ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物
【課題】ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物を提供すること。
【解決手段】チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られる、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）；
ラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基又は原子移動ラジカル重合開始基であるチタン酸塩化合物（Ａ）。
【解決手段】チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られる、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）；
ラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基又は原子移動ラジカル重合開始基であるチタン酸塩化合物（Ａ）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
チタン酸塩に高分子化合物が化学結合していることを特徴とするポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種電子機器の小型化、高性能化が進んでいる。それに伴い、集積回路におけるコンデンサも同様に小型化が求められており、静電容量の高密度化の検討が行われている。静電容量の高密度化には、チタン酸塩などの無機高誘電率粒子が添加された樹脂が用いられる。
例えば、熱可塑性樹脂を内層したプリント配線板に関して、特許文献１、２では、熱可塑性樹脂へ無機高誘電率粒子を充填することで高誘電率化する検討がなされているが、無機高誘電率粒子の充填量が多い場合、成形性が低下してしまう。
また、非特許文献１には、チタン酸バリウム添加誘電性ポリマー薄膜が記載されているが、チタン酸バリウムの添加量が増加すると粒子の凝集体が生成するため、成膜性が悪化してしまう。
そこで、無機高誘電率粒子の凝集を抑制するために、表面を被覆する手法が種々検討されているが、その多くは、低分子による表面処理であり、ベースとなる樹脂との親和性が低い場合がある。また、あらかじめ合成された高分子と無機粒子とを反応させることによる表面処理も知られているが、高分子反応のためその効率は低い傾向にある。従って、これらの手法では、得られる効果が必ずしも充分なものとはいえなかった。
【特許文献１】特開平５−５７８５１号公報
【特許文献２】特開平５−５７８５２号公報
【非特許文献１】小林芳男、今野幹男，Ｂ．５ チタン酸バリウムナノ粒子添加誘電性ポリマー薄膜の創製，有機・無機ナノ複合材料の新局面，エヌ・ティー・エス，２００４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、樹脂へ高充填しても良好な成形性を保有し、且つ機械強度に優れている、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、チタン酸塩粒子にあらかじめ化学結合を介してラジカル重合開始基を導入し、該粒子とモノマーを反応させることで、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物粒子が得られることを見出した。
【０００５】
すなわち、本発明は、
［１］：チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られる、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）；
［２］：ラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基又は原子移動ラジカル重合開始基であるチタン酸塩化合物（Ａ）。
［３］：化学結合が、チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とを反応させることで形成されるチタン酸塩化合物（Ａ）。
［４］：チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる、少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）を取得し、得られた化合物とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることを特徴とするチタン酸塩化合物（Ａ）の製造方法；
［５］：ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、樹脂へ高充填しても良好な成形性を保有し、且つ機械強度に優れている、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
まず、チタン酸塩化合物（Ａ）について説明する。
【０００８】
チタン酸塩（１）は、チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムからなるチタン酸塩の群から選ばれる、少なくとも一種類のチタン酸塩であれば、その結晶構造や大きさ、形状等は特に限定されない。
【０００９】
通常、チタン酸塩（１）は、式（１）
（式中、Ｍは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ又はＢａであり、Ｘは、０．１〜１．１の数を表す。）
で示されるチタン酸塩が挙げられ、その結晶構造や大きさ、形状等は特に限定されない。
【００１０】
「ラジカル重合開始基」とは、光や熱、またはその他の電磁照射の条件下でラジカルを発生する官能基及び触媒等と反応してラジカルを発生する官能基であり、ラジカル重合の開始点となりうる官能基であれば、特に限定されない。例えば、アゾ基やパーオキシド基、非特許文献２に記載されているような、ヨウ素基など、さらには、非特許文献３に記載されているような、Ｎｉｔｒｏｘｉｄｅ−Ｍｅｄｉａｔｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＮＭＰ）の開始基となるニトロキシド基、非特許文献４に記載されているような、Ｒｅｖｅｒｓｉｂｌｅ Ａｄｄｉｔｉｏｎ−Ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＲＡＦＴ）の開始基となるチオエステル基、非特許文献５及び６に記載されているようなＡｔｏｍ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｒａｄｉｃａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＡＴＲＰ：原子移動ラジカル重合）の開始基となる、α−ハロエステル基、α−ハロケトン基、ハロゲン化スルホニル基、ベンジルハライド基などが挙げられ、生成するポリマー鎖の一次構造や鎖長を制御できるという観点から「リビングラジカル重合開始基」である、例えば、非特許文献２及び３、４、５、６に記載されている官能基が好ましく、さらに非特許文献５及び６に記載されているような「原子移動ラジカル重合開始基」である官能基がより好ましい。
【００１１】
［非特許文献２］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００６，１０６，３９３６.
［非特許文献３］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，３６６１.
［非特許文献４］
Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．２００５，５８，３７９.
［非特許文献５］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，２９２１.
［非特許文献６］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，３６８９.
