フタロシアニン化合物及びそれを用いた光記録媒体
【課題】 高速記録、高密度記録においても感度が高く、記録特性良好で、精度のよいピット形成が可能な、光記録媒体を提供しうる色素を供給する。
【解決手段】 下記式（１）で示されるフタロシアニン化合物。
【化１】
〔式（１）中、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価または４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表し、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立に式（ａ）、式（ｂ）、
【化２】
（式（ａ）または式（ｂ）中、Ｘ1，Ｘ2はＣ1-10のアルキル基、Ｃ1-15のアルコキシ基、Ｃ1-10のアルキルチオ基を表わし、Ｙ1，Ｙ2は水素原子、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、（Ａ）は金属系化合物残基を表し、（Ｂ）はフタロシアニン化合物と（Ａ）とを結合する基を表す。）を表し、Ｌ1〜Ｌ4のうち、少なくとも１つが（ａ）を表す。〕
【解決手段】 下記式（１）で示されるフタロシアニン化合物。
【化１】
〔式（１）中、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価または４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表し、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立に式（ａ）、式（ｂ）、
【化２】
（式（ａ）または式（ｂ）中、Ｘ1，Ｘ2はＣ1-10のアルキル基、Ｃ1-15のアルコキシ基、Ｃ1-10のアルキルチオ基を表わし、Ｙ1，Ｙ2は水素原子、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、（Ａ）は金属系化合物残基を表し、（Ｂ）はフタロシアニン化合物と（Ａ）とを結合する基を表す。）を表し、Ｌ1〜Ｌ4のうち、少なくとも１つが（ａ）を表す。〕
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク記録材料、情報記録、表示センサー、光カード等のオプトエレクトロニクス関連に有用である新規なフタロシアニン化合物と、それを記録層に含有して形成される光ディスク等の光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク（以下ＣＤと略す）規格に対応した追記型光記録媒体としてＣＤ−Ｒ(CD-Recordable)が提案・開発されていることは公知であり、情報記録用として広く普及している。
【０００３】このＣＤ−Ｒの記録、再生には一般に７８０ｎｍの近赤外線半導体レーザーが用いられており、基板上の有機色素等からなる記録層に、ヒートモードで信号記録が行われる。すなわち、記録層にレーザー光が照射されると、有機色素は光吸収により熱を発生し、この発生した熱により記録層にピットが形成される。信号記録は、レーザー光を照射したときの、当該ピットが形成された部分とされていない部分との反射率の違いによって検知される。ＣＤ−Ｒはレッドブックや、オレンジブック等のＣＤ規格に準拠しているため、ＣＤプレーヤーやＣＤ−ＲＯＭプレーヤーと互換性を有するという特徴を有し、かつ近年急速に安価に提供されていることから、パソコンの画像保存やバックアップ用、及び音楽用として爆発的に広く普及してきた。現在、ＣＤ−Ｒプレーヤーのレーザーパワーの向上と共に、１２倍速、１６倍速記録が可能となり、当初ディスク１枚に７０分以上必要とされていたものが５分以下に短縮されてきている。高速記録では、短時間にピットを形成させることから、高パワーのレーザーを照射する必要があるが、高パワーのレーザー照射には、プレーヤーの負担も大きく、より高速記録を可能とするためには、低パワーでも良好に分解する色素、つまり高感度な色素が望まれている。
【０００４】光ディスクや光カード等の記録媒体の記録層にフタロシアニン化合物を利用する技術は、特開昭６１−１５４８８８号公報、同６１−１９７２８０号公報、６１−２４６０９１号公報、６２−３９２８６号公報、６３−３７９９１号公報、６３−３９３８８号公報等により広く知られているが、これらのフタロシアニン類は感度、屈折率、記録特性等の面から光記録媒体用としては不十分であった。それを改良した化合物が特開平３−６２８７８号公報に記載されているが、レーザー光による書き込み時の記録特性に問題があり、未だ実用上十分ではなかった。また、特開平４−２１４３８８号公報、同５−２３８１５０号公報には、フッ素原子が導入されたフタロシアニン化合物が開示されているが、フッ素基の導入では基板樹脂との密着性が改良されるものの感度が低く、同５−２４７３６３号公報に記載された、フタロシアニン環に臭素原子を導入した化合物では、高速、高密度記録においては、充分な性能を有するとは言えず、同７−９０１８６号公報に開示された、アルキル基に臭素、ヨウ素基を導入した場合、溶解性が低下し、記録媒体作成時のスピンコート溶剤への溶解性が低下する問題があった。
【０００５】また、ＷＯ ９８／１４５２０には、フタロシアニン化合物にホルミル基、カルボキシル基等の置換基を修飾した化合物が記載されているが、金属系化合物の記載はなく、有機基の結合では感度の向上は十分ではなかった。
【０００６】ＣＤ−Ｒへの書き込み及び読み出しは、７８０ｎｍ近傍のレーザー光を利用するので、レーザー発振波長近傍における吸収係数、屈折率等の制御及び書き込み時における精度のよいピット形成が重要である。このことは、高速記録、高密度記録において特に重要である。そのため、構造安定性が高く、レーザー発振波長近傍の光に対して屈折率が高く、分解特性が良好で、かつ感度の高い光記録媒体用色素の開発が必要となる。しかし、従来の開発された色素は、記録媒体に用いたとき、特に高速、高密度記録の感度（Ｃ／Ｎ比、最適記録パワー）、記録特性（ジッター、デビエーション）について、十分ではないという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を改善し、高速記録、高密度記録においても感度が高く、記録特性良好で、精度のよいピット形成が可能な、光記録媒体を提供しうる色素を供給することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前項の課題を解決すべく鋭意検討の結果、本願の新規なフタロシアニン化合物が、上述の目的に合う特性を有することを見出した。即ち本発明は、■下記式（１）
【０００９】
【化４】
【００１０】〔式（１）中、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価または４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表し、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立に式（ａ）、式（ｂ）、
【００１１】
【化５】
【００１２】（式（ａ）または式（ｂ）中、Ｘ1，Ｘ2は置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基を表わし、Ｙ1，Ｙ2は水素原子、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、（Ａ）は金属系化合物残基を表し、（Ｂ）はフタロシアニン化合物と（Ａ）とを結合する基を表す。）を表し、Ｌ1〜Ｌ4のうち、少なくとも１つが（ａ）を表す。〕
【００１３】■（Ｂ）が、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）で示される結合基から選ばれる■記載のフタロシアニン化合物。
【００１４】
【化６】
【００１５】［式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）中、Ｄは−Ｎ＝ＣＲ5−、−ＮＲ6ＣＯ−、−ＣＨＲ7ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｒ1〜Ｒ7は各々独立に水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜１５のアリール基を表し、Ｑ1、Ｑ2は、酸素原子または硫黄原子を表す。］
【００１６】■（Ａ）で示される金属系化合物残基がメタロセン化合物及びその誘導体の残基である■又は■記載のフタロシアニン化合物。
【００１７】■ 基板、記録層、反射層からなる光記録媒体において、■〜■のいずれかに記載のフタロシアニン化合物を記録層に含有する光記録媒体。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明のフタロシアニン化合物は、６５０−９００ｎｍに吸収を有し、分子吸光係数も高く、長期安定性、耐久性に優れるため、半導体レーザーを用いる光記録媒体（光ディスク、光カード）等の記録材料に好適である。
【００１９】以下に、本発明の好ましい態様を詳述する。式(１)中、Ｘ1，Ｘ2で表される具体例としては、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基が挙げられる。
【００２０】置換または無置換の総炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基、1,3-ジメチルブチル基、1-iso-プロピルプロピル基、1,2-ジメチルブチル基、1,4-ジメチルペンチル基、2-メチル-1-iso-プロピルプロピル基、1-エチル-3-メチルブチル基、3-メチル-1-iso-プロピルブチル基、2-メチル-1-iso-プロピルブチル基、1-t-ブチル-2-メチルプロピル基、2、4-ジメチル-3-プロピル基、2−メチルペンチル基、2-エチルヘキシル基等の無置換のアルキル基、2-クロロエチル基、3-ブロモプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル基等のハロゲノ基で置換されたアルキル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-ブトキシエチル基、1-エトキシ-2-プロピル基、3-メトキシプロピル基、3-メトキシ-ブチル基、2、2-ジメチル-1、3ジオキソラン-4-メトキシ基、1、3-ジエトキシ-2-プロポキシ基等のアルコキシ基で置換されたアルキル基、2-ジメチルアミノエチル基、2-ジエチルアミノエチル基、2-ジブチルアミノエチル基、2-ジエチルアミノプロピル基等のアミノ基で置換されたアルキル基、1、3-ジエチルチオ-2-プロピル基等のアルキルチオ基で置換されたアルキル基等が挙げられる。
【００２１】置換または無置換の総炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、iso-プロポキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、neo-ペンチルオキシ基、1,2-ジメチルプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、1,3-ジメチルブトキシ基、1-iso-プロピルプロポキシ基、1,2-ジメチルブトキシ基、1,4-ジメチルペンチルオキシ基、2-メチル-1-iso-プロピルプロポキシ基、1-エチル-3-メチルブトキシ基、3-メチル-1-iso-プロピルブトキシ基、2-メチル-1-iso-プロピルブトキシ基、1-t-ブチル-2-メチルプロポキシ基、2、4-ジメチル-3-プロポキシ基、2-メチルペンチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基等の無置換のアルコキシ基、2-クロロエトキシ基、3-ブロモプロポキシ基、2,2,3,3-テトラフルオロプロポキシ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロポキシ基等のハロゲノ基で置換されたアルコキシ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-フェニル-2-プロポキシ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-(2,5-ジメチル)フェニル-2-プロポキシ基等のハロゲノ基及びアリール基で置換されたアルコキシ基、2-メトキシエトキシ基、2-エトキシエトキシ基、2-ブトキシエトキシ基、1-エトキシ-2-プロポキシ基、3-メトキシプロポキシ基、3-メトキシブトキシ基、2、2-ジメチル-1、3ジオキソラン-4-メトキシ基、1、3-ジエトキシ-2-プロポキシ基等のアルコキシ基で置換されたアルコキシ基、2-ジメチルアミノエトキシ基、2-ジエチルアミノエトキシ基、2-ジブチルアミノエトキシ基、2-ジエチルアミノプロポキシ基等のアミノ基で置換されたアルコキシ基、1、3-ジエチルチオ-2-プロポキシ基等のアルキルチオ基で置換されたアルコキシ基等が挙げられる。
