光回折構造付き磁気転写シート
【課題】光回折構造付きの磁気情報記録部を転写により容易に形成することが可能な光回折構造付き磁気転写シートの提供。
【解決手段】支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気情報記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていると共に、バリア層はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率は光回折構造形成層よりも高く設定されていることを特徴とする光回折構造付き磁気転写シート。
【解決手段】支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気情報記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていると共に、バリア層はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率は光回折構造形成層よりも高く設定されていることを特徴とする光回折構造付き磁気転写シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所望の輝度感を有し、且つガスバリア性に優れる光回折構造付きの磁気情報記録部を転写により容易に形成することが可能な光回折構造付き磁気転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、カードや商品券等の有価証券類の偽造を防止するために、偽造が困難であり、かつ一瞥で真贋を判定することが可能なホログラムを初めとする光回折構造体が種々の形態で利用されている。また近年では、パソコン部品や機器部品、スポーツ用品等の各種製品にこれらの光回折構造体を貼付け、真正品であることが明確に認識できるようにしたり、偽造品の流通をし難くすることが盛んに行なわれるようになっている。
【０００３】
一方、磁気情報記録媒体として広く知られているものとして、クレジットカードやキャッシュカード等の磁気カードがある。これらの磁気カードにおいても、改竄や偽造を防止するための方策が施されていることが非常に重要であり、前述したホログラム等の光回折構造体をその一部に貼付け、偽造防止策としていることが多い。
【０００４】
しかしながら、これらの磁気カードは、形状や磁気記録部を設ける位置等が規格で厳しく規制されており、限られたスペースの中に磁気情報記録部を設け、そこに用途や持ち主、有効期限等に係る磁気情報を記録しておく必要があると共に、カードとして相応しい意匠性をも有していなければならない。しかしながら、偽造防止策として貼付ける光回折構造体はその貼付けスペースが制約されてしまうため、カードとして相応しいデザインが表現し難かった。
【０００５】
このような問題を解決する手段の一つとして、ホログラム等の光回折構造体を積層して一体化させてなる磁気テープやこれを用いて製造される磁気カードが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
この磁気カードは、光の回折による色彩の変化を表現するための光回折構造を有し、光反射性の高い金属薄膜からなる光反射層を有しているが、この金属箔膜の光反射層は、金属からなるが故に層全体が導電性を示す。そのため、このような金属箔膜の光反射層を有するカードに静電気が帯電している場合、この光反射層を通じて、一瞬にしてカードの一点から放電してスパークを生じさせ、磁気データの読取りや書き込みを不安定にしたり、磁気データの読取り装置を故障させてしまうことがある。
【０００７】
このような状況に対応し、近年では、光反射性の金属薄膜を島状に配置して設け、電気導電性を示さないようにした海島構造の蒸着薄膜（錫の蒸着薄膜）を設けた構成のものが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００８】
しかしながら、海島構造の錫の蒸着薄膜は導電性を示さないように微小な粒で設けられているため、粒同士の隙間にあたる、所謂海の部分では光反射性が損なわれ、所期の輝度感が表現できなかった。また、海島構造の錫の薄膜は水蒸気等に対する耐性が劣っているという欠点も有していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平６−１６７９２０号公報
【特許文献２】特開２００８−１５０７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は以上のような状況に鑑みなされたものであり、その課題とするところは、支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていて、静電気を放電させて磁気データの読取りや書き込みを不安定にしたり、磁気データ読取り装置を故障させるといった問題を生じさせることがないと共に、海島構造の錫の蒸着薄膜の低い光反射性を補い、且つ水蒸気による酸化をも防げるようにした、光回折構造付き磁気転写シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上のような課題を解決するためになされ、請求項１記載の発明は、支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気情報記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていると共に、バリア層はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率は光回折構造形成層よりも高く設定されていることを特徴とする光回折構造付き磁気転写シートである。