【００１２】
「リビングラジカル重合開始基」としては、特に限定されるわけではないが、例えば、ヨウ素基やニトロキシド基、チオエステル基、α−ハロエステル基、α−ハロケトン基、ハロゲン化スルホニル基、ベンジルハライド基などが挙げられる。
【００１３】
「原子移動ラジカル重合開始基」としては、特に限定されるわけではないが、例えば、α−ハロエステル基、α−ハロケトン基、ハロゲン化スルホニル基、ベンジルハライド基などが挙げられる。
【００１４】
「化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基」における「化学結合」は、特に限定されるわけではなく、例えば、チタン酸塩（１）と（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基とを反応させることで形成される結合が挙げられ、好ましくは、チタン酸塩（１）とクロロシラン基、アルコキシシラン基、又はシラノール基とを反応させることで形成される結合が挙げられ、より好ましくはチタン酸塩（１）とアルコキシシラン基とを反応させることで形成される結合が挙げられる。尚、チタン酸塩（１）と反応させる官能基は一種類であってもよいし、二種類以上であってもよい。
【００１５】
以下に、チタン酸塩（１）と（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基とを反応させることで形成される結合の例を概念図を用いて表わすが、これらに限定されるわけではない。
ｉ）リン酸基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基、Ｚ１は、ヒドロキシル基又は置換されていてもよいリン酸エステル基を表わす。）
ｉｉ）カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表わす。）
ｉｉｉ）イソシアナート基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表わす。）
ｉｖ）クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表し、Ｚ２及びＺ３は、同一又は相異なり、クロロ原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アルキル基又は置換されていてもよいシロキシ基を表わす。）
【００１６】
「ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマー」は、ラジカル重合により重合されるモノマーであれば、特に限定されないが、例えば、エチレン、プロピレン、イソブテン、へキセン、ブタジエン、スチレンなどの炭素−炭素二重結合を有する炭化水素やメタクリル酸メチル、アクリル酸ブチルなどの（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリドやＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル、４−ビニルピリジンなどが挙げられる。尚、これらのモノマーは一種類であってもよいし、二種類以上のものが重合されていてもよい。
【００１７】
「ポリマー鎖」は、重合開始基を起点として、モノマーが１０個以上重合されたものであれば特に限定されない。
【００１８】
次に、チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）
に関して述べる。
【００１９】
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物は特に限定されるわけではないが、例えば、
【００２０】
４−クロロメチルフェニルホスホン酸、４−ブロモメチルフェニルホスホン酸、
２−クロロプロピオン酸、２−ブロモプロピオン酸、２−ヨードプロピオン酸、
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸、
【００２１】
２−クロロプロピオニルクロリド、２−クロロプロピオニルブロミド、２−ブロモプロピオニルクロリド、２−ブロモプロピオニルブロミド、
２−クロロ−２−メチル−プロピオニルクロリド、２−クロロ−２−メチル−プロピオニルブロミド、２−ブロモ−２−メチル−プロピオニルクロリド、２−ブロモ−２−メチル−プロピオニルブロミド、
【００２２】
トリクロロアセチルイソシアネート、
【００２３】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）ブチル｝、
【００２４】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ブチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（メチルジエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（ジメチルエトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、
４−｛２−（トリメトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（トリエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（メチルジエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（ジメチルエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、
１−（クロロメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（クロロメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、
【００２５】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）ブチル｝、２−ブロモプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）へキシル｝
等が挙げられ、
【００２６】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ブチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（メチルジエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（ジメチルエトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、
４−｛２−（トリメトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（トリエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（メチルジエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（ジメチルエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、
１−（クロロメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（クロロメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン
等のアルコキシシリル基及びラジカル重合開始基を有する化合物が好ましい。
【００２７】
チタン酸塩（１）と上記に示した（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物との反応は、両者を接触させることにより実施される。
【００２８】
接触させる際は、無溶媒でもよいが、通常、溶媒中で、両者を混合することにより実施される。溶媒としては、水、有機溶媒及び水と有機溶媒の混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒等が挙げられる。
【００２９】
接触温度は、通常、−７８〜２００℃である。
必要に応じて、適当な添加物（例えば、酢酸などの酸やアンモニア水などの塩基等）の存在下に接触させてもよい。
尚、上記に示した（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物の使用量は特に制限されない。