【００２２】置換または無置換の総炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ノニルチオ基、iso-プロピルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,2-ジメチルプロピルチオ基、シクロヘキシルチオ基、1,3-ジメチルブチルチオ基、1-iso-プロピルプロピルチオ基、1,2-ジメチルブチルチオ基、1,4-ジメチルペンチルチオ基、2-メチル-1-iso-プロピルプロピルチオ基、1-エチル-3-メチルブチルチオ基、3-メチル-1-iso-プロピルブチルチオ基、2-メチル-1-iso-プロピルブチルチオ基、1-t-ブチル-2-メチルプロピルチオ基、2、4-ジメチル-3-プロピルチオ基、2-メチルペンチルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基等の無置換のアルキルチオ基、2-クロロエチルチオ基、3-ブロモプロピルチオ基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルチオ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピルチオ基等のハロゲノ基で置換されたアルキルチオ基、2-メトキシエチルチオ基、2-エトキシエチルチオ基、2-ブトキシエチルチオ基、1-エトキシ-2-プロピルチオ基、3-メトキシ-プロピルチオ基、3-メトキシブチルチオ基、2、2-ジメチル-1、3ジオキソラン-4-メチルチオ基、1、3-ジエトキシ-2-プロピルチオ基等のアルコキシ基で置換されたアルキルチオ基、2-ジメチルアミノエチルチオ基、2-ジエチルアミノエチルチオ基、2-ジブチルアミノエチルチオ基、2-ジエチルアミノプロピルチオ基等のアミノ基で置換されたアルキルチオ基、1、3-ジエチルチオ-2-プロピルチオ基等のアルキルチオ基で置換されたアルキルチオ基等が挙げられる。
【００２３】Ｙ1，Ｙ2で表される具体例としては、水素原子、ニトロ基、およびフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が挙げられ、好ましくは、水素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
【００２４】Ｍで表わされる２価金属の例としては、Ｃｕ（II）、Ｚｎ（II）、Ｆｅ（II）、Ｃｏ（II）、Ｎｉ（II）、Ｒｕ（II）、Ｒｈ（II）、Ｐｄ（II）、Ｐｔ（II）、Ｍｎ（II）、Ｍｇ（II）、Ｔｉ（II）、Ｂｅ（II）、Ｃａ（II）、Ｂａ（II）、Ｃｄ（II）、Ｈｇ（II）、Ｐｂ（II）、Ｓｎ（II）など、１置換３価金属の例としては、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｉ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｉｎ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃ6Ｈ5、Ａｌ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ10Ｈ7、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ6Ｈ5）、Ｍｎ［ＯＳｉ（ＣＨ3）3］、ＦｅＣｌ、ＲｕＣｌなどが挙げられる。２置換の４価金属の例としては、ＣｒＣｌ2、ＳｉＣｌ2、ＳｉＢｒ2、ＳｉＦ2、ＳｉＩ2、ＺｒＣｌ2、ＧｅＣｌ2、ＧｅＢｒ2、ＧｅＩ2、ＧｅＦ2、ＳｎＣｌ2、ＳｎＢｒ2、ＳｎＩ2、ＳｎＦ2、ＴｉＣｌ2、ＴｉＢｒ2、ＴｉＦ2、Ｓｉ（ＯＨ）2、Ｇｅ（ＯＨ）2、Ｚｒ（ＯＨ）2、Ｍｎ（ＯＨ）2、Ｓｎ（ＯＨ）2、ＴｉＲ2、ＣｒＲ2、ＳｉＲ2、ＳｎＲ2、ＧｅＲ2［Ｒはアルキル基、フェニル基、ナフチル基およびその誘導体を表わす］、Ｓｉ（ＯＲ’）2，Ｓｎ（ＯＲ’）2、Ｇｅ（ＯＲ’）2、Ｔｉ（ＯＲ’）2、Ｃｒ（ＯＲ’）2［Ｒ’はアルキル基、アルキルカルボニル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基およびその誘導体を表わす］などが挙げられる。オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯなどが挙げられる。
【００２５】（Ｂ）で表される結合基としては、フタロシアニン化合物と、金属系化合物残基（Ａ）を結合する事ができればなんでも良いが、例えば、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）
【００２６】
【化７】
【００２７】［式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）中、Ｄは−Ｎ＝ＣＲ5−、−ＮＲ6ＣＯ−、−ＣＨＲ7ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｒ1〜Ｒ7は各々独立に水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜１５のアリール基を表し、Ｑ1、Ｑ2は、酸素原子または硫黄原子を表す。］
【００２８】Ｒ1〜Ｒ7で表される置換基の具体例としては、置換または無置換の総炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基、1,3-ジメチルブチル基、1-iso-プロピルプロピル基、1,2-ジメチルブチル基、1,4-ジメチルペンチル基、2-メチル-1-iso-プロピルプロピル基、1-エチル-3-メチルブチル基、3-メチル-1-iso-プロピルブチル基、2-メチル-1-iso-プロピルブチル基、1-t-ブチル-2-メチルプロピル基、2、4-ジメチル-3-プロピル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、2-クロロエチル基等のハロゲノ基で置換されたアルキル基が挙げられ、
【００２９】置換または無置換の総炭素数6〜15のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基等の無置換のアリール基、2-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,3--ジメチルフェニル基、2、6-ジメチルフェニル基、2、4-ジメチルフェニル基、2、4-ジイソプロピルフェニル基、2、6-ジtブチルフェニル基、3,4--ジメチルフェニル基、3,6-ジメチルフェニル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、2-エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基、2-メチル-1-ナフチル基、8-メチル-1-ナフチル基、1-メチル-2-ナフチル基、4-メチル-2-ナフチル基、8-メチル-2-ナフチル基、2-エチル-1-ナフチル基等のアルキル基で置換されたアリール基、2-メトキシフェニル基、4-メトキシフェニル基、2,3-ジメトキシフェニル基、2,6-ジメトキシフェニル基、3,4-ジメトキシフェニル基、3,6-ジメトキシフェニル基、2,3,4-トリメトキシフェニル基、2,4,6-トリメトキシフェニル基、2-エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基等のアルコキシ基で置換されたアリール基等が挙げられる。
【００３０】（Ａ）で表される、金属系化合物残基としては、金属を含む化合物の残基であればいずれでも良いが、好ましくはメタロセン化合物残基が挙げられる。このような金属を含む化合物の具体例としては、Ｆｅ（Ｃｐ）2（但しＣｐはシクロペンタジエニル基を表す。以下同様）、Ｃｏ（Ｃｐ）2、Ｎｉ（Ｃｐ）2、Ｒｕ（Ｃｐ）2、Ｏｓ（Ｃｐ）2、Ｍｎ（Ｃｐ）2、Ｃｒ（Ｃｐ）2、Ｗ（Ｃｐ）2、Ｖ（Ｃｐ）2、Ｓｃ（Ｃｐ）3、Ｙ（Ｃｐ）3、Ｌａ（Ｃｐ）3、Ｃｅ（Ｃｐ）3、Ｐｒ（Ｃｐ）3、Ｎｄ（Ｃｐ）3、Ｓｍ（Ｃｐ）3、Ｇｄ（Ｃｐ）3、Ｅｒ（Ｃｐ）3、Ｔｍ（Ｃｐ）3、Ｙｂ（Ｃｐ）3、シクロペンタジエニルマンガノセントリカルボニル等のメタロセン化合物、チタノセンジフェノキシド、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)フェニルチタニウム、シクロペンタジエニルマンガノセントリカルボニル等の置換金属を有するメタロセン化合物などが挙げられ、これらのメタロセン化合物は、アルキル基、アリール基、アシル基により置換されていてもよい。
【００３１】結合基とメタロセン化合物の結合は、シクロペンタジエニル環との結合、金属との直接結合などが挙げられるが、例えばシクロペンタジエニル環との結合が挙げられる。
【００３２】一般式（１）で示される化合物は、例えば下記(ｉ)〜(iii)（Ｐｃはフタロシアニン化合物を表し、Ｐｃのβ位に表記の基は結合している。Ｍ’はメタロセンの金属原子、Ｈａｌはハロゲンを示す。）のようにして製造することができるが、なんらこれらに限定されるものではない。
【００３３】例えば、（ｉ）ホルミルフタロシアニン化合物（I）と、メタロセンアルデヒド（II）を、ヒドラジンを用いて脱水縮合し、化合物（III）を合成する方法、
【００３４】
【化８】
【００３５】（ii）ハロゲンを有するフタロシアニン化合物（IV）とヒドロキシメチルフェノール(Ｖ)を用いてエーテル化し、化合物（VI）を合成した後、メタロセンカルボン酸(VII)とエステル化し、化合物（VIII）を合成する方法、
【００３６】
【化９】
【００３７】（iii）J.Am.Chem.Soc.,77,3012(1955)記載の方法でアミノフェノール(IX)を直接メタロセン化合物(X)と結合し、化合物（XI）を合成した後、フタロシアニン化合物とエーテル化を行い、化合物（XII）を合成する方法、等が挙げられる。
【００３８】
【化１０】
【００３９】また、フタロシアニン化合物は、公知の様に構造異性体が存在し、得られる化合物はこれらの混合物である。さらに、本願では、金属系化合物を結合させることから、多くの構造異性体が生成する他に、置換数の異なる化合物の混合物として得られる。本願記載の化合物は、構造式で示される化合物を主に含む混合物であり、構造式に示される化合物に限定されるものではない。
【００４０】表−１に本発明の一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物の具体例を示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】
【表３】
【００４４】
【表４】
【００４５】(A-1):Fe(Cp)2(A-2):Cr(Cp)2(A-3):
【００４６】
【化１１】
(A-4):Ru(Cp)2(A-5):La(Cp)3(A-6):Sc(Cp)3(A-7):Er(Cp)3(A-8):Y(Cp)3(A-9):Ni(Cp)2
