プラズマディスプレイパネル用部材及びそれを用いたプラズマディスプレイパネル
【課題】 画面の大型化、高精細化に伴う誤放電や不灯を抑制し、大型であっても表示品位の高いＰＤＰを提供できるプラズマディスプレイ用部材を提供する。
【解決手段】 基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材において、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅を大きくする、あるいは、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅を大きく構成する。
【解決手段】 基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材において、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅を大きくする、あるいは、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅を大きく構成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造に用いられる部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称することがある）は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることから、事務機器および広報表示装置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。
【０００３】
このような用途の拡大にともなって、繊細で多数の表示画素を有するカラーＰＤＰが注目されている。ＰＤＰは、前面部材とアドレス電極を有した背面部材との間に設けられた放電空間内で対向する電極間にプラズマ放電を生じせしめ、上記放電空間内に封入されたガスから発生した紫外線が蛍光体に照射されて生じる発光を利用して表示を行うものが代表的である。代表的なＰＤＰにおいては、前面部材は基板上に走査電極、維持電極、誘電体層を有し、背面部材は基板上にアドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体を有している。ＰＤＰの駆動は走査電極に走査パルスが順次印加され、このタイミングに合わせて、アドレス電極に走査電極が対応する表示セルに、表示データに応じた走査パルスとは逆極性のデータパルスを印加して発光させ、維持電極に印加される維持パルスにより放電を維持する。このようなＰＤＰにおいては、走査電極、維持電極と直交方向に配置されたアドレス電極に電圧を印加することによって放電を発生させる。
【０００４】
近年特に家庭用において大型化の要請が強まっている。先述のとおりＰＤＰは前面部材および背面部材を貼り合わせて放電空間をその内部に形成する必要があるが、これら部材に反りやねじれなどがある場合や貼り合わせ精度が悪いと、各表示セルの性状（空間の密閉度や電極間隙など）は不均一となって、とりわけ周縁部や角部において特性が低下する問題が発生する。そして大型のＰＤＰであるほど顕著にその影響が表れる。また、高精細化の進展は電極間隙を狭く形成することを要求するが、走査電極と維持電極の配列間隔が狭まるにつれて、空間電荷が列方向に隣接する他のセルまで移動することによって誤放電や不灯が発生するという問題があった。
【０００５】
かかるパネル特性低下の原因としては、隔壁を越えて電荷が移動することによる誤放電及び駆動電圧マージンが狭くなる点が指摘される。
【０００６】
而して、このような誤放電や駆動電圧マージンの低下を防ぐには、特に大型のＰＤＰにおいては、基材の平面性などの精度としても厳しい要求が存在し、また、貼り合わせ精度としても非常に高い水準が要求されていた。
【０００７】
しかしながら、こうした非常に高い精度の材料を用いたり、あるいは各工程として高い水準での管理を要求することは、生産性に大きな影響を及ぼしていた。このため、少しでも自由度の高い、大型のＰＤＰであっても表示品位が損われることがない技術が渇望されていた。
【０００８】
こうした問題について、電荷移動に対しては隔壁を格子化する他に前面板に形成された走査電極、維持電極に対して背面板にアドレス電極および隔壁を傾斜した方向に沿って形成することにより電荷の移動を防ぐことが提案されている（特許文献１）。
【０００９】
一方、アドレス電極の設計技術としては、書き込み放電時の各表示セルにおける放電バラツキによる表示品位の劣化を抑制するため一側面を入り口側として放電空間内部に入り込んだ複数のアドレス電極を箇所によって互いに異なる電極幅とすることが、知られている（特許文献２）。
【特許文献１】特開２０００−４８７２７号公報
【特許文献２】特開２００３−３０８７８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、従来のＰＤＰにおける画面の大型化、高精細化に伴う誤放電や不灯を抑制し、大型であっても表示品位の高いＰＤＰを提供できるプラズマディスプレイ用部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の課題を解決するため、本発明は、
（１）基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材、
（２）基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅の方が大きく構成されているプラズマディスプレイパネル用部材、であることを本旨とし、また、種々の好ましい態様を提案するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、電荷の移動を抑えて不要の放電を防止し、また、不灯を防止し、大型化や高精細化に対応した、表示品位の高いプラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明のＰＤＰ用部材について以下具体的に説明する。本発明にかかるＰＤＰ用部材は基材の上に複数本のアドレス電極が設けられている。一般的なＰＤＰ用部材においては、このアドレス電極は誘電体層、隔壁層、蛍光体層と共に基材上に形成されて背面部材として構成されることが多い。従って、以下の説明においても背面部材として製造する場合を例にして説明する。
【００１４】
本発明のＰＤＰ用部材に用いる基板としては、一般的に耐熱硝子が使用され、例えば、ソーダガラスの他に旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”などが挙げられる。なお、材質は必ずしもガラスであることが必要である訳ではなく、基板としての要求特性（平坦性、熱特性や耐熱性など）を満たすことができれば、金属やセラミックスなど、材質としてはガラスに限定されるものではない。
【００１５】
アドレス電極は、基板上に、必要により他の層を設けた後、銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によって所望のパターンに配設することで形成する。アドレス電極のパターンを形成する方法としては、上記の金属の粉末と感光性有機成分を含んだ感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに、４００〜６００℃に加熱・焼成して電極パターンを形成する感光性ペースト法を用いることが好ましい。また、他の方法としては金属粉末を含んだ金属ペーストをスクリーン印刷やオフセット印刷などの印刷法によってパターンを形成する方法や、例えばフィルム上に形成した電極のパターンを基板に転写する方法などが挙げられる。アドレス電極は、通常はストライプ状に形成され、各電極は実質的に平行に形成される。アドレス電極の幅は好ましくは２０〜２３０μｍであり、より好ましくは３０〜２００μｍである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のＰＤＰでは１００〜５００μｍ、高精細ＰＤＰにおいては１００〜４００μｍのピッチで形成するのが好ましい。
【００１６】
本発明においては、アドレス電極は、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きく構成されている。ここで、表示域とは画面として利用する領域のことをいい、通常は放電が生じる領域である。表示域端部とは前記表示域内におけるストライプ状に形成されたアドレス電極の両外側の数本ないし数十本が存在する領域を指す（図１における１Ａ、１Ｂの領域）。この領域としては、広く確保されている方が誤点灯や不灯を抑制する効果が大きいので、かかる幅の大きいアドレス電極は、少なくとも表示域の両端から０．５ｃｍ以上の幅の領域に設けられ、該両端から３ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましく、さらには該両端から５ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましい。特には該両端から１０ｃｍまでの範囲に設けられることが好ましい。すなわち、最も好ましい場合においては本発明にかかるＰＤＰ用部材は表示域端部を表示域の両端から１０ｃｍとしたときに下記に説明するような関係が充足されるよう構成されている。表示域内側部とは前記の表示域端部以外の領域である（図１における１Ｃ、１Ｄの領域）。本発明のこの態様においては、該表示域端部のアドレス電極の幅が表示域内側部のアドレス電極の幅よりも大きく構成されているが、これは各領域に存在する各々の電極の幅が上記の関係を有している（典型的には、表示域端部における最小のアドレス電極幅が表示域内側部の最大のアドレス電極幅よりも大きい）ことが好ましいが、これら領域における電極の幅の平均として、上記の関係を有していることを意味する。すなわち、表示域内側部のアドレス電極の幅の平均をＷａ、表示域端部のアドレス電極の幅をＷｂとしたとき、Ｗｂ＞Ｗａの関係にあり、好ましくは、Ｗｂ＞１．０２×Ｗａ、より好ましくは、Ｗｂ＞１．０５×Ｗａ、更に好ましくは、Ｗｂ＞１．０８×Ｗａの関係を満たせばよい。上限としては特に制限はないが、余りに幅が広いと精細度に影響し、また、短絡の問題も生じるので、好ましくＷｂ＜１．４×Ｗａ、更に好ましくＷｂ＜１．３×Ｗａ程度である。また、好ましい態様においては、表示域端部を両端からｘｃｍとしたときの表示域端部のアドレス電極の幅の平均をＷｂ（ｘ）、その時の表示域内側部のアドレス電極の幅の平均をＷａ（ｘ）としたとき、Ｗｂ（１０）／Ｗａ（１０）＞０．８×Ｗｂ（３）／Ｗａ（３）であり、より好ましく、Ｗｂ（１０）／Ｗａ（１０）＞０．９×Ｗｂ（３）／Ｗａ（３）である。なおここで、各アドレス電極において長手方向に幅の変化があるときは、電極面積を長さで除してその電極の幅は求められる。前面部材および背面部材の貼り合わせは両端部において歪みを残し易く、また、歪みも両端において最も影響が大きいので、該領域のアドレス電極の幅を大きくすることで、電荷の移動は抑制され、また、隔壁との重複を避けることができ、両端部における電荷の移動による誤放電や不灯の発生が抑制される。また、アドレス電極幅の大きい領域を幅５〜１０ｃｍとることにより消費電力を抑制することができる。
【００１７】
本発明の別な態様においては、アドレス電極は、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅が大きい。表示域周縁部とは表示域内の外周部の領域を指し（図１における１Ａ、１Ｂ、１Ｃの領域）、表示域中央部とは表示域の表示域周縁部以外の領域を指す（図１における１Ｄの領域）。すなわち、前記の態様では、表示域の両側端部と内側部における電極幅の関係であるが、この態様においては更に上下端部、すなわち、アドレス電極の長手方向の両端の領域、との関係も含めて規定するものである。この態様において、表示域周縁部の電極の幅は表示域中央部の電極の幅よりも大きく構成されている。このようにすることで上下端部において生じる電荷の移動による誤放電や不灯の発生をも抑制することができる。また、表示域周縁部のアドレス電極幅の大きい領域を表示域の端から５〜１０ｃｍとることにより、より一層消費電力を抑制することができる。表示域周縁部の上下端部（図１の１Ｃに相当する部分）のアドレス電極幅が広い領域は広く確保されている方が誤点灯や不灯を抑制する効果が大きいので、少なくとも上下端から０．５ｃｍ以上の幅の領域に設けられ、表示域の上下端から３ｃｍまでの以内の範囲に設けられていることが好ましく、上下端から５ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましく、上下端から１０ｃｍまでの範囲に設けられていることが最も好ましい。ここで、該表示域周縁部のアドレス電極の幅が表示域中央部のアドレス電極の幅よりも大きいという意味は、表示域中央部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きいと共に、表示域中央部のアドレス電極の幅よりも表示域の周縁部の上下端のアドレス電極の幅が大きいことを意味する。典型的には、表示域中央部のアドレス電極の最大の幅よりも表示域端部における最小のアドレス電極幅が大きく、かつ、表示域中央部のアドレス電極の最大の幅よりも表示域周縁部の上下端部における最大のアドレス電極幅よりも大きいことが好ましいが、表示域中央部のアドレス電極の幅の平均値をＷａ’表示域端部のアドレス電極の幅をＷｂ、表示域周縁部の上下端部のアドレス電極の幅をＷｃとしたとき、Ｗｂ＞Ｗａ’かつＷｃ＞Ｗａ’の関係であることを意味する。好ましくは、Ｗｂ＞１．０２×Ｗａ’かつＷｃ＞１．