部分とチャンバの内壁との間に配置された圧力トラップを含むことができる。チャンバは、渦制御ポケットを含むことができるファン遮断器を有する交差流ファンを含むガス循環ファンを含むことができる。チャンバは、柔軟部材を含むことができる予備電離管内の細長い開口部内の接地ロッドを収容する予備電離管を含む予備電離機構、自動予備電離遮断機構、予備電離開始制御機構、及び／又は集束要素を含むことができる。チャンバは、細長いバッフル板を含むことができ、このバッフル板は、複数のピラミッド状構造を含むことができ、この構造は、様々な個数のほぼピラミッド状の要素を含み、様々な個数のほぼピラミッド状の要素の群として配向され、かつ縦軸線に沿って及びそれと横断方向に配向されている。チャンバ内の音響共振はまた、レーザ放電のタイミングの中に人工的なジッターを導入し、パルス間周期をランダムに又はバースト内のパルスからパラスに反復するパターンで変化させることによっても低減することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２００４年３月３１日出願の「ガス放電レーザチャンバの改善」という名称の米国特許出願出願番号第１０／８１５，３８７号に対して優先権を主張するものであり、ガス放電レーザ、例えば集積回路リソグラフィ製造工程における集積回路フォトレジストの露光のためのハイパワー高出力パルス繰返し数高安定性ＵＶ光源、例えばＤＵＶ光の生成において用いられるものに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばレーザガス中にフッ素を利用するガス放電レーザ、例えばＫｒＦ、ＡｒＦ、及びＦ2ガス放電レーザでは、例えばレーザガス放電チャンバ内のフッ素と金属成分との相互作用などによる例えばフッ化金属の形態のデブリ生成への強い傾向があることは公知である。これは、特にガス放電中に発生し、例えばその間に放電が起こる電極内の金属材料により、放射線を発生する化学及び電気的現象であるガス放電を引き起こす可能性がある。そのようなガス放電レーザは、特に、選択された望ましい中心波長、例えば、ＫｒＦガス放電レーザにおいては約２４８ｎｍ、ＡｒＦガス放電レーザにおいては約１９３ｎｍ又はその近くで用いることができる。このデブリは、時間と共にレーザチャンバの光学構成要素、例えばチャンバ窓のようなものに付着する可能性があり、これは、いくつかの理由、例えば光学器械からの望ましくないレーザ光反射、及び／又は光学器械を通るレーザ光透過の遮蔽によって出力パワーの低減を引き起こす可能性がある。これは、例えば、望ましくない高い放電電圧でのレーザ作動の必要性を引き起こし、例えばレーザチャンバ寿命の低減をもたらす可能性がある。更に、とりわけフルエンスレベル及び波長に依存する一部の条件の下では、付着したデブリは、例えば光学要素上の局所化した高い吸収を引き起こし、例えば高フルエンスのＤＵＶ光の下での光学要素の通常よりも早期の故障をもたらす可能性がある。しかし、更に重要なことに、流動ガス中に同伴されたダストは、例えば散乱損失を引き起こす可能性がある。気象関連の「猛吹雪」に類似したこの現象は、ガス放電レーザの電極間のガス放電に発生した光子の強い散乱を引き起こす可能性があり、そのためにこれらの光子は、放電中に励起ガス媒体内で適度のレーザ発振を引き起こすのに十分な量でレーザ共振空洞内のミラーに到達しない。ダスト含有量が十分に高い場合は、これは、所定の１つ又は複数のパルスにおいてレーザ発振が全く発生しないほど十分に有意になる可能性がある。この現象は、例えば数１０億ショットと測定されるチャンバ寿命にわたってダストがチャンバ内に蓄積する時に頻度及び可能性が増し、最終的に産業界で老年症候群（ＯＡＳ）と呼ばれるものをもたらすか、又は少なくともそれに有意に貢献する可能性があり、この開始は、例えば必要な出力レーザパルスエネルギ（線量）を維持するためのチャンバ交換を一般的に必要とし、また、例えばリソグラフィツール製造業者からの益々強まる要求によって生じているパルス間のパラメータの安定性要件のような他の要件によっても影響を受けるであろう。
【０００３】
ガス放電レーザシステムの当業技術では、チャンバガスが、デブリトラップを通じてチャンバから流出してチャンバに流入して戻るように、チャンバから出てチャンバに戻る入口及び出口ポートを有するデブリ／ダストトラップをレーザガス放電チャンバの外部に備えることが公知である。例えば、本出願人の譲受人は、例えば１９９１年５月２１日にＡｋｉｎｓ他に付与された「小型エキシマレーザ」という名称の米国特許第５，０１８，１６１号に示すように、また、例えば同じく７０００シリーズ及びＸＬＡシリーズレーザに示すように、例えば発生レーザ光のための出力窓の近くに、洗浄されたガスでその窓の区域を洗い流すトラップ吸気口及びトラップ排気口を有するいわゆるフッ化金属トラップ（ＭＦＴ）を有するガス放電レーザシステムを販売している。そのような外部トラップは、静電性である場合があり、そのようなレーザシステム利用の経済性に加えて余分な費用及び電力消費を必要とする。また、１９９４年１２月１３日にＦｕｊｉｍｏｔｏに付与された「エキシマレーザ機器」という名称の米国特許第５，３７３，５２３号も、レーザガス放電チャンバ側の外部ダストトラップを示している。２０００年８月２８日出願の特許出願出願番号第０９／６４８，６３０号に基づく２００３年５月２７日にＹａｂｕ他に付与された「ガスレーザ装置」という名称の米国特許第６，５７０，８９９号は、外部デブリトラップの別の形態を示している。
【０００４】
これらの種類の外部トラップは嵩もあり、充満して詰まる傾向があって交換を必要とするか、又は望ましくないＯＡＳイベント、例えばゼロ又は低パルスエネルギレーザ発振が発生している例えば「汚染」ガスによる数１０億のレーザ出力パルス（ショット）の作動にわたって検出されない作動を潜在的に許している。更に、それらは、放電時の電極間のガス中のデブリの存在による放電への悪影響を阻止するために、十分に速く、例えば４Ｋ及びそれよりも大きい高い繰返し数で、及び特に例えば６Ｋ及び８Ｋ及びそれよりも高いレベルでレーザガス放電チャンバ内を循環するガスからデブリを除去することができない場合があり、これは、例えば放電間で可変であり、結果として帯域幅及び波長安定性、ビーム形状、及び空間コヒーレンス安定性などのようなものに有害な効果をもたらすものである。
【０００５】
中心波長、帯域幅、及び線量のようなものに必要とされる益々厳密な制御と共にレーザ光パルス出力繰返し数が増しており、かつ例えば集積回路リソグラフィ光源の要求に対応するためにレーザ出力光パルスのそのような特性の安定性が必要となっているので、循環ガスからのデブリ、例えばフッ化金属ダストなどを有効に効率的かつ迅速に除去することが更に一層重要になってきた。
電極間で例えばガス放電チャンバ内の放電間のガスからのデブリ除去は、非常に高いファンモータ速度を必要する可能性があり、これは、両方ともチャンバガスへの温度及び振動を追加し、これは、レーザ出力光パラメータ要件の充足を妨害し、及び／又は時間にわたって、異なる負荷サイクルにわたって、及び異なる出力光パルス繰返し数にわたって安定性の維持を妨害する可能性がある。ガス中のより多くのデブリは、光学要素、例えばチャンバ窓上のデブリの堆積速度を増大させ、光学要素の性能低下及び／又は故障に寄与し、望ましいより頻繁な交換を必要とする可能性がある。これらの理由により、超高繰返し数狭帯域ガス放電レーザのための改良型デブリ除去システム及び方法に対する必要性が存在する。本発明の実施形態の態様によると、本出願人は、レーザガス放電チャンバにおけるガス循環流路内で循環するガスからのデブリ除去の付加的で低費用で容易に実施されかつ非常に信頼性の高い手段を提案する。これはまた、例えば、チャンバ窓領域への洗浄されたガスの供給を維持することが主な機能であるＭＦＴの寿命を延長するものである。
【０００６】
また、ガス放電レーザ光源の当業技術では、電極間のガス中の化学及び電気的変化を発生させるガス放電電極間のガス放電領域の予備電離を利用することも公知である。電極間の電気エネルギの各放電は、例えば発振器共振空洞又は増幅チャンバにおいてレーザ光放出及び／又は増幅を引き起こし、例えば、主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）構成における発振器チャンバからの狭帯域ビーム出力を増幅する。予備電離は、ガス放電領域の近くに配置された１つ又はそれよりも多くの予備電離管を有する本出願人の譲受人によって販売されている例えばレーザにおいて行うことができる。予備電離管は、例えばコロナ放電を通じてＵＶ及びＸ線放射線を発し、それによって電極間のガス中の光電離を通じて電子が作り出され、電極間のガス中の放電の開始を助ける。本出願人は、電子の大部分がガス放電領域ではなく予備電離管の領域で形成されるので、ガス放電領域における光電離は理想よりも劣ると判断した。そのような電子分布の空間的不均一性は、特にレーザ出力パルスのバーストの初期においてエネルギ安定性への逆効果に寄与すると本出願人は考えている。従って、本出願人は、本発明の実施形態の態様によって予備電離の改善のためのある一定の方法及び機器を提案する。本出願人はまた、予備電離のためのいくつかの他の改善を提案する。
【０００７】
更に、例えばガス循環ファンからのものを含むガス放電チャンバで生成及びそれを通して伝達される音響波面の様々な発生源によって引き起こされる可能性があるレーザにおける音響の影響は、放電領域における放電の適正な形成、例えば放電の水平又は垂直軸における均一性を妨害する可能性があることは公知である。本出願人は、本明細書において、例えば放電形状に対するそのような悪影響の大部分を緩和又は排除する方法を提案する。
【０００８】
ガス放電レーザの作動に直面する別の問題は、特に、例えばリソグラフィ光源に対する要件が、今までよりも一層狭い帯域幅、帯域幅安定性、及びショット間の中心波長安定性、ショット間又は例えばショットのバースト内の平均で少なくとも複数のショットにわたるパワー（線量）安定性を必要とするので、ショット間の再現性へのチャンバの音響の影響におけるものである。再現性に対するそのような要件は、例えば本質的に全く同一のガス放電条件を要求するであろう。上述のガスのデブリ含有量の変動性に加えて、変動性の他の可能な発生源があり、例えば、ガス放電チャンバ内のこれらの音響変動の２つの主な発生源は、ガス循環ファンの回転及びある程度はその内部の振動から発生する衝撃波、並びに以前の放電によって作り出されてその後の放電に間に合って反射して放電に戻り、かつその後の放電の長さ全体に実質的に影響するように通常は放電の縦軸線に整列してもいる音響波である。
【０００９】
本発明の実施形態の態様により、本出願人は、高繰返し数（例えば、４ＫＨｚ＋）、高電力（例えば、４０Ｗ＋）、及び例えばＡｒＦに対して半値全幅（ＦＷＨＭ）で＜約０．２５ｐｍ帯域幅及びＡｒＦに対して＜１．２ｐｍのＥ９５％、及びＫｒＦに対して０．３５ｐｍのＦＷＨＭ及び１．５ｐｍのＥ９５％未満の狭帯域のレーザ光源に対するこれらの悪影響の緩和のためのある一定の方法及び機器を提案している。上述したものに加えて、要件は、より厳しい線量安定性要件、例えば高密度線に対して±約０．３％及び孤立線に対してそれよりも少ない値、波長安定性、例えば±０．１ｐｍ、３σ、帯域幅安定性、例えば±０．０５ｐｍ、ＦＷＨＭ、３σに対するものであり、これらの全ては、形態サイズ（「臨界寸法」、「ＣＤ」）が減少し続け、結果としてｋ1の減少を生じ、それと共に処理量及び従って線量要件が増大する時により一層厳しい要件になることになる。
【００１０】
【特許文献１】米国特許出願出願番号第１０／８１５，３８７号
【特許文献２】米国特許第５，０１８，１６１号
【特許文献３】米国特許第５，３７３，５２３号
【特許文献４】米国特許出願出願番号第０９／６４８，６３０号
【特許文献５】米国特許第６，５７０，８９９号
【発明の開示】
【００１１】
開示された場合の方法及び機器は、ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源を含むことができ、この光源は、垂直壁及び隣接する底部壁を含む内壁を含むガス放電チャンバと、内部垂直壁及び隣接する底部壁に隣接するガス流路を作り出すためのガス循環ファンと、内壁に沿うことができ、かつ少なくとも１つのメッシュ状スクリーン、例えば少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含むことができる複数のメッシュ状スクリーンを含むことができる低ガス流量の領域に配置されたチャンバ内ダストトラップとを含むことができる。ダストトラップは、チャンバの底部内壁及び／又は内壁の垂直部分に沿って延びることができる。ダストトラップは、第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、第１のメッシュ状スクリーンと内壁の間にあり、第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンとを含むことができる。チャンバは、単一部分凹部と、互いに対して角度の付いた２つの区域を含むことができる複数部分凹部とを含む群から選択することができる、チャンバの垂直内壁及び底部壁の少なくとも一方にある複数のダスト収集凹部を含むことができる。ダストトラップは、主絶縁体の一部分とチャンバの内壁との間に配置された圧力トラップを含むことができる。チャンバは、渦制御ポケットを含むことができるファン遮断器を有する交差流ファンを含むガス循環ファンを含むことができる。チャンバは、柔軟部材を含むことができる予備電離管内の細長い開口部内の接地ロッドを収容する予備電離管を含む予備電離機構、自動予備電離遮断機構、予備電離開始制御機構、及び／又は集束要素を含むことができる。チャンバは、細長いバッフル板を含むことができ、このバッフル板は、複数のピラミッド状構造を含むことができ、この構造は、様々な個数のほぼピラミッド状の要素を含み、様々な個数のほぼピラミッド状の要素の群として配向され、かつ縦軸線に沿って及びそれと横断方向に配向されている。チャンバ内の音響共振はまた、レーザ放電のタイミングの中に人工的なジッターを導入し、パルス間周期をランダムに又はバースト内のパルスからパラスに反復するパターンで変化させることによっても低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
ここで図１を参照すると、本発明の実施形態の態様によるガス放電レーザシステムのガス放電チャンバ２０が示されている。チャンバ２０は、例えば、チャンバ上側半分２２及びチャンバ下側半分２４から構成することができ、これらは、ボルト締めのような適切な手段によって互いに接続した時にチャンバ内部２６を形成する役割を達成する。チャンバ上側半分２２及びチャンバ下側半分はまた、例えば、チャンバ内部垂直壁２８を形成し、チャンバ下側半分２４は、チャンバ内部水平底部壁２９を形成する。
【００１３】
同じくチャンバ２６内に収容されているのは、例えば、２つの細長い対向する電極であるカソード３０及びアノード３２を含み、その間にガス放電領域３４を形成したガス放電システムであり、カソード３０とアノード３２の間に存在する十分な電圧に応答して、同じく細長い放電領域３４にある電極間のガスが通電し、電離した放電プラズマ内である一定の化学及び電気反応が生じ、結果として例えば、固有中心波長又はその近くにおける放射線の生成を生じ、これは、電極３０、３２の縦軸線にほぼ整列した出力レーザ光パルスの光軸に沿って光学的に導かれる。
【００１４】
また、チャンバ２６内には、セラミック材料のような適切な誘電体材料などから作ることができる例えばアノード支持体３６、及び黄銅のような適切な導電材料から作ることができるアノード支持棒３８があり、アノードは、複数の電流帰還部４６を通じてチャンバ上側半分２２に接続することができ、例えば、チャンバ上部２２は、チャンバ底部２４と共に共通電圧、例えば接地電圧に保たれる。
カソード３０は、主絶縁体４４を貫通する例えば高電圧フィードスルー４２によって例えば放電高電圧フィードスルーアセンブリ４０に接続することができる。主絶縁体４４は、カソードのチャンバ上側半分２２からの電気的隔離を保つことができる。
【００１５】
また、チャンバ内部２６内には、例えばカソード３０の近くに、例えば予備電離器５０がある場合がある。予備電離器５０は、黄銅のような適切な導電材料から作ることができる例えば接地ロッド５２を含むことができ（図７、１１、及び１２により詳細に示されている）、例えばセラミックのような適切な誘電体材料で作ることができる例えば空洞の円筒形予備電離器の管５４の内部に実質的に密封することができる。予備電離器５０は、カソード３０及びアノード３２、及び従って同様に放電範領域３４の縦方向中心線軸にほぼ平行な例えば円筒形の中心線軸を有することができる。予備電離器５０は、作動においては、例えばカソード３０と接地ロッド５２の間の電圧差に基づいて機能することができる。更に、予備電離器５０は、図１１及び１２により詳細に示されている導電シム５６間の電位差によって作動し、この導電シム５６は、実質的に予備電離器５０の長さに沿って又は少なくとも実質的にカソード３０の全長に沿って予備電離器５０と主絶縁体４４の間の空間を占有しており、カソード３０との電気接触を有する。
【００１６】
また、ガス放電チャンバ２６内には、例えばガス循環ファン６０を含む例えばガス循環システムがあり、このファンは、例えばほぼ円筒形の交差流ファン６０とすることができる。ファン６０は、例えば、電離した粒子及びデブリ、及び激減したＦ2などを含有するガスを連続するガス放電とガス放電の間に放電領域３４から除去し、次の連続するガス放電の前にＦ2などを含有する例えば新たなガスで放電領域を補充するために、例えば図１のような断面図に見られるようなほぼ円形の方式でチャンバ内部２６内のガスを移動させる役割を達成する。ガス循環システムはまた、放電及びファン６０の作動などによってガスに加えられる熱を除去するためにほぼ円形のガス流路に複数の熱交換器７０を含むことができる。
【００１７】
