チオウレア化合物、ベンゾチアゾール化合物、及びベンゾチアゾリン化合物の製造方法
【課題】 アゾ色素の合成中間体、医薬品原末等として有用なチオウレア化合物、ベンゾチアゾール化合物並びにベンゾチアゾリン化合物を高収率に製造する製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（２）で示される化合物と、下記一般式（３）で示される化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする下記一般式（１）で示される化合物の製造方法。
【化１】
（一般式（１）、（２）、及び（３）中、Ｒ1はＨ、アルキル、又はアリール基を表わし、Ｒ2〜Ｒ6は、それぞれ独立に、Ｈ、ハロゲン、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アシルアミノ、スルホニルアミノ、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、カルバモイル、ニトロ又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル又はアリール基を表す。）
【解決手段】 下記一般式（２）で示される化合物と、下記一般式（３）で示される化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする下記一般式（１）で示される化合物の製造方法。
【化１】
（一般式（１）、（２）、及び（３）中、Ｒ1はＨ、アルキル、又はアリール基を表わし、Ｒ2〜Ｒ6は、それぞれ独立に、Ｈ、ハロゲン、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アシルアミノ、スルホニルアミノ、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、カルバモイル、ニトロ又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル又はアリール基を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はアゾ色素の合成中間体、ジアゾニウム塩中間体、医薬品原末、及び農、医薬中間体として有用な、チオウレア化合物、ベンゾチアゾール化合物、並びにベンゾチアゾリン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にチオウレア化合物の合成は種々の文献記等に記載されている（例えば、非特許文献１〜３参照。）。この中でも比較的簡便な方法として、一級又は二級アミン化合物とイソチオシアネート化合物の付加反応が挙げられる。この方法はアミン化合物の求核性が充分に高い場合などは収率良く反応が進行するが、アニリン化合物、特に二級アニリン化合物や立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物などの場合、反応が遅く、また完全に進行しないという問題点があった。求核性の低いアニリン化合物や二級アニリン化合物、立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物などを用いても反応が速やかに完結する製造方法が求められていた。
【０００３】
また、ベンゾチアゾリン化合物やベンゾチアゾール化合物の製造方法としては、例えばＮ−アリールチオウレア類の酸化反応により得られることが知られており、酸化剤としては塩素、臭素、ヨウ素、塩化スルホニル、塩化スルフリルが用いられる（例えば、非特許文献４〜６参照）。
しかしながら、反応系中にアニリン化合物が含まれている場合、これらが酸化されて反応が複雑になるという問題点があった。
【非特許文献１】スタンレー Ｒ．サンドラー、ウォルフ カロ（Ｓｔａｎｌｅｙ Ｒ．Ｓａｎｄｌｅｒ，Ｗｏｌｆ Ｋａｒｏ）、「オーガニック ファンクショナルグループ プリパレーションズ 第２卷（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ Ｖｏｌｕｍｅ ＩＩ）」、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．、１９７１、ｐ．１３４〜１６５（Ｃｈａｐｔｅｒ６）
【非特許文献２】「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」、丸善株式会社、１９７６
【非特許文献３】「ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティ Ｃ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（Ｃ）） 」、１９６７、ｐ．２２１２−２２２０
【非特許文献４】「オーガニック シンセシス ＩＩＩ（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．ＩＩＩ）」、１９５５、ｐ．５９５−５９６
【非特許文献５】「ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）」、１９３０，ｐ．１１２５
【非特許文献６】「ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）」、１９２６、ｐ．１３８５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、アゾ色素の合成中間体、ジアゾニウム塩中間体、医薬品原末、及び農、医薬中間体として有用なチオウレア化合物を高収率で製造する製造方法を提供することにある。更に、同様に有用なベンゾチアゾール化合物及びベンゾチアゾリン化合物を高収率に製造する製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、カルボン酸を系中に存在させることによりチオウレア化反応が速やかに進行し、目的とするチオウレア化合物を高収率で得ることを見出した。カルボン酸を溶媒として用いることも可能である。また、チオウレア化反応が完結することで出発原料（例えば、アニリン化合物）が系中から消失するため、酸化剤を用いてチオウレア化合物の酸化反応を連続して行なうことができ、高収率でベンゾチアゾリン化合物またはベンゾチアゾール化合物を得る事も可能とし、本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち、本発明の手段は以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする下記一般式（１）で示されるチオウレア化合物の製造方法。
【０００７】
【化１】
【０００８】
（一般式（１）、（２）、及び（３）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【０００９】
＜２＞ 前記一般式（１）及び（２）において、Ｒ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である上記＜１＞に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【００１０】
＜３＞ 前記カルボン酸を溶媒として用いることを特徴とする上記＜１＞又は＜２＞に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【００１１】
＜４＞ 前記使用するカルボン酸が酢酸であることを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【００１２】
＜５＞ 下記一般式（２ａ）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（４）で示されるベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【００１３】
【化２】
【００１４】
（一般式（２ａ）、（３）、及び（４）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【００１５】
＜６＞ 前記一般式（４）においてＲ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である上記＜５＞に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【００１６】
＜７＞ 溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする上記＜５＞又は＜６＞に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【００１７】
＜８＞ イソチオシアネート化合物が下記一般式（５）で示されるとき、下記一般式（２）で示されるアニリン化合物とカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（６）で示されるベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【００１８】
【化３】
【００１９】
（一般式（２）、（５）、及び（６）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。）
【００２０】
＜９＞ 前記一般式（５）及び（６）において、Ｒ9がアルコキシ基、又はアリールオキシ基、であり、Ｒ10がアシルアミノ基である上記＜８＞に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【００２１】
＜１０＞ 前記溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする上記＜８＞又は＜９＞に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、アゾ色素の合成中間体、ジアゾニウム塩中間体、医薬品原末、及び農、医薬中間体として有用なチオウレア化合物を二級アニリン化合物、立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物など反応性の低いアニリンを用いても高収率で製造する製造方法を提供することができる。
更に、本発明によれば、チオウレア化反応に続けて酸化剤を用いた環化反応を連続して行なうことができ、前記同様に有用なベンゾチアゾール化合物及びベンゾチアゾリン化合物を高収率に製造する製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下本発明について詳細に説明する。
〈チオウレア化合物の製造方法〉
本発明におけるチオウレア化合物の製造方法は、前記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする。
本発明におけるチオウレア化合物の製造方法を用いることより、本発明における一般式（１）チオウレア化合物を高収率で得る事ができる。
【化４】
【００２４】
本発明における一般式（１）、（２）及び（３）について、以下に詳細に説明する。
【００２５】
一般式（１）、（２）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基又はアリール基を表わす。
前記Ｒ1で表されるアルキル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキル基がさらに好ましい。
具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、（４−エトキシフェニル）メチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基、１−（Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）エチル基、２−メトキシエチルオキシ基が好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、又はＮ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基が特に好ましい。
【００２６】
前記Ｒ1で表されるアリール基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリール基がさらに好ましい。
具体的には、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェノキシ基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，５−ジブトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、ナフチル基、４−ジブチルカルバモイルフェニル基、４−ジブチルスルファモイルフェニル基が好ましく、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基が特に好ましい。
【００２７】
一般式（１）及び（２）中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。
【００２８】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子が特に好ましい。
【００２９】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルキル基としては無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキル基がさらに好ましい。具体的にはメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルペンチル基、イソペンチル基、ノルマルヘキシル基、ノルマルオクチル基、２−エチルヘキシル基、ターシャリーオクチル基、ノルマルデシル基、ノルマルドデシル基、ノルマルオクタデシル基、トリクロロメチル基、フェニルエチル基、エトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシカルボニルプロピル基、アセチルオキシエチル基、Ｎ−ブチルカルバモイルエチル基、アセチルアミノエチル基、２−シアノブチル基、又はフルフリル基が好ましく、更に好ましくは、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルヘキシル基、ノルマルオクチル基、２−エチルヘキシル基、ターシャリーオクチル基、又はフェニルエチル基が挙げられ、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、ターシャリーブチル基、又はノルマルヘキシル基が挙げられる。
前記Ｒ1とＲ6が結合して環を形成してもよい。該環としては５員、６員環が挙げられる。
