マイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ
【課題】 マイクロレンズ基板を生産性良く製造すること、マイクロレンズ基板を生産性良く製造するのに好適に用いることができる凸部付き部材製造用成形型を提供すること、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板を提供すること、また、当該マイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】 本発明の凸部付き部材製造用成形型６は、凸曲面を備えた凸レンズとしてのマイクロレンズを多数個有するマイクロレンズ基板の製造に用いる成形型であって、ロール形状をなすものであり、その周面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記マイクロレンズに対応する形状の凹部６１を有することを特徴とする。前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体である。また、凹部６１は、略楕円形状を有するものである。
【解決手段】 本発明の凸部付き部材製造用成形型６は、凸曲面を備えた凸レンズとしてのマイクロレンズを多数個有するマイクロレンズ基板の製造に用いる成形型であって、ロール形状をなすものであり、その周面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記マイクロレンズに対応する形状の凹部６１を有することを特徴とする。前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体である。また、凹部６１は、略楕円形状を有するものである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材の製造方法、凸部付き部材、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズが一般的に用いられている。このようなレンチキュラレンズを備えた従来のリア型プロジェクタでは、左右の視野角が大きいが、上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
【０００３】
このような問題を解決する目的で、光学的に凹または凸の回転対称な形状のマイクロレンズが形成されたマイクロレンズシートを用いる試みがあった（例えば、特許文献１参照）。
そして、上記のようなマイクロレンズシート（マイクロレンズ基板）は、従来、複数のマイクロレンズ形成用凹部を有する凹部付き基板に、未硬化の樹脂を供給し、平滑な透明基板を接合し、押圧・密着させ、その後、樹脂を硬化させるという、いわゆる２Ｐ法を用いて製造されていた（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
しかし、上記のような方法では、硬化した樹脂を凹部付き基板から離型させるのが困難であるという問題がある。また、このような問題は、製造すべきマイクロレンズ基板が大面積であるとより一層顕著なものとなり、大型のマイクロレンズ基板を製造する際の歩留りが著しく低下する。
また、製造すべきマイクロレンズ基板が大型のもの（例えば、対角線長が１４０ｃｍ以上の基板）である場合、上記のような問題がより一層顕著になるとともに、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き基板の大きさも大きくなり、マイクロレンズ基板の製造設備がさらに大型化するという問題があった。また、ホームシアター用モニター、ディスプレイ等の近年の急速な大型化に伴い、それに対応するように凹部付き基板の大型化も求められており、各サイズに対応する多数種の凹部付き基板を製造する必要があった。その結果、マイクロレンズ基板の低価格化を阻害するという問題を引き起こしていた。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１３１５０６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００３−２７９９４９号公報（段落番号０１６７〜０１７３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造すること、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造するのに好適に用いることができる凸部付き部材製造用成形型を提供すること、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を提供すること、また、当該マイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の凸部付き部材製造用成形型は、型押しすることで、凸曲面を備えた凸部を多数個有する凸部付き部材を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周表面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記凸部に対応する形状の凹部を有することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造するのに好適に用いることができる凸部付き部材製造用成形型を提供することができる。
【０００８】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体であることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型の製造時において、マスクに対して、凹部形成用の開口部を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング時における基材（ロール状基材）とマスクとの密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、凸部付き部材製造用成形型が有する凹部を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、凸部付き部材の凸部の形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【０００９】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部は、略楕円形状を有するものであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を、モアレ等の不都合等が特に発生し難く、かつ、視野角特性に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の生産性を優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の生産性を優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部の深さが、５〜２５０μｍであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）について、視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の生産時における、マイクロレンズ（凸部）の形状の欠陥の発生をより効果的に防止することができる。
【００１３】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものであることが好ましい。
これにより、各凹部について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の特性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部は、マイクロレンズ形成用凹部であることが好ましい。
これにより、例えば、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造される凸部付き部材を透過型スクリーン、リア型プロジェクタの構成部品（マイクロレンズ基板）として好適に用いることができる。
【００１５】
本発明の凸部付き部材の製造方法は、本発明の凸部付き部材製造用成形型を用いて凸部付き部材を製造することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を製造することができる。
【００１６】
本発明の凸部付き部材の製造方法では、主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記凸部付き部材製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を製造することができる。
【００１７】
本発明の凸部付き部材の製造方法では、板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を製造することができる。
【００１８】
本発明の凸部付き部材の製造方法では、押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上であることが好ましい。
これにより、成形型の周面形状をより確実に転写することができる。
本発明の凸部付き部材は、本発明の凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を提供することができる。
【００１９】
本発明の凸部付き部材は、本発明の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明の凸部付き部材を備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができるリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
また、本発明の凸部付き部材等の用途は、特に限定されないが、本実施形態では、主に、凸部付き部材を、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成するマイクロレンズ基板（凸レンズ基板）として用い、凸部付き部材製造用成形型を、上記マイクロレンズ基板の製造用の成形型として用いるものとして説明する。
まず、凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材製造用成形型を用いた凸部付き部材の製造方法の説明に先立ち、本発明の凸部付き部材（マイクロレンズ基板）および透過型スクリーンの構成について説明する。
【００２１】
図１は、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すマイクロレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００２２】
マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（凸部）２１を備えた基板本体２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光層）３とを備えている。また、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。
【００２３】
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００２４】
基板本体２を構成する樹脂材料は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．２〜１．９であるのが好ましく、１．３５〜１．７５であるのがより好ましく、１．４５〜１．６であるのがさらに好ましい。樹脂材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２５】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２７】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２８】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２９】
また、マイクロレンズ２１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「マイクロレンズ２１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００３０】
また、マイクロレンズ２１の高さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ２１の高さをＨ［μｍ］、マイクロレンズ２１の短軸方向の長さをＳ［μｍ］としたとき、０．９０≦Ｓ／Ｈ≦２．５０の関係を満足するのが好ましく、１．０≦Ｓ／Ｈ≦１．８の関係を満足するのが好ましく、１．２≦Ｓ／Ｈ≦１．６の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３１】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥格子状に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００３２】
上記のように、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３３】
上記のように、マイクロレンズ（凸部）の形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、ブラックマトリックス（遮光層）３に設けられた開口部３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。また、開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、開口部３１の面積を小さくすることができる。すなわち、マイクロレンズ基板１を平面視したときの、ブラックマトリックス３（開口部３１以外の領域）で覆われた面積の割合を大きくすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３４】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７〜９９．５％であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が９０％以上であると、マイクロレンズ２１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心（頂部の中心）２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００３５】
また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部２２が設けられている。着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【００３６】
特に、本実施形態において、着色部２２は、後に詳述するように、基板本体２に着色液（特に、組成に特徴を有する着色液）を付与することにより形成されたものである。より詳しく説明すると、着色部２２は、後に詳述するような着色液を基板本体２に付与することにより、着色剤が基板本体２（マイクロレンズ２１）の内部に含浸して形成されたものである。着色部２２がこのようにして形成されたものであると、基板本体上に着色層を積層（外付け）した場合に比べて、着色層の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。
【００３７】
また、着色部２２は、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのをより確実に防止することができる。
また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【００３８】
着色部２２の濃度は、特に限定されないが、分光透過率に基づいたＹ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜８５％であるのが好ましく、３５〜７０％であるのがより好ましく、３５〜７０％であるのがさらに好ましい。着色部２２の濃度が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、着色部２２の濃度が前記下限値未満であると、入射光の透過率が低下し、得られる画像において十分な輝度が得られず、結果として、画像のコントラストが不十分となる可能性がある。また、着色部２２の濃度が前記上限値を超えると、外光（光の入射側とは反対側から入射する外光）の反射を十分に防止することが困難となり、明室において光源を全消灯させた際の、黒表示の表面輝度の増加量（黒輝度）が大きくなるため、画像のコントラストを向上させるという効果が十分に得られない可能性がある。
【００３９】
着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４０】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、層状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
【００４１】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．０１〜５μｍであるのが好ましく、０．０１〜３μｍであるのがより好ましく、０．０３〜１μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４２】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４３】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
次に、上述したマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造に好適に用いることができる本発明の凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）、および、その製造方法について説明する。
【００４４】
図４は、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造に用いる凸部付き部材製造用成形型を示す模式的な斜視図、図５は、図４に示す凸部付き部材製造用成形型の縦断面図、図６は、図４、図５に示す凸部付き部材製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。なお、凸部付き部材製造用成形型の製造においては、実際には凸部付き部材製造用成形型の周面を構成する基材上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４５】
図４に示すように、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）６は、ロール形状をなしており、その周面に、多数個の凹部６１を有している。これらの凹部６１は、前述したマイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を構成するマイクロレンズ（凸部）２１に対応する形状を有し、かつ、これらのマイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式で配列している。すなわち、凹部６１は、通常、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の（マイクロレンズが凸部であるのに対し凹部であり、かつ、転写された形状、位置関係である以外は同一の）形状（寸法）、配列方式を有している。
【００４６】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）６を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４７】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４８】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（凸部付き部材製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４９】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（凸部付き部材製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５０】
また、凹部６１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「凹部６１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００５１】
また、凹部６１の深さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、凹部６１の深さをＤ［μｍ］、凹部６１の短軸方向の長さをＳ［μｍ］としたとき、０．０２≦Ｓ／Ｄ≦５０の関係を満足するのが好ましく、０．１≦Ｓ／Ｄ≦１．４０の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｓ／Ｄ≦１．０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５２】
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００５３】
また、本実施形態では、凹部６１の長軸方向が、凸部付き部材製造用成形型６の軸方向とほぼ同一である。これにより、後に詳述するようなマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２となるべき樹脂材料（凸部付き部材製造用成形型６の表面形状が転写された樹脂材料）と凸部付き部材製造用成形型６との剥離において、形成されたマイクロレンズ２１に欠陥が生じるのをより確実に防止することができる。凹部６１の長軸方向と凸部付き部材製造用成形型６の軸方向とのなす角は、０〜１０°であるのが好ましく、０〜７°であるのがより好ましく、０〜５°であるのがさらに好ましい。これにより、上記のような効果は更に顕著なものとして現れる。
【００５４】
また、上記のように、凹部６１は、凸部付き部材製造用成形型６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５５】
なお、上記の説明では、凹部６１が、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を構成する凸部（マイクロレンズ２１）と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１の基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する樹脂材料が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ（凸部）２１と、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）６を構成する凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５６】
また、凸部付き部材製造用成形型６の周面において、複数個の凹部６１は、凸部付き部材製造用成形型（ロール）６の軸６２を中心として螺旋状に配されていてもよい。凹部６１がこのように配されていると、マイクロレンズ基板１の製造において、上述したような配列パターンのマイクロレンズ２１を容易かつ確実に形成することができる。また、複数個の凹部６１が螺旋状に配されていると、凸部付き部材製造用成形型６の製造時（後述する初期孔形成工程）において、マスク８に対して、凹部形成用の初期孔（開口部）８１を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング工程における基材７とマスク８との密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、凸部付き部材製造用成形型６が有する凹部６１を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【００５７】
凸部付き部材製造用成形型６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、その周面部付近が、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、銀、金、鉛、マグネシウム、チタン、ジルコニア、タングステン、モリブデン、コバルト等の他、金属ステンレス、４２ニッケル−鉄合金、真鍮、ジュラルミン等の各種金属材料や、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラスで構成されたものであるのが好ましい。凸部付き部材製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、凸部付き部材製造用成形型６が有する凹部６１の形状、配列パターンをより精確に転写することができるとともに、凸部付き部材製造用成形型６の耐久性を優れたものとのすることができる。また、凸部付き部材製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、凸部付き部材製造用成形型６の製造時において、所望の形状、配列パターンの凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５８】
また、凸部付き部材製造用成形型６は、例えば、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、後述するような方法において、より容易に、所望の形状、配列パターンのマイクロレンズ２１を形成することができる。
次に、本発明の凸部付き部材製造用成形型の製造方法について、図６を参照しながら説明する。
まず、凸部付き部材製造用成形型６を製造するに際し、ロール状の基材７を用意する。
【００５９】
この基材７としては、略円柱状または略円筒状のものが好適に用いられる。また、基材７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
基材７の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００６０】
＜Ａ１＞図６（ａ）に示すように、用意した基材７の表面に、マスク８を形成する（マスキング工程）。
マスク８の構成材料は、特に限定されず、例えば、Ｃｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク８は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００６１】
上記のように、マスク８の構成は、特に限定されるものではないが、主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基材７をより確実に保護することができる）とともに、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができる。また、マスク８が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク８は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基材７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク８を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６２】
マスク８の形成方法は特に限定されないが、マスク８をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）で構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンで構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６３】
マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基材７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
【００６４】
＜Ａ２＞次に、図６（ｂ）に示すように、マスク８に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１を形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凸部付き部材製造用成形型を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８に開口部（初期孔８１）を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。より具体的には、例えば、ロール状の基材７を、その軸を中心に回転させ、かつ、レーザ光の照射方向を一軸方向に走査させつつ、レーザ光の照射を間欠的に行うことにより、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。その結果、凸部付き部材製造用成形型の生産性、マイクロレンズ基板１の生産性が向上する。
【００６５】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６６】
マスク８に初期孔８１を形成するとき、図６（ｂ）に示すように、マスク８だけでなく基材７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、凸部付き部材製造用成形型６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ２１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
【００６７】
本工程で形成する初期孔８１の形状、大きさは特に限定されないが、初期孔８１が略円形である場合、その直径は、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６８】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．９〜３０μｍであるのが好ましく、１．５〜１５μｍであるのがより好ましく、２．０〜６μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、形成されたマスク８に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基材７にマスク８を形成する際に、予め基材７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８を形成することでマスク８に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
【００６９】
＜Ａ３＞次に、図６（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基材７にエッチングを施し、基材７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
このように、本発明では、凹部の形成をエッチングにより行う。これにより、生産性の高い型形成が可能である。また、凹部の形成を、プレス、研削、研磨等のエッチング以外の方法で行った場合には、高価で欠陥が多く、また、ムラのある型形成になるという問題があるのに対して、本発明では、安価で欠陥の少なくムラの無い型形成が可能である。
【００７０】
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基材７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図６（ｃ）に示すように、基材７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基材７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状の配置であるため、形成される凹部６１は、基材７の表面に千鳥状に配置されたものとなる。
【００７１】
また、本実施形態では、工程＜Ａ２＞でマスク８に初期孔８１を形成した際に、基材７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基材７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００７２】
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
【００７３】
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凸部付き部材製造用成形型６を提供することができる。
また、エッチング工程は、マスク８が付された基材７を、その軸７１を中心に回転させつつ行うのが好ましい。これにより、各凹部６１について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板１の特性（特に、光学特性）を特に優れたものとすることができる。特に、エッチング工程をウェットエッチングにより行う場合、エッチング液の深さの違いによる圧力差（水圧差）により、エッチングの進行の度合いが各部位で異なるものとなりやすいが、基材７を回転させることにより、このような問題の発生も効果的に防止することができる。
【００７４】
また、エッチング工程において、基材７の回転（相対的な回転を含む）を行う場合、基材７の回転方向（相対的な回転方向）を、経時的に変化させるのが好ましい。すなわち、基材７の回転方向を反転させつつ、エッチングを行うのが好ましい。これにより、例えば、エッチング液の液流やエッチングガスのガス流による不均一なエッチングが進行するのをより確実に防止することができ、形成する凹部６１の形状をより好適なものとすることができる。
【００７５】
＜Ａ４＞次に、図６（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。
マスク８が、前述したような主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
以上により、図６（ｄ）および図４に示すように、基材７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凸部付き部材製造用成形型６が得られる。
【００７６】
基材７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成し、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基材７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８に所定パターンで開口部（初期孔８１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価に凸部付き部材製造用成形型６を提供することができる。また、本発明では、マイクロレンズ基板の製造に用いる凸部付き部材製造用成形型がロール形状であるため、フォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合、凹部（凹部に対応する開口部）を設計の形状通りに形成するのは極めて困難であるが、レーザ光の照射により行う場合、容易かつ確実に所望の形状、配列パターンの凹部（凹部に対応する開口部）を形成することができる。
【００７７】
なお、凸部付き部材製造用成形型６の周面には、離型剤等により、離型性を向上させるため等の処理が施されていてもよい。これにより、この凸部付き部材製造用成形型６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状、配置等をより確実に好適なものとすることができる。
次に、上述した凸部付き部材製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を製造する方法について説明する。
【００７８】
マイクロレンズ基板（凸部付き部材）は、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるものであるが、以下の実施形態では、特に、凸部付き部材製造用成形型を備えたマイクロレンズ基板製造装置（凸部付き部材製造装置）を用いて、マイクロレンズ基板を製造するものとして説明する。
図７は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図、図８、図９は、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図７中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
【００７９】
まず、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法を説明するに先立ち、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の構成の一例について説明する。
マイクロレンズ基板製造装置１００は、図７に示すように、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、上述したような凸部付き部材製造用成形型６とを有している。
【００８０】
基板搬送手段１１０は、基板４を搬送する機能を有している。図示の構成では、基板搬送手段１１０は、基板４をマイクロレンズ基板製造装置１００の左から右へ搬送するよう構成されている。
凸部付き部材製造用成形型６は、基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４を押圧して、その周面の形状を基板４に転写する機能を有している。
【００８１】
凸部付き部材製造用成形型６は、ロール形状をなしており、軸（回転軸）６２を中心に回転可能となっている。また、上述したように、凸部付き部材製造用成形型６は、マイクロレンズ２１に対応する形状を有する、複数の凹部６１を備えている。
また、凸部付き部材製造用成形型６は、軸６２を中心に回転可能なものである。凸部付き部材製造用成形型６は、搬送されてきた基板４により押圧され、基板４の移動（搬送）に伴って回転させられる（回転自在に保持された）構成のものであってもよいし、モータ等の図示しない駆動手段により回転するものであってもよい。このような駆動手段を有する場合、基板４の搬送速度等に応じて、凸部付き部材製造用成形型６の回転速度をより精確に制御することができる。その結果、好適な形状のマイクロレンズ２１をより確実に形成することができる。
【００８２】
また、このような凸部付き部材製造用成形型６は、搬送手段３０と所定距離だけ離間するように配置されている。通常、凸部付き部材製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離は、基板４の厚さよりも小さく（短く）なっている。
また、この凸部付き部材製造用成形型６は、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、基板４に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状を容易かつ確実に転写することができる。このような加熱手段としては、例えば、電熱線やカートリッジヒータ等が挙げられる。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置（凸部付き部材製造用成形型）を用いた、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法について説明する。
【００８３】
＜Ｂ１＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４を用意する。
基板４は、前述した基板本体２の構成材料に対応する材料で構成されたものである。また、基板４は、厚さが均一で、傷等のないものが好適に用いられる。基板４は、凸部付き部材製造用成形型６の押圧により変形可能なものであれば、いかなるものであってもよいが、凸部付き部材製造用成形型６の凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１を精確に形成するためには、主として、樹脂材料、特に熱可塑性樹脂で構成されたものであるのが好ましい。
【００８４】
基板４の平均厚さは、凸部付き部材製造用成形型６と基板搬送手段１１０とのギャップ（最短長さ）、基板４を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．００５〜５ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜４ｍｍ程度であるのがより好ましく、０．５〜３ｍｍ程度であるのがさらに好ましく、１〜３ｍｍ程度であるのがもっとも好ましい。
【００８５】
なお、基板４を構成する材料には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【００８６】
＜Ｂ２＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図８（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６との間に送り込まれる（図８（ｂ）参照）。これにより、基板４が凸部付き部材製造用成形型６により押圧される。また、基板４の搬送に伴って、凸部付き部材製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、凸部付き部材製造用成形型６による基板４の押圧部位が経時的に変化する（図８（ｃ）参照）。その結果、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状が基板４に転写される。その後、基板４の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図８（ｄ）参照）。基板４の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【００８７】
基板４が樹脂材料で構成されたものである場合、基板４を押圧する際の凸部付き部材製造用成形型６の温度は、基板４を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、基板４に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、凸部付き部材製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の基板４の温度や、基板４の構成材料によっては、基板４に対して凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
【００８８】