【００３０】
得られた化合物は、例えば、濃縮やろ過、遠心分離することにより、取り出すことができる。取り出した化合物は、水や有機溶媒、水と有機溶媒の混合溶媒などで洗浄することでさらに精製してもよい。
【００３１】
続いて、チタン酸塩（１）を
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）を取得し、得られた化合物とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合させる工程に関して述べる。
【００３２】
ラジカル重合としては、どのような重合方法であってもよいが、チタン酸塩表面に結合しているポリマー鎖の分子量が均一であることが好ましいことから、リビングラジカル重合が好ましく、非特許文献５及び６に記載されているような原子移動ラジカル重合がより好ましい。従って、原子移動ラジカル重合により反応可能なモノマーであれば特に限定はなく、例えば、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、メタクリロニトリル、アクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロニトリル、４−ビニルピリジン、酢酸ビニル等が挙げられる。尚、これらのモノマーは一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。使用するモノマーの量は、特に限定されないが、化合物（２）に含まれる重合開始基に対して、通常、１０モル倍から１００００モル倍である。
【００３３】
原子移動ラジカル重合に用いられる触媒としては、特に限定されないが、例えば、２価の銅、１価の銅、０価の銅、２価のルテニウム、２価の鉄、又は２価のニッケルの錯体が挙げられ、銅の錯体が好ましい。尚、これらの錯体は一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。
【００３４】
銅の錯体は、塩化第二銅、臭化第二銅、塩化第一銅、臭化第一銅、又は銅粉などの銅化合物を用い、配位子を添加することにより得ることができる。
配位子としては、特に限定されないが、例えば、２，２−ビピリジル、その誘導体などのビピリジル系化合物、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、トリス（ジメチルアミノエチル）アミンなどが挙げられる。使用する配位子の量は、特に限定されないが、好ましくは、銅化合物の総量に対して、０．３モル倍〜５モル倍である。
【００３５】
使用する銅化合物の総量は、化合物（２）に含まれる重合開始基に対して、通常０．０００１〜１００モル倍、好ましくは、０．００１〜５０モル倍である。
【００３６】
原子移動ラジカル重合は、無溶媒で行ってもよいし、溶媒を使用してもよい。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、ジフェニルエーテル等のエーテル溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒；アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒等が挙げられる。尚、これらの溶媒は一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。
【００３７】
化合物（２）とモノマーを原子移動ラジカル重合させる温度は、通常−２０℃〜２００℃であり、好ましくは、０℃〜１５０℃である。
【００３８】
重合終了後、未反応のモノマーや溶媒の留去、重合反応の懸濁液のろ過、又は懸濁液の遠心分離により、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）と未反応のモノマーや溶媒とを分離することができる。得られたチタン酸塩化合物（Ａ）は、適当な溶媒などで洗浄することでさらに精製してもよい。
【００３９】
さらに、チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物に関して述べる。
【００４０】
樹脂の種類は、特に限定されないが、チタン酸塩化合物（Ａ）におけるポリマー鎖と相溶するものが好ましく、例えば、ポリメタクリル酸メチルやポリスチレンが挙げられる。
【００４１】
チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂の割合は、特に限定されないが、通常、チタン酸塩化合物（Ａ）におけるチタン酸塩の重量（すなわち、化学修飾されたポリマー鎖の重量を除いた重量）と樹脂の重量の割合は、１：９９〜９９：１の範囲である。
【００４２】
チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂の混合方法に関しても、特に限定されるわけではないが、例えば、直接混合する方法や混錬する方法、さらには、一旦溶媒を使用して混合させた後、溶媒を留去する方法等が挙げられる。
【００４３】
尚、チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物は、射出成形、ブロー成形、押出成形、インフレーション成形及びシート加工後の真空成形、圧縮成形などの方法を用いて成形加工することも可能である。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
【００４５】
［実施例１］
[２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝の合成]
非特許文献７を参考にして合成した。
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸−５−ヘキセン５０.０ｇ、トルエン６２５ｍＬを加えた。得られた溶液へトリエトキシシラン１８４ｍＬを滴下した。得られた混合物へ白金錯体（Ａｌｄｒｉｃｈ製；ｐｌａｔｉｎｕｍ（０）−１，３−ｄｉｖｉｎｙｌ−１，１，３，３−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌｏｘａｎｅ ｃｏｍｐｌｅｘ ｓｏｌｕｔｉｏｎ，０．１０Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ）７４０μＬを加えた後、室温で一晩攪拌した。その後、３２℃で、反応溶液を濃縮し、さらに５５℃で、３時間、減圧乾燥して、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝７３．９６ｇを得た。尚、ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値は、９１％であった。
［非特許文献７］
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００５，３８，２１３７．
【００４６】
［実施例２］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）の合成；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝の反応]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、チタン酸バリウム（ＢＥＴ比表面積６ｍ２／ｇ（ＢＥＴ比表面積は、島津製作所製フローソーブII２３００型によりＢＥＴ１点法で測定した。））１０．００ｇ、エタノール３５．２ｍＬ、２８％アンモニア水２１．１ｍＬを加えた。得られた混合物を４０℃で２時間攪拌した後、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝３．５２ｇをエタノール７．０ｍＬに溶解させて得られた溶液を滴下した。滴下後、さらに、４０℃で２０時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、エタノール１００ｍＬで２回、テトラヒドロフラン１００ｍＬで２回、クロロホルム１００ｍＬで２回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、チタン酸バリウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）８．９３ｇを得た。
元素分析：Ｃ：０．３％、Ｂｒ：０．１２％
【００４７】