【００４７】光記録媒体とは予め情報を記録されている再生専用の光再生専用媒体及び情報を記録して再生することのできる光記録媒体の両方を示すものである。但し、ここでは適例として後者の情報を記録して再生のできる光記録媒体、特に基板上に記録層、反射層を有する光記録媒体に関して説明する。
【００４８】基板の材質としては、基本的には記録光および再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピットを形成することもある。このような案内溝やピットは、基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。
【００４９】本発明においては、基板上に記録層を設けるが、本発明の記録層は、λmaxが６５０ｎｍ〜９００ｎｍ付近に存在する一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物を含有する。中でも、７８０ｎｍ近傍の記録および再生レーザー波長に対して適度な光学定数（光学定数は複素屈折率（ｎ＋ｋｉ）で表現される。式中のｎ、ｋは、実数部ｎと虚数部ｋとに相当する係数である。ここでは、ｎを屈折率、ｋを消衰係数とする。）を有する必要がある。
【００５０】一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率ｎと消衰係数ｋが大きく変化する特徴がある。ｎが１．８より小さい値になると正確な信号読み取りに必要な反射率と信号変調度は得られ難くなり、ｋが０．４０を越えても反射率が低下して良好な再生信号が得られないだけでなく、再生光により信号が変化しやすく実用に適さない場合がある。この特徴を考慮して、目的とするレーザー波長において好ましい光学定数を有する有機色素を選択し記録層を成膜することで、高い反射率を有し、かつ、感度の良い媒体とすることができる。
【００５１】本発明で使用する一般式（１）で表されるフタロシアニン化合物は、吸光係数が高く、また中心金属、置換基の選択により吸収波長域を任意に選択できるため、前記レーザー光の波長において記録層に必要な光学定数（ｎが１．８以上、且つ、ｋが０．０４から０．４０であり、好ましくは、ｎが２．０以上、且つ、ｋが０．０４〜０．２０）を満足する極めて有用な化合物である。
【００５２】さらに、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤などを併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどが挙げられる。
【００５３】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
【００５４】ここで、記録層における一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物の含有量は、３０質量％以上、好ましくは６０質量％以上である。尚、実質的に１００質量％であることも好ましい。
【００５５】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
【００５６】スピンコート法等の塗布法を用いる場合には、一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物を１〜４０質量％、好ましくは３〜３０質量％となるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフルオロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトン、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても良く、あるいは、複数混合しても良い。
【００５７】なお、必要に応じて、記録層の色素を高分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
【００５８】また、基板にダメージを与えない溶媒を選択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法などが有効である。
【００５９】色素層の膜厚は、特に限定するものではないが、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。色素層の膜厚を５０ｎｍより薄くすると、熱拡散が大きいため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号振幅が小さくなる。また、膜厚が３００ｎｍより厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化する。
【００６０】次に記録層の上に、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、ＣｒおよびＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。これ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができる。また、Ａｕを主成分とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため好適である。ここで主成分というのは含有率が５０％以上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００６１】反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上などのために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００６２】さらに、反射層の上に設けられる保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定されず、有機或いは無機物質から選択される。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙げることができる。また、無機物質としては、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2などが挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良く、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
【００６３】保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッタ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
【００６４】保護層の膜厚は、一般には０．１μｍ〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
【００６５】保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を行うこともできる。また、反射層面に保護シートまたは基板を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向させ、光記録媒体２枚を貼り合わせるなどの手段を用いても良い。また、基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜しても良い。
【００６６】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６７】実施例１特開平３−６２８７８号公報記載の下記構造式（２）で示されるフタロシアニン化合物１．５８ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、J.Am.Chem.,77,3012(1955)記載の方法で合成した下記構造式(３)で示されるｐ−フェロセンフェノール０．３３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ジメチルイミダゾリジニウム（以下ＤＭＩと略）２０ｍｌを混合し、１６０℃で４時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、カラムクロマトグラフィーで精製し、下記構造式（１−１）で示されるフタロシアニン化合物を０．８４ｇ （０．４６ｍｏｌ）（収率４６％）で得た。
【００６８】
【化１２】
【００６９】吸収波長：λmax=７２１ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１３５，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ88Ｈ101Ｃｌ7ＦｅＮ8Ｏ9Ｐｄ計算値（％） Ｃ：５７．９１％ Ｈ：５．５８％ Ｎ：６．１４％分析値（％） Ｃ：５７．７８％ Ｈ：５．４１％ Ｎ：６．２９％
【００７０】実施例２ｐ−フェロセンフェノール(３)を１．３９ｇ（５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウムを０．８３ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様にして下記構造式（１−３）で示されるフタロシアニン化合物を１．６３ｇ（０．６４ｍｏｌ）（収率６４％）で得た。
【００７１】
【化１３】
吸収波長：λmax＝７２４ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝９６，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ136Ｈ140Ｃｌ4Ｆｅ4Ｎ8Ｏ12Ｐｄ計算値（％） Ｃ：６４．０５％ Ｈ：５．５３％ Ｎ：４．３９％分析値（％） Ｃ：６３．７８％ Ｈ：５．４１％ Ｎ：４．２９％
【００７２】実施例３実施例１で使用したフタロシアニン化合物（２）１．５８ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ｍ−アミノフェノール０．１３ｇ（１．１９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＩ２０ｍｌを混合し、１４０℃で４時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、下記構造式（４）で示されるｍ−アミノフェノキシフタロシアニン化合物を含む混合物を１．４１ｇ （０．８５ｍｍｏｌ）（収率８５％）で得、さらにこのｍ−アミノフェノキシフタロシアニン化合物（４）１．１６ｇ （０．７ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌ、ピリジン０．１ｍｌを混合し、さらに、フェロセンカルボン酸(Aldrich社製)を用いてJ.Org.Chem.,24,280(1959)に従い合成したフェロセンカルボン酸クロライド０．２ｇ（０．８０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間反応させた。水を加えた後、抽出、水洗浄し、トルエンを留去し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（１−１４）で示されるフタロシアニン化合物を０．８６ｇ（０．４６ｍｍｏｌ）（収率６６％）得た。
【００７３】
【化１４】
【００７４】吸収波長：λmax＝７２１．５ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１３３，０００（溶剤：トルエン)元素分析値：Ｃ89Ｈ102Ｃｌ7ＦｅＮ9Ｏ10Ｐｄ計算値（％） Ｃ：５７．２２％ Ｈ：５．５０％ Ｎ：６．７５％分析値（％） Ｃ：５７．４４％ Ｈ：５．３８％ Ｎ：６．６８％
