サブミラー及びこれを備える撮像装置
【課題】ＡＦ領域のサイズが増加し、製造公差及び組立公差に対して強固となり、小型化が可能な撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明による撮像装置は、被写体から出る光を結像させる撮影レンズと、前記撮影レンズを通過した光の一部を透過させて残りは反射するメインミラーと、前記撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、前記メインミラーで透過された光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、を含む。
【解決手段】本発明による撮像装置は、被写体から出る光を結像させる撮影レンズと、前記撮影レンズを通過した光の一部を透過させて残りは反射するメインミラーと、前記撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、前記メインミラーで透過された光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置に関し、より詳細には、被写体から出る光を撮像装置の自動焦点モジュールにガイドするサブミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カメラのような撮像装置にユーザの便宜のために被写体の焦点を自動で調整する自動焦点機能が多く提供されている。自動焦点方式としては、撮影レンズを介して入ってくる光を利用するＴＴＬ（Ｔｒｏｕｇｈ Ｔｈｅ Ｌｅｎｓ）自動焦点方式が主に使用される。自動焦点モジュールは、対比検出方式（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）、位相差検出方式（ｐｈａｓｅ ｄｉｆｆｅｒｅｎｃｅ ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）などを用いて被写体の焦点が合っているかを検出する。ＴＴＬ自動焦点方式では、サブミラーが使用され、撮影レンズを介して入ってくる光を自動焦点モジュールにガイドする。
【０００３】
一般に、自動焦点モジュールが測距できる領域を示すＡＦ領域は撮像領域より小さい。これは、サブミラーのサイズが構造的に制限されるしかないからである。これにより、ＡＦ領域を増加させる研究が行われている。
【０００４】
撮像装置に使用される光学部品は、製造時に発生する製造公差や光学部品を組立する際に発生する組立公差によって、自動焦点にエラーが発生し得る。これにより、製造公差及び組立公差に対して強固な撮像装置を開発する必要がある。
【０００５】
自動焦点モジュールが撮像装置に使用されることにより、撮像装置のサイズが増加する。消費者が撮像装置を購買する場合、撮像装置のサイズは非常に重要な要素となる。これにより、自動焦点モジュールのサイズを抑えるための試みを行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２５１０６５号公報
【特許文献２】特開２００６−３２４７１７号公報
【特許文献３】特開２００７−１５６３０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ＡＦ領域のサイズを増加させることのできるサブミラー及びこれを備える撮像装置を提供することである。
【０００８】
本発明の別の目的は、製造公差及び組立公差に対して強固な撮像装置を提供することである。
【０００９】
本発明の別の目的は、小型化された撮像装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明による撮像装置は、被写体から出る光を結像させる撮影レンズと、 前記撮影レンズを通過した光の一部を透過させて残りは反射するメインミラーと、前記撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、前記メインミラーで透過された光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、を含む。
【００１１】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されてもよい。
【００１２】
また、前記自動焦点モジュールにはフィールドレンズが省略されてもよい。
【００１３】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの横方向に沿って形成されてもよい。
【００１４】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの縦方向に沿って形成されてもよい。
【００１５】
前記サブミラーには３つの反射領域が形成されてもよい。
【００１６】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向いてもよい。
【００１７】
前記サブミラーは前記撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されてもよい。
【００１８】
前記メインミラーの反射率は６０％以上７０％以下であってもよい。
【００１９】
本発明の別の観点によれば、本発明の目的を達成するための自動焦点装置は、撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、を含む。
【００２０】
本発明の別の観点によれば、本発明の目的を達成するためのサブミラーは、撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成される。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように本発明に係る撮像装置においては、ＡＦ領域のサイズが増加し、製造公差及び組立公差に対して強固となり、小型化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかる撮像装置の構造を示す図である。
【図２】被写体像を感光する場合における図１に示された撮像装置の構造を示す図である。
【図３】図１に示された撮像装置にあるサブミラーと自動焦点モジュールを概略的に示す図である。
【図４】従来の撮像装置のＡＦ領域を示す図である。
【図５】図１に示された撮像装置のＡＦ領域を示す図である。
【図６】サブミラーで反射され、セパレイティングレンズに入射する光の入射角度を示す図である。
【図７】自動焦点センサに形成される被写体像の重複現象を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２４】
図１は、本発明の一実施形態にかかる撮像装置１００の構造を示すものであり、図２は被写体像を感光する場合における撮像装置１００の構造を示すものである。
【００２５】
前記撮像装置１００は、ＤＳＬＲ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｎｇｌｅ Ｌｅｎｓ Ｒｅｆｌｅｘ）カメラの場合である。これは説明の便宜のためであり、本発明はＤＳＬＲカメラ以外の他の撮像装置にも同様に適用される。