［実施例３］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）からのメチルメタクリレートの原子移動ラジカル重合]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、実施例２で合成した「チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物」４．５０ｇ、臭化銅（Ｉ）１．９４ｍｇ、銅紛１．７７ｍｇ、アニソール２．２０ｍＬ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミンのアニソール溶液０．２０２ｍＬ（０．４０ｍｏｌ／Ｌ）、メチルメタクリレート４．３３ｍＬを加えて、室温で１分間攪拌し、さらに、９０℃で８時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン１００ｍＬで２回、クロロホルム１００ｍＬで２回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、ポリメチルメタクリレートで修飾されたチタン酸バリウム４．５７ｇを得た。
元素分析：Ｃ：３．４％、Ｂｒ：５５０ｐｐｍ
【００４８】
［実施例４］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）からのメチルメタクリレートの原子移動ラジカル重合]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、実施例２で合成した「チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物」４．００ｇ、臭化銅（Ｉ）３．４４ｍｇ、銅紛３．１４ｍｇ、アニソール１．７９ｍＬ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミンのアニソール溶液０．３６０ｍＬ（０．４０ｍｏｌ／Ｌ）、メチルメタクリレート３．８５ｍＬを加えて、室温で１分間攪拌し、さらに、９０℃で８時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン１００ｍＬで２回、クロロホルム１００ｍＬで２回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、ポリメチルメタクリレートで修飾されたチタン酸バリウム４．３８ｇを得た。
元素分析：Ｃ：８．９％、Ｂｒ：３４０ｐｐｍ
【００４９】
［実施例５］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）からのスチレンの原子移動ラジカル重合]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、「チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物（元素分析：Ｃ：０．４％、Ｂｒ：１３００ｐｐｍ）」１０．００ｇ、臭化銅（Ｉ）９．３５ｍｇ、銅紛３８．４４ｍｇ、アニソール１．８４ｍＬ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミンのアニソール溶液３．２５８ｍＬ（０．４０ｍｏｌ／Ｌ）、スチレン１１．２１ｍＬを加えて、室温で１分間攪拌し、さらに、９０℃で４時間３０分攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン１００ｍＬで３回、クロロホルム１００ｍＬで３回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、ポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウム１４．０１ｇを得た。
元素分析：Ｃ：２７．７％、Ｂｒ：４９０ｐｐｍ
【００５０】
［ガラス転移温度の測定］
【００５１】
実施例３、４及びポリメチルメタクルレート（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜１２０，０００）に関して、ＤＳＣを用いてガラス転移温度を測定した。（測定条件；昇温速度２０℃/分）
【００５２】
【表１】
ポリメチルメタクリレートで修飾されたチタン酸バリウムが、ポリメチルメタクリレート単独樹脂よりガラス転移温度が高くなり、耐熱性が向上していることが明らかである。
【００５３】
［実施例６］
実施例５により得られたポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウム４.７９g、ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜２３０，０００）１.７１ｇに添加し、小型混練機ミニラボ（ＴｈｅｒｍｏＨａａｋｅ製）を用いて、２００℃で２０分間(回転数５０ｒｐｍ)溶融混練した。混練後、押し出し機により造粒し、樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物について、プレス成形機を用いて、温度２００℃(予熱５分間、昇圧(１５ＭＰａ)後３分間)でプレスした後、３０℃で５分間冷却することで約１００μｍ×１５０ｍｍ×１５０ｍｍのプレスシートを得た。
得られたプレスシートを用い、引張試験を実施した。結果を表２に記載した。
【００５４】
［比較例１］
実施例６において、ポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウムの代わりに、チタン酸バリウム（ＢＥＴ比表面積６ｍ２／ｇ（ＢＥＴ比表面積は、島津製作所製フローソーブII２３００型によりＢＥＴ１点法で測定した。））３.２５g、ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜２３０，０００）３.２５ｇを用いた以外は、実施例６と同様に実施した。
得られたプレスシートを用い、引張試験を実施した。結果を表２に記載した。
【００５５】
[引張り試験の実施]
[引張試験条件]
引張試験条件；荷重フルスケール：２０ｋｇｆ、試験速度：５.０ｍｍ／ｍｉｎ、初期試料長：４０ｍｍ、環境温度：２３℃、環境湿度：５０％ＲＨ
【００５６】
［引張試験結果］
【００５７】
【表２】
ポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウムが、破断点応力、破断点伸度ともに高いことがわかる。
【技術分野】
【０００１】
チタン酸塩に高分子化合物が化学結合していることを特徴とするポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種電子機器の小型化、高性能化が進んでいる。それに伴い、集積回路におけるコンデンサも同様に小型化が求められており、静電容量の高密度化の検討が行われている。静電容量の高密度化には、チタン酸塩などの無機高誘電率粒子が添加された樹脂が用いられる。
例えば、熱可塑性樹脂を内層したプリント配線板に関して、特許文献１、２では、熱可塑性樹脂へ無機高誘電率粒子を充填することで高誘電率化する検討がなされているが、無機高誘電率粒子の充填量が多い場合、成形性が低下してしまう。
また、非特許文献１には、チタン酸バリウム添加誘電性ポリマー薄膜が記載されているが、チタン酸バリウムの添加量が増加すると粒子の凝集体が生成するため、成膜性が悪化してしまう。
そこで、無機高誘電率粒子の凝集を抑制するために、表面を被覆する手法が種々検討されているが、その多くは、低分子による表面処理であり、ベースとなる樹脂との親和性が低い場合がある。また、あらかじめ合成された高分子と無機粒子とを反応させることによる表面処理も知られているが、高分子反応のためその効率は低い傾向にある。従って、これらの手法では、得られる効果が必ずしも充分なものとはいえなかった。
【特許文献１】特開平５−５７８５１号公報
【特許文献２】特開平５−５７８５２号公報
【非特許文献１】小林芳男、今野幹男，Ｂ．５ チタン酸バリウムナノ粒子添加誘電性ポリマー薄膜の創製，有機・無機ナノ複合材料の新局面，エヌ・ティー・エス，２００４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、樹脂へ高充填しても良好な成形性を保有し、且つ機械強度に優れている、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、チタン酸塩粒子にあらかじめ化学結合を介してラジカル重合開始基を導入し、該粒子とモノマーを反応させることで、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物粒子が得られることを見出した。
