説明

マイクロリアクター及びその製造方法

【課題】 高い反応物流速が得られると共に、有効な触媒活性を有するマイクロリアクター及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 中空貫通孔を有し直径が10〜1000μmの範囲内にある筒状多孔質シリカであって、筒状体を構成する多孔質シリカのナノ細孔直径が、好ましくは2〜15nmの範囲内にあり、かつ、前記中空貫通孔の直径が0.1〜100μmの範囲内にあることを特徴とする筒状多孔質シリカに触媒金属を担持したマイクロリアクターである。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、新規なマイクロリアクター及びその製造方法に関する。詳しくは、特徴的な中空貫通孔及びナノ細孔を有する筒状多孔質シリカに触媒金属を担持することにより、高い反応物流速が得られると共に、有効な触媒活性を有するマイクロリアクター及びその製造方法を提供するものである。
【背景技術】
【0002】
物質の分離および合成等のマイクロ合成プロセスに組込んで使用されるマイクロリアクターは、従来、金属、ガラス、そしてシリコン等耐薬品性高分子の基板上にミクロンオーダーの微小な流路を形成し、該流路内壁に必要な表面化学修飾あるいは活性物質の固定化を施して構成されていた。例えば、触媒反応に係る微量合成の場合、ガラス基板に微小流路となる凹部を刻み、これにもう一枚のガラス基板を張り合わせて作成されることが多い。
【0003】
しかしながら、上記マイクロリアクターは、触媒層の均質な担持、流路設計、加工の複雑さ、圧力損失の増大等、改善余地が残されている。
【0004】
一方、キャピラリー内空間に、細孔直径0.1〜100μm程度のマクロ細孔よりなる三次元網目状に連続した貫通孔と、細孔径が数nmから数十nmのナノ細孔とを有する二元細孔シリカを形成したロッド状二元細孔溶融石英キャピラリーカラムが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
このロッド状の二元細孔シリカを内蔵したキャピラリーカラムは、マクロ細孔よりなる三次元網目状に連続した貫通孔とナノ細孔との二種類の細孔を有する二元細孔構造を有するものである。そして、かかる複雑なマクロ細孔構造と、これに連続するナノ細孔構造を利用して、ガスクロマトグラフや液クロマトグラフ用或いは固相抽出用のカラムとしての用途が示されている。
【0006】
しかし、前記文献には、本発明の対象とする、キャピラリーカラムに触媒金属を担持させマイクロリアクターとして使用する用途については、一切開示されてなく、また、前記三次元網目状に連続したマクロ細孔を有する前記キャピラリーカラムをマイクロリアクターとして使用した場合、複雑なマクロ細孔構造により、圧損が高く、高い反応物流速を達成し難く、これによる反応の高効率化及び高活性化を達成し得る高性能なマイクロリアクターを得ることが困難である。
【0007】
【特許文献1】特開平11−287791号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
従って、本発明の目的は、従来のマイクロリアクターに比べて、反応域と成る流路の形成が極めて容易で、しかも、高い反応物流速が得られると共に、有効な触媒活性を有する高性能なマイクロリアクターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねてきた結果、珪素源、水溶性高分子及び酸触媒よりなるゾル液を、内径10〜1000μmの微細径のキャピラリー中に充填した後、該ゾル液を特定の状態に相分離せしめ、その後、ゲル化を進行させることによって、上記キャピラリー中に、ナノ細孔を有するシリカを、キャピラリーの中心部分に中空貫通孔を有する状態で、得ることに成功した。そして、このような特殊な構造のシリカ(筒状多孔質シリカ)は、高い反応物流速を実現することが可能であり、また、ナノ細孔が存在する筒状多孔質シリカの内壁に触媒金属を担持せしめることによって、かかる流路内で有効な触媒活性を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。
【0010】
即ち、本発明は、ナノ細孔を有する多孔質シリカにより構成された、直径0.1〜100μmの中空貫通孔を有する筒状多孔質シリカの該中空貫通孔の少なくとも内壁表面に触媒金属を担持したことを特徴とすることを特徴とするマイクロリアクターである。
