【課題】並列に電気的に接続された複数の保持容量を積層した場合でも、いずれの保持容量に不具合が発生したかを容易かつ確実に検査することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００においては、並列に電気的に接続された第１保持容量７０ａと第２保持容量７０ｂとによって保持容量７０が形成され、かつ、第１保持容量７０ａと第２保持容量７０ｂとは積層された構造になっている。また、素子基板１０の端部と画像表示領域との間には、第１保持容量７０ａと同一の層構造を備えた検査用第１容量と、第２保持容量７０ｂと同一の層構造を備えた検査用第２容量が形成されているとともに、検査用第１容量に電気的に接続する第１容量検査用端子対と、検査用第２容量に電気的に接続する第２容量検査用端子対とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】極性反転駆動を行う際、極性反転に伴って、画素電極に導通する保持容量を切り換えることのできる電気光学装置、および電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置において、画素電極９ａの電位が共通電極２１の電位より高い第１期間では、第１保持容量８０ａが画素電極９ａに導通状態となるので、第１電極８１、第１誘電体層８６（第１絶縁材料／シリコン酸化膜／ＳｉＯ₂）、第２誘電体層８７（第２絶縁材料／シリコン窒化膜／ＳｉＮ）、および第２電極８２に向けて電流が流れ、電荷が蓄積される。これに対して、画素電極９ａの電位が共通電極２１の電位より低い第２期間では、第２保持容量８０ｂが画素電極９ａに導通状態となるので、第４電極８４、第４誘電体層８９（第１絶縁材料／シリコン酸化膜／ＳｉＯ₂）、第３誘電体層８８（第２絶縁材料／シリコン窒化膜／ＳｉＮ）、および第３電極８３に向けて電流が流れ、電荷が蓄積される。 （もっと読む）

【課題】実質的な開口率をより一層向上できるＭＶＡモードの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、画素毎にＴＦＴ２１４と該ＴＦＴ２１４に電気的に接続された画素電極２１５とを有している。ＴＦＴ２１４は、ゲートバスライン２１１及びデータバスライン２１２に接続されている。１つの画素は４つの領域に分割されており、画素電極２１５には各領域毎に異なる方向に延びる微細電極部２１５ｂが設けられている。また、微細電極部２１５ｂの基端側の微細電極部間の領域の形状が、微細電極部間の領域の中心線に対し線対称となる形状となっている。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能で、回路面積が小さく、低消費電力で、メモリ部の動作の信頼度が高く、低コストである表示装置を提供する。
【解決手段】容量を有するデータ保持回路３と、複数の画素を有する表示部４とが第１の支持基板１上に形成された表示装置において、画素には、それぞれ画素電極が設けられ、第１の支持基板１と対向する第２の支持基板２が設けられており、第２の支持基板２における第１の支持基板１側の面には、データ保持回路３に対向する領域に、導電体膜８が存在せず、第２の支持基板２における第１の支持基板１と反対側の面には、データ保持回路３に対向する領域に、導電体膜８が存在する。 （もっと読む）

【課題】平板表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザーでガラス密封材料を溶かしてマザーガラスを接合させる時に、マザーガラスに加えられるストレス偏差を最小化するためのものであって、互いに対向した第１基板と第２基板との間に複数の発光部を形成する工程であって、各発光部別に単位ディスプレイ素子にする工程と、第１基板と第２基板との間に複数の壁を形成する工程であって、各壁は各発光部を取り囲むように配置される工程と、壁にレーザービームを照射する工程であって、第１方向に配列された複数の壁に対して同時にレーザービームを照射する工程と、レーザービームを第１方向と異なる第２方向にスキャニングする工程と、第１基板及び第２基板を各単位ディスプレイ素子別に切断する工程を含む平板表示装置の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ精細に光が透過する開口を調節できる開口調節素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る開口調節素子は、流体が流動する空間を構成するチャンバと、当該チャンバ内に設けられるものであって、互いに混合されない性質を持ち、一つは透光性の、他の一つは遮光性または吸光性の物質で形成された第１流体及び第２流体と、チャンバの内側面に設けられるものであって、チャンバ内に電場を形成するために電圧が印加される一つ以上の電極がアレイされた第１電極部と、を備え、電場による第１流体と第２流体間の界面位置変化により光が透過される開口が調節される。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタアレイ基板、有機発光表示装置、及び薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に配置され、活性層２１２、ゲート電極２１４、ソース電極２１８ａ、ドレイン電極２１８ｂ、活性層とゲート電極との間に配置された第１絶縁層１３、及びゲート電極とソース電極及びドレイン電極との間に配置された第２絶縁層１５を含む薄膜トランジスタと、第１絶縁層及び第２絶縁層上に配置され、ソース電極及びドレイン電極のうち一つと連結される画素電極１１７と、ゲート電極と同一層で形成された下部電極３１４及び画素電極と同一材料を含む上部電極３１７を含むキャパシタと、第２絶縁層と画素電極との間及び下部電極と上部電極との間に直接配置された第３絶縁層１１６と、ソース電極、ドレイン電極及び上部電極を覆って画素電極を露出させる第４絶縁層１９と、を含む薄膜トランジスタアレイ基板。 （もっと読む）