【００７５】実施例４特開平３−６２８７８号公報記載の方法で合成した、下記構造式（５）で示されるフタロシアニン化合物１．６７ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ｐ−アミノチオフェノール０．１５ｇ（１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＩ２０ｍｌを混合し、１２０℃で５時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、下記構造式（６）で示されるｐ−アミノフェニルチオキシフタロシアニン化合物を１．３９ｇ （０．７９ｍｍｏｌ）（収率７９％）で得、さらにこのｐ−アミノフェニルチオキシフタロシアニン化合物（６）１．２３ｇ （０．７ｍｍｏｌ）、を用いて実施例３と同様にしてアミド化し、下記構造式（１−１８）で示されるフタロシアニン化合物を０．９８ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）（収率６６％）得た。
【００７６】
【化１５】
【００７７】吸収波長：λmax＝７２５ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１３２，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ89Ｈ102Ｃｌ7ＦｅＮ9Ｏ17ＳＺｎ計算値（％） Ｃ：５４．２３％ Ｈ：５．２２％ Ｎ：６．３９％分析値（％） Ｃ：５４．５４％ Ｈ：５．３２％ Ｎ：６．４８％
【００７８】実施例５実施例１で使用したフタロシアニン化合物（２）１．５８ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を、３−ヒドロキシメチルフェノール０．１５ｇ （１．２１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＩ２０ｍｌを混合し、１４０℃で４時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、下記構造式（７）で示される３−（ヒドロキシメチル）フェノキシフタロシアニン化合物を１．３９ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）（収率８３％）で得、さらにこの３−（ヒドロキシメチル）フェノキシフタロシアニン化合物（７）１．１７ｇ（０．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例３と同様にフェロセンカルボン酸クロライド０．２ｇ（０．８ｍｍｏｌ）を用いてエステル化し、下記構造式（１−２８）で示されるフタロシアニン化合物を１．０７ｇ（０．５７ｍｍｏｌ）（収率８１％）得た。
【００７９】
【化１６】
【００８０】吸収波長：λmax＝７２１．５ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１０２，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ90Ｈ103Ｃｌ7ＦｅＮ8Ｏ11Ｐｄ計算値（％） Ｃ：５７．４０％ Ｈ：５．５１％ Ｎ：５．９５％分析値（％） Ｃ：５７．６６％ Ｈ：５．６２％ Ｎ：５．７５％
【００８１】実施例６乾燥ジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦと略）４．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）に、水冷下、オキシ塩化リン９．２ｇ（６０ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温で攪拌しVilsmeier試薬を調製し、特開平３−６２８７８号公報記載の方法に従い合成した下記構造式（８）で示されるフタロシアニン化合物１２．６５ｇ（１０ｍｍｏｌ）のクロロベンゼン１００ｍｌ溶液を加え８０−９０℃で３時間反応させた。反応終了後、室温に冷却したのち、酢酸ナトリウム水溶液を添加し、クロロホルムを用いて抽出し、水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を留去し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（９）で示されるホルミルフタロシアニン化合物９．３１ｇ（７．２ｍｍｏｌ）（収率７２％）を得た。
【００８２】
【化１７】
【００８３】一方、乾燥ＤＭＦ４．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）に、水冷下、オキシ塩化リン９．２ｇ（６０ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温で攪拌しVilsmeier試薬を調製し、ルテノセン６．９４ｇ（３０ｍｍｏｌ）のクロロベンゼン５０ｍｌ溶液を加え８０−９０℃で１０時間反応させた。反応終了後、室温に冷却したのち、酢酸ナトリウム水溶液を添加し、クロロホルムを用いて抽出し、水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を留去し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（１０）で示されるホルミルルテノセン４．８２ｇ（１８．６ｍｍｏｌ）（収率６２％）を得た。
【００８４】ヒドラジン一水和物１９．５ｇ（０．３９ｍｏｌ）中に、ホルミルルテノセン１．０１ｇ（３．９ｍｍｏｌ）のメタノール１０ｍｌ溶液を室温で滴下し反応させた。水中に排出し、析出した固体を濾別水洗し、下記構造式（１１）で示されルテノセンアルダゾンを０．７９ｇ（２．９ｍｍｏｌ）（収率７４％）得た。
【００８５】
【化１８】
【００８６】ホルミルフタロシアニン化合物（９）３．８８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をトルエン５０ｍｌに溶解させたのち、ルテノセンアルダゾン（１１）１．６４ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で反応させ、溶剤を留去したのちカラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（１−３７）で示されるフタロシアニン化合物を含む混合物を３．７２ｇ（２．４ｍｏｌ）（収率８０％）を得た。
【００８７】
【化１９】
【００８８】吸収波長：λmax＝７３９ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１２４，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ84Ｈ106ＣｕＮ10Ｏ8Ｒｕ計算値（％） Ｃ：６５．１６％ Ｈ：６．９０％ Ｎ：９．０５％分析値（％） Ｃ：６５．０８％ Ｈ：６．７２％ Ｎ：８．８８％
【００８９】〔実施例７〕実施例1記載のフタロシアニン化合物（１−１）０．２ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解し、色素溶液を調製した。基板は、ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：１．６μｍ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの円盤状のものを用いた。
【００９０】この基板上に色素溶液を回転速度１０００〜１５００ｒｐｍでスピンコートし、７０℃で３時間乾燥して記録層を形成した。
【００９１】この記録層の上にバルザース社製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用いてAuをスパッタし、厚さ１００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスには、アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー２．５ｋＷ、スパッタガス圧１．３３Ｐａ（１．０×１０-2Ｔｏｒｒ）で行った。
【００９２】さらに反射層上に紫外線硬化性樹脂ＳＤ−１７００（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした後、紫外線を照射して厚さ６μｍの保護層を形成して、光記録媒体を作製した。
【００９３】得られた光記録媒体に、波長７８０ｎｍでレンズの開口数が０．５の半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）を用いて、線速１４．４ｍ／ｓの高速で、ＥＦＭ信号を、レーザーパワー１８〜２０ｍＷで記録した。評価装置を用いて信号を再生し、最短ピット（長さ０．８μｍ）のジッター、デビエーションおよびエラーレートを測定した結果、レーザーパワー１８ｍＷで、ジッター２０ｎｓ、デビエーション１０ｎｓ、エラーレート１００以下といずれも良好な値を示した。
【００９４】比較例１下記構造式（１２）で示されるフタロシアニン化合物を、実施例７と同様にしてＣＤ−Ｒ媒体を作製し、同様に評価したところ、レーザーパワー１８ｍＷでは、ジッター５６％、デビエーション５２ｎｓ、エラーレート４５０以上であり、十分な特性ではなかった。
【００９５】
【化２０】
【００９６】比較例２ＷＯ９８０１４５２０記載の下記構造式（１３）で示されるフタロシアニン化合物を、実施例７と同様にしてＣＤ−Ｒ媒体を作製し、同様に評価したところ、レーザーパワー１８ｍＷでは、ジッター７８ ｎｓ、デビエーション７０ｎｓ、エラーレート１２５０以上であり、十分な特性ではなかった。
【００９７】
【化２１】
【００９８】実施例８〜２５表−１に記載したフタロシアニン化合物を用いる以外は実施例７と同様にしてＣＤ−Ｒ媒体を作製し、レーザーパワー１８ｍＷで記録し、最短ピット（長さ約０．８μｍ）のジッター、デビエーションおよびエラーレートを評価した。結果は表−２に記載したように、いずれも良好な値を示した。
・ジッターの評価は、○が３５ｎｓ以下、×が３５ｎｓ以上であることを示す。
・デビエーションの評価は、○が４０ｎｓ以下、×４０ｎｓ以上であることを示す。
・エラーレートの評価は、○が２２０未満、×が２２０以上であることを示す。
【００９９】
【表５】
【０１００】
【発明の効果】本発明のフタロシアニン化合物は、金属系化合物が結合しているフタロシアニン化合物である。本願化合物は、金属系化合物が結合していることから分解特性が良好で、かつ、７８０ｎｍ近傍における吸収係数、屈折率が高く、特に高速、高密度記録での感度(最適記録パワー等)、記録特性(ジッター、デビエーション)の向上を可能とした。
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク記録材料、情報記録、表示センサー、光カード等のオプトエレクトロニクス関連に有用である新規なフタロシアニン化合物と、それを記録層に含有して形成される光ディスク等の光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク（以下ＣＤと略す）規格に対応した追記型光記録媒体としてＣＤ−Ｒ(CD-Recordable)が提案・開発されていることは公知であり、情報記録用として広く普及している。
【０００３】このＣＤ−Ｒの記録、再生には一般に７８０ｎｍの近赤外線半導体レーザーが用いられており、基板上の有機色素等からなる記録層に、ヒートモードで信号記録が行われる。すなわち、記録層にレーザー光が照射されると、有機色素は光吸収により熱を発生し、この発生した熱により記録層にピットが形成される。信号記録は、レーザー光を照射したときの、当該ピットが形成された部分とされていない部分との反射率の違いによって検知される。ＣＤ−Ｒはレッドブックや、オレンジブック等のＣＤ規格に準拠しているため、ＣＤプレーヤーやＣＤ−ＲＯＭプレーヤーと互換性を有するという特徴を有し、かつ近年急速に安価に提供されていることから、パソコンの画像保存やバックアップ用、及び音楽用として爆発的に広く普及してきた。現在、ＣＤ−Ｒプレーヤーのレーザーパワーの向上と共に、１２倍速、１６倍速記録が可能となり、当初ディスク１枚に７０分以上必要とされていたものが５分以下に短縮されてきている。高速記録では、短時間にピットを形成させることから、高パワーのレーザーを照射する必要があるが、高パワーのレーザー照射には、プレーヤーの負担も大きく、より高速記録を可能とするためには、低パワーでも良好に分解する色素、つまり高感度な色素が望まれている。