【0011】
上記本発明において、筒状多孔質シリカはキャピラリー内に形成されてなることが望ましい。
【0012】
また、本発明は、上記マイクロリアクターの製造方法として、内径10〜1000μmのキャピラリー内に、珪素源、水溶性高分子及び酸触媒を含むゾル液を充填した後、該ゾル液をキャピラリー中心部に珪素源の濃度が低減した相が形成されるように相分離せしめた後、ゲル化を完了させて筒状多孔質シリカを得、次いで、該筒状多孔質シリカに触媒金属化合物溶液を含浸せしめる製造方法、
及び
内径10〜1000μmのキャピラリー内に、触媒金属触媒を含有する珪素源、水溶性高分子及び酸触媒を含むゾル液を充填した後、該ゾル液をキャピラリー中心部に珪素源の濃度が低減した相が形成されるように相分離せしめた後、ゲル化を完了させる製造方法をも提供する。
【発明の効果】
【0013】
上記本発明のマイクロリアクターによれば、特徴的な中空貫通孔及びこれに連続するナノ細孔を有する構造を有する筒状多孔質シリカに触媒金属を担持することにより、前記中空貫通孔において高い反応物流速を達成することができ、また、該中空貫通孔の内壁に触媒を担持することで、高性能なマイクロリアクターを構成することが可能となる。
【0014】
また、マイクロリアクタープロセスの設計においては、従来のガラス板により流路を形成する方法に比べて、極めて簡易にリアクターを構成することができると共に、キャピラリーの長さの制御により触媒層との有効接触時間を自由に設計でき、しかも、キャピラリー形状のため反応温度制御が容易となるというメリットを有する。
【0015】
更に、本発明のマイクロリアクターは、筒状体であるため、異なる触媒金属を担持した複数のマイクロリアクターを直列に接続することにより、逐次反応、分離等、複数の機能を連続して発現すべくマイクロリアクターの集積化およびプロセス構成が可能となる。
【0016】
更にまた、同種の触媒金属を担持した複数のマイクロリアクターを並列に配置することにより、反応量をも調整することができる。
【0017】
従って、携帯用燃料電池、コンビナトリアルケミストリー用反応器等のマイクロリアクターを必要とする用途において、極めて有用な発明であるといえる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0018】
本発明のマイクロリアクターは、ナノ細孔を有する多孔質シリカにより構成され、直径0.1〜100μmの中空貫通孔を有する筒状多孔質シリカを触媒金属の担体として使用したことに最大の特徴を有する。
【0019】
上記筒状多孔質シリカの中空貫通孔は、反応物を含む流体の流路として機能すると共に、その内壁に存在するナノ細孔に触媒を担持しているため、良好な反応活性を得ることができる。
【0020】
また、この中空貫通孔は、従来の液相中空キャピラリーカラムや固相中空キャピラリーカラム等の中空キャピラリーカラムに比べて極めて細い径で形成されることが本発明の特徴であり、供給される流体中の原料と触媒の存在する内壁との接触を良好とする。
【0021】
本発明において、上記中空貫通孔の直径は、0.1〜100μmの範囲内にあり、望ましくは1〜50μmであり、更に望ましくは5〜50μmの範囲にある。即ち、中空貫通孔の直径が100μmより大きい場合、供給される流体中の原料のショートパス量が増加するなどして、触媒活性が低下するおそれがある。一方、前記中空貫通孔の直径が0.1μmよりも小さい場合は、流体の圧力損失が大きく、現実的ではない。
【0022】
本発明において、上述の中空貫通孔を形成する筒状多孔質シリカの外径は、特に制限されないが、後述の製造方法における、前記中空貫通孔の形成し易さから、直径10〜1000μm、特に、25〜200μmであることが望ましい。
【0023】
尚、本発明において、中空貫通孔の直径は、後述するように、筒状多孔質シリカの断面の電子顕微鏡観察像或いは後述する圧力損失評価法により求めることができる。
【0024】
また、本発明の筒状多孔質シリカの中空貫通孔の内壁には、これに連続する微細なナノ細孔が形成されており、このナノ細孔は、触媒機能を有する物質(触媒金属)を担持させて反応点或いは吸着点として作用する。
【0025】