０２×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０５×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０８×Ｗａ’、より好ましくは、Ｗｂ＞１．０５×Ｗａ’かつＷｃ＞１．０２×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０５×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０８×Ｗａ’、更に好ましくは、Ｗｂ＞１．０８×ＷａかつＷｃ＞１．０２×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０５×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０８×Ｗａ’である。上限としては特に制限はないが、余りに幅が広いと精細度に影響し、また、短絡の問題も生じるので、好ましくは、Ｗｂ＜１．４×Ｗａ’、より好ましくは、Ｗｂ＜１．３×Ｗａ’であり、また一方、好ましくは、Ｗｃ＜１．４×Ｗａ’、より好ましくは、Ｗｃ＜１．３×Ｗａ’である。また、好ましい態様においては、表示域端部を表示域の上下端からｘｃｍとしたときの表示域周縁部の上下端部のアドレス電極の幅をＷｃ（ｘ）、その時の表示域中央部のアドレス電極の幅の平均をＷａ’（ｘ）としたとき、Ｗｃ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．８×Ｗｃ（３）／Ｗａ’（３）であり、より好ましく、Ｗｃ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．９×Ｗｃ（３）／Ｗａ’（３）である。また、表示域端部を両端からｘｃｍとしたときの表示域端部のアドレス電極の幅をＷｂ（ｘ）、その時の表示域中央部のアドレス電極の幅の平均をＷａ’（ｘ）としたとき、Ｗｂ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．８×Ｗｂ（３）／Ｗａ’（３）であり、より好ましく、Ｗｂ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．９×Ｗｂ（３）／Ｗａ’（３）である。なお、各アドレス電極について、長手方向において幅が異なるときのアドレス電極幅は、その領域における電極面積をその領域の長さで除してその領域における電極の幅は求められる。
【００１８】
また、本発明の好ましい態様においては、表示域端部のアドレス電極において、表示域の上下端の領域（図１における１Ｂの領域）におけるアドレス電極の幅が中央部（図１における１Ａ）における幅よりも大きい。すなわち、表示域の角部の領域において最もアドレス電極の幅は大きく構成されることが好ましい。表示域の角部は封着材の厚みの不均一や前面板と背面板の反りの影響を最も受けやすく、このため前面部材と背面部材の隙間が特に発生しやすく電荷の移動が起こりやすい。このため、表示域端部のアドレス電極の上下端の領域における幅をその中央部のアドレス幅よりも大きくすることにより、この影響は効果的に抑制することが可能であり、工程上の自由度は増すと同時に電荷移動による誤点灯や不点灯のない良好な表示品位のＰＤＰを得ることができる。表示域端部のアドレス電極の表示域の上下端の領域とは、該アドレス電極の表示域の上下端から０．５ｃｍ以上の幅の領域に設けられ、表示域の上下端から３ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましく、表示域の上下端から５ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましい。特には表示域の上下端から１０ｃｍまでの範囲である（なお、前記表示域周縁部の説明における１Ｂの領域とは必ずしも一致するものではなく、例えば、表示域端部の幅が１０ｃｍであるときに、その内該領域にあるアドレス電極の上下端部の幅を大きく構成する部分を表示域の端から５ｃｍとすることはあり得る。）。表示域端部の中央部とは表示域端部における前記の上下端の領域を除いた領域（図１における１Ａの領域）である。また、表示域端部のアドレス電極の上下端の領域における幅が中央部のアドレス電極の幅よりも大きいという意味は、すなわち、表示域端部のアドレス電極の上下端におけるアドレス電極の幅の平均値をＷｄ、表示域端部のアドレス電極の中央部におけるアドレス電極の幅の平均値をＷｅとしたとき、Ｗｄ＞Ｗｅを満足するという意味である。好ましくは、Ｗｄ＞１．０２×Ｗｅ、より好ましくは、Ｗｄ＞１．０５×Ｗｅ、更に好ましくは、Ｗｄ＞１．０８×Ｗｅである。上限としては、精細度に影響し、また、短絡の問題も生じることからＷｄ＜１．４×Ｗｅとすることが好ましく、より好ましくは、Ｗｄ＜１．３×Ｗｅとすることが適当である。
【００１９】
本発明において、アドレス電極の幅の調整は上述したアドレス電極の形成方法において、露光時のマスク幅を変えたり、導電ペーストを塗布あるいは印刷するときの塗布・印刷幅を適宜変更したり、エッチング時のマスクを調整したり、転写元のパターンとして所望の形に形成することにより達成することができる。アドレス電極は異なる２種の幅の電極を配列しても良いが、多段階に種々の幅を有するアドレス電極を配列してもよい。また、アドレス電極の長手方向における幅は連続的に変化させても良いが、不連続的、段階的に変化させても良い。アドレス電極の厚みとしては特に制限はないが、１〜１０μｍとすることが好ましく、２〜７μｍとすることがより好ましい。アドレス電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要になり、コストにみあう抵抗値減の効果が得がたい傾向にあるからである。
【００２０】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材においては、前記アドレス電極上に誘電体層が好ましく形成される。誘電体層は、例えば、ガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストを前記アドレス電極層を覆う形で塗布した後に、４００〜６００℃で焼成することにより形成できる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０重量％含有するガラス粉末を好ましく用いることができる。１０重量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０重量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。これらのガラス粉末と有機バインダーと混練してペーストを作製できる。用いる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。ガラス粉末以外にフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、粒子径０．０５〜３μｍの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末：フィラーの比で、１：１〜１０：１が好ましい。フィラーの含有量をガラス粉末の１０分の１以上とすることで、輝度の向上をはかることができる。また、フィラーの量をガラス粉末の等量以下とすることで、焼結性に優れたものとできる。また、導電性微粒子を添加することにより駆動時の過剰な帯電によるスパークを防止することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、粒子径は１〜１０μｍが好ましい。１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑え隔壁形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、０．１〜１０重量％が好ましい。０．１重量％以上とすることで実効を得ることができ、１０重量％以下とすることで、隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。
【００２１】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材においては、前記誘電体層上にセルを構成する隔壁層が好ましく形成される。
【００２２】
隔壁層に設けられる隔壁の高さは、８０μｍ〜２００μｍが適している。８０μｍ以上とすることで蛍光体と走査電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化を防ぐことができる。また、２００μｍ以下とすることで、走査電極での放電と蛍光体の距離を近づけ、十分な輝度を得ることができる。また隔壁のピッチ（Ｐ）としては、１００μｍ≦Ｐ≦５００μｍのものがよく用いられる。また、高精細プラズマディスプレイとしては、隔壁のピッチ（Ｐ）が、１００μｍ≦Ｐ≦２５０μｍである。１００μｍ以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度を得ることができ、５００μｍ以下とすることで画素の細かいきれいな映像表示ができる。２５０μｍ以下にすることにより、ＨＤＴＶ（ハイビジョン）レベルの美しい映像を表示することができる。ＲＧＢのうち、比較的輝度の低い青色に相当する隔壁の間隙を他の色よりも広くすることも好ましい。
【００２３】
隔壁の幅は、頂部幅として、下限について３０μｍ以上とすることが好ましく、更に好ましくは４０μｍ以上、上限について１００μｍ以下とすることが好ましく、さらに好ましく９０μｍ以下である。頂部幅を３０μｍ以上とすることで、後工程に耐える強度を得ることができる。また１００μｍ以下とすることで、均質で強固な焼成を行うことができる。
【００２４】
ここで、隔壁の頂部幅とは、隔壁高さの底部から９０％水平面で切り取られる部分における幅方向の長さを意味する。模式的には図５で示すところの５Ａで示される長さである。また、隔壁頂部が平らであるときは、隔壁高さの略１００％水平面で切り取られる部分における幅として後述する関係を満たすことが好ましい。
【００２５】
本発明のＰＤＰ用部材においては、好ましく、隔壁の頂部幅は前記のアドレス電極の幅の大小関係に対応した幅の大小関係を有していることが好ましい。このようにすることで、隔壁の頂上部を移動する電荷の移動を抑制でき表示品位の向上をはかることができる。ここで、アドレス電極の幅の大小関係に対応した幅の大小関係とは、本発明はアドレス電極の幅を表示域端部あるいは表示域周縁部（以下、便宜的に領域βという）において表示域内側部あるいは表示域中央部（以下、便宜的に領域αという）におけるアドレス電極の幅を大きくするものであるところ、領域βにある隔壁の頂部幅（該領域における隔壁の頂部幅をＷβという）が領域αにある隔壁の頂部幅（該領域における平均の隔壁頂部幅をＷαという）よりも大きいことを意味する。すなわち、Ｗβ＞Ｗαとなる関係を好ましく有している。Ｗβの下限について好ましくはＷβ＞１．０５×Ｗαであり、更に好ましくはＷβ＞１．１０×Ｗαであり、上限についてＷβ＜１．７０×Ｗαであることが好ましく、Ｗβ＜１．４０×Ｗαとすることが更に好ましい。１０５％以上とすることで幅を広くする効果を十分に得ることができ、電荷移動を効果的に抑制できる。また、１７０％以下とすることで、輝度を高めることができる。
【００２６】
また、本発明のＰＤＰ用部材においては、好ましく隔壁の底部の幅は前記アドレス電極幅の大小関係とは逆の大小関係を有している。ここで、アドレス電極の幅の大小関係とは逆の幅の大小関係とは、本発明は領域βにおいて領域αにおけるアドレス電極の幅を大きくするものであるところ、領域βにある隔壁の底部幅（該領域における隔壁の底部幅をＷβ’という）が領域αにある隔壁の底部幅（該領域における平均の隔壁底部幅をＷα’という）よりも小さいことを意味する。すなわち、Ｗβ’＜Ｗα’となる関係を好ましく有している。Ｗα’の下限について好ましくは０．７×Ｗβ’＜Ｗα’であり、更に好ましくは０．８０×Ｗβ’＜Ｗα’であり、上限について好ましくは０．９５×Ｗβ’＞Ｗα’とすることが好ましい。隔壁底部の幅の比を９５％以下とすることで電荷移動による影響を抑制でき、７０％以上とすることで隔壁の剥がれを抑制し、工程の安定に悪影響を及ぼさない。なお、隔壁の底部幅とは、隔壁の基板面側に接する面における幅方向の長さであり、模式的には図５で示すところの５Ｂで示される長さである。
【００２７】
本発明においては、前記隔壁と垂直方向に補助隔壁を形成したいわゆる井桁状の隔壁パターンとして好ましく形成することができる。
【００２８】
補助隔壁を形成することにより、補助隔壁の壁面にも蛍光体層を形成することができ、発光面積を大きくとることができる他、発光させるべきセル以外の誤発光を補助隔壁によって抑制することができる。従って、紫外線が効率よく蛍光面に作用するため輝度を高めることが可能である。また、補助隔壁が存在することで、隔壁相互が二次元的に結合するので、部材の構造的強度が得られる。その結果、隔壁や補助隔壁の幅を小さくすることができるので、表示セル部における放電容積を大きくすることができ、放電効率をさらによくすることができる。
【００２９】
補助隔壁の断面形状も、台形や矩形に形成することができる。
【００３０】
補助隔壁の高さは隔壁の高さの１／１０〜１／１であることが好ましい。補助隔壁の高さを隔壁の高さの１／１０以上とすることで、発光面積を大きくとることによる輝度向上の効果を得ることができる。また、蛍光体層の形成の際の混色や、プラズマディスプレイの表示の際の他色間のクロストークの発生を考慮すると、補助隔壁の高さは隔壁の高さの１／１以下とすることが好ましい。