【００２６】
図１に示された撮像装置１００は、撮影レンズ１１０、絞り１１５、マウント１２０、メインミラー１３０、サブミラー１４０、自動焦点モジュール１５０（Ａｕｔｏ Ｆｏｃｕｓ Ｍｏｄｕｌｅ）、フォーカルプレンシャッター１６０、撮像領域１７０、フォーカシングスクリーン（ｆｏｃｕｓｉｎｇ ｓｃｒｅｅｎ）１８０、ペンタプリズム１８５及び接眼レンズ１９０を含む。
【００２７】
撮影レンズ１１０は、被写体から出る光を撮像領域１７０に結像させる。図１に示されたように、撮影レンズ１１０は複数個のレンズから構成される。ＤＳＬＲカメラの場合撮影レンズ１１０は交換可能である。
【００２８】
また、撮影レンズ１１０には手ぶれ補正装置（不図示）及び自動焦点駆動部（不図示）が含まれている。手ぶれ補正装置は、撮影時にユーザの手ぶれによる写真の画質劣化を防止するための装置である。そして、自動焦点駆動部は、自動焦点モジュール１５０から撮影レンズ１１０の焦点状態に対する情報を受信して、前記情報に従ってレンズを移動させる装置である。
【００２９】
一方、撮影レンズ１１０には絞り１１５が含まれている。絞り１１５は、撮影レンズ１１０を通過する光の量及び画像の深度を調節する。すなわち、絞り１１５を広げると、撮影レンズ１１０はより多くの光を通過させるためユーザはより明るい写真を撮影することができるようになる。しかし、絞り１１５を広げると口径が大きくなるため写真の深度は低くなる。一方、絞り１１５を狭めると、撮影レンズ１１０はより少ない光を通過させるため、写真はより暗く撮影される。そして、絞り１１５を狭めると口径が小さくなるため深度の深い写真が得られるようになる。
【００３０】
絞り１１５は、レンズの間に配置されるためレンズによって像が生じる。具体的に、絞り１１５の前側（被写体から絞りの間）に配置されたレンズによって形成される絞り１１５の虚像を入射瞳（ｅｎｔｒａｎｃｅ ｐｕｐｉｌ）といい、絞り１１５の後側（絞りから撮像領域の間）に配置されたレンズによって形成される絞り１１５の虚像を射出瞳（ｅｘｉｔ ｐｕｐｉｌ）という。特に、射出瞳は写真の明るさに主要な役割をする絞り１１５の像であるので、明るさ調節及び自動焦点機能において重要な要素となる。
【００３１】
マウント１２０は、撮影レンズ１１０と撮像装置１００のボティ１０１とを連結させる役割をする。また、マウント１２０は、撮像領域１７０の中心を撮影レンズ１１０の光軸と一致させる。また、マウント１２０は、撮影レンズ１１０の交換が可能となるように着脱式に形成される。
【００３２】
マウント１２０はレンズマウント１２３とボディマウント１２６から構成される。レンズマウント１２３とボディマウント１２６が噛み合った形態で連結されることにより、撮影レンズ１１０は撮像装置１００のボディ１０１に固定される。
【００３３】
メインミラー１３０は、撮影レンズ１１０を通過した光を一部は透過させて残りは反射する。メインミラー１３０で反射された光はフォーカシングスクリーン１８０に進行し、ユーザは接眼レンズ１９０を介して被写体を確認することができる。メインミラー１３０を透過した光は自動焦点モジュール１５０に進行し、自動焦点モジュール１５０が被写体の焦点状態を検出する。
【００３４】
サブミラー１４０は、メインミラー１３０で透過された光を自動焦点モジュール１５０にガイドする。サブミラー１４０に対する詳細な内容は後述することにする。
【００３５】
自動焦点モジュール１５０は撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する。撮影レンズ１１０の焦点状態に対する情報は撮影レンズ１１０の自動焦点駆動部（不図示）に伝達される。以下、説明の便宜のため、位相差検出方式を使用する自動焦点モジュール１５０を基準に説明を進めることにする。自動焦点モジュール１５０は、反射ミラー１５１、視野マスク１５２、セパレイティングレンズ１５３（ｓｅｐａｒａｔｉｎｇ ｌｅｎｓ）、フィルタ１５４、自動焦点センサ１５５を含む。
【００３６】
反射ミラー１５１は、自動焦点モジュール１５０に入射された光を自動焦点センサ１５５の方向に反射する。これにより、撮像装置１００の空間を効率よく利用することができる。すなわち、不要に撮像装置１００の高さが高くなることを防止する。
【００３７】
視野マスク１５２は複数個の開口を含む。複数個の開口を通過した光は、セパレイティングレンズ１５３を通過して自動焦点センサ１５５上に複数個の被写体像が形成される。
【００３８】
フィルタ１５４は、可視光線領域以外の光をフィルタリングする。これは、可視光線以外の光によって自動焦点センサ１５５が反応し、撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する際にエラーが発生することを防止するためのものである。このようなフィルタ１５４は、例えば、赤外線カットフィルタであっても良い。
【００３９】
自動焦点センサ１５５は、特定領域に配置される複数個の光電素子を含む。光電素子によって自動焦点センサ１５５上に結像された被写体像が電気的信号に変換される。このような電気的信号を使用して撮影レンズ１１０の焦点状態を確認することができる。位相差検出方式は公知技術であって容易に把握することができるため、詳細な説明は省略する。
【００４０】
フォーカルプレンシャッター１６０は撮像領域１７０のすぐ前に設けられ、先膜、後膜と呼ばれる２枚のブラックカーテン又は金属膜で構成される。フォーカルプレンシャッター１６０は、撮影時に先膜が開かれ撮像領域１７０が光に露出し、後膜が閉められ撮像領域１７０の光がまた遮断される形態のシャッター方式である。すなわち、フォーカルプレンシャッター１６０は、先膜と後膜の時間差を用いてシャッタースピードを調節することになる。
【００４１】
撮像領域１７０は、被写体像に対する感光が行われる部分である。被写体像に対する感光が行われる時には、図２に示すように、メインミラー１３０とサブミラー１４０が光の経路上から後退する。フィルムカメラの場合、撮像領域１７０にフィルムが置かれ、デジタルカメラの場合、撮像領域１７０にイメージセンサが配列される。このようなイメージセンサは、ＣＣＤ（ｃｈａｒｇｅ ｃｏｕｐｌｅｄ ｄｅｖｉｃｅｓ）とＣＭＯＳ（ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅ ｓｅｍｉ−ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）とに区分することができる。ＣＣＤは、弱い光にも敏感に反応し、イメージの品質が高くて大体のデジタルカメラに使用される。しかし、生産工程が煩雑で生産単価が高いという短所がある。一方、ＣＭＯＳは、ＣＣＤに比べて生産単価が安く生産過程も割と簡単なので低下型デジタルカメラのセンサとしてよく使用されてきたが、最近は、映像処理技術の発達によって高画質高品質のイメージ具現が可能となり、専門化用ＤＳＬＲにも使われるようになり、多く使用されている。
【００４２】
フォーカシングスクリーン（ｆｏｃｕｓｉｎｇ ｓｃｒｅｅｎ）１８０は、マット面とフレネル（ｆｒｅｓｎｅｌ）レンズから構成される。マット面は、撮影時の焦点面と光学的に等価の位置に配置される。従って、マット面には撮影画像と同一の画像が現れる。フレネルレンズはマット面を通過した光をまた集光させ、ユーザが接眼レンズ１９０を介して更に明るい像が見られるようにする。