【００３０】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリール基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリール基がさらに好ましい。具体的にはフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェノキシ基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，５−ジブトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、ナフチル基、４−ジブチルカルバモイルフェニル基、又は４−ジブチルスルファモイルフェニル基が好ましく、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基が特に好ましい。
【００３１】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルコキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルコキシ基がさらに好ましい。具体的にはメチルオキシ基、エチルオキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ノルマルブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ターシャリーブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、デシルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェノキシエトキシ基、ドデシルチオキシエチルオキシ基、ナフトキシエトキシ基、４−メチルフェニルチオエトキシ基、シアノメトキシ基、又はトリクロロメトキシ基が挙げられ、更に好ましくは、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ノルマルブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ターシャリーブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、デシルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、又はフェノキシエトキシ基が挙げられ、特に好ましくは、メチルオキシ基、エチルオキシ基、イソプロピルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、デシルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、又はフェノキシエトキシ基が挙げられる。
【００３２】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリールオキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリールオキシ基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリールオキシ基がさらに好ましい。具体的にはフェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、４−クロロフェニルオキシ基、２−クロロフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、４−フェノキシフェニルオキシ基、４−ドデシルチオキシフェニルオキシ基、又は４−シアノフェニルオキシ基が挙げられ、更に好ましくは、フェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、４−クロロフェニルオキシ基、２−クロロフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、又は４−フェノキシフェニルオキシ基が挙げられ、特に好ましくはフェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、４−クロロフェニルオキシ基、又は４−メトキシフェニルオキシ基が挙げられる。
【００３３】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルキルチオ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキルチオ基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキルチオ基がさらに好ましい。具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ヘキシルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、３，５，５−トリメチルヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、２−フェノキシエチルチオ基、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）エチルチオ基、ジブチルカルバモイルメチルチオ基、ヘキサデシルチオ基、又はオクタデシルチオ基が好ましく、さらにメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ヘキシルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、３，５，５−トリメチルヘキシルチオ基、ドデシルチオ基、２−フェノキシエチルチオ基、又はジブチルカルバモイルメチルチオ基が好ましい。
【００３４】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリールチオ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリールチオ基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリールチオ基がさらに好ましい。具体的にはフェニルチオ基、トリルチオ基、４−クロロフェニルチオ基、４−アセトアミドフェニルチオ基、２−ブトキシフェニルチオ基、２−ベンゾイルアミノフェニルチオ基、２，５−ジメトキシ−４−ニトロフェニルチオ基、又は３−オクチルオキシフェニルチオ基が好ましく、さらにフェニルチオ基、トリルチオ基、４−クロロフェニルチオ基、４−アセトアミドフェニルチオ基、２−ブトキシフェニルチオ基、又は２，５−ジメトキシ−４−ニトロフェニルチオ基が好ましい。
【００３５】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアミノ基としては総炭素数２〜２０のジ置換アミノ基が好ましく、その置換基としては、アルキル基もしくはアリール基が好ましい。具体的にはＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメトキシエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、又はピペリジン基が挙げられ、更に好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、又はＮ、Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、が挙げられ、特に好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、又はＮ、Ｎ−ジイソプロピルアミノ基が挙げられる。
【００３６】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアシルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１から３０のアシルアミノ基が好ましく、総炭素数１〜２０のアシルアミノ基がさらに好ましい。具体的にはエタノイルアミノ基、ブタノイルアミノ基、２−エチルヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、デカノイルアミノ基、エトキシエタノイルアミノ基、４−ニトロベンゾイルアミノ基、２−メトキシベンゾイルアミノ基、フェノキシブタノイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、オクチルアミノカルボニルアミノ基、又はジブチルアミノカルボニルアミノ基が好ましく、更に好ましくは、エタノイルアミノ基、ブタノイルアミノ基、２−エチルヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、デカノイルアミノ基、エトキシエタノイルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、オクチルアミノカルボニルアミノ基、又はジブチルアミノカルボニルアミノ基が挙げられ、特に好ましくは、エタノイルアミノ基、ブタノイルアミノ基、２−エチルヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、デカノイルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、オクチルアミノカルボニルアミノ基、又はジブチルアミノカルボニルアミノ基が挙げられる。
【００３７】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるスルホニルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のスルホニルアミノ基が好ましく、総炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基がさらに好ましい。具体的にはメチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、デシルスルホニルアミノ基、ベンジルスルホニルアミノ基、クロロエチルスルホニルアミノ基、フェノキシエチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、４−メチルフェニルスルホニルアミノ基、ナフチルスルホニルアミノ基、４−メトキシフェニルスルホニルアミノ基、Ｎ−メチルフェニルスルホニルアミノ基、又は４−シアノフェニルスルホニルアミノ基が好ましく、更に好ましくは、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、デシルスルホニルアミノ基、ベンジルスルホニルアミノ基、クロロエチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、４−メチルフェニルスルホニルアミノ基、又はナフチルスルホニルアミノ基が挙げられ、特に好ましくは、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、デシルスルホニルアミノ基、ベンジルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、又は４−メチルフェニルスルホニルアミノ基が挙げられる。
【００３８】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルコキシカルボニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数２〜３０のアルコキシカルボニル基が好ましく、総炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基がさらに好ましい。具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、エトキシブトキシカルボニル基、フェノキシエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−メチルフェニルチオキシエトキシカルボニル基、トリクロロメチルオキシカルボニル基、又は２−シアノプロピルオキシカルボニル基が挙げられ、更に好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、エトキシブトキシカルボニル基、フェノキシエトキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基が挙げられ、特に好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基が挙げられる。
【００３９】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルキルスルホニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基がさらに好ましい。
具体的にはメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ノルマルブチルスルホニル基、ノルマルオクチルスルホニル基、ノルマルデシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、フェニルメチルスルホニル基、トリクロロメチルスルホニル基、エトキシエチルスルホニル基、又はフェノキシエチルスルホニル基が好ましく、更に好ましくは、メチルスルホニル基、ノルマルブチルスルホニル基、ノルマルオクチルスルホニル基、フェニルメチルスルホニル基、又はトリクロロメチルスルホニル基が好ましく、特に好ましくは、メチルスルホニル基、ノルマルオクチルスルホニル基、トリクロロメチルスルホニル基、又はドデシルスルホニル基が好ましい。
【００４０】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリールスルホニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリールスルホニル基がさらに好ましい。
具体的にはフェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、クロロベンゼンスルホニル基、４−ブトキシベンゼンスルホニル基、ジクロロベンゼンスルホニル基、ナフチルスルホニル基、ジメチルアミノベンゼンスルホニル基、又はエトキシカルボニルベンゼンスルホニル基が好ましく、さらに好ましくはフェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、クロロベンゼンスルホニル基、又は４−ブトキシベンゼンスルホニル基が挙げられ、特に好ましくは、フェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、又はクロロベンゼンスルホニル基が挙げられる。