【００３１】
補助隔壁を形成する位置とピッチは、前面板と合わせてプラズマディスプレイとした際に画素を区切る位置に形成することが、ガス放電と蛍光体層の発光の効率の点から好ましい。
【００３２】
補助隔壁の幅は、頂部幅として、３０μｍ〜１００μｍ、さらには４０〜９０μｍが好ましい。補助隔壁の頂部幅を３０μｍ以上とすることで、補助隔壁の形成工程や後工程に耐える強度を得ることができる。また１００μｍ以下とすることで、均質で強固な焼成を行うことができる。
【００３３】
また、補助隔壁の底部幅はその頂部幅の１１０〜１５０％とすることが、焼成収縮により補助隔壁の跳ね上がりを防止する点で好ましい。
【００３４】
隔壁層を形成する方法としては、サンドブラスト法やスクリーン印刷法等があるが、本発明においては絶縁性無機成分と感光性有機成分からなる感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィー法が好ましく適用される。
【００３５】
感光性ペーストの無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。
【００３６】
無機微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積平均粒子径（Ｄ５０）が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。Ｄ５０を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２〜３ｍ２／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において、特に好ましい。
【００３７】
隔壁および補助隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０℃〜６００℃のガラス微粒子を６０重量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃以上のガラス微粒子やセラミック微粒子を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、４０重量％以下が好ましい。
【００３８】
用いるガラス粉末としては、焼成時にガラス基板に反りを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０−７／℃〜９０×１０−７／℃、更には、６０×１０−７／℃〜９０×１０−７／℃のガラス微粒子を用いることが好ましい。
【００３９】
隔壁を形成する素材としては、ケイ素またはホウ素の酸化物を含有したガラス材料が好ましく用いられる。
【００４０】
酸化ケイ素は、３〜６０重量％の範囲で配合されていることが好ましい。３重量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板とのミスマッチを防ぐことができる。また、６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００４１】
酸化ホウ素は、５〜５０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０重量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。
【００４２】
さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０重量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００４３】
酸化ビスマス ：１０〜４０重量部
酸化ケイ素 ： ３〜５０重量部
酸化ホウ素 ：１０〜４０重量部
酸化バリウム ： ８〜２０重量部
酸化アルミニウム：１０〜３０重量部。
【００４４】
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０重量％以下、好ましくは、１５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００４５】
この場合の具体的なガラス微粒子としては、次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００４６】
酸化リチウム ： ２〜１５重量部
酸化ケイ素 ：１５〜５０重量部
酸化ホウ素 ：１５〜４０重量部
酸化バリウム ： ２〜１５重量部
酸化アルミニウム： ６〜２５重量部。
【００４７】
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。
【００４８】
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下である。
【００４９】
感光性有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類から選ばれた感光性成分を含有することが好ましく、更に、必要に応じて、光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を添加する。
【００５０】
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などを用いることができる。これらは１種または２種以上使用することができる。
【００５１】
感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素２重結合を有する化合物のうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際に、これらのモノマの含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他の感光性のモノマと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマ、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。
【００５２】
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５重量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。
【００５３】
光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１重量％である。添加量が少なすぎると、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。
【００５４】
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少な過ぎると光感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が多過ぎると、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。
【００５５】
有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００５６】
感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。
【００５７】
次いで上記のような感光性ペーストを塗布、乾燥し、露光後、現像、焼成を行って隔壁のパターンを形成することができる。
【００５８】
これらの一連の隔壁の形成工程において、感光性ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。
【００５９】
また前記塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホットプレート、赤外線炉などを用いることができる。
【００６０】
次に上記塗布、乾燥後の塗布膜を、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
【００６１】
本発明で露光動作時に使用されるエネルギー線は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。
【００６２】
ここで、フォトマスクと感光性ペーストの塗布膜表面との距離、すなわちギャップは５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップを５０μｍ以上さらには７０μｍ以上とすることにより、基板またはフォトマスク移動時の感光性ペースト塗布膜とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下さらに好ましくは４００μｍ以下とすることにより、適度にシャープなパターニングが可能となる。
【００６３】
本発明において、隔壁の頂部の幅また底部の幅の調整は上述した隔壁の形成方法において露光時のマスク幅を調整することにより達成することができる。
【００６４】
露光後実施される現像は、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して行う方法が一般的である。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。
【００６５】
現像液は、感光性ペースト中の露光部分、未露光部分の何れかの有機成分の溶解速度が速い溶液を用いる。感光性ペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００６６】
次に、現像により得られた隔壁（いうまでもないが補助隔壁も含む）のパターンは焼成炉にて焼成される。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。
【００６７】
隔壁と補助隔壁の幅が極端に違う場合、具体的には補助隔壁の幅が隔壁幅より極端に太い場合、隔壁と補助隔壁の焼成収縮挙動の違いにより、両者の界面で隔壁が断線したり、補助隔壁に亀裂が生じたりする。
【００６８】
このような場合は、補助隔壁頂部にストライプ状の溝を形成することにより、補助隔壁の焼成時の収縮を緩和することができ、補助隔壁と隔壁界面での隔壁断線を抑制することができる。
【００６９】
次いで隔壁の間に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、一般的には、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。
【００７０】
蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストの有機バインダーとして前述の感光性を有する有機成分を用いた感光性ペースト法等の方法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができ、本発明においては何れの方法が採用されて構わないが、経済性に優れるスクリーン印刷法、ディスペンサー法が本発明では好ましく適用される。
【００７１】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材においては、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、上記の誘電体層や隔壁層や蛍光体層以外の構成を設けることを妨げるものではない。
【００７２】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材は、別に調製された他の部材と共に用いられ、不活性ガスが封入されて、パネルモジュールとして作製される。
【実施例】
【００７３】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない
ノボラック系樹脂Ａ：ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを、モル比６０／４０／８０で、シュウ酸触媒の存在下に還流下で常法に従って反応させ、次いで分別して得られた、ポリスチレン換算重量平均分子量が約８０００のノボラック樹脂であって、ＧＰＣパターンにおいて、未反応クレゾールのパターン面積を除いた全パターン面積に対するポリスチレン換算分子量６０００以下の面積比が３４％、そしてポリスチレン換算分子量１０００以下の面積比が１５％であるもの。
【００７４】
ノボラック系樹脂Ｂ：ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを、モル比４０／６０／８０で、シュウ酸触媒の存在下に還流下で常法に従って反応させ、次いで分別して得られた、ポリスチレン換算重量平均分子量が約８０００のノボラック樹脂であって、ＧＰＣパターンにおいて、未反応クレゾールのパターン面積を除いた全パターン面積に対するポリスチレン換算分子量６０００以下の面積比が３４％、そしてポリスチレン換算分子量１０００以下の面積比が１５％であるもの。
【００７５】
アクリル樹脂Ａ：メタクリル酸とメタクリル酸メチルの共重合体（重量平均分子量２５，０００、酸価１０５）。
【００７６】
アクリル樹脂Ｂ：トリシクロデカニルメタクリレート／ｔ−ブチルメタクリレート／メタクリル酸（仕込みモル比で５０／２０／３０）の共重合体（重量平均分子量３７，０００）。
【００７７】
光酸発生剤Ａ：テトラヒドロキシベンゾフェノンと２−ジアゾ−１−ナフトキノン−５−スルホン酸とのエステル。
【００７８】
光酸発生剤Ｂ：ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン。