【００４３】
ペンタプリズム１５０は、五角形形態のプリズムを意味する。ペンタプリズム１８５はフォーカシングスクリーン１８０に結像された正立逆像(上下は正しくて、左右は逆である像)を正立正像（上下左右が全部正しい像）に変換する機能をする。従って、ユーザは目で見ているものと同一形態の撮影される映像をビューファインダーを介して確認することができるようになる。
【００４４】
接眼レンズ１９０は、ユーザがフォーカシングスクリーン１８０に結像された像を確認できるように、１ｍ前方に虚像を作る。従って、ユーザは接眼レンズ１９０を介して撮影される映像を確認することができるようになる。
【００４５】
以下、図３を参照してサブミラー１４０について詳細に説明する。図３は、サブミラー１４０と自動焦点モジュール１５０を概略的に示したものである。説明の便宜のため、図３において反射ミラー１５１、フィルタ１５４は意図的に示していない。
【００４６】
サブミラー１４０は、メインミラー１３０で透過された光を分割して自動焦点モジュール１５０にガイドするように複数個の反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃが形成される。それぞれの反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃは凹状に形成されるため光を集める役割をする。すなわち、フィールドレンズ（ｆｉｅｌｄ ｌｅｎｓ）に代わって反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃがその役割をすることができるので、従来の自動焦点モジュールにあるフィールドレンズを省略することができる。従って、自動焦点モジュールを小型化することができ、生産コストを削減することができる。
【００４７】
本発明の一実施形態では、反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃがサブミラー１４０の横方向に沿って形成された。しかし、反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃはサブミラー１４０の縦方向に沿って形成されてもよい。メインミラー１３０で透過された光を分割さえすればよいので、サブミラー１４０に形成される反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃの個数や形態は適切に変形されてもよい。
【００４８】
第１反射領域１４０ａで反射された光はメインミラー１３０で再反射され、視野マスク１５２の第１開口部１５２ａと第１セパレイティングレンズ１５３ａを通過し、自動焦点センサ１５５の第１光電素子部１５５ａに結像される。第２反射領域１４０ｂで反射された光はメインミラー１３０で再反射され、視野マスク１５２の第２開口部１５２ｂと第２セパレイティングレンズ１５３ｂを通過し、自動焦点センサ１５５の第２光電素子部１５５ｂに結像される。第３反射領域１４０ｃで反射された光はメインミラー１３０で再反射され、視野マスク１５２の第３開口部１５２ｃと第３セパレイティングレンズ１５３ｃを通過し、自動焦点センサ１５５の第３光電素子部１５５ｃに結像される。それぞれの光電素子部１５５ａ、１５５ｂ、１５５ｃで変換された電気的信号を位相差検出方式に従って分析すれば撮影レンズ１１０の焦点状態を確認することができる。
【００４９】
自動焦点モジュール１５０の安定した作動のためには自動焦点モジュール１５０に充分な光量が入らなければならない。しかし、自動焦点モジュール１５０に入る光量が多すぎると、メインミラー１３０で反射され接眼レンズ１９０に向かう光量が減少してしまいユーザが被写体を鮮明にみることができない。従って、自動焦点モジュール１５０に入ってくる光量を適切に調整する必要がある。
【００５０】
メインミラー１３０の反射率が７０％の場合、メインミラー１３０で反射され接眼レンズ１９０に向かう光量は全体光量の７０％である。全体光量の３０％がメインミラー１３０を透過しサブミラー１４０で反射される。その後、反射率が７０％であるメインミラー１３０で再反射するため、全体光量の２１％（３０％×７０％）が自動焦点モジュール１５０に向かう。同様に、メインミラー１３０の反射率が６０％の場合、接眼レンズ１９０に向かう光量は全体光量の６０％であり、自動焦点モジュール１５０に向かう光量は全体光量の２４％（４０％×６０％）である。メインミラー１３０の反射率が６０％乃至７０％程度であれば、自動焦点モジュール１５０が安定して作動することができ、ユーザも被写体を鮮明にみることができる。
【００５１】
以下では、図４及び図５を参照して、従来の撮像装置のＡＦ領域と本発明の一実施形態にかかる撮像装置のＡＦ領域を比較する。図４は、従来の撮像装置のＡＦ領域を示すものであり、図５は、本発明の一実施形態にかかる撮像装置のＡＦ領域を示すものである。
【００５２】
図４に示すように、従来の撮像装置においては、メインミラー３０を通過した光はサブミラー４０で反射されすぐ自動焦点モジュール５０に入射する。従って、サブミラー４０は撮影レンズを通過した光の光軸に対して傾くようになるためＡＦ領域２１０が小さくなるしかない。サブミラー４０のサイズを増加させるとしてもフォーカルプレンシャッター６０との干渉が発生し得るため、サブミラー４０のサイズを増加することにも限界がある。従って、撮像領域７０に比べてＡＦ領域２１０が制限されるしかない。
【００５３】
一方、図５に示すように、本発明の一実施形態によると、メインミラー１３０を通過した光はサブミラー１４０で反射された後、メインミラー１３０で再反射されて自動焦点モジュール１５０に入射する。従って、従来のＡＦ領域２１０に比べて、本発明の一実施形態にかかる撮像装置のＡＦ領域２２０を増加させることができる。ＡＦ領域２２０を最も大きくするためには、サブミラー１４０が撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されることが好ましい。
【００５４】
図６は、サブミラー１４０で反射されセパレイティングレンズ１５３に入射する光の入射角度を示すものである。説明の便宜のため、図６において、反射ミラー１５１、視野マスク１５２は意図的に示していない。
【００５５】
製造公差や組立公差によって、サブミラー１４０及びセパレイティングレンズ１５３が微細にチルトされることがあり、これにより撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する際に誤差が発生する。自動焦点モジュール１５０に入射する光の入射角度が大きくなるほどこのような誤差が更に大きくなるということが知られている。ＡＦ領域のサイズが増加すると自動焦点モジュール１５０に入射する光の入射角度が大きくなり、これにより、撮影レンズ１１０の焦点状態を検出することにおいて誤差が大きく発生する。
【００５６】