従って、上記ナノ細孔の平均直径は、かかる機能を十分発揮するために、2〜15nmであることが好ましく、特に、2〜10nmが好ましい。即ち、ナノ細孔の平均直径が2nm以下の場合、或いは、15nmを超える場合は、触媒反応マイクロリアクターとして使用する場合に、多孔質シリカ層における反応物質の吸着能が低下し、触媒反応率が低下する傾向にある。
【0026】
尚、上記ナノ細孔の細孔径は、いわゆる窒素吸着法により測定することができる。詳細は、後述の実施例に示した通りである。
【0027】
また、本発明において、上記ナノ細孔の容積は、一般に、0.2〜1.5cc/g、望ましくは、0.3〜1.0cc/gが適当である。
【0028】
図1は、上記筒状多孔質シリカを用いた、本発明のマイクロリアクターの代表的な態様を示す概略図である。
【0029】
図に従って説明すれば、本発明のマイクロリアクターは、ナノ細孔を有する多孔質シリカ3により構成され、中空貫通孔2有する上記筒状多孔質シリカ1の中空貫通孔の内壁表面に金属触媒(図示せず)を担持してなる。
【0030】
本発明において、触媒金属は、多孔質シリカ3によって構成される中空貫通孔2の少なくとも内壁表面に担持される。かかる金属触媒の担持量は、触媒活性、反応の条件等によって異なり、一概に限定されないが、実験によって求めることができる金属触媒の最低量を下限に、また、ナノ細孔を閉塞しない量を上限として適宜決定することができる。また、金属触媒の存在厚みは、多孔質シリカによって構成される内壁の表面のみでもよいが、筒状多孔質シリカの厚みの10%以上の厚みで存在させることが好ましい。勿論、筒状多孔質シリカの全層に存在させることもできる。
【0031】
本発明のマイクロリアクターにおいて、金属触媒は、対象とする反応に対して、公知のものを特に制限なく使用することができる。代表的な金属触媒を例示すれば、白金、ロジウム、パラジウム等白金族元素、銅、ニッケルなどが挙げられる。
【0032】
また、図において、4はキャピラリーである。かかるキャピラリーは、筒状多孔質シリカを製造時に必要であり、これは筒状多孔質シリカを製造後除去してもよい。しかし、筒状多孔質シリカの取扱時、反応時の強度を維持するために、筒状多孔質シリカより除去せず、キャピラリーによって外面が被覆された構造として取扱うことが好ましい。上記キャピラリーの具体的な説明は、後述の筒状多孔質シリカの製造方法の説明において行う。
【0033】
本発明のマイクロリアクターは、直管状に形成された中空貫通孔を有しているため、従来のロッド状二元細孔溶融石英キャピラリーをかかる用途に使用した場合に比べて、抵抗が小さい上、各ロット毎の反応化学種の滞在時間のばらつきが著しく小さく、例えば、複数本を並列に使用する場合、それぞれのマイクロリアクター間での反応率の差などを軽減することもできる。
【0034】
本発明において、筒状多孔質シリカの断面形状及び中空貫通孔の断面形状は特段に制限されるものではないが、中空貫通孔の断面形状は円形が望ましく、筒状多孔質シリカの断面形状もこれに対応させて円形とすることが望ましい。このように対応させることで、断面上の周方向に沿って筒状多孔質シリカに一定の厚みを持たせることができ、反応の向上を図ることができる。
【0035】
尚、上述のとおり中空貫通孔の形状及び筒状多孔質シリカの断面は、用途に応じて様々選択が可能であって、例えば三角、四角若しくはそれ以上の多角形、又は楕円等も選択可能である。
【0036】
また、筒状多孔質シリカの長さは特に限定されないが、1mm〜50mの範囲内になることが望ましく、特に、リアクターにセッティングする場合は、5mm〜5m、好ましくは、0.5〜4mの範囲内にあることが望ましい。
【0037】
更に、筒状多孔質シリカの肉厚は特に制限されない。マイクロリアクターとしての用途において良好な触媒反応率を発現するためには、一般に0.5〜50μmの範囲内にあることが望ましく、特に望ましくは1〜30μmの範囲内である。
【0038】
(マイクロリアクターを構成する筒状多孔質シリカの製造方法)
以下、上記筒状多孔質シリカの製造方法について説明する。製造方法は上記筒状多孔質シリカを製造することができる限りにおいて特に限定されないが、代表的には次の方法で製造することができる。
【0039】
本実施形態に係る製造方法は、内径が10〜1000μmの範囲内にあるキャピラリーの中に、珪素源、水溶性高分子及び酸触媒を含むゾル液を充填した後、ゾル液をキャピラリー中心部に珪素源の濃度が低減した相が形成されるように相分離せしめると共に、ゲル化を進行させることにより好適に製造される。なおここで「キャピラリー中心部」とは、断面における中心部分をいい、例えぱ円形の断面である場合は円の中心点近傍が中心部となる。