【０００５】
すなわち、本発明は、
［１］：チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られる、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）；
［２］：ラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基又は原子移動ラジカル重合開始基であるチタン酸塩化合物（Ａ）。
［３］：化学結合が、チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とを反応させることで形成されるチタン酸塩化合物（Ａ）。
［４］：チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる、少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）を取得し、得られた化合物とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることを特徴とするチタン酸塩化合物（Ａ）の製造方法；
［５］：ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、樹脂へ高充填しても良好な成形性を保有し、且つ機械強度に優れている、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
まず、チタン酸塩化合物（Ａ）について説明する。
【０００８】
チタン酸塩（１）は、チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムからなるチタン酸塩の群から選ばれる、少なくとも一種類のチタン酸塩であれば、その結晶構造や大きさ、形状等は特に限定されない。
【０００９】
通常、チタン酸塩（１）は、式（１）
（式中、Ｍは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ又はＢａであり、Ｘは、０．１〜１．１の数を表す。）
で示されるチタン酸塩が挙げられ、その結晶構造や大きさ、形状等は特に限定されない。
【００１０】
「ラジカル重合開始基」とは、光や熱、またはその他の電磁照射の条件下でラジカルを発生する官能基及び触媒等と反応してラジカルを発生する官能基であり、ラジカル重合の開始点となりうる官能基であれば、特に限定されない。例えば、アゾ基やパーオキシド基、非特許文献２に記載されているような、ヨウ素基など、さらには、非特許文献３に記載されているような、Ｎｉｔｒｏｘｉｄｅ−Ｍｅｄｉａｔｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＮＭＰ）の開始基となるニトロキシド基、非特許文献４に記載されているような、Ｒｅｖｅｒｓｉｂｌｅ Ａｄｄｉｔｉｏｎ−Ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＲＡＦＴ）の開始基となるチオエステル基、非特許文献５及び６に記載されているようなＡｔｏｍ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｒａｄｉｃａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＡＴＲＰ：原子移動ラジカル重合）の開始基となる、α−ハロエステル基、α−ハロケトン基、ハロゲン化スルホニル基、ベンジルハライド基などが挙げられ、生成するポリマー鎖の一次構造や鎖長を制御できるという観点から「リビングラジカル重合開始基」である、例えば、非特許文献２及び３、４、５、６に記載されている官能基が好ましく、さらに非特許文献５及び６に記載されているような「原子移動ラジカル重合開始基」である官能基がより好ましい。
【００１１】
［非特許文献２］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００６，１０６，３９３６.
［非特許文献３］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，３６６１.
［非特許文献４］
Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．２００５，５８，３７９.
［非特許文献５］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，２９２１.
［非特許文献６］
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，３６８９.
【００１２】
「リビングラジカル重合開始基」としては、特に限定されるわけではないが、例えば、ヨウ素基やニトロキシド基、チオエステル基、α−ハロエステル基、α−ハロケトン基、ハロゲン化スルホニル基、ベンジルハライド基などが挙げられる。
【００１３】
「原子移動ラジカル重合開始基」としては、特に限定されるわけではないが、例えば、α−ハロエステル基、α−ハロケトン基、ハロゲン化スルホニル基、ベンジルハライド基などが挙げられる。
【００１４】
「化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基」における「化学結合」は、特に限定されるわけではなく、例えば、チタン酸塩（１）と（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基とを反応させることで形成される結合が挙げられ、好ましくは、チタン酸塩（１）とクロロシラン基、アルコキシシラン基、又はシラノール基とを反応させることで形成される結合が挙げられ、より好ましくはチタン酸塩（１）とアルコキシシラン基とを反応させることで形成される結合が挙げられる。尚、チタン酸塩（１）と反応させる官能基は一種類であってもよいし、二種類以上であってもよい。
【００１５】
以下に、チタン酸塩（１）と（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基とを反応させることで形成される結合の例を概念図を用いて表わすが、これらに限定されるわけではない。
ｉ）リン酸基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基、Ｚ１は、ヒドロキシル基又は置換されていてもよいリン酸エステル基を表わす。）
ｉｉ）カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表わす。）
ｉｉｉ）イソシアナート基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表わす。）
ｉｖ）クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基の場合；
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表し、Ｚ２及びＺ３は、同一又は相異なり、クロロ原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アルキル基又は置換されていてもよいシロキシ基を表わす。）
【００１６】
「ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマー」は、ラジカル重合により重合されるモノマーであれば、特に限定されないが、例えば、エチレン、プロピレン、イソブテン、へキセン、ブタジエン、スチレンなどの炭素−炭素二重結合を有する炭化水素やメタクリル酸メチル、アクリル酸ブチルなどの（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリドやＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル、４−ビニルピリジンなどが挙げられる。尚、これらのモノマーは一種類であってもよいし、二種類以上のものが重合されていてもよい。
【００１７】
「ポリマー鎖」は、重合開始基を起点として、モノマーが１０個以上重合されたものであれば特に限定されない。
【００１８】
次に、チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）
に関して述べる。
【００１９】
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物は特に限定されるわけではないが、例えば、