【課題】光利用効率が高く生産性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、主基板と、光制御層と、を含む表示装置が提供される。光制御層は、主基板と積層される。主基板は、主基体上に設けられた波長選択透過層と、回路層と、を有する。波長選択透過層は、下側反射層と、下側反射層の上に設けられた上側反射層と、下側反射層と上側反射層との間に設けられた第１スペーサ層及び第２スペーサ層を含む。第２スペーサ層の厚さは第１スペーサ層とは異なる。回路層は、主基体の主面に対して垂直な第１方向に沿って見たときに第１、第２スペーサ層と重なる部分を有する第１、第２画素電極を含む。 （もっと読む）

【課題】不良の発生が抑制され高いコストパフォーマンスを有する電気光学装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】素子基板上に設けられた、ＴＦＴ３０と、ＴＦＴ３０に対応して設けられた画素電極１５と、ＴＦＴ３０と画素電極１５との間に設けられたデータ線６ａと、データ線６ａと画素電極１５との間に設けられた第１容量電極１６ａと、第１容量電極１６ａと画素電極１５との間に設けられ、第１容量電極１６ａの一部に誘電体層を介して対向配置されると共に、電気的にＴＦＴ３０と画素電極１５とに接続された第２容量電極１６ｂと、を備え、第２容量電極１６ｂは、アモルファスタングステンシリサイド膜からなる。 （もっと読む）

【課題】低温になると、表示領域を含む基板間に保持されたシリコーンオイルが収縮等することにより、気泡が発生する場合があり、結果として画質が低下する。
【解決手段】表示装置であって、マトリクス状に配置された複数の開口部を有するアパーチャ基板と、第１の基板と第２の基板との間に、前記複数の開口部に対応して配置されるとともに、前記アパーチャ基板に対して水平方向に移動することにより、前記複数の開口部から出射された光の量を制御する複数のシャッタ部と、前記第１の基板と前記第２の基板の間に液体を保持するとともに、前記複数のシャッタ部を含んで形成される表示領域を囲むように配置された液体保持壁と、前記液体保持壁の一部に、前記液体中に発生する気泡が案内され、該気泡を保持する少なくとも１の気泡保持部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】向上した発光効率を有する、低電力のディスプレイを提供する。
【解決手段】前部および後部反射面の両方を有する光キャビティを利用する、空間光変調のための改良された装置および方法が開示される。光を空間変調するために、前部反射面内に、光透過領域が形成される。意図される見る人に面した前面と、光源に面した後面とを有する基板と、基板の前面の上に配置された誘電体材料層と、複数のアパーチャを含む、誘電体材料層の上に配置された金属層と、金属層の上に配置された複数の光変調シャッタ組立体１０２とを備え、複数のアパーチャは、複数の光変調シャッタ組立体１０２による変調のために、金属層を光源からの光が通過するのを許可する、ディスプレイデバイス。 （もっと読む）

【課題】画素が高精細になっても所望の電気容量を有する保持容量を実現可能な電気光学装置およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置は、データ線６ａ及び走査線３ａと、データ線６ａと走査線３ａとの交差に対応して設けられたトランジスター３０と、トランジスター３０に電気的に接続され、第１容量電極１６ａと第２容量電極１６ｂとが誘電体層を介して対向配置される保持容量と、を備え、第１容量電極１６ａは、第１導電膜と第１導電膜の上面及び側面を覆う第２導電膜とを有し、第２容量電極１６ｂは、第１容量電極１６ａの上面及び側面において誘電体層を介して第１容量電極１６ａと対向して保持容量を形成している。 （もっと読む）

【課題】 製造コストが低減し、製造工程が単純化するディスプレイパネル及びこれを含むディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る液晶層を含むディスプレイパネルは、相対向して配置される第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間のいずれか一面上に形成され、入射する光の第１偏光成分が、互いに異なるカラーの光として出射されるように、互いに異なるピッチで配列されている第１金属線形格子を含むカラーフィルタ偏光層と、前記第１基板及び前記第２基板との間の他面上に形成されている第２金属線形格子を含む偏光層と、を含み、前記第１金属線形格子に含まれている金属と前記第２金属線形格子に含まれている金属の特性は、互いに異なる。 （もっと読む）