【００７９】
光塩基発生剤Ａ：［［（α、α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン。
【００８０】
重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン。
【００８１】
架橋剤：テトラプロピレングリコールジメタクリレート。
【００８２】
紫外線吸収剤：ベーシックブルー２６（吸収極大波長：５９２ｎｍ）。
【００８３】
ガラス粉末Ａ：酸化ホウ素４２％、酸化ケイ素１０％、酸化アルミニウム３％、酸化バリウム２０％、酸化亜鉛５％、酸化カルシウム２％、酸化ジルコニウム１０％とからなり、ガラス転移点が４６２℃、軟化点が４９３℃、屈折率が１．７０。
【００８４】
ガラス粉末Ｂ：酸化ケイ素２５％、酸化ホウ素２８％、酸化ビスマス２８％、酸化バリウム１５％、酸化アルミニウム４％からなり、ガラス転移点が４８８℃、軟化点が５２７℃、屈折率が１．７３。
【００８５】
ガラス粉末Ｃ：酸化リチウム７％、酸化ケイ素２２％、酸化ホウ素３３％、酸化亜鉛３％、酸化アルミニウム１９％、酸化マグネシウム６％、酸化バリウム５％、酸化カルシウム５％からなり、ガラス転移点が４９１℃、軟化点が５２８℃、屈折率が１．５９。
【００８６】
ガラス粉末Ｄ：酸化ケイ素４０％、酸化アルミニウム３６％、酸化ホウ素９％、酸化バリウム５％、酸化マグネシウム５％、酸化カルシウム５％からなり、ガラス転移点が６５２℃、軟化点が７５４℃、屈折率が１．７３。
【００８７】
銀粉末：平均粒子径１．５μｍ、比表面積０．８０ｍ２／ｇ。
【００８８】
溶媒：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。
【００８９】
ノボラック樹脂Ａを９重量部、ノボラック樹脂Ｂを１重量部、光酸発生剤Ａを２重量部、溶媒を１０重量部混合し、５０℃に加熱しながら溶解し、次いで、銀粉末を７８重量部、ガラス粉末Ａを２重量部を添加し、混練機を用いて混練した。
【００９０】
こうして得られた感光性ペーストを対角４２インチサイズのガラス基板上に、スクリーン印刷法により塗布し、乾燥厚み６μｍの膜を得た。
【００９１】
次に、プラズマディスプレイ用の電極パターン形成を目的とした所定のポジ型フォトマスク（線幅５０μｍ、パターンピッチ２３０μｍ）を介して露光を行った。この時、マスクが汚染されるのを防ぐため、マスクと塗布膜間に１００μｍのギャップを設けた。その後、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．８重量％水溶液をシャワーで６０秒間処理して現像を行い、ガラス基板上にストライプ状の電極パターンを形成し、シャワースプレーを用いて水洗浄を行った。なお、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２の露光量の紫外線を照射したときに良好な電極パターンを得ることが可能であった。
【００９２】
ついで電極パターンの加工を終了したガラス基板を８０℃で１５分乾燥した後、６００℃で１５分焼成し、電極を形成した。焼成後、パターン両端が基板から剥離するエッジカールはなく、良好な電極が得られた。
【００９３】
電極を製造したガラス基板上に、酸化ビスマスを７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を６０重量％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量％、エチルセルロース１５重量％、テルピネオール１５重量％を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のアドレス電極が覆われるように５μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って誘電体層を形成した。
【００９４】
誘電体層上に、１層目の感光性ペーストを塗布した。感光性ペーストはガラス粉末と感光性成分を含む有機成分から構成され、ガラス粉末としては、酸化リチウム１０重量％、酸化珪素２５重量％、酸化硼素３０重量％、酸化亜鉛１５重量％、酸化アルミニウム５重量％、酸化カルシウム１５重量％からなる組成のガラスを粉砕した平均粒子径２μｍのガラス粉末を用いた。感光性成分を含む有機成分としては、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー３０重量％、トリメチロールプロパントリアクリレート３０重量％、光重合開始剤である“イルガキュア３６９”（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）１０重量％、γ−ブチロラクトン３０重量％からなるものを用いた。
【００９５】
感光性ペーストは、これらのガラス粉末と感光性成分を含む有機成分をそれぞれ７０：３０の重量比率で混合した後に、ロールミルで混練して作製した。 次にこの感光性ペーストをダイコーターを用いて乾燥後厚み９０μｍになるように塗布した。乾燥は、クリーンオーブン（ヤマト科学社製）で行った。
【００９６】
乾燥後、ピッチ２３０μｍのストライプパターンを有するフォトマスクを用いて、アドレス電極と垂直方向に露光した。
【００９７】
露光後、上記感光性ペーストをさらに塗布、乾燥し、９０μｍの塗布膜を得た。
【００９８】
次に、パターンを有するフォトマスクを用いて、アドレス電極と平行方向に露光した。
【００９９】
露光後、０．５重量％のエタノールアミン水溶液中で現像し、さらに、５６０℃で１５分間焼成することにより、ピッチ２３０μｍ、高さ１３０μｍの隔壁とピッチ２３０μｍ、、高さ６５μｍの補助隔壁を形成した。
【０１００】
さらに、赤、緑、青３色の蛍光体層を形成した。蛍光体層は蛍光体粉末９０重量％とエチルセルロースとテルピネオールからなる溶液（固形分１０％）とから蛍光体ペーストを作製し、口金から蛍光体を吐出することにより乾燥後の蛍光体厚みが３０μｍとなるように塗布した。このようにして作製したプラズマディスプレイ背面板を前面板と合わせて封着ガラスを用いて封着し、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封入した。さらに駆動回路を実装してＰＤＰを作製した。
【０１０１】
パネル内の領域間で電荷移動が生じ指定以外のセルが発光する誤放電および不灯の発生は放電維持電圧（Vsus）を１７０Ｖと規定し、この電圧において誤放電が発生するかどうか目視で検査した。下記実施例、比較例において１００枚ＰＤＰを作製し、電荷移動による誤放電および不灯が発生するパネルの枚数で評価した。
【０１０２】
実施例１
上記の方法を用い、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、図２に示すように表示域端部を表示域の両端から１０ｃｍの領域とし、該領域（左右各４３本ずつ）のアドレス電極の幅を６０μｍとし、また、表示域内側部においては、その上下端から各１０ｃｍの領域、つまり表示域周縁部の上下端の領域、においてアドレス電極の幅を６０μｍとし、該表示域内側部の前記表示域周縁部の上下端以外の領域、つまり表示域中央部、のアドレス電極幅を５０μｍとなるようにストライプ状のアドレス電極を形成した。次いで、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、頂部幅が４０μｍ、底部幅が６０μｍの隔壁を形成してプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。実施例１では１パネルにおける誤放電および不灯の発生数も少なく１００枚中３枚のパネルについて誤放電および不灯を確認した。
【０１０３】
なお、図２は本実施例にかかる態様の把握の用に用意したもので、基板とアドレス電極の大きさは大きく異なることもあって、各構成相互の大きさの関係は一定の縮小率によるものではなく、また、各領域にあるアドレス電極の一部は省略されている。
【０１０４】
実施例２
上記の方法を用い、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、図３に示すように表示域端部を表示域両端から１０ｃｍの領域とし、該領域（左右４３本ずつ）におけるアドレス電極において、表示域の両側端から５ｃｍ、表示域の上下端から５ｃｍの領域におけるアドレス電極の幅を６５μｍ、それ以外の表示域端部のアドレス電極の幅を６０μｍとし、また、表示域内側部においては、その上下端から各１０ｃｍにおいてアドレス電極の幅を６０μｍとし、該表示域内側部の前記表示域周縁部の上下端以外の領域のアドレス電極の幅を５０μｍとなるようにストライプ状のアドレス電極を形成した。次いで、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、頂部の幅が４０μｍ、底部の幅が６０μｍの隔壁を形成して、プラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果、１００枚中１枚も誤放電および不灯が確認されることがなく、電荷移動による誤放電および不灯を抑制することができた。
【０１０５】
なお、図３は本実施例にかかる態様の把握の用に用意したもので、基板とアドレス電極の大きさは大きく異なっていることもあって、各構成相互の大きさの関係は一定の縮小率によるものではなく、また、各領域にあるアドレス電極の一部は省略されている。
【０１０６】
実施例３
実施例１と同様にしてアドレス電極の形成を行い、隔壁の形成はアドレス電極の幅を６０μｍとした領域においてはその頂部幅を５０μｍとし、アドレス電極の幅を５０μｍとした領域はその頂部幅を４０μｍとなるように形成した以外は、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果得られたパネルは１００枚中誤放電および不灯を確認することができず、電荷移動による誤放電および不灯を抑制することができた。
【０１０７】
実施例４
実施例１と同様にしてアドレス電極の形成を行い、隔壁の形成はアドレス電極の幅を６０μｍとした領域においてはその頂部幅が５０μｍ、底部幅を５５μｍとし、アドレス電極の幅を５０μｍとした領域においてはその頂部幅を４５μｍ、底部幅を６０μｍとなるように形成した以外は、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果得られたパネルは１００枚中１枚も誤放電および不灯を確認することが出来ず、電荷移動による誤放電および不灯を抑制することができた。
【０１０８】
比較例１
アドレス電極の幅を一様に５０μｍとした以外は実施例１と同様の方法でプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果、作製したパネル１００枚中２１枚においてパネル四隅に多数の誤放電および不灯を確認した。
【０１０９】
比較例２
表示域の両端から１０ｃｍの領域の該領域（左右各４３本ずつ）におけるアドレス電極の幅を４０μｍとし、また、その内側部においては、その上下端から各１０ｃｍの領域、つまり表示域周縁部の上下端の領域、においてアドレス電極の幅を４０μｍとし、該表示域内側部の前記表示域周縁部の上下端以外の領域、つまり表示域中央部、におけるアドレス電極の幅を５０μｍとした以外は、実施例１と同様の方法でプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。得られたパネル１００枚中３８枚に電荷移動による誤放電および不灯等を確認した。特にパネル上下および四角において顕著に誤放電や不灯の発生を確認した。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】表示域、表示域内側部、表示域端部、表示域周縁部、表示域中央部を説明するための図である。なお、アドレス電極は便宜的に１本のみ示している。
【図２】実施例１の態様を説明するための図である。
【図３】実施例２の態様を説明するための図である。
【図４】一般的なＰＤＰのセルの断面図である。
【図５】隔壁の頂部の幅、底部の幅を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１：表示域
１Ａ：表示域端部の中央部
１Ｂ：表示域端部の上端領域または下端領域
１Ｃ：表示域周縁部の上端領域または下端領域
１Ｄ：表示域中央部
２：アドレス電極
２１：電極引き出し部
３：ガラス基板
４：誘電体層
５：隔壁、５Ａ：隔壁の頂部幅、５Ｂ：隔壁の底部幅
６：蛍光体層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造に用いられる部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称することがある）は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることから、事務機器および広報表示装置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。
【０００３】
このような用途の拡大にともなって、繊細で多数の表示画素を有するカラーＰＤＰが注目されている。ＰＤＰは、前面部材とアドレス電極を有した背面部材との間に設けられた放電空間内で対向する電極間にプラズマ放電を生じせしめ、上記放電空間内に封入されたガスから発生した紫外線が蛍光体に照射されて生じる発光を利用して表示を行うものが代表的である。代表的なＰＤＰにおいては、前面部材は基板上に走査電極、維持電極、誘電体層を有し、背面部材は基板上にアドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体を有している。ＰＤＰの駆動は走査電極に走査パルスが順次印加され、このタイミングに合わせて、アドレス電極に走査電極が対応する表示セルに、表示データに応じた走査パルスとは逆極性のデータパルスを印加して発光させ、維持電極に印加される維持パルスにより放電を維持する。このようなＰＤＰにおいては、走査電極、維持電極と直交方向に配置されたアドレス電極に電圧を印加することによって放電を発生させる。