図６に示すように、本発明の一実施形態によると、サブミラー１４０に複数個の反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃが形成され、それぞれの反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃで反射された光がそれぞれのセパレイティングレンズ１５３ａ、１５３ｂ、１５３ｃに入射する。従って、ＡＦ領域のサイズが増加しても、サブミラー１４０からセパレイティングレンズ１５３に入射する光の入射角度（θ）は増加しない。これにより、製造公差や組立公差に対し強固な撮像装置を提供することが可能である。
【００５７】
図７は、自動焦点センサに形成される被写体像の重複現象を示すものである。自動焦点センサが一つのセパレイティングレンズ３５３からｄ１だけ離れた場合、被写体像３０１、３０２の一部３０３が重複するようになる。これにより、撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する際に誤差が発生し得る。自動焦点センサが一つのセパレイティングレンズ３５３からｄ２（ｄ１より更に長い長さ）だけ離れていると、被写体像３０１’、３０２’の重複現象が防止される。すなわち、自動焦点センサで形成される被写体像が重ならないように、自動焦点センサはセパレイティングレンズ３５３から充分離れていなければならない。ＡＦ領域のサイズが増加するほど自動焦点センサで形成される被写体像も大きくなるため、自動焦点センサとセパレイティングレンズとの間の長さは大きくなる。これにより、自動焦点モジュールのサイズが増加する。
【００５８】
本発明の一実施形態によると、サブミラー１４０に複数個の反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃが形成され、それぞれの反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃで反射された光がそれぞれのセパレイティングレンズ１５３ａ、１５３ｂ、１５３ｃに入射する。これにより、被写体像が自動焦点センサ１５５それぞれの光電素子部１５５ａ、１５５ｂ、１５５ｃに分割されて形成される。すなわち、それぞれのセパレイティングレンズ１５３ａ、１５３ｂ、１５３ｃを基準とする場合、被写体像の１/３と小さくなる。従って、自動焦点センサとセパレイティングレンズとの間の距離を短く維持することができるので、自動焦点モジュールを小型化することができ、全体的な撮像装置１００も小型化することができる。
【００５９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと理解される。
【符号の説明】
【００６０】
１００ 撮像装置
１１０ 撮影レンズ
１３０ メインミラー
１４０ サブミラー
１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃ 反射領域
１５０ 自動焦点モジュール
１５２ 視野マスク
１５３ セパレイティングレンズ
１５５ 自動焦点センサ
１７０ 撮像領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置に関し、より詳細には、被写体から出る光を撮像装置の自動焦点モジュールにガイドするサブミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カメラのような撮像装置にユーザの便宜のために被写体の焦点を自動で調整する自動焦点機能が多く提供されている。自動焦点方式としては、撮影レンズを介して入ってくる光を利用するＴＴＬ（Ｔｒｏｕｇｈ Ｔｈｅ Ｌｅｎｓ）自動焦点方式が主に使用される。自動焦点モジュールは、対比検出方式（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）、位相差検出方式（ｐｈａｓｅ ｄｉｆｆｅｒｅｎｃｅ ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）などを用いて被写体の焦点が合っているかを検出する。ＴＴＬ自動焦点方式では、サブミラーが使用され、撮影レンズを介して入ってくる光を自動焦点モジュールにガイドする。
【０００３】
一般に、自動焦点モジュールが測距できる領域を示すＡＦ領域は撮像領域より小さい。これは、サブミラーのサイズが構造的に制限されるしかないからである。これにより、ＡＦ領域を増加させる研究が行われている。
【０００４】
撮像装置に使用される光学部品は、製造時に発生する製造公差や光学部品を組立する際に発生する組立公差によって、自動焦点にエラーが発生し得る。これにより、製造公差及び組立公差に対して強固な撮像装置を開発する必要がある。
【０００５】
自動焦点モジュールが撮像装置に使用されることにより、撮像装置のサイズが増加する。消費者が撮像装置を購買する場合、撮像装置のサイズは非常に重要な要素となる。これにより、自動焦点モジュールのサイズを抑えるための試みを行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２５１０６５号公報
【特許文献２】特開２００６−３２４７１７号公報
【特許文献３】特開２００７−１５６３０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ＡＦ領域のサイズを増加させることのできるサブミラー及びこれを備える撮像装置を提供することである。
【０００８】
本発明の別の目的は、製造公差及び組立公差に対して強固な撮像装置を提供することである。
【０００９】
本発明の別の目的は、小型化された撮像装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明による撮像装置は、被写体から出る光を結像させる撮影レンズと、 前記撮影レンズを通過した光の一部を透過させて残りは反射するメインミラーと、前記撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、前記メインミラーで透過された光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、を含む。
【００１１】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されてもよい。
【００１２】
また、前記自動焦点モジュールにはフィールドレンズが省略されてもよい。
【００１３】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの横方向に沿って形成されてもよい。
【００１４】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの縦方向に沿って形成されてもよい。
【００１５】
前記サブミラーには３つの反射領域が形成されてもよい。
【００１６】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向いてもよい。
【００１７】
前記サブミラーは前記撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されてもよい。
【００１８】
前記メインミラーの反射率は６０％以上７０％以下であってもよい。
【００１９】
本発明の別の観点によれば、本発明の目的を達成するための自動焦点装置は、撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、を含む。