【００２０】
４−クロロメチルフェニルホスホン酸、４−ブロモメチルフェニルホスホン酸、
２−クロロプロピオン酸、２−ブロモプロピオン酸、２−ヨードプロピオン酸、
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸、
【００２１】
２−クロロプロピオニルクロリド、２−クロロプロピオニルブロミド、２−ブロモプロピオニルクロリド、２−ブロモプロピオニルブロミド、
２−クロロ−２−メチル−プロピオニルクロリド、２−クロロ−２−メチル−プロピオニルブロミド、２−ブロモ−２−メチル−プロピオニルクロリド、２−ブロモ−２−メチル−プロピオニルブロミド、
【００２２】
トリクロロアセチルイソシアネート、
【００２３】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）ブチル｝、
【００２４】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ブチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（メチルジエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（ジメチルエトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、
４−｛２−（トリメトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（トリエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（メチルジエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（ジメチルエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、
１−（クロロメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（クロロメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、
【００２５】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）ブチル｝、２−ブロモプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）へキシル｝
等が挙げられ、
【００２６】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ブチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（メチルジエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（ジメチルエトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、
４−｛２−（トリメトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（トリエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（メチルジエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（ジメチルエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、
１−（クロロメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（クロロメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン
等のアルコキシシリル基及びラジカル重合開始基を有する化合物が好ましい。
【００２７】
チタン酸塩（１）と上記に示した（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物との反応は、両者を接触させることにより実施される。
【００２８】
接触させる際は、無溶媒でもよいが、通常、溶媒中で、両者を混合することにより実施される。溶媒としては、水、有機溶媒及び水と有機溶媒の混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒等が挙げられる。
【００２９】
接触温度は、通常、−７８〜２００℃である。
必要に応じて、適当な添加物（例えば、酢酸などの酸やアンモニア水などの塩基等）の存在下に接触させてもよい。
尚、上記に示した（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物の使用量は特に制限されない。
【００３０】
得られた化合物は、例えば、濃縮やろ過、遠心分離することにより、取り出すことができる。取り出した化合物は、水や有機溶媒、水と有機溶媒の混合溶媒などで洗浄することでさらに精製してもよい。
【００３１】
続いて、チタン酸塩（１）を
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）を取得し、得られた化合物とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合させる工程に関して述べる。
【００３２】
ラジカル重合としては、どのような重合方法であってもよいが、チタン酸塩表面に結合しているポリマー鎖の分子量が均一であることが好ましいことから、リビングラジカル重合が好ましく、非特許文献５及び６に記載されているような原子移動ラジカル重合がより好ましい。従って、原子移動ラジカル重合により反応可能なモノマーであれば特に限定はなく、例えば、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、メタクリロニトリル、アクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロニトリル、４−ビニルピリジン、酢酸ビニル等が挙げられる。尚、これらのモノマーは一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。使用するモノマーの量は、特に限定されないが、化合物（２）に含まれる重合開始基に対して、通常、１０モル倍から１００００モル倍である。
【００３３】
原子移動ラジカル重合に用いられる触媒としては、特に限定されないが、例えば、２価の銅、１価の銅、０価の銅、２価のルテニウム、２価の鉄、又は２価のニッケルの錯体が挙げられ、銅の錯体が好ましい。尚、これらの錯体は一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。
【００３４】
銅の錯体は、塩化第二銅、臭化第二銅、塩化第一銅、臭化第一銅、又は銅粉などの銅化合物を用い、配位子を添加することにより得ることができる。
配位子としては、特に限定されないが、例えば、２，２−ビピリジル、その誘導体などのビピリジル系化合物、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、トリス（ジメチルアミノエチル）アミンなどが挙げられる。使用する配位子の量は、特に限定されないが、好ましくは、銅化合物の総量に対して、０．３モル倍〜５モル倍である。
【００３５】
使用する銅化合物の総量は、化合物（２）に含まれる重合開始基に対して、通常０．０００１〜１００モル倍、好ましくは、０．００１〜５０モル倍である。
【００３６】
原子移動ラジカル重合は、無溶媒で行ってもよいし、溶媒を使用してもよい。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、ジフェニルエーテル等のエーテル溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒；アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒等が挙げられる。尚、これらの溶媒は一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。
【００３７】
化合物（２）とモノマーを原子移動ラジカル重合させる温度は、通常−２０℃〜２００℃であり、好ましくは、０℃〜１５０℃である。
【００３８】