【０００４】
近年特に家庭用において大型化の要請が強まっている。先述のとおりＰＤＰは前面部材および背面部材を貼り合わせて放電空間をその内部に形成する必要があるが、これら部材に反りやねじれなどがある場合や貼り合わせ精度が悪いと、各表示セルの性状（空間の密閉度や電極間隙など）は不均一となって、とりわけ周縁部や角部において特性が低下する問題が発生する。そして大型のＰＤＰであるほど顕著にその影響が表れる。また、高精細化の進展は電極間隙を狭く形成することを要求するが、走査電極と維持電極の配列間隔が狭まるにつれて、空間電荷が列方向に隣接する他のセルまで移動することによって誤放電や不灯が発生するという問題があった。
【０００５】
かかるパネル特性低下の原因としては、隔壁を越えて電荷が移動することによる誤放電及び駆動電圧マージンが狭くなる点が指摘される。
【０００６】
而して、このような誤放電や駆動電圧マージンの低下を防ぐには、特に大型のＰＤＰにおいては、基材の平面性などの精度としても厳しい要求が存在し、また、貼り合わせ精度としても非常に高い水準が要求されていた。
【０００７】
しかしながら、こうした非常に高い精度の材料を用いたり、あるいは各工程として高い水準での管理を要求することは、生産性に大きな影響を及ぼしていた。このため、少しでも自由度の高い、大型のＰＤＰであっても表示品位が損われることがない技術が渇望されていた。
【０００８】
こうした問題について、電荷移動に対しては隔壁を格子化する他に前面板に形成された走査電極、維持電極に対して背面板にアドレス電極および隔壁を傾斜した方向に沿って形成することにより電荷の移動を防ぐことが提案されている（特許文献１）。
【０００９】
一方、アドレス電極の設計技術としては、書き込み放電時の各表示セルにおける放電バラツキによる表示品位の劣化を抑制するため一側面を入り口側として放電空間内部に入り込んだ複数のアドレス電極を箇所によって互いに異なる電極幅とすることが、知られている（特許文献２）。
【特許文献１】特開２０００−４８７２７号公報
【特許文献２】特開２００３−３０８７８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、従来のＰＤＰにおける画面の大型化、高精細化に伴う誤放電や不灯を抑制し、大型であっても表示品位の高いＰＤＰを提供できるプラズマディスプレイ用部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の課題を解決するため、本発明は、
（１）基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材、
（２）基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅の方が大きく構成されているプラズマディスプレイパネル用部材、であることを本旨とし、また、種々の好ましい態様を提案するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、電荷の移動を抑えて不要の放電を防止し、また、不灯を防止し、大型化や高精細化に対応した、表示品位の高いプラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明のＰＤＰ用部材について以下具体的に説明する。本発明にかかるＰＤＰ用部材は基材の上に複数本のアドレス電極が設けられている。一般的なＰＤＰ用部材においては、このアドレス電極は誘電体層、隔壁層、蛍光体層と共に基材上に形成されて背面部材として構成されることが多い。従って、以下の説明においても背面部材として製造する場合を例にして説明する。
【００１４】
本発明のＰＤＰ用部材に用いる基板としては、一般的に耐熱硝子が使用され、例えば、ソーダガラスの他に旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”などが挙げられる。なお、材質は必ずしもガラスであることが必要である訳ではなく、基板としての要求特性（平坦性、熱特性や耐熱性など）を満たすことができれば、金属やセラミックスなど、材質としてはガラスに限定されるものではない。
【００１５】
アドレス電極は、基板上に、必要により他の層を設けた後、銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によって所望のパターンに配設することで形成する。アドレス電極のパターンを形成する方法としては、上記の金属の粉末と感光性有機成分を含んだ感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに、４００〜６００℃に加熱・焼成して電極パターンを形成する感光性ペースト法を用いることが好ましい。また、他の方法としては金属粉末を含んだ金属ペーストをスクリーン印刷やオフセット印刷などの印刷法によってパターンを形成する方法や、例えばフィルム上に形成した電極のパターンを基板に転写する方法などが挙げられる。アドレス電極は、通常はストライプ状に形成され、各電極は実質的に平行に形成される。アドレス電極の幅は好ましくは２０〜２３０μｍであり、より好ましくは３０〜２００μｍである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のＰＤＰでは１００〜５００μｍ、高精細ＰＤＰにおいては１００〜４００μｍのピッチで形成するのが好ましい。
【００１６】
本発明においては、アドレス電極は、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きく構成されている。ここで、表示域とは画面として利用する領域のことをいい、通常は放電が生じる領域である。表示域端部とは前記表示域内におけるストライプ状に形成されたアドレス電極の両外側の数本ないし数十本が存在する領域を指す（図１における１Ａ、１Ｂの領域）。この領域としては、広く確保されている方が誤点灯や不灯を抑制する効果が大きいので、かかる幅の大きいアドレス電極は、少なくとも表示域の両端から０．５ｃｍ以上の幅の領域に設けられ、該両端から３ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましく、さらには該両端から５ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましい。特には該両端から１０ｃｍまでの範囲に設けられることが好ましい。すなわち、最も好ましい場合においては本発明にかかるＰＤＰ用部材は表示域端部を表示域の両端から１０ｃｍとしたときに下記に説明するような関係が充足されるよう構成されている。表示域内側部とは前記の表示域端部以外の領域である（図１における１Ｃ、１Ｄの領域）。本発明のこの態様においては、該表示域端部のアドレス電極の幅が表示域内側部のアドレス電極の幅よりも大きく構成されているが、これは各領域に存在する各々の電極の幅が上記の関係を有している（典型的には、表示域端部における最小のアドレス電極幅が表示域内側部の最大のアドレス電極幅よりも大きい）ことが好ましいが、これら領域における電極の幅の平均として、上記の関係を有していることを意味する。すなわち、表示域内側部のアドレス電極の幅の平均をＷａ、表示域端部のアドレス電極の幅をＷｂとしたとき、Ｗｂ＞Ｗａの関係にあり、好ましくは、Ｗｂ＞１．０２×Ｗａ、より好ましくは、Ｗｂ＞１．０５×Ｗａ、更に好ましくは、Ｗｂ＞１．０８×Ｗａの関係を満たせばよい。上限としては特に制限はないが、余りに幅が広いと精細度に影響し、また、短絡の問題も生じるので、好ましくＷｂ＜１．４×Ｗａ、更に好ましくＷｂ＜１．３×Ｗａ程度である。また、好ましい態様においては、表示域端部を両端からｘｃｍとしたときの表示域端部のアドレス電極の幅の平均をＷｂ（ｘ）、その時の表示域内側部のアドレス電極の幅の平均をＷａ（ｘ）としたとき、Ｗｂ（１０）／Ｗａ（１０）＞０．８×Ｗｂ（３）／Ｗａ（３）であり、より好ましく、Ｗｂ（１０）／Ｗａ（１０）＞０．９×Ｗｂ（３）／Ｗａ（３）である。なおここで、各アドレス電極において長手方向に幅の変化があるときは、電極面積を長さで除してその電極の幅は求められる。前面部材および背面部材の貼り合わせは両端部において歪みを残し易く、また、歪みも両端において最も影響が大きいので、該領域のアドレス電極の幅を大きくすることで、電荷の移動は抑制され、また、隔壁との重複を避けることができ、両端部における電荷の移動による誤放電や不灯の発生が抑制される。また、アドレス電極幅の大きい領域を幅５〜１０ｃｍとることにより消費電力を抑制することができる。
【００１７】
本発明の別な態様においては、アドレス電極は、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅が大きい。表示域周縁部とは表示域内の外周部の領域を指し（図１における１Ａ、１Ｂ、１Ｃの領域）、表示域中央部とは表示域の表示域周縁部以外の領域を指す（図１における１Ｄの領域）。すなわち、前記の態様では、表示域の両側端部と内側部における電極幅の関係であるが、この態様においては更に上下端部、すなわち、アドレス電極の長手方向の両端の領域、との関係も含めて規定するものである。この態様において、表示域周縁部の電極の幅は表示域中央部の電極の幅よりも大きく構成されている。このようにすることで上下端部において生じる電荷の移動による誤放電や不灯の発生をも抑制することができる。また、表示域周縁部のアドレス電極幅の大きい領域を表示域の端から５〜１０ｃｍとることにより、より一層消費電力を抑制することができる。表示域周縁部の上下端部（図１の１Ｃに相当する部分）のアドレス電極幅が広い領域は広く確保されている方が誤点灯や不灯を抑制する効果が大きいので、少なくとも上下端から０．５ｃｍ以上の幅の領域に設けられ、表示域の上下端から３ｃｍまでの以内の範囲に設けられていることが好ましく、上下端から５ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましく、上下端から１０ｃｍまでの範囲に設けられていることが最も好ましい。ここで、該表示域周縁部のアドレス電極の幅が表示域中央部のアドレス電極の幅よりも大きいという意味は、表示域中央部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きいと共に、表示域中央部のアドレス電極の幅よりも表示域の周縁部の上下端のアドレス電極の幅が大きいことを意味する。典型的には、表示域中央部のアドレス電極の最大の幅よりも表示域端部における最小のアドレス電極幅が大きく、かつ、表示域中央部のアドレス電極の最大の幅よりも表示域周縁部の上下端部における最大のアドレス電極幅よりも大きいことが好ましいが、表示域中央部のアドレス電極の幅の平均値をＷａ’表示域端部のアドレス電極の幅をＷｂ、表示域周縁部の上下端部のアドレス電極の幅をＷｃとしたとき、Ｗｂ＞Ｗａ’かつＷｃ＞Ｗａ’の関係であることを意味する。好ましくは、Ｗｂ＞１．０２×Ｗａ’かつＷｃ＞１．０２×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０５×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０８×Ｗａ’、より好ましくは、Ｗｂ＞１．０５×Ｗａ’かつＷｃ＞１．０２×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０５×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０８×Ｗａ’、更に好ましくは、Ｗｂ＞１．０８×ＷａかつＷｃ＞１．０２×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０５×Ｗａ’若しくはＷｃ＞１．０８×Ｗａ’である。上限としては特に制限はないが、余りに幅が広いと精細度に影響し、また、短絡の問題も生じるので、好ましくは、Ｗｂ＜１．４×Ｗａ’、より好ましくは、Ｗｂ＜１．３×Ｗａ’であり、また一方、好ましくは、Ｗｃ＜１．４×Ｗａ’、より好ましくは、Ｗｃ＜１．３×Ｗａ’である。また、好ましい態様においては、表示域端部を表示域の上下端からｘｃｍとしたときの表示域周縁部の上下端部のアドレス電極の幅をＷｃ（ｘ）、その時の表示域中央部のアドレス電極の幅の平均をＷａ’（ｘ）としたとき、Ｗｃ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．８×Ｗｃ（３）／Ｗａ’（３）であり、より好ましく、Ｗｃ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．９×Ｗｃ（３）／Ｗａ’（３）である。また、表示域端部を両端からｘｃｍとしたときの表示域端部のアドレス電極の幅をＷｂ（ｘ）、その時の表示域中央部のアドレス電極の幅の平均をＷａ’（ｘ）としたとき、Ｗｂ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．８×Ｗｂ（３）／Ｗａ’（３）であり、より好ましく、Ｗｂ（１０）／Ｗａ’（１０）＞０．９×Ｗｂ（３）／Ｗａ’（３）である。なお、各アドレス電極について、長手方向において幅が異なるときのアドレス電極幅は、その領域における電極面積をその領域の長さで除してその領域における電極の幅は求められる。