このように、本発明においては、ローラ状の凸部付き部材製造用成形型を用いるため、製造すべき凸部付き部材（マイクロレンズ基板）が大型のものであっても、容易かつ確実に製造することができ、また、製造される凸部付き部材の特性（特に光学特性）を優れたものとすることができる。また、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）を連続して製造することができ、凸部付き部材の生産性が向上する。また、製造すべき凸部付き部材（マイクロレンズ基板）に対して、凸部付き部材製造用成形型の大きさを十分に小さいものとすることができるとともに、凸部付き部材製造用成形型の大きさ（特に、径）が比較的小さいものであっても、様々な大きさの凸部付き部材の製造に適用することができる。したがって、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）の製造コストの低減に大きく寄与することができる。
【００８９】
また、基板４がシート状、フィルム状、可撓性を有する板状等のものである場合、例えば、基板４をローラ等の基板供給部に巻きつけておき、基板搬送手段１１０による基板４の搬送に伴い、基板４を基板供給部から引き出すような構成にすることにより、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）の生産性の更なる向上（製造設備の省スペース化）を図ることができる。また、このような場合、例えば、製造された凸部付き部材（マイクロレンズ基板）を、ローラ等の凸部付き部材回収手段に巻き取ることにより回収してもよい。
【００９０】
＜Ｂ３＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス３を形成する。
まず、図９（ａ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー３２を付与する。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００９１】
＜Ｂ４＞次に、図９（ｂ）に示すように、基板本体２に、入射側表面に対して垂直方向の露光用光Ｌｂを照射する。照射された露光用光Ｌｂは各マイクロレンズ２１を通過することによって集光する。これにより、マイクロレンズ２１の焦点ｆ近傍の（集光された光が入射した部位の）フォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２のみが感光する。
【００９２】
その後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、感光した焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図９（ｃ）に示すように、マイクロレンズ２１の光軸Ｌに対応する部分に開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【００９３】
このように、本実施形態の製造方法では、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた露光用光を照射することにより、ブラックマトリックスを形成するので、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
また、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００９４】
＜Ｂ５＞その後、ブラックマトリックス３が形成された基板本体２に対して着色液を付与することにより、着色部２２を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（図９（ｄ）参照）。
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の着色を容易かつ確実に行うことができることを、本発明者は見出した。特に、アクリル系樹脂のように、従来、着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００９５】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールと着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。
【００９６】
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な厚さの着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板本体（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、均一な厚さで（色ムラなく）着色部を形成することができる。
【００９７】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特に、均一な厚さの着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、浸染に用いることができる染料が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）との親和性が高いためであると考えられる。
【００９８】
着色液を付与する工程は、着色液および／または基板本体２を、６０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。
【００９９】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【０１００】
以下、本工程で用いる着色液について、より詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０１】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。
【０１０２】
前述したように、本実施形態で用いる着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであるが、さらに、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものであるのが好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、さらに効率良く着色部を形成することができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【０１０３】
すなわち、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを含む着色液（以下、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンジルアルコールを総称して、「添加物」ともいう）を用いることにより、着色液中の添加物が基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、添加物と着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、これらが相補的に作用し合い、着色液による着色を良好なものとするためであると考えられる。
【０１０４】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、ベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０５】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０６】
着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０７】
また、着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０８】
また、着色液は、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【０１０９】
次に、上述した凸部付き部材製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を製造する方法の他の実施形態について説明する。
図１０は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図、図１１は、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【０１１０】
以下の説明では、主に、前述した実施形態との相違点について説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図１０に示すように、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、流動性を有する樹脂材料（流動性樹脂材料）９を供給する流動性樹脂供給部１２０と、凸部付き部材製造用成形型６とを有している。すなわち、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、流動性樹脂供給部１２０を有する点において、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００と異なっている。流動性樹脂供給部１２０を有することにより、基板４の温度を比較的低い温度に維持しつつ、凸部付き部材製造用成形型６の周面形状を転写することができる。その結果、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、好適な形状、配置のマイクロレンズ２１を備えたマイクロレンズ基板１を容易かつ確実に得ることができる。
【０１１１】
流動性樹脂供給部１２０は、供給される樹脂材料９が基板４のほぼ全面（マイクロレンズ基板１の有効レンズ領域に対応する部分）に付与されるように構成されている。
そして、本実施形態においては、基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６とのギャップ（凸部付き部材製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離）は、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００でのギャップより大きく設定されている。基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６とのギャップは、特に限定されないが、通常、基板４の厚さより大きく設定されている。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置１００’を用いた、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法について説明する。
【０１１２】
＜Ｂ１’＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４、樹脂材料９を用意する。
基板４は、前述した実施形態と同様のものを好適に用いることができるが、樹脂材料９により形成される部位の厚さを考慮して、前述したものに比べてやや薄いものを用いてもよい。
また、樹脂材料９としては、比較的低い温度で流動性を維持できる材料を用いるのが好ましい。
【０１１３】
樹脂材料９のガラス転移点は、１５〜２００℃であるのが好ましく、２０〜１５０℃であるのがより好ましく、２４〜１３０℃であるのがさらに好ましい。樹脂材料９のガラス転移点が前記範囲内の値であると、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、樹脂材料９に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。
なお、樹脂材料９には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【０１１４】
＜Ｂ２’＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図１１（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６との間に送り込まれる。この際、流動性樹脂供給部１２０から、基板４と凸部付き部材製造用成形型６との間に、樹脂材料９が供給される（図１１（ｂ）参照）。これにより、樹脂材料９が凸部付き部材製造用成形型６および基板４により押圧される。ここで、樹脂材料９は適度に流動性を有する（軟化した）状態のものなので、凸部付き部材製造用成形型６の表面形状に対応するように変形する。また、基板４の搬送に伴って、凸部付き部材製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、凸部付き部材製造用成形型６による樹脂材料９の押圧部位が経時的に変化する（図１１（ｃ）参照）。その結果、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状が転写された樹脂材料９が、順次、基板４上に接合されることとなる。その後、樹脂材料９の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図１１（ｄ）参照）。樹脂材料９の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【０１１５】
樹脂材料９を押圧する際の凸部付き部材製造用成形型６の温度は、樹脂材料９を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、樹脂材料９に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、凸部付き部材製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の樹脂材料９の温度や、樹脂材料９の構成材料によっては、樹脂材料９に対して凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
なお、図示の構成では、樹脂材料９は、凸部付き部材製造用成形型６の近傍で、基板４上に供給されるようになっているが、樹脂材料９が供給される部位はこれに限定されるものではない。例えば、樹脂材料９は、基板４上ではなく、凸部付き部材製造用成形型６上に供給されるものであってもよい。
【０１１６】
上記のようにして得られた基板本体２に対して、前述した実施形態と同様にしてブラックマトリックス３、着色部２２を形成することにより（上記＜Ｂ３＞〜＜Ｂ５＞および図９参照）、マイクロレンズ基板１を得ることができる。
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１２は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【０１１７】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えている。このため、リア型プロジェクタ３００を大型でかつ高品質のものとすることができる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１１８】
以上、本発明の凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材の製造方法、凸部付き部材、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。例えば、本発明の透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板の出射面側に、光拡散板や他のレンズ等がさらに配されたものであってもよい。
【０１１９】
また、本発明の凸部付き部材の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、凸部付き部材製造用成形型の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基材７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギー強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。
【０１２０】
また、前述した実施形態では、ロール状の基材に対して、直接エッチングを施すことにより、周面に凹部を形成するものとして説明したが、例えば、エッチングにより形成された凹部を有するシート材を、ロール状の基材の周面に巻き付けること等により製造されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）が、着色部、ブラックマトリックスを有するものとして説明したが、このような構成はなくてもよい。
【０１２１】
また、前述した実施形態では、基板にマイクロレンズ（凸部）を形成した後に、ブラックマトリックスを形成するものとして説明したが、例えば、基板のマイクロレンズ（凸部）を形成すべき面とは反対側の面に、予めフォトポリマーを付与しておいた状態で、マイクロレンズを形成してもよい。
また、前述した実施形態では、凸部付き部材製造用成形型を用いて、凸部付き部材としてのマイクロレンズ基板を製造するものとして説明したが、例えば、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造される部材を凹部付き部材製造用成形型として用いてもよい。言い換えると、凸部付き部材製造用成形型の表面形状を転写することにより表面付近に凸部を有する部材（凹部付き部材製造用成形型）を製造し、この部材を用いて、表面付近に凹部を有する部材を製造してもよい。これにより、例えば、凹レンズとしてのマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板等を好適に製造することができる。なお、このような場合、凹部付き部材製造用成形型は、板状のものであってもよいし、ロール状のものであってもよい。
【０１２２】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明の凸部付き部材（マイクロレンズ基板）のみで構成されたものであってもよい。
【０１２３】
また、前述した実施形態では、凸部付き部材は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として説明したが、本発明の凸部付き部材の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明の凸部付き部材は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１２４】
［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）を製造した。
まず、基材として、直径３５ｃｍ×幅（高さ）１６５ｍの円柱状（ロール状）のソーダガラス基材を用意した。
【０１２５】
このソーダガラス基材を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基材の周面上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基材の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクを形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０３μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１２６】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、その全体に均等に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径２.０μｍ、主走査方向における走査速度１００ｍｍ／秒という条件で、間欠的にレーザ光を照射することにより行った。また、レーザ光の照射は、ロール状のソーダガラス基材の周面の端部付近から、幅（長さ）方向についての走査（主走査）を、他端付近まで行い、その後、ロール状のソーダガラス基材を所定角度回転させ、さらに、前記と同様な走査（主走査）を繰り返すことにより行った。
【０１２７】
これにより、マスクのほぼ全面に亘って、ソーダガラス基材の幅方向に、所定の大きさを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンが形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
また、この際、ソーダガラス基材の表面に深さ０．０５μｍの凹部および変質層も形成した。
【０１２８】
次に、ソーダガラス基材にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基材上に多数の平面視したときの形状が略楕円形状（扁平形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（直径）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３７.５μｍ、深さは３６．５μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９７％であった。
【０１２９】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２時間とした。また、ウェットエッチングは、エッチング液中において、ソーダガラス基材を、その軸を中心に回転させつつ行った。また、ソーダガラス基材の回転方向は、ソーダガラス基材が３．５回転する毎に反転するようにした。
【０１３０】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクを除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、図４に示すような、ソーダガラス基材上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凸部付き部材製造用成形型を得た。得られた凸部付き部材製造用成形型の凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合（占有率）が９７％であった。
【０１３１】
上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型においては、凹部の長軸方向と凸部付き部材製造用成形型の軸方向とのなす角が０°であった。
次に、上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型を用いて、図７に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
次に、基板本体形成用の母材としての基板を用意した。当該基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×１．１ｍ、厚さ２ｍｍのシート状部材を用意した。
次に、上記のような基板をマイクロレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置した。
【０１３２】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により２００℃に加熱された。その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、凸部付き部材製造用成形型により、搬送されてきた基板に、凸部付き部材製造用成形型の表面形状を転写した。この際、凸部付き部材製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３３】
その後、冷却することで、樹脂材料を固化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５０であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは１．０９５ｍｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３６.０μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１３４】
その後、基板本体に対して、浸染により着色液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、かつ、ロール状の凸部付き部材製造用成形型で押圧された面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、９０℃に調整した。また、着色液付与時には、雰囲気の圧力が１２０ｋＰａとなるように加圧した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：１０重量部、界面活性剤：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。
【０１３５】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを２０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分に水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５％であった。
また、上記の凸部付き部材製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１３６】
（実施例２）
まず、前記実施例１と同様にして凸部付き部材製造用成形型を製造した。
次に、この凸部付き部材製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型を用いて、図１０に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
【０１３７】
次に、基板本体形成用の母材としての基板、および流動性を有する樹脂材料を用意した。前記基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×縦１．１ｍ、厚さ０．１ｍｍのシート状部材を用意した。また、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１１０℃）を用意した。
次に、前記基板をマイクレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置し、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）を流動性樹脂供給部に接続された樹脂貯留部に貯留した。
【０１３８】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により１８０℃に加熱された。また、樹脂貯留部に貯留された樹脂材料は、加熱手段により１９０℃に加熱された。
その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、流動性樹脂供給部から、搬送されてきた基板上に樹脂材料を供給した。樹脂材料が付与された基板は、基板搬送手段と凸部付き部材製造用成形型との間に導入され、この領域において、基板上の樹脂材料に、凸部付き部材製造用成形型の表面形状を転写した。この際、凸部付き部材製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３９】
その後、凸部付き部材製造用成形型の表面形状が転写された樹脂材料に紫外線を照射することにより、基板上の樹脂材料を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．６２であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは０．０５μｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３５．５μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１４０】
次に、上記のようにして得られた基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
【０１４１】
次に、フォトポリマーが付与された面とは反対の面側から、８０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。これにより、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、各マイクロレンズの焦点ｆ（ブラックマトリックスの厚さ方向の中心付近）近傍のフォトポリマーを選択的に露光した。
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
【０１４２】
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。形成されたブラックマトリックスの厚さは５μｍであった。
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材としてのシリカ粒子が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。
また、上記の凸部付き部材製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１４３】
（実施例３、４）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４４】
（実施例５、６）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４５】
（実施例７）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４６】
（実施例８）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４７】
（比較例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた平板状の凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）を製造した。
まず、基板として、横１．７ｍ×縦１．１ｍ角、厚さ２．０ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
【０１４８】
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクおよび裏面保護膜を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
【０１４９】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１．６５ｃｍ×１．０５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、格子状（正方格子状）に配されたパターンが形成された。初期孔の平均。幅は２．０μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
【０１５０】
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．００５μｍの凹部および変質層も形成した。
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が円形状の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の直径は１００μｍ、曲率半径は６０μｍ、深さは４８μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
【０１５１】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．５時間とした。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が格子状（正方格子状）に配列された凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
【０１５２】
次に、上記のようにして得られた凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）のアクリル樹脂を付与した。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
【０１５３】
その後、紫外線を照射することにより、アクリル樹脂を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは２．０μｍであった。また、円形状のマイクロレンズは、その直径が１００μｍ、曲率半径が５０μｍ、高さが４７μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。
次に、基板本体から、平板、凹部付き基板を取り外した。この際、平板の除去は容易に行うことができたが、凹部付き基板の除去は極めて困難であった。十分慎重に凹部付き基板の除去を試みたが、形成されたマイクロレンズにカケ等の欠陥を生じてしまった。
【０１５４】
次に、上記のようにして得られた基板本体に対して、前記実施例１と同様にして、着色部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５５％であった。
また、上記の凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１５５】
（比較例２）
基板本体に対して、着色部を形成しなかった以外は、前記比較例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例について、凸部付き部材製造用成形型を製造する際に用いたマスクの構成、レーザ光の照射により形成された初期孔の形状、製造された凸部付き部材製造用成形型が有する凹部の形状、配列パターン、製造されたマイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの形状、配列パターン、マイクロレンズ基板（基板本体）の生産性等を表１にまとめて示す。
【０１５６】
【表１】
【０１５７】
表１から明らかなように、本発明では、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができたのに対し、比較例では、マイクロレンズ基板の生産性が著しく悪かった。より詳しく説明すると、本発明では、凸部付き部材製造用成形型から基板本体（マイクロレンズ基板）を剥離する操作を容易かつ確実に行うことができたのに対し、比較例では、凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）からの基板本体の剥離が困難であり、剥離には、本発明に比べて大きな力が必要であった。
【０１５８】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図１２に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［凹部付き部材の耐久性評価］
前記各実施例および各比較例の凸部付き部材製造用成形型について、５００枚のマイクロレンズ基板の製造を行った後の（基板本体の剥離を５００回繰り返し行った後の）凸部付き部材製造用成形型について、凹部が形成された面を、顕微鏡を用いて観察した。凸部付き部材製造用成形型表面の凹凸パターンの状態について以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：凹凸パターンの欠けが全く認められない。
○：凹凸パターンの欠けがほとんど認められない。
△：凹凸パターンの欠けがわずかに認められる。
×：凹凸パターンの欠けが顕著に認められる。
【０１５９】
［ドット抜け等の評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、ドット抜け、明るさのムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ドット抜け、明るさのムラが全く認められない。
○：ドット抜け、明るさのムラがほとんど認められない。
△：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１６０】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１６１】
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が５ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１６２】
ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストについて、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが５００以上。
○：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが４００以上５００未満。
△：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００以上４００未満。
×：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００未満。
【０１６３】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１６４】
【表２】
【０１６５】
表２から明らかなように、本発明では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った後でも、凸部付き部材製造用成形型において凹凸パターンの欠陥は認められなかった。また、本発明では、ドット抜け、明るさのムラ、回折光、モアレ、色ムラ等のない優れた画質の画像が得られた。また、本発明では、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。特に、凸部付き部材製造用成形型を繰り返し使用した後に製造されたマイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタにおいても、優れた結果が得られた。
【０１６６】
これに対し、比較例では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）では凹凸パターンの破壊がみられ、得られた基板本体（マイクロレンズ基板）を用いて製造された透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタでも満足な結果が得られなかった。これは、凹部付き基板において、カケ等の凹凸パターンの欠陥が発生することにより、製造されたマイクロレンズ基板においても、所望の形状のマイクロレンズを形成することができなかったり、基板本体を凹部付き基板から剥離する際に、マイクロレンズにカケ等の欠陥が生じてしまったためであると考えられる。
【０１６７】
また、凸部付き部材製造用成形型からの転写方法として、加熱して柔らかくした樹脂に型を押し付け冷却する、熱プレス転写法（押し出し成形含む）、モノマ樹脂を反応重合させ固める注型重合方法（キャステング法）、樹脂を光硬化させる２Ｐ法等の方法を用いた以外は、前記各実施例、前記各比較例と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを製造し、前記と同様な評価を行ったところ、前記と同様な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１６８】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明の凸部付き部材製造用成形型を示す模式的な斜視図である。
【図５】図４に示す凸部付き部材製造用成形型の縦断面図である。
【図６】図４、図５に示す凸部付き部材製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１６９】
１…マイクロレンズ基板（凸部付き部材） ２…基板本体 ２１…マイクロレンズ（凸部） ２２…着色部（外光吸収部） ２５…第１の行 ２６…第２の行 ３…ブラックマトリックス（遮光層） ３０…搬送手段 ３１…開口部 ３２…フォトポリマー ４…基板 ５…フレネルレンズ部 ５１…フレネルレンズ ６…凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型） ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部） ６２…軸（回転軸） ７…基材 ７１…初期凹部 ８…マスク ８１…初期孔（開口部） ９…樹脂材料（流動性樹脂材料） １０…透過型スクリーン １００、１００’…マイクロレンズ基板製造装置（凸部付き部材製造装置） １１０…基板搬送手段 １２０…流動性樹脂供給部 ３００…リア型プロジェクタ ３１０…投写光学ユニット ３２０…導光ミラー ３４０…筐体
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズが一般的に用いられている。このようなレンチキュラレンズを備えた従来のリア型プロジェクタでは、左右の視野角が大きいが、上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
【０００３】
このような問題を解決する目的で、光学的に凹または凸の回転対称な形状のマイクロレンズが形成されたマイクロレンズシートを用いる試みがあった（例えば、特許文献１参照）。
そして、上記のようなマイクロレンズシート（マイクロレンズ基板）は、従来、複数のマイクロレンズ形成用凹部を有する凹部付き基板に、未硬化の樹脂を供給し、平滑な透明基板を接合し、押圧・密着させ、その後、樹脂を硬化させるという、いわゆる２Ｐ法を用いて製造されていた（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
しかし、上記のような方法では、硬化した樹脂を凹部付き基板から離型させるのが困難であるという問題がある。また、このような問題は、製造すべきマイクロレンズ基板が大面積であるとより一層顕著なものとなり、大型のマイクロレンズ基板を製造する際の歩留りが著しく低下する。
また、製造すべきマイクロレンズ基板が大型のもの（例えば、対角線長が１４０ｃｍ以上の基板）である場合、上記のような問題がより一層顕著になるとともに、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き基板の大きさも大きくなり、マイクロレンズ基板の製造設備がさらに大型化するという問題があった。また、ホームシアター用モニター、ディスプレイ等の近年の急速な大型化に伴い、それに対応するように凹部付き基板の大型化も求められており、各サイズに対応する多数種の凹部付き基板を製造する必要があった。その結果、マイクロレンズ基板の低価格化を阻害するという問題を引き起こしていた。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１３１５０６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００３−２７９９４９号公報（段落番号０１６７〜０１７３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、マイクロレンズ基板を生産性良く製造すること、マイクロレンズ基板を生産性良く製造するのに好適に用いることができるマイクロレンズ基板製造用成形型を提供すること、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板を提供すること、また、当該マイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型は、型押しすることで、凸曲面を備えたマイクロレンズを多数個有するマイクロレンズ基板を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記マイクロレンズに対応する形状の凹部を有することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造するのに好適に用いることができるマイクロレンズ基板製造用成形型を提供することができる。