【０００４】光ディスクや光カード等の記録媒体の記録層にフタロシアニン化合物を利用する技術は、特開昭６１−１５４８８８号公報、同６１−１９７２８０号公報、６１−２４６０９１号公報、６２−３９２８６号公報、６３−３７９９１号公報、６３−３９３８８号公報等により広く知られているが、これらのフタロシアニン類は感度、屈折率、記録特性等の面から光記録媒体用としては不十分であった。それを改良した化合物が特開平３−６２８７８号公報に記載されているが、レーザー光による書き込み時の記録特性に問題があり、未だ実用上十分ではなかった。また、特開平４−２１４３８８号公報、同５−２３８１５０号公報には、フッ素原子が導入されたフタロシアニン化合物が開示されているが、フッ素基の導入では基板樹脂との密着性が改良されるものの感度が低く、同５−２４７３６３号公報に記載された、フタロシアニン環に臭素原子を導入した化合物では、高速、高密度記録においては、充分な性能を有するとは言えず、同７−９０１８６号公報に開示された、アルキル基に臭素、ヨウ素基を導入した場合、溶解性が低下し、記録媒体作成時のスピンコート溶剤への溶解性が低下する問題があった。
【０００５】また、ＷＯ ９８／１４５２０には、フタロシアニン化合物にホルミル基、カルボキシル基等の置換基を修飾した化合物が記載されているが、金属系化合物の記載はなく、有機基の結合では感度の向上は十分ではなかった。
【０００６】ＣＤ−Ｒへの書き込み及び読み出しは、７８０ｎｍ近傍のレーザー光を利用するので、レーザー発振波長近傍における吸収係数、屈折率等の制御及び書き込み時における精度のよいピット形成が重要である。このことは、高速記録、高密度記録において特に重要である。そのため、構造安定性が高く、レーザー発振波長近傍の光に対して屈折率が高く、分解特性が良好で、かつ感度の高い光記録媒体用色素の開発が必要となる。しかし、従来の開発された色素は、記録媒体に用いたとき、特に高速、高密度記録の感度（Ｃ／Ｎ比、最適記録パワー）、記録特性（ジッター、デビエーション）について、十分ではないという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を改善し、高速記録、高密度記録においても感度が高く、記録特性良好で、精度のよいピット形成が可能な、光記録媒体を提供しうる色素を供給することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前項の課題を解決すべく鋭意検討の結果、本願の新規なフタロシアニン化合物が、上述の目的に合う特性を有することを見出した。即ち本発明は、
【０００９】
【化４】
【００１０】〔式（１）中、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価または４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表し、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立に式（ａ）、式（ｂ）、
【００１１】
【化５】
【００１２】（式（ａ）または式（ｂ）中、Ｘ1，Ｘ2は置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基を表わし、Ｙ1，Ｙ2は水素原子、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、（Ａ）は金属系化合物残基を表し、（Ｂ）はフタロシアニン化合物と（Ａ）とを結合する基を表す。）を表し、Ｌ1〜Ｌ4のうち、少なくとも１つが（ａ）を表す。〕
【００１３】
【００１４】
【化６】
【００１５】［式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）中、Ｄは−Ｎ＝ＣＲ5−、−ＮＲ6ＣＯ−、−ＣＨＲ7ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｒ1〜Ｒ7は各々独立に水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜１５のアリール基を表し、Ｑ1、Ｑ2は、酸素原子または硫黄原子を表す。］
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明のフタロシアニン化合物は、６５０−９００ｎｍに吸収を有し、分子吸光係数も高く、長期安定性、耐久性に優れるため、半導体レーザーを用いる光記録媒体（光ディスク、光カード）等の記録材料に好適である。
【００１９】以下に、本発明の好ましい態様を詳述する。式(１)中、Ｘ1，Ｘ2で表される具体例としては、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基が挙げられる。
【００２０】置換または無置換の総炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基、1,3-ジメチルブチル基、1-iso-プロピルプロピル基、1,2-ジメチルブチル基、1,4-ジメチルペンチル基、2-メチル-1-iso-プロピルプロピル基、1-エチル-3-メチルブチル基、3-メチル-1-iso-プロピルブチル基、2-メチル-1-iso-プロピルブチル基、1-t-ブチル-2-メチルプロピル基、2、4-ジメチル-3-プロピル基、2−メチルペンチル基、2-エチルヘキシル基等の無置換のアルキル基、2-クロロエチル基、3-ブロモプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル基等のハロゲノ基で置換されたアルキル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-ブトキシエチル基、1-エトキシ-2-プロピル基、3-メトキシプロピル基、3-メトキシ-ブチル基、2、2-ジメチル-1、3ジオキソラン-4-メトキシ基、1、3-ジエトキシ-2-プロポキシ基等のアルコキシ基で置換されたアルキル基、2-ジメチルアミノエチル基、2-ジエチルアミノエチル基、2-ジブチルアミノエチル基、2-ジエチルアミノプロピル基等のアミノ基で置換されたアルキル基、1、3-ジエチルチオ-2-プロピル基等のアルキルチオ基で置換されたアルキル基等が挙げられる。
【００２１】置換または無置換の総炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、iso-プロポキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、neo-ペンチルオキシ基、1,2-ジメチルプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、1,3-ジメチルブトキシ基、1-iso-プロピルプロポキシ基、1,2-ジメチルブトキシ基、1,4-ジメチルペンチルオキシ基、2-メチル-1-iso-プロピルプロポキシ基、1-エチル-3-メチルブトキシ基、3-メチル-1-iso-プロピルブトキシ基、2-メチル-1-iso-プロピルブトキシ基、1-t-ブチル-2-メチルプロポキシ基、2、4-ジメチル-3-プロポキシ基、2-メチルペンチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基等の無置換のアルコキシ基、2-クロロエトキシ基、3-ブロモプロポキシ基、2,2,3,3-テトラフルオロプロポキシ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロポキシ基等のハロゲノ基で置換されたアルコキシ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-フェニル-2-プロポキシ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-(2,5-ジメチル)フェニル-2-プロポキシ基等のハロゲノ基及びアリール基で置換されたアルコキシ基、2-メトキシエトキシ基、2-エトキシエトキシ基、2-ブトキシエトキシ基、1-エトキシ-2-プロポキシ基、3-メトキシプロポキシ基、3-メトキシブトキシ基、2、2-ジメチル-1、3ジオキソラン-4-メトキシ基、1、3-ジエトキシ-2-プロポキシ基等のアルコキシ基で置換されたアルコキシ基、2-ジメチルアミノエトキシ基、2-ジエチルアミノエトキシ基、2-ジブチルアミノエトキシ基、2-ジエチルアミノプロポキシ基等のアミノ基で置換されたアルコキシ基、1、3-ジエチルチオ-2-プロポキシ基等のアルキルチオ基で置換されたアルコキシ基等が挙げられる。
【００２２】置換または無置換の総炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ノニルチオ基、iso-プロピルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,2-ジメチルプロピルチオ基、シクロヘキシルチオ基、1,3-ジメチルブチルチオ基、1-iso-プロピルプロピルチオ基、1,2-ジメチルブチルチオ基、1,4-ジメチルペンチルチオ基、2-メチル-1-iso-プロピルプロピルチオ基、1-エチル-3-メチルブチルチオ基、3-メチル-1-iso-プロピルブチルチオ基、2-メチル-1-iso-プロピルブチルチオ基、1-t-ブチル-2-メチルプロピルチオ基、2、4-ジメチル-3-プロピルチオ基、2-メチルペンチルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基等の無置換のアルキルチオ基、2-クロロエチルチオ基、3-ブロモプロピルチオ基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルチオ基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピルチオ基等のハロゲノ基で置換されたアルキルチオ基、2-メトキシエチルチオ基、2-エトキシエチルチオ基、2-ブトキシエチルチオ基、1-エトキシ-2-プロピルチオ基、3-メトキシ-プロピルチオ基、3-メトキシブチルチオ基、2、2-ジメチル-1、3ジオキソラン-4-メチルチオ基、1、3-ジエトキシ-2-プロピルチオ基等のアルコキシ基で置換されたアルキルチオ基、2-ジメチルアミノエチルチオ基、2-ジエチルアミノエチルチオ基、2-ジブチルアミノエチルチオ基、2-ジエチルアミノプロピルチオ基等のアミノ基で置換されたアルキルチオ基、1、3-ジエチルチオ-2-プロピルチオ基等のアルキルチオ基で置換されたアルキルチオ基等が挙げられる。
【００２３】Ｙ1，Ｙ2で表される具体例としては、水素原子、ニトロ基、およびフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が挙げられ、好ましくは、水素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