【００４１】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるカルバモイル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１から３０のカルバモイル基が好ましく、総炭素数１〜２０のカルバモイル基がさらに好ましい。具体的にはジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−エチルヘキシルカルバモイル基、デシルカルバモイル基、メチルエチルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル基、メトキシエチルカルバモイル基、ナフチルカルバモイル基、４−シアノフェニルカルバモイル基、又は４−ニトロフェニルカルバモイル基が挙げられ、更に好ましくはジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−エチルヘキシルカルバモイル基、デシルカルバモイル基、メチルエチルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル基、メトキシエチルカルバモイル基、又はナフチルカルバモイル基が挙げられ、特に好ましくは、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−エチルヘキシルカルバモイル基、又はデシルカルバモイル基が挙げられる。
【００４２】
一般式（１）及び（３）中、Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表わす。
【００４３】
前記Ｒ7で表されるアルキル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキル基がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、（４−エトキシフェニル）メチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基、１−（Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）エチル基、又は２−メトキシエチルオキシ基が好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、又はＮ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基が特に好ましい。
【００４４】
前記Ｒ7で表されるアリール基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリール基がさらに好ましい。具体的には、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェノキシ基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，５−ジブトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、ナフチル基、４−ジブチルカルバモイルフェニル基、４−ジブチルスルファモイルフェニル基、４−アセチルアミノ−３−（３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ）フェニル基、又は４−アセチルアミノ−３−オクチルフェニル基が好ましく、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、又は４−ブトキシフェニル基が特に好ましい。
【００４５】
なお一般式（１）及び（２）においてＲ3がアルコキシ基、又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基であることが好ましい。
【００４６】
以下に本発明の製造方法により得られる一般式（１）で示される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４７】
【化５】
【００４８】
【化６】
【００４９】
【化７】
【００５０】
本発明において用いる前記カルボン酸としては、特に制限は無く、反応条件で安定であれば良い。一価でも多価であっても良い。
このようなカルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、２−エチルヘキサン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、ピバリン酸、カプロン酸、カプリル酸、オレイン酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、琥珀酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、クロトン酸、フェニルプロピオン酸、安息香酸、サリチル酸、オルトトルイル酸、パラトルイル酸、フタル酸、イソフタル酸、又はテレフタル酸が好ましく、取り扱い性、汎用性、コストの点からとして蟻酸、酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、又は２−エチルヘキサン酸が最も好ましい。
【００５１】
前記カルボン酸を、溶媒、または添加剤として用いる場合のいずれにおいても、単独又は２種以上を混合して用いても良い。
【００５２】
溶媒としてカルボン酸を使用する場合、取り扱い性の点から反応条件下で液体であることが好ましい。
このようなカルボン酸としては蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、２−エチルヘキサン酸、ジクロロ酢酸、ピバリン酸、カプロン酸、カプリル酸、又はオレイン酸が好ましく、取り扱い性、汎用性、コストの点からとして酢酸が最も好ましい。
【００５３】
添加剤としてカルボン酸を用いる場合、その添加量としては一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で１％〜２０００％が好ましく、１０％〜５００％が特に好ましい。量が少ないと効果が小さく原料が残留し、多いと容積効率が低下する傾向となる。
溶媒としてカルボン酸を用いる場合、溶媒の使用量は、原料が溶解する程度でよいが、高濃度であると高粘化し撹拌効率が下がり、低濃度では容積効率が低下するため、使用する一般式（２）で表される化合物の質量に対し、１０％〜２０００％の範囲が好ましく、１００％〜２０００％が更に好ましく、２００％〜５００％であれば特に好ましい。
【００５４】
前記カルボン酸を添加剤として用いる場合の反応に使用する溶媒としては、一般式（２）で表わされる化合物及び添加するカルボン酸が反応条件下で溶解するものが好ましく、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒の他、スルホラン、ジメチルスルホキシド、水等が好ましい。また、これらの溶媒を２種以上併用して使用することもできる。特にアセトニトリル、トルエン、酢酸エチルが収率の点から好ましい。
【００５５】
一般式（３）で表される化合物の使用量は、一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で９０％〜５００％が好ましく、９５％〜１３０％がさらに好ましく、９５％〜１２０％が特に好ましい。量が少ないと一般式（２）で表される化合物が残留し、多いと逆に一般式（３）で表される化合物が残留する。
反応温度は、−１０℃〜１２０℃の範囲で選べばよく、４０℃〜１００℃の範囲で行うことが好ましい。
反応終了後、生成物を単離する方法は、特に制限は無いが、反応系に水を添加して晶析させ濾過・水洗する方法、反応系に水を添加して酢酸エチル、トルエン、ジエチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒により生成物を抽出し、水洗浄の後、有機溶媒を留去する方法などが可能である。
得られた生成物を精製する方法としては、特に制限は無いが、再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製手法を用いることができる。
また、合成中間体として用いる場合は、単離してもよいが、次の反応等に支障が無い場合は、単離せずに溶媒に溶解したまま用いることもできる。
【００５６】
一般式（２）で表わされるアニリン化合物は市販のもの、あるいは、「Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ Ｖｏｌｕｍｅ Ｉ」（Ｓｔａｎｌｅｙ Ｒ．Ｓａｎｄｌｅｒ， Ｗｏｌｆ Ｋａｒｏ著（ｓｅｃｏｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ， １９８３） Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ， Ｉｎｃ．） Ｃｈａｐｔｅｒ１３、「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」（１９７６、丸善株式会社）等に記載されている公知の方法で合成できる。
【００５７】
一般式（３）で表わされるイソチオシアネート化合物は市販のもの、あるいは、「Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ Ｖｏｌｕｍｅ Ｉ」（Ｓｔａｎｌｅｙ Ｒ．Ｓａｎｄｌｅｒ， Ｗｏｌｆ Ｋａｒｏ著（ｓｅｃｏｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，１９８３） Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．） Ｃｈａｐｔｅｒ１２、「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」（１９７６、丸善株式会社）等に記載されている公知の方法で合成できる。
【００５８】
〈ベンゾチアゾリン化合物の製造方法〉
本発明における下記一般式（４）で示されるベンゾチアゾリン化合物の製造方法は、下記一般式（２ａ）で示されるアニリン化合物と下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行なうことを特徴とする。
当該製造方法を使用することにより、上述した本発明の一般式（４）のベンゾチアゾリン化合物を高収率で得る事ができる。
【００５９】
【化８】
【００６０】
一般式（２ａ）、（３）及び（４）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ7は前記一般式（１）、（２）、及び（３）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ7と同義であり、好ましい具体例も同様である。
【００６１】
なお一般式（４）においてＲ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基であることが好ましい。
【００６２】
以下に本発明の製造方法により得られる一般式（４）で示される化合物の具体例（Ｂ−１〜Ｂ−１６）を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６３】
【化９】
【００６４】
【化１０】
【００６５】
本発明のベンゾチアゾリン化合物の製造方法において、中間体の前記チオウレア化合物の製造条件についてはその製造条件とすることができ、好ましい条件も同様である。
【００６６】
本発明のベンゾチアゾリン化合物の製造方法においては、以下の条件が使用できる。
前記チオウレア化合物の製造に続けて、環化反応を行なう。この環化反応は酸化反応であり、用いる酸化剤としては、塩素、臭素、ヨウ素、塩化スルホニル、塩化スルフリル、１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、ベンジルトリメチルアンモニウムトリブロミド又はテトラブチルアンモニウムトリブロミドが好ましく、取り扱い、収率の点からは、臭素、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、又はベンジルトリメチルアンモニウムトリブロミドが最も好ましい。また、これらは単独であってもまた併用であっても良い。
酸化剤の使用量は１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、及び１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン以外の場合、一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で９０％〜１３０％が好ましく、１００％〜１１０％が特に好ましい。１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、及び１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントインの場合、一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で４５％〜１３０％が好ましく、５０％〜１００％が特に好ましい。酸化剤量が少ないと原料が残留し、多いと副反応物が増えることがある。
【００６７】
反応に使用する溶媒としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、２−エチルヘキサン酸、ジクロロ酢酸、ピバリン酸、カプロン酸、カプリル酸、又はオレイン酸が好ましい。これらの溶媒の混合溶媒も使用できる。
また、酸化反応（環化反応）をチオウレア化反応に引き続き連続して行なうので、酸化反応の前に溶媒を追加することもできる。この場合、酸化剤と反応しないものであれば特に制限は無く、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒等が使用できる。これらの溶媒の混合溶媒でもよい。
溶媒の使用量は、原料が溶解する程度でよいが、高濃度であると高粘化し撹拌効率が下がり、低濃度では容積効率が低下するため、使用する一般式（２）で表される化合物の質量に対し、１００％〜２０００％の範囲が好ましい。２００％〜５００％であればさらに好ましい。
【００６８】
反応温度は−１０℃〜１２０℃の範囲で選べばよく、一般的に高温ほど早く反応は完結するが、本合成方法は室温以下でも速やかに反応するため、収率の点から−１０℃〜７０℃が好ましく、−５℃〜３５℃範囲で行うことが更に好ましい。また、使用する溶媒の融点がこの範囲に入るものについては融点以上の温度で反応を行うことが好ましい。
反応終了後、生成物を単離する方法は特に制限は無く、反応系に水を添加して生成物を酸の塩として晶析させ、濾過・水洗した後、アルコール、アセトン、アセトニトリル等の水溶性有機溶媒に溶解し、無機塩基水溶液により中和する方法、反応系に水を添加した後、無機塩基水溶液により中和して生成物を晶析させ、濾過・水洗する方法、反応系に水を添加し、無機塩基水溶液により中和し、酢酸エチル、トルエン、ジエチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒により生成物を抽出し、水による洗浄を行ない有機溶媒を留去する方法などが可能である。
用いる無機塩基としては炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウム等が好ましく、特に炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウムが好ましい。また、単独でも２種以上を併用してもよい。