【０００８】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体であることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の製造時において、マスクに対して、凹部形成用の開口部を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング時における基材（ロール状基材）とマスクとの密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、マイクロレンズ基板製造用成形型が有する凹部を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、マイクロレンズ基板のマイクロレンズの形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【０００９】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部は、略楕円形状を有するものであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板を、モアレ等の不都合等が特に発生し難く、かつ、視野角特性に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板の生産性を優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板の生産性を優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部の深さが、５〜２５０μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板について、視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板の生産時における、マイクロレンズの形状の欠陥の発生をより効果的に防止することができる。
【００１３】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものであることが好ましい。
これにより、各凹部について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板の特性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法は、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いてマイクロレンズ基板を製造することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００１５】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記マイクロレンズ基板製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００１６】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００１７】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上であることが好ましい。
これにより、成形型の周面形状をより確実に転写することができる。
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板を提供することができる。
【００１８】
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができるリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
また、本発明のマイクロレンズ基板等の用途は、特に限定されないが、本実施形態では、主に、マイクロレンズ基板を、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する凸レンズ基板として用いるものとして説明する。
まず、マイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いたマイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、本発明のマイクロレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
【００２０】
図１は、本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すマイクロレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００２１】
マイクロレンズ基板１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ２１を備えた基板本体２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光層）３とを備えている。また、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。
【００２２】
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００２３】
基板本体２を構成する樹脂材料は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．２〜１．９であるのが好ましく、１．３５〜１．７５であるのがより好ましく、１．４５〜１．６であるのがさらに好ましい。樹脂材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２４】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２５】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２７】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２８】
また、マイクロレンズ２１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「マイクロレンズ２１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２９】
また、マイクロレンズ２１の高さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ２１の高さをＨ［μｍ］、マイクロレンズ２１の短軸方向の長さをＬ１［μｍ］としたとき、０．９０≦Ｌ１／Ｈ≦２．５０の関係を満足するのが好ましく、１．０≦Ｌ１／Ｈ≦１．８の関係を満足するのが好ましく、１．２≦Ｌ１／Ｈ≦１．６の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３０】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥格子状に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００３１】
上記のように、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３２】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、ブラックマトリックス（遮光層）３に設けられた開口部３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。また、開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、開口部３１の面積を小さくすることができる。すなわち、マイクロレンズ基板１を平面視したときの、ブラックマトリックス３（開口部３１以外の領域）で覆われた面積の割合を大きくすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３３】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７〜９９．５％であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が９０％以上であると、マイクロレンズ２１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心（頂部の中心）２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００３４】
また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部２２が設けられている。着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【００３５】
特に、本実施形態において、着色部２２は、後に詳述するように、基板本体２に着色液（特に、組成に特徴を有する着色液）を付与することにより形成されたものである。より詳しく説明すると、着色部２２は、後に詳述するような着色液を基板本体２に付与することにより、着色剤が基板本体２（マイクロレンズ２１）の内部に含浸して形成されたものである。着色部２２がこのようにして形成されたものであると、基板本体上に着色層を積層（外付け）した場合に比べて、着色層の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。
【００３６】
また、着色部２２は、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのをより確実に防止することができる。
また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【００３７】
着色部２２の濃度は、特に限定されないが、分光透過率に基づいたＹ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜８５％であるのが好ましく、３５〜７０％であるのがより好ましく、３５〜７０％であるのがさらに好ましい。着色部２２の濃度が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、着色部２２の濃度が前記下限値未満であると、入射光の透過率が低下し、得られる画像において十分な輝度が得られず、結果として、画像のコントラストが不十分となる可能性がある。また、着色部２２の濃度が前記上限値を超えると、外光（光の入射側とは反対側から入射する外光）の反射を十分に防止することが困難となり、明室において光源を全消灯させた際の、黒表示の表面輝度の増加量（黒輝度）が大きくなるため、画像のコントラストを向上させるという効果が十分に得られない可能性がある。
【００３８】
着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３９】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、層状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
【００４０】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．０１〜５μｍであるのが好ましく、０．０１〜３μｍであるのがより好ましく、０．０３〜１μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４１】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４２】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
次に、上述したマイクロレンズ基板の製造に好適に用いることができる本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型、および、その製造方法について説明する。
【００４３】
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ基板製造用成形型を示す模式的な斜視図、図５は、図４に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の縦断面図、図６は、図４、図５に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。なお、マイクロレンズ基板製造用成形型の製造においては、実際にはマイクロレンズ基板製造用成形型の周面を構成する基材上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４４】
図４に示すように、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、ロール形状をなしており、その周面に、多数個の凹部６１を有している。これらの凹部６１は、前述したマイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ２１に対応する形状を有し、かつ、これらのマイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式で配列している。すなわち、凹部６１は、通常、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の（マイクロレンズが凸部であるのに対し凹部であり、かつ、転写された形状、位置関係である以外は同一の）形状（寸法）、配列方式を有している。
【００４５】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、マイクロレンズ基板製造用成形型６を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４６】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４７】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（マイクロレンズ基板製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４８】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（マイクロレンズ基板製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４９】
また、凹部６１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「凹部６１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００５０】
また、凹部６１の深さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００５１】
また、本実施形態では、凹部６１の長軸方向が、マイクロレンズ基板製造用成形型６の軸方向とほぼ同一である。これにより、後に詳述するようなマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２となるべき樹脂材料（マイクロレンズ基板製造用成形型６の表面形状が転写された樹脂材料）とマイクロレンズ基板製造用成形型６との剥離において、形成されたマイクロレンズ２１に欠陥が生じるのをより確実に防止することができる。凹部６１の長軸方向とマイクロレンズ基板製造用成形型６の軸方向とのなす角は、０〜１０°であるのが好ましく、０〜７°であるのがより好ましく、０〜５°であるのがさらに好ましい。これにより、上記のような効果は更に顕著なものとして現れる。
【００５２】
また、上記のように、凹部６１は、マイクロレンズ基板製造用成形型６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５３】
なお、上記の説明では、凹部６１が、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ基板１の基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する樹脂材料が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ２１と、マイクロレンズ基板製造用成形型６を構成する凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５４】
また、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面において、複数個の凹部６１は、マイクロレンズ基板製造用成形型（ロール）６の軸６２を中心として螺旋状に配されていてもよい。凹部６１がこのように配されていると、マイクロレンズ基板１の製造において、上述したような配列パターンのマイクロレンズ２１を容易かつ確実に形成することができる。また、複数個の凹部６１が螺旋状に配されていると、マイクロレンズ基板製造用成形型６の製造時（後述する初期孔形成工程）において、マスク８に対して、凹部形成用の初期孔（開口部）８１を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング工程における基材７とマスク８との密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、マイクロレンズ基板製造用成形型６が有する凹部６１を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【００５５】
マイクロレンズ基板製造用成形型６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、その周面部付近が、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、銀、金、鉛、マグネシウム、チタン、ジルコニア、タングステン、モリブデン、コバルト等の他、金属ステンレス、４２ニッケル−鉄合金、真鍮、ジュラルミン等の各種金属材料や、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラスで構成されたものであるのが好ましい。マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、マイクロレンズ基板製造用成形型６が有する凹部６１の形状、配列パターンをより精確に転写することができるとともに、マイクロレンズ基板製造用成形型６の耐久性を優れたものとのすることができる。また、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、マイクロレンズ基板製造用成形型６の製造時において、所望の形状、配列パターンの凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５６】
また、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、例えば、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、後述するような方法において、より容易に、所望の形状、配列パターンのマイクロレンズ２１を形成することができる。
次に、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法について、図６を参照しながら説明する。
まず、マイクロレンズ基板製造用成形型６を製造するに際し、ロール状の基材７を用意する。
【００５７】
この基材７としては、略円柱状または略円筒状のものが好適に用いられる。また、基材７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
基材７の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００５８】
＜Ａ１＞図６（ａ）に示すように、用意した基材７の表面に、マスク８を形成する（マスキング工程）。
マスク８の構成材料は、特に限定されず、例えば、Ｃｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク８は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００５９】
上記のように、マスク８の構成は、特に限定されるものではないが、主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基材７をより確実に保護することができる）とともに、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができる。また、マスク８が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク８は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基材７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク８を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６０】
マスク８の形成方法は特に限定されないが、マスク８をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）で構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンで構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６１】
マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基材７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
【００６２】
＜Ａ２＞次に、図６（ｂ）に示すように、マスク８に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１を形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８に開口部（初期孔８１）を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。より具体的には、例えば、ロール状の基材７を、その軸を中心に回転させ、かつ、レーザ光の照射方向を一軸方向に走査させつつ、レーザ光の照射を間欠的に行うことにより、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。その結果、マイクロレンズ基板製造用成形型の生産性、マイクロレンズ基板１の生産性が向上する。
【００６３】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６４】
マスク８に初期孔８１を形成するとき、図６（ｂ）に示すように、マスク８だけでなく基材７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ２１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
【００６５】
本工程で形成する初期孔８１の形状、大きさは特に限定されないが、初期孔８１が略円形である場合、その直径は、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６６】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．９〜３０μｍであるのが好ましく、１．５〜１５μｍであるのがより好ましく、２．０〜６μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、形成されたマスク８に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基材７にマスク８を形成する際に、予め基材７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８を形成することでマスク８に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
【００６７】
＜Ａ３＞次に、図６（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基材７にエッチングを施し、基材７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
このように、本発明では、凹部の形成をエッチングにより行う。これにより、生産性の高い型形成が可能である。また、凹部の形成を、プレス、研削、研磨等のエッチング以外の方法で行った場合には、高価で欠陥が多く、また、ムラのある型形成になるという問題があるのに対して、本発明では、安価で欠陥の少なくムラの無い型形成が可能である。
【００６８】
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基材７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図６（ｃ）に示すように、基材７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基材７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状の配置であるため、形成される凹部６１は、基材７の表面に千鳥状に配置されたものとなる。
【００６９】
また、本実施形態では、工程＜Ａ２＞でマスク８に初期孔８１を形成した際に、基材７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基材７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００７０】
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
【００７１】
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ基板製造用成形型６を提供することができる。
また、エッチング工程は、マスク８が付された基材７を、その軸７１を中心に回転させつつ行うのが好ましい。これにより、各凹部６１について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板１の特性（特に、光学特性）を特に優れたものとすることができる。特に、エッチング工程をウェットエッチングにより行う場合、エッチング液の深さの違いによる圧力差（水圧差）により、エッチングの進行の度合いが各部位で異なるものとなりやすいが、基材７を回転させることにより、このような問題の発生も効果的に防止することができる。
【００７２】
また、エッチング工程において、基材７の回転（相対的な回転を含む）を行う場合、基材７の回転方向（相対的な回転方向）を、経時的に変化させるのが好ましい。すなわち、基材７の回転方向を反転させつつ、エッチングを行うのが好ましい。これにより、例えば、エッチング液の液流やエッチングガスのガス流による不均一なエッチングが進行するのをより確実に防止することができ、形成する凹部６１の形状をより好適なものとすることができる。
【００７３】
＜Ａ４＞次に、図６（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。
マスク８が、前述したような主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
以上により、図６（ｄ）および図４に示すように、基材７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成されたマイクロレンズ基板製造用成形型６が得られる。
【００７４】
基材７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成し、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基材７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８に所定パターンで開口部（初期孔８１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ基板製造用成形型６を提供することができる。また、本発明では、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ基板製造用成形型がロール形状であるため、フォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合、凹部（凹部に対応する開口部）を設計の形状通りに形成するのは極めて困難であるが、レーザ光の照射により行う場合、容易かつ確実に所望の形状、配列パターンの凹部（凹部に対応する開口部）を形成することができる。
【００７５】
なお、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面には、離型剤等により、離型性を向上させるため等の処理が施されていてもよい。これにより、このマイクロレンズ基板製造用成形型６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状、配置等をより確実に好適なものとすることができる。
次に、上述したマイクロレンズ基板製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
【００７６】
マイクロレンズ基板は、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるものであるが、以下の実施形態では、特に、マイクロレンズ基板製造用成形型を備えたマイクロレンズ基板製造装置を用いて、マイクロレンズ基板を製造するものとして説明する。
図７は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図、図８、図９は、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図７中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
【００７７】
まず、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を説明するに先立ち、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の構成の一例について説明する。
マイクロレンズ基板製造装置１００は、図７に示すように、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、上述したようなマイクロレンズ基板製造用成形型６とを有している。
【００７８】
基板搬送手段１１０は、基板４を搬送する機能を有している。図示の構成では、基板搬送手段１１０は、基板４をマイクロレンズ基板製造装置１００の左から右へ搬送するよう構成されている。
マイクロレンズ基板製造用成形型６は、基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４を押圧して、その周面の形状を基板４に転写する機能を有している。
【００７９】
マイクロレンズ基板製造用成形型６は、ロール形状をなしており、軸（回転軸）６２を中心に回転可能となっている。また、上述したように、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、マイクロレンズ２１に対応する形状を有する、複数の凹部６１を備えている。
また、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、軸６２を中心に回転可能なものである。マイクロレンズ基板製造用成形型６は、搬送されてきた基板４により押圧され、基板４の移動（搬送）に伴って回転させられる（回転自在に保持された）構成のものであってもよいし、モータ等の図示しない駆動手段により回転するものであってもよい。このような駆動手段を有する場合、基板４の搬送速度等に応じて、マイクロレンズ基板製造用成形型６の回転速度をより精確に制御することができる。その結果、好適な形状のマイクロレンズ２１をより確実に形成することができる。
【００８０】
また、このようなマイクロレンズ基板製造用成形型６は、搬送手段３０と所定距離だけ離間するように配置されている。通常、マイクロレンズ基板製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離は、基板４の厚さよりも小さく（短く）なっている。
また、このマイクロレンズ基板製造用成形型６は、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、基板４にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状を容易かつ確実に転写することができる。このような加熱手段としては、例えば、電熱線やカートリッジヒータ等が挙げられる。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置（マイクロレンズ基板製造用成形型）を用いた、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法について説明する。
【００８１】
＜Ｂ１＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４を用意する。
基板４は、前述した基板本体２の構成材料に対応する材料で構成されたものである。また、基板４は、厚さが均一で、傷等のないものが好適に用いられる。基板４は、マイクロレンズ基板製造用成形型６の押圧により変形可能なものであれば、いかなるものであってもよいが、マイクロレンズ基板製造用成形型６の凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１を精確に形成するためには、主として、樹脂材料、特に熱可塑性樹脂で構成されたものであるのが好ましい。
【００８２】
基板４の平均厚さは、マイクロレンズ基板製造用成形型６と基板搬送手段１１０とのギャップ（最短長さ）、基板４を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．００５〜５ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜４ｍｍ程度であるのがより好ましく、０．５〜３ｍｍ程度であるのがさらに好ましく、１〜３ｍｍ程度であるのがもっとも好ましい。
【００８３】
なお、基板４を構成する材料には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【００８４】
＜Ｂ２＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図８（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６との間に送り込まれる（図８（ｂ）参照）。これにより、基板４がマイクロレンズ基板製造用成形型６により押圧される。また、基板４の搬送に伴って、マイクロレンズ基板製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、マイクロレンズ基板製造用成形型６による基板４の押圧部位が経時的に変化する（図８（ｃ）参照）。その結果、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状が基板４に転写される。その後、基板４の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図８（ｄ）参照）。基板４の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【００８５】
基板４が樹脂材料で構成されたものである場合、基板４を押圧する際のマイクロレンズ基板製造用成形型６の温度は、基板４を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、基板４にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、マイクロレンズ基板製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の基板４の温度や、基板４の構成材料によっては、基板４に対してマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
【００８６】
このように、本発明においては、ローラ状のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いるため、製造すべきマイクロレンズ基板が大型のものであっても、容易かつ確実に製造することができ、また、製造されるマイクロレンズ基板の特性（特に光学特性）を優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板を連続して製造することができ、マイクロレンズ基板の生産性が向上する。また、製造すべきマイクロレンズ基板に対して、マイクロレンズ基板製造用成形型の大きさを十分に小さいものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板製造用成形型の大きさ（特に、径）が比較的小さいものであっても、様々な大きさのマイクロレンズ基板の製造に適用することができる。したがって、マイクロレンズ基板の製造コストの低減に大きく寄与することができる。
【００８７】
また、基板４がシート状、フィルム状、可撓性を有する板状等のものである場合、例えば、基板４をローラ等の基板供給部に巻きつけておき、基板搬送手段１１０による基板４の搬送に伴い、基板４を基板供給部から引き出すような構成にすることにより、マイクロレンズ基板の生産性の更なる向上（製造設備の省スペース化）を図ることができる。また、このような場合、例えば、製造されたマイクロレンズ基板を、ローラ等のマイクロレンズ基板回収手段に巻き取ることにより回収してもよい。
【００８８】
＜Ｂ３＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス３を形成する。
まず、図９（ａ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー３２を付与する。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００８９】
＜Ｂ４＞次に、図９（ｂ）に示すように、基板本体２に、入射側表面に対して垂直方向の露光用光Ｌｂを照射する。照射された露光用光Ｌｂは各マイクロレンズ２１を通過することによって集光する。これにより、マイクロレンズ２１の焦点ｆ近傍の（集光された光が入射した部位の）フォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２のみが感光する。
【００９０】
その後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、感光した焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図９（ｃ）に示すように、マイクロレンズ２１の光軸Ｌに対応する部分に開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【００９１】
このように、本実施形態の製造方法では、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた露光用光を照射することにより、ブラックマトリックスを形成するので、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
また、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００９２】
＜Ｂ５＞その後、ブラックマトリックス３が形成された基板本体２に対して着色液を付与することにより、着色部２２を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（図９（ｄ）参照）。
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の着色を容易かつ確実に行うことができることを、本発明者は見出した。特に、アクリル系樹脂のように、従来、着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００９３】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールと着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。
【００９４】
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な厚さの着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板本体（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、均一な厚さで（色ムラなく）着色部を形成することができる。
【００９５】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特に、均一な厚さの着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、浸染に用いることができる染料が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）との親和性が高いためであると考えられる。
【００９６】
着色液を付与する工程は、着色液および／または基板本体２を、６０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。
【００９７】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【００９８】
以下、本工程で用いる着色液について、より詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【００９９】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。