【００２４】Ｍで表わされる２価金属の例としては、Ｃｕ（II）、Ｚｎ（II）、Ｆｅ（II）、Ｃｏ（II）、Ｎｉ（II）、Ｒｕ（II）、Ｒｈ（II）、Ｐｄ（II）、Ｐｔ（II）、Ｍｎ（II）、Ｍｇ（II）、Ｔｉ（II）、Ｂｅ（II）、Ｃａ（II）、Ｂａ（II）、Ｃｄ（II）、Ｈｇ（II）、Ｐｂ（II）、Ｓｎ（II）など、１置換３価金属の例としては、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｉ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｉｎ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃ6Ｈ5、Ａｌ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ10Ｈ7、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ6Ｈ5）、Ｍｎ［ＯＳｉ（ＣＨ3）3］、ＦｅＣｌ、ＲｕＣｌなどが挙げられる。２置換の４価金属の例としては、ＣｒＣｌ2、ＳｉＣｌ2、ＳｉＢｒ2、ＳｉＦ2、ＳｉＩ2、ＺｒＣｌ2、ＧｅＣｌ2、ＧｅＢｒ2、ＧｅＩ2、ＧｅＦ2、ＳｎＣｌ2、ＳｎＢｒ2、ＳｎＩ2、ＳｎＦ2、ＴｉＣｌ2、ＴｉＢｒ2、ＴｉＦ2、Ｓｉ（ＯＨ）2、Ｇｅ（ＯＨ）2、Ｚｒ（ＯＨ）2、Ｍｎ（ＯＨ）2、Ｓｎ（ＯＨ）2、ＴｉＲ2、ＣｒＲ2、ＳｉＲ2、ＳｎＲ2、ＧｅＲ2［Ｒはアルキル基、フェニル基、ナフチル基およびその誘導体を表わす］、Ｓｉ（ＯＲ’）2，Ｓｎ（ＯＲ’）2、Ｇｅ（ＯＲ’）2、Ｔｉ（ＯＲ’）2、Ｃｒ（ＯＲ’）2［Ｒ’はアルキル基、アルキルカルボニル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基およびその誘導体を表わす］などが挙げられる。オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯなどが挙げられる。
【００２５】（Ｂ）で表される結合基としては、フタロシアニン化合物と、金属系化合物残基（Ａ）を結合する事ができればなんでも良いが、例えば、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）
【００２６】
【化７】
【００２７】［式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）中、Ｄは−Ｎ＝ＣＲ5−、−ＮＲ6ＣＯ−、−ＣＨＲ7ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｒ1〜Ｒ7は各々独立に水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜１５のアリール基を表し、Ｑ1、Ｑ2は、酸素原子または硫黄原子を表す。］
【００２８】Ｒ1〜Ｒ7で表される置換基の具体例としては、置換または無置換の総炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基、1,3-ジメチルブチル基、1-iso-プロピルプロピル基、1,2-ジメチルブチル基、1,4-ジメチルペンチル基、2-メチル-1-iso-プロピルプロピル基、1-エチル-3-メチルブチル基、3-メチル-1-iso-プロピルブチル基、2-メチル-1-iso-プロピルブチル基、1-t-ブチル-2-メチルプロピル基、2、4-ジメチル-3-プロピル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、2-クロロエチル基等のハロゲノ基で置換されたアルキル基が挙げられ、
【００２９】置換または無置換の総炭素数6〜15のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基等の無置換のアリール基、2-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,3--ジメチルフェニル基、2、6-ジメチルフェニル基、2、4-ジメチルフェニル基、2、4-ジイソプロピルフェニル基、2、6-ジtブチルフェニル基、3,4--ジメチルフェニル基、3,6-ジメチルフェニル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、2-エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基、2-メチル-1-ナフチル基、8-メチル-1-ナフチル基、1-メチル-2-ナフチル基、4-メチル-2-ナフチル基、8-メチル-2-ナフチル基、2-エチル-1-ナフチル基等のアルキル基で置換されたアリール基、2-メトキシフェニル基、4-メトキシフェニル基、2,3-ジメトキシフェニル基、2,6-ジメトキシフェニル基、3,4-ジメトキシフェニル基、3,6-ジメトキシフェニル基、2,3,4-トリメトキシフェニル基、2,4,6-トリメトキシフェニル基、2-エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基等のアルコキシ基で置換されたアリール基等が挙げられる。
【００３０】（Ａ）で表される、金属系化合物残基としては、金属を含む化合物の残基であればいずれでも良いが、好ましくはメタロセン化合物残基が挙げられる。このような金属を含む化合物の具体例としては、Ｆｅ（Ｃｐ）2（但しＣｐはシクロペンタジエニル基を表す。以下同様）、Ｃｏ（Ｃｐ）2、Ｎｉ（Ｃｐ）2、Ｒｕ（Ｃｐ）2、Ｏｓ（Ｃｐ）2、Ｍｎ（Ｃｐ）2、Ｃｒ（Ｃｐ）2、Ｗ（Ｃｐ）2、Ｖ（Ｃｐ）2、Ｓｃ（Ｃｐ）3、Ｙ（Ｃｐ）3、Ｌａ（Ｃｐ）3、Ｃｅ（Ｃｐ）3、Ｐｒ（Ｃｐ）3、Ｎｄ（Ｃｐ）3、Ｓｍ（Ｃｐ）3、Ｇｄ（Ｃｐ）3、Ｅｒ（Ｃｐ）3、Ｔｍ（Ｃｐ）3、Ｙｂ（Ｃｐ）3、シクロペンタジエニルマンガノセントリカルボニル等のメタロセン化合物、チタノセンジフェノキシド、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)フェニルチタニウム、シクロペンタジエニルマンガノセントリカルボニル等の置換金属を有するメタロセン化合物などが挙げられ、これらのメタロセン化合物は、アルキル基、アリール基、アシル基により置換されていてもよい。
【００３１】結合基とメタロセン化合物の結合は、シクロペンタジエニル環との結合、金属との直接結合などが挙げられるが、例えばシクロペンタジエニル環との結合が挙げられる。
【００３２】一般式（１）で示される化合物は、例えば下記(ｉ)〜(iii)（Ｐｃはフタロシアニン化合物を表し、Ｐｃのβ位に表記の基は結合している。Ｍ’はメタロセンの金属原子、Ｈａｌはハロゲンを示す。）のようにして製造することができるが、なんらこれらに限定されるものではない。
【００３３】例えば、（ｉ）ホルミルフタロシアニン化合物（I）と、メタロセンアルデヒド（II）を、ヒドラジンを用いて脱水縮合し、化合物（III）を合成する方法、
【００３４】
【化８】
【００３５】（ii）ハロゲンを有するフタロシアニン化合物（IV）とヒドロキシメチルフェノール(Ｖ)を用いてエーテル化し、化合物（VI）を合成した後、メタロセンカルボン酸(VII)とエステル化し、化合物（VIII）を合成する方法、
【００３６】
【化９】
【００３７】（iii）J.Am.Chem.Soc.,77,3012(1955)記載の方法でアミノフェノール(IX)を直接メタロセン化合物(X)と結合し、化合物（XI）を合成した後、フタロシアニン化合物とエーテル化を行い、化合物（XII）を合成する方法、等が挙げられる。
【００３８】
【化１０】
【００３９】また、フタロシアニン化合物は、公知の様に構造異性体が存在し、得られる化合物はこれらの混合物である。さらに、本願では、金属系化合物を結合させることから、多くの構造異性体が生成する他に、置換数の異なる化合物の混合物として得られる。本願記載の化合物は、構造式で示される化合物を主に含む混合物であり、構造式に示される化合物に限定されるものではない。
【００４０】表−１に本発明の一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物の具体例を示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】
【表３】
【００４４】
【表４】
【００４５】(A-1):Fe(Cp)2(A-2):Cr(Cp)2(A-3):
【００４６】
【化１１】
(A-4):Ru(Cp)2(A-5):La(Cp)3(A-6):Sc(Cp)3(A-7):Er(Cp)3(A-8):Y(Cp)3(A-9):Ni(Cp)2
【００４７】光記録媒体とは予め情報を記録されている再生専用の光再生専用媒体及び情報を記録して再生することのできる光記録媒体の両方を示すものである。但し、ここでは適例として後者の情報を記録して再生のできる光記録媒体、特に基板上に記録層、反射層を有する光記録媒体に関して説明する。
【００４８】基板の材質としては、基本的には記録光および再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピットを形成することもある。このような案内溝やピットは、基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。
【００４９】本発明においては、基板上に記録層を設けるが、本発明の記録層は、λmaxが６５０ｎｍ〜９００ｎｍ付近に存在する一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物を含有する。中でも、７８０ｎｍ近傍の記録および再生レーザー波長に対して適度な光学定数（光学定数は複素屈折率（ｎ＋ｋｉ）で表現される。式中のｎ、ｋは、実数部ｎと虚数部ｋとに相当する係数である。ここでは、ｎを屈折率、ｋを消衰係数とする。）を有する必要がある。
【００５０】一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率ｎと消衰係数ｋが大きく変化する特徴がある。ｎが１．８より小さい値になると正確な信号読み取りに必要な反射率と信号変調度は得られ難くなり、ｋが０．４０を越えても反射率が低下して良好な再生信号が得られないだけでなく、再生光により信号が変化しやすく実用に適さない場合がある。この特徴を考慮して、目的とするレーザー波長において好ましい光学定数を有する有機色素を選択し記録層を成膜することで、高い反射率を有し、かつ、感度の良い媒体とすることができる。
【００５１】本発明で使用する一般式（１）で表されるフタロシアニン化合物は、吸光係数が高く、また中心金属、置換基の選択により吸収波長域を任意に選択できるため、前記レーザー光の波長において記録層に必要な光学定数（ｎが１．８以上、且つ、ｋが０．０４から０．４０であり、好ましくは、ｎが２．０以上、且つ、ｋが０．０４〜０．２０）を満足する極めて有用な化合物である。
【００５２】さらに、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤などを併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどが挙げられる。
【００５３】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
【００５４】ここで、記録層における一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物の含有量は、３０質量％以上、好ましくは６０質量％以上である。尚、実質的に１００質量％であることも好ましい。
【００５５】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
【００５６】スピンコート法等の塗布法を用いる場合には、一般式（１）で示されるフタロシアニン化合物を１〜４０質量％、好ましくは３〜３０質量％となるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフルオロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトン、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても良く、あるいは、複数混合しても良い。
【００５７】なお、必要に応じて、記録層の色素を高分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
【００５８】また、基板にダメージを与えない溶媒を選択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法などが有効である。