得られた生成物を精製する方法としては、特に制限は無いが、再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製手法を用いることができる。
【００６９】
〈ベンゾチアゾール化合物の製造方法〉
本発明における下記一般式（６）で示されるベンゾチアゾール化合物の製造方法は、下記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（５）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行なうことを特徴とする。
当該製造方法を使用することにより、本発明における下記一般式（６）のベンゾチアゾール化合物を高収率で得る事ができる。
【００７０】
【化１１】
【００７１】
一般式（２）は、前記チオウレア化合物の製造方法の項における化合物と同様であり、好ましい具体例も同様である。
一般式（５）中、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は前記一般式（１）、（２）におけるＲ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5と同義であり、好ましい具体例も同様である。
【００７２】
一般式（６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は前記一般式（１）、（２）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同義であり、好ましい具体例も同様である。Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は前記一般式（５）におけるＲ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11と同義であり、好ましい具体例も同様である。
【００７３】
なお、一般式（６）においてＲ9がアルコキシ基、又はアリールオキシ基であり、Ｒ10がアシルアミノ基であることが好ましい。
【００７４】
以下に、本発明の製造方法により得られる一般式（６）で示される化合物の具体例（Ｃ−１〜Ｃ−８）を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７５】
【化１２】
【００７６】
本発明のベンゾチアゾール化合物の製造方法において、使用できる条件は一般式（５）で示される化合物と一般式（２）で示される化合物の反応においては、前記チオウレア化合物の製造方法と同様であり、環化反応においては前記ベンゾチアゾリン化合物の製造方法と同様である。
【実施例】
【００７７】
以下に、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００７８】
（実施例１）
Ｎ−メチルアニリン１０．７ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液に水２００ｍＬと酢酸エチル２００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮し例示化合物Ａ−１を２２．０ｇ得た。1Ｈ−ＮＭＲより生成物中にＮ−メチルアニリンは残存しておらず、例示化合物Ａ−１の収率は９９％であった。得られた例示化合物Ａ−１の1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に示す。
【００７９】
【化１３】
【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；７．５０（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｍ，１Ｈ），７．２２（ｍ，２Ｈ），５．３０（ｂｒ，１Ｈ），３．６５（ｓ，３Ｈ），３．５６（ｍ，２Ｈ），１．４３（ｍ，２Ｈ），１．２１（ｍ，２Ｈ），０．８６（ｔ，３Ｈ）
【００８１】
（比較例１）
Ｎ−メチルアニリン１０．７ｇとアセトニトリル５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液に水２００ｍＬと酢酸エチル２００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮し例示化合物Ａ−１を１９．０ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲよると、生成物中にはＮ−メチルアニリンが残存しており、その比率は「生成物：Ｎ−メチルアニリン＝８３：１７」であった。生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、例示化合物Ａ−１の収率は７７％であった。Ｎ−メチルアニリンの1Ｈ−ＮＭＲデータを下記する。
【００８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；７．１０（ｍ，２Ｈ），６．７５（ｔ，１Ｈ），６．６２（ｍ，２Ｈ），３．６６（ｂｒ，１Ｈ）２．８２（ｓ，３Ｈ）
【００８３】
（実施例２）
下記化合物ａを６．６ｇと酢酸２．４ｇ、アセトニトリル２０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し５時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍＬと酢酸エチル１００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲデータより濃縮物（生成物）中に化合物ａは残存していなかった。酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再結晶することで例示化合物Ａ−２１を８．０ｇ得た。収率は９１％であった。得られた例示化合物Ａ−１の1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に示す。
【００８４】
【化１４】
【００８５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；８．４０（ｄ，１Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），７．２０−７．３５（ｍ，５Ｈ），６．６５（ｄ，１Ｈ），６．２２（ｓ，１Ｈ），５．４５（ｂｒ，１Ｈ），５．４１（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｍ，１Ｈ），３．５９（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），１．５５（ｍ，４Ｈ），１．４４（ｍ，２Ｈ），１．２３（ｍ，２Ｈ），０．８５（ｍ，９Ｈ）
【００８６】
（実施例３）
上記化合物ａを３２．６ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液に水３００ｍＬと酢酸エチル２００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲより生成物中に化合物ａは残存していなかった。酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再結晶することで例示化合物Ａ−２１を４１．３ｇ得た。収率は９４％であった。
【００８７】
（比較例２）
上記化合物ａを６．６ｇとアセトニトリル２０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し５時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍＬと酢酸エチル１００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲより生成物中に約４７％の化合物ａが残存していた。濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより精製することで例示化合物Ａ−２１を４．３ｇ得た。収率は４９％であった。
【００８８】
（比較例３）
上記化合物ａを６．６ｇとアセトニトリル２０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し２４時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍＬと酢酸エチル１００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲより生成物中に約４１％の化合物ａが残存していた。濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより精製することで例示化合物Ａ−２１を４．８ｇ得た。収率は５４％であった。
【００８９】
（実施例４）
下記化合物ａを３２．６ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液を放冷後、酢酸１００ｍＬを追加し、室温下で酢酸５０ｍＬにＢｒ2１５．０ｇを加えた溶液を３０分かけてゆっくり滴下し、室温下でさらに１時間撹拌した。反応液に水１Ｌを加えて晶析し、析出した固体を濾取した。これをメタノール２００ｍＬに溶解し水酸化ナトリウム水溶液で中和後、水１Ｌ加えて晶析した。固体を濾取し、水で洗浄した。乾燥後、例示化合物Ｂ−１１を３６．５ｇ得た。収率は８３％であった。
【００９０】
【化１５】
【００９１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；８．３８（ｓ，１Ｈ），７．６０（ｓ，１Ｈ），７．２０−７．３６（ｍ，５Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），３．８５（ｍ，１Ｈ），３．２１（ｔ，２Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），１．５０−１．７１（ｍ，６Ｈ），１．４３（ｍ，２Ｈ），０．９４（ｔ，３Ｈ）， ０．８５（ｔ，６Ｈ）
【００９２】
（実施例５）
上記化合物ａを６．６ｇと酢酸１０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液を放冷後、酢酸２０ｍＬを追加し０℃に冷却した。これに１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン２．９ｇを添加し、室温下でさらに１時間撹拌した。反応液に水を加えて晶析し、析出した固体を濾取した。これをメタノール５０ｍＬに溶解し水酸化ナトリウム水溶液で中和後、水３００ｍＬ加えて晶析した。固体を濾取し、水で洗浄した。乾燥後、例示化合物Ｂ−１１を６．９ｇ得た。収率は７９％であった。
【００９３】
（実施例６）
下記化合物ｂを３３．４ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへ下記化合物ｃを１０．７ｇ添加し５０℃で５時間攪拌した。反応溶液を放冷後、酢酸１００ｍＬを追加し、室温下で酢酸５０ｍＬにＢｒ2１５．０ｇを加えた溶液を３０分かけてゆっくり滴下し、室温下でさらに１時間撹拌した。反応液に水を加えて晶析し、析出した固体を濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製し、例示化合物Ｃ−２を３９．１ｇ得た。収率は８９％であった。
【００９４】
【化１６】
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；８．５８（ｓ，１Ｈ），７．７９（ｓ，１Ｈ），７．３０−７．５０（ｍ，５Ｈ），７．２０（ｓ，１Ｈ），４．０９（ｔ，２Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ），２．１９（ｓ，３Ｈ），１．６４−１．９５（ｍ，３Ｈ），１．１４−１．３０（ｍ，２Ｈ），１．０２（ｄ，３Ｈ），０．９４（ｓ，９Ｈ）
【００９６】
実施例１と比較例１の比較、実施例２，３と比較例２，３の比較から、本発明の製造方法によれば、二級アニリン化合物、立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物を用いても効率的にチオウレア化合物を高収率で得ることができることが分かる。
さらに実施例４〜６のようにチオウレア化反応に続けて環化反応を連続して行なうことができ、高収率でベンゾチアゾリン化合物又はベンゾチアゾール化合物を得ることができることが分かる。
【技術分野】
【０００１】
本発明はアゾ色素の合成中間体、ジアゾニウム塩中間体、医薬品原末、及び農、医薬中間体として有用な、チオウレア化合物、ベンゾチアゾール化合物、並びにベンゾチアゾリン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にチオウレア化合物の合成は種々の文献記等に記載されている（例えば、非特許文献１〜３参照。）。この中でも比較的簡便な方法として、一級又は二級アミン化合物とイソチオシアネート化合物の付加反応が挙げられる。この方法はアミン化合物の求核性が充分に高い場合などは収率良く反応が進行するが、アニリン化合物、特に二級アニリン化合物や立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物などの場合、反応が遅く、また完全に進行しないという問題点があった。求核性の低いアニリン化合物や二級アニリン化合物、立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物などを用いても反応が速やかに完結する製造方法が求められていた。
【０００３】
また、ベンゾチアゾリン化合物やベンゾチアゾール化合物の製造方法としては、例えばＮ−アリールチオウレア類の酸化反応により得られることが知られており、酸化剤としては塩素、臭素、ヨウ素、塩化スルホニル、塩化スルフリルが用いられる（例えば、非特許文献４〜６参照）。
しかしながら、反応系中にアニリン化合物が含まれている場合、これらが酸化されて反応が複雑になるという問題点があった。
【非特許文献１】スタンレー Ｒ．サンドラー、ウォルフ カロ（Ｓｔａｎｌｅｙ Ｒ．Ｓａｎｄｌｅｒ，Ｗｏｌｆ Ｋａｒｏ）、「オーガニック ファンクショナルグループ プリパレーションズ 第２卷（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ Ｖｏｌｕｍｅ ＩＩ）」、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．、１９７１、ｐ．１３４〜１６５（Ｃｈａｐｔｅｒ６）
【非特許文献２】「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」、丸善株式会社、１９７６
【非特許文献３】「ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティ Ｃ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（Ｃ）） 」、１９６７、ｐ．２２１２−２２２０