【0040】
上記キャピラリーは、上述した所望の内径を有した管状で、内壁に親水性を有していることが望ましく、この条件を満たすものであれば、公知の材質を特に制限なく使用できる。例えば、溶融石英ガラス管、ソーダガラス管、内面を親水性とした樹脂管、金属管等を使用することができる。なお樹脂管を使用することにより、筒状多孔質シリカを製造した後、この樹脂管を熱分解により除去することでキャピラリーの無い筒状多孔質シリカを得ることが可能である。
【0041】
前記キャピラリーの内壁を親水性とするのは、これにゾル液を供給して相分離を進行させる際、キャピラリー中心部に珪素源の濃度が低減した相が形成されるようにするためである。即ち、ゾル液の組成のうち、親水性に富む珪素源を含む水相部分を管壁側に、珪素源の濃度が低い有機相を管の中心部に相分離させ、これにより中空貫通孔を形成することができる。
【0042】
ここで、キャピラリーの内壁に親水性を付与する方法としては公知の方法を採用することができる。例えば、溶融石英、ソーダガラスを材質として使用する場合、その内壁をアルカリ水溶液に晒して表面を親水性とすることが好適である。
【0043】
なおキャピラリーにゾル液を充填する方法も、特に制限を受けるものでなく、例えばキャピラリー内を減圧しゾル液を吸入させることにより内径の小さなキャピラリーへも充填させることができ好適である。
【0044】
本発明の製造方法において、ゾル液における珪素源としては、メトキシシラン、エトキシシラン等のケイ素アルコキシドや、水ガラスが好適に用いられる。水ガラスは、ケイ酸アルカリ塩の濃厚水溶液であり、その種類や濃度は特に限定されないが、JIS規格の水ガラスである珪酸ナトリウムJIS3号またはそれと同等のものが珪素源として取扱い易い。
【0045】
また、ゾル液における水溶性高分子とは、理論的には適当な濃度の溶液を形成することができる有機高分子であって、珪素源を含有する溶液中において均一に溶解することができるものが好適である。具体的には、高分子金属塩であるポリスチレンスルホン酸のナトリウム塩またはカリウム塩、高分子酸であって解離してポリアニオンとなるポリアクリル酸、高分子塩基であってポリカチオンを生ずるポリアクリルアミンまたはポリエチレンイミン、中性高分子であって主鎖に工一テル結合を持つポリエチレンオキシド、側鎖にヒドロキシル基を有するポリビニルアルコール、もしくはカルボニル基を有するポリビニルピロリドン等である。また特に、取扱いの観点からポリエチレングリコールがより望ましく、その分子量は1000〜100000の範囲内が望ましく、より望ましくは10000〜50000の範囲内である。
【0046】
また、本発明において、水溶性高分子は、ゾル液を相分離させるために添加されるが、相分離のための添加剤として、かかる水溶性高分子に代えて、界面活性剤を使用することも可能である。但し、この場合、アルコール、ケトン等の極性有機溶媒を併用することが、相分離を安定して行うことができ好ましい。
【0047】
本発明において、ゾル液における酸触媒は、加水分解反応の触媒として働きゲル化を促進するために添加されるものであって、通常硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸または有機酸が使用される。
【0048】
本発明において、ゾル液における珪酸源、水溶性高分子、酸触媒の割合は、シリカリッチ相を形成する相分離が可能であり、且つ、ゲル化が可能な組成であればよいが、一般には、珪酸源の濃度は、SiO換算で10〜200g/L、好ましくは、30〜150g/Lであり、水溶性高分子の濃度は、10〜200g/L、好ましくは、20〜60g/Lが適当である。また、最終的な酸の濃度は、最終溶液1Lあたり0.001〜5モルの範囲内であることが望ましく、より望ましくは、0.1〜5モル、更には、1〜4モルの範囲内である。
【0049】
前述のとおりキャピラリー内での相分離は、親水性に富む珪素源を含む水相部分が管壁側に、珪素源の濃度が低い有機相が管の中心部に相分離することによって行われるが、その後ゲル化を進行させ、湿潤ゲルを得る。このように相分離し、ゲル化が完了した後、有機相は焼成により除去することが可能であり、この有機相が除去された部分が中空貫通孔となる。