【０１００】
前述したように、本実施形態で用いる着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであるが、さらに、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものであるのが好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、さらに効率良く着色部を形成することができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【０１０１】
すなわち、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを含む着色液（以下、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンジルアルコールを総称して、「添加物」ともいう）を用いることにより、着色液中の添加物が基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、添加物と着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、これらが相補的に作用し合い、着色液による着色を良好なものとするためであると考えられる。
【０１０２】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、ベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０３】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０４】
着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０５】
また、着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０６】
また、着色液は、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【０１０７】
次に、上述したマイクロレンズ基板製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法の他の実施形態について説明する。
図１０は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図、図１１は、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【０１０８】
以下の説明では、主に、前述した実施形態との相違点について説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図１０に示すように、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、流動性を有する樹脂材料（流動性樹脂材料）９を供給する流動性樹脂供給部１２０と、マイクロレンズ基板製造用成形型６とを有している。すなわち、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、流動性樹脂供給部１２０を有する点において、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００と異なっている。流動性樹脂供給部１２０を有することにより、基板４の温度を比較的低い温度に維持しつつ、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面形状を転写することができる。その結果、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、好適な形状、配置のマイクロレンズ２１を備えたマイクロレンズ基板１を容易かつ確実に得ることができる。
【０１０９】
流動性樹脂供給部１２０は、供給される樹脂材料９が基板４のほぼ全面（マイクロレンズ基板１の有効レンズ領域に対応する部分）に付与されるように構成されている。
そして、本実施形態においては、基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６とのギャップ（マイクロレンズ基板製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離）は、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００でのギャップより大きく設定されている。基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６とのギャップは、特に限定されないが、通常、基板４の厚さより大きく設定されている。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置１００’を用いた、マイクロレンズ基板の製造方法について説明する。
【０１１０】
＜Ｂ１’＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４、樹脂材料９を用意する。
基板４は、前述した実施形態と同様のものを好適に用いることができるが、樹脂材料９により形成される部位の厚さを考慮して、前述したものに比べてやや薄いものを用いてもよい。
また、樹脂材料９としては、比較的低い温度で流動性を維持できる材料を用いるのが好ましい。
【０１１１】
樹脂材料９のガラス転移点は、１５〜２００℃であるのが好ましく、２０〜１５０℃であるのがより好ましく、２４〜１３０℃であるのがさらに好ましい。樹脂材料９のガラス転移点が前記範囲内の値であると、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、樹脂材料９にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。
なお、樹脂材料９には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【０１１２】
＜Ｂ２’＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図１１（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６との間に送り込まれる。この際、流動性樹脂供給部１２０から、基板４とマイクロレンズ基板製造用成形型６との間に、樹脂材料９が供給される（図１１（ｂ）参照）。これにより、樹脂材料９がマイクロレンズ基板製造用成形型６および基板４により押圧される。ここで、樹脂材料９は適度に流動性を有する（軟化した）状態のものなので、マイクロレンズ基板製造用成形型６の表面形状に対応するように変形する。また、基板４の搬送に伴って、マイクロレンズ基板製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、マイクロレンズ基板製造用成形型６による樹脂材料９の押圧部位が経時的に変化する（図１１（ｃ）参照）。その結果、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状が転写された樹脂材料９が、順次、基板４上に接合されることとなる。その後、樹脂材料９の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図１１（ｄ）参照）。樹脂材料９の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【０１１３】
樹脂材料９を押圧する際のマイクロレンズ基板製造用成形型６の温度は、樹脂材料９を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、樹脂材料９にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、マイクロレンズ基板製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の樹脂材料９の温度や、樹脂材料９の構成材料によっては、樹脂材料９に対してマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
なお、図示の構成では、樹脂材料９は、マイクロレンズ基板製造用成形型６の近傍で、基板４上に供給されるようになっているが、樹脂材料９が供給される部位はこれに限定されるものではない。例えば、樹脂材料９は、基板４上ではなく、マイクロレンズ基板製造用成形型６上に供給されるものであってもよい。
【０１１４】
上記のようにして得られた基板本体２に対して、前述した実施形態と同様にしてブラックマトリックス３、着色部２２を形成することにより（上記＜Ｂ３＞〜＜Ｂ５＞および図９参照）、マイクロレンズ基板１を得ることができる。
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１２は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【０１１５】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えている。このため、リア型プロジェクタ３００を大型でかつ高品質のものとすることができる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１１６】
以上、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、マイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。例えば、本発明の透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板の出射面側に、光拡散板や他のレンズ等がさらに配されたものであってもよい。
【０１１７】
また、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基材７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギー強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。
【０１１８】
また、前述した実施形態では、ロール状の基材に対して、直接エッチングを施すことにより、周面に凹部を形成するものとして説明したが、例えば、エッチングにより形成された凹部を有するシート材を、ロール状の基材の周面に巻き付けること等により製造されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、着色部、ブラックマトリックスを有するものとして説明したが、このような構成はなくてもよい。
【０１１９】
また、前述した実施形態では、基板にマイクロレンズを形成した後に、ブラックマトリックスを形成するものとして説明したが、例えば、基板のマイクロレンズを形成すべき面とは反対側の面に、予めフォトポリマーを付与しておいた状態で、マイクロレンズを形成してもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、マイクロレンズ基板を製造するものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造される部材を凹部付き部材製造用成形型として用いてもよい。言い換えると、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状を転写することにより表面付近に凸部を有する部材（凹部付き部材製造用成形型）を製造し、この部材を用いて、表面付近に凹部を有する部材を製造してもよい。これにより、例えば、凹レンズとしてのマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板等を好適に製造することができる。なお、このような場合、凹部付き部材製造用成形型は、板状のものであってもよいし、ロール状のものであってもよい。
【０１２０】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として説明したが、本発明のマイクロレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。
【実施例】
【０１２１】
［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ基板製造用成形型を製造した。
まず、基材として、直径３５ｃｍ×幅（高さ）１６５ｍの円柱状（ロール状）のソーダガラス基材を用意した。
【０１２２】
このソーダガラス基材を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基材の周面上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基材の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクを形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０３μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１２３】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、その全体に均等に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径２.０μｍ、主走査方向における走査速度１００ｍｍ／秒という条件で、間欠的にレーザ光を照射することにより行った。また、レーザ光の照射は、ロール状のソーダガラス基材の周面の端部付近から、幅（長さ）方向についての走査（主走査）を、他端付近まで行い、その後、ロール状のソーダガラス基材を所定角度回転させ、さらに、前記と同様な走査（主走査）を繰り返すことにより行った。
【０１２４】
これにより、マスクのほぼ全面に亘って、ソーダガラス基材の幅方向に、所定の大きさを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンが形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
また、この際、ソーダガラス基材の表面に深さ０．０５μｍの凹部および変質層も形成した。
【０１２５】
次に、ソーダガラス基材にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基材上に多数の平面視したときの形状が略楕円形状（扁平形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（直径）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３７.５μｍ、深さは３６．５μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９７％であった。
【０１２６】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２時間とした。また、ウェットエッチングは、エッチング液中において、ソーダガラス基材を、その軸を中心に回転させつつ行った。また、ソーダガラス基材の回転方向は、ソーダガラス基材が３．５回転する毎に反転するようにした。
【０１２７】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクを除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、図４に示すような、ソーダガラス基材上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列されたマイクロレンズ基板製造用成形型を得た。得られたマイクロレンズ基板製造用成形型の凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合（占有率）が９７％であった。
【０１２８】
上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型においては、凹部の長軸方向とマイクロレンズ基板製造用成形型の軸方向とのなす角が０°であった。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、図７に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
次に、基板本体形成用の母材としての基板を用意した。当該基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×１．１ｍ、厚さ２ｍｍのシート状部材を用意した。
次に、上記のような基板をマイクロレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置した。
【０１２９】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により２００℃に加熱された。その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、マイクロレンズ基板製造用成形型により、搬送されてきた基板に、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状を転写した。この際、マイクロレンズ基板製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３０】
その後、冷却することで、樹脂材料を固化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５０であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは１．０９５ｍｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３６.０μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１３１】
その後、基板本体に対して、浸染により着色液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、かつ、ロール状のマイクロレンズ基板製造用成形型で押圧された面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、９０℃に調整した。また、着色液付与時には、雰囲気の圧力が１２０ｋＰａとなるように加圧した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：１０重量部、界面活性剤：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。
【０１３２】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを２０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分に水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５％であった。
また、上記のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１３３】
（実施例２）
まず、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板製造用成形型を製造した。
次に、このマイクロレンズ基板製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、図１０に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
【０１３４】
次に、基板本体形成用の母材としての基板、および流動性を有する樹脂材料を用意した。前記基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×縦１．１ｍ、厚さ０．１ｍｍのシート状部材を用意した。また、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１１０℃）を用意した。
次に、前記基板をマイクレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置し、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）を流動性樹脂供給部に接続された樹脂貯留部に貯留した。
【０１３５】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により１８０℃に加熱された。また、樹脂貯留部に貯留された樹脂材料は、加熱手段により１９０℃に加熱された。
その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、流動性樹脂供給部から、搬送されてきた基板上に樹脂材料を供給した。樹脂材料が付与された基板は、基板搬送手段とマイクロレンズ基板製造用成形型との間に導入され、この領域において、基板上の樹脂材料に、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状を転写した。この際、マイクロレンズ基板製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３６】
その後、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状が転写された樹脂材料に紫外線を照射することにより、基板上の樹脂材料を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．６２であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは０．０５μｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３５．５μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１３７】
次に、上記のようにして得られた基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
【０１３８】
次に、フォトポリマーが付与された面とは反対の面側から、８０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。これにより、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、各マイクロレンズの焦点ｆ（ブラックマトリックスの厚さ方向の中心付近）近傍のフォトポリマーを選択的に露光した。
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
【０１３９】
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。形成されたブラックマトリックスの厚さは５μｍであった。
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材としてのシリカ粒子が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。
また、上記のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１４０】
（実施例３、４）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４１】
（実施例５、６）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４２】
（実施例７）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４３】
（実施例８）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４４】
（比較例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた平板状の凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）を製造した。
まず、基板として、横１．７ｍ×縦１．１ｍ角、厚さ２．０ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
【０１４５】
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクおよび裏面保護膜を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
【０１４６】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１．６５ｃｍ×１．０５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、格子状（正方格子状）に配されたパターンが形成された。初期孔の平均。幅は２．０μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
【０１４７】
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．００５μｍの凹部および変質層も形成した。
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が円形状の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の直径は１００μｍ、曲率半径は６０μｍ、深さは４８μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
【０１４８】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．５時間とした。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が格子状（正方格子状）に配列された凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
【０１４９】
次に、上記のようにして得られた凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）のアクリル樹脂を付与した。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
【０１５０】
その後、紫外線を照射することにより、アクリル樹脂を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは２．０μｍであった。また、円形状のマイクロレンズは、その直径が１００μｍ、曲率半径が５０μｍ、高さが４７μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。
次に、基板本体から、平板、凹部付き基板を取り外した。この際、平板の除去は容易に行うことができたが、凹部付き基板の除去は極めて困難であった。十分慎重に凹部付き基板の除去を試みたが、形成されたマイクロレンズにカケ等の欠陥を生じてしまった。
【０１５１】
次に、上記のようにして得られた基板本体に対して、前記実施例１と同様にして、着色部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５５％であった。
また、上記の凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１５２】
（比較例２）
基板本体に対して、着色部を形成しなかった以外は、前記比較例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例について、マイクロレンズ基板製造用成形型を製造する際に用いたマスクの構成、レーザ光の照射により形成された初期孔の形状、製造されたマイクロレンズ基板製造用成形型が有する凹部の形状、配列パターン、製造されたマイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの形状、配列パターン、マイクロレンズ基板（基板本体）の生産性等を表１にまとめて示す。
【０１５３】
【表１】
【０１５４】
表１から明らかなように、本発明では、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができたのに対し、比較例では、マイクロレンズ基板の生産性が著しく悪かった。より詳しく説明すると、本発明では、マイクロレンズ基板製造用成形型から基板本体（マイクロレンズ基板）を剥離する操作を容易かつ確実に行うことができたのに対し、比較例では、凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）からの基板本体の剥離が困難であり、剥離には、本発明に比べて大きな力が必要であった。
【０１５５】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図１２に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［マイクロレンズ基板製造用成形型の耐久性評価］
前記各実施例および各比較例のマイクロレンズ基板製造用成形型について、５００枚のマイクロレンズ基板の製造を行った後の（基板本体の剥離を５００回繰り返し行った後の）マイクロレンズ基板製造用成形型について、凹部が形成された面を、顕微鏡を用いて観察した。マイクロレンズ基板製造用成形型表面の凹凸パターンの状態について以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：凹凸パターンの欠けが全く認められない。
○：凹凸パターンの欠けがほとんど認められない。
△：凹凸パターンの欠けがわずかに認められる。
×：凹凸パターンの欠けが顕著に認められる。
【０１５６】
［ドット抜け等の評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、ドット抜け、明るさのムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ドット抜け、明るさのムラが全く認められない。
○：ドット抜け、明るさのムラがほとんど認められない。
△：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１５７】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１５８】
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が５ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１５９】
ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストについて、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが５００以上。
○：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが４００以上５００未満。
△：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００以上４００未満。
×：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００未満。
【０１６０】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１６１】
【表２】
【０１６２】
表２から明らかなように、本発明では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った後でも、マイクロレンズ基板製造用成形型において凹凸パターンの欠陥は認められなかった。また、本発明では、ドット抜け、明るさのムラ、回折光、モアレ、色ムラ等のない優れた画質の画像が得られた。また、本発明では、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。特に、マイクロレンズ基板製造用成形型を繰り返し使用した後に製造されたマイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタにおいても、優れた結果が得られた。
【０１６３】
これに対し、比較例では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）では凹凸パターンの破壊がみられ、得られた基板本体（マイクロレンズ基板）を用いて製造された透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタでも満足な結果が得られなかった。これは、凹部付き基板において、カケ等の凹凸パターンの欠陥が発生することにより、製造されたマイクロレンズ基板においても、所望の形状のマイクロレンズを形成することができなかったり、基板本体を凹部付き基板から剥離する際に、マイクロレンズにカケ等の欠陥が生じてしまったためであると考えられる。
【０１６４】
また、マイクロレンズ基板製造用成形型からの転写方法として、加熱して柔らかくした樹脂に型を押し付け冷却する、熱プレス転写法（押し出し成形含む）、モノマ樹脂を反応重合させ固める注型重合方法（キャステング法）、樹脂を光硬化させる２Ｐ法等の方法を用いた以外は、前記各実施例、前記各比較例と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを製造し、前記と同様な評価を行ったところ、前記と同様な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１６５】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型を示す模式的な斜視図である。
【図５】図４に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の縦断面図である。
【図６】図４、図５に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１６６】
１…マイクロレンズ基板 ２…基板本体 ２１…マイクロレンズ ２２…着色部（外光吸収部） ２５…第１の行 ２６…第２の行 ３…ブラックマトリックス（遮光層） ３０…搬送手段 ３１…開口部 ３２…フォトポリマー ４…基板 ５…フレネルレンズ部 ５１…フレネルレンズ ６…マイクロレンズ基板製造用成形型 ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部） ６２…軸（回転軸） ７…基材 ７１…初期凹部 ８…マスク ８１…初期孔（開口部） ９…樹脂材料（流動性樹脂材料） １０…透過型スクリーン １００、１００’…マイクロレンズ基板製造装置 １１０…基板搬送手段 １２０…流動性樹脂供給部 ３００…リア型プロジェクタ ３１０…投写光学ユニット ３２０…導光ミラー ３４０…筐体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材の製造方法、凸部付き部材、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズが一般的に用いられている。このようなレンチキュラレンズを備えた従来のリア型プロジェクタでは、左右の視野角が大きいが、上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
【０００３】
このような問題を解決する目的で、光学的に凹または凸の回転対称な形状のマイクロレンズが形成されたマイクロレンズシートを用いる試みがあった（例えば、特許文献１参照）。
そして、上記のようなマイクロレンズシート（マイクロレンズ基板）は、従来、複数のマイクロレンズ形成用凹部を有する凹部付き基板に、未硬化の樹脂を供給し、平滑な透明基板を接合し、押圧・密着させ、その後、樹脂を硬化させるという、いわゆる２Ｐ法を用いて製造されていた（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
しかし、上記のような方法では、硬化した樹脂を凹部付き基板から離型させるのが困難であるという問題がある。また、このような問題は、製造すべきマイクロレンズ基板が大面積であるとより一層顕著なものとなり、大型のマイクロレンズ基板を製造する際の歩留りが著しく低下する。
また、製造すべきマイクロレンズ基板が大型のもの（例えば、対角線長が１４０ｃｍ以上の基板）である場合、上記のような問題がより一層顕著になるとともに、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き基板の大きさも大きくなり、マイクロレンズ基板の製造設備がさらに大型化するという問題があった。また、ホームシアター用モニター、ディスプレイ等の近年の急速な大型化に伴い、それに対応するように凹部付き基板の大型化も求められており、各サイズに対応する多数種の凹部付き基板を製造する必要があった。その結果、マイクロレンズ基板の低価格化を阻害するという問題を引き起こしていた。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１３１５０６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００３−２７９９４９号公報（段落番号０１６７〜０１７３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造すること、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造するのに好適に用いることができる凸部付き部材製造用成形型を提供すること、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を提供すること、また、当該マイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の凸部付き部材製造用成形型は、型押しすることで、凸曲面を備えた凸部を多数個有する凸部付き部材を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周表面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記凸部に対応する形状の凹部を有することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造するのに好適に用いることができる凸部付き部材製造用成形型を提供することができる。
【０００８】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体であることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型の製造時において、マスクに対して、凹部形成用の開口部を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング時における基材（ロール状基材）とマスクとの密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、凸部付き部材製造用成形型が有する凹部を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、凸部付き部材の凸部の形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【０００９】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部は、略楕円形状を有するものであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を、モアレ等の不都合等が特に発生し難く、かつ、視野角特性に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の生産性を優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の生産性を優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部の深さが、５〜２５０μｍであることが好ましい。
これにより、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）について、視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の生産時における、マイクロレンズ（凸部）の形状の欠陥の発生をより効果的に防止することができる。
【００１３】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものであることが好ましい。
これにより、各凹部について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の特性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明の凸部付き部材製造用成形型では、前記凹部は、マイクロレンズ形成用凹部であることが好ましい。
これにより、例えば、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造される凸部付き部材を透過型スクリーン、リア型プロジェクタの構成部品（マイクロレンズ基板）として好適に用いることができる。
【００１５】
本発明の凸部付き部材の製造方法は、本発明の凸部付き部材製造用成形型を用いて凸部付き部材を製造することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を製造することができる。
【００１６】
本発明の凸部付き部材の製造方法では、主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記凸部付き部材製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を製造することができる。
【００１７】
本発明の凸部付き部材の製造方法では、板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を製造することができる。
【００１８】
本発明の凸部付き部材の製造方法では、押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上であることが好ましい。
これにより、成形型の周面形状をより確実に転写することができる。
本発明の凸部付き部材は、本発明の凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を提供することができる。
【００１９】