【００２０】
本発明の別の観点によれば、本発明の目的を達成するためのサブミラーは、撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成される。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように本発明に係る撮像装置においては、ＡＦ領域のサイズが増加し、製造公差及び組立公差に対して強固となり、小型化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかる撮像装置の構造を示す図である。
【図２】被写体像を感光する場合における図１に示された撮像装置の構造を示す図である。
【図３】図１に示された撮像装置にあるサブミラーと自動焦点モジュールを概略的に示す図である。
【図４】従来の撮像装置のＡＦ領域を示す図である。
【図５】図１に示された撮像装置のＡＦ領域を示す図である。
【図６】サブミラーで反射され、セパレイティングレンズに入射する光の入射角度を示す図である。
【図７】自動焦点センサに形成される被写体像の重複現象を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２４】
図１は、本発明の一実施形態にかかる撮像装置１００の構造を示すものであり、図２は被写体像を感光する場合における撮像装置１００の構造を示すものである。
【００２５】
前記撮像装置１００は、ＤＳＬＲ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｎｇｌｅ Ｌｅｎｓ Ｒｅｆｌｅｘ）カメラの場合である。これは説明の便宜のためであり、本発明はＤＳＬＲカメラ以外の他の撮像装置にも同様に適用される。
【００２６】
図１に示された撮像装置１００は、撮影レンズ１１０、絞り１１５、マウント１２０、メインミラー１３０、サブミラー１４０、自動焦点モジュール１５０（Ａｕｔｏ Ｆｏｃｕｓ Ｍｏｄｕｌｅ）、フォーカルプレンシャッター１６０、撮像領域１７０、フォーカシングスクリーン（ｆｏｃｕｓｉｎｇ ｓｃｒｅｅｎ）１８０、ペンタプリズム１８５及び接眼レンズ１９０を含む。
【００２７】
撮影レンズ１１０は、被写体から出る光を撮像領域１７０に結像させる。図１に示されたように、撮影レンズ１１０は複数個のレンズから構成される。ＤＳＬＲカメラの場合撮影レンズ１１０は交換可能である。
【００２８】
また、撮影レンズ１１０には手ぶれ補正装置（不図示）及び自動焦点駆動部（不図示）が含まれている。手ぶれ補正装置は、撮影時にユーザの手ぶれによる写真の画質劣化を防止するための装置である。そして、自動焦点駆動部は、自動焦点モジュール１５０から撮影レンズ１１０の焦点状態に対する情報を受信して、前記情報に従ってレンズを移動させる装置である。
【００２９】
一方、撮影レンズ１１０には絞り１１５が含まれている。絞り１１５は、撮影レンズ１１０を通過する光の量及び画像の深度を調節する。すなわち、絞り１１５を広げると、撮影レンズ１１０はより多くの光を通過させるためユーザはより明るい写真を撮影することができるようになる。しかし、絞り１１５を広げると口径が大きくなるため写真の深度は低くなる。一方、絞り１１５を狭めると、撮影レンズ１１０はより少ない光を通過させるため、写真はより暗く撮影される。そして、絞り１１５を狭めると口径が小さくなるため深度の深い写真が得られるようになる。
【００３０】
絞り１１５は、レンズの間に配置されるためレンズによって像が生じる。具体的に、絞り１１５の前側（被写体から絞りの間）に配置されたレンズによって形成される絞り１１５の虚像を入射瞳（ｅｎｔｒａｎｃｅ ｐｕｐｉｌ）といい、絞り１１５の後側（絞りから撮像領域の間）に配置されたレンズによって形成される絞り１１５の虚像を射出瞳（ｅｘｉｔ ｐｕｐｉｌ）という。特に、射出瞳は写真の明るさに主要な役割をする絞り１１５の像であるので、明るさ調節及び自動焦点機能において重要な要素となる。
【００３１】
マウント１２０は、撮影レンズ１１０と撮像装置１００のボティ１０１とを連結させる役割をする。また、マウント１２０は、撮像領域１７０の中心を撮影レンズ１１０の光軸と一致させる。また、マウント１２０は、撮影レンズ１１０の交換が可能となるように着脱式に形成される。
【００３２】
マウント１２０はレンズマウント１２３とボディマウント１２６から構成される。レンズマウント１２３とボディマウント１２６が噛み合った形態で連結されることにより、撮影レンズ１１０は撮像装置１００のボディ１０１に固定される。
【００３３】
メインミラー１３０は、撮影レンズ１１０を通過した光を一部は透過させて残りは反射する。メインミラー１３０で反射された光はフォーカシングスクリーン１８０に進行し、ユーザは接眼レンズ１９０を介して被写体を確認することができる。メインミラー１３０を透過した光は自動焦点モジュール１５０に進行し、自動焦点モジュール１５０が被写体の焦点状態を検出する。
【００３４】
サブミラー１４０は、メインミラー１３０で透過された光を自動焦点モジュール１５０にガイドする。サブミラー１４０に対する詳細な内容は後述することにする。
【００３５】
自動焦点モジュール１５０は撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する。撮影レンズ１１０の焦点状態に対する情報は撮影レンズ１１０の自動焦点駆動部（不図示）に伝達される。以下、説明の便宜のため、位相差検出方式を使用する自動焦点モジュール１５０を基準に説明を進めることにする。自動焦点モジュール１５０は、反射ミラー１５１、視野マスク１５２、セパレイティングレンズ１５３（ｓｅｐａｒａｔｉｎｇ ｌｅｎｓ）、フィルタ１５４、自動焦点センサ１５５を含む。
【００３６】
反射ミラー１５１は、自動焦点モジュール１５０に入射された光を自動焦点センサ１５５の方向に反射する。これにより、撮像装置１００の空間を効率よく利用することができる。すなわち、不要に撮像装置１００の高さが高くなることを防止する。
【００３７】
視野マスク１５２は複数個の開口を含む。複数個の開口を通過した光は、セパレイティングレンズ１５３を通過して自動焦点センサ１５５上に複数個の被写体像が形成される。
【００３８】
フィルタ１５４は、可視光線領域以外の光をフィルタリングする。これは、可視光線以外の光によって自動焦点センサ１５５が反応し、撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する際にエラーが発生することを防止するためのものである。このようなフィルタ１５４は、例えば、赤外線カットフィルタであっても良い。
【００３９】
自動焦点センサ１５５は、特定領域に配置される複数個の光電素子を含む。光電素子によって自動焦点センサ１５５上に結像された被写体像が電気的信号に変換される。このような電気的信号を使用して撮影レンズ１１０の焦点状態を確認することができる。位相差検出方式は公知技術であって容易に把握することができるため、詳細な説明は省略する。
【００４０】