【0050】
上記ゲル化を進行させる代表的方法としては、相分離後のゾル液を0〜80℃の範囲内、より望ましくは20〜70℃の範囲内で10分〜1週間放置することが望ましく、より望ましくは上記いずれかの温度範囲内で1時間〜24時間の範囲内で放置することである。
【0051】
尚、ゲル化は一般に相分離の際に同時に進行するため、筒状多孔質シリカを得る際には、予め実験を行い、所望の前記中空貫通孔が相分離によって形成されるまでにゲル化が完了しないように、前記温度、放置する時間を決定することが好ましい。
【0052】
前述の筒状多孔質シリカの製造方法において、中空貫通孔の直径は、主として、使用するキャピラリーの内径、ゾル液中の珪素源の濃度、相分離の完了までの時間などによって調整することができる。
【0053】
上記のようにして得られたゲルは、30〜80℃の範囲内で数時間〜数十時間の範囲内で放置して乾燥させる。乾燥後、有機物を除去するために焼成するが、焼成温度の範囲としては100〜1100℃が望ましく、より望ましくは2000〜700℃の範囲内である。なお、珪素源として水ガラスを用いた場合は、製造された湿潤ゲルを乾燥させる前に洗浄することが極めて望ましい。これは、水ガラスからの湿潤ゲルをそのまま乾燥させると乾燥が進むにつれてゲルの崩壊が進むためである。従って、この場合乾燥の前に湿潤ゲル内のナトリウム等のアルカリ金属を除去するために洗浄を行い、アルカリ金属塩として取り除いておくことが極めて望ましい。
【0054】
上記方法により得た筒状多孔質シリカは、更に、塩基性水溶液中で熟成させることで細孔直径を制御することが極めて望ましい。熟成は0.01〜10規定のアルカリ溶液中で0〜80℃の温度で行うことが望ましいが、これら熟成条件は所望の細孔直径となるよう適宜選択することが可能である。
【0055】
本発明において、筒状多孔質シリカに触媒金属を担持してマイクロリアクターを得る方法は、特に制限されるものではないが、既に知られている種々の担持方法を適用することができる。例えば、前記筒状多孔質シリカの製造時、原料珪素源に予め触媒金属化合物を存在させる方法、触媒金属化合物を溶かした溶液を筒状多孔質シリカに含浸させる含浸法が好適に用いられる。
【0056】
上記触媒金属化合物としては、触媒金属、例えば、白金、ロジウム、パラジウム等白金族元素、および銅、ニッケル等の硝酸塩および塩化物等が挙げられる。
【0057】
前記方法のうち、筒状多孔質シリカの製造時、原料珪素源に予め触媒金属化合物を存在させる方法において、触媒金属化合物は珪酸源と共に水系で混合しておくことが好ましい。また、筒状多孔質シリカを得るための他の条件は、前述の方法が同様に適用される。
【0058】
一方、含浸法において、含浸のための溶液は、触媒金属化合物を溶媒に溶解した溶液の状態で筒状多孔質シリカに含浸させる方法が好ましい。かかる溶媒としては、例えば水、アルコール等の極性溶媒が用いられるが、特に水が好適である。
【0059】
また、必要に応じて前記該含浸法に用いる溶液にカルボン酸化合物を添加することもできる。
【0060】
カルボン酸化合物は特に限定されるものではないが、クエン酸、乳酸が好適に用いられ、特に乳酸を用いて製造される触媒金属触媒は、高い活性を示す。この理由は、明らかではないが、触媒を製造する際の乾燥工程において触媒金属の塩の結晶化による凝集の抑止、あるいは焼成時に有機物分解の急激な反応がないため触媒金属の凝集が抑制されることによるものと考えられる。
【0061】
該含浸法に用いる溶液における触媒金属化合物、溶媒の配合割合は特に限定されず所望の触媒金属担持量となるように適宜決定することができるが、沈殿物等を生じない均一な溶液を得ることが必要である。カルボン酸化合物を添加する場合、沈殿物等を生じない均一な溶液を得られること、及び触媒活性向上の観点から触媒金属化合物/カルボン酸化合物の量比はモル比で0.1〜5の範囲が好ましい。
【0062】
該筒状多孔質シリカに含浸法により触媒金属を担持するには、前述の溶液を二元細孔シリカに含浸させればよいが、担持効率を上げるために減圧下で脱気することもできる。また、低い触媒金属濃度を有する溶液を用いて、含浸と乾燥を複数回繰り返すこともできる。
【0063】
含浸後の筒状多孔質シリカは、化合物、溶媒等を細孔中に含むため、熱処理により溶媒揮発、有機物を分解すればよい。
【0064】