ガス循環システムはまた、例えば、複数の湾曲隔壁８０及び流れ誘導ベーン６２を有することができ、これらは、例えば放電領域３４から熱交換器７０へ、更に最終的にファン６０の取り入れ口へ、並びにファン６０の出口から放電領域３４へとそれぞれほぼ円形のガス流路を成形する役割を達成することができる。
チャンバ２６はまた、当業技術で公知であるフッ化金属トラップ９０を有することができるが、本発明の実施形態の態様は、可能な場合にＭＦＴを置換するためのものである。
チャンバ２０の底部２４の例えば水平底部内壁２９に沿って同様にチャンバ内部２６に含まれるものは、例えばダストトラップ１００とすることができる。ガス循環と共に循環し、肉眼でダスト状又はリント状に見える主にフッ化金属物質のような様々な形態のデブリをダストによって意味することが理解されるであろう。
【００１８】
本発明の実施形態の態様によるダストトラップ１００は、一例として図２Ａ〜Ｄへの参照によって示すことができる。図２Ａ〜Ｄに示すように、ダストトラップ１００は、例えば少なくとも１つのメッシュ状要素、例えば１ｍｍ開口部の第１のゲージ及び例えば１ｍｍ分離の第１のピッチを有するワイヤ状メッシュ１０２で構成することができ、更に、例えば黄銅などの適切な金属材料のようなワイヤから作られている垂直メッシュ部材１０２ａ及び水平メッシュ部材１０２ｂから構成することができる。各ワイヤは、例えばワイヤゲージ、すなわち、直径例えば１００μｍのものを有することができる。編み合わされた水平メッシュ部材１０２ｂ及び垂直メッシュ部材１０２ａは、メッシュ開口部を形成することができ、本発明の実施形態の態様に従って直線で囲まれているように示されているが、三角形及び／又は正方形、又は矩形のようなあらゆる適切なメッシュ状形状のものを採用することができることは理解されるものとする。
【００１９】
ダストトラップ１００はまた、第１のメッシュ状要素１０２に類似していてもよいが、例えば１００μｍ開口部及び１００μｍ分離の第１のものよりも小さい第２のゲージ及びピッチを含むことができる第２のメッシュ状要素、例えば１０４を含むことができる。第２のメッシュ状要素１０４はまた、それぞれのワイヤゲージ又は複数のゲージ、例えば直径１０μｍを有する水平メッシュワイヤ１０４ｂ及び垂直メッシュワイヤ１０４ａを有することができ、あらゆる可能な適切形状のメッシュ開口部１０８を形成することも理解されるであろう。第１及び第２のメッシュ状要素１０２、１０４は、異なる形状のメッシュ開口部を有することができる。本発明の実施形態の態様によると、ゲージ、ピッチ、開口部形状、及びワイヤゲージサイズなどが変わる２つよりも多い異なるメッシュ状要素を有することも可能である。
【００２０】
ここで図２Ｃ及びＤを参照すると、本発明の実施形態の態様による多くの可能なメッシュ状要素、例えば１０２、１０４の構成のうちの２つが例示的に示されている。図２Ｃでは、例えばほぼ同一の厚みであるが、例えばゲージ、ワイヤゲージサイズ、開口部形状などが異なるメッシュ状要素１０２、１０４が、例えば４層実施形態では一方のものが他方の上になるように重ねられている実施形態が示されている。図２Ｃに示されているメッシュ状要素１０２、１０４は、上述の点の１つ又はそれよりも多くにおいて異なる可能性があり、パターンは、例えば６層実施形態では、例えば第３層毎に繰り返すことができることも理解されるであろう。すなわち、ダストトラップ１００は、開口部サイズが狭くなっているなど、最初の３つが互いに異なっており、次の３つが最初の３つの繰返しである例えば６層を含むことができる。ダストトラップ１００は、例えば上述のような最初の３つのそのような層だけを含むことができると考えられることも理解されるであろう。
【００２１】
図２Ｄを参照すると、本発明の別の実施形態の態様が示されている。図２Ｄには、垂直方向（この方向は、図２Ｄにおいて例示的な目的のために示されている）において異なる厚みのメッシュ状要素、例えば１０２、１０４が重ねられてダストトラップ１００’を形成する実施形態が例示的に示されている。図２Ｃと同様に、様々なメッシュ状要素１０２、１０４は、厚みの変更を別として上述の態様において同一とすることができ、又は互いに異なることもできることが理解されるであろう。図２Ｄに示すように、ダストトラップ１００’は、付加的な肉厚なメッシュ状要素１０２の上部に置かれた２つの交互になっている肉薄（１０４）及び肉厚（１０２）のメッシュ状要素を含む。簡単化のために、図２Ｄに示されている肉厚のメッシュ状要素は、図２Ａで示されている大きいメッシュ状要素１０２として示されているが、この通りである必要はなく、図２Ｄに示されている肉厚のメッシュ状要素の１つ又はそれよりも多くは、より小さいゲージ及び／又はピッチ及び／又はワイヤゲージサイズのものとすることができることも理解されるであろう。
【００２２】
図３Ａ〜Ｃは、ダスト捕獲器／収集器要素、例えば１３０、１３２、１３４を例えばチャンバ２０の内壁部分、例えば２８、２９内に形成することができる本発明の実施形態の態様を示している。本発明の実施形態の態様によると、要素１３０、１３４は、第１の部分１３０ａ、１３４ａ、及びそれぞれの第１の部分１３０ａ、１３４ａから角度が付けられた方向に延びている第２の部分１３０ｂ、１３４ｂを含むことができ、要素１３２は、例えば、それぞれの部分、例えばチャンバ２０の壁２８、２９に形成された単一部分のみを有することができる。
【００２３】
図３Ｃは、ダスト捕獲器／収集器、例えば１３０、１３２が、図示のように例えば図３Ｃの上から下へ向う流れがある状態で例えばチャンバ２０の壁、例えば壁２８に沿ってランダムにサイズ決定、配置、及び配向することができることを概略的に示している。例えば、ツーピース捕獲器／収集器１３０は、例えば壁２８（これは、同様に例えば底部２９とすることができることが理解されるであろう）に沿って異なる高さに間隔を空けることができ、水平方向に異なる幅を有し（この方向は、図３Ｃにおいてページの水平方向として示されている）、例えば斜めにさえ配向することができる。本発明の実施形態の態様によると、図示の壁、例えば壁２８は、図示の捕獲器／収集器１３０、１３２と共に回転することができ、それによって流れは、そのように回転されても依然図の上から下へ向うが、図３Ｃに示されている開口部１３０、１３２に９０度（又は、恐らくは例えば４５度でさえも）の角度で流入することが理解されるであろう。同じく示されているものは、ツーピース捕獲器／収集器、例えば１３０を一体構造のもの１３２と混ぜ合わせる可能性である。
【００２４】
図３Ｂは、例えばダストトラップ１００をダスト捕獲器及び収集器要素、例えば１３２、１３４と組合せることができる本発明の実施形態の態様を示している。図１は、ダストトラップ１００が、例えば水平方向に延びている（この方向は、図１に例示的な目的のために示されている）チャンバの床部２９に静置（又は、適切に付着）されている本発明の実施形態の態様を示しており、図５は、ダストトラップ１００’’がチャンバ２０の底部２９及び垂直側壁２８の両方に配置されている本発明の実施形態の態様を示している。
【００２５】
作動において、上述のダスト収集器／トラップは、チャンバ内部２６内のガス循環へのインピーダンスを著しく増大させることなくガス流中のデブリの平衡粒子密度を最小にする効果を有する。これは、例えば４ＫＨｚを超えるような高いガス放電繰返し数では、送風機の消耗、例えば高速でのベアリングの消耗及び過度の振動による送風機交換の最終的要件に加えて、送風機パワー及び熱収支が重要な性能問題になるために重要である。収集器／トラップはまた、これらの作動においてファンが作動及び停止期間を通して周期作動し、作動周期において流れが再開するようにガス流パターンを変更することによって助けることができる。本質的に境界流領域にあるチャンバ壁内の及び／又はチャンバ壁に沿った収集器、例えば１３０、１３２、１３４、及び／又はトラップ、例えば１００、１００’、１００’’の作動において、境界層流は、これらが存在しなければ平滑であると考えられる壁に沿って、例えばデブリ粒子（いわゆるダスト）が壁内の開口部、例えば１３０、１３２、１３４、及び／又はダストトラップ、例えば１００、１００’、及び１００’’内のメッシュ状要素に向って加速され、中に入った状態で本質的にチャンバ内部２６のガス流に戻ることができないという方法で妨害される。例えば、最外側層にあるメッシュ開口部に進入して、例えばトラップ１００、１００’、１００’’のメッシュ状要素の中に入った状態で、例えば、粒子は渦流又は他のものによって減速される可能性があり、次に、各その後のメッシュ状層内で更に減速され、それによってこの後の粒子は、メッシュ状構造体内に滞留する。本出願人はまた、例えばメッシュ内のワイヤの周囲で流れを発生させることができ、例えば、ワイヤはこの流れに直交しており、この流れは、次に続く内部のメッシュ状層の方向に粒子を同様に加速すると推測している。
【００２６】
このいわゆる境界層効果は、本発明の実施形態の態様に従って本出願人によって利用されている。図４において非常に概略的に正しい比率でなく示されているダストトラップ１００、１００’、１００’’に関して、例えば境界層内の流れ１２０に与えられたメッシュ状要素、例えば１０２の開口部、例えば１０６は、デブリが１２４において示すように流れから抜け出て沈降し、適切な場合は開口部、例えば１０８を通過して下に重なっているメッシュ状要素の層に入り、その後恐らく更にその下に重なっているメッシュ状要素層、例えば１０２にある開口部、例えば１０６などによって形成された穴の中に収集される機会を与える。本出願人は、ガス循環路の境界に近い境界層では、流れは、図４に示すようにデブリが露出した開口部、例えば１０６に進入するのを促進するほど十分に遅く、沈降１２４を更に促進する例えば渦流１２２を形成するのを促進するほど十分に速いと考えている。
【００２７】
図６Ａ〜Ｃは、本発明の実施形態の態様によるダストトラップ１００〜１００’’の作動を示している。上述に参照したほぼ円形の循環路におけるガス循環は、例えば循環路の断面における点において数十メートル毎秒の程度で測定される比較的高速のものであり、ショット間に十分かつ適正に放電領域を浄化するために放電領域を通じる必要なガス流量などによって判断されていることは流体力学の当業者には理解されるであろう。ガスが循環している容器の境界、例えば壁区域２８、２９に沿って移動するガスの摩擦などにより、境界要素、例えば内壁２８又は２９の表面においてそのプロフィールがゼロ又はほぼゼロになるまで、これらの境界に向ってガス流はより大きく減速する。
【００２８】
図５は、ダストトラップ１００’’がチャンバ内部２６の壁、例えば壁２８及び底部２９に沿って位置する本発明の実施形態の態様を示している。
本出願人は、比較的短い作動時間の後にガス循環路内にレーザガスと共に循環している浮遊デブリが、チャンバ２０の床部上のダスト収集器、例えばダスト収集器１００内に本質的に全て集まり、その後著しく移動せず、衝撃によってガス循環流路に戻らないことを見出した。過去には、本出願人は、ダストはチャンバ底部に沈降する傾向があるが、様々な音響及び他の衝撃波、及び振動擾乱が周期的にダスト又はその有意な量を同伴してガス循環路に戻すと考えていた。本発明の実施形態の態様によるダストトラップ、例えば１００、１００’、１００’’は、これらの中に収集されたダストの再同伴を事実上排除することを本出願人は見出した。
【００２９】
同様に、捕獲器及び収集器要素１３０、１３２、及び１３４は、例えば、図６Ａ〜Ｃに示されているものと同様な方式で単独又は図３Ｂに示すようにダストトラップ１００、１００’、１００’’と共に作動すると考えられ、流量及び流れ１５０、例えば境界層流１５４からチャンバ２０の壁、例えば２８、２９内の開口部、例えば１３０、１３２、及び１３４の中へ流れ込み、更にこれらの内部を流れる渦流は、デブリ１５６の堆積を引き起こし、特に１３０及び１３４のような形状の中でその後の移動を抑制又は阻止する。開口部１３２（基本的に、チャンバ内壁、例えば２８及び２９内の溝）は、断面において他の形状のものでもよく、開口部１３０、１３２、及び１３４は、ランダムなサイズとすることができ、並びに水平及び／又は垂直にランダムに離間したものとすることができることも理解されるであろう。開口部、例えば１３０、１３２、１３４は、壁、例えば２８、２９から分離したプレート内に形成することができ、それぞれの壁、例えば２８，２９にボルト締めなどで取り付けることができることも理解されるであろう。ダスト収集器、例えば１００、１００’、１００’’は、メッシュ状要素の周囲、例えばそれぞれのメッシュ状要素を保持するフレーム（図示しない）又はメッシュ自体のいずれかを通して又はこれらの両方を通してそれぞれの壁に同様にボルト締めすることができる。
【００３０】
ここで図７を参照すると、ファンのための遮断器として機能する要素、例えばアノード支持体３６が自体の中にポケット２００を形成することができる本発明の実施形態の態様が示されている。ポケットは、ファンの渦の場所の制御を改善し、例えば所定の流量に対してファンを横断するより大きな圧力降下を可能にすることにより、例えばチャンバ２６における流れ効率を改善する役割を達成する。これは、ショット間に電極間への新たなガス補充の有効性を改善することができ、それと同時に、例えば渦中に発生する及び／又は上述の渦制御なしの場合にはファンの圧力降下を強めるためのファン振動の増大（例えば、より高い速度による）から発生するファン作動による音響の影響を著しく上昇させない。
【００３１】
同様に図７に示されているものは、例えば主絶縁体４２とチャンバの上側半分２２の間に形成された例えば、ポケット内にトラップポケット２８２を形成する低ガス流領域に置かれたデブリトラップ、例えばトラップ２８０の更に別の実施形態である（図１１及び１２にも示されている）。この実施形態では、ダストトラップ２８０は、例えば、チャンバ内部２６内で放電領域３４の縦軸線に沿って主絶縁体４２の縦方向延長部の大部分又は全てにほぼ沿っている図に示されている主４２絶縁体翼の間に嵌合することができる例えばほぼＵ字形状のハニカム構造体とすることができると考えられる。ガス圧及び循環は、デブリを構造体２８０に向けて移動させる傾向を有することになり、デブリがハニカム状開口部を通過し、例えばポケット２８２に入った状態で、デブリに対してハニカム状構造体２８０を通ってガス流中に戻るように逆行を引き起こすことが困難になる。
【００３２】
ここで図８〜８Ｂを参照すると、本発明の実施形態の態様による予備電離器の接地ロッド５４の部分切断図が示されており、これは、例えば接地ロッドの細長い肉厚区域１８０、及び肉厚区域１８０のどちらの側にもある接地ロッドの肉薄区域１８２を有することができ、この接地ロッドは、当業技術で公知のように例えばアーク防止の理由のためのものである。接地ロッドは、例えば接続ピンとしての役割を達成することができる例えば終端区域２１０を有することができ、例えば、これは、例えばそれぞれのチャンバ壁に嵌合する接地ロッド装着部に挿入することができ、止めネジなど（図示しない）によって押着することができる。接地ロッド５４の一端は、装着フランジ２１４を有することができる。少なくとも１つの縦方向の屈曲部材２１６（図８に２つが示されている）は、予備電離器のセラミック管５２（例えば、図７Ａ及びＢに示されている）の内部に嵌合するように成形され、サイズ決定された接地ロッド５４の終端に置くことができる。屈曲要素２１６は、同じく図８Ａ及び図８Ａの８Ｂ−８Ｂ断面線の沿った図８Ｂの断面に示されている例えば複数のスロット２１８を含むことができる。スロット２１８は、本出願人が破局的な予備電離器管の故障を引き起こすことを見出した接地ロッド５４における曲げトルクなどを誘発することもなく、接地ロッド５４の熱応力又は他の要因などによる接地ロッド５４への圧縮応力の下で圧縮することになるアコーディオン状の構造体を形成する役割を達成する。
【００３３】
図９及び１０を参照すると、本発明の実施形態の態様による図８〜８Ｂに示されているものに類似している接地ロッド５４の別の実施形態が示されており、ここで接地ロッド５４の肉薄区域２６０のうち少なくとも１つは、例えば、予備電離器管５２内にも嵌合するようにサイズ決定された比較的可撓性及び弾性のある部材２５０として形成することができる。可撓性部材２５０は、例えば、複数の縦方向延長部分２５２、横方向延長部分２５６、及びエルボー継ぎ手２５４を含むことができる。この部材２５０は、接地ロッド５４の肉薄区域２６０を更に薄い厚みの直径まで機械加工し、肉薄区域２５０の更に狭幅な部分を曲げ、弾性部材２５０のｓ字形曲げ部を形成することによって形成することができることが理解されるであろう。この可撓性区域はまた、接地ロッド５４の中に曲げモーメントを誘発せずに縦方向に圧縮を可能にするものである。
【００３４】
ここで図１１を参照すると、本発明の実施形態の態様による予備電離制御システム２９０が示されており、これは、例えば抵抗器２９２及びコンデンサ２９４の例えばＲＣネットワークを含む例えば予備電離遮断回路を含むことができる。本出願人は、バーストモードにおける上述の種類のガス放電レーザの作動におけるある一定のレベルの予備電離は、バーストにおける最初の数パルス中には必要であるが、残りのバースト中にそのレベルで維持されたとすると、適正なレーザ光源作動には実際に有害である可能性があり、例えばバーストの最初の複数のパルス、例えば最初の数パルスの後の望ましいＤＵＶ光の生成に有害であると判断した。従って、予備電離器コントローラ２９０のＲＣネットワークは、コンデンサ２９４を充電するためにタイミングを合わせることができ、このコンデンサ２９２は、２９６での予備電離器接地ロッド５４と接地、すなわち、アノード３２の電位との間で抵抗器２９２と並列に接続することができる。接地ロッド５４のアノード電位への接続は、本出願人の譲受人によって販売されている現行のレーザでは通常電気接触状態にあるチャンバ本体、例えばチャンバ上側半分２２との接続から接地ロッド５４を絶縁し、例えば接地ロッド５４とアノード３２の間にＲＣネットワーク２９０を挿入することによって行うことができる。
【００３５】