本発明の凸部付き部材は、本発明の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ（凸部）の欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板（凸部付き部材）を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明の凸部付き部材を備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができるリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
また、本発明の凸部付き部材等の用途は、特に限定されないが、本実施形態では、主に、凸部付き部材を、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成するマイクロレンズ基板（凸レンズ基板）として用い、凸部付き部材製造用成形型を、上記マイクロレンズ基板の製造用の成形型として用いるものとして説明する。
まず、凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材製造用成形型を用いた凸部付き部材の製造方法の説明に先立ち、本発明の凸部付き部材（マイクロレンズ基板）および透過型スクリーンの構成について説明する。
【００２１】
図１は、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すマイクロレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００２２】
マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（凸部）２１を備えた基板本体２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光層）３とを備えている。また、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。
【００２３】
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００２４】
基板本体２を構成する樹脂材料は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．２〜１．９であるのが好ましく、１．３５〜１．７５であるのがより好ましく、１．４５〜１．６であるのがさらに好ましい。樹脂材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２５】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２７】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２８】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２９】
また、マイクロレンズ２１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「マイクロレンズ２１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００３０】
また、マイクロレンズ２１の高さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ２１の高さをＨ［μｍ］、マイクロレンズ２１の短軸方向の長さをＳ［μｍ］としたとき、０．９０≦Ｓ／Ｈ≦２．５０の関係を満足するのが好ましく、１．０≦Ｓ／Ｈ≦１．８の関係を満足するのが好ましく、１．２≦Ｓ／Ｈ≦１．６の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３１】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥格子状に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００３２】
上記のように、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３３】
上記のように、マイクロレンズ（凸部）の形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、ブラックマトリックス（遮光層）３に設けられた開口部３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。また、開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、開口部３１の面積を小さくすることができる。すなわち、マイクロレンズ基板１を平面視したときの、ブラックマトリックス３（開口部３１以外の領域）で覆われた面積の割合を大きくすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３４】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７〜９９．５％であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が９０％以上であると、マイクロレンズ２１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心（頂部の中心）２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００３５】
また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部２２が設けられている。着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【００３６】
特に、本実施形態において、着色部２２は、後に詳述するように、基板本体２に着色液（特に、組成に特徴を有する着色液）を付与することにより形成されたものである。より詳しく説明すると、着色部２２は、後に詳述するような着色液を基板本体２に付与することにより、着色剤が基板本体２（マイクロレンズ２１）の内部に含浸して形成されたものである。着色部２２がこのようにして形成されたものであると、基板本体上に着色層を積層（外付け）した場合に比べて、着色層の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。
【００３７】
また、着色部２２は、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのをより確実に防止することができる。
また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【００３８】
着色部２２の濃度は、特に限定されないが、分光透過率に基づいたＹ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜８５％であるのが好ましく、３５〜７０％であるのがより好ましく、３５〜７０％であるのがさらに好ましい。着色部２２の濃度が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、着色部２２の濃度が前記下限値未満であると、入射光の透過率が低下し、得られる画像において十分な輝度が得られず、結果として、画像のコントラストが不十分となる可能性がある。また、着色部２２の濃度が前記上限値を超えると、外光（光の入射側とは反対側から入射する外光）の反射を十分に防止することが困難となり、明室において光源を全消灯させた際の、黒表示の表面輝度の増加量（黒輝度）が大きくなるため、画像のコントラストを向上させるという効果が十分に得られない可能性がある。
【００３９】
着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４０】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、層状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
【００４１】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．０１〜５μｍであるのが好ましく、０．０１〜３μｍであるのがより好ましく、０．０３〜１μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４２】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４３】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
次に、上述したマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造に好適に用いることができる本発明の凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）、および、その製造方法について説明する。
【００４４】
図４は、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造に用いる凸部付き部材製造用成形型を示す模式的な斜視図、図５は、図４に示す凸部付き部材製造用成形型の縦断面図、図６は、図４、図５に示す凸部付き部材製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。なお、凸部付き部材製造用成形型の製造においては、実際には凸部付き部材製造用成形型の周面を構成する基材上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４５】
図４に示すように、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）６は、ロール形状をなしており、その周面に、多数個の凹部６１を有している。これらの凹部６１は、前述したマイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を構成するマイクロレンズ（凸部）２１に対応する形状を有し、かつ、これらのマイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式で配列している。すなわち、凹部６１は、通常、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の（マイクロレンズが凸部であるのに対し凹部であり、かつ、転写された形状、位置関係である以外は同一の）形状（寸法）、配列方式を有している。
【００４６】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）６を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４７】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４８】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（凸部付き部材製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４９】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（凸部付き部材製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５０】
また、凹部６１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「凹部６１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００５１】
また、凹部６１の深さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、凹部６１の深さをＤ［μｍ］、凹部６１の短軸方向の長さをＳ［μｍ］としたとき、０．０２≦Ｓ／Ｄ≦５０の関係を満足するのが好ましく、０．１≦Ｓ／Ｄ≦１．４０の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｓ／Ｄ≦１．０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５２】
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００５３】
また、本実施形態では、凹部６１の長軸方向が、凸部付き部材製造用成形型６の軸方向とほぼ同一である。これにより、後に詳述するようなマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２となるべき樹脂材料（凸部付き部材製造用成形型６の表面形状が転写された樹脂材料）と凸部付き部材製造用成形型６との剥離において、形成されたマイクロレンズ２１に欠陥が生じるのをより確実に防止することができる。凹部６１の長軸方向と凸部付き部材製造用成形型６の軸方向とのなす角は、０〜１０°であるのが好ましく、０〜７°であるのがより好ましく、０〜５°であるのがさらに好ましい。これにより、上記のような効果は更に顕著なものとして現れる。
【００５４】
また、上記のように、凹部６１は、凸部付き部材製造用成形型６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５５】
なお、上記の説明では、凹部６１が、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を構成する凸部（マイクロレンズ２１）と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１の基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する樹脂材料が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ（凸部）２１と、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）６を構成する凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５６】
また、凸部付き部材製造用成形型６の周面において、複数個の凹部６１は、凸部付き部材製造用成形型（ロール）６の軸６２を中心として螺旋状に配されていてもよい。凹部６１がこのように配されていると、マイクロレンズ基板１の製造において、上述したような配列パターンのマイクロレンズ２１を容易かつ確実に形成することができる。また、複数個の凹部６１が螺旋状に配されていると、凸部付き部材製造用成形型６の製造時（後述する初期孔形成工程）において、マスク８に対して、凹部形成用の初期孔（開口部）８１を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング工程における基材７とマスク８との密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、凸部付き部材製造用成形型６が有する凹部６１を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【００５７】
凸部付き部材製造用成形型６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、その周面部付近が、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、銀、金、鉛、マグネシウム、チタン、ジルコニア、タングステン、モリブデン、コバルト等の他、金属ステンレス、４２ニッケル−鉄合金、真鍮、ジュラルミン等の各種金属材料や、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラスで構成されたものであるのが好ましい。凸部付き部材製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、凸部付き部材製造用成形型６が有する凹部６１の形状、配列パターンをより精確に転写することができるとともに、凸部付き部材製造用成形型６の耐久性を優れたものとのすることができる。また、凸部付き部材製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、凸部付き部材製造用成形型６の製造時において、所望の形状、配列パターンの凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５８】
また、凸部付き部材製造用成形型６は、例えば、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、後述するような方法において、より容易に、所望の形状、配列パターンのマイクロレンズ２１を形成することができる。
次に、本発明の凸部付き部材製造用成形型の製造方法について、図６を参照しながら説明する。
まず、凸部付き部材製造用成形型６を製造するに際し、ロール状の基材７を用意する。
【００５９】
この基材７としては、略円柱状または略円筒状のものが好適に用いられる。また、基材７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
基材７の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００６０】
＜Ａ１＞図６（ａ）に示すように、用意した基材７の表面に、マスク８を形成する（マスキング工程）。
マスク８の構成材料は、特に限定されず、例えば、Ｃｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク８は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００６１】
上記のように、マスク８の構成は、特に限定されるものではないが、主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基材７をより確実に保護することができる）とともに、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができる。また、マスク８が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク８は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基材７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク８を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６２】
マスク８の形成方法は特に限定されないが、マスク８をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）で構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンで構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６３】
マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基材７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
【００６４】
＜Ａ２＞次に、図６（ｂ）に示すように、マスク８に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１を形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凸部付き部材製造用成形型を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８に開口部（初期孔８１）を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。より具体的には、例えば、ロール状の基材７を、その軸を中心に回転させ、かつ、レーザ光の照射方向を一軸方向に走査させつつ、レーザ光の照射を間欠的に行うことにより、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。その結果、凸部付き部材製造用成形型の生産性、マイクロレンズ基板１の生産性が向上する。
【００６５】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６６】
マスク８に初期孔８１を形成するとき、図６（ｂ）に示すように、マスク８だけでなく基材７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、凸部付き部材製造用成形型６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ２１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
【００６７】
本工程で形成する初期孔８１の形状、大きさは特に限定されないが、初期孔８１が略円形である場合、その直径は、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６８】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．９〜３０μｍであるのが好ましく、１．５〜１５μｍであるのがより好ましく、２．０〜６μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、形成されたマスク８に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基材７にマスク８を形成する際に、予め基材７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８を形成することでマスク８に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
【００６９】
＜Ａ３＞次に、図６（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基材７にエッチングを施し、基材７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
このように、本発明では、凹部の形成をエッチングにより行う。これにより、生産性の高い型形成が可能である。また、凹部の形成を、プレス、研削、研磨等のエッチング以外の方法で行った場合には、高価で欠陥が多く、また、ムラのある型形成になるという問題があるのに対して、本発明では、安価で欠陥の少なくムラの無い型形成が可能である。
【００７０】
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基材７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図６（ｃ）に示すように、基材７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基材７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状の配置であるため、形成される凹部６１は、基材７の表面に千鳥状に配置されたものとなる。
【００７１】
また、本実施形態では、工程＜Ａ２＞でマスク８に初期孔８１を形成した際に、基材７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基材７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００７２】
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
【００７３】
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凸部付き部材製造用成形型６を提供することができる。
また、エッチング工程は、マスク８が付された基材７を、その軸７１を中心に回転させつつ行うのが好ましい。これにより、各凹部６１について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板１の特性（特に、光学特性）を特に優れたものとすることができる。特に、エッチング工程をウェットエッチングにより行う場合、エッチング液の深さの違いによる圧力差（水圧差）により、エッチングの進行の度合いが各部位で異なるものとなりやすいが、基材７を回転させることにより、このような問題の発生も効果的に防止することができる。
【００７４】
また、エッチング工程において、基材７の回転（相対的な回転を含む）を行う場合、基材７の回転方向（相対的な回転方向）を、経時的に変化させるのが好ましい。すなわち、基材７の回転方向を反転させつつ、エッチングを行うのが好ましい。これにより、例えば、エッチング液の液流やエッチングガスのガス流による不均一なエッチングが進行するのをより確実に防止することができ、形成する凹部６１の形状をより好適なものとすることができる。
【００７５】
＜Ａ４＞次に、図６（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。
マスク８が、前述したような主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
以上により、図６（ｄ）および図４に示すように、基材７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凸部付き部材製造用成形型６が得られる。
【００７６】
基材７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成し、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基材７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８に所定パターンで開口部（初期孔８１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価に凸部付き部材製造用成形型６を提供することができる。また、本発明では、マイクロレンズ基板の製造に用いる凸部付き部材製造用成形型がロール形状であるため、フォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合、凹部（凹部に対応する開口部）を設計の形状通りに形成するのは極めて困難であるが、レーザ光の照射により行う場合、容易かつ確実に所望の形状、配列パターンの凹部（凹部に対応する開口部）を形成することができる。
【００７７】
なお、凸部付き部材製造用成形型６の周面には、離型剤等により、離型性を向上させるため等の処理が施されていてもよい。これにより、この凸部付き部材製造用成形型６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状、配置等をより確実に好適なものとすることができる。
次に、上述した凸部付き部材製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を製造する方法について説明する。
【００７８】
マイクロレンズ基板（凸部付き部材）は、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されるものであるが、以下の実施形態では、特に、凸部付き部材製造用成形型を備えたマイクロレンズ基板製造装置（凸部付き部材製造装置）を用いて、マイクロレンズ基板を製造するものとして説明する。
図７は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図、図８、図９は、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図７中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
【００７９】
まず、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法を説明するに先立ち、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の構成の一例について説明する。
マイクロレンズ基板製造装置１００は、図７に示すように、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、上述したような凸部付き部材製造用成形型６とを有している。
【００８０】
基板搬送手段１１０は、基板４を搬送する機能を有している。図示の構成では、基板搬送手段１１０は、基板４をマイクロレンズ基板製造装置１００の左から右へ搬送するよう構成されている。
凸部付き部材製造用成形型６は、基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４を押圧して、その周面の形状を基板４に転写する機能を有している。
【００８１】
凸部付き部材製造用成形型６は、ロール形状をなしており、軸（回転軸）６２を中心に回転可能となっている。また、上述したように、凸部付き部材製造用成形型６は、マイクロレンズ２１に対応する形状を有する、複数の凹部６１を備えている。
また、凸部付き部材製造用成形型６は、軸６２を中心に回転可能なものである。凸部付き部材製造用成形型６は、搬送されてきた基板４により押圧され、基板４の移動（搬送）に伴って回転させられる（回転自在に保持された）構成のものであってもよいし、モータ等の図示しない駆動手段により回転するものであってもよい。このような駆動手段を有する場合、基板４の搬送速度等に応じて、凸部付き部材製造用成形型６の回転速度をより精確に制御することができる。その結果、好適な形状のマイクロレンズ２１をより確実に形成することができる。
【００８２】
また、このような凸部付き部材製造用成形型６は、搬送手段３０と所定距離だけ離間するように配置されている。通常、凸部付き部材製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離は、基板４の厚さよりも小さく（短く）なっている。
また、この凸部付き部材製造用成形型６は、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、基板４に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状を容易かつ確実に転写することができる。このような加熱手段としては、例えば、電熱線やカートリッジヒータ等が挙げられる。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置（凸部付き部材製造用成形型）を用いた、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法について説明する。
【００８３】
＜Ｂ１＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４を用意する。
基板４は、前述した基板本体２の構成材料に対応する材料で構成されたものである。また、基板４は、厚さが均一で、傷等のないものが好適に用いられる。基板４は、凸部付き部材製造用成形型６の押圧により変形可能なものであれば、いかなるものであってもよいが、凸部付き部材製造用成形型６の凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１を精確に形成するためには、主として、樹脂材料、特に熱可塑性樹脂で構成されたものであるのが好ましい。
【００８４】
基板４の平均厚さは、凸部付き部材製造用成形型６と基板搬送手段１１０とのギャップ（最短長さ）、基板４を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．００５〜５ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜４ｍｍ程度であるのがより好ましく、０．５〜３ｍｍ程度であるのがさらに好ましく、１〜３ｍｍ程度であるのがもっとも好ましい。
【００８５】
なお、基板４を構成する材料には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【００８６】
＜Ｂ２＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図８（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６との間に送り込まれる（図８（ｂ）参照）。これにより、基板４が凸部付き部材製造用成形型６により押圧される。また、基板４の搬送に伴って、凸部付き部材製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、凸部付き部材製造用成形型６による基板４の押圧部位が経時的に変化する（図８（ｃ）参照）。その結果、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状が基板４に転写される。その後、基板４の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図８（ｄ）参照）。基板４の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【００８７】
基板４が樹脂材料で構成されたものである場合、基板４を押圧する際の凸部付き部材製造用成形型６の温度は、基板４を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、基板４に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、凸部付き部材製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の基板４の温度や、基板４の構成材料によっては、基板４に対して凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
【００８８】
このように、本発明においては、ローラ状の凸部付き部材製造用成形型を用いるため、製造すべき凸部付き部材（マイクロレンズ基板）が大型のものであっても、容易かつ確実に製造することができ、また、製造される凸部付き部材の特性（特に光学特性）を優れたものとすることができる。また、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）を連続して製造することができ、凸部付き部材の生産性が向上する。また、製造すべき凸部付き部材（マイクロレンズ基板）に対して、凸部付き部材製造用成形型の大きさを十分に小さいものとすることができるとともに、凸部付き部材製造用成形型の大きさ（特に、径）が比較的小さいものであっても、様々な大きさの凸部付き部材の製造に適用することができる。したがって、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）の製造コストの低減に大きく寄与することができる。
【００８９】
また、基板４がシート状、フィルム状、可撓性を有する板状等のものである場合、例えば、基板４をローラ等の基板供給部に巻きつけておき、基板搬送手段１１０による基板４の搬送に伴い、基板４を基板供給部から引き出すような構成にすることにより、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）の生産性の更なる向上（製造設備の省スペース化）を図ることができる。また、このような場合、例えば、製造された凸部付き部材（マイクロレンズ基板）を、ローラ等の凸部付き部材回収手段に巻き取ることにより回収してもよい。
【００９０】
＜Ｂ３＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス３を形成する。
まず、図９（ａ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー３２を付与する。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００９１】
＜Ｂ４＞次に、図９（ｂ）に示すように、基板本体２に、入射側表面に対して垂直方向の露光用光Ｌｂを照射する。照射された露光用光Ｌｂは各マイクロレンズ２１を通過することによって集光する。これにより、マイクロレンズ２１の焦点ｆ近傍の（集光された光が入射した部位の）フォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２のみが感光する。
【００９２】
その後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、感光した焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図９（ｃ）に示すように、マイクロレンズ２１の光軸Ｌに対応する部分に開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【００９３】
このように、本実施形態の製造方法では、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた露光用光を照射することにより、ブラックマトリックスを形成するので、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
また、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００９４】
＜Ｂ５＞その後、ブラックマトリックス３が形成された基板本体２に対して着色液を付与することにより、着色部２２を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（図９（ｄ）参照）。
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の着色を容易かつ確実に行うことができることを、本発明者は見出した。特に、アクリル系樹脂のように、従来、着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００９５】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールと着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。
【００９６】
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な厚さの着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板本体（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、均一な厚さで（色ムラなく）着色部を形成することができる。
【００９７】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特に、均一な厚さの着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、浸染に用いることができる染料が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）との親和性が高いためであると考えられる。
【００９８】
着色液を付与する工程は、着色液および／または基板本体２を、６０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。
【００９９】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【０１００】
以下、本工程で用いる着色液について、より詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０１】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。
【０１０２】
前述したように、本実施形態で用いる着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであるが、さらに、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものであるのが好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、さらに効率良く着色部を形成することができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【０１０３】
すなわち、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを含む着色液（以下、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンジルアルコールを総称して、「添加物」ともいう）を用いることにより、着色液中の添加物が基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、添加物と着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、これらが相補的に作用し合い、着色液による着色を良好なものとするためであると考えられる。
【０１０４】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、ベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０５】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０６】
着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０７】
また、着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０８】
また、着色液は、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【０１０９】
次に、上述した凸部付き部材製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）１を製造する方法の他の実施形態について説明する。
図１０は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図、図１１は、本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【０１１０】
以下の説明では、主に、前述した実施形態との相違点について説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図１０に示すように、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、流動性を有する樹脂材料（流動性樹脂材料）９を供給する流動性樹脂供給部１２０と、凸部付き部材製造用成形型６とを有している。すなわち、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、流動性樹脂供給部１２０を有する点において、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００と異なっている。流動性樹脂供給部１２０を有することにより、基板４の温度を比較的低い温度に維持しつつ、凸部付き部材製造用成形型６の周面形状を転写することができる。その結果、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、好適な形状、配置のマイクロレンズ２１を備えたマイクロレンズ基板１を容易かつ確実に得ることができる。