【００１８】
また、本発明の好ましい態様においては、表示域端部のアドレス電極において、表示域の上下端の領域（図１における１Ｂの領域）におけるアドレス電極の幅が中央部（図１における１Ａ）における幅よりも大きい。すなわち、表示域の角部の領域において最もアドレス電極の幅は大きく構成されることが好ましい。表示域の角部は封着材の厚みの不均一や前面板と背面板の反りの影響を最も受けやすく、このため前面部材と背面部材の隙間が特に発生しやすく電荷の移動が起こりやすい。このため、表示域端部のアドレス電極の上下端の領域における幅をその中央部のアドレス幅よりも大きくすることにより、この影響は効果的に抑制することが可能であり、工程上の自由度は増すと同時に電荷移動による誤点灯や不点灯のない良好な表示品位のＰＤＰを得ることができる。表示域端部のアドレス電極の表示域の上下端の領域とは、該アドレス電極の表示域の上下端から０．５ｃｍ以上の幅の領域に設けられ、表示域の上下端から３ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましく、表示域の上下端から５ｃｍまでの範囲に設けられていることが好ましい。特には表示域の上下端から１０ｃｍまでの範囲である（なお、前記表示域周縁部の説明における１Ｂの領域とは必ずしも一致するものではなく、例えば、表示域端部の幅が１０ｃｍであるときに、その内該領域にあるアドレス電極の上下端部の幅を大きく構成する部分を表示域の端から５ｃｍとすることはあり得る。）。表示域端部の中央部とは表示域端部における前記の上下端の領域を除いた領域（図１における１Ａの領域）である。また、表示域端部のアドレス電極の上下端の領域における幅が中央部のアドレス電極の幅よりも大きいという意味は、すなわち、表示域端部のアドレス電極の上下端におけるアドレス電極の幅の平均値をＷｄ、表示域端部のアドレス電極の中央部におけるアドレス電極の幅の平均値をＷｅとしたとき、Ｗｄ＞Ｗｅを満足するという意味である。好ましくは、Ｗｄ＞１．０２×Ｗｅ、より好ましくは、Ｗｄ＞１．０５×Ｗｅ、更に好ましくは、Ｗｄ＞１．０８×Ｗｅである。上限としては、精細度に影響し、また、短絡の問題も生じることからＷｄ＜１．４×Ｗｅとすることが好ましく、より好ましくは、Ｗｄ＜１．３×Ｗｅとすることが適当である。
【００１９】
本発明において、アドレス電極の幅の調整は上述したアドレス電極の形成方法において、露光時のマスク幅を変えたり、導電ペーストを塗布あるいは印刷するときの塗布・印刷幅を適宜変更したり、エッチング時のマスクを調整したり、転写元のパターンとして所望の形に形成することにより達成することができる。アドレス電極は異なる２種の幅の電極を配列しても良いが、多段階に種々の幅を有するアドレス電極を配列してもよい。また、アドレス電極の長手方向における幅は連続的に変化させても良いが、不連続的、段階的に変化させても良い。アドレス電極の厚みとしては特に制限はないが、１〜１０μｍとすることが好ましく、２〜７μｍとすることがより好ましい。アドレス電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要になり、コストにみあう抵抗値減の効果が得がたい傾向にあるからである。
【００２０】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材においては、前記アドレス電極上に誘電体層が好ましく形成される。誘電体層は、例えば、ガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストを前記アドレス電極層を覆う形で塗布した後に、４００〜６００℃で焼成することにより形成できる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０重量％含有するガラス粉末を好ましく用いることができる。１０重量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０重量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。これらのガラス粉末と有機バインダーと混練してペーストを作製できる。用いる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。ガラス粉末以外にフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、粒子径０．０５〜３μｍの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末：フィラーの比で、１：１〜１０：１が好ましい。フィラーの含有量をガラス粉末の１０分の１以上とすることで、輝度の向上をはかることができる。また、フィラーの量をガラス粉末の等量以下とすることで、焼結性に優れたものとできる。また、導電性微粒子を添加することにより駆動時の過剰な帯電によるスパークを防止することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、粒子径は１〜１０μｍが好ましい。１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑え隔壁形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、０．１〜１０重量％が好ましい。０．１重量％以上とすることで実効を得ることができ、１０重量％以下とすることで、隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。
【００２１】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材においては、前記誘電体層上にセルを構成する隔壁層が好ましく形成される。
【００２２】
隔壁層に設けられる隔壁の高さは、８０μｍ〜２００μｍが適している。８０μｍ以上とすることで蛍光体と走査電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化を防ぐことができる。また、２００μｍ以下とすることで、走査電極での放電と蛍光体の距離を近づけ、十分な輝度を得ることができる。また隔壁のピッチ（Ｐ）としては、１００μｍ≦Ｐ≦５００μｍのものがよく用いられる。また、高精細プラズマディスプレイとしては、隔壁のピッチ（Ｐ）が、１００μｍ≦Ｐ≦２５０μｍである。１００μｍ以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度を得ることができ、５００μｍ以下とすることで画素の細かいきれいな映像表示ができる。２５０μｍ以下にすることにより、ＨＤＴＶ（ハイビジョン）レベルの美しい映像を表示することができる。ＲＧＢのうち、比較的輝度の低い青色に相当する隔壁の間隙を他の色よりも広くすることも好ましい。
【００２３】
隔壁の幅は、頂部幅として、下限について３０μｍ以上とすることが好ましく、更に好ましくは４０μｍ以上、上限について１００μｍ以下とすることが好ましく、さらに好ましく９０μｍ以下である。頂部幅を３０μｍ以上とすることで、後工程に耐える強度を得ることができる。また１００μｍ以下とすることで、均質で強固な焼成を行うことができる。
【００２４】
ここで、隔壁の頂部幅とは、隔壁高さの底部から９０％水平面で切り取られる部分における幅方向の長さを意味する。模式的には図５で示すところの５Ａで示される長さである。また、隔壁頂部が平らであるときは、隔壁高さの略１００％水平面で切り取られる部分における幅として後述する関係を満たすことが好ましい。
【００２５】
本発明のＰＤＰ用部材においては、好ましく、隔壁の頂部幅は前記のアドレス電極の幅の大小関係に対応した幅の大小関係を有していることが好ましい。このようにすることで、隔壁の頂上部を移動する電荷の移動を抑制でき表示品位の向上をはかることができる。ここで、アドレス電極の幅の大小関係に対応した幅の大小関係とは、本発明はアドレス電極の幅を表示域端部あるいは表示域周縁部（以下、便宜的に領域βという）において表示域内側部あるいは表示域中央部（以下、便宜的に領域αという）におけるアドレス電極の幅を大きくするものであるところ、領域βにある隔壁の頂部幅（該領域における隔壁の頂部幅をＷβという）が領域αにある隔壁の頂部幅（該領域における平均の隔壁頂部幅をＷαという）よりも大きいことを意味する。すなわち、Ｗβ＞Ｗαとなる関係を好ましく有している。Ｗβの下限について好ましくはＷβ＞１．０５×Ｗαであり、更に好ましくはＷβ＞１．１０×Ｗαであり、上限についてＷβ＜１．７０×Ｗαであることが好ましく、Ｗβ＜１．４０×Ｗαとすることが更に好ましい。１０５％以上とすることで幅を広くする効果を十分に得ることができ、電荷移動を効果的に抑制できる。また、１７０％以下とすることで、輝度を高めることができる。
【００２６】
また、本発明のＰＤＰ用部材においては、好ましく隔壁の底部の幅は前記アドレス電極幅の大小関係とは逆の大小関係を有している。ここで、アドレス電極の幅の大小関係とは逆の幅の大小関係とは、本発明は領域βにおいて領域αにおけるアドレス電極の幅を大きくするものであるところ、領域βにある隔壁の底部幅（該領域における隔壁の底部幅をＷβ’という）が領域αにある隔壁の底部幅（該領域における平均の隔壁底部幅をＷα’という）よりも小さいことを意味する。すなわち、Ｗβ’＜Ｗα’となる関係を好ましく有している。Ｗα’の下限について好ましくは０．７×Ｗβ’＜Ｗα’であり、更に好ましくは０．８０×Ｗβ’＜Ｗα’であり、上限について好ましくは０．９５×Ｗβ’＞Ｗα’とすることが好ましい。隔壁底部の幅の比を９５％以下とすることで電荷移動による影響を抑制でき、７０％以上とすることで隔壁の剥がれを抑制し、工程の安定に悪影響を及ぼさない。なお、隔壁の底部幅とは、隔壁の基板面側に接する面における幅方向の長さであり、模式的には図５で示すところの５Ｂで示される長さである。
【００２７】
本発明においては、前記隔壁と垂直方向に補助隔壁を形成したいわゆる井桁状の隔壁パターンとして好ましく形成することができる。
【００２８】
補助隔壁を形成することにより、補助隔壁の壁面にも蛍光体層を形成することができ、発光面積を大きくとることができる他、発光させるべきセル以外の誤発光を補助隔壁によって抑制することができる。従って、紫外線が効率よく蛍光面に作用するため輝度を高めることが可能である。また、補助隔壁が存在することで、隔壁相互が二次元的に結合するので、部材の構造的強度が得られる。その結果、隔壁や補助隔壁の幅を小さくすることができるので、表示セル部における放電容積を大きくすることができ、放電効率をさらによくすることができる。
【００２９】
補助隔壁の断面形状も、台形や矩形に形成することができる。
【００３０】
補助隔壁の高さは隔壁の高さの１／１０〜１／１であることが好ましい。補助隔壁の高さを隔壁の高さの１／１０以上とすることで、発光面積を大きくとることによる輝度向上の効果を得ることができる。また、蛍光体層の形成の際の混色や、プラズマディスプレイの表示の際の他色間のクロストークの発生を考慮すると、補助隔壁の高さは隔壁の高さの１／１以下とすることが好ましい。
【００３１】
補助隔壁を形成する位置とピッチは、前面板と合わせてプラズマディスプレイとした際に画素を区切る位置に形成することが、ガス放電と蛍光体層の発光の効率の点から好ましい。
【００３２】
補助隔壁の幅は、頂部幅として、３０μｍ〜１００μｍ、さらには４０〜９０μｍが好ましい。補助隔壁の頂部幅を３０μｍ以上とすることで、補助隔壁の形成工程や後工程に耐える強度を得ることができる。また１００μｍ以下とすることで、均質で強固な焼成を行うことができる。
【００３３】
また、補助隔壁の底部幅はその頂部幅の１１０〜１５０％とすることが、焼成収縮により補助隔壁の跳ね上がりを防止する点で好ましい。
【００３４】
隔壁層を形成する方法としては、サンドブラスト法やスクリーン印刷法等があるが、本発明においては絶縁性無機成分と感光性有機成分からなる感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィー法が好ましく適用される。
【００３５】
感光性ペーストの無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。
【００３６】
無機微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積平均粒子径（Ｄ５０）が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。Ｄ５０を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２〜３ｍ２／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において、特に好ましい。
【００３７】
隔壁および補助隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０℃〜６００℃のガラス微粒子を６０重量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃以上のガラス微粒子やセラミック微粒子を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、４０重量％以下が好ましい。
【００３８】
用いるガラス粉末としては、焼成時にガラス基板に反りを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０−７／℃〜９０×１０−７／℃、更には、６０×１０−７／℃〜９０×１０−７／℃のガラス微粒子を用いることが好ましい。