かかる熱処理は、通常300〜1,000℃の範囲であり、シリカの比表面積を低減しない500〜800℃の範囲が好ましい。熱処理時の雰囲気は、有機物分解を促進するため酸素ガス中あるいは空気中が好ましい。該熱処理により、触媒金属化合物は酸化され、触媒金属酸化物/SiOが得られる。
【0065】
本発明のマイクロリアクターの製造方法において、触媒金属を得るため、該触媒金属酸化物/SiOは水素気流下で熱処理されて触媒金属酸化物を触媒金属に還元する。上記水素気流下での熱処理における水素流量、熱処理温度は特に限定されず、該触媒金属酸化物/SiOの処理量等を勘案して適宜決定される。
【0066】
図2は、本発明のマイクロリアクターを組み込んだ簡単な反応装置の一例を示す。図2において、筒状多孔質シリカに触媒金属を担持したマイクロリアクター5は、必要に応じて、ヒーター8により加熱されると共に、1種以上の反応原料7がラインより供給される。反応原料は、マイクロリアクターの中空貫通孔にて反応後、ラインによりタンク6に戻され、その一部が製品9として取り出され、必要に応じて精製される。
【実施例】
【0067】
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明する。
【0068】
(銅担持量の測定)
筒状多孔質シリカの銅担持量は、エネルギー分散型蛍光X線分析法(島津製作所EDX−900HS)により、CuO含有量として測定した。
【0069】
(圧力損失評価)
筒状多孔質シリカの圧力損失評価は、中空貫通孔が形成された筒状多孔質シリカをキャピラリーから取り外すこと無く、20mmの長さに切断したものを測定試料とした。前記中空貫通孔に圧縮空気を流すことによる生じる中空貫通孔を通過前後の圧力差を差圧計により、また、通過後の圧縮空気の流量を流量計により測定した。
【0070】
測定した流量と単位長さ当たりの圧力損失をプロットし、Hargen−Poiseuilleの計算式により筒状多孔質シリカの中空貫通孔の直径を求めた。
【0071】
Hargen−Poiseuille式:△P/L=32μu/D
(μ:空気の粘度=1.81×10−5),u:流速,D:中空貫通孔の直径
u=Q/(π(D/2))であるから△P/L=(128μ/πD)・Qとあらわせ、流量と単位長さあたりの圧力損失のプロットから得られる傾きがこの式の中カッコであり、D=(128μ/π(傾き))1/4から中空貫通孔の直径Dが求まる。
【0072】
(細孔径分布の測定)
細孔径分布は、ASAP2000により得られた液体窒素温度(−195.78℃)での窒素の脱離等温線からDollimore−Heal法を用いて計算した。また、平均細孔径は、上記分布の平均値として求めた。
【0073】
尚、使用した試料の量は約0.02gであり、測定前に300℃で1時間真空乾燥処理をしてから用いた。また、比表面積は吸着等温線よりBET法を用いて計算し、細孔容積は0.95<P/Po<1.0での窒素の吸着量より求めた。
【0074】
(触媒活性評価)
本実施形態に係るマイクロリアクターの触媒性能を調べるためにFIDガスクロマトグラフィー(島津製作所社製、GC−14B)を用い、下記反応におけるプロパンへの転化率を測定した。
【0075】
+ H → C
※ FIDガスクロマトグラフィー(島津製作所社製、GC−14B)
・分離カラム J.Ceram.Soc.Japan,113(2005)634−636.に記載の方法と同様にして作製されたものを使用し、その長さは、プロパンとプロピレンの分離が可能な長さである2mとした。
【0076】
・キャリアガス H(20kPa)
・分離カラム温度 室温
ガスクロマトグラフィーの分析結果はパソコンによりモニターし、専用ソフト(Graph Analyzer)を用いて、ピーク面積、半値幅を求めた。また、FIDガスクロマトグラフィーにおいてピーク面積は専用のインテグレーター(島津社製C−R6A Chromatopac)により測定した。
プロパンへの転化率(%)=(消費プロピレン)/(供給プロピレン)×100
実施例1
市販の溶融石英キャピラリー(0.100mm(内径)×0.200mm(外径)、1m(長さ)、ジーエルサイエンス製)を用い、該キャピラリー内表面のSiOをSi−OHにするため、アスピレーターを用いて1NのNaOH水溶液を溶融石英キャピラリーの内部に入れ、50℃で1日熟成させた。
【0077】
