【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ｂ１−１５）で表される化合物；該化合物からなる酸発生剤；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分及び該化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物。式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、一般式（ｂ１５−１）で表される官能基で置換された置換アリール基である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂ１−１５）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
【化１】

［式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、水素原子の一部または全部が下記一般式（ｂ１５−１）で表される官能基で置換された置換アリール基であり；Ｘ⁻はアニオンである。］
【化２】

［式中、Ｒ^５２は酸によって解離しない基を表し；Ｗ^２は単結合または２価の連結基を表し；ｎは０または１を表す。］
【請求項２】
前記一般式（ｂ１５−１）におけるＲ^５２が酸によって解離しない、置換基を有しても良い炭化水素基を表す請求項１記載のレジスト組成物。
【請求項３】
前記炭化水素基が環式基である請求項２記載のレジスト組成物。
【請求項４】
前記基材成分（Ａ）は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分である請求項１〜３のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項５】
前記基材成分（Ａ）は樹脂成分（Ａ１）であって、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する請求項４記載のレジスト組成物。
【請求項６】
前記基材成分（Ａ）は、さらにラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する請求項５記載のレジスト組成物。
【請求項７】
前記基材成分（Ａ）は、さらに極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）を有する請求項５または６記載のレジスト組成物。
【請求項８】
含窒素有機化合物（Ｄ）を含有する請求項１〜７のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
【請求項１０】
下記一般式（ｂ１−１５）で表される化合物。
【化３】

［式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、水素原子の一部または全部が下記一般式（ｂ１５−１）で表される官能基で置換された置換アリール基であり；Ｘ⁻はアニオンである。］
【化４】

［式中、Ｒ^５２は酸によって解離しない基を表し；Ｗ^２は単結合または２価の連結基を表し；ｎは０または１を表す。］
【請求項１１】
前記一般式（ｂ１５−１）におけるＲ^５２が酸によって解離しない、置換基を有しても良い炭化水素基を表す請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
前記炭化水素基が環式基である請求項１１記載の化合物。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の化合物からなる酸発生剤。

【公開番号】特開２０１０−１２０９２３（Ｐ２０１０−１２０９２３Ａ）
【公開日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１１３５７７（Ｐ２００９−１１３５７７）
【出願日】平成２１年５月８日（２００９．５．８）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】