重合終了後、未反応のモノマーや溶媒の留去、重合反応の懸濁液のろ過、又は懸濁液の遠心分離により、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）と未反応のモノマーや溶媒とを分離することができる。得られたチタン酸塩化合物（Ａ）は、適当な溶媒などで洗浄することでさらに精製してもよい。
【００３９】
さらに、チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物に関して述べる。
【００４０】
樹脂の種類は、特に限定されないが、チタン酸塩化合物（Ａ）におけるポリマー鎖と相溶するものが好ましく、例えば、ポリメタクリル酸メチルやポリスチレンが挙げられる。
【００４１】
チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂の割合は、特に限定されないが、通常、チタン酸塩化合物（Ａ）におけるチタン酸塩の重量（すなわち、化学修飾されたポリマー鎖の重量を除いた重量）と樹脂の重量の割合は、１：９９〜９９：１の範囲である。
【００４２】
チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂の混合方法に関しても、特に限定されるわけではないが、例えば、直接混合する方法や混錬する方法、さらには、一旦溶媒を使用して混合させた後、溶媒を留去する方法等が挙げられる。
【００４３】
尚、チタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物は、射出成形、ブロー成形、押出成形、インフレーション成形及びシート加工後の真空成形、圧縮成形などの方法を用いて成形加工することも可能である。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
【００４５】
［実施例１］
[２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝の合成]
非特許文献７を参考にして合成した。
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸−５−ヘキセン５０.０ｇ、トルエン６２５ｍＬを加えた。得られた溶液へトリエトキシシラン１８４ｍＬを滴下した。得られた混合物へ白金錯体（Ａｌｄｒｉｃｈ製；ｐｌａｔｉｎｕｍ（０）−１，３−ｄｉｖｉｎｙｌ−１，１，３，３−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌｏｘａｎｅ ｃｏｍｐｌｅｘ ｓｏｌｕｔｉｏｎ，０．１０Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ）７４０μＬを加えた後、室温で一晩攪拌した。その後、３２℃で、反応溶液を濃縮し、さらに５５℃で、３時間、減圧乾燥して、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝７３．９６ｇを得た。尚、ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値は、９１％であった。
［非特許文献７］
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００５，３８，２１３７．
【００４６】
［実施例２］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）の合成；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝の反応]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、チタン酸バリウム（ＢＥＴ比表面積６ｍ２／ｇ（ＢＥＴ比表面積は、島津製作所製フローソーブII２３００型によりＢＥＴ１点法で測定した。））１０．００ｇ、エタノール３５．２ｍＬ、２８％アンモニア水２１．１ｍＬを加えた。得られた混合物を４０℃で２時間攪拌した後、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝３．５２ｇをエタノール７．０ｍＬに溶解させて得られた溶液を滴下した。滴下後、さらに、４０℃で２０時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、エタノール１００ｍＬで２回、テトラヒドロフラン１００ｍＬで２回、クロロホルム１００ｍＬで２回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、チタン酸バリウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）８．９３ｇを得た。
元素分析：Ｃ：０．３％、Ｂｒ：０．１２％
【００４７】
［実施例３］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）からのメチルメタクリレートの原子移動ラジカル重合]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、実施例２で合成した「チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物」４．５０ｇ、臭化銅（Ｉ）１．９４ｍｇ、銅紛１．７７ｍｇ、アニソール２．２０ｍＬ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミンのアニソール溶液０．２０２ｍＬ（０．４０ｍｏｌ／Ｌ）、メチルメタクリレート４．３３ｍＬを加えて、室温で１分間攪拌し、さらに、９０℃で８時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン１００ｍＬで２回、クロロホルム１００ｍＬで２回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、ポリメチルメタクリレートで修飾されたチタン酸バリウム４．５７ｇを得た。
元素分析：Ｃ：３．４％、Ｂｒ：５５０ｐｐｍ
【００４８】
［実施例４］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）からのメチルメタクリレートの原子移動ラジカル重合]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、実施例２で合成した「チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物」４．００ｇ、臭化銅（Ｉ）３．４４ｍｇ、銅紛３．１４ｍｇ、アニソール１．７９ｍＬ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミンのアニソール溶液０．３６０ｍＬ（０．４０ｍｏｌ／Ｌ）、メチルメタクリレート３．８５ｍＬを加えて、室温で１分間攪拌し、さらに、９０℃で８時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン１００ｍＬで２回、クロロホルム１００ｍＬで２回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、ポリメチルメタクリレートで修飾されたチタン酸バリウム４．３８ｇを得た。
元素分析：Ｃ：８．９％、Ｂｒ：３４０ｐｐｍ
【００４９】
［実施例５］
[チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物）からのスチレンの原子移動ラジカル重合]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、「チタン酸塩の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物；チタン酸バリウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝を反応させた化合物（元素分析：Ｃ：０．４％、Ｂｒ：１３００ｐｐｍ）」１０．００ｇ、臭化銅（Ｉ）９．３５ｍｇ、銅紛３８．４４ｍｇ、アニソール１．８４ｍＬ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミンのアニソール溶液３．２５８ｍＬ（０．４０ｍｏｌ／Ｌ）、スチレン１１．２１ｍＬを加えて、室温で１分間攪拌し、さらに、９０℃で４時間３０分攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン１００ｍＬで３回、クロロホルム１００ｍＬで３回洗浄した。得られた固体を６０℃で、４時間、減圧乾燥して、ポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウム１４．０１ｇを得た。