【非特許文献４】「オーガニック シンセシス ＩＩＩ（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．ＩＩＩ）」、１９５５、ｐ．５９５−５９６
【非特許文献５】「ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）」、１９３０，ｐ．１１２５
【非特許文献６】「ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）」、１９２６、ｐ．１３８５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、アゾ色素の合成中間体、ジアゾニウム塩中間体、医薬品原末、及び農、医薬中間体として有用なチオウレア化合物を高収率で製造する製造方法を提供することにある。更に、同様に有用なベンゾチアゾール化合物及びベンゾチアゾリン化合物を高収率に製造する製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、カルボン酸を系中に存在させることによりチオウレア化反応が速やかに進行し、目的とするチオウレア化合物を高収率で得ることを見出した。カルボン酸を溶媒として用いることも可能である。また、チオウレア化反応が完結することで出発原料（例えば、アニリン化合物）が系中から消失するため、酸化剤を用いてチオウレア化合物の酸化反応を連続して行なうことができ、高収率でベンゾチアゾリン化合物またはベンゾチアゾール化合物を得る事も可能とし、本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち、本発明の手段は以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする下記一般式（１）で示されるチオウレア化合物の製造方法。
【０００７】
【化１】
【０００８】
（一般式（１）、（２）、及び（３）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【０００９】
＜２＞ 前記一般式（１）及び（２）において、Ｒ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である上記＜１＞に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【００１０】
＜３＞ 前記カルボン酸を溶媒として用いることを特徴とする上記＜１＞又は＜２＞に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【００１１】
＜４＞ 前記使用するカルボン酸が酢酸であることを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【００１２】
＜５＞ 下記一般式（２ａ）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（４）で示されるベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【００１３】
【化２】
【００１４】
（一般式（２ａ）、（３）、及び（４）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【００１５】
＜６＞ 前記一般式（４）においてＲ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である上記＜５＞に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【００１６】
＜７＞ 溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする上記＜５＞又は＜６＞に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【００１７】
＜８＞ イソチオシアネート化合物が下記一般式（５）で示されるとき、下記一般式（２）で示されるアニリン化合物とカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（６）で示されるベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【００１８】
【化３】
【００１９】
（一般式（２）、（５）、及び（６）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。）
【００２０】
＜９＞ 前記一般式（５）及び（６）において、Ｒ9がアルコキシ基、又はアリールオキシ基、であり、Ｒ10がアシルアミノ基である上記＜８＞に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【００２１】
＜１０＞ 前記溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする上記＜８＞又は＜９＞に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、アゾ色素の合成中間体、ジアゾニウム塩中間体、医薬品原末、及び農、医薬中間体として有用なチオウレア化合物を二級アニリン化合物、立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物など反応性の低いアニリンを用いても高収率で製造する製造方法を提供することができる。
更に、本発明によれば、チオウレア化反応に続けて酸化剤を用いた環化反応を連続して行なうことができ、前記同様に有用なベンゾチアゾール化合物及びベンゾチアゾリン化合物を高収率に製造する製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下本発明について詳細に説明する。
〈チオウレア化合物の製造方法〉
本発明におけるチオウレア化合物の製造方法は、前記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする。
本発明におけるチオウレア化合物の製造方法を用いることより、本発明における一般式（１）チオウレア化合物を高収率で得る事ができる。
【化４】
【００２４】
本発明における一般式（１）、（２）及び（３）について、以下に詳細に説明する。
【００２５】
一般式（１）、（２）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基又はアリール基を表わす。
前記Ｒ1で表されるアルキル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキル基がさらに好ましい。
具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、（４−エトキシフェニル）メチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基、１−（Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）エチル基、２−メトキシエチルオキシ基が好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、又はＮ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基が特に好ましい。
【００２６】
前記Ｒ1で表されるアリール基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリール基がさらに好ましい。
具体的には、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェノキシ基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，５−ジブトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、ナフチル基、４−ジブチルカルバモイルフェニル基、４−ジブチルスルファモイルフェニル基が好ましく、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基が特に好ましい。
【００２７】
一般式（１）及び（２）中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。
【００２８】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子が特に好ましい。
【００２９】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルキル基としては無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキル基がさらに好ましい。具体的にはメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルペンチル基、イソペンチル基、ノルマルヘキシル基、ノルマルオクチル基、２−エチルヘキシル基、ターシャリーオクチル基、ノルマルデシル基、ノルマルドデシル基、ノルマルオクタデシル基、トリクロロメチル基、フェニルエチル基、エトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシカルボニルプロピル基、アセチルオキシエチル基、Ｎ−ブチルカルバモイルエチル基、アセチルアミノエチル基、２−シアノブチル基、又はフルフリル基が好ましく、更に好ましくは、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルヘキシル基、ノルマルオクチル基、２−エチルヘキシル基、ターシャリーオクチル基、又はフェニルエチル基が挙げられ、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、ターシャリーブチル基、又はノルマルヘキシル基が挙げられる。
前記Ｒ1とＲ6が結合して環を形成してもよい。該環としては５員、６員環が挙げられる。
【００３０】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリール基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリール基がさらに好ましい。具体的にはフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェノキシ基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，５−ジブトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、ナフチル基、４−ジブチルカルバモイルフェニル基、又は４−ジブチルスルファモイルフェニル基が好ましく、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基が特に好ましい。
【００３１】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルコキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルコキシ基がさらに好ましい。具体的にはメチルオキシ基、エチルオキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ノルマルブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ターシャリーブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、デシルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェノキシエトキシ基、ドデシルチオキシエチルオキシ基、ナフトキシエトキシ基、４−メチルフェニルチオエトキシ基、シアノメトキシ基、又はトリクロロメトキシ基が挙げられ、更に好ましくは、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ノルマルブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ターシャリーブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、デシルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、又はフェノキシエトキシ基が挙げられ、特に好ましくは、メチルオキシ基、エチルオキシ基、イソプロピルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、デシルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、又はフェノキシエトキシ基が挙げられる。
【００３２】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリールオキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリールオキシ基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリールオキシ基がさらに好ましい。具体的にはフェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、４−クロロフェニルオキシ基、２−クロロフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、４−フェノキシフェニルオキシ基、４−ドデシルチオキシフェニルオキシ基、又は４−シアノフェニルオキシ基が挙げられ、更に好ましくは、フェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、４−クロロフェニルオキシ基、２−クロロフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、又は４−フェノキシフェニルオキシ基が挙げられ、特に好ましくはフェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、４−クロロフェニルオキシ基、又は４−メトキシフェニルオキシ基が挙げられる。