【０１１１】
流動性樹脂供給部１２０は、供給される樹脂材料９が基板４のほぼ全面（マイクロレンズ基板１の有効レンズ領域に対応する部分）に付与されるように構成されている。
そして、本実施形態においては、基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６とのギャップ（凸部付き部材製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離）は、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００でのギャップより大きく設定されている。基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６とのギャップは、特に限定されないが、通常、基板４の厚さより大きく設定されている。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置１００’を用いた、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法について説明する。
【０１１２】
＜Ｂ１’＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４、樹脂材料９を用意する。
基板４は、前述した実施形態と同様のものを好適に用いることができるが、樹脂材料９により形成される部位の厚さを考慮して、前述したものに比べてやや薄いものを用いてもよい。
また、樹脂材料９としては、比較的低い温度で流動性を維持できる材料を用いるのが好ましい。
【０１１３】
樹脂材料９のガラス転移点は、１５〜２００℃であるのが好ましく、２０〜１５０℃であるのがより好ましく、２４〜１３０℃であるのがさらに好ましい。樹脂材料９のガラス転移点が前記範囲内の値であると、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、樹脂材料９に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。
なお、樹脂材料９には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【０１１４】
＜Ｂ２’＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図１１（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０と凸部付き部材製造用成形型６との間に送り込まれる。この際、流動性樹脂供給部１２０から、基板４と凸部付き部材製造用成形型６との間に、樹脂材料９が供給される（図１１（ｂ）参照）。これにより、樹脂材料９が凸部付き部材製造用成形型６および基板４により押圧される。ここで、樹脂材料９は適度に流動性を有する（軟化した）状態のものなので、凸部付き部材製造用成形型６の表面形状に対応するように変形する。また、基板４の搬送に伴って、凸部付き部材製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、凸部付き部材製造用成形型６による樹脂材料９の押圧部位が経時的に変化する（図１１（ｃ）参照）。その結果、凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状が転写された樹脂材料９が、順次、基板４上に接合されることとなる。その後、樹脂材料９の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図１１（ｄ）参照）。樹脂材料９の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【０１１５】
樹脂材料９を押圧する際の凸部付き部材製造用成形型６の温度は、樹脂材料９を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、樹脂材料９に凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、凸部付き部材製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の樹脂材料９の温度や、樹脂材料９の構成材料によっては、樹脂材料９に対して凸部付き部材製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
なお、図示の構成では、樹脂材料９は、凸部付き部材製造用成形型６の近傍で、基板４上に供給されるようになっているが、樹脂材料９が供給される部位はこれに限定されるものではない。例えば、樹脂材料９は、基板４上ではなく、凸部付き部材製造用成形型６上に供給されるものであってもよい。
【０１１６】
上記のようにして得られた基板本体２に対して、前述した実施形態と同様にしてブラックマトリックス３、着色部２２を形成することにより（上記＜Ｂ３＞〜＜Ｂ５＞および図９参照）、マイクロレンズ基板１を得ることができる。
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１２は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【０１１７】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えている。このため、リア型プロジェクタ３００を大型でかつ高品質のものとすることができる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１１８】
以上、本発明の凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材の製造方法、凸部付き部材、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、凸部付き部材製造用成形型、凸部付き部材（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。例えば、本発明の透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板の出射面側に、光拡散板や他のレンズ等がさらに配されたものであってもよい。
【０１１９】
また、本発明の凸部付き部材の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、凸部付き部材製造用成形型の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基材７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギー強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。
【０１２０】
また、前述した実施形態では、ロール状の基材に対して、直接エッチングを施すことにより、周面に凹部を形成するものとして説明したが、例えば、エッチングにより形成された凹部を有するシート材を、ロール状の基材の周面に巻き付けること等により製造されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）が、着色部、ブラックマトリックスを有するものとして説明したが、このような構成はなくてもよい。
【０１２１】
また、前述した実施形態では、基板にマイクロレンズ（凸部）を形成した後に、ブラックマトリックスを形成するものとして説明したが、例えば、基板のマイクロレンズ（凸部）を形成すべき面とは反対側の面に、予めフォトポリマーを付与しておいた状態で、マイクロレンズを形成してもよい。
また、前述した実施形態では、凸部付き部材製造用成形型を用いて、凸部付き部材としてのマイクロレンズ基板を製造するものとして説明したが、例えば、凸部付き部材製造用成形型を用いて製造される部材を凹部付き部材製造用成形型として用いてもよい。言い換えると、凸部付き部材製造用成形型の表面形状を転写することにより表面付近に凸部を有する部材（凹部付き部材製造用成形型）を製造し、この部材を用いて、表面付近に凹部を有する部材を製造してもよい。これにより、例えば、凹レンズとしてのマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板等を好適に製造することができる。なお、このような場合、凹部付き部材製造用成形型は、板状のものであってもよいし、ロール状のものであってもよい。
【０１２２】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板（凸部付き部材）とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明の凸部付き部材（マイクロレンズ基板）のみで構成されたものであってもよい。
【０１２３】
また、前述した実施形態では、凸部付き部材は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として説明したが、本発明の凸部付き部材の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明の凸部付き部材は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１２４】
［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型）を製造した。
まず、基材として、直径３５ｃｍ×幅（高さ）１６５ｍの円柱状（ロール状）のソーダガラス基材を用意した。
【０１２５】
このソーダガラス基材を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基材の周面上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基材の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクを形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０３μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１２６】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、その全体に均等に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径２.０μｍ、主走査方向における走査速度１００ｍｍ／秒という条件で、間欠的にレーザ光を照射することにより行った。また、レーザ光の照射は、ロール状のソーダガラス基材の周面の端部付近から、幅（長さ）方向についての走査（主走査）を、他端付近まで行い、その後、ロール状のソーダガラス基材を所定角度回転させ、さらに、前記と同様な走査（主走査）を繰り返すことにより行った。
【０１２７】
これにより、マスクのほぼ全面に亘って、ソーダガラス基材の幅方向に、所定の大きさを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンが形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
また、この際、ソーダガラス基材の表面に深さ０．０５μｍの凹部および変質層も形成した。
【０１２８】
次に、ソーダガラス基材にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基材上に多数の平面視したときの形状が略楕円形状（扁平形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（直径）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３７.５μｍ、深さは３６．５μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９７％であった。
【０１２９】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２時間とした。また、ウェットエッチングは、エッチング液中において、ソーダガラス基材を、その軸を中心に回転させつつ行った。また、ソーダガラス基材の回転方向は、ソーダガラス基材が３．５回転する毎に反転するようにした。
【０１３０】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクを除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、図４に示すような、ソーダガラス基材上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凸部付き部材製造用成形型を得た。得られた凸部付き部材製造用成形型の凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合（占有率）が９７％であった。
【０１３１】
上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型においては、凹部の長軸方向と凸部付き部材製造用成形型の軸方向とのなす角が０°であった。
次に、上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型を用いて、図７に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
次に、基板本体形成用の母材としての基板を用意した。当該基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×１．１ｍ、厚さ２ｍｍのシート状部材を用意した。
次に、上記のような基板をマイクロレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置した。
【０１３２】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により２００℃に加熱された。その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、凸部付き部材製造用成形型により、搬送されてきた基板に、凸部付き部材製造用成形型の表面形状を転写した。この際、凸部付き部材製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３３】
その後、冷却することで、樹脂材料を固化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５０であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは１．０９５ｍｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３６.０μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１３４】
その後、基板本体に対して、浸染により着色液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、かつ、ロール状の凸部付き部材製造用成形型で押圧された面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、９０℃に調整した。また、着色液付与時には、雰囲気の圧力が１２０ｋＰａとなるように加圧した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：１０重量部、界面活性剤：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。
【０１３５】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを２０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分に水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５％であった。
また、上記の凸部付き部材製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１３６】
（実施例２）
まず、前記実施例１と同様にして凸部付き部材製造用成形型を製造した。
次に、この凸部付き部材製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られた凸部付き部材製造用成形型を用いて、図１０に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
【０１３７】
次に、基板本体形成用の母材としての基板、および流動性を有する樹脂材料を用意した。前記基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×縦１．１ｍ、厚さ０．１ｍｍのシート状部材を用意した。また、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１１０℃）を用意した。
次に、前記基板をマイクレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置し、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）を流動性樹脂供給部に接続された樹脂貯留部に貯留した。
【０１３８】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により１８０℃に加熱された。また、樹脂貯留部に貯留された樹脂材料は、加熱手段により１９０℃に加熱された。
その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、流動性樹脂供給部から、搬送されてきた基板上に樹脂材料を供給した。樹脂材料が付与された基板は、基板搬送手段と凸部付き部材製造用成形型との間に導入され、この領域において、基板上の樹脂材料に、凸部付き部材製造用成形型の表面形状を転写した。この際、凸部付き部材製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３９】
その後、凸部付き部材製造用成形型の表面形状が転写された樹脂材料に紫外線を照射することにより、基板上の樹脂材料を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．６２であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは０．０５μｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３５．５μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１４０】
次に、上記のようにして得られた基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
【０１４１】
次に、フォトポリマーが付与された面とは反対の面側から、８０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。これにより、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、各マイクロレンズの焦点ｆ（ブラックマトリックスの厚さ方向の中心付近）近傍のフォトポリマーを選択的に露光した。
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
【０１４２】
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。形成されたブラックマトリックスの厚さは５μｍであった。
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材としてのシリカ粒子が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。
また、上記の凸部付き部材製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１４３】
（実施例３、４）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４４】
（実施例５、６）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４５】
（実施例７）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４６】
（実施例８）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凸部付き部材製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４７】
（比較例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた平板状の凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）を製造した。
まず、基板として、横１．７ｍ×縦１．１ｍ角、厚さ２．０ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
【０１４８】
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクおよび裏面保護膜を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
【０１４９】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１．６５ｃｍ×１．０５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、格子状（正方格子状）に配されたパターンが形成された。初期孔の平均。幅は２．０μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
【０１５０】
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．００５μｍの凹部および変質層も形成した。
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が円形状の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の直径は１００μｍ、曲率半径は６０μｍ、深さは４８μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
【０１５１】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．５時間とした。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が格子状（正方格子状）に配列された凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
【０１５２】
次に、上記のようにして得られた凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）のアクリル樹脂を付与した。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
【０１５３】
その後、紫外線を照射することにより、アクリル樹脂を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは２．０μｍであった。また、円形状のマイクロレンズは、その直径が１００μｍ、曲率半径が５０μｍ、高さが４７μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。
次に、基板本体から、平板、凹部付き基板を取り外した。この際、平板の除去は容易に行うことができたが、凹部付き基板の除去は極めて困難であった。十分慎重に凹部付き基板の除去を試みたが、形成されたマイクロレンズにカケ等の欠陥を生じてしまった。
【０１５４】
次に、上記のようにして得られた基板本体に対して、前記実施例１と同様にして、着色部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５５％であった。
また、上記の凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１５５】
（比較例２）
基板本体に対して、着色部を形成しなかった以外は、前記比較例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例について、凸部付き部材製造用成形型を製造する際に用いたマスクの構成、レーザ光の照射により形成された初期孔の形状、製造された凸部付き部材製造用成形型が有する凹部の形状、配列パターン、製造されたマイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの形状、配列パターン、マイクロレンズ基板（基板本体）の生産性等を表１にまとめて示す。
【０１５６】
【表１】
【０１５７】
表１から明らかなように、本発明では、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができたのに対し、比較例では、マイクロレンズ基板の生産性が著しく悪かった。より詳しく説明すると、本発明では、凸部付き部材製造用成形型から基板本体（マイクロレンズ基板）を剥離する操作を容易かつ確実に行うことができたのに対し、比較例では、凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）からの基板本体の剥離が困難であり、剥離には、本発明に比べて大きな力が必要であった。
【０１５８】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図１２に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［凹部付き部材の耐久性評価］
前記各実施例および各比較例の凸部付き部材製造用成形型について、５００枚のマイクロレンズ基板の製造を行った後の（基板本体の剥離を５００回繰り返し行った後の）凸部付き部材製造用成形型について、凹部が形成された面を、顕微鏡を用いて観察した。凸部付き部材製造用成形型表面の凹凸パターンの状態について以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：凹凸パターンの欠けが全く認められない。
○：凹凸パターンの欠けがほとんど認められない。
△：凹凸パターンの欠けがわずかに認められる。
×：凹凸パターンの欠けが顕著に認められる。
【０１５９】
［ドット抜け等の評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、ドット抜け、明るさのムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ドット抜け、明るさのムラが全く認められない。
○：ドット抜け、明るさのムラがほとんど認められない。
△：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１６０】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１６１】
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が５ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１６２】
ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストについて、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが５００以上。
○：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが４００以上５００未満。
△：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００以上４００未満。
×：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００未満。
【０１６３】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１６４】
【表２】
【０１６５】
表２から明らかなように、本発明では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った後でも、凸部付き部材製造用成形型において凹凸パターンの欠陥は認められなかった。また、本発明では、ドット抜け、明るさのムラ、回折光、モアレ、色ムラ等のない優れた画質の画像が得られた。また、本発明では、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。特に、凸部付き部材製造用成形型を繰り返し使用した後に製造されたマイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタにおいても、優れた結果が得られた。
【０１６６】
これに対し、比較例では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った凹部付き基板（凸部付き部材製造用成形型）では凹凸パターンの破壊がみられ、得られた基板本体（マイクロレンズ基板）を用いて製造された透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタでも満足な結果が得られなかった。これは、凹部付き基板において、カケ等の凹凸パターンの欠陥が発生することにより、製造されたマイクロレンズ基板においても、所望の形状のマイクロレンズを形成することができなかったり、基板本体を凹部付き基板から剥離する際に、マイクロレンズにカケ等の欠陥が生じてしまったためであると考えられる。
【０１６７】
また、凸部付き部材製造用成形型からの転写方法として、加熱して柔らかくした樹脂に型を押し付け冷却する、熱プレス転写法（押し出し成形含む）、モノマ樹脂を反応重合させ固める注型重合方法（キャステング法）、樹脂を光硬化させる２Ｐ法等の方法を用いた以外は、前記各実施例、前記各比較例と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを製造し、前記と同様な評価を行ったところ、前記と同様な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１６８】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明の凸部付き部材製造用成形型を示す模式的な斜視図である。
【図５】図４に示す凸部付き部材製造用成形型の縦断面図である。
【図６】図４、図５に示す凸部付き部材製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板（凸部付き部材）の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１６９】
１…マイクロレンズ基板（凸部付き部材） ２…基板本体 ２１…マイクロレンズ（凸部） ２２…着色部（外光吸収部） ２５…第１の行 ２６…第２の行 ３…ブラックマトリックス（遮光層） ３０…搬送手段 ３１…開口部 ３２…フォトポリマー ４…基板 ５…フレネルレンズ部 ５１…フレネルレンズ ６…凸部付き部材製造用成形型（マイクロレンズ基板製造用成形型） ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部） ６２…軸（回転軸） ７…基材 ７１…初期凹部 ８…マスク ８１…初期孔（開口部） ９…樹脂材料（流動性樹脂材料） １０…透過型スクリーン １００、１００’…マイクロレンズ基板製造装置（凸部付き部材製造装置） １１０…基板搬送手段 １２０…流動性樹脂供給部 ３００…リア型プロジェクタ ３１０…投写光学ユニット ３２０…導光ミラー ３４０…筐体
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズが一般的に用いられている。このようなレンチキュラレンズを備えた従来のリア型プロジェクタでは、左右の視野角が大きいが、上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
【０００３】
このような問題を解決する目的で、光学的に凹または凸の回転対称な形状のマイクロレンズが形成されたマイクロレンズシートを用いる試みがあった（例えば、特許文献１参照）。
そして、上記のようなマイクロレンズシート（マイクロレンズ基板）は、従来、複数のマイクロレンズ形成用凹部を有する凹部付き基板に、未硬化の樹脂を供給し、平滑な透明基板を接合し、押圧・密着させ、その後、樹脂を硬化させるという、いわゆる２Ｐ法を用いて製造されていた（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
しかし、上記のような方法では、硬化した樹脂を凹部付き基板から離型させるのが困難であるという問題がある。また、このような問題は、製造すべきマイクロレンズ基板が大面積であるとより一層顕著なものとなり、大型のマイクロレンズ基板を製造する際の歩留りが著しく低下する。
また、製造すべきマイクロレンズ基板が大型のもの（例えば、対角線長が１４０ｃｍ以上の基板）である場合、上記のような問題がより一層顕著になるとともに、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き基板の大きさも大きくなり、マイクロレンズ基板の製造設備がさらに大型化するという問題があった。また、ホームシアター用モニター、ディスプレイ等の近年の急速な大型化に伴い、それに対応するように凹部付き基板の大型化も求められており、各サイズに対応する多数種の凹部付き基板を製造する必要があった。その結果、マイクロレンズ基板の低価格化を阻害するという問題を引き起こしていた。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１３１５０６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００３−２７９９４９号公報（段落番号０１６７〜０１７３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、マイクロレンズ基板を生産性良く製造すること、マイクロレンズ基板を生産性良く製造するのに好適に用いることができるマイクロレンズ基板製造用成形型を提供すること、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板を提供すること、また、当該マイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型は、型押しすることで、凸曲面を備えたマイクロレンズを多数個有するマイクロレンズ基板を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記マイクロレンズに対応する形状の凹部を有することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造するのに好適に用いることができるマイクロレンズ基板製造用成形型を提供することができる。
【０００８】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体であることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の製造時において、マスクに対して、凹部形成用の開口部を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング時における基材（ロール状基材）とマスクとの密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、マイクロレンズ基板製造用成形型が有する凹部を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、マイクロレンズ基板のマイクロレンズの形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【０００９】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部は、略楕円形状を有するものであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板を、モアレ等の不都合等が特に発生し難く、かつ、視野角特性に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板の生産性を優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板について、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板の生産性を優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記凹部の深さが、５〜２５０μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるマイクロレンズ基板について、視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板の生産時における、マイクロレンズの形状の欠陥の発生をより効果的に防止することができる。
【００１３】
本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型では、前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものであることが好ましい。
これにより、各凹部について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板の特性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法は、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いてマイクロレンズ基板を製造することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００１５】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記マイクロレンズ基板製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００１６】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写することが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板を生産性良く製造することができる。特に、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生を効果的に防止しつつ、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００１７】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上であることが好ましい。
これにより、成形型の周面形状をより確実に転写することができる。
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板を提供することができる。
【００１８】
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズの欠損（カケ）等の欠陥の発生が効果的に防止されたマイクロレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、優れた画像を安定的に表示することができるリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
また、本発明のマイクロレンズ基板等の用途は、特に限定されないが、本実施形態では、主に、マイクロレンズ基板を、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する凸レンズ基板として用いるものとして説明する。
まず、マイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いたマイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、本発明のマイクロレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
【００２０】
図１は、本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すマイクロレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００２１】
マイクロレンズ基板１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ２１を備えた基板本体２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光層）３とを備えている。また、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。
【００２２】
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００２３】
基板本体２を構成する樹脂材料は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．２〜１．９であるのが好ましく、１．３５〜１．７５であるのがより好ましく、１．４５〜１．６であるのがさらに好ましい。樹脂材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２４】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２５】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２７】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２８】
また、マイクロレンズ２１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「マイクロレンズ２１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２９】
また、マイクロレンズ２１の高さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ２１の高さをＨ［μｍ］、マイクロレンズ２１の短軸方向の長さをＬ１［μｍ］としたとき、０．９０≦Ｌ１／Ｈ≦２．５０の関係を満足するのが好ましく、１．０≦Ｌ１／Ｈ≦１．８の関係を満足するのが好ましく、１．２≦Ｌ１／Ｈ≦１．６の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３０】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥格子状に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００３１】