作動において接地ロッド５４は、最初に抵抗器２９２を通じて接地に接続されることが理解されるであろう。しかし、時間と共にカソード３０がバースト中の連続パルスのための高電圧に連続して導かれる時に、コンデンサ２９４は、コンデンサ２９４とカソード３０の間の電位差が、カソード３０と予備電離器５０の接地ロッド５４との間の電位差がそのバースト中にコロナ放電をそれ以上発生させることができなくなるようなものになるバースト中のある時点に至るまで、ＲＣネットワーク２９０の選択された時間定数に従って充電されることになる。バースト間に、抵抗器２９２は、コンデンサ２９４上の電荷の全て又は実質的に全てが接地に流れ、接地ロッド５４が次のバーストを待ちながら接地に実質的に接続されるような値のものとして選択することができる。
【００３６】
図１１には単純化のためにただ１つの予備電離管が示されているが、例えば一方が上述の予備電離制御回路２９０を有し、他方が例えば直接接地に接続されているというような２つの予備電離管５０を用いることができることも理解されるであろう。従って、作動においては、例えば、この予備電離器は、バースト全体を通して予備電離器として機能し続けることになる。この方式では、例えば予備電離は、バーストの初期、例えばパルスバースト中の最初の数パルスにおいては、例えば高電子密度であり、更に、例えば放電の両側に存在するように作ることができ、これは、バースト中の総パルス数、負荷サイクルに依存して変化させることができ、又はそうでなければそのバーストにおける残りのパルス中に低電子密度になる。
【００３７】
ここで図１２を参照すると、本発明の実施形態の態様による改善された予備電離器５０が示されている。改善された予備電離器５０は、予備電離器５０の中心線縦軸、例えば予備電離器５０の接地ロッド５４の中心線縦軸において例えば第１の焦点、及び電極３０、３２間のガス放電領域３４の望ましい部分において第２の焦点を有する例えば円筒形楕円３０２の一区域とすることができる例えばミラー３００を組み込むことができる。この選択された部分は、例えばガス放電の縦方向中心線軸に沿わせることができ、例えば電極３０，３２間の選択された位置、すなわち放電領域３４内で垂直に移動した（この方向は図１２に示されている）例えばカソード３０とアノード３２の中間点とすることができる。このようにして、図１３における例によって示すように、予備電離による電子の密度分布は、ガス放電領域のより中心へと移動させることができ、例えば予備電離の有効性を高めるものである。ミラー３００は、楕円状表面を研削、研磨することなどにより例えば主絶縁体４４の一部として形成することができ、高度に研磨された表面又は適切なコーティング、例えばモリブデンの追加によって反射性を有することができる。
【００３８】
現在、ガス放電レーザにおいて予備電離を達成する方法は、例えばカソード３０と接地ロッド５４の間に形成されたコンデンサにおける誘電体として機能する例えば予備電離管５２の誘電体を用いて本質的に容量性の要素として予備電離器を利用することである。高電圧、例えば高い負電圧がある時点でカソード３０に印加されると、カソード３０とアノード３２の間の電圧差は、２つの間で放電を引き起こし、同時にガス媒体は導電性になる。予備電離器管は、アノードカソード間ピーク電圧が到達されてガス媒体に電子をシードし、電極３０、３２間の放電の形成の開始、増速を助ける直前の時間に予備電離管５２の表面上でコロナ放電を開始するように半径寸法及び形状が選択される。
【００３９】
しかし、一部の作動状況、例えばフッ素分子レーザ及び／又は低減した高電圧においては、放電の開始及び／又は持続時間は、実際の放電が発生し、高電圧が電極３０、３２間でリンギングする前に通常よりも遅れる傾向がある場合がある。従って、例えば予備電離効果は、予備電離のタイミング及び妥当性を妨害するほど十分にタイミングがずれる場合がある。
本出願人は、この問題に対する解決法は、接地ロッド５４が共通電位にある時に制御することによって予備電離を例えばより能動的に制御するように接地ロッド５４のスイッチを入れることに見出すことができ、こうしてカソード３０と接地ロッド５４の間の電位差によるコロナ放電を引き起こすことができると考えている。印加された電圧に従って、この遅延時間を適正に変更するボルト・秒の積に基づいて、すなわち、低電圧に対してスイッチ遮断における遅延が長く、高電圧に対してはその反対であるように、カソードとスイッチに印加された電圧変化が放電の実際の発生の前の例えば２０〜４０ｎｓにおいて適切な予備電離を供給するように、例えば一実施形態では、このスイッチは、飽和可能磁気スイッチ（図示しない）とすることができると考えられる。代替的に、恐らく予備電離器の変位電流（コロナ放電）の一部の振幅を代償にして、不活性誘導要素（図示しない）、例えば適切な可飽和インダクタを採用することができ、又は沿面放電セラミックコネクタ（図示しない）を利用することができると考えられ、例えば接地ロッド５４を接地に接続し、予備電離の開始を適正に遅延する。これは、例えばスイッチの使用と同程度に予備電離の開始を能動的に制御するものではないが、それでも有効であると考えられる。
【００４０】
ここで図１４を参照すると、本発明の実施形態の態様によるバッフル板３２０が示されている。バッフル板は、ベースプレート３２２と共に例えば複数のほぼピラミッド状の構造体、例えばピラミッド状構造体３２４、ピラミッド状構造体３２６、ピラミッド状構造体３２８を有することができ、これらは、各構造体内３２４、３２６、３２８内にあるほぼピラミッド状の要素のサイズ、及び各構造体３２４、３２６、３２８内のピラミッド状要素の個数において異なる可能性がある。３２４及び３２６のような構造体は、例えば、形成された主隆起部の方向において例えば構造体３２８と異なることができ、すなわち、縦方向への延長から横断方向への延長へと変化することができる。バッフル板３２０は、チャンバ２６内で例えばボルト穴３４０を通じるボルトにより、例えばチャンバ壁、例えば壁２９に取り付けることができる。
【００４１】
チャンバ２６内の音響の影響は、パルス間周期が、例えばパルスバースト中の例えば１個のパルスから別のものへと例えばランダムに又は例えば所定のバースト内で反復可能なパターンで変化するように、レーザ放電のタイミングの中へ人工的なジッターを導入ことなどによっても同様に減ずるか又は除去することができる。こうして生成された放電タイミングの例えば１／共振ピーク幅の程度の変化は、例えば周期性を破壊し、レーザシステムの例えば出力帯域幅における共振ピークの形成をもたらす共振の成長率を低減させる可能性がある。例示的に、例えば約３０００Ｈｚのレーザパルス繰返し数における例えば２０Ｈｚの幅広の共振ピークに対して、例えば数マイクロ秒の人工的ジッターは、例えば音響擾乱と十分に相関することができる。真にランダムなパターンの代わりに、トリガ遅延に導入されるジッター誤差パターンは、例えば「Ｎｓｌｉｔ」パルス毎に繰り返すように作ることができ、ここで「Ｎｓｌｉｔ」は、露光スリットにおいてパルスした個数である。これは、例えばスリット内のあらゆる点でレジストが見るパルス数がジッターのマグニチュード及びステージの速度に関係なく同じに留まることを保証するものである。ＭＯＰＡ構成に関しては、ジッターは、例えばＭＯＰＡ点火において導入される必要があると考えられ、ＰＡの点火は、ＭＯのジッター点火の実際の時間に基づいている。これは、本出願人の譲受人によって販売されているレーザ、例えば７０００シリーズレーザに対する既存の点火制御パネルなどを用いて例えば放電タイミングに対するトリガ・インを操作することによって行うことができる。
【００４２】
ここで図１５を参照すると、予備電離の改善に関する本発明の実施形態の態様が示されている。実験研究に基づいて本出願人は、予備電離の効率及び有効性に関する因子のより良い理解を発展させてきた。例えば、パルスバースト中の連続パルスのうちの例えば最初のパルスにおける最初の予備電離の後の例えば上流の予備電離に関して、本出願人は、例えば最初の予備電離及び最初の主放電内で電離したガスがチャンバの中を再循環して戻る、例えば熱交換器を通過して送風機（ファン）を通って戻るまでその後のパルスにおいて放電内でエネルギ効率が明らかに減少する期間が発生することに注目した。本出願人は、これは、バーストにおける初回のパルスの後に放電領域内及びその周囲にある電離可能な化学種の減損によるものであると考え、本出願人はこの考えを精査し、放電領域の上流のガスを予備電離中に減損しないようにすることを含むバースト時間全体にわたるエネルギ安定性の劣化に対する解決法を提案した。本出願人は、従って、予備電離管５４の上に例えば保護カバー３５０を挿入した。導電シム５６の延長部又は金属コーティング（図示しない）とすることができる保護カバー３５０は、例えばシム５６の延長部３５０（又は金属コーティング）領域内の予備電離管５４上のコロナ放電の形成を阻止する役割を達成することができ、従って、予備電離管５４上のコロナ放電からこの範囲を覆うことによってガス放電領域におけるガス放電の前の放電区域上流のガス化学種の実質的な電離発生の阻止を行うことができる。図１５に示すように、シム５６の延長部３５０（又は対応する金属コーティング、示されていない）によって形成されるマスクは、例えば電極３０、３２に影響を与えない予備電離管の範囲におけるコロナ放電を実質的に消滅させるために、放電領域に接近するコロナ放電領域におけるものを除いて予備電離管５４の実質的に全ての周囲に延びることができる。
【００４３】
図１５から分るように、マスク３５０（又は対応する金属コーティング、示されていない）は、例えばシム５６の残りと共に例えば予備電離管５４の露出されていない残りの部分によって発生するコロナ放電からのイオン生成物を放電領域３４に向けて集束させる役割を達成することができ、これは、マスク３５０からアノード棒３２に延びている破線によって概略的に示されている。本発明の実施形態の態様によると、このマスク３５０は、単にコロナ放電の他に例えばスパーク間隙予備電離及び／又は予備電離管におけるスロット状開口部を通じての予備電離と共に用いることができることが理解されるであろう。
【００４４】
本出願に開示した本発明の実施形態の態様に組み込まれた本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、本明細書に開示した本発明の実施形態の態様に対して多くの修正及び変更を加えることができることを当業者は理解するであろう。従って、特許請求の範囲は、本明細書に説明した実施形態の態様の特定のものによりいかなる方法によっても範囲が制限されるか又は狭められるように解釈されるべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】ガス放電レーザチャンバ内で生成されたレーザ出力光ビームの光軸に対して横断する断面を取った本発明の実施形態の態様によるガス放電レーザチャンバの断面部分概略図である。
【図２Ａ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図２Ｂ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図２Ｃ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図２Ｄ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図３Ａ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の別の実施形態の態様を示す図である。
【図３Ｂ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の別の実施形態の態様を示す図である。
【図３Ｃ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の別の実施形態の態様を示す図である。
【図４】チャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を概略的に示す図である。
【図５】チャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の別の態様を概略的に示す図である。
【図６Ａ】例えば図３Ａ〜Ｂに示されている本発明の実施形態の態様をより詳細に示す図である。
【図６Ｂ】例えば図３Ａ〜Ｂに示されている本発明の実施形態の態様をより詳細に示す図である。
【図６Ｃ】例えば図３Ａ〜Ｂに示されている本発明の実施形態の態様をより詳細に示す図である。
【図７】音響共振緩和のための本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図８】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図８Ａ】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図８Ｂ】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図９】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１０】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１１】改善された予備電離及びチャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１２】改善された予備電離及びチャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１３】改善された予備電離及びチャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１４】本発明の実施形態の態様によるバッフル板を示す図である。
【図１５】改善された予備電離に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１００’ ダストトラップ
１０２、１０４ メッシュ状要素
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２００４年３月３１日出願の「ガス放電レーザチャンバの改善」という名称の米国特許出願出願番号第１０／８１５，３８７号に対して優先権を主張するものであり、ガス放電レーザ、例えば集積回路リソグラフィ製造工程における集積回路フォトレジストの露光のためのハイパワー高出力パルス繰返し数高安定性ＵＶ光源、例えばＤＵＶ光の生成において用いられるものに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばレーザガス中にフッ素を利用するガス放電レーザ、例えばＫｒＦ、ＡｒＦ、及びＦ2ガス放電レーザでは、例えばレーザガス放電チャンバ内のフッ素と金属成分との相互作用などによる例えばフッ化金属の形態のデブリ生成への強い傾向があることは公知である。これは、特にガス放電中に発生し、例えばその間に放電が起こる電極内の金属材料により、放射線を発生する化学及び電気的現象であるガス放電を引き起こす可能性がある。そのようなガス放電レーザは、特に、選択された望ましい中心波長、例えば、ＫｒＦガス放電レーザにおいては約２４８ｎｍ、ＡｒＦガス放電レーザにおいては約１９３ｎｍ又はその近くで用いることができる。このデブリは、時間と共にレーザチャンバの光学構成要素、例えばチャンバ窓のようなものに付着する可能性があり、これは、いくつかの理由、例えば光学器械からの望ましくないレーザ光反射、及び／又は光学器械を通るレーザ光透過の遮蔽によって出力パワーの低減を引き起こす可能性がある。これは、例えば、望ましくない高い放電電圧でのレーザ作動の必要性を引き起こし、例えばレーザチャンバ寿命の低減をもたらす可能性がある。更に、とりわけフルエンスレベル及び波長に依存する一部の条件の下では、付着したデブリは、例えば光学要素上の局所化した高い吸収を引き起こし、例えば高フルエンスのＤＵＶ光の下での光学要素の通常よりも早期の故障をもたらす可能性がある。しかし、更に重要なことに、流動ガス中に同伴されたダストは、例えば散乱損失を引き起こす可能性がある。気象関連の「猛吹雪」に類似したこの現象は、ガス放電レーザの電極間のガス放電に発生した光子の強い散乱を引き起こす可能性があり、そのためにこれらの光子は、放電中に励起ガス媒体内で適度のレーザ発振を引き起こすのに十分な量でレーザ共振空洞内のミラーに到達しない。ダスト含有量が十分に高い場合は、これは、所定の１つ又は複数のパルスにおいてレーザ発振が全く発生しないほど十分に有意になる可能性がある。この現象は、例えば数１０億ショットと測定されるチャンバ寿命にわたってダストがチャンバ内に蓄積する時に頻度及び可能性が増し、最終的に産業界で老年症候群（ＯＡＳ）と呼ばれるものをもたらすか、又は少なくともそれに有意に貢献する可能性があり、この開始は、例えば必要な出力レーザパルスエネルギ（線量）を維持するためのチャンバ交換を一般的に必要とし、また、例えばリソグラフィツール製造業者からの益々強まる要求によって生じているパルス間のパラメータの安定性要件のような他の要件によっても影響を受けるであろう。
【０００３】
ガス放電レーザシステムの当業技術では、チャンバガスが、デブリトラップを通じてチャンバから流出してチャンバに流入して戻るように、チャンバから出てチャンバに戻る入口及び出口ポートを有するデブリ／ダストトラップをレーザガス放電チャンバの外部に備えることが公知である。例えば、本出願人の譲受人は、例えば１９９１年５月２１日にＡｋｉｎｓ他に付与された「小型エキシマレーザ」という名称の米国特許第５，０１８，１６１号に示すように、また、例えば同じく７０００シリーズ及びＸＬＡシリーズレーザに示すように、例えば発生レーザ光のための出力窓の近くに、洗浄されたガスでその窓の区域を洗い流すトラップ吸気口及びトラップ排気口を有するいわゆるフッ化金属トラップ（ＭＦＴ）を有するガス放電レーザシステムを販売している。そのような外部トラップは、静電性である場合があり、そのようなレーザシステム利用の経済性に加えて余分な費用及び電力消費を必要とする。また、１９９４年１２月１３日にＦｕｊｉｍｏｔｏに付与された「エキシマレーザ機器」という名称の米国特許第５，３７３，５２３号も、レーザガス放電チャンバ側の外部ダストトラップを示している。２０００年８月２８日出願の特許出願出願番号第０９／６４８，６３０号に基づく２００３年５月２７日にＹａｂｕ他に付与された「ガスレーザ装置」という名称の米国特許第６，５７０，８９９号は、外部デブリトラップの別の形態を示している。