【００３３】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルキルチオ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキルチオ基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキルチオ基がさらに好ましい。具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ヘキシルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、３，５，５−トリメチルヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、２−フェノキシエチルチオ基、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）エチルチオ基、ジブチルカルバモイルメチルチオ基、ヘキサデシルチオ基、又はオクタデシルチオ基が好ましく、さらにメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ヘキシルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、３，５，５−トリメチルヘキシルチオ基、ドデシルチオ基、２−フェノキシエチルチオ基、又はジブチルカルバモイルメチルチオ基が好ましい。
【００３４】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリールチオ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリールチオ基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリールチオ基がさらに好ましい。具体的にはフェニルチオ基、トリルチオ基、４−クロロフェニルチオ基、４−アセトアミドフェニルチオ基、２−ブトキシフェニルチオ基、２−ベンゾイルアミノフェニルチオ基、２，５−ジメトキシ−４−ニトロフェニルチオ基、又は３−オクチルオキシフェニルチオ基が好ましく、さらにフェニルチオ基、トリルチオ基、４−クロロフェニルチオ基、４−アセトアミドフェニルチオ基、２−ブトキシフェニルチオ基、又は２，５−ジメトキシ−４−ニトロフェニルチオ基が好ましい。
【００３５】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアミノ基としては総炭素数２〜２０のジ置換アミノ基が好ましく、その置換基としては、アルキル基もしくはアリール基が好ましい。具体的にはＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメトキシエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、又はピペリジン基が挙げられ、更に好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、又はＮ、Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、が挙げられ、特に好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、又はＮ、Ｎ−ジイソプロピルアミノ基が挙げられる。
【００３６】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアシルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１から３０のアシルアミノ基が好ましく、総炭素数１〜２０のアシルアミノ基がさらに好ましい。具体的にはエタノイルアミノ基、ブタノイルアミノ基、２−エチルヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、デカノイルアミノ基、エトキシエタノイルアミノ基、４−ニトロベンゾイルアミノ基、２−メトキシベンゾイルアミノ基、フェノキシブタノイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、オクチルアミノカルボニルアミノ基、又はジブチルアミノカルボニルアミノ基が好ましく、更に好ましくは、エタノイルアミノ基、ブタノイルアミノ基、２−エチルヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、デカノイルアミノ基、エトキシエタノイルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、オクチルアミノカルボニルアミノ基、又はジブチルアミノカルボニルアミノ基が挙げられ、特に好ましくは、エタノイルアミノ基、ブタノイルアミノ基、２−エチルヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、デカノイルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、オクチルアミノカルボニルアミノ基、又はジブチルアミノカルボニルアミノ基が挙げられる。
【００３７】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるスルホニルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のスルホニルアミノ基が好ましく、総炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基がさらに好ましい。具体的にはメチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、デシルスルホニルアミノ基、ベンジルスルホニルアミノ基、クロロエチルスルホニルアミノ基、フェノキシエチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、４−メチルフェニルスルホニルアミノ基、ナフチルスルホニルアミノ基、４−メトキシフェニルスルホニルアミノ基、Ｎ−メチルフェニルスルホニルアミノ基、又は４−シアノフェニルスルホニルアミノ基が好ましく、更に好ましくは、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、デシルスルホニルアミノ基、ベンジルスルホニルアミノ基、クロロエチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、４−メチルフェニルスルホニルアミノ基、又はナフチルスルホニルアミノ基が挙げられ、特に好ましくは、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、デシルスルホニルアミノ基、ベンジルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、又は４−メチルフェニルスルホニルアミノ基が挙げられる。
【００３８】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルコキシカルボニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数２〜３０のアルコキシカルボニル基が好ましく、総炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基がさらに好ましい。具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、エトキシブトキシカルボニル基、フェノキシエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−メチルフェニルチオキシエトキシカルボニル基、トリクロロメチルオキシカルボニル基、又は２−シアノプロピルオキシカルボニル基が挙げられ、更に好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、エトキシブトキシカルボニル基、フェノキシエトキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基が挙げられ、特に好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基が挙げられる。
【００３９】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアルキルスルホニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基がさらに好ましい。
具体的にはメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ノルマルブチルスルホニル基、ノルマルオクチルスルホニル基、ノルマルデシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、フェニルメチルスルホニル基、トリクロロメチルスルホニル基、エトキシエチルスルホニル基、又はフェノキシエチルスルホニル基が好ましく、更に好ましくは、メチルスルホニル基、ノルマルブチルスルホニル基、ノルマルオクチルスルホニル基、フェニルメチルスルホニル基、又はトリクロロメチルスルホニル基が好ましく、特に好ましくは、メチルスルホニル基、ノルマルオクチルスルホニル基、トリクロロメチルスルホニル基、又はドデシルスルホニル基が好ましい。
【００４０】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるアリールスルホニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリールスルホニル基がさらに好ましい。
具体的にはフェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、クロロベンゼンスルホニル基、４−ブトキシベンゼンスルホニル基、ジクロロベンゼンスルホニル基、ナフチルスルホニル基、ジメチルアミノベンゼンスルホニル基、又はエトキシカルボニルベンゼンスルホニル基が好ましく、さらに好ましくはフェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、クロロベンゼンスルホニル基、又は４−ブトキシベンゼンスルホニル基が挙げられ、特に好ましくは、フェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、又はクロロベンゼンスルホニル基が挙げられる。
【００４１】
前記Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表わされるカルバモイル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１から３０のカルバモイル基が好ましく、総炭素数１〜２０のカルバモイル基がさらに好ましい。具体的にはジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−エチルヘキシルカルバモイル基、デシルカルバモイル基、メチルエチルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル基、メトキシエチルカルバモイル基、ナフチルカルバモイル基、４−シアノフェニルカルバモイル基、又は４−ニトロフェニルカルバモイル基が挙げられ、更に好ましくはジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−エチルヘキシルカルバモイル基、デシルカルバモイル基、メチルエチルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル基、メトキシエチルカルバモイル基、又はナフチルカルバモイル基が挙げられ、特に好ましくは、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−エチルヘキシルカルバモイル基、又はデシルカルバモイル基が挙げられる。
【００４２】
一般式（１）及び（３）中、Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表わす。
【００４３】
前記Ｒ7で表されるアルキル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、総炭素数１〜２０のアルキル基がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、（４−エトキシフェニル）メチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基、１−（Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）エチル基、又は２−メトキシエチルオキシ基が好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル基、又はＮ，Ｎ−ジブチルカルバモイルメチル基が特に好ましい。
【００４４】
前記Ｒ7で表されるアリール基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、総炭素数６〜２０のアリール基がさらに好ましい。具体的には、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェノキシ基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，５−ジブトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、ナフチル基、４−ジブチルカルバモイルフェニル基、４−ジブチルスルファモイルフェニル基、４−アセチルアミノ−３−（３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ）フェニル基、又は４−アセチルアミノ−３−オクチルフェニル基が好ましく、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、又は４−ブトキシフェニル基が特に好ましい。
【００４５】
なお一般式（１）及び（２）においてＲ3がアルコキシ基、又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基であることが好ましい。
【００４６】
以下に本発明の製造方法により得られる一般式（１）で示される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４７】
【化５】
【００４８】
【化６】
【００４９】
【化７】
【００５０】
本発明において用いる前記カルボン酸としては、特に制限は無く、反応条件で安定であれば良い。一価でも多価であっても良い。
このようなカルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、２−エチルヘキサン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、ピバリン酸、カプロン酸、カプリル酸、オレイン酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、琥珀酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、クロトン酸、フェニルプロピオン酸、安息香酸、サリチル酸、オルトトルイル酸、パラトルイル酸、フタル酸、イソフタル酸、又はテレフタル酸が好ましく、取り扱い性、汎用性、コストの点からとして蟻酸、酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、又は２−エチルヘキサン酸が最も好ましい。