フォーカルプレンシャッター１６０は撮像領域１７０のすぐ前に設けられ、先膜、後膜と呼ばれる２枚のブラックカーテン又は金属膜で構成される。フォーカルプレンシャッター１６０は、撮影時に先膜が開かれ撮像領域１７０が光に露出し、後膜が閉められ撮像領域１７０の光がまた遮断される形態のシャッター方式である。すなわち、フォーカルプレンシャッター１６０は、先膜と後膜の時間差を用いてシャッタースピードを調節することになる。
【００４１】
撮像領域１７０は、被写体像に対する感光が行われる部分である。被写体像に対する感光が行われる時には、図２に示すように、メインミラー１３０とサブミラー１４０が光の経路上から後退する。フィルムカメラの場合、撮像領域１７０にフィルムが置かれ、デジタルカメラの場合、撮像領域１７０にイメージセンサが配列される。このようなイメージセンサは、ＣＣＤ（ｃｈａｒｇｅ ｃｏｕｐｌｅｄ ｄｅｖｉｃｅｓ）とＣＭＯＳ（ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅ ｓｅｍｉ−ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）とに区分することができる。ＣＣＤは、弱い光にも敏感に反応し、イメージの品質が高くて大体のデジタルカメラに使用される。しかし、生産工程が煩雑で生産単価が高いという短所がある。一方、ＣＭＯＳは、ＣＣＤに比べて生産単価が安く生産過程も割と簡単なので低下型デジタルカメラのセンサとしてよく使用されてきたが、最近は、映像処理技術の発達によって高画質高品質のイメージ具現が可能となり、専門化用ＤＳＬＲにも使われるようになり、多く使用されている。
【００４２】
フォーカシングスクリーン（ｆｏｃｕｓｉｎｇ ｓｃｒｅｅｎ）１８０は、マット面とフレネル（ｆｒｅｓｎｅｌ）レンズから構成される。マット面は、撮影時の焦点面と光学的に等価の位置に配置される。従って、マット面には撮影画像と同一の画像が現れる。フレネルレンズはマット面を通過した光をまた集光させ、ユーザが接眼レンズ１９０を介して更に明るい像が見られるようにする。
【００４３】
ペンタプリズム１５０は、五角形形態のプリズムを意味する。ペンタプリズム１８５はフォーカシングスクリーン１８０に結像された正立逆像(上下は正しくて、左右は逆である像)を正立正像（上下左右が全部正しい像）に変換する機能をする。従って、ユーザは目で見ているものと同一形態の撮影される映像をビューファインダーを介して確認することができるようになる。
【００４４】
接眼レンズ１９０は、ユーザがフォーカシングスクリーン１８０に結像された像を確認できるように、１ｍ前方に虚像を作る。従って、ユーザは接眼レンズ１９０を介して撮影される映像を確認することができるようになる。
【００４５】
以下、図３を参照してサブミラー１４０について詳細に説明する。図３は、サブミラー１４０と自動焦点モジュール１５０を概略的に示したものである。説明の便宜のため、図３において反射ミラー１５１、フィルタ１５４は意図的に示していない。
【００４６】
サブミラー１４０は、メインミラー１３０で透過された光を分割して自動焦点モジュール１５０にガイドするように複数個の反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃが形成される。それぞれの反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃは凹状に形成されるため光を集める役割をする。すなわち、フィールドレンズ（ｆｉｅｌｄ ｌｅｎｓ）に代わって反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃがその役割をすることができるので、従来の自動焦点モジュールにあるフィールドレンズを省略することができる。従って、自動焦点モジュールを小型化することができ、生産コストを削減することができる。
【００４７】
本発明の一実施形態では、反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃがサブミラー１４０の横方向に沿って形成された。しかし、反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃはサブミラー１４０の縦方向に沿って形成されてもよい。メインミラー１３０で透過された光を分割さえすればよいので、サブミラー１４０に形成される反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃの個数や形態は適切に変形されてもよい。
【００４８】
第１反射領域１４０ａで反射された光はメインミラー１３０で再反射され、視野マスク１５２の第１開口部１５２ａと第１セパレイティングレンズ１５３ａを通過し、自動焦点センサ１５５の第１光電素子部１５５ａに結像される。第２反射領域１４０ｂで反射された光はメインミラー１３０で再反射され、視野マスク１５２の第２開口部１５２ｂと第２セパレイティングレンズ１５３ｂを通過し、自動焦点センサ１５５の第２光電素子部１５５ｂに結像される。第３反射領域１４０ｃで反射された光はメインミラー１３０で再反射され、視野マスク１５２の第３開口部１５２ｃと第３セパレイティングレンズ１５３ｃを通過し、自動焦点センサ１５５の第３光電素子部１５５ｃに結像される。それぞれの光電素子部１５５ａ、１５５ｂ、１５５ｃで変換された電気的信号を位相差検出方式に従って分析すれば撮影レンズ１１０の焦点状態を確認することができる。
【００４９】
自動焦点モジュール１５０の安定した作動のためには自動焦点モジュール１５０に充分な光量が入らなければならない。しかし、自動焦点モジュール１５０に入る光量が多すぎると、メインミラー１３０で反射され接眼レンズ１９０に向かう光量が減少してしまいユーザが被写体を鮮明にみることができない。従って、自動焦点モジュール１５０に入ってくる光量を適切に調整する必要がある。
【００５０】
メインミラー１３０の反射率が７０％の場合、メインミラー１３０で反射され接眼レンズ１９０に向かう光量は全体光量の７０％である。全体光量の３０％がメインミラー１３０を透過しサブミラー１４０で反射される。その後、反射率が７０％であるメインミラー１３０で再反射するため、全体光量の２１％（３０％×７０％）が自動焦点モジュール１５０に向かう。同様に、メインミラー１３０の反射率が６０％の場合、接眼レンズ１９０に向かう光量は全体光量の６０％であり、自動焦点モジュール１５０に向かう光量は全体光量の２４％（４０％×６０％）である。メインミラー１３０の反射率が６０％乃至７０％程度であれば、自動焦点モジュール１５０が安定して作動することができ、ユーザも被写体を鮮明にみることができる。
【００５１】
以下では、図４及び図５を参照して、従来の撮像装置のＡＦ領域と本発明の一実施形態にかかる撮像装置のＡＦ領域を比較する。図４は、従来の撮像装置のＡＦ領域を示すものであり、図５は、本発明の一実施形態にかかる撮像装置のＡＦ領域を示すものである。
【００５２】
図４に示すように、従来の撮像装置においては、メインミラー３０を通過した光はサブミラー４０で反射されすぐ自動焦点モジュール５０に入射する。従って、サブミラー４０は撮影レンズを通過した光の光軸に対して傾くようになるためＡＦ領域２１０が小さくなるしかない。サブミラー４０のサイズを増加させるとしてもフォーカルプレンシャッター６０との干渉が発生し得るため、サブミラー４０のサイズを増加することにも限界がある。従って、撮像領域７０に比べてＡＦ領域２１０が制限されるしかない。