その後内部を水で洗浄した。水12g、濃硝酸1.22gを入れその後、平均分子量20000のポリエチレングリコール(以下PEGと呼ぶ)1.0gを攪拌しながら加え溶かした。さらに該水溶液に硝酸銅三水和物0.48g(銅添加量はCuOとして5.2重量%)を加え溶かした。その後10gのテトラエトキシシラン(以下TEOSと呼ぶ)を加え、フタをして均一になるまで約10分間室温で攪拌した。
【0078】
得られた透明ゾルをアスピレーターで15分間吸引し気泡を取り除いた。気泡を取り除いたゾルをアスピレーターで溶融石英キャピラリー内に導入した。溶融石英キャピラリーの両末端をシリコン栓で、プラスチックケースをビニールテープで密閉し、温度50℃で24時間静置してゲル化させた。
【0079】
得られた湿潤ゲルをキャピラリー内に存在させたまま、50℃で1週間乾燥させた。上記乾燥後300℃で1時間焼成した。
【0080】
上記方法により得られた溶融石英キャピラリーの内壁には、多孔質シリカが約26μmの厚みで均一に存在し、筒状シリカを構成していることを電子顕微鏡で確認した。
【0081】
このようにして得られた、筒状多孔質シリカよりなるマイクロリアクターの圧力損失評価により求めた中空貫通孔の直径は、50μmであった。
【0082】
得られたマイクロリアクターの、空気流量5×10−2cm/sでの該圧力損失値は5MPa/mであり、従来の粒子充填タイプのキャピラリーや二元細孔シリカを充填したキャピラリーの圧力損失値レベルの20MPa/mよりも低圧力損失である。
また、多孔質シリカのナノ細孔は、窒素吸着法により測定したところ、比表面積695m/g、細孔容積0.40cm/gであり、これより、平均細孔直径が2.3nmであることを確認した。なお本実施例において作成されたマイクロリアクターの筒状多孔質シリカ断面を図3に示す。
また、得られたマイクロリアクターの筒状多孔質シリカの銅の担持量を蛍光X線分析により測定した結果、CuOとして6.0重量%であった。同様に、添加硝酸銅三水和物量0.96g(銅添加量はCuOとして9.9重量%)の場合、銅担持量は10.1重量%、添加硝酸銅三水和物量1.55g(銅添加量はCuOとして15.0重量%)の場合、銅担持量は15.0重量%、添加硝酸銅三水和物量2.19g(銅添加量はCuOとして19.9重量%)の場合、銅担持量は19.9重量%であった。
【0083】
また、元素分布表示電子顕微鏡の観察により、触媒を構成する銅元素が筒状多孔質シリカの全層に亘って存在することが確認された。これにより、キャピラリー内壁のシリカゲル層に銅がほぼ均一に導入されていることがわかる。
【0084】
作成した4種のマイクロリアクターを、予め水素により、水素流量30cm/min、300℃の温度で1時間還元した後、該マイクロリアクターをアダプターによりシリカゲルの分離カラムと接続し、水素をキャリアとし、FID−GCを用いて、反応温度を50℃から300℃まで変化させ、プロピレンの水素化によるプロパンへの転化率を測定した。
【0085】
上記反応において、銅担持量10.1%での主要な温度におけるクロマトグラムを図4〜9に示す。各銅担持量において、クロマトグラム測定結果から求められた転化率の反応温度依存性を図10に示す。いずれの銅担持量の場合も、転化率は反応温度があがるとともに増加し、銅担持量が15重量%以上であれば、反応温度150℃から200℃付近で転化率100%となる。これらの結果により、該マイクロリアクターの高い触媒活性を確認できた。
実施例2
実施例1と同じキャピラリーに同様な前処理を施し、その後キャピラリー内部を水で洗浄した。一方、容器に水12g、濃硝酸1.22gを入れその後、平均分子量20000のPEG1.0gを攪拌しながら加え溶かした。その後10gのTEOSを加え、フタをして均一になるまで約10分間室温で攪拌した。
【0086】
得られた透明ゾルをアスピレーターで15分間吸引し気泡を取り除いた。気泡を取り除いたゾルをアスピレーターで溶融石英キャピラリー内に導入した。溶融石英キャピラリーの両末端をシリコン栓で、プラスチックケースをビニールテープで密閉し、24時間50℃で静置してゲル化させた。
【0087】
得られた湿潤ゲルを50℃で1週間乾燥させた。マイクロリアクターに用いるキャピラリーは乾燥後300℃で8時間焼成した。溶融石英キャピラリー内壁にシリカゲル層が約24μmの厚みで均一に存在し、筒状シリカを構成していることを電子顕微鏡で確認した。
【0088】