【０００４】
これらの種類の外部トラップは嵩もあり、充満して詰まる傾向があって交換を必要とするか、又は望ましくないＯＡＳイベント、例えばゼロ又は低パルスエネルギレーザ発振が発生している例えば「汚染」ガスによる数１０億のレーザ出力パルス（ショット）の作動にわたって検出されない作動を潜在的に許している。更に、それらは、放電時の電極間のガス中のデブリの存在による放電への悪影響を阻止するために、十分に速く、例えば４Ｋ及びそれよりも大きい高い繰返し数で、及び特に例えば６Ｋ及び８Ｋ及びそれよりも高いレベルでレーザガス放電チャンバ内を循環するガスからデブリを除去することができない場合があり、これは、例えば放電間で可変であり、結果として帯域幅及び波長安定性、ビーム形状、及び空間コヒーレンス安定性などのようなものに有害な効果をもたらすものである。
【０００５】
中心波長、帯域幅、及び線量のようなものに必要とされる益々厳密な制御と共にレーザ光パルス出力繰返し数が増しており、かつ例えば集積回路リソグラフィ光源の要求に対応するためにレーザ出力光パルスのそのような特性の安定性が必要となっているので、循環ガスからのデブリ、例えばフッ化金属ダストなどを有効に効率的かつ迅速に除去することが更に一層重要になってきた。
電極間で例えばガス放電チャンバ内の放電間のガスからのデブリ除去は、非常に高いファンモータ速度を必要する可能性があり、これは、両方ともチャンバガスへの温度及び振動を追加し、これは、レーザ出力光パラメータ要件の充足を妨害し、及び／又は時間にわたって、異なる負荷サイクルにわたって、及び異なる出力光パルス繰返し数にわたって安定性の維持を妨害する可能性がある。ガス中のより多くのデブリは、光学要素、例えばチャンバ窓上のデブリの堆積速度を増大させ、光学要素の性能低下及び／又は故障に寄与し、望ましいより頻繁な交換を必要とする可能性がある。これらの理由により、超高繰返し数狭帯域ガス放電レーザのための改良型デブリ除去システム及び方法に対する必要性が存在する。本発明の実施形態の態様によると、本出願人は、レーザガス放電チャンバにおけるガス循環流路内で循環するガスからのデブリ除去の付加的で低費用で容易に実施されかつ非常に信頼性の高い手段を提案する。これはまた、例えば、チャンバ窓領域への洗浄されたガスの供給を維持することが主な機能であるＭＦＴの寿命を延長するものである。
【０００６】
また、ガス放電レーザ光源の当業技術では、電極間のガス中の化学及び電気的変化を発生させるガス放電電極間のガス放電領域の予備電離を利用することも公知である。電極間の電気エネルギの各放電は、例えば発振器共振空洞又は増幅チャンバにおいてレーザ光放出及び／又は増幅を引き起こし、例えば、主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）構成における発振器チャンバからの狭帯域ビーム出力を増幅する。予備電離は、ガス放電領域の近くに配置された１つ又はそれよりも多くの予備電離管を有する本出願人の譲受人によって販売されている例えばレーザにおいて行うことができる。予備電離管は、例えばコロナ放電を通じてＵＶ及びＸ線放射線を発し、それによって電極間のガス中の光電離を通じて電子が作り出され、電極間のガス中の放電の開始を助ける。本出願人は、電子の大部分がガス放電領域ではなく予備電離管の領域で形成されるので、ガス放電領域における光電離は理想よりも劣ると判断した。そのような電子分布の空間的不均一性は、特にレーザ出力パルスのバーストの初期においてエネルギ安定性への逆効果に寄与すると本出願人は考えている。従って、本出願人は、本発明の実施形態の態様によって予備電離の改善のためのある一定の方法及び機器を提案する。本出願人はまた、予備電離のためのいくつかの他の改善を提案する。
【０００７】
更に、例えばガス循環ファンからのものを含むガス放電チャンバで生成及びそれを通して伝達される音響波面の様々な発生源によって引き起こされる可能性があるレーザにおける音響の影響は、放電領域における放電の適正な形成、例えば放電の水平又は垂直軸における均一性を妨害する可能性があることは公知である。本出願人は、本明細書において、例えば放電形状に対するそのような悪影響の大部分を緩和又は排除する方法を提案する。
【０００８】
ガス放電レーザの作動に直面する別の問題は、特に、例えばリソグラフィ光源に対する要件が、今までよりも一層狭い帯域幅、帯域幅安定性、及びショット間の中心波長安定性、ショット間又は例えばショットのバースト内の平均で少なくとも複数のショットにわたるパワー（線量）安定性を必要とするので、ショット間の再現性へのチャンバの音響の影響におけるものである。再現性に対するそのような要件は、例えば本質的に全く同一のガス放電条件を要求するであろう。上述のガスのデブリ含有量の変動性に加えて、変動性の他の可能な発生源があり、例えば、ガス放電チャンバ内のこれらの音響変動の２つの主な発生源は、ガス循環ファンの回転及びある程度はその内部の振動から発生する衝撃波、並びに以前の放電によって作り出されてその後の放電に間に合って反射して放電に戻り、かつその後の放電の長さ全体に実質的に影響するように通常は放電の縦軸線に整列してもいる音響波である。
【０００９】
本発明の実施形態の態様により、本出願人は、高繰返し数（例えば、４ＫＨｚ＋）、高電力（例えば、４０Ｗ＋）、及び例えばＡｒＦに対して半値全幅（ＦＷＨＭ）で＜約０．２５ｐｍ帯域幅及びＡｒＦに対して＜１．２ｐｍのＥ９５％、及びＫｒＦに対して０．３５ｐｍのＦＷＨＭ及び１．５ｐｍのＥ９５％未満の狭帯域のレーザ光源に対するこれらの悪影響の緩和のためのある一定の方法及び機器を提案している。上述したものに加えて、要件は、より厳しい線量安定性要件、例えば高密度線に対して±約０．３％及び孤立線に対してそれよりも少ない値、波長安定性、例えば±０．１ｐｍ、３σ、帯域幅安定性、例えば±０．０５ｐｍ、ＦＷＨＭ、３σに対するものであり、これらの全ては、形態サイズ（「臨界寸法」、「ＣＤ」）が減少し続け、結果としてｋ1の減少を生じ、それと共に処理量及び従って線量要件が増大する時により一層厳しい要件になることになる。
【００１０】
【特許文献１】米国特許出願出願番号第１０／８１５，３８７号
【特許文献２】米国特許第５，０１８，１６１号
【特許文献３】米国特許第５，３７３，５２３号
【特許文献４】米国特許出願出願番号第０９／６４８，６３０号
【特許文献５】米国特許第６，５７０，８９９号
【発明の開示】
【００１１】
開示された場合の方法及び機器は、ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源を含むことができ、この光源は、垂直壁及び隣接する底部壁を含む内壁を含むガス放電チャンバと、内部垂直壁及び隣接する底部壁に隣接するガス流路を作り出すためのガス循環ファンと、内壁に沿うことができ、かつ少なくとも１つのメッシュ状スクリーン、例えば少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含むことができる複数のメッシュ状スクリーンを含むことができる低ガス流量の領域に配置されたチャンバ内ダストトラップとを含むことができる。ダストトラップは、チャンバの底部内壁及び／又は内壁の垂直部分に沿って延びることができる。ダストトラップは、第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、第１のメッシュ状スクリーンと内壁の間にあり、第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンとを含むことができる。チャンバは、単一部分凹部と、互いに対して角度の付いた２つの区域を含むことができる複数部分凹部とを含む群から選択することができる、チャンバの垂直内壁及び底部壁の少なくとも一方にある複数のダスト収集凹部を含むことができる。ダストトラップは、主絶縁体の一部分とチャンバの内壁との間に配置された圧力トラップを含むことができる。チャンバは、渦制御ポケットを含むことができるファン遮断器を有する交差流ファンを含むガス循環ファンを含むことができる。チャンバは、柔軟部材を含むことができる予備電離管内の細長い開口部内の接地ロッドを収容する予備電離管を含む予備電離機構、自動予備電離遮断機構、予備電離開始制御機構、及び／又は集束要素を含むことができる。チャンバは、細長いバッフル板を含むことができ、このバッフル板は、複数のピラミッド状構造を含むことができ、この構造は、様々な個数のほぼピラミッド状の要素を含み、様々な個数のほぼピラミッド状の要素の群として配向され、かつ縦軸線に沿って及びそれと横断方向に配向されている。チャンバ内の音響共振はまた、レーザ放電のタイミングの中に人工的なジッターを導入し、パルス間周期をランダムに又はバースト内のパルスからパラスに反復するパターンで変化させることによっても低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
ここで図１を参照すると、本発明の実施形態の態様によるガス放電レーザシステムのガス放電チャンバ２０が示されている。チャンバ２０は、例えば、チャンバ上側半分２２及びチャンバ下側半分２４から構成することができ、これらは、ボルト締めのような適切な手段によって互いに接続した時にチャンバ内部２６を形成する役割を達成する。チャンバ上側半分２２及びチャンバ下側半分はまた、例えば、チャンバ内部垂直壁２８を形成し、チャンバ下側半分２４は、チャンバ内部水平底部壁２９を形成する。
【００１３】
同じくチャンバ２６内に収容されているのは、例えば、２つの細長い対向する電極であるカソード３０及びアノード３２を含み、その間にガス放電領域３４を形成したガス放電システムであり、カソード３０とアノード３２の間に存在する十分な電圧に応答して、同じく細長い放電領域３４にある電極間のガスが通電し、電離した放電プラズマ内である一定の化学及び電気反応が生じ、結果として例えば、固有中心波長又はその近くにおける放射線の生成を生じ、これは、電極３０、３２の縦軸線にほぼ整列した出力レーザ光パルスの光軸に沿って光学的に導かれる。
【００１４】
また、チャンバ２６内には、セラミック材料のような適切な誘電体材料などから作ることができる例えばアノード支持体３６、及び黄銅のような適切な導電材料から作ることができるアノード支持棒３８があり、アノードは、複数の電流帰還部４６を通じてチャンバ上側半分２２に接続することができ、例えば、チャンバ上部２２は、チャンバ底部２４と共に共通電圧、例えば接地電圧に保たれる。
カソード３０は、主絶縁体４４を貫通する例えば高電圧フィードスルー４２によって例えば放電高電圧フィードスルーアセンブリ４０に接続することができる。主絶縁体４４は、カソードのチャンバ上側半分２２からの電気的隔離を保つことができる。
【００１５】
また、チャンバ内部２６内には、例えばカソード３０の近くに、例えば予備電離器５０がある場合がある。予備電離器５０は、黄銅のような適切な導電材料から作ることができる例えば接地ロッド５２を含むことができ（図７、１１、及び１２により詳細に示されている）、例えばセラミックのような適切な誘電体材料で作ることができる例えば空洞の円筒形予備電離器の管５４の内部に実質的に密封することができる。予備電離器５０は、カソード３０及びアノード３２、及び従って同様に放電範領域３４の縦方向中心線軸にほぼ平行な例えば円筒形の中心線軸を有することができる。予備電離器５０は、作動においては、例えばカソード３０と接地ロッド５２の間の電圧差に基づいて機能することができる。更に、予備電離器５０は、図１１及び１２により詳細に示されている導電シム５６間の電位差によって作動し、この導電シム５６は、実質的に予備電離器５０の長さに沿って又は少なくとも実質的にカソード３０の全長に沿って予備電離器５０と主絶縁体４４の間の空間を占有しており、カソード３０との電気接触を有する。
【００１６】
また、ガス放電チャンバ２６内には、例えばガス循環ファン６０を含む例えばガス循環システムがあり、このファンは、例えばほぼ円筒形の交差流ファン６０とすることができる。ファン６０は、例えば、電離した粒子及びデブリ、及び激減したＦ2などを含有するガスを連続するガス放電とガス放電の間に放電領域３４から除去し、次の連続するガス放電の前にＦ2などを含有する例えば新たなガスで放電領域を補充するために、例えば図１のような断面図に見られるようなほぼ円形の方式でチャンバ内部２６内のガスを移動させる役割を達成する。ガス循環システムはまた、放電及びファン６０の作動などによってガスに加えられる熱を除去するためにほぼ円形のガス流路に複数の熱交換器７０を含むことができる。
【００１７】
ガス循環システムはまた、例えば、複数の湾曲隔壁８０及び流れ誘導ベーン６２を有することができ、これらは、例えば放電領域３４から熱交換器７０へ、更に最終的にファン６０の取り入れ口へ、並びにファン６０の出口から放電領域３４へとそれぞれほぼ円形のガス流路を成形する役割を達成することができる。
チャンバ２６はまた、当業技術で公知であるフッ化金属トラップ９０を有することができるが、本発明の実施形態の態様は、可能な場合にＭＦＴを置換するためのものである。
チャンバ２０の底部２４の例えば水平底部内壁２９に沿って同様にチャンバ内部２６に含まれるものは、例えばダストトラップ１００とすることができる。ガス循環と共に循環し、肉眼でダスト状又はリント状に見える主にフッ化金属物質のような様々な形態のデブリをダストによって意味することが理解されるであろう。
【００１８】
本発明の実施形態の態様によるダストトラップ１００は、一例として図２Ａ〜Ｄへの参照によって示すことができる。図２Ａ〜Ｄに示すように、ダストトラップ１００は、例えば少なくとも１つのメッシュ状要素、例えば１ｍｍ開口部の第１のゲージ及び例えば１ｍｍ分離の第１のピッチを有するワイヤ状メッシュ１０２で構成することができ、更に、例えば黄銅などの適切な金属材料のようなワイヤから作られている垂直メッシュ部材１０２ａ及び水平メッシュ部材１０２ｂから構成することができる。各ワイヤは、例えばワイヤゲージ、すなわち、直径例えば１００μｍのものを有することができる。編み合わされた水平メッシュ部材１０２ｂ及び垂直メッシュ部材１０２ａは、メッシュ開口部を形成することができ、本発明の実施形態の態様に従って直線で囲まれているように示されているが、三角形及び／又は正方形、又は矩形のようなあらゆる適切なメッシュ状形状のものを採用することができることは理解されるものとする。
【００１９】
ダストトラップ１００はまた、第１のメッシュ状要素１０２に類似していてもよいが、例えば１００μｍ開口部及び１００μｍ分離の第１のものよりも小さい第２のゲージ及びピッチを含むことができる第２のメッシュ状要素、例えば１０４を含むことができる。第２のメッシュ状要素１０４はまた、それぞれのワイヤゲージ又は複数のゲージ、例えば直径１０μｍを有する水平メッシュワイヤ１０４ｂ及び垂直メッシュワイヤ１０４ａを有することができ、あらゆる可能な適切形状のメッシュ開口部１０８を形成することも理解されるであろう。第１及び第２のメッシュ状要素１０２、１０４は、異なる形状のメッシュ開口部を有することができる。本発明の実施形態の態様によると、ゲージ、ピッチ、開口部形状、及びワイヤゲージサイズなどが変わる２つよりも多い異なるメッシュ状要素を有することも可能である。
【００２０】
ここで図２Ｃ及びＤを参照すると、本発明の実施形態の態様による多くの可能なメッシュ状要素、例えば１０２、１０４の構成のうちの２つが例示的に示されている。図２Ｃでは、例えばほぼ同一の厚みであるが、例えばゲージ、ワイヤゲージサイズ、開口部形状などが異なるメッシュ状要素１０２、１０４が、例えば４層実施形態では一方のものが他方の上になるように重ねられている実施形態が示されている。図２Ｃに示されているメッシュ状要素１０２、１０４は、上述の点の１つ又はそれよりも多くにおいて異なる可能性があり、パターンは、例えば６層実施形態では、例えば第３層毎に繰り返すことができることも理解されるであろう。すなわち、ダストトラップ１００は、開口部サイズが狭くなっているなど、最初の３つが互いに異なっており、次の３つが最初の３つの繰返しである例えば６層を含むことができる。ダストトラップ１００は、例えば上述のような最初の３つのそのような層だけを含むことができると考えられることも理解されるであろう。
【００２１】
図２Ｄを参照すると、本発明の別の実施形態の態様が示されている。図２Ｄには、垂直方向（この方向は、図２Ｄにおいて例示的な目的のために示されている）において異なる厚みのメッシュ状要素、例えば１０２、１０４が重ねられてダストトラップ１００’を形成する実施形態が例示的に示されている。図２Ｃと同様に、様々なメッシュ状要素１０２、１０４は、厚みの変更を別として上述の態様において同一とすることができ、又は互いに異なることもできることが理解されるであろう。図２Ｄに示すように、ダストトラップ１００’は、付加的な肉厚なメッシュ状要素１０２の上部に置かれた２つの交互になっている肉薄（１０４）及び肉厚（１０２）のメッシュ状要素を含む。簡単化のために、図２Ｄに示されている肉厚のメッシュ状要素は、図２Ａで示されている大きいメッシュ状要素１０２として示されているが、この通りである必要はなく、図２Ｄに示されている肉厚のメッシュ状要素の１つ又はそれよりも多くは、より小さいゲージ及び／又はピッチ及び／又はワイヤゲージサイズのものとすることができることも理解されるであろう。
【００２２】