【００３９】
隔壁を形成する素材としては、ケイ素またはホウ素の酸化物を含有したガラス材料が好ましく用いられる。
【００４０】
酸化ケイ素は、３〜６０重量％の範囲で配合されていることが好ましい。３重量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板とのミスマッチを防ぐことができる。また、６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００４１】
酸化ホウ素は、５〜５０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０重量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。
【００４２】
さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０重量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００４３】
酸化ビスマス ：１０〜４０重量部
酸化ケイ素 ： ３〜５０重量部
酸化ホウ素 ：１０〜４０重量部
酸化バリウム ： ８〜２０重量部
酸化アルミニウム：１０〜３０重量部。
【００４４】
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０重量％以下、好ましくは、１５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００４５】
この場合の具体的なガラス微粒子としては、次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００４６】
酸化リチウム ： ２〜１５重量部
酸化ケイ素 ：１５〜５０重量部
酸化ホウ素 ：１５〜４０重量部
酸化バリウム ： ２〜１５重量部
酸化アルミニウム： ６〜２５重量部。
【００４７】
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。
【００４８】
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下である。
【００４９】
感光性有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類から選ばれた感光性成分を含有することが好ましく、更に、必要に応じて、光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を添加する。
【００５０】
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などを用いることができる。これらは１種または２種以上使用することができる。
【００５１】
感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素２重結合を有する化合物のうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際に、これらのモノマの含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他の感光性のモノマと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマ、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。
【００５２】
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５重量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。
【００５３】
光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１重量％である。添加量が少なすぎると、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。
【００５４】
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少な過ぎると光感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が多過ぎると、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。
【００５５】
有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００５６】
感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。
【００５７】
次いで上記のような感光性ペーストを塗布、乾燥し、露光後、現像、焼成を行って隔壁のパターンを形成することができる。
【００５８】
これらの一連の隔壁の形成工程において、感光性ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。
【００５９】
また前記塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホットプレート、赤外線炉などを用いることができる。
【００６０】
次に上記塗布、乾燥後の塗布膜を、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
【００６１】
本発明で露光動作時に使用されるエネルギー線は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。
【００６２】
ここで、フォトマスクと感光性ペーストの塗布膜表面との距離、すなわちギャップは５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップを５０μｍ以上さらには７０μｍ以上とすることにより、基板またはフォトマスク移動時の感光性ペースト塗布膜とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下さらに好ましくは４００μｍ以下とすることにより、適度にシャープなパターニングが可能となる。
【００６３】
本発明において、隔壁の頂部の幅また底部の幅の調整は上述した隔壁の形成方法において露光時のマスク幅を調整することにより達成することができる。
【００６４】
露光後実施される現像は、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して行う方法が一般的である。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。
【００６５】
現像液は、感光性ペースト中の露光部分、未露光部分の何れかの有機成分の溶解速度が速い溶液を用いる。感光性ペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００６６】
次に、現像により得られた隔壁（いうまでもないが補助隔壁も含む）のパターンは焼成炉にて焼成される。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。
【００６７】
隔壁と補助隔壁の幅が極端に違う場合、具体的には補助隔壁の幅が隔壁幅より極端に太い場合、隔壁と補助隔壁の焼成収縮挙動の違いにより、両者の界面で隔壁が断線したり、補助隔壁に亀裂が生じたりする。
【００６８】
このような場合は、補助隔壁頂部にストライプ状の溝を形成することにより、補助隔壁の焼成時の収縮を緩和することができ、補助隔壁と隔壁界面での隔壁断線を抑制することができる。
【００６９】
次いで隔壁の間に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、一般的には、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。
【００７０】
蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストの有機バインダーとして前述の感光性を有する有機成分を用いた感光性ペースト法等の方法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができ、本発明においては何れの方法が採用されて構わないが、経済性に優れるスクリーン印刷法、ディスペンサー法が本発明では好ましく適用される。
【００７１】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材においては、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、上記の誘電体層や隔壁層や蛍光体層以外の構成を設けることを妨げるものではない。
【００７２】
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材は、別に調製された他の部材と共に用いられ、不活性ガスが封入されて、パネルモジュールとして作製される。
【実施例】
【００７３】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない
ノボラック系樹脂Ａ：ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを、モル比６０／４０／８０で、シュウ酸触媒の存在下に還流下で常法に従って反応させ、次いで分別して得られた、ポリスチレン換算重量平均分子量が約８０００のノボラック樹脂であって、ＧＰＣパターンにおいて、未反応クレゾールのパターン面積を除いた全パターン面積に対するポリスチレン換算分子量６０００以下の面積比が３４％、そしてポリスチレン換算分子量１０００以下の面積比が１５％であるもの。
【００７４】
ノボラック系樹脂Ｂ：ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを、モル比４０／６０／８０で、シュウ酸触媒の存在下に還流下で常法に従って反応させ、次いで分別して得られた、ポリスチレン換算重量平均分子量が約８０００のノボラック樹脂であって、ＧＰＣパターンにおいて、未反応クレゾールのパターン面積を除いた全パターン面積に対するポリスチレン換算分子量６０００以下の面積比が３４％、そしてポリスチレン換算分子量１０００以下の面積比が１５％であるもの。
【００７５】
アクリル樹脂Ａ：メタクリル酸とメタクリル酸メチルの共重合体（重量平均分子量２５，０００、酸価１０５）。
【００７６】
アクリル樹脂Ｂ：トリシクロデカニルメタクリレート／ｔ−ブチルメタクリレート／メタクリル酸（仕込みモル比で５０／２０／３０）の共重合体（重量平均分子量３７，０００）。
【００７７】
光酸発生剤Ａ：テトラヒドロキシベンゾフェノンと２−ジアゾ−１−ナフトキノン−５−スルホン酸とのエステル。
【００７８】
光酸発生剤Ｂ：ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン。
【００７９】
光塩基発生剤Ａ：［［（α、α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン。
【００８０】
重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン。
【００８１】
架橋剤：テトラプロピレングリコールジメタクリレート。
【００８２】
紫外線吸収剤：ベーシックブルー２６（吸収極大波長：５９２ｎｍ）。
【００８３】
ガラス粉末Ａ：酸化ホウ素４２％、酸化ケイ素１０％、酸化アルミニウム３％、酸化バリウム２０％、酸化亜鉛５％、酸化カルシウム２％、酸化ジルコニウム１０％とからなり、ガラス転移点が４６２℃、軟化点が４９３℃、屈折率が１．７０。
【００８４】
ガラス粉末Ｂ：酸化ケイ素２５％、酸化ホウ素２８％、酸化ビスマス２８％、酸化バリウム１５％、酸化アルミニウム４％からなり、ガラス転移点が４８８℃、軟化点が５２７℃、屈折率が１．７３。
【００８５】
ガラス粉末Ｃ：酸化リチウム７％、酸化ケイ素２２％、酸化ホウ素３３％、酸化亜鉛３％、酸化アルミニウム１９％、酸化マグネシウム６％、酸化バリウム５％、酸化カルシウム５％からなり、ガラス転移点が４９１℃、軟化点が５２８℃、屈折率が１．５９。
【００８６】
ガラス粉末Ｄ：酸化ケイ素４０％、酸化アルミニウム３６％、酸化ホウ素９％、酸化バリウム５％、酸化マグネシウム５％、酸化カルシウム５％からなり、ガラス転移点が６５２℃、軟化点が７５４℃、屈折率が１．７３。
【００８７】
銀粉末：平均粒子径１．５μｍ、比表面積０．８０ｍ２／ｇ。
【００８８】
溶媒：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。
【００８９】
ノボラック樹脂Ａを９重量部、ノボラック樹脂Ｂを１重量部、光酸発生剤Ａを２重量部、溶媒を１０重量部混合し、５０℃に加熱しながら溶解し、次いで、銀粉末を７８重量部、ガラス粉末Ａを２重量部を添加し、混練機を用いて混練した。
【００９０】
こうして得られた感光性ペーストを対角４２インチサイズのガラス基板上に、スクリーン印刷法により塗布し、乾燥厚み６μｍの膜を得た。
【００９１】
次に、プラズマディスプレイ用の電極パターン形成を目的とした所定のポジ型フォトマスク（線幅５０μｍ、パターンピッチ２３０μｍ）を介して露光を行った。この時、マスクが汚染されるのを防ぐため、マスクと塗布膜間に１００μｍのギャップを設けた。その後、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．８重量％水溶液をシャワーで６０秒間処理して現像を行い、ガラス基板上にストライプ状の電極パターンを形成し、シャワースプレーを用いて水洗浄を行った。なお、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２の露光量の紫外線を照射したときに良好な電極パターンを得ることが可能であった。