元素分析：Ｃ：２７．７％、Ｂｒ：４９０ｐｐｍ
【００５０】
［ガラス転移温度の測定］
【００５１】
実施例３、４及びポリメチルメタクルレート（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜１２０，０００）に関して、ＤＳＣを用いてガラス転移温度を測定した。（測定条件；昇温速度２０℃/分）
【００５２】
【表１】
ポリメチルメタクリレートで修飾されたチタン酸バリウムが、ポリメチルメタクリレート単独樹脂よりガラス転移温度が高くなり、耐熱性が向上していることが明らかである。
【００５３】
［実施例６］
実施例５により得られたポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウム４.７９g、ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜２３０，０００）１.７１ｇに添加し、小型混練機ミニラボ（ＴｈｅｒｍｏＨａａｋｅ製）を用いて、２００℃で２０分間(回転数５０ｒｐｍ)溶融混練した。混練後、押し出し機により造粒し、樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物について、プレス成形機を用いて、温度２００℃(予熱５分間、昇圧(１５ＭＰａ)後３分間)でプレスした後、３０℃で５分間冷却することで約１００μｍ×１５０ｍｍ×１５０ｍｍのプレスシートを得た。
得られたプレスシートを用い、引張試験を実施した。結果を表２に記載した。
【００５４】
［比較例１］
実施例６において、ポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウムの代わりに、チタン酸バリウム（ＢＥＴ比表面積６ｍ２／ｇ（ＢＥＴ比表面積は、島津製作所製フローソーブII２３００型によりＢＥＴ１点法で測定した。））３.２５g、ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜２３０，０００）３.２５ｇを用いた以外は、実施例６と同様に実施した。
得られたプレスシートを用い、引張試験を実施した。結果を表２に記載した。
【００５５】
[引張り試験の実施]
[引張試験条件]
引張試験条件；荷重フルスケール：２０ｋｇｆ、試験速度：５.０ｍｍ／ｍｉｎ、初期試料長：４０ｍｍ、環境温度：２３℃、環境湿度：５０％ＲＨ
【００５６】
［引張試験結果］
【００５７】
【表２】
ポリスチレンで修飾されたチタン酸バリウムが、破断点応力、破断点伸度ともに高いことがわかる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種類のチタン酸塩（以下、チタン酸塩（１）と略す場合もある。）の表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られる、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）（以下、チタン酸塩化合物（Ａ）と略す場合もある。）。
【請求項２】
請求項１に記載のラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基である請求項１に記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項３】
請求項１に記載のラジカル重合開始基が、原子移動ラジカル重合開始基である請求項１に記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項４】
請求項１に記載の化学結合が、チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とを反応させることで形成される請求項１〜３のいずれかに記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項５】
請求項１に記載の化学結合が、チタン酸塩（１）とアルコキシシリル基とを反応させることで形成される請求項１〜３のいずれかに記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項６】
チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（以下、化合物（２）と略す場合もある。）。
【請求項７】
チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）を取得し、得られた化合物（２）とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることを特徴とする請求項１に記載のチタン酸塩化合物（Ａ）の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載のチタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【請求項１】
チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種類のチタン酸塩（以下、チタン酸塩（１）と略す場合もある。）の表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られる、ポリマー鎖で化学修飾されたチタン酸塩化合物（Ａ）（以下、チタン酸塩化合物（Ａ）と略す場合もある。）。
【請求項２】
請求項１に記載のラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基である請求項１に記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項３】
請求項１に記載のラジカル重合開始基が、原子移動ラジカル重合開始基である請求項１に記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項４】
請求項１に記載の化学結合が、チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とを反応させることで形成される請求項１〜３のいずれかに記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項５】
請求項１に記載の化学結合が、チタン酸塩（１）とアルコキシシリル基とを反応させることで形成される請求項１〜３のいずれかに記載のチタン酸塩化合物（Ａ）。
【請求項６】
チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（以下、化合物（２）と略す場合もある。）。
【請求項７】
チタン酸塩（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることで、チタン酸塩（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）を取得し、得られた化合物（２）とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることを特徴とする請求項１に記載のチタン酸塩化合物（Ａ）の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載のチタン酸塩化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【公開番号】特開２０１０−９０２７２（Ｐ２０１０−９０２７２Ａ）
【公開日】平成２２年４月２２日（２０１０．４．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２６１３９５（Ｐ２００８−２６１３９５）
【出願日】平成２０年１０月８日（２００８．１０．８）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月２２日（２０１０．４．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１０月８日（２００８．１０．８）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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