【００１２】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の光回折構造付き磁気転写シートにおいて、前記バリア層は、珪素、アルミニウム、錫、チタンから選ばれる金属の酸化物もしくは窒化物のいずれかからなり、その層厚が５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の磁気転写シートは、光回折構造形成層と光反射層との層間に屈折率が光回折構造形成層より高く、ガスバリア性に優れるバリア層が設けられているので、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層の光反射率が改善され、しかも水蒸気による酸化が防げるようになっているため、輝度感および耐久性に優れる光回折構造付きの磁気情報記録部が所定の被転写体に転写・形成できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の光回折構造付き磁気転写シートを用いて作製された、光回折構造付き磁気情報記録部を有する磁気カードの概略の平面状態を示す説明図である。
【図２】本発明の光回折構造付き磁気転写シートの一実施の形態の概略の断面構成を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための形態を、図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
本発明の光回折構造付き磁気転写シートは、図２にも示すように、支持体３１上に、少なくとも剥離性保護層３２、光回折構造形成層３３、バリア層３４、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５、磁気情報記録層３６、接着層３７がこの相対的順序で積層されていて、バリア層３４はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率が光回折構造形成層３３よりも高く設定されている。
【００１７】
支持体３１としては、厚みが安定しており、且つ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、必ずしもこれに限定されるものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等の耐熱性の高いフィルムを用いることができる。また、他のフィルム、例えば、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等からなるフィルムでも、その上に設ける各層の形成用材料、例えば塗液の塗工条件や乾燥条件等を満足できるものであれば使用可能である。
【００１８】
また、転写する際に後述する剥離性保護層３２の剥離が困難となるような場合には、この支持体３１の剥離性保護層３２を形成する面に離形層を設けておいてもよい。また、剥離が軽すぎるような場合には易接着処理を行って剥離性が適宜の範囲内に収まるように調整しておいてもよい。また、転写性に影響を及ぼさない範囲で、帯電防止処理やマット処理、エンボス処理等を施しておいてもよい。
【００１９】
このような支持体３１の上に設けられている剥離性保護層３２は、支持体３１との界面で剥がれて被転写体側にその他の層とともに転移する層であって、被転写体側に転写した際には後述する光回折構造層３３を覆うようになり、機械的損傷や携帯時の擦り等に係る外部損傷、生活物質（酒、水等）に対する悪影響が起きないようにするための役目を担っている。
【００２０】
このような剥離性保護層３２の構成材料としては、熱硬化系、湿気硬化系、紫外線硬化系、電子線硬化系等の各種樹脂が挙げられる。耐摩擦性を付与する目的で滑剤がこれらの樹脂に対して２０重量部程度添加されていてもよい。
【００２１】
一方、光回折構造形成層３３は、光の回折による色彩を発現する層であり、例えば、５０ｎｍ〜２０００ｎｍ程度の凹凸パターンがプレス版にて成形されてなるものである。そして、その主となる構成材料としては熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が挙げられる。より具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等の紫外線あるいは電子線硬化樹脂を挙げることができる。これらは単独で用いても、複合して用いてもよい。
【００２２】
この光回折構造形成層３３には、上述したように、ホログラム等の光回折構造となる凹凸形状がプレス加工される。そして、その凹凸構造はピッチが５ｎｍ乃至２０００ｎｍ程度で、深さが２０ｎｍ〜５００ｎｍ程度の形状で設けられる。
【００２３】
このような光回折構造形成層３３上に設けられるバリア層３４は、その上に設けられる海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５の光反射率の改善と、水蒸気による酸化等を防ぐために設けられている層であって、光回折構造形成層３３よりも屈折率が高く、ガスバリア性に優れる無機酸化物からなるものである。
【００２４】
ガスバリア性の高い薄膜形成用材料としてはＳｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物もしくは窒化物等が挙げられる。これらの中では、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｔｉから選ばれる金属を含む酸化物もしくは窒化物が好ましく用いられる。その中でも屈折率の高い材料の例としては、ＴｉＯ２（２．６）ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）が挙げられる。ここで化学式の後ろに続くカッコ内の数値は、それぞれの屈折率ｎである。