【００５１】
前記カルボン酸を、溶媒、または添加剤として用いる場合のいずれにおいても、単独又は２種以上を混合して用いても良い。
【００５２】
溶媒としてカルボン酸を使用する場合、取り扱い性の点から反応条件下で液体であることが好ましい。
このようなカルボン酸としては蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、２−エチルヘキサン酸、ジクロロ酢酸、ピバリン酸、カプロン酸、カプリル酸、又はオレイン酸が好ましく、取り扱い性、汎用性、コストの点からとして酢酸が最も好ましい。
【００５３】
添加剤としてカルボン酸を用いる場合、その添加量としては一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で１％〜２０００％が好ましく、１０％〜５００％が特に好ましい。量が少ないと効果が小さく原料が残留し、多いと容積効率が低下する傾向となる。
溶媒としてカルボン酸を用いる場合、溶媒の使用量は、原料が溶解する程度でよいが、高濃度であると高粘化し撹拌効率が下がり、低濃度では容積効率が低下するため、使用する一般式（２）で表される化合物の質量に対し、１０％〜２０００％の範囲が好ましく、１００％〜２０００％が更に好ましく、２００％〜５００％であれば特に好ましい。
【００５４】
前記カルボン酸を添加剤として用いる場合の反応に使用する溶媒としては、一般式（２）で表わされる化合物及び添加するカルボン酸が反応条件下で溶解するものが好ましく、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒の他、スルホラン、ジメチルスルホキシド、水等が好ましい。また、これらの溶媒を２種以上併用して使用することもできる。特にアセトニトリル、トルエン、酢酸エチルが収率の点から好ましい。
【００５５】
一般式（３）で表される化合物の使用量は、一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で９０％〜５００％が好ましく、９５％〜１３０％がさらに好ましく、９５％〜１２０％が特に好ましい。量が少ないと一般式（２）で表される化合物が残留し、多いと逆に一般式（３）で表される化合物が残留する。
反応温度は、−１０℃〜１２０℃の範囲で選べばよく、４０℃〜１００℃の範囲で行うことが好ましい。
反応終了後、生成物を単離する方法は、特に制限は無いが、反応系に水を添加して晶析させ濾過・水洗する方法、反応系に水を添加して酢酸エチル、トルエン、ジエチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒により生成物を抽出し、水洗浄の後、有機溶媒を留去する方法などが可能である。
得られた生成物を精製する方法としては、特に制限は無いが、再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製手法を用いることができる。
また、合成中間体として用いる場合は、単離してもよいが、次の反応等に支障が無い場合は、単離せずに溶媒に溶解したまま用いることもできる。
【００５６】
一般式（２）で表わされるアニリン化合物は市販のもの、あるいは、「Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ Ｖｏｌｕｍｅ Ｉ」（Ｓｔａｎｌｅｙ Ｒ．Ｓａｎｄｌｅｒ， Ｗｏｌｆ Ｋａｒｏ著（ｓｅｃｏｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ， １９８３） Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ， Ｉｎｃ．） Ｃｈａｐｔｅｒ１３、「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」（１９７６、丸善株式会社）等に記載されている公知の方法で合成できる。
【００５７】
一般式（３）で表わされるイソチオシアネート化合物は市販のもの、あるいは、「Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ Ｖｏｌｕｍｅ Ｉ」（Ｓｔａｎｌｅｙ Ｒ．Ｓａｎｄｌｅｒ， Ｗｏｌｆ Ｋａｒｏ著（ｓｅｃｏｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，１９８３） Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．） Ｃｈａｐｔｅｒ１２、「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応ＩＩＩ」（１９７６、丸善株式会社）等に記載されている公知の方法で合成できる。
【００５８】
〈ベンゾチアゾリン化合物の製造方法〉
本発明における下記一般式（４）で示されるベンゾチアゾリン化合物の製造方法は、下記一般式（２ａ）で示されるアニリン化合物と下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行なうことを特徴とする。
当該製造方法を使用することにより、上述した本発明の一般式（４）のベンゾチアゾリン化合物を高収率で得る事ができる。
【００５９】
【化８】
【００６０】
一般式（２ａ）、（３）及び（４）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ7は前記一般式（１）、（２）、及び（３）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ7と同義であり、好ましい具体例も同様である。
【００６１】
なお一般式（４）においてＲ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基であることが好ましい。
【００６２】
以下に本発明の製造方法により得られる一般式（４）で示される化合物の具体例（Ｂ−１〜Ｂ−１６）を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６３】
【化９】
【００６４】
【化１０】
【００６５】
本発明のベンゾチアゾリン化合物の製造方法において、中間体の前記チオウレア化合物の製造条件についてはその製造条件とすることができ、好ましい条件も同様である。
【００６６】
本発明のベンゾチアゾリン化合物の製造方法においては、以下の条件が使用できる。
前記チオウレア化合物の製造に続けて、環化反応を行なう。この環化反応は酸化反応であり、用いる酸化剤としては、塩素、臭素、ヨウ素、塩化スルホニル、塩化スルフリル、１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、ベンジルトリメチルアンモニウムトリブロミド又はテトラブチルアンモニウムトリブロミドが好ましく、取り扱い、収率の点からは、臭素、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、又はベンジルトリメチルアンモニウムトリブロミドが最も好ましい。また、これらは単独であってもまた併用であっても良い。
酸化剤の使用量は１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、及び１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン以外の場合、一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で９０％〜１３０％が好ましく、１００％〜１１０％が特に好ましい。１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、及び１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントインの場合、一般式（２）で表される化合物に対し、モル比で４５％〜１３０％が好ましく、５０％〜１００％が特に好ましい。酸化剤量が少ないと原料が残留し、多いと副反応物が増えることがある。
【００６７】
反応に使用する溶媒としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、２−エチルヘキサン酸、ジクロロ酢酸、ピバリン酸、カプロン酸、カプリル酸、又はオレイン酸が好ましい。これらの溶媒の混合溶媒も使用できる。
また、酸化反応（環化反応）をチオウレア化反応に引き続き連続して行なうので、酸化反応の前に溶媒を追加することもできる。この場合、酸化剤と反応しないものであれば特に制限は無く、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒等が使用できる。これらの溶媒の混合溶媒でもよい。
溶媒の使用量は、原料が溶解する程度でよいが、高濃度であると高粘化し撹拌効率が下がり、低濃度では容積効率が低下するため、使用する一般式（２）で表される化合物の質量に対し、１００％〜２０００％の範囲が好ましい。２００％〜５００％であればさらに好ましい。
【００６８】
反応温度は−１０℃〜１２０℃の範囲で選べばよく、一般的に高温ほど早く反応は完結するが、本合成方法は室温以下でも速やかに反応するため、収率の点から−１０℃〜７０℃が好ましく、−５℃〜３５℃範囲で行うことが更に好ましい。また、使用する溶媒の融点がこの範囲に入るものについては融点以上の温度で反応を行うことが好ましい。
反応終了後、生成物を単離する方法は特に制限は無く、反応系に水を添加して生成物を酸の塩として晶析させ、濾過・水洗した後、アルコール、アセトン、アセトニトリル等の水溶性有機溶媒に溶解し、無機塩基水溶液により中和する方法、反応系に水を添加した後、無機塩基水溶液により中和して生成物を晶析させ、濾過・水洗する方法、反応系に水を添加し、無機塩基水溶液により中和し、酢酸エチル、トルエン、ジエチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒により生成物を抽出し、水による洗浄を行ない有機溶媒を留去する方法などが可能である。
用いる無機塩基としては炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウム等が好ましく、特に炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウムが好ましい。また、単独でも２種以上を併用してもよい。
得られた生成物を精製する方法としては、特に制限は無いが、再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製手法を用いることができる。
【００６９】
〈ベンゾチアゾール化合物の製造方法〉
本発明における下記一般式（６）で示されるベンゾチアゾール化合物の製造方法は、下記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（５）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行なうことを特徴とする。
当該製造方法を使用することにより、本発明における下記一般式（６）のベンゾチアゾール化合物を高収率で得る事ができる。
【００７０】
【化１１】
【００７１】
一般式（２）は、前記チオウレア化合物の製造方法の項における化合物と同様であり、好ましい具体例も同様である。
一般式（５）中、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は前記一般式（１）、（２）におけるＲ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5と同義であり、好ましい具体例も同様である。
【００７２】
一般式（６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は前記一般式（１）、（２）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同義であり、好ましい具体例も同様である。Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は前記一般式（５）におけるＲ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11と同義であり、好ましい具体例も同様である。
【００７３】
なお、一般式（６）においてＲ9がアルコキシ基、又はアリールオキシ基であり、Ｒ10がアシルアミノ基であることが好ましい。
【００７４】
以下に、本発明の製造方法により得られる一般式（６）で示される化合物の具体例（Ｃ−１〜Ｃ−８）を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７５】
【化１２】
【００７６】
本発明のベンゾチアゾール化合物の製造方法において、使用できる条件は一般式（５）で示される化合物と一般式（２）で示される化合物の反応においては、前記チオウレア化合物の製造方法と同様であり、環化反応においては前記ベンゾチアゾリン化合物の製造方法と同様である。
【実施例】
【００７７】
以下に、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００７８】
（実施例１）
Ｎ−メチルアニリン１０．７ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液に水２００ｍＬと酢酸エチル２００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮し例示化合物Ａ−１を２２．０ｇ得た。1Ｈ−ＮＭＲより生成物中にＮ−メチルアニリンは残存しておらず、例示化合物Ａ−１の収率は９９％であった。得られた例示化合物Ａ−１の1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に示す。
【００７９】
【化１３】
【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；７．５０（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｍ，１Ｈ），７．２２（ｍ，２Ｈ），５．３０（ｂｒ，１Ｈ），３．６５（ｓ，３Ｈ），３．５６（ｍ，２Ｈ），１．４３（ｍ，２Ｈ），１．２１（ｍ，２Ｈ），０．８６（ｔ，３Ｈ）
【００８１】
（比較例１）
Ｎ−メチルアニリン１０．７ｇとアセトニトリル５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液に水２００ｍＬと酢酸エチル２００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮し例示化合物Ａ−１を１９．０ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲよると、生成物中にはＮ−メチルアニリンが残存しており、その比率は「生成物：Ｎ−メチルアニリン＝８３：１７」であった。生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、例示化合物Ａ−１の収率は７７％であった。Ｎ−メチルアニリンの1Ｈ−ＮＭＲデータを下記する。