【００５９】色素層の膜厚は、特に限定するものではないが、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。色素層の膜厚を５０ｎｍより薄くすると、熱拡散が大きいため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号振幅が小さくなる。また、膜厚が３００ｎｍより厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化する。
【００６０】次に記録層の上に、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、ＣｒおよびＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。これ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができる。また、Ａｕを主成分とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため好適である。ここで主成分というのは含有率が５０％以上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００６１】反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上などのために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００６２】さらに、反射層の上に設けられる保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定されず、有機或いは無機物質から選択される。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙げることができる。また、無機物質としては、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2などが挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良く、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
【００６３】保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッタ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
【００６４】保護層の膜厚は、一般には０．１μｍ〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
【００６５】保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を行うこともできる。また、反射層面に保護シートまたは基板を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向させ、光記録媒体２枚を貼り合わせるなどの手段を用いても良い。また、基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜しても良い。
【００６６】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６７】実施例１特開平３−６２８７８号公報記載の下記構造式（２）で示されるフタロシアニン化合物１．５８ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、J.Am.Chem.,77,3012(1955)記載の方法で合成した下記構造式(３)で示されるｐ−フェロセンフェノール０．３３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ジメチルイミダゾリジニウム（以下ＤＭＩと略）２０ｍｌを混合し、１６０℃で４時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、カラムクロマトグラフィーで精製し、下記構造式（１−１）で示されるフタロシアニン化合物を０．８４ｇ （０．４６ｍｏｌ）（収率４６％）で得た。
【００６８】
【化１２】
【００６９】吸収波長：λmax=７２１ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１３５，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ88Ｈ101Ｃｌ7ＦｅＮ8Ｏ9Ｐｄ計算値（％） Ｃ：５７．９１％ Ｈ：５．５８％ Ｎ：６．１４％分析値（％） Ｃ：５７．７８％ Ｈ：５．４１％ Ｎ：６．２９％
【００７０】実施例２ｐ−フェロセンフェノール(３)を１．３９ｇ（５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウムを０．８３ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様にして下記構造式（１−３）で示されるフタロシアニン化合物を１．６３ｇ（０．６４ｍｏｌ）（収率６４％）で得た。
【００７１】
【化１３】
吸収波長：λmax＝７２４ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝９６，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ136Ｈ140Ｃｌ4Ｆｅ4Ｎ8Ｏ12Ｐｄ計算値（％） Ｃ：６４．０５％ Ｈ：５．５３％ Ｎ：４．３９％分析値（％） Ｃ：６３．７８％ Ｈ：５．４１％ Ｎ：４．２９％
【００７２】実施例３実施例１で使用したフタロシアニン化合物（２）１．５８ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ｍ−アミノフェノール０．１３ｇ（１．１９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＩ２０ｍｌを混合し、１４０℃で４時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、下記構造式（４）で示されるｍ−アミノフェノキシフタロシアニン化合物を含む混合物を１．４１ｇ （０．８５ｍｍｏｌ）（収率８５％）で得、さらにこのｍ−アミノフェノキシフタロシアニン化合物（４）１．１６ｇ （０．７ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌ、ピリジン０．１ｍｌを混合し、さらに、フェロセンカルボン酸(Aldrich社製)を用いてJ.Org.Chem.,24,280(1959)に従い合成したフェロセンカルボン酸クロライド０．２ｇ（０．８０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間反応させた。水を加えた後、抽出、水洗浄し、トルエンを留去し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（１−１４）で示されるフタロシアニン化合物を０．８６ｇ（０．４６ｍｍｏｌ）（収率６６％）得た。
【００７３】
【化１４】
【００７４】吸収波長：λmax＝７２１．５ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１３３，０００（溶剤：トルエン)元素分析値：Ｃ89Ｈ102Ｃｌ7ＦｅＮ9Ｏ10Ｐｄ計算値（％） Ｃ：５７．２２％ Ｈ：５．５０％ Ｎ：６．７５％分析値（％） Ｃ：５７．４４％ Ｈ：５．３８％ Ｎ：６．６８％
【００７５】実施例４特開平３−６２８７８号公報記載の方法で合成した、下記構造式（５）で示されるフタロシアニン化合物１．６７ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ｐ−アミノチオフェノール０．１５ｇ（１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＩ２０ｍｌを混合し、１２０℃で５時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、下記構造式（６）で示されるｐ−アミノフェニルチオキシフタロシアニン化合物を１．３９ｇ （０．７９ｍｍｏｌ）（収率７９％）で得、さらにこのｐ−アミノフェニルチオキシフタロシアニン化合物（６）１．２３ｇ （０．７ｍｍｏｌ）、を用いて実施例３と同様にしてアミド化し、下記構造式（１−１８）で示されるフタロシアニン化合物を０．９８ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）（収率６６％）得た。
【００７６】
【化１５】
【００７７】吸収波長：λmax＝７２５ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１３２，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ89Ｈ102Ｃｌ7ＦｅＮ9Ｏ17ＳＺｎ計算値（％） Ｃ：５４．２３％ Ｈ：５．２２％ Ｎ：６．３９％分析値（％） Ｃ：５４．５４％ Ｈ：５．３２％ Ｎ：６．４８％
【００７８】実施例５実施例１で使用したフタロシアニン化合物（２）１．５８ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を、３−ヒドロキシメチルフェノール０．１５ｇ （１．２１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．２１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＩ２０ｍｌを混合し、１４０℃で４時間反応させた。室温に冷却後、メタノールに排出し、析出した固体を分取し、下記構造式（７）で示される３−（ヒドロキシメチル）フェノキシフタロシアニン化合物を１．３９ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）（収率８３％）で得、さらにこの３−（ヒドロキシメチル）フェノキシフタロシアニン化合物（７）１．１７ｇ（０．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例３と同様にフェロセンカルボン酸クロライド０．２ｇ（０．８ｍｍｏｌ）を用いてエステル化し、下記構造式（１−２８）で示されるフタロシアニン化合物を１．０７ｇ（０．５７ｍｍｏｌ）（収率８１％）得た。
【００７９】
【化１６】
【００８０】吸収波長：λmax＝７２１．５ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１０２，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ90Ｈ103Ｃｌ7ＦｅＮ8Ｏ11Ｐｄ計算値（％） Ｃ：５７．４０％ Ｈ：５．５１％ Ｎ：５．９５％分析値（％） Ｃ：５７．６６％ Ｈ：５．６２％ Ｎ：５．７５％
【００８１】実施例６乾燥ジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦと略）４．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）に、水冷下、オキシ塩化リン９．２ｇ（６０ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温で攪拌しVilsmeier試薬を調製し、特開平３−６２８７８号公報記載の方法に従い合成した下記構造式（８）で示されるフタロシアニン化合物１２．６５ｇ（１０ｍｍｏｌ）のクロロベンゼン１００ｍｌ溶液を加え８０−９０℃で３時間反応させた。反応終了後、室温に冷却したのち、酢酸ナトリウム水溶液を添加し、クロロホルムを用いて抽出し、水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を留去し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（９）で示されるホルミルフタロシアニン化合物９．３１ｇ（７．２ｍｍｏｌ）（収率７２％）を得た。