このようにして得られた、筒状多孔質シリカよりなるマイクロリアクターの圧力損失評価により求めた中空貫通孔の直径は、50μmであった。
【0089】
多孔質シリカのナノ細孔は、窒素吸着法により測定したところ、比表面積703m/g、細孔容積0.40cm/gであり、これより、平均細孔直径が2.2nmであることを確認した。
【0090】
予め調製した、硝酸銅三水和物1.75g、水22.68g、硝酸銅三水和物と等モル量の乳酸0.65gからなる含浸溶液を、アスピレーターで15分間吸引し気泡を取り除いた。気泡を取り除いた該含浸溶液をアスピレーターで溶融石英キャピラリー内に導入した。この含浸操作を3回行った後、300℃で1時間焼成した。その後、水素流量30cm/min、温度300℃にて、水素還元処理を1時間行い、マイクロリアクターを作成した。
【0091】
得られたマイクロリアクターの筒状多孔質シリカの銅担持量を蛍光X線分析により測定した結果、CuOとして20.3重量%(銅添加量はCuOとして19.8重量%)であった。
【0092】
該マイクロリアクターをアダプターによりシリカゲルの分離カラムと接続し、水素をキャリアとし、FID−GCを用いて、反応温度200℃にてプロピレンの水素化によるプロパンへの転化率を測定した結果、転化率は100%であった。
【0093】
比較例1
実施例2において、触媒金属を担持しなかった以外は、同様にして、プロピレンの水素化によるプロパンへの転化率を測定した結果、転化率は0%であった。
【図面の簡単な説明】
【0094】
【図1】本発明にかかるマイクロリアクターの概略図
【図2】マイクロリアクターを使用したプロセスの概略図
【図3】マイクロリアクター断面の銅の分布を示す電子顕微鏡写真
【図4】銅担持量10.1%での温度60℃におけるプロピレンの水素化反応のクロマトグラム
【図5】銅担持量10.1%での温度80℃におけるプロピレンの水素化反応のクロマトグラム
【図6】銅担持量10.1%での温度100℃におけるプロピレンの水素化反応のクロマトグラム
【図7】銅担持量10.1%での温度150℃におけるプロピレンの水素化反応のクロマトグラム
【図8】銅担持量10.1%での温度200℃におけるプロピレンの水素化反応のクロマトグラム
【図9】銅担持量10.1%での温度300℃におけるプロピレンの水素化反応のクロマトグラム
【図10】各銅担持量についてのプロパンへの転化率の反応温度依存性
【符号の説明】
【0095】
1 筒状多孔質シリカ
2 中空貫通孔
3 多孔質シリカ
4 キャピラリー
5 マイクロリアクター
6 タンク
7 反応原料
8 ヒーター
9 製品

【特許請求の範囲】
【請求項1】
ナノ細孔を有する多孔質シリカにより構成された、直径0.1〜100μmの中空貫通孔を有する筒状多孔質シリカの該中空貫通孔の少なくとも内壁表面に触媒金属を担持したことを特徴とするマイクロリアクター。
【請求項2】
前記筒状多孔質シリカはキャピラリー内に形成されてなることを特徴とする請求項1記載のマイクロリアクター。
【請求項3】
内径10〜1000μmのキャピラリー内に、珪素源、水溶性高分子及び酸触媒を含むゾル液を充填した後、該ゾル液をキャピラリー中心部に珪素源の濃度が低減した相が形成されるように相分離せしめた後、ゲル化を完了させて筒状多孔質シリカを得、次いで、該筒状多孔質シリカに触媒金属化合物溶液を含浸せしめることを特徴とするマイクロリアクターの製造方法。
【請求項4】
内径10〜1000μmのキャピラリー内に、触媒金属触媒を含有する珪素源、水溶性高分子及び酸触媒を含むゾル液を充填した後、該ゾル液をキャピラリー中心部に珪素源の濃度が低減した相が形成されるように相分離せしめた後、ゲル化を完了させることを特徴とするマイクロリアクターの製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【公開番号】特開2007−90324(P2007−90324A)
【公開日】平成19年4月12日(2007.4.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−183227(P2006−183227)
【出願日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【出願人】(000003182)株式会社トクヤマ (839)
【出願人】(304021831)国立大学法人 千葉大学 (601)
【Fターム(参考)】