上記のように、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３２】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、ブラックマトリックス（遮光層）３に設けられた開口部３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。また、開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、開口部３１の面積を小さくすることができる。すなわち、マイクロレンズ基板１を平面視したときの、ブラックマトリックス３（開口部３１以外の領域）で覆われた面積の割合を大きくすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３３】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７〜９９．５％であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が９０％以上であると、マイクロレンズ２１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心（頂部の中心）２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００３４】
また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部２２が設けられている。着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【００３５】
特に、本実施形態において、着色部２２は、後に詳述するように、基板本体２に着色液（特に、組成に特徴を有する着色液）を付与することにより形成されたものである。より詳しく説明すると、着色部２２は、後に詳述するような着色液を基板本体２に付与することにより、着色剤が基板本体２（マイクロレンズ２１）の内部に含浸して形成されたものである。着色部２２がこのようにして形成されたものであると、基板本体上に着色層を積層（外付け）した場合に比べて、着色層の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。
【００３６】
また、着色部２２は、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのをより確実に防止することができる。
また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【００３７】
着色部２２の濃度は、特に限定されないが、分光透過率に基づいたＹ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜８５％であるのが好ましく、３５〜７０％であるのがより好ましく、３５〜７０％であるのがさらに好ましい。着色部２２の濃度が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、着色部２２の濃度が前記下限値未満であると、入射光の透過率が低下し、得られる画像において十分な輝度が得られず、結果として、画像のコントラストが不十分となる可能性がある。また、着色部２２の濃度が前記上限値を超えると、外光（光の入射側とは反対側から入射する外光）の反射を十分に防止することが困難となり、明室において光源を全消灯させた際の、黒表示の表面輝度の増加量（黒輝度）が大きくなるため、画像のコントラストを向上させるという効果が十分に得られない可能性がある。
【００３８】
着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３９】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、層状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
【００４０】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．０１〜５μｍであるのが好ましく、０．０１〜３μｍであるのがより好ましく、０．０３〜１μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４１】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４２】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
次に、上述したマイクロレンズ基板の製造に好適に用いることができる本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型、および、その製造方法について説明する。
【００４３】
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ基板製造用成形型を示す模式的な斜視図、図５は、図４に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の縦断面図、図６は、図４、図５に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。なお、マイクロレンズ基板製造用成形型の製造においては、実際にはマイクロレンズ基板製造用成形型の周面を構成する基材上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４４】
図４に示すように、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、ロール形状をなしており、その周面に、多数個の凹部６１を有している。これらの凹部６１は、前述したマイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ２１に対応する形状を有し、かつ、これらのマイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式で配列している。すなわち、凹部６１は、通常、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の（マイクロレンズが凸部であるのに対し凹部であり、かつ、転写された形状、位置関係である以外は同一の）形状（寸法）、配列方式を有している。
【００４５】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、マイクロレンズ基板製造用成形型６を平面視した際の縦幅が横幅よりも大きい略楕円形（扁平形状、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４６】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（横方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４７】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（マイクロレンズ基板製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４８】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（マイクロレンズ基板製造用成形型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４９】
また、凹部６１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「凹部６１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００５０】
また、凹部６１の深さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００５１】
また、本実施形態では、凹部６１の長軸方向が、マイクロレンズ基板製造用成形型６の軸方向とほぼ同一である。これにより、後に詳述するようなマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２となるべき樹脂材料（マイクロレンズ基板製造用成形型６の表面形状が転写された樹脂材料）とマイクロレンズ基板製造用成形型６との剥離において、形成されたマイクロレンズ２１に欠陥が生じるのをより確実に防止することができる。凹部６１の長軸方向とマイクロレンズ基板製造用成形型６の軸方向とのなす角は、０〜１０°であるのが好ましく、０〜７°であるのがより好ましく、０〜５°であるのがさらに好ましい。これにより、上記のような効果は更に顕著なものとして現れる。
【００５２】
また、上記のように、凹部６１は、マイクロレンズ基板製造用成形型６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５３】
なお、上記の説明では、凹部６１が、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ基板１の基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する樹脂材料が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ２１と、マイクロレンズ基板製造用成形型６を構成する凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５４】
また、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面において、複数個の凹部６１は、マイクロレンズ基板製造用成形型（ロール）６の軸６２を中心として螺旋状に配されていてもよい。凹部６１がこのように配されていると、マイクロレンズ基板１の製造において、上述したような配列パターンのマイクロレンズ２１を容易かつ確実に形成することができる。また、複数個の凹部６１が螺旋状に配されていると、マイクロレンズ基板製造用成形型６の製造時（後述する初期孔形成工程）において、マスク８に対して、凹部形成用の初期孔（開口部）８１を所望の形状のものとして容易かつ確実に形成することができるとともに、エッチング工程における基材７とマスク８との密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、マイクロレンズ基板製造用成形型６が有する凹部６１を容易かつ確実に所望の形状に形成することができ、結果として、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状を容易かつ確実に所望の形状に形成することができる。
【００５５】
マイクロレンズ基板製造用成形型６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、その周面部付近が、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、銀、金、鉛、マグネシウム、チタン、ジルコニア、タングステン、モリブデン、コバルト等の他、金属ステンレス、４２ニッケル−鉄合金、真鍮、ジュラルミン等の各種金属材料や、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラスで構成されたものであるのが好ましい。マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、マイクロレンズ基板製造用成形型６が有する凹部６１の形状、配列パターンをより精確に転写することができるとともに、マイクロレンズ基板製造用成形型６の耐久性を優れたものとのすることができる。また、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面部付近が、上記のような材料で構成されたものであると、マイクロレンズ基板製造用成形型６の製造時において、所望の形状、配列パターンの凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５６】
また、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、例えば、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、後述するような方法において、より容易に、所望の形状、配列パターンのマイクロレンズ２１を形成することができる。
次に、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法について、図６を参照しながら説明する。
まず、マイクロレンズ基板製造用成形型６を製造するに際し、ロール状の基材７を用意する。
【００５７】
この基材７としては、略円柱状または略円筒状のものが好適に用いられる。また、基材７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
基材７の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００５８】
＜Ａ１＞図６（ａ）に示すように、用意した基材７の表面に、マスク８を形成する（マスキング工程）。
マスク８の構成材料は、特に限定されず、例えば、Ｃｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク８は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００５９】
上記のように、マスク８の構成は、特に限定されるものではないが、主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基材７をより確実に保護することができる）とともに、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができる。また、マスク８が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク８は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基材７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク８を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６０】
マスク８の形成方法は特に限定されないが、マスク８をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）で構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンで構成されたものとする場合、マスク８は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６１】
マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基材７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク８の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
【００６２】
＜Ａ２＞次に、図６（ｂ）に示すように、マスク８に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１を形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８に開口部（初期孔８１）を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。より具体的には、例えば、ロール状の基材７を、その軸を中心に回転させ、かつ、レーザ光の照射方向を一軸方向に走査させつつ、レーザ光の照射を間欠的に行うことにより、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、上述したような螺旋状に配された複数個の凹部６１に対応する複数個の初期孔（開口部）８１を効率良く形成することができる。その結果、マイクロレンズ基板製造用成形型の生産性、マイクロレンズ基板１の生産性が向上する。
【００６３】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６４】
マスク８に初期孔８１を形成するとき、図６（ｂ）に示すように、マスク８だけでなく基材７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ２１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
【００６５】
本工程で形成する初期孔８１の形状、大きさは特に限定されないが、初期孔８１が略円形である場合、その直径は、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６６】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．９〜３０μｍであるのが好ましく、１．５〜１５μｍであるのがより好ましく、２．０〜６μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、形成されたマスク８に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基材７にマスク８を形成する際に、予め基材７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８を形成することでマスク８に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
【００６７】
＜Ａ３＞次に、図６（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基材７にエッチングを施し、基材７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
このように、本発明では、凹部の形成をエッチングにより行う。これにより、生産性の高い型形成が可能である。また、凹部の形成を、プレス、研削、研磨等のエッチング以外の方法で行った場合には、高価で欠陥が多く、また、ムラのある型形成になるという問題があるのに対して、本発明では、安価で欠陥の少なくムラの無い型形成が可能である。
【００６８】
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基材７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図６（ｃ）に示すように、基材７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基材７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状の配置であるため、形成される凹部６１は、基材７の表面に千鳥状に配置されたものとなる。
【００６９】
また、本実施形態では、工程＜Ａ２＞でマスク８に初期孔８１を形成した際に、基材７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基材７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００７０】
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
【００７１】
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ基板製造用成形型６を提供することができる。
また、エッチング工程は、マスク８が付された基材７を、その軸７１を中心に回転させつつ行うのが好ましい。これにより、各凹部６１について、その形状のばらつきを特に小さくすることができ、製造されるマイクロレンズ基板１の特性（特に、光学特性）を特に優れたものとすることができる。特に、エッチング工程をウェットエッチングにより行う場合、エッチング液の深さの違いによる圧力差（水圧差）により、エッチングの進行の度合いが各部位で異なるものとなりやすいが、基材７を回転させることにより、このような問題の発生も効果的に防止することができる。
【００７２】
また、エッチング工程において、基材７の回転（相対的な回転を含む）を行う場合、基材７の回転方向（相対的な回転方向）を、経時的に変化させるのが好ましい。すなわち、基材７の回転方向を反転させつつ、エッチングを行うのが好ましい。これにより、例えば、エッチング液の液流やエッチングガスのガス流による不均一なエッチングが進行するのをより確実に防止することができ、形成する凹部６１の形状をより好適なものとすることができる。
【００７３】
＜Ａ４＞次に、図６（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。
マスク８が、前述したような主としてＣｒで構成される層と、主として酸化Ｃｒで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
以上により、図６（ｄ）および図４に示すように、基材７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成されたマイクロレンズ基板製造用成形型６が得られる。
【００７４】
基材７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成し、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基材７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８に所定パターンで開口部（初期孔８１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ基板製造用成形型６を提供することができる。また、本発明では、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ基板製造用成形型がロール形状であるため、フォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合、凹部（凹部に対応する開口部）を設計の形状通りに形成するのは極めて困難であるが、レーザ光の照射により行う場合、容易かつ確実に所望の形状、配列パターンの凹部（凹部に対応する開口部）を形成することができる。
【００７５】
なお、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面には、離型剤等により、離型性を向上させるため等の処理が施されていてもよい。これにより、このマイクロレンズ基板製造用成形型６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１の形状、配置等をより確実に好適なものとすることができる。
次に、上述したマイクロレンズ基板製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
【００７６】
マイクロレンズ基板は、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されるものであるが、以下の実施形態では、特に、マイクロレンズ基板製造用成形型を備えたマイクロレンズ基板製造装置を用いて、マイクロレンズ基板を製造するものとして説明する。
図７は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図、図８、図９は、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図７中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
【００７７】
まず、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を説明するに先立ち、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の構成の一例について説明する。
マイクロレンズ基板製造装置１００は、図７に示すように、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、上述したようなマイクロレンズ基板製造用成形型６とを有している。
【００７８】
基板搬送手段１１０は、基板４を搬送する機能を有している。図示の構成では、基板搬送手段１１０は、基板４をマイクロレンズ基板製造装置１００の左から右へ搬送するよう構成されている。
マイクロレンズ基板製造用成形型６は、基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４を押圧して、その周面の形状を基板４に転写する機能を有している。
【００７９】
マイクロレンズ基板製造用成形型６は、ロール形状をなしており、軸（回転軸）６２を中心に回転可能となっている。また、上述したように、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、マイクロレンズ２１に対応する形状を有する、複数の凹部６１を備えている。
また、マイクロレンズ基板製造用成形型６は、軸６２を中心に回転可能なものである。マイクロレンズ基板製造用成形型６は、搬送されてきた基板４により押圧され、基板４の移動（搬送）に伴って回転させられる（回転自在に保持された）構成のものであってもよいし、モータ等の図示しない駆動手段により回転するものであってもよい。このような駆動手段を有する場合、基板４の搬送速度等に応じて、マイクロレンズ基板製造用成形型６の回転速度をより精確に制御することができる。その結果、好適な形状のマイクロレンズ２１をより確実に形成することができる。
【００８０】
また、このようなマイクロレンズ基板製造用成形型６は、搬送手段３０と所定距離だけ離間するように配置されている。通常、マイクロレンズ基板製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離は、基板４の厚さよりも小さく（短く）なっている。
また、このマイクロレンズ基板製造用成形型６は、その内部に図示しない加熱手段を有していてもよい。これにより、基板４にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状を容易かつ確実に転写することができる。このような加熱手段としては、例えば、電熱線やカートリッジヒータ等が挙げられる。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置（マイクロレンズ基板製造用成形型）を用いた、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法について説明する。
【００８１】
＜Ｂ１＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４を用意する。
基板４は、前述した基板本体２の構成材料に対応する材料で構成されたものである。また、基板４は、厚さが均一で、傷等のないものが好適に用いられる。基板４は、マイクロレンズ基板製造用成形型６の押圧により変形可能なものであれば、いかなるものであってもよいが、マイクロレンズ基板製造用成形型６の凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１を精確に形成するためには、主として、樹脂材料、特に熱可塑性樹脂で構成されたものであるのが好ましい。
【００８２】
基板４の平均厚さは、マイクロレンズ基板製造用成形型６と基板搬送手段１１０とのギャップ（最短長さ）、基板４を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．００５〜５ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜４ｍｍ程度であるのがより好ましく、０．５〜３ｍｍ程度であるのがさらに好ましく、１〜３ｍｍ程度であるのがもっとも好ましい。
【００８３】
なお、基板４を構成する材料には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【００８４】
＜Ｂ２＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図８（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６との間に送り込まれる（図８（ｂ）参照）。これにより、基板４がマイクロレンズ基板製造用成形型６により押圧される。また、基板４の搬送に伴って、マイクロレンズ基板製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、マイクロレンズ基板製造用成形型６による基板４の押圧部位が経時的に変化する（図８（ｃ）参照）。その結果、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状が基板４に転写される。その後、基板４の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図８（ｄ）参照）。基板４の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【００８５】
基板４が樹脂材料で構成されたものである場合、基板４を押圧する際のマイクロレンズ基板製造用成形型６の温度は、基板４を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、基板４にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、マイクロレンズ基板製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の基板４の温度や、基板４の構成材料によっては、基板４に対してマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
【００８６】
このように、本発明においては、ローラ状のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いるため、製造すべきマイクロレンズ基板が大型のものであっても、容易かつ確実に製造することができ、また、製造されるマイクロレンズ基板の特性（特に光学特性）を優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板を連続して製造することができ、マイクロレンズ基板の生産性が向上する。また、製造すべきマイクロレンズ基板に対して、マイクロレンズ基板製造用成形型の大きさを十分に小さいものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板製造用成形型の大きさ（特に、径）が比較的小さいものであっても、様々な大きさのマイクロレンズ基板の製造に適用することができる。したがって、マイクロレンズ基板の製造コストの低減に大きく寄与することができる。
【００８７】
また、基板４がシート状、フィルム状、可撓性を有する板状等のものである場合、例えば、基板４をローラ等の基板供給部に巻きつけておき、基板搬送手段１１０による基板４の搬送に伴い、基板４を基板供給部から引き出すような構成にすることにより、マイクロレンズ基板の生産性の更なる向上（製造設備の省スペース化）を図ることができる。また、このような場合、例えば、製造されたマイクロレンズ基板を、ローラ等のマイクロレンズ基板回収手段に巻き取ることにより回収してもよい。
【００８８】
＜Ｂ３＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス３を形成する。
まず、図９（ａ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー３２を付与する。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００８９】
＜Ｂ４＞次に、図９（ｂ）に示すように、基板本体２に、入射側表面に対して垂直方向の露光用光Ｌｂを照射する。照射された露光用光Ｌｂは各マイクロレンズ２１を通過することによって集光する。これにより、マイクロレンズ２１の焦点ｆ近傍の（集光された光が入射した部位の）フォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２のみが感光する。
【００９０】
その後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、感光した焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図９（ｃ）に示すように、マイクロレンズ２１の光軸Ｌに対応する部分に開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【００９１】
このように、本実施形態の製造方法では、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた露光用光を照射することにより、ブラックマトリックスを形成するので、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
また、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００９２】
＜Ｂ５＞その後、ブラックマトリックス３が形成された基板本体２に対して着色液を付与することにより、着色部２２を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（図９（ｄ）参照）。
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の着色を容易かつ確実に行うことができることを、本発明者は見出した。特に、アクリル系樹脂のように、従来、着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００９３】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールと着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。
【００９４】
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な厚さの着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板本体（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、均一な厚さで（色ムラなく）着色部を形成することができる。
【００９５】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特に、均一な厚さの着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、浸染に用いることができる染料が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）との親和性が高いためであると考えられる。
【００９６】
着色液を付与する工程は、着色液および／または基板本体２を、６０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。
【００９７】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【００９８】
以下、本工程で用いる着色液について、より詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【００９９】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。
【０１００】
前述したように、本実施形態で用いる着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであるが、さらに、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものであるのが好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、さらに効率良く着色部を形成することができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【０１０１】
すなわち、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを含む着色液（以下、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンジルアルコールを総称して、「添加物」ともいう）を用いることにより、着色液中の添加物が基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、添加物と着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色される。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、これらが相補的に作用し合い、着色液による着色を良好なものとするためであると考えられる。
【０１０２】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、ベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０３】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
【０１０４】
着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０５】
また、着色液中にベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物が含まれる場合、着色液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０６】
また、着色液は、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【０１０７】
次に、上述したマイクロレンズ基板製造用成形型６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法の他の実施形態について説明する。
図１０は、本発明のレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図、図１１は、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【０１０８】
以下の説明では、主に、前述した実施形態との相違点について説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図１０に示すように、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、マイクロレンズ基板１の母材としての基板４を搬送する基板搬送手段１１０と、流動性を有する樹脂材料（流動性樹脂材料）９を供給する流動性樹脂供給部１２０と、マイクロレンズ基板製造用成形型６とを有している。すなわち、本実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００’は、流動性樹脂供給部１２０を有する点において、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００と異なっている。流動性樹脂供給部１２０を有することにより、基板４の温度を比較的低い温度に維持しつつ、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面形状を転写することができる。その結果、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、好適な形状、配置のマイクロレンズ２１を備えたマイクロレンズ基板１を容易かつ確実に得ることができる。
【０１０９】
流動性樹脂供給部１２０は、供給される樹脂材料９が基板４のほぼ全面（マイクロレンズ基板１の有効レンズ領域に対応する部分）に付与されるように構成されている。
そして、本実施形態においては、基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６とのギャップ（マイクロレンズ基板製造用成形型６と搬送手段３０との最短距離）は、前記実施形態のマイクロレンズ基板製造装置１００でのギャップより大きく設定されている。基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６とのギャップは、特に限定されないが、通常、基板４の厚さより大きく設定されている。
次に、上記のようなマイクロレンズ基板製造装置１００’を用いた、マイクロレンズ基板の製造方法について説明する。
【０１１０】
＜Ｂ１’＞まず、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１を製造するに際し、基板４、樹脂材料９を用意する。
基板４は、前述した実施形態と同様のものを好適に用いることができるが、樹脂材料９により形成される部位の厚さを考慮して、前述したものに比べてやや薄いものを用いてもよい。
また、樹脂材料９としては、比較的低い温度で流動性を維持できる材料を用いるのが好ましい。
【０１１１】
樹脂材料９のガラス転移点は、１５〜２００℃であるのが好ましく、２０〜１５０℃であるのがより好ましく、２４〜１３０℃であるのがさらに好ましい。樹脂材料９のガラス転移点が前記範囲内の値であると、基板４の熱変形等を効果的に防止しつつ、樹脂材料９にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。
なお、樹脂材料９には、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（基板４を構成する樹脂とは異なる樹脂）等の光拡散剤を含んでいてもよい。これにより、マイクロレンズ基板１を後述する透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散板等の構成を省略しても視野角特性を優れたものとすることができるので、例えば、透過型スクリーンの薄型化、リア型プロジェクタの薄型化を図ることができる。
【０１１２】
＜Ｂ２’＞上記のような基板４を基板搬送手段１１０により搬送する（図１１（ａ）参照）。この際、基板４は、必要に応じて、加温（加熱）されていてもよい。これにより、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状の転写を容易かつ確実に行うことができる。