【００８２】
【化１７】
【００８３】一方、乾燥ＤＭＦ４．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）に、水冷下、オキシ塩化リン９．２ｇ（６０ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温で攪拌しVilsmeier試薬を調製し、ルテノセン６．９４ｇ（３０ｍｍｏｌ）のクロロベンゼン５０ｍｌ溶液を加え８０−９０℃で１０時間反応させた。反応終了後、室温に冷却したのち、酢酸ナトリウム水溶液を添加し、クロロホルムを用いて抽出し、水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を留去し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（１０）で示されるホルミルルテノセン４．８２ｇ（１８．６ｍｍｏｌ）（収率６２％）を得た。
【００８４】ヒドラジン一水和物１９．５ｇ（０．３９ｍｏｌ）中に、ホルミルルテノセン１．０１ｇ（３．９ｍｍｏｌ）のメタノール１０ｍｌ溶液を室温で滴下し反応させた。水中に排出し、析出した固体を濾別水洗し、下記構造式（１１）で示されルテノセンアルダゾンを０．７９ｇ（２．９ｍｍｏｌ）（収率７４％）得た。
【００８５】
【化１８】
【００８６】ホルミルフタロシアニン化合物（９）３．８８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をトルエン５０ｍｌに溶解させたのち、ルテノセンアルダゾン（１１）１．６４ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で反応させ、溶剤を留去したのちカラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造式（１−３７）で示されるフタロシアニン化合物を含む混合物を３．７２ｇ（２．４ｍｏｌ）（収率８０％）を得た。
【００８７】
【化１９】
【００８８】吸収波長：λmax＝７３９ｎｍグラム吸光係数：εｇ＝１２４，０００（溶剤：トルエン）
元素分析値：Ｃ84Ｈ106ＣｕＮ10Ｏ8Ｒｕ計算値（％） Ｃ：６５．１６％ Ｈ：６．９０％ Ｎ：９．０５％分析値（％） Ｃ：６５．０８％ Ｈ：６．７２％ Ｎ：８．８８％
【００８９】〔実施例７〕実施例1記載のフタロシアニン化合物（１−１）０．２ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解し、色素溶液を調製した。基板は、ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：１．６μｍ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの円盤状のものを用いた。
【００９０】この基板上に色素溶液を回転速度１０００〜１５００ｒｐｍでスピンコートし、７０℃で３時間乾燥して記録層を形成した。
【００９１】この記録層の上にバルザース社製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用いてAuをスパッタし、厚さ１００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスには、アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー２．５ｋＷ、スパッタガス圧１．３３Ｐａ（１．０×１０-2Ｔｏｒｒ）で行った。
【００９２】さらに反射層上に紫外線硬化性樹脂ＳＤ−１７００（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした後、紫外線を照射して厚さ６μｍの保護層を形成して、光記録媒体を作製した。
【００９３】得られた光記録媒体に、波長７８０ｎｍでレンズの開口数が０．５の半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）を用いて、線速１４．４ｍ／ｓの高速で、ＥＦＭ信号を、レーザーパワー１８〜２０ｍＷで記録した。評価装置を用いて信号を再生し、最短ピット（長さ０．８μｍ）のジッター、デビエーションおよびエラーレートを測定した結果、レーザーパワー１８ｍＷで、ジッター２０ｎｓ、デビエーション１０ｎｓ、エラーレート１００以下といずれも良好な値を示した。
【００９４】比較例１下記構造式（１２）で示されるフタロシアニン化合物を、実施例７と同様にしてＣＤ−Ｒ媒体を作製し、同様に評価したところ、レーザーパワー１８ｍＷでは、ジッター５６％、デビエーション５２ｎｓ、エラーレート４５０以上であり、十分な特性ではなかった。
【００９５】
【化２０】
【００９６】比較例２ＷＯ９８０１４５２０記載の下記構造式（１３）で示されるフタロシアニン化合物を、実施例７と同様にしてＣＤ−Ｒ媒体を作製し、同様に評価したところ、レーザーパワー１８ｍＷでは、ジッター７８ ｎｓ、デビエーション７０ｎｓ、エラーレート１２５０以上であり、十分な特性ではなかった。
【００９７】
【化２１】
【００９８】実施例８〜２５表−１に記載したフタロシアニン化合物を用いる以外は実施例７と同様にしてＣＤ−Ｒ媒体を作製し、レーザーパワー１８ｍＷで記録し、最短ピット（長さ約０．８μｍ）のジッター、デビエーションおよびエラーレートを評価した。結果は表−２に記載したように、いずれも良好な値を示した。
・ジッターの評価は、○が３５ｎｓ以下、×が３５ｎｓ以上であることを示す。
・デビエーションの評価は、○が４０ｎｓ以下、×４０ｎｓ以上であることを示す。
・エラーレートの評価は、○が２２０未満、×が２２０以上であることを示す。
【００９９】
【表５】
【０１００】
【発明の効果】本発明のフタロシアニン化合物は、金属系化合物が結合しているフタロシアニン化合物である。本願化合物は、金属系化合物が結合していることから分解特性が良好で、かつ、７８０ｎｍ近傍における吸収係数、屈折率が高く、特に高速、高密度記録での感度(最適記録パワー等)、記録特性(ジッター、デビエーション)の向上を可能とした。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 下記式（１）で示されるフタロシアニン化合物。
【化１】
〔式（１）中、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価または４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表し、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立に式（ａ）、式（ｂ）、
【化２】
（式（ａ）または式（ｂ）中、Ｘ1，Ｘ2は置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基を表わし、Ｙ1，Ｙ2は水素原子、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、（Ａ）は金属系化合物残基を表し、（Ｂ）はフタロシアニン化合物と（Ａ）とを結合する基を表す。）を表し、Ｌ1〜Ｌ4のうち、少なくとも１つが（ａ）を表す。〕
【請求項２】 （Ｂ）が、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）で示される結合基から選ばれる請求項１記載のフタロシアニン化合物。
【化３】
［式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）中、Ｄは−Ｎ＝ＣＲ5−、−ＮＲ6ＣＯ−、−ＣＨＲ7ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｒ1〜Ｒ7は各々独立に水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜１５のアリール基を表し、Ｑ1、Ｑ2は、酸素原子または硫黄原子を表す。］
【請求項３】 （Ａ）で示される金属系化合物残基がメタロセン化合物及びその誘導体の残基である請求項１又は２記載のフタロシアニン化合物。
【請求項４】 基板、記録層、反射層からなる光記録媒体において、請求項１〜３のいずれかに記載のフタロシアニン化合物を記録層に含有する光記録媒体。
【請求項１】 下記式（１）で示されるフタロシアニン化合物。
【化１】
〔式（１）中、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価または４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表し、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立に式（ａ）、式（ｂ）、
【化２】
（式（ａ）または式（ｂ）中、Ｘ1，Ｘ2は置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１５の直鎖または分岐のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキルチオ基を表わし、Ｙ1，Ｙ2は水素原子、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、（Ａ）は金属系化合物残基を表し、（Ｂ）はフタロシアニン化合物と（Ａ）とを結合する基を表す。）を表し、Ｌ1〜Ｌ4のうち、少なくとも１つが（ａ）を表す。〕
【請求項２】 （Ｂ）が、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）で示される結合基から選ばれる請求項１記載のフタロシアニン化合物。
【化３】
［式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）中、Ｄは−Ｎ＝ＣＲ5−、−ＮＲ6ＣＯ−、−ＣＨＲ7ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｒ1〜Ｒ7は各々独立に水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜１５のアリール基を表し、Ｑ1、Ｑ2は、酸素原子または硫黄原子を表す。］
【請求項３】 （Ａ）で示される金属系化合物残基がメタロセン化合物及びその誘導体の残基である請求項１又は２記載のフタロシアニン化合物。
【請求項４】 基板、記録層、反射層からなる光記録媒体において、請求項１〜３のいずれかに記載のフタロシアニン化合物を記録層に含有する光記録媒体。
【公開番号】特開２００２−１８８０１９（Ｐ２００２−１８８０１９Ａ）
【公開日】平成１４年７月５日（２００２．７．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０００−３８６９８９（Ｐ２０００−３８６９８９）
【出願日】平成１２年１２月２０日（２０００．１２．２０）
【出願人】（０００００５８８７）三井化学株式会社 (2,318)
【出願人】（０００１７９９０４）山本化成株式会社 (70)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１４年７月５日（２００２．７．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１２年１２月２０日（２０００．１２．２０）
【出願人】（０００００５８８７）三井化学株式会社 (2,318)
【出願人】（０００１７９９０４）山本化成株式会社 (70)
【Ｆターム（参考）】
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