【００２５】
これらの材料を用いて真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等にて５ｎｍ〜５００ｎｍ程度の層厚で薄膜を設け、バリア層３４とすればよい。層の厚みが有りすぎると曲げ応力が加わることによりクラックが発生し、薄すぎると膜が層を形成せずに島状に分布してしまうため、水蒸気バリア性等のガスバリア性が悪くなる。従って、１０ｎｍ〜２００
ｎｍ程度の厚みで設けることが望ましい。また、上記した材料を用い、２層以上に積層して設けるようにしてもよい。
【００２６】
このようなバリア層３４の上に設けられている、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５は、主として、静電気が放電して磁気データの読取りや書き込みを不安定にしたり、磁気データ読取り装置を故障させないようにするために設ける層である。
【００２７】
このような海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５は、真空蒸着等における蒸発速度、膜層厚等を制御することにより形成することができる。ここで海島構造とは、錫からなる微小な薄膜を島とみたてた場合、個々の島がそれ以外の海とみたてた部分に独立して配置された構造の薄膜層であり、隣り合わせた各島とは接続していない状態のものである。島の間隔は１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度であればよいが、１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度であればより好ましい。
【００２８】
このような海島構造の錫の蒸着薄膜からなる光反射層３５の上に設けられている磁気情報記録層３６は、γ−酸化鉄、マグネタイト、コバルト被着γＦｅ２Ｏ３、バリウムフェライト、二酸化クロム、鉄系メタル磁性粉等の磁性粉をバインダー中に分散して作製した磁性塗料を、コーティング法にて５〜２０μｍ程度の厚みで形成した層である。
【００２９】
磁性塗料には、必要に応じて界面活性剤、可塑剤、ワックス、カーボンブラックやフィラー類を添加することもできる。
【００３０】
そして、このような磁気情報記録層３６の上に設けられているのが接着層３７であり、様々な被転写体（例えば、紙・プラスチックフィルム）に接した状態で熱および圧力が与えられることにより、被転写体側に転移、接着する機能を有する層である。
【００３１】
具体的な構成材料としては、熱可塑性樹脂等の感熱性接着材料が使用される。そして、公知のコーティング法によって１〜１０μｍ程度の厚みで設ければよい。
【００３２】
以下、本発明の実施例について述べる。
【実施例】
【００３３】
厚みが２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）の一方の面に、下記組成の剥離性保護層の形成用材料を用いてグラビアコート法により厚みが１μｍの剥離性保護層を塗布・形成した。
【００３４】
次に、この剥離性保護層の上に、下記組成の光回折構造形成層の形成用材料を用いてグラビアコート法により厚みが２μｍの薄膜を塗布・形成した。そして、この薄膜に対して光回折構造の凹凸形状を面付けしたニッケル製のプレス版を用いて、ロールエンボス法にて成型加工を施し、光回折構造形成層を得た。
【００３５】
続いて、この光回折構造形成層上に真空蒸着法により酸化ケイ素（Ｓｉ２Ｏ３）の薄膜を１０ｎｍで蒸着し、バリア層を設けた。そして、このバリア層上には、真空蒸着法により錫（Ｓｎ）の海島構造の薄膜を蒸着し、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層を設けた。光反射層の島の部分は１００ｎｍで、その間隔は１０ｎｍであった。
【００３６】
そして、光反射層の上には下記組成の磁気情報記録層の形成用材料を用いてマイクログラビア法により厚みが８μｍの薄膜を塗布し、磁気情報記録層を設けた。そして最後に、この磁気情報記録層上に、下記組成の接着層の形成用材料を用いてグラビアコート法により厚みが２μｍの薄膜を塗布し、接着層を設け、本発明の光回折構造付き磁気転写シート
を得た。
【００３７】
［剥離性保護層の形成用材料］
アクリル樹脂 １５部
ポリエチレンＷＡＸ １部
メチルエチルケトン ５０部
トルエン ３４部
［光回折構造形成層の形成用材料］
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １５部
ウレタン樹脂 １０部
メチルエチルケトン ５０部
トルエン ２５部
［磁気情報記録層の形成用材料］
γＦｅ２Ｏ３磁性粉 ３０部
塩酢ビ共重合体 ３部
ポリウレタンエラストマー ２０部
メチルエチルケトン １５部
トルエン １５部
［接着層の形成用材料]
ポリエステル樹脂 ２０部
酢酸エチル ６０部
酢酸ブチル ２０部
【００３８】
＜比較例＞
バリア層を設けなった以外は実施例と同様にして、比較のための光回折構造付き磁気転写シートを作製した。
【００３９】
以上のようにして得られた実施例と比較例に係るそれぞれの磁気転写シートを、ポリカーボネイトからなるカード基体にその接着層が当接するように配置させ、しかる後に磁気転写シートの支持体（ＰＥＴフィルム）側から加熱押圧した後、支持体を剥がし、図１にその外観を示すような、部分