図３Ａ〜Ｃは、ダスト捕獲器／収集器要素、例えば１３０、１３２、１３４を例えばチャンバ２０の内壁部分、例えば２８、２９内に形成することができる本発明の実施形態の態様を示している。本発明の実施形態の態様によると、要素１３０、１３４は、第１の部分１３０ａ、１３４ａ、及びそれぞれの第１の部分１３０ａ、１３４ａから角度が付けられた方向に延びている第２の部分１３０ｂ、１３４ｂを含むことができ、要素１３２は、例えば、それぞれの部分、例えばチャンバ２０の壁２８、２９に形成された単一部分のみを有することができる。
【００２３】
図３Ｃは、ダスト捕獲器／収集器、例えば１３０、１３２が、図示のように例えば図３Ｃの上から下へ向う流れがある状態で例えばチャンバ２０の壁、例えば壁２８に沿ってランダムにサイズ決定、配置、及び配向することができることを概略的に示している。例えば、ツーピース捕獲器／収集器１３０は、例えば壁２８（これは、同様に例えば底部２９とすることができることが理解されるであろう）に沿って異なる高さに間隔を空けることができ、水平方向に異なる幅を有し（この方向は、図３Ｃにおいてページの水平方向として示されている）、例えば斜めにさえ配向することができる。本発明の実施形態の態様によると、図示の壁、例えば壁２８は、図示の捕獲器／収集器１３０、１３２と共に回転することができ、それによって流れは、そのように回転されても依然図の上から下へ向うが、図３Ｃに示されている開口部１３０、１３２に９０度（又は、恐らくは例えば４５度でさえも）の角度で流入することが理解されるであろう。同じく示されているものは、ツーピース捕獲器／収集器、例えば１３０を一体構造のもの１３２と混ぜ合わせる可能性である。
【００２４】
図３Ｂは、例えばダストトラップ１００をダスト捕獲器及び収集器要素、例えば１３２、１３４と組合せることができる本発明の実施形態の態様を示している。図１は、ダストトラップ１００が、例えば水平方向に延びている（この方向は、図１に例示的な目的のために示されている）チャンバの床部２９に静置（又は、適切に付着）されている本発明の実施形態の態様を示しており、図５は、ダストトラップ１００’’がチャンバ２０の底部２９及び垂直側壁２８の両方に配置されている本発明の実施形態の態様を示している。
【００２５】
作動において、上述のダスト収集器／トラップは、チャンバ内部２６内のガス循環へのインピーダンスを著しく増大させることなくガス流中のデブリの平衡粒子密度を最小にする効果を有する。これは、例えば４ＫＨｚを超えるような高いガス放電繰返し数では、送風機の消耗、例えば高速でのベアリングの消耗及び過度の振動による送風機交換の最終的要件に加えて、送風機パワー及び熱収支が重要な性能問題になるために重要である。収集器／トラップはまた、これらの作動においてファンが作動及び停止期間を通して周期作動し、作動周期において流れが再開するようにガス流パターンを変更することによって助けることができる。本質的に境界流領域にあるチャンバ壁内の及び／又はチャンバ壁に沿った収集器、例えば１３０、１３２、１３４、及び／又はトラップ、例えば１００、１００’、１００’’の作動において、境界層流は、これらが存在しなければ平滑であると考えられる壁に沿って、例えばデブリ粒子（いわゆるダスト）が壁内の開口部、例えば１３０、１３２、１３４、及び／又はダストトラップ、例えば１００、１００’、及び１００’’内のメッシュ状要素に向って加速され、中に入った状態で本質的にチャンバ内部２６のガス流に戻ることができないという方法で妨害される。例えば、最外側層にあるメッシュ開口部に進入して、例えばトラップ１００、１００’、１００’’のメッシュ状要素の中に入った状態で、例えば、粒子は渦流又は他のものによって減速される可能性があり、次に、各その後のメッシュ状層内で更に減速され、それによってこの後の粒子は、メッシュ状構造体内に滞留する。本出願人はまた、例えばメッシュ内のワイヤの周囲で流れを発生させることができ、例えば、ワイヤはこの流れに直交しており、この流れは、次に続く内部のメッシュ状層の方向に粒子を同様に加速すると推測している。
【００２６】
このいわゆる境界層効果は、本発明の実施形態の態様に従って本出願人によって利用されている。図４において非常に概略的に正しい比率でなく示されているダストトラップ１００、１００’、１００’’に関して、例えば境界層内の流れ１２０に与えられたメッシュ状要素、例えば１０２の開口部、例えば１０６は、デブリが１２４において示すように流れから抜け出て沈降し、適切な場合は開口部、例えば１０８を通過して下に重なっているメッシュ状要素の層に入り、その後恐らく更にその下に重なっているメッシュ状要素層、例えば１０２にある開口部、例えば１０６などによって形成された穴の中に収集される機会を与える。本出願人は、ガス循環路の境界に近い境界層では、流れは、図４に示すようにデブリが露出した開口部、例えば１０６に進入するのを促進するほど十分に遅く、沈降１２４を更に促進する例えば渦流１２２を形成するのを促進するほど十分に速いと考えている。
【００２７】
図６Ａ〜Ｃは、本発明の実施形態の態様によるダストトラップ１００〜１００’’の作動を示している。上述に参照したほぼ円形の循環路におけるガス循環は、例えば循環路の断面における点において数十メートル毎秒の程度で測定される比較的高速のものであり、ショット間に十分かつ適正に放電領域を浄化するために放電領域を通じる必要なガス流量などによって判断されていることは流体力学の当業者には理解されるであろう。ガスが循環している容器の境界、例えば壁区域２８、２９に沿って移動するガスの摩擦などにより、境界要素、例えば内壁２８又は２９の表面においてそのプロフィールがゼロ又はほぼゼロになるまで、これらの境界に向ってガス流はより大きく減速する。
【００２８】
図５は、ダストトラップ１００’’がチャンバ内部２６の壁、例えば壁２８及び底部２９に沿って位置する本発明の実施形態の態様を示している。
本出願人は、比較的短い作動時間の後にガス循環路内にレーザガスと共に循環している浮遊デブリが、チャンバ２０の床部上のダスト収集器、例えばダスト収集器１００内に本質的に全て集まり、その後著しく移動せず、衝撃によってガス循環流路に戻らないことを見出した。過去には、本出願人は、ダストはチャンバ底部に沈降する傾向があるが、様々な音響及び他の衝撃波、及び振動擾乱が周期的にダスト又はその有意な量を同伴してガス循環路に戻すと考えていた。本発明の実施形態の態様によるダストトラップ、例えば１００、１００’、１００’’は、これらの中に収集されたダストの再同伴を事実上排除することを本出願人は見出した。
【００２９】
同様に、捕獲器及び収集器要素１３０、１３２、及び１３４は、例えば、図６Ａ〜Ｃに示されているものと同様な方式で単独又は図３Ｂに示すようにダストトラップ１００、１００’、１００’’と共に作動すると考えられ、流量及び流れ１５０、例えば境界層流１５４からチャンバ２０の壁、例えば２８、２９内の開口部、例えば１３０、１３２、及び１３４の中へ流れ込み、更にこれらの内部を流れる渦流は、デブリ１５６の堆積を引き起こし、特に１３０及び１３４のような形状の中でその後の移動を抑制又は阻止する。開口部１３２（基本的に、チャンバ内壁、例えば２８及び２９内の溝）は、断面において他の形状のものでもよく、開口部１３０、１３２、及び１３４は、ランダムなサイズとすることができ、並びに水平及び／又は垂直にランダムに離間したものとすることができることも理解されるであろう。開口部、例えば１３０、１３２、１３４は、壁、例えば２８、２９から分離したプレート内に形成することができ、それぞれの壁、例えば２８，２９にボルト締めなどで取り付けることができることも理解されるであろう。ダスト収集器、例えば１００、１００’、１００’’は、メッシュ状要素の周囲、例えばそれぞれのメッシュ状要素を保持するフレーム（図示しない）又はメッシュ自体のいずれかを通して又はこれらの両方を通してそれぞれの壁に同様にボルト締めすることができる。
【００３０】
ここで図７を参照すると、ファンのための遮断器として機能する要素、例えばアノード支持体３６が自体の中にポケット２００を形成することができる本発明の実施形態の態様が示されている。ポケットは、ファンの渦の場所の制御を改善し、例えば所定の流量に対してファンを横断するより大きな圧力降下を可能にすることにより、例えばチャンバ２６における流れ効率を改善する役割を達成する。これは、ショット間に電極間への新たなガス補充の有効性を改善することができ、それと同時に、例えば渦中に発生する及び／又は上述の渦制御なしの場合にはファンの圧力降下を強めるためのファン振動の増大（例えば、より高い速度による）から発生するファン作動による音響の影響を著しく上昇させない。
【００３１】
同様に図７に示されているものは、例えば主絶縁体４２とチャンバの上側半分２２の間に形成された例えば、ポケット内にトラップポケット２８２を形成する低ガス流領域に置かれたデブリトラップ、例えばトラップ２８０の更に別の実施形態である（図１１及び１２にも示されている）。この実施形態では、ダストトラップ２８０は、例えば、チャンバ内部２６内で放電領域３４の縦軸線に沿って主絶縁体４２の縦方向延長部の大部分又は全てにほぼ沿っている図に示されている主４２絶縁体翼の間に嵌合することができる例えばほぼＵ字形状のハニカム構造体とすることができると考えられる。ガス圧及び循環は、デブリを構造体２８０に向けて移動させる傾向を有することになり、デブリがハニカム状開口部を通過し、例えばポケット２８２に入った状態で、デブリに対してハニカム状構造体２８０を通ってガス流中に戻るように逆行を引き起こすことが困難になる。
【００３２】
ここで図８〜８Ｂを参照すると、本発明の実施形態の態様による予備電離器の接地ロッド５４の部分切断図が示されており、これは、例えば接地ロッドの細長い肉厚区域１８０、及び肉厚区域１８０のどちらの側にもある接地ロッドの肉薄区域１８２を有することができ、この接地ロッドは、当業技術で公知のように例えばアーク防止の理由のためのものである。接地ロッドは、例えば接続ピンとしての役割を達成することができる例えば終端区域２１０を有することができ、例えば、これは、例えばそれぞれのチャンバ壁に嵌合する接地ロッド装着部に挿入することができ、止めネジなど（図示しない）によって押着することができる。接地ロッド５４の一端は、装着フランジ２１４を有することができる。少なくとも１つの縦方向の屈曲部材２１６（図８に２つが示されている）は、予備電離器のセラミック管５２（例えば、図７Ａ及びＢに示されている）の内部に嵌合するように成形され、サイズ決定された接地ロッド５４の終端に置くことができる。屈曲要素２１６は、同じく図８Ａ及び図８Ａの８Ｂ−８Ｂ断面線の沿った図８Ｂの断面に示されている例えば複数のスロット２１８を含むことができる。スロット２１８は、本出願人が破局的な予備電離器管の故障を引き起こすことを見出した接地ロッド５４における曲げトルクなどを誘発することもなく、接地ロッド５４の熱応力又は他の要因などによる接地ロッド５４への圧縮応力の下で圧縮することになるアコーディオン状の構造体を形成する役割を達成する。
【００３３】
図９及び１０を参照すると、本発明の実施形態の態様による図８〜８Ｂに示されているものに類似している接地ロッド５４の別の実施形態が示されており、ここで接地ロッド５４の肉薄区域２６０のうち少なくとも１つは、例えば、予備電離器管５２内にも嵌合するようにサイズ決定された比較的可撓性及び弾性のある部材２５０として形成することができる。可撓性部材２５０は、例えば、複数の縦方向延長部分２５２、横方向延長部分２５６、及びエルボー継ぎ手２５４を含むことができる。この部材２５０は、接地ロッド５４の肉薄区域２６０を更に薄い厚みの直径まで機械加工し、肉薄区域２５０の更に狭幅な部分を曲げ、弾性部材２５０のｓ字形曲げ部を形成することによって形成することができることが理解されるであろう。この可撓性区域はまた、接地ロッド５４の中に曲げモーメントを誘発せずに縦方向に圧縮を可能にするものである。
【００３４】
ここで図１１を参照すると、本発明の実施形態の態様による予備電離制御システム２９０が示されており、これは、例えば抵抗器２９２及びコンデンサ２９４の例えばＲＣネットワークを含む例えば予備電離遮断回路を含むことができる。本出願人は、バーストモードにおける上述の種類のガス放電レーザの作動におけるある一定のレベルの予備電離は、バーストにおける最初の数パルス中には必要であるが、残りのバースト中にそのレベルで維持されたとすると、適正なレーザ光源作動には実際に有害である可能性があり、例えばバーストの最初の複数のパルス、例えば最初の数パルスの後の望ましいＤＵＶ光の生成に有害であると判断した。従って、予備電離器コントローラ２９０のＲＣネットワークは、コンデンサ２９４を充電するためにタイミングを合わせることができ、このコンデンサ２９２は、２９６での予備電離器接地ロッド５４と接地、すなわち、アノード３２の電位との間で抵抗器２９２と並列に接続することができる。接地ロッド５４のアノード電位への接続は、本出願人の譲受人によって販売されている現行のレーザでは通常電気接触状態にあるチャンバ本体、例えばチャンバ上側半分２２との接続から接地ロッド５４を絶縁し、例えば接地ロッド５４とアノード３２の間にＲＣネットワーク２９０を挿入することによって行うことができる。
【００３５】
作動において接地ロッド５４は、最初に抵抗器２９２を通じて接地に接続されることが理解されるであろう。しかし、時間と共にカソード３０がバースト中の連続パルスのための高電圧に連続して導かれる時に、コンデンサ２９４は、コンデンサ２９４とカソード３０の間の電位差が、カソード３０と予備電離器５０の接地ロッド５４との間の電位差がそのバースト中にコロナ放電をそれ以上発生させることができなくなるようなものになるバースト中のある時点に至るまで、ＲＣネットワーク２９０の選択された時間定数に従って充電されることになる。バースト間に、抵抗器２９２は、コンデンサ２９４上の電荷の全て又は実質的に全てが接地に流れ、接地ロッド５４が次のバーストを待ちながら接地に実質的に接続されるような値のものとして選択することができる。
【００３６】
図１１には単純化のためにただ１つの予備電離管が示されているが、例えば一方が上述の予備電離制御回路２９０を有し、他方が例えば直接接地に接続されているというような２つの予備電離管５０を用いることができることも理解されるであろう。従って、作動においては、例えば、この予備電離器は、バースト全体を通して予備電離器として機能し続けることになる。この方式では、例えば予備電離は、バーストの初期、例えばパルスバースト中の最初の数パルスにおいては、例えば高電子密度であり、更に、例えば放電の両側に存在するように作ることができ、これは、バースト中の総パルス数、負荷サイクルに依存して変化させることができ、又はそうでなければそのバーストにおける残りのパルス中に低電子密度になる。
【００３７】
ここで図１２を参照すると、本発明の実施形態の態様による改善された予備電離器５０が示されている。改善された予備電離器５０は、予備電離器５０の中心線縦軸、例えば予備電離器５０の接地ロッド５４の中心線縦軸において例えば第１の焦点、及び電極３０、３２間のガス放電領域３４の望ましい部分において第２の焦点を有する例えば円筒形楕円３０２の一区域とすることができる例えばミラー３００を組み込むことができる。この選択された部分は、例えばガス放電の縦方向中心線軸に沿わせることができ、例えば電極３０，３２間の選択された位置、すなわち放電領域３４内で垂直に移動した（この方向は図１２に示されている）例えばカソード３０とアノード３２の中間点とすることができる。このようにして、図１３における例によって示すように、予備電離による電子の密度分布は、ガス放電領域のより中心へと移動させることができ、例えば予備電離の有効性を高めるものである。ミラー３００は、楕円状表面を研削、研磨することなどにより例えば主絶縁体４４の一部として形成することができ、高度に研磨された表面又は適切なコーティング、例えばモリブデンの追加によって反射性を有することができる。
【００３８】
現在、ガス放電レーザにおいて予備電離を達成する方法は、例えばカソード３０と接地ロッド５４の間に形成されたコンデンサにおける誘電体として機能する例えば予備電離管５２の誘電体を用いて本質的に容量性の要素として予備電離器を利用することである。高電圧、例えば高い負電圧がある時点でカソード３０に印加されると、カソード３０とアノード３２の間の電圧差は、２つの間で放電を引き起こし、同時にガス媒体は導電性になる。予備電離器管は、アノードカソード間ピーク電圧が到達されてガス媒体に電子をシードし、電極３０、３２間の放電の形成の開始、増速を助ける直前の時間に予備電離管５２の表面上でコロナ放電を開始するように半径寸法及び形状が選択される。
【００３９】
しかし、一部の作動状況、例えばフッ素分子レーザ及び／又は低減した高電圧においては、放電の開始及び／又は持続時間は、実際の放電が発生し、高電圧が電極３０、３２間でリンギングする前に通常よりも遅れる傾向がある場合がある。従って、例えば予備電離効果は、予備電離のタイミング及び妥当性を妨害するほど十分にタイミングがずれる場合がある。
本出願人は、この問題に対する解決法は、接地ロッド５４が共通電位にある時に制御することによって予備電離を例えばより能動的に制御するように接地ロッド５４のスイッチを入れることに見出すことができ、こうしてカソード３０と接地ロッド５４の間の電位差によるコロナ放電を引き起こすことができると考えている。印加された電圧に従って、この遅延時間を適正に変更するボルト・秒の積に基づいて、すなわち、低電圧に対してスイッチ遮断における遅延が長く、高電圧に対してはその反対であるように、カソードとスイッチに印加された電圧変化が放電の実際の発生の前の例えば２０〜４０ｎｓにおいて適切な予備電離を供給するように、例えば一実施形態では、このスイッチは、飽和可能磁気スイッチ（図示しない）とすることができると考えられる。代替的に、恐らく予備電離器の変位電流（コロナ放電）の一部の振幅を代償にして、不活性誘導要素（図示しない）、例えば適切な可飽和インダクタを採用することができ、又は沿面放電セラミックコネクタ（図示しない）を利用することができると考えられ、例えば接地ロッド５４を接地に接続し、予備電離の開始を適正に遅延する。これは、例えばスイッチの使用と同程度に予備電離の開始を能動的に制御するものではないが、それでも有効であると考えられる。