【課題】光変調層への電界印加効率の低下を抑えつつ高い反射率を実現できる誘電体多層膜を備える反射型光変調装置を提供する。
【解決手段】反射型液晶装置（反射型光変調装置）１は、光Ｌを透過する導電性材料を含む透明導電膜２２と、透明導電膜２２に沿って二次元配列された金属製の複数の画素電極１６と、複数の画素電極１６と透明導電膜２２との間に配置され、各画素電極１６及び透明導電膜２２により形成される電界に応じて光Ｌを変調する液晶層２０と、複数の画素電極１６上に形成された誘電体多層膜１８とを備える。誘電体多層膜１８は、画素電極１６に接する第１の層と、第１の層より屈折率が高く第１の層に接する第２の層とを含む。 （もっと読む）

【課題】誘電体層に高誘電率絶縁膜を用い、高誘電率絶縁膜等のエッチングにドライエッチングを採用した場合でも、静電破壊の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造した電気光学装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００を製造するにあたって、高誘電率絶縁膜形成工程および高誘電率絶縁膜パターニング工程によって誘電体層４２ａを所定領域に形成した後、第２電極形成用導電膜形成工程および第２電極形成用導電膜パターニング工程によって容量線５ｂ（第２電極）を形成する。このため、高誘電率絶縁膜４２は、広い領域にわたって形成された状態でドライエッチング時のプラズマを受けるのは、高誘電率絶縁膜パターニング工程の間だけであり、第２電極形成用導電膜パターニング工程を行う時点では、すでにパターニングされている。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の表示領域内にタッチパネル等のセンサーを組み込む場合、遮光層としては、第一に十分な遮光性を有することが求められるが、一方では液晶注入を妨げずさらにはギャップムラが発生しにくいように膜厚を薄くすることが望まれる。形成するセンサー特性によっては遮光層の誘電率がある程度高いことが望ましい。また画素間の狭い領域に形成できる加工性を有し、さらに低コストで生産性の高い材料およびプロセスが求められる。
【解決手段】センサー電極上および周囲の遮光層を高誘電率インクによるインクジェット工法で形成することにより、低コストで歩留りが良く、センサー感度の良い液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】エレクトロウェッティングディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】エレクトロウェッティングディスプレイ装置（ＥＷＤ）が提供される。エレクトロウェッティングディスプレイ装置は、極性流体層及び非極性流体層を間に有し、互いに対向する第一基板及び第二基板を含む。第一電極が第一基板上に設置される。第二電極が第二基板上に設置される。第一パーティション構造は第一基板上に設置され、複数のカラーサブピクセルを規定する。染料、及び／又は、顔料が、極性流体層と非極性流体層の一つにドープされる。発光材料が、極性流体層と非極性流体層の一つにドープされる。発光モジュール（励起モジュールとしても知られる）が第一基板の底部下に設置される。隣接するサブピクセル中の非極性流体層の色は異なる。 （もっと読む）

【課題】光の取り出し効率の向上を図ることができ、輝度ムラ、ちらつきを低減させることが可能となる表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素で構成され、該複数の画素における各画素が、
発光層と、面内で屈折率分布を有する回折格子と、該発光層と該回折格子の間に位置して少なくとも１層以上の層で形成される中間層と、を有する表示装置であって、
前記中間層は、該発光層から放射された光が外部に取り出される割合を平均化するため、該中間層の面内に前記光の波長の所定倍以上の光路長差を有する凹凸構造を備えている。 （もっと読む）

【課題】反射型の液晶装置等の電気光学装置において、例えばシール材における未硬化部
分を低減し、高品位な表示を行うと共に信頼性を向上させる。
【解決手段】電気光学装置は、第１基板（１０）と、第１基板に対向して配置された第２
基板（２０）と、第１基板上に設けられた複数の画素電極（９）と、複数の画素電極を覆
うように形成され、複数の誘電体層（６１、６２）が積層されてなる誘電体多層膜（６０
）と、複数の画素電極が設けられた画素領域の周囲に配置され、第１基板と第２基板とを
互いに貼り合わせるシール材（５２）と、を備え、複数の誘電体層のうち少なくとも一の
誘電体層は、第１基板上におけるシール材が配置されたシール領域（５２ａ）に重ならな
いように形成されている。 （もっと読む）

【課題】高温プロセス後でも正反射率や拡散反射率の増大を抑制し、かつ膜厚バラツキに対して反射率特性が急変しないブラックマトリックスを提供する。
【解決手段】基板６上に形成されたブラックマトリックス５であって、ブラックマトリックス５は遷移金属酸化物と酸化ケイ素からなる、第１の膜１、第２の膜２、第３の膜３、第４の膜４をこの順で積層した４層で構成され、第１の膜の屈折率＝第３の膜の屈折率＜第２の膜の屈折率＝第４の膜の屈折率であり、第４の膜は全体が同一組成かつＴＥＭ写真で見たときに膜内に境界が認められることを特徴とするブラックマトリックス。 （もっと読む）