基板搬送手段１１０により搬送されてきた基板４は、基板搬送手段１１０とマイクロレンズ基板製造用成形型６との間に送り込まれる。この際、流動性樹脂供給部１２０から、基板４とマイクロレンズ基板製造用成形型６との間に、樹脂材料９が供給される（図１１（ｂ）参照）。これにより、樹脂材料９がマイクロレンズ基板製造用成形型６および基板４により押圧される。ここで、樹脂材料９は適度に流動性を有する（軟化した）状態のものなので、マイクロレンズ基板製造用成形型６の表面形状に対応するように変形する。また、基板４の搬送に伴って、マイクロレンズ基板製造用成形型６が軸６２を中心にして回転し、マイクロレンズ基板製造用成形型６による樹脂材料９の押圧部位が経時的に変化する（図１１（ｃ）参照）。その結果、マイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状が転写された樹脂材料９が、順次、基板４上に接合されることとなる。その後、樹脂材料９の構成材料を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、凹部６１に対応する形状、配置のマイクロレンズ２１が形成された、基板本体２が得られる（図１１（ｄ）参照）。樹脂材料９の構成材料の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【０１１３】
樹脂材料９を押圧する際のマイクロレンズ基板製造用成形型６の温度は、樹脂材料９を構成する樹脂材料のガラス転移点以上の温度であるのが好ましい。これにより、樹脂材料９にマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状をより確実に転写できる。これに対し、マイクロレンズ基板製造用成形型６の温度が低すぎると、押圧する前の樹脂材料９の温度や、樹脂材料９の構成材料によっては、樹脂材料９に対してマイクロレンズ基板製造用成形型６の周面の形状を十分に転写するのが困難となる場合がある。
なお、図示の構成では、樹脂材料９は、マイクロレンズ基板製造用成形型６の近傍で、基板４上に供給されるようになっているが、樹脂材料９が供給される部位はこれに限定されるものではない。例えば、樹脂材料９は、基板４上ではなく、マイクロレンズ基板製造用成形型６上に供給されるものであってもよい。
【０１１４】
上記のようにして得られた基板本体２に対して、前述した実施形態と同様にしてブラックマトリックス３、着色部２２を形成することにより（上記＜Ｂ３＞〜＜Ｂ５＞および図９参照）、マイクロレンズ基板１を得ることができる。
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１２は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【０１１５】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えている。このため、リア型プロジェクタ３００を大型でかつ高品質のものとすることができる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１１６】
以上、本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、マイクロレンズ基板製造用成形型、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。例えば、本発明の透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板の出射面側に、光拡散板や他のレンズ等がさらに配されたものであってもよい。
【０１１７】
また、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基材７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギー強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。
【０１１８】
また、前述した実施形態では、ロール状の基材に対して、直接エッチングを施すことにより、周面に凹部を形成するものとして説明したが、例えば、エッチングにより形成された凹部を有するシート材を、ロール状の基材の周面に巻き付けること等により製造されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、着色部、ブラックマトリックスを有するものとして説明したが、このような構成はなくてもよい。
【０１１９】
また、前述した実施形態では、基板にマイクロレンズを形成した後に、ブラックマトリックスを形成するものとして説明したが、例えば、基板のマイクロレンズを形成すべき面とは反対側の面に、予めフォトポリマーを付与しておいた状態で、マイクロレンズを形成してもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、マイクロレンズ基板を製造するものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造される部材を凹部付き部材製造用成形型として用いてもよい。言い換えると、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状を転写することにより表面付近に凸部を有する部材（凹部付き部材製造用成形型）を製造し、この部材を用いて、表面付近に凹部を有する部材を製造してもよい。これにより、例えば、凹レンズとしてのマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板等を好適に製造することができる。なお、このような場合、凹部付き部材製造用成形型は、板状のものであってもよいし、ロール状のものであってもよい。
【０１２０】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として説明したが、本発明のマイクロレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。
【実施例】
【０１２１】
［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ基板製造用成形型を製造した。
まず、基材として、直径３５ｃｍ×幅（高さ）１６５ｍの円柱状（ロール状）のソーダガラス基材を用意した。
【０１２２】
このソーダガラス基材を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基材の周面上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基材の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクを形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０３μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１２３】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、その全体に均等に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径２.０μｍ、主走査方向における走査速度１００ｍｍ／秒という条件で、間欠的にレーザ光を照射することにより行った。また、レーザ光の照射は、ロール状のソーダガラス基材の周面の端部付近から、幅（長さ）方向についての走査（主走査）を、他端付近まで行い、その後、ロール状のソーダガラス基材を所定角度回転させ、さらに、前記と同様な走査（主走査）を繰り返すことにより行った。
【０１２４】
これにより、マスクのほぼ全面に亘って、ソーダガラス基材の幅方向に、所定の大きさを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンが形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
また、この際、ソーダガラス基材の表面に深さ０．０５μｍの凹部および変質層も形成した。
【０１２５】
次に、ソーダガラス基材にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基材上に多数の平面視したときの形状が略楕円形状（扁平形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（直径）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３７.５μｍ、深さは３６．５μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９７％であった。
【０１２６】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２時間とした。また、ウェットエッチングは、エッチング液中において、ソーダガラス基材を、その軸を中心に回転させつつ行った。また、ソーダガラス基材の回転方向は、ソーダガラス基材が３．５回転する毎に反転するようにした。
【０１２７】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクを除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、図４に示すような、ソーダガラス基材上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列されたマイクロレンズ基板製造用成形型を得た。得られたマイクロレンズ基板製造用成形型の凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合（占有率）が９７％であった。
【０１２８】
上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型においては、凹部の長軸方向とマイクロレンズ基板製造用成形型の軸方向とのなす角が０°であった。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、図７に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
次に、基板本体形成用の母材としての基板を用意した。当該基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×１．１ｍ、厚さ２ｍｍのシート状部材を用意した。
次に、上記のような基板をマイクロレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置した。
【０１２９】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により２００℃に加熱された。その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、マイクロレンズ基板製造用成形型により、搬送されてきた基板に、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状を転写した。この際、マイクロレンズ基板製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３０】
その後、冷却することで、樹脂材料を固化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５０であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは１．０９５ｍｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３６.０μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１３１】
その後、基板本体に対して、浸染により着色液を付与した。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、かつ、ロール状のマイクロレンズ基板製造用成形型で押圧された面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、９０℃に調整した。また、着色液付与時には、雰囲気の圧力が１２０ｋＰａとなるように加圧した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：１０重量部、界面活性剤：２重量部、純水：１０００重量部の混合物を用いた。
【０１３２】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを２０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分に水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５％であった。
また、上記のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１３３】
（実施例２）
まず、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板製造用成形型を製造した。
次に、このマイクロレンズ基板製造用成形型の周面（凹部が形成された面）に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与した。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、図１０に示すようなマイクロレンズ基板製造装置を製造した。
【０１３４】
次に、基板本体形成用の母材としての基板、および流動性を有する樹脂材料を用意した。前記基板としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１５０℃）で構成され、横１．７ｍ×縦１．１ｍ、厚さ０．１ｍｍのシート状部材を用意した。また、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）としては、アクリル樹脂（ガラス転移点１１０℃）を用意した。
次に、前記基板をマイクレンズ基板製造装置の基板搬送手段上に配置し、前記樹脂材料（流動性を有する樹脂材料）を流動性樹脂供給部に接続された樹脂貯留部に貯留した。
【０１３５】
基板搬送手段上の基板は、加熱手段により１８０℃に加熱された。また、樹脂貯留部に貯留された樹脂材料は、加熱手段により１９０℃に加熱された。
その後、基板搬送手段により、加熱された基板を所定速度で搬送し、流動性樹脂供給部から、搬送されてきた基板上に樹脂材料を供給した。樹脂材料が付与された基板は、基板搬送手段とマイクロレンズ基板製造用成形型との間に導入され、この領域において、基板上の樹脂材料に、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状を転写した。この際、マイクロレンズ基板製造用成形型は、加熱手段により、その表面付近が１８５℃に加熱された状態であった。
【０１３６】
その後、マイクロレンズ基板製造用成形型の表面形状が転写された樹脂材料に紫外線を照射することにより、基板上の樹脂材料を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．６２であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは０．０５μｍであった。また、略楕円形状（扁平形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３５．５μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９７％であった。
【０１３７】
次に、上記のようにして得られた基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
【０１３８】
次に、フォトポリマーが付与された面とは反対の面側から、８０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。これにより、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、各マイクロレンズの焦点ｆ（ブラックマトリックスの厚さ方向の中心付近）近傍のフォトポリマーを選択的に露光した。
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
【０１３９】
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。形成されたブラックマトリックスの厚さは５μｍであった。
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材としてのシリカ粒子が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。
また、上記のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１４０】
（実施例３、４）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４１】
（実施例５、６）
マスクの構成、レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４２】
（実施例７）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４３】
（実施例８）
レーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、マイクロレンズ基板製造用成形型の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターンを表１に示すように変更した以外は、前記実施例２と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４４】
（比較例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた平板状の凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）を製造した。
まず、基板として、横１．７ｍ×縦１．１ｍ角、厚さ２．０ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
【０１４５】
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体で構成されたのマスクおよび裏面保護膜を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
【０１４６】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１．６５ｃｍ×１．０５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、格子状（正方格子状）に配されたパターンが形成された。初期孔の平均。幅は２．０μｍであり、平均長さは２．１μｍであった。
【０１４７】
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．００５μｍの凹部および変質層も形成した。
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が円形状の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の直径は１００μｍ、曲率半径は６０μｍ、深さは４８μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
【０１４８】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．５時間とした。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が格子状（正方格子状）に配列された凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
【０１４９】
次に、上記のようにして得られた凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）のアクリル樹脂を付与した。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
【０１５０】
その後、紫外線を照射することにより、アクリル樹脂を硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは２．０μｍであった。また、円形状のマイクロレンズは、その直径が１００μｍ、曲率半径が５０μｍ、高さが４７μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。
次に、基板本体から、平板、凹部付き基板を取り外した。この際、平板の除去は容易に行うことができたが、凹部付き基板の除去は極めて困難であった。十分慎重に凹部付き基板の除去を試みたが、形成されたマイクロレンズにカケ等の欠陥を生じてしまった。
【０１５１】
次に、上記のようにして得られた基板本体に対して、前記実施例１と同様にして、着色部を形成することにより、マイクロレンズ基板（横１．６ｍ×縦１．０ｍ）を得た。形成された着色部の濃度は、５５％であった。
また、上記の凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）を用いて、上記と同様な操作を繰り返し行うことにより、合計５００枚のマイクロレンズ基板を製造した。
そして１枚目のマイクロレンズ基板および５００枚目のマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１５２】
（比較例２）
基板本体に対して、着色部を形成しなかった以外は、前記比較例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例について、マイクロレンズ基板製造用成形型を製造する際に用いたマスクの構成、レーザ光の照射により形成された初期孔の形状、製造されたマイクロレンズ基板製造用成形型が有する凹部の形状、配列パターン、製造されたマイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの形状、配列パターン、マイクロレンズ基板（基板本体）の生産性等を表１にまとめて示す。
【０１５３】
【表１】
【０１５４】
表１から明らかなように、本発明では、生産性良くマイクロレンズ基板を製造することができたのに対し、比較例では、マイクロレンズ基板の生産性が著しく悪かった。より詳しく説明すると、本発明では、マイクロレンズ基板製造用成形型から基板本体（マイクロレンズ基板）を剥離する操作を容易かつ確実に行うことができたのに対し、比較例では、凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）からの基板本体の剥離が困難であり、剥離には、本発明に比べて大きな力が必要であった。
【０１５５】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図１２に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［マイクロレンズ基板製造用成形型の耐久性評価］
前記各実施例および各比較例のマイクロレンズ基板製造用成形型について、５００枚のマイクロレンズ基板の製造を行った後の（基板本体の剥離を５００回繰り返し行った後の）マイクロレンズ基板製造用成形型について、凹部が形成された面を、顕微鏡を用いて観察した。マイクロレンズ基板製造用成形型表面の凹凸パターンの状態について以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：凹凸パターンの欠けが全く認められない。
○：凹凸パターンの欠けがほとんど認められない。
△：凹凸パターンの欠けがわずかに認められる。
×：凹凸パターンの欠けが顕著に認められる。
【０１５６】
［ドット抜け等の評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、ドット抜け、明るさのムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ドット抜け、明るさのムラが全く認められない。
○：ドット抜け、明るさのムラがほとんど認められない。
△：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：ドット抜け、明るさのムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１５７】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１５８】
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が５ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１５９】
ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストについて、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが５００以上。
○：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが４００以上５００未満。
△：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００以上４００未満。
×：ＬＷ／ＬＢで表されるコントラストが３００未満。
【０１６０】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１６１】
【表２】
【０１６２】
表２から明らかなように、本発明では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った後でも、マイクロレンズ基板製造用成形型において凹凸パターンの欠陥は認められなかった。また、本発明では、ドット抜け、明るさのムラ、回折光、モアレ、色ムラ等のない優れた画質の画像が得られた。また、本発明では、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。特に、マイクロレンズ基板製造用成形型を繰り返し使用した後に製造されたマイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタにおいても、優れた結果が得られた。
【０１６３】
これに対し、比較例では、基板本体（マイクロレンズ基板）の製造（剥離）を繰り返し行った凹部付き基板（マイクロレンズ基板製造用成形型）では凹凸パターンの破壊がみられ、得られた基板本体（マイクロレンズ基板）を用いて製造された透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタでも満足な結果が得られなかった。これは、凹部付き基板において、カケ等の凹凸パターンの欠陥が発生することにより、製造されたマイクロレンズ基板においても、所望の形状のマイクロレンズを形成することができなかったり、基板本体を凹部付き基板から剥離する際に、マイクロレンズにカケ等の欠陥が生じてしまったためであると考えられる。
【０１６４】
また、マイクロレンズ基板製造用成形型からの転写方法として、加熱して柔らかくした樹脂に型を押し付け冷却する、熱プレス転写法（押し出し成形含む）、モノマ樹脂を反応重合させ固める注型重合方法（キャステング法）、樹脂を光硬化させる２Ｐ法等の方法を用いた以外は、前記各実施例、前記各比較例と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを製造し、前記と同様な評価を行ったところ、前記と同様な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１６５】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明のマイクロレンズ基板製造用成形型を示す模式的な斜視図である。
【図５】図４に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の縦断面図である。
【図６】図４、図５に示すマイクロレンズ基板製造用成形型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法に適用されるマイクロレンズ基板製造装置の他の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１６６】
１…マイクロレンズ基板 ２…基板本体 ２１…マイクロレンズ ２２…着色部（外光吸収部） ２５…第１の行 ２６…第２の行 ３…ブラックマトリックス（遮光層） ３０…搬送手段 ３１…開口部 ３２…フォトポリマー ４…基板 ５…フレネルレンズ部 ５１…フレネルレンズ ６…マイクロレンズ基板製造用成形型 ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部） ６２…軸（回転軸） ７…基材 ７１…初期凹部 ８…マスク ８１…初期孔（開口部） ９…樹脂材料（流動性樹脂材料） １０…透過型スクリーン １００、１００’…マイクロレンズ基板製造装置 １１０…基板搬送手段 １２０…流動性樹脂供給部 ３００…リア型プロジェクタ ３１０…投写光学ユニット ３２０…導光ミラー ３４０…筐体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型押しすることで、凸曲面を備えた凸部を多数個有する凸部付き部材を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周表面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記凸部に対応する形状の凹部を有することを特徴とする凸部付き部材製造用成形型。
【請求項２】
前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体である請求項１に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項３】
前記凹部は、略楕円形状を有するものである請求項１または２に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項４】
前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍである請求項３に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項５】
前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍである請求項３または４に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項６】
前記凹部の深さが、５〜２５０μｍである請求項１ないし５のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項７】
前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものである請求項１ないし６のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項８】
前記凹部は、マイクロレンズ形成用凹部である請求項１ないし７のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型を用いて凸部付き部材を製造することを特徴とする凸部付き部材の製造方法。
【請求項１０】
主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記凸部付き部材製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写する請求項９に記載の凸部付き部材の製造方法。
【請求項１１】
板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写する請求項９に記載の凸部付き部材の製造方法。
【請求項１２】
押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上である請求項１０または１１に記載の凸部付き部材の製造方法。
【請求項１３】
請求項１ないし８のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とする凸部付き部材。
【請求項１４】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とする凸部付き部材。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の凸部付き部材を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１６】
請求項１５に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型押しすることで、凸曲面を備えたマイクロレンズを多数個有するマイクロレンズ基板を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記マイクロレンズに対応する形状の凹部を有することを特徴とするマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項２】
前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体である請求項１に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項３】
前記凹部は、略楕円形状を有するものである請求項１または２に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項４】
前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍである請求項３に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項５】
前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍである請求項３または４に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項６】
前記凹部の深さが、５〜２５０μｍである請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項７】
前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものである請求項１ないし６のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いてマイクロレンズ基板を製造することを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記マイクロレンズ基板製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写する請求項８に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写する請求項８に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上である請求項９または１０に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１３】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１５】
請求項１４に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【請求項１】
型押しすることで、凸曲面を備えた凸部を多数個有する凸部付き部材を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周表面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記凸部に対応する形状の凹部を有することを特徴とする凸部付き部材製造用成形型。
【請求項２】
前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体である請求項１に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項３】
前記凹部は、略楕円形状を有するものである請求項１または２に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項４】
前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍである請求項３に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項５】
前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍである請求項３または４に記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項６】
前記凹部の深さが、５〜２５０μｍである請求項１ないし５のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項７】
前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものである請求項１ないし６のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項８】
前記凹部は、マイクロレンズ形成用凹部である請求項１ないし７のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型を用いて凸部付き部材を製造することを特徴とする凸部付き部材の製造方法。
【請求項１０】
主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記凸部付き部材製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写する請求項９に記載の凸部付き部材の製造方法。
【請求項１１】
板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写する請求項９に記載の凸部付き部材の製造方法。
【請求項１２】
押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上である請求項１０または１１に記載の凸部付き部材の製造方法。
【請求項１３】
請求項１ないし８のいずれかに記載の凸部付き部材製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とする凸部付き部材。
【請求項１４】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とする凸部付き部材。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の凸部付き部材を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１６】
請求項１５に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型押しすることで、凸曲面を備えたマイクロレンズを多数個有するマイクロレンズ基板を製造する成形型であって、
成形型はロール形状をなすものであり、
成形型の型押しする周面に、マスクを用いたエッチングにより形成され、かつ、前記マイクロレンズに対応する形状の凹部を有することを特徴とするマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項２】
前記マスクは、主としてＣｒで構成された層と、主として酸化Ｃｒで構成された層とを有する積層体である請求項１に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項３】
前記凹部は、略楕円形状を有するものである請求項１または２に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項４】
前記凹部の長軸方向の長さが、１０〜５００μｍである請求項３に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項５】
前記凹部の短軸方向の長さが、１０〜４００μｍである請求項３または４に記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項６】
前記凹部の深さが、５〜２５０μｍである請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項７】
前記エッチングは、前記マスクが付されたロール状の基材を、その軸を中心に回転させつつ行うものである請求項１ないし６のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いてマイクロレンズ基板を製造することを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
主として樹脂材料で構成された母材に対して、加熱した状態の前記マイクロレンズ基板製造用成形型を、相対的に回転させつつ押圧し、前記母材に前記成形型の周面の形状を転写する請求項８に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
板状またはシート状の基材の表面付近に、流動性を有する樹脂材料を付与しつつ、相対的に回転する前記成形型で、前記樹脂材料を前記母材に対して押圧し、前記成形型の周面の形状を転写する請求項８に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
押圧時における前記型の温度は、前記樹脂材料のガラス転移点以上である請求項９または１０に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ基板製造用成形型を用いて製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１３】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１５】
請求項１４に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００６−１１６８２６（Ｐ２００６−１１６８２６Ａ）
【公開日】平成１８年５月１１日（２００６．５．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−３０７４６０（Ｐ２００４−３０７４６０）
【出願日】平成１６年１０月２１日（２００４．１０．２１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年５月１１日（２００６．５．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１０月２１日（２００４．１０．２１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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