【００８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；７．１０（ｍ，２Ｈ），６．７５（ｔ，１Ｈ），６．６２（ｍ，２Ｈ），３．６６（ｂｒ，１Ｈ）２．８２（ｓ，３Ｈ）
【００８３】
（実施例２）
下記化合物ａを６．６ｇと酢酸２．４ｇ、アセトニトリル２０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し５時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍＬと酢酸エチル１００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲデータより濃縮物（生成物）中に化合物ａは残存していなかった。酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再結晶することで例示化合物Ａ−２１を８．０ｇ得た。収率は９１％であった。得られた例示化合物Ａ−１の1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に示す。
【００８４】
【化１４】
【００８５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；８．４０（ｄ，１Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），７．２０−７．３５（ｍ，５Ｈ），６．６５（ｄ，１Ｈ），６．２２（ｓ，１Ｈ），５．４５（ｂｒ，１Ｈ），５．４１（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｍ，１Ｈ），３．５９（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），１．５５（ｍ，４Ｈ），１．４４（ｍ，２Ｈ），１．２３（ｍ，２Ｈ），０．８５（ｍ，９Ｈ）
【００８６】
（実施例３）
上記化合物ａを３２．６ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液に水３００ｍＬと酢酸エチル２００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲより生成物中に化合物ａは残存していなかった。酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再結晶することで例示化合物Ａ−２１を４１．３ｇ得た。収率は９４％であった。
【００８７】
（比較例２）
上記化合物ａを６．６ｇとアセトニトリル２０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し５時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍＬと酢酸エチル１００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲより生成物中に約４７％の化合物ａが残存していた。濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより精製することで例示化合物Ａ−２１を４．３ｇ得た。収率は４９％であった。
【００８８】
（比較例３）
上記化合物ａを６．６ｇとアセトニトリル２０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し２４時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍＬと酢酸エチル１００ｍＬを加えて抽出し、有機層を濃縮した。濃縮物の1Ｈ−ＮＭＲより生成物中に約４１％の化合物ａが残存していた。濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより精製することで例示化合物Ａ−２１を４．８ｇ得た。収率は５４％であった。
【００８９】
（実施例４）
下記化合物ａを３２．６ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート１１．５ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液を放冷後、酢酸１００ｍＬを追加し、室温下で酢酸５０ｍＬにＢｒ2１５．０ｇを加えた溶液を３０分かけてゆっくり滴下し、室温下でさらに１時間撹拌した。反応液に水１Ｌを加えて晶析し、析出した固体を濾取した。これをメタノール２００ｍＬに溶解し水酸化ナトリウム水溶液で中和後、水１Ｌ加えて晶析した。固体を濾取し、水で洗浄した。乾燥後、例示化合物Ｂ−１１を３６．５ｇ得た。収率は８３％であった。
【００９０】
【化１５】
【００９１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；８．３８（ｓ，１Ｈ），７．６０（ｓ，１Ｈ），７．２０−７．３６（ｍ，５Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），３．８５（ｍ，１Ｈ），３．２１（ｔ，２Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），１．５０−１．７１（ｍ，６Ｈ），１．４３（ｍ，２Ｈ），０．９４（ｔ，３Ｈ）， ０．８５（ｔ，６Ｈ）
【００９２】
（実施例５）
上記化合物ａを６．６ｇと酢酸１０ｍＬを混合し、ここへｎ−ブチルイソチオシアネート２．４ｇを添加し８０℃で５時間攪拌した。反応溶液を放冷後、酢酸２０ｍＬを追加し０℃に冷却した。これに１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン２．９ｇを添加し、室温下でさらに１時間撹拌した。反応液に水を加えて晶析し、析出した固体を濾取した。これをメタノール５０ｍＬに溶解し水酸化ナトリウム水溶液で中和後、水３００ｍＬ加えて晶析した。固体を濾取し、水で洗浄した。乾燥後、例示化合物Ｂ−１１を６．９ｇ得た。収率は７９％であった。
【００９３】
（実施例６）
下記化合物ｂを３３．４ｇと酢酸５０ｍＬを混合し、ここへ下記化合物ｃを１０．７ｇ添加し５０℃で５時間攪拌した。反応溶液を放冷後、酢酸１００ｍＬを追加し、室温下で酢酸５０ｍＬにＢｒ2１５．０ｇを加えた溶液を３０分かけてゆっくり滴下し、室温下でさらに１時間撹拌した。反応液に水を加えて晶析し、析出した固体を濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製し、例示化合物Ｃ−２を３９．１ｇ得た。収率は８９％であった。
【００９４】
【化１６】
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ；８．５８（ｓ，１Ｈ），７．７９（ｓ，１Ｈ），７．３０−７．５０（ｍ，５Ｈ），７．２０（ｓ，１Ｈ），４．０９（ｔ，２Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ），２．１９（ｓ，３Ｈ），１．６４−１．９５（ｍ，３Ｈ），１．１４−１．３０（ｍ，２Ｈ），１．０２（ｄ，３Ｈ），０．９４（ｓ，９Ｈ）
【００９６】
実施例１と比較例１の比較、実施例２，３と比較例２，３の比較から、本発明の製造方法によれば、二級アニリン化合物、立体的に嵩高い置換基を有するアニリン化合物を用いても効率的にチオウレア化合物を高収率で得ることができることが分かる。
さらに実施例４〜６のようにチオウレア化反応に続けて環化反応を連続して行なうことができ、高収率でベンゾチアゾリン化合物又はベンゾチアゾール化合物を得ることができることが分かる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする下記一般式（１）で示されるチオウレア化合物の製造方法。
【化１】
（一般式（１）、（２）、及び（３）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）及び（２）において、Ｒ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である請求項１に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【請求項３】
前記カルボン酸を溶媒として用いることを特徴とする請求項１又は２に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【請求項４】
前記使用するカルボン酸が酢酸であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【請求項５】
下記一般式（２ａ）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（４）で示されるベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【化２】
（一般式（２ａ）、（３）、及び（４）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【請求項６】
前記一般式（４）においてＲ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である請求項５に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【請求項７】
溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする請求項５又は６に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【請求項８】
イソチオシアネート化合物が下記一般式（５）で示されるとき、下記一般式（２）で示されるアニリン化合物とカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（６）で示されるベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【化３】
（一般式（２）、（５）、及び（６）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。）
【請求項９】
前記一般式（５）及び（６）において、Ｒ9がアルコキシ基、又はアリールオキシ基、であり、Ｒ10がアシルアミノ基である請求項８に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする請求項８又は９に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【請求項１】
下記一般式（２）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下に反応させることを特徴とする下記一般式（１）で示されるチオウレア化合物の製造方法。
【化１】
（一般式（１）、（２）、及び（３）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）及び（２）において、Ｒ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である請求項１に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【請求項３】
前記カルボン酸を溶媒として用いることを特徴とする請求項１又は２に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【請求項４】
前記使用するカルボン酸が酢酸であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のチオウレア化合物の製造方法。
【請求項５】
下記一般式（２ａ）で示されるアニリン化合物と、下記一般式（３）で示されるイソチオシアネート化合物とをカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（４）で示されるベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【化２】
（一般式（２ａ）、（３）、及び（４）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。Ｒ7はアルキル基、又はアリール基を表す。）
【請求項６】
前記一般式（４）においてＲ3がアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、Ｒ4がアシルアミノ基である請求項５に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【請求項７】
溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする請求項５又は６に記載のベンゾチアゾリン化合物の製造方法。
【請求項８】
イソチオシアネート化合物が下記一般式（５）で示されるとき、下記一般式（２）で示されるアニリン化合物とカルボン酸の存在下又はカルボン酸溶媒中にて反応させ、続けて環化反応を行うことを特徴とする下記一般式（６）で示されるベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【化３】
（一般式（２）、（５）、及び（６）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表わし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、ニトロ基、又はシアノ基を表す。）
【請求項９】
前記一般式（５）及び（６）において、Ｒ9がアルコキシ基、又はアリールオキシ基、であり、Ｒ10がアシルアミノ基である請求項８に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記溶媒として用いるカルボン酸が酢酸であることを特徴とする請求項８又は９に記載のベンゾチアゾール化合物の製造方法。
【公開番号】特開２００６−１９００（Ｐ２００６−１９００Ａ）
【公開日】平成１８年１月５日（２００６．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−１８１５８８（Ｐ２００４−１８１５８８）
【出願日】平成１６年６月１８日（２００４．６．１８）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１月５日（２００６．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年６月１８日（２００４．６．１８）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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