【００５３】
一方、図５に示すように、本発明の一実施形態によると、メインミラー１３０を通過した光はサブミラー１４０で反射された後、メインミラー１３０で再反射されて自動焦点モジュール１５０に入射する。従って、従来のＡＦ領域２１０に比べて、本発明の一実施形態にかかる撮像装置のＡＦ領域２２０を増加させることができる。ＡＦ領域２２０を最も大きくするためには、サブミラー１４０が撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されることが好ましい。
【００５４】
図６は、サブミラー１４０で反射されセパレイティングレンズ１５３に入射する光の入射角度を示すものである。説明の便宜のため、図６において、反射ミラー１５１、視野マスク１５２は意図的に示していない。
【００５５】
製造公差や組立公差によって、サブミラー１４０及びセパレイティングレンズ１５３が微細にチルトされることがあり、これにより撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する際に誤差が発生する。自動焦点モジュール１５０に入射する光の入射角度が大きくなるほどこのような誤差が更に大きくなるということが知られている。ＡＦ領域のサイズが増加すると自動焦点モジュール１５０に入射する光の入射角度が大きくなり、これにより、撮影レンズ１１０の焦点状態を検出することにおいて誤差が大きく発生する。
【００５６】
図６に示すように、本発明の一実施形態によると、サブミラー１４０に複数個の反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃが形成され、それぞれの反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃで反射された光がそれぞれのセパレイティングレンズ１５３ａ、１５３ｂ、１５３ｃに入射する。従って、ＡＦ領域のサイズが増加しても、サブミラー１４０からセパレイティングレンズ１５３に入射する光の入射角度（θ）は増加しない。これにより、製造公差や組立公差に対し強固な撮像装置を提供することが可能である。
【００５７】
図７は、自動焦点センサに形成される被写体像の重複現象を示すものである。自動焦点センサが一つのセパレイティングレンズ３５３からｄ１だけ離れた場合、被写体像３０１、３０２の一部３０３が重複するようになる。これにより、撮影レンズ１１０の焦点状態を検出する際に誤差が発生し得る。自動焦点センサが一つのセパレイティングレンズ３５３からｄ２（ｄ１より更に長い長さ）だけ離れていると、被写体像３０１’、３０２’の重複現象が防止される。すなわち、自動焦点センサで形成される被写体像が重ならないように、自動焦点センサはセパレイティングレンズ３５３から充分離れていなければならない。ＡＦ領域のサイズが増加するほど自動焦点センサで形成される被写体像も大きくなるため、自動焦点センサとセパレイティングレンズとの間の長さは大きくなる。これにより、自動焦点モジュールのサイズが増加する。
【００５８】
本発明の一実施形態によると、サブミラー１４０に複数個の反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃが形成され、それぞれの反射領域１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃで反射された光がそれぞれのセパレイティングレンズ１５３ａ、１５３ｂ、１５３ｃに入射する。これにより、被写体像が自動焦点センサ１５５それぞれの光電素子部１５５ａ、１５５ｂ、１５５ｃに分割されて形成される。すなわち、それぞれのセパレイティングレンズ１５３ａ、１５３ｂ、１５３ｃを基準とする場合、被写体像の１/３と小さくなる。従って、自動焦点センサとセパレイティングレンズとの間の距離を短く維持することができるので、自動焦点モジュールを小型化することができ、全体的な撮像装置１００も小型化することができる。
【００５９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと理解される。
【符号の説明】
【００６０】
１００ 撮像装置
１１０ 撮影レンズ
１３０ メインミラー
１４０ サブミラー
１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃ 反射領域
１５０ 自動焦点モジュール
１５２ 視野マスク
１５３ セパレイティングレンズ
１５５ 自動焦点センサ
１７０ 撮像領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体から出る光を結像させる撮影レンズと、
前記撮影レンズを通過した光の一部を透過させて残りは反射するメインミラーと、
前記撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、
前記メインミラーで透過された光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、
を含むことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記自動焦点モジュールにはフィールドレンズが省略されることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの横方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの縦方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記サブミラーには３つの反射領域が形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向かうことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記サブミラーは前記撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されることを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記メインミラーの反射率は６０％以上７０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項１０】
撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、
撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、
を含むことを特徴とする自動焦点装置。
【請求項１１】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１２】
前記自動焦点モジュールにはフィールドレンズが省略されることを特徴とする請求項１１に記載の自動焦点装置。