【００９２】
ついで電極パターンの加工を終了したガラス基板を８０℃で１５分乾燥した後、６００℃で１５分焼成し、電極を形成した。焼成後、パターン両端が基板から剥離するエッジカールはなく、良好な電極が得られた。
【００９３】
電極を製造したガラス基板上に、酸化ビスマスを７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を６０重量％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量％、エチルセルロース１５重量％、テルピネオール１５重量％を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のアドレス電極が覆われるように５μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って誘電体層を形成した。
【００９４】
誘電体層上に、１層目の感光性ペーストを塗布した。感光性ペーストはガラス粉末と感光性成分を含む有機成分から構成され、ガラス粉末としては、酸化リチウム１０重量％、酸化珪素２５重量％、酸化硼素３０重量％、酸化亜鉛１５重量％、酸化アルミニウム５重量％、酸化カルシウム１５重量％からなる組成のガラスを粉砕した平均粒子径２μｍのガラス粉末を用いた。感光性成分を含む有機成分としては、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー３０重量％、トリメチロールプロパントリアクリレート３０重量％、光重合開始剤である“イルガキュア３６９”（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）１０重量％、γ−ブチロラクトン３０重量％からなるものを用いた。
【００９５】
感光性ペーストは、これらのガラス粉末と感光性成分を含む有機成分をそれぞれ７０：３０の重量比率で混合した後に、ロールミルで混練して作製した。 次にこの感光性ペーストをダイコーターを用いて乾燥後厚み９０μｍになるように塗布した。乾燥は、クリーンオーブン（ヤマト科学社製）で行った。
【００９６】
乾燥後、ピッチ２３０μｍのストライプパターンを有するフォトマスクを用いて、アドレス電極と垂直方向に露光した。
【００９７】
露光後、上記感光性ペーストをさらに塗布、乾燥し、９０μｍの塗布膜を得た。
【００９８】
次に、パターンを有するフォトマスクを用いて、アドレス電極と平行方向に露光した。
【００９９】
露光後、０．５重量％のエタノールアミン水溶液中で現像し、さらに、５６０℃で１５分間焼成することにより、ピッチ２３０μｍ、高さ１３０μｍの隔壁とピッチ２３０μｍ、、高さ６５μｍの補助隔壁を形成した。
【０１００】
さらに、赤、緑、青３色の蛍光体層を形成した。蛍光体層は蛍光体粉末９０重量％とエチルセルロースとテルピネオールからなる溶液（固形分１０％）とから蛍光体ペーストを作製し、口金から蛍光体を吐出することにより乾燥後の蛍光体厚みが３０μｍとなるように塗布した。このようにして作製したプラズマディスプレイ背面板を前面板と合わせて封着ガラスを用いて封着し、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封入した。さらに駆動回路を実装してＰＤＰを作製した。
【０１０１】
パネル内の領域間で電荷移動が生じ指定以外のセルが発光する誤放電および不灯の発生は放電維持電圧（Vsus）を１７０Ｖと規定し、この電圧において誤放電が発生するかどうか目視で検査した。下記実施例、比較例において１００枚ＰＤＰを作製し、電荷移動による誤放電および不灯が発生するパネルの枚数で評価した。
【０１０２】
実施例１
上記の方法を用い、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、図２に示すように表示域端部を表示域の両端から１０ｃｍの領域とし、該領域（左右各４３本ずつ）のアドレス電極の幅を６０μｍとし、また、表示域内側部においては、その上下端から各１０ｃｍの領域、つまり表示域周縁部の上下端の領域、においてアドレス電極の幅を６０μｍとし、該表示域内側部の前記表示域周縁部の上下端以外の領域、つまり表示域中央部、のアドレス電極幅を５０μｍとなるようにストライプ状のアドレス電極を形成した。次いで、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、頂部幅が４０μｍ、底部幅が６０μｍの隔壁を形成してプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。実施例１では１パネルにおける誤放電および不灯の発生数も少なく１００枚中３枚のパネルについて誤放電および不灯を確認した。
【０１０３】
なお、図２は本実施例にかかる態様の把握の用に用意したもので、基板とアドレス電極の大きさは大きく異なることもあって、各構成相互の大きさの関係は一定の縮小率によるものではなく、また、各領域にあるアドレス電極の一部は省略されている。
【０１０４】
実施例２
上記の方法を用い、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、図３に示すように表示域端部を表示域両端から１０ｃｍの領域とし、該領域（左右４３本ずつ）におけるアドレス電極において、表示域の両側端から５ｃｍ、表示域の上下端から５ｃｍの領域におけるアドレス電極の幅を６５μｍ、それ以外の表示域端部のアドレス電極の幅を６０μｍとし、また、表示域内側部においては、その上下端から各１０ｃｍにおいてアドレス電極の幅を６０μｍとし、該表示域内側部の前記表示域周縁部の上下端以外の領域のアドレス電極の幅を５０μｍとなるようにストライプ状のアドレス電極を形成した。次いで、マスクに設けたパターン形状を調整することにより、頂部の幅が４０μｍ、底部の幅が６０μｍの隔壁を形成して、プラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果、１００枚中１枚も誤放電および不灯が確認されることがなく、電荷移動による誤放電および不灯を抑制することができた。
【０１０５】
なお、図３は本実施例にかかる態様の把握の用に用意したもので、基板とアドレス電極の大きさは大きく異なっていることもあって、各構成相互の大きさの関係は一定の縮小率によるものではなく、また、各領域にあるアドレス電極の一部は省略されている。
【０１０６】
実施例３
実施例１と同様にしてアドレス電極の形成を行い、隔壁の形成はアドレス電極の幅を６０μｍとした領域においてはその頂部幅を５０μｍとし、アドレス電極の幅を５０μｍとした領域はその頂部幅を４０μｍとなるように形成した以外は、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果得られたパネルは１００枚中誤放電および不灯を確認することができず、電荷移動による誤放電および不灯を抑制することができた。
【０１０７】
実施例４
実施例１と同様にしてアドレス電極の形成を行い、隔壁の形成はアドレス電極の幅を６０μｍとした領域においてはその頂部幅が５０μｍ、底部幅を５５μｍとし、アドレス電極の幅を５０μｍとした領域においてはその頂部幅を４５μｍ、底部幅を６０μｍとなるように形成した以外は、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果得られたパネルは１００枚中１枚も誤放電および不灯を確認することが出来ず、電荷移動による誤放電および不灯を抑制することができた。
【０１０８】
比較例１
アドレス電極の幅を一様に５０μｍとした以外は実施例１と同様の方法でプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。その結果、作製したパネル１００枚中２１枚においてパネル四隅に多数の誤放電および不灯を確認した。
【０１０９】
比較例２
表示域の両端から１０ｃｍの領域の該領域（左右各４３本ずつ）におけるアドレス電極の幅を４０μｍとし、また、その内側部においては、その上下端から各１０ｃｍの領域、つまり表示域周縁部の上下端の領域、においてアドレス電極の幅を４０μｍとし、該表示域内側部の前記表示域周縁部の上下端以外の領域、つまり表示域中央部、におけるアドレス電極の幅を５０μｍとした以外は、実施例１と同様の方法でプラズマディスプレイ背面板を作製し、これを用いてパネルを作製した。得られたパネル１００枚中３８枚に電荷移動による誤放電および不灯等を確認した。特にパネル上下および四角において顕著に誤放電や不灯の発生を確認した。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】表示域、表示域内側部、表示域端部、表示域周縁部、表示域中央部を説明するための図である。なお、アドレス電極は便宜的に１本のみ示している。
【図２】実施例１の態様を説明するための図である。
【図３】実施例２の態様を説明するための図である。
【図４】一般的なＰＤＰのセルの断面図である。
【図５】隔壁の頂部の幅、底部の幅を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１：表示域
１Ａ：表示域端部の中央部
１Ｂ：表示域端部の上端領域または下端領域
１Ｃ：表示域周縁部の上端領域または下端領域
１Ｄ：表示域中央部
２：アドレス電極
２１：電極引き出し部
３：ガラス基板
４：誘電体層
５：隔壁、５Ａ：隔壁の頂部幅、５Ｂ：隔壁の底部幅
６：蛍光体層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項２】
基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅の方が大きく構成されているプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項３】
表示域端部のアドレス電極おいては、その表示域の上端および下端の領域における幅の方が中央部における幅よりも大きいことを特徴とする請求項１または２記載のプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項４】
前記複数本のアドレス電極がセル溝となるように隔壁層が設けられており、該層に設けられた隔壁の頂部の幅は、前記アドレス電極の幅の大小関係に対応した幅の大小関係を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項５】
前記隔壁の底部の幅は、前記アドレス電極の幅の大小関係とは逆の幅の大小関係を有していることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用部材を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１】
基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域内側部のアドレス電極の幅よりも表示域端部のアドレス電極の幅の方が大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項２】
基板上に複数本のアドレス電極が実質的に平行に配設されたプラズマディスプレイ用部材であって、前記のアドレス電極は、表示域中央部における幅よりも表示域周縁部における幅の方が大きく構成されているプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項３】
表示域端部のアドレス電極おいては、その表示域の上端および下端の領域における幅の方が中央部における幅よりも大きいことを特徴とする請求項１または２記載のプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項４】
前記複数本のアドレス電極がセル溝となるように隔壁層が設けられており、該層に設けられた隔壁の頂部の幅は、前記アドレス電極の幅の大小関係に対応した幅の大小関係を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項５】
前記隔壁の底部の幅は、前記アドレス電極の幅の大小関係とは逆の幅の大小関係を有していることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用部材を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−２１６２５４（Ｐ２００６−２１６２５４Ａ）
【公開日】平成１８年８月１７日（２００６．８．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２５０５８（Ｐ２００５−２５０５８）
【出願日】平成１７年２月１日（２００５．２．１）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月１７日（２００６．８．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年２月１日（２００５．２．１）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
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