【００４０】
ここで図１４を参照すると、本発明の実施形態の態様によるバッフル板３２０が示されている。バッフル板は、ベースプレート３２２と共に例えば複数のほぼピラミッド状の構造体、例えばピラミッド状構造体３２４、ピラミッド状構造体３２６、ピラミッド状構造体３２８を有することができ、これらは、各構造体内３２４、３２６、３２８内にあるほぼピラミッド状の要素のサイズ、及び各構造体３２４、３２６、３２８内のピラミッド状要素の個数において異なる可能性がある。３２４及び３２６のような構造体は、例えば、形成された主隆起部の方向において例えば構造体３２８と異なることができ、すなわち、縦方向への延長から横断方向への延長へと変化することができる。バッフル板３２０は、チャンバ２６内で例えばボルト穴３４０を通じるボルトにより、例えばチャンバ壁、例えば壁２９に取り付けることができる。
【００４１】
チャンバ２６内の音響の影響は、パルス間周期が、例えばパルスバースト中の例えば１個のパルスから別のものへと例えばランダムに又は例えば所定のバースト内で反復可能なパターンで変化するように、レーザ放電のタイミングの中へ人工的なジッターを導入ことなどによっても同様に減ずるか又は除去することができる。こうして生成された放電タイミングの例えば１／共振ピーク幅の程度の変化は、例えば周期性を破壊し、レーザシステムの例えば出力帯域幅における共振ピークの形成をもたらす共振の成長率を低減させる可能性がある。例示的に、例えば約３０００Ｈｚのレーザパルス繰返し数における例えば２０Ｈｚの幅広の共振ピークに対して、例えば数マイクロ秒の人工的ジッターは、例えば音響擾乱と十分に相関することができる。真にランダムなパターンの代わりに、トリガ遅延に導入されるジッター誤差パターンは、例えば「Ｎｓｌｉｔ」パルス毎に繰り返すように作ることができ、ここで「Ｎｓｌｉｔ」は、露光スリットにおいてパルスした個数である。これは、例えばスリット内のあらゆる点でレジストが見るパルス数がジッターのマグニチュード及びステージの速度に関係なく同じに留まることを保証するものである。ＭＯＰＡ構成に関しては、ジッターは、例えばＭＯＰＡ点火において導入される必要があると考えられ、ＰＡの点火は、ＭＯのジッター点火の実際の時間に基づいている。これは、本出願人の譲受人によって販売されているレーザ、例えば７０００シリーズレーザに対する既存の点火制御パネルなどを用いて例えば放電タイミングに対するトリガ・インを操作することによって行うことができる。
【００４２】
ここで図１５を参照すると、予備電離の改善に関する本発明の実施形態の態様が示されている。実験研究に基づいて本出願人は、予備電離の効率及び有効性に関する因子のより良い理解を発展させてきた。例えば、パルスバースト中の連続パルスのうちの例えば最初のパルスにおける最初の予備電離の後の例えば上流の予備電離に関して、本出願人は、例えば最初の予備電離及び最初の主放電内で電離したガスがチャンバの中を再循環して戻る、例えば熱交換器を通過して送風機（ファン）を通って戻るまでその後のパルスにおいて放電内でエネルギ効率が明らかに減少する期間が発生することに注目した。本出願人は、これは、バーストにおける初回のパルスの後に放電領域内及びその周囲にある電離可能な化学種の減損によるものであると考え、本出願人はこの考えを精査し、放電領域の上流のガスを予備電離中に減損しないようにすることを含むバースト時間全体にわたるエネルギ安定性の劣化に対する解決法を提案した。本出願人は、従って、予備電離管５４の上に例えば保護カバー３５０を挿入した。導電シム５６の延長部又は金属コーティング（図示しない）とすることができる保護カバー３５０は、例えばシム５６の延長部３５０（又は金属コーティング）領域内の予備電離管５４上のコロナ放電の形成を阻止する役割を達成することができ、従って、予備電離管５４上のコロナ放電からこの範囲を覆うことによってガス放電領域におけるガス放電の前の放電区域上流のガス化学種の実質的な電離発生の阻止を行うことができる。図１５に示すように、シム５６の延長部３５０（又は対応する金属コーティング、示されていない）によって形成されるマスクは、例えば電極３０、３２に影響を与えない予備電離管の範囲におけるコロナ放電を実質的に消滅させるために、放電領域に接近するコロナ放電領域におけるものを除いて予備電離管５４の実質的に全ての周囲に延びることができる。
【００４３】
図１５から分るように、マスク３５０（又は対応する金属コーティング、示されていない）は、例えばシム５６の残りと共に例えば予備電離管５４の露出されていない残りの部分によって発生するコロナ放電からのイオン生成物を放電領域３４に向けて集束させる役割を達成することができ、これは、マスク３５０からアノード棒３２に延びている破線によって概略的に示されている。本発明の実施形態の態様によると、このマスク３５０は、単にコロナ放電の他に例えばスパーク間隙予備電離及び／又は予備電離管におけるスロット状開口部を通じての予備電離と共に用いることができることが理解されるであろう。
【００４４】
本出願に開示した本発明の実施形態の態様に組み込まれた本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、本明細書に開示した本発明の実施形態の態様に対して多くの修正及び変更を加えることができることを当業者は理解するであろう。従って、特許請求の範囲は、本明細書に説明した実施形態の態様の特定のものによりいかなる方法によっても範囲が制限されるか又は狭められるように解釈されるべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】ガス放電レーザチャンバ内で生成されたレーザ出力光ビームの光軸に対して横断する断面を取った本発明の実施形態の態様によるガス放電レーザチャンバの断面部分概略図である。
【図２Ａ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図２Ｂ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図２Ｃ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図２Ｄ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図３Ａ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の別の実施形態の態様を示す図である。
【図３Ｂ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の別の実施形態の態様を示す図である。
【図３Ｃ】チャンバ内デブリ捕獲及び保持を採用した本発明の別の実施形態の態様を示す図である。
【図４】チャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を概略的に示す図である。
【図５】チャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の別の態様を概略的に示す図である。
【図６Ａ】例えば図３Ａ〜Ｂに示されている本発明の実施形態の態様をより詳細に示す図である。
【図６Ｂ】例えば図３Ａ〜Ｂに示されている本発明の実施形態の態様をより詳細に示す図である。
【図６Ｃ】例えば図３Ａ〜Ｂに示されている本発明の実施形態の態様をより詳細に示す図である。
【図７】音響共振緩和のための本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図８】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図８Ａ】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図８Ｂ】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図９】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１０】改善された予備電離接地ロッド構成に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１１】改善された予備電離及びチャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１２】改善された予備電離及びチャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１３】改善された予備電離及びチャンバ内デブリ捕獲及び保持に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【図１４】本発明の実施形態の態様によるバッフル板を示す図である。
【図１５】改善された予備電離に関する本発明の実施形態の態様を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１００’ ダストトラップ
１０２、１０４ メッシュ状要素
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
垂直壁と隣接する底部壁とを含む内壁を含むガス放電チャンバと、
前記内部垂直壁と前記隣接する底部壁とに隣接するガス流路を作り出すためのガス循環ファンと、
低ガス流量の領域に位置決めされたチャンバ内ダストトラップと、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項２】
前記ダストトラップは、内壁に沿って位置決めされている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記ダストトラップは、少なくとも１つのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項４】
前記ダストトラップは、少なくとも１つメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項５】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項６】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項７】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項８】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項９】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項１０】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項１１】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項１２】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項１３】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項１４】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項１５】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項１６】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８に記載の機器。
【請求項１７】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項１８】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項１９】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項２０】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項２１】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項２２】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項２３】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項２４】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８に記載の機器。
【請求項２５】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９に記載の機器。
【請求項２６】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の機器。
【請求項２７】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の機器。
【請求項２８】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１２に記載の機器。
【請求項２９】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の機器。
【請求項３０】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項３１】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１５に記載の機器。
【請求項３２】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１６に記載の機器。
【請求項３３】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１７に記載の機器。
【請求項３４】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１８に記載の機器。
【請求項３５】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１９に記載の機器。
【請求項３６】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２０に記載の機器。
【請求項３７】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２１に記載の機器。
【請求項３８】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２２に記載の機器。
【請求項３９】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２３に記載の機器。
【請求項４０】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２４に記載の機器。
【請求項４１】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２５に記載の機器。
【請求項４２】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２６に記載の機器。
【請求項４３】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２７に記載の機器。
【請求項４４】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２８に記載の機器。
【請求項４５】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２９に記載の機器。
【請求項４６】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３０に記載の機器。
【請求項４７】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３１に記載の機器。
【請求項４８】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３２に記載の機器。
【請求項４９】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項５０】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項５１】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項５２】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項５３】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項５４】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項５５】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項５６】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８に記載の機器。
【請求項５７】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９に記載の機器。
【請求項５８】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の機器。
【請求項５９】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の機器。
【請求項６０】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１２に記載の機器。
【請求項６１】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の機器。
【請求項６２】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項６３】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１５に記載の機器。
【請求項６４】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１６に記載の機器。
【請求項６５】
前記ダストトラップは、
前記チャンバの前記垂直内壁及び前記底部壁の少なくとも一方における複数のダスト収集凹部、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項６６】
前記垂直内壁及び前記底部壁における複数のダスト収集凹部、
を更に含むことを特徴とする請求項６５に記載の機器。
【請求項６７】
前記凹部は、単一部分凹部及び複数部分凹部を含む群から選択される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６５に記載の機器。
【請求項６８】
前記凹部は、単一部分凹部及び複数部分凹部を含む群から選択される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６６に記載の機器。
【請求項６９】
前記複数部分凹部は、互いに対して角度が付けられた２つの区域を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６７に記載の機器。
【請求項７０】
前記複数部分凹部は、互いに対して角度が付けられた２つの区域を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６８に記載の機器。
【請求項７１】
前記ダストトラップは、
主絶縁体の一部分と前記チャンバの内壁との間に位置決めされた圧力トラップ、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項７２】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
ガス放電チャンバと、
交差流ファンを含むガス循環ファンと、
渦制御ポケット、
を含むファン遮断器と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項７３】
前記渦制御ポケットは、前記交差流ファンの出口に渦を移動させるように位置決めされて成形され、そのために該ファンを通る所定の流量に対して該ファンにわたってより大きな圧力を可能にする、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７２に記載の機器。
【請求項７４】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
導電材料で作られたロッドを含んで各端に位置決めプラグを有する接地ロッドを管の細長い開口部内に収容した予備電離管を含む予備電離機構と、
前記接地ロッドの残りの部分の有意な横断移動なしに該接地ロッドの縦方向熱膨張を吸収する柔軟部材と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項７５】
前記柔軟部材は、
前記接地ロッドの縦軸線に沿って該接地ロッド内に切れ込んだ複数の交互配置スリット、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７４に記載の機器。
【請求項７６】
前記柔軟部材は、
少なくとも１つの逆曲げ要素、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７４に記載の機器。
【請求項７７】
バーストモードで作動するハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
予備電離機構と、
パルスのバーストにおける最終パルスの前の該パルスバースト中に予め選択された時間に予備電離を本質的にゼロに低減する自動予備電離遮断機構と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項７８】
前記自動予備電離遮断機構は、選択された時間に予備電離を中止するのに十分な電荷を蓄積するように時間調節された電荷蓄積装置を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７７に記載の機器。
【請求項７９】
前記自動予備電離遮断機構は、前記予備電離機構に接続した高電圧と共通電圧との間に接続したＲＣネットワークを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７７に記載の機器。
【請求項８０】
前記自動予備電離遮断機構は、前記予備電離機構に接続した高電圧と共通電圧との間に接続したＲＣネットワークを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７８に記載の機器。
【請求項８１】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７７に記載の機器。
【請求項８２】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７８に記載の機器。
【請求項８３】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７９に記載の機器。
【請求項８４】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８０に記載の機器。
【請求項８５】
ガス放電チャンバに一対のガス放電電極を含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
接地ロッド、
を含む予備電離機構と、
一対のガス放電電極間の放電の前の選択された時間に前記接地ロッドを接地に接続する切換機構と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項８６】
前記切換機構は、前記一対の電極への高電圧電源に接続した飽和可能磁気スイッチを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８５に記載の機器。
【請求項８７】
前記切換機構は、前記接地ロッドに接続した不活性誘導要素を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８５に記載の機器。
【請求項８８】
縦方向中心線軸及び水平断面軸を有するガス放電領域を形成するガス放電チャンバにおける一対のガス放電電極を含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
予備電離機構と、
縦方向中心線軸及び断面軸に関連した放電の選択された部分に予備電離放射線を集束させる集束要素と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項８９】
前記集束要素は、前記電極の前記縦方向中心線軸にほぼ整列した円柱軸と、前記予備電離機構の中心線軸にほぼ整列した第１の焦点と、前記放電の前記選択された部分における第２の焦点とを有する楕円円筒の断面を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８８に記載の機器。
【請求項９０】
前記集束要素を収容するために形成された主絶縁体、
を更に含むことを特徴とする請求項８８に記載の機器。
【請求項９１】
前記集束要素を収容するために形成された主絶縁体、
を更に含むことを特徴とする請求項８９に記載の機器。
【請求項９２】
前記主絶縁体は、前記集束要素を形成する研磨面を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９０に記載の機器。
【請求項９３】
前記主絶縁体は、前記集束要素を形成する研磨面を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９１に記載の機器。
【請求項９４】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源からのデブリ除去をもたらす方法であって、
垂直壁と隣接する底部壁とを含む内壁を含むガス放電チャンバを設ける段階と、
ガス循環ファンを用いて前記内部垂直壁と前記隣接する底部壁とに隣接するガス流路を作成する段階と、
低ガス流量の領域に位置決めされたチャンバ内ダストトラップを設ける段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９５】
前記内壁に沿って前記チャンバ内ダストトラップを設ける段階、
を更に含むことを特徴とする請求項９４に記載の方法。
【請求項９６】
縦方向放電軸を定める細長いガス放電領域を含むガス放電チャンバを含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源における音響共振緩和をもたらす方法であって、
不規則に成形された音響波分散表面仕上げを有する細長いバッフル板を設けて、縦方向ガス放電領域にほぼ平行で、かつ低減することが望ましい共振ピークの周波数に基づいて該縦方向ガス放電領域からある一定の距離に位置決めされたチャンバの一部分にこのバッフル板を取り付ける段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９７】
縦方向放電軸を定める細長いガス放電領域を含むガス放電チャンバを含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源における音響共振緩和をもたらす方法であって、
時間と共に平均ガス放電パルス繰返し数を維持しながら、時間と共にガス放電パルス繰返し数をランダム化する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９８】
縦方向放電軸を定める細長いガス放電領域を含むガス放電チャンバを含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源における音響共振緩和をもたらす方法であって、
時間と共に平均ガス放電パルス繰返し数を維持しながら、パルスのバースト内で時間と共にガス放電パルス繰返し数をランダム化する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９９】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
縦軸線を有する細長いバッフル板、
を含み、
前記バッフル板は、
ベースプレートと、
様々な個数のほぼピラミッド状の要素を含み、様々な個数のほぼピラミッド状の要素の群として配向され、かつ前記縦軸線に沿って及びそれに対して横断方向に配向された複数のピラミッド状構造体と、
を含む、
ことを特徴とする光源。
【請求項１００】
ガス放電レーザ出力光パルスを生成する方法であって、
レーザ放電のタイミングの中に人工的なジッターを導入し、パルスのバースト内のパルスからパルスまでのレーザ出力光パルスのパルス間周期をランダムに又はバースト内で反復可能なパターンで変化させることによって音響共振を低減する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０１】
前記変化は、１／共振ピーク幅の程度である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１００に記載の方法。
【請求項１０２】
ガス放電レーザ出力光パルス生成システムであって、
細長い放電領域を形成する一組の細長い電極対と、
前記ガス放電領域の上流の予備電離管と、
前記放電領域の上流の予備電離を実質的に防ぐために前記予備電離管を覆う予備電離マスクと、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項１】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
垂直壁と隣接する底部壁とを含む内壁を含むガス放電チャンバと、
前記内部垂直壁と前記隣接する底部壁とに隣接するガス流路を作り出すためのガス循環ファンと、
低ガス流量の領域に位置決めされたチャンバ内ダストトラップと、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項２】
前記ダストトラップは、内壁に沿って位置決めされている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記ダストトラップは、少なくとも１つのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項４】
前記ダストトラップは、少なくとも１つメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項５】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項６】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項７】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項８】
前記ダストトラップは、複数のメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項９】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項１０】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項１１】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項１２】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項１３】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項１４】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項１５】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項１６】
前記ダストトラップは、少なくとも２つの異なるゲージのメッシュ状スクリーンを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８に記載の機器。
【請求項１７】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項１８】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項１９】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項２０】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項２１】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項２２】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項２３】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項２４】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８に記載の機器。
【請求項２５】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９に記載の機器。
【請求項２６】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の機器。
【請求項２７】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の機器。
【請求項２８】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１２に記載の機器。
【請求項２９】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の機器。
【請求項３０】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項３１】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１５に記載の機器。
【請求項３２】
前記ダストトラップは、前記チャンバの前記底部内壁に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１６に記載の機器。
【請求項３３】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１７に記載の機器。
【請求項３４】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１８に記載の機器。
【請求項３５】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１９に記載の機器。
【請求項３６】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２０に記載の機器。
【請求項３７】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２１に記載の機器。
【請求項３８】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２２に記載の機器。
【請求項３９】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２３に記載の機器。
【請求項４０】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２４に記載の機器。
【請求項４１】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２５に記載の機器。
【請求項４２】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２６に記載の機器。
【請求項４３】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２７に記載の機器。
【請求項４４】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２８に記載の機器。
【請求項４５】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２９に記載の機器。
【請求項４６】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３０に記載の機器。
【請求項４７】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３１に記載の機器。
【請求項４８】
前記ダストトラップは、前記内壁の垂直部分に沿って延びている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３２に記載の機器。
【請求項４９】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項５０】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項５１】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項５２】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項５３】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項５４】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項５５】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項５６】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８に記載の機器。
【請求項５７】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９に記載の機器。
【請求項５８】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の機器。
【請求項５９】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の機器。
【請求項６０】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１２に記載の機器。
【請求項６１】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の機器。
【請求項６２】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項６３】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１５に記載の機器。
【請求項６４】
前記ダストトラップは、
第１のゲージを有する第１のメッシュ状スクリーンと、
前記第１のメッシュ状スクリーンと前記内壁の中間にあり、該第１のゲージよりも小さい第２のゲージを有する第２のメッシュ状スクリーンと、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１６に記載の機器。
【請求項６５】
前記ダストトラップは、
前記チャンバの前記垂直内壁及び前記底部壁の少なくとも一方における複数のダスト収集凹部、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項６６】
前記垂直内壁及び前記底部壁における複数のダスト収集凹部、
を更に含むことを特徴とする請求項６５に記載の機器。
【請求項６７】
前記凹部は、単一部分凹部及び複数部分凹部を含む群から選択される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６５に記載の機器。
【請求項６８】
前記凹部は、単一部分凹部及び複数部分凹部を含む群から選択される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６６に記載の機器。
【請求項６９】
前記複数部分凹部は、互いに対して角度が付けられた２つの区域を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６７に記載の機器。
【請求項７０】
前記複数部分凹部は、互いに対して角度が付けられた２つの区域を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６８に記載の機器。
【請求項７１】
前記ダストトラップは、
主絶縁体の一部分と前記チャンバの内壁との間に位置決めされた圧力トラップ、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項７２】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
ガス放電チャンバと、
交差流ファンを含むガス循環ファンと、
渦制御ポケット、
を含むファン遮断器と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項７３】
前記渦制御ポケットは、前記交差流ファンの出口に渦を移動させるように位置決めされて成形され、そのために該ファンを通る所定の流量に対して該ファンにわたってより大きな圧力を可能にする、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７２に記載の機器。
【請求項７４】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
導電材料で作られたロッドを含んで各端に位置決めプラグを有する接地ロッドを管の細長い開口部内に収容した予備電離管を含む予備電離機構と、
前記接地ロッドの残りの部分の有意な横断移動なしに該接地ロッドの縦方向熱膨張を吸収する柔軟部材と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項７５】
前記柔軟部材は、
前記接地ロッドの縦軸線に沿って該接地ロッド内に切れ込んだ複数の交互配置スリット、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７４に記載の機器。
【請求項７６】
前記柔軟部材は、
少なくとも１つの逆曲げ要素、
を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７４に記載の機器。
【請求項７７】
バーストモードで作動するハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
予備電離機構と、
パルスのバーストにおける最終パルスの前の該パルスバースト中に予め選択された時間に予備電離を本質的にゼロに低減する自動予備電離遮断機構と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項７８】
前記自動予備電離遮断機構は、選択された時間に予備電離を中止するのに十分な電荷を蓄積するように時間調節された電荷蓄積装置を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７７に記載の機器。
【請求項７９】
前記自動予備電離遮断機構は、前記予備電離機構に接続した高電圧と共通電圧との間に接続したＲＣネットワークを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７７に記載の機器。
【請求項８０】
前記自動予備電離遮断機構は、前記予備電離機構に接続した高電圧と共通電圧との間に接続したＲＣネットワークを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７８に記載の機器。
【請求項８１】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７７に記載の機器。
【請求項８２】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７８に記載の機器。
【請求項８３】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７９に記載の機器。
【請求項８４】
前記自動予備電離遮断機構は、バーストにおける最初の数パルスの後に本質的にゼロになるように時間調節されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８０に記載の機器。
【請求項８５】
ガス放電チャンバに一対のガス放電電極を含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
接地ロッド、
を含む予備電離機構と、
一対のガス放電電極間の放電の前の選択された時間に前記接地ロッドを接地に接続する切換機構と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項８６】
前記切換機構は、前記一対の電極への高電圧電源に接続した飽和可能磁気スイッチを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８５に記載の機器。
【請求項８７】
前記切換機構は、前記接地ロッドに接続した不活性誘導要素を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８５に記載の機器。
【請求項８８】
縦方向中心線軸及び水平断面軸を有するガス放電領域を形成するガス放電チャンバにおける一対のガス放電電極を含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
予備電離機構と、
縦方向中心線軸及び断面軸に関連した放電の選択された部分に予備電離放射線を集束させる集束要素と、
を含むことを特徴とする光源。
【請求項８９】
前記集束要素は、前記電極の前記縦方向中心線軸にほぼ整列した円柱軸と、前記予備電離機構の中心線軸にほぼ整列した第１の焦点と、前記放電の前記選択された部分における第２の焦点とを有する楕円円筒の断面を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項８８に記載の機器。
【請求項９０】
前記集束要素を収容するために形成された主絶縁体、
を更に含むことを特徴とする請求項８８に記載の機器。
【請求項９１】
前記集束要素を収容するために形成された主絶縁体、
を更に含むことを特徴とする請求項８９に記載の機器。
【請求項９２】
前記主絶縁体は、前記集束要素を形成する研磨面を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９０に記載の機器。
【請求項９３】
前記主絶縁体は、前記集束要素を形成する研磨面を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９１に記載の機器。
【請求項９４】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源からのデブリ除去をもたらす方法であって、
垂直壁と隣接する底部壁とを含む内壁を含むガス放電チャンバを設ける段階と、
ガス循環ファンを用いて前記内部垂直壁と前記隣接する底部壁とに隣接するガス流路を作成する段階と、
低ガス流量の領域に位置決めされたチャンバ内ダストトラップを設ける段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９５】
前記内壁に沿って前記チャンバ内ダストトラップを設ける段階、
を更に含むことを特徴とする請求項９４に記載の方法。
【請求項９６】
縦方向放電軸を定める細長いガス放電領域を含むガス放電チャンバを含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源における音響共振緩和をもたらす方法であって、
不規則に成形された音響波分散表面仕上げを有する細長いバッフル板を設けて、縦方向ガス放電領域にほぼ平行で、かつ低減することが望ましい共振ピークの周波数に基づいて該縦方向ガス放電領域からある一定の距離に位置決めされたチャンバの一部分にこのバッフル板を取り付ける段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９７】
縦方向放電軸を定める細長いガス放電領域を含むガス放電チャンバを含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源における音響共振緩和をもたらす方法であって、
時間と共に平均ガス放電パルス繰返し数を維持しながら、時間と共にガス放電パルス繰返し数をランダム化する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９８】
縦方向放電軸を定める細長いガス放電領域を含むガス放電チャンバを含むハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源における音響共振緩和をもたらす方法であって、
時間と共に平均ガス放電パルス繰返し数を維持しながら、パルスのバースト内で時間と共にガス放電パルス繰返し数をランダム化する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９９】
ハイパワー高繰返し数ガス放電レーザＵＶ光源であって、
縦軸線を有する細長いバッフル板、
を含み、
前記バッフル板は、
ベースプレートと、
様々な個数のほぼピラミッド状の要素を含み、様々な個数のほぼピラミッド状の要素の群として配向され、かつ前記縦軸線に沿って及びそれに対して横断方向に配向された複数のピラミッド状構造体と、
を含む、
ことを特徴とする光源。
【請求項１００】
ガス放電レーザ出力光パルスを生成する方法であって、
レーザ放電のタイミングの中に人工的なジッターを導入し、パルスのバースト内のパルスからパルスまでのレーザ出力光パルスのパルス間周期をランダムに又はバースト内で反復可能なパターンで変化させることによって音響共振を低減する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０１】
前記変化は、１／共振ピーク幅の程度である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１００に記載の方法。
【請求項１０２】
ガス放電レーザ出力光パルス生成システムであって、
細長い放電領域を形成する一組の細長い電極対と、
前記ガス放電領域の上流の予備電離管と、
前記放電領域の上流の予備電離を実質的に防ぐために前記予備電離管を覆う予備電離マスクと、
を含むことを特徴とするシステム。
【図１】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図２Ｄ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７】
【図８】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図２Ｄ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７】
【図８】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公表番号】特表２００７−５３１３１２（Ｐ２００７−５３１３１２Ａ）
【公表日】平成１９年１１月１日（２００７．１１．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５０６１８９（Ｐ２００７−５０６１８９）
【出願日】平成１７年３月３日（２００５．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００５／００７１６８
【国際公開番号】ＷＯ２００５／１０４３１３
【国際公開日】平成１７年１１月３日（２００５．１１．３）
【出願人】（５０４０１０６４８）サイマー インコーポレイテッド (115)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１１月１日（２００７．１１．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月３日（２００５．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００５／００７１６８
【国際公開番号】ＷＯ２００５／１０４３１３
【国際公開日】平成１７年１１月３日（２００５．１１．３）
【出願人】（５０４０１０６４８）サイマー インコーポレイテッド (115)
【Ｆターム（参考）】
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