【請求項１３】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの横方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１４】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの縦方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１５】
前記サブミラーには３つの反射領域が形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１６】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向かうことを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１７】
前記サブミラーは前記撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されることを特徴とする請求項１６に記載の自動焦点装置。
【請求項１８】
撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されることを特徴とするサブミラー。
【請求項１９】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されることを特徴とする請求項１８に記載のサブミラー。
【請求項２０】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向かうことを特徴とする請求項１８に記載のサブミラー。
【請求項１】
被写体から出る光を結像させる撮影レンズと、
前記撮影レンズを通過した光の一部を透過させて残りは反射するメインミラーと、
前記撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、
前記メインミラーで透過された光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、
を含むことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記自動焦点モジュールにはフィールドレンズが省略されることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの横方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの縦方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記サブミラーには３つの反射領域が形成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向かうことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記サブミラーは前記撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されることを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記メインミラーの反射率は６０％以上７０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項１０】
撮影レンズの焦点状態を検出する自動焦点モジュールと、
撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されるサブミラーと、
を含むことを特徴とする自動焦点装置。
【請求項１１】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１２】
前記自動焦点モジュールにはフィールドレンズが省略されることを特徴とする請求項１１に記載の自動焦点装置。
【請求項１３】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの横方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１４】
前記複数個の反射領域は前記サブミラーの縦方向に沿って形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１５】
前記サブミラーには３つの反射領域が形成されることを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１６】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向かうことを特徴とする請求項１０に記載の自動焦点装置。
【請求項１７】
前記サブミラーは前記撮影レンズを通過した光の光軸と垂直に配置されることを特徴とする請求項１６に記載の自動焦点装置。
【請求項１８】
撮影レンズを通過した光を分割して前記自動焦点モジュールにガイドするように、複数個の反射領域が形成されることを特徴とするサブミラー。
【請求項１９】
前記複数個の反射領域は凹状に形成されることを特徴とする請求項１８に記載のサブミラー。
【請求項２０】
前記サブミラーで反射された光は前記メインミラーで再反射されて前記自動焦点モジュールに向かうことを特徴とする請求項１８に記載のサブミラー。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１０２３４０（Ｐ２０１０−１０２３４０Ａ）
【公開日】平成２２年５月６日（２０１０．５．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２４２２９６（Ｐ２００９−２４２２９６）
【出願日】平成２１年１０月２１日（２００９．１０．２１）
【出願人】（３９００１９８３９）三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】ＳＡＭＳＵＮＧ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】４１６，Ｍａｅｔａｎ−ｄｏｎｇ，Ｙｅｏｎｇｔｏｎｇ−ｇｕ，Ｓｕｗｏｎ−ｓｉ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−ｄｏ ４４２−７４２（ＫＲ）
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年５月６日（２０１０．５．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月２１日（２００９．１０．２１）
【出願人】（３９００１９８３９）三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】ＳＡＭＳＵＮＧ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】４１６，Ｍａｅｔａｎ−ｄｏｎｇ，Ｙｅｏｎｇｔｏｎｇ−ｇｕ，Ｓｕｗｏｎ−ｓｉ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−ｄｏ ４４２−７４２（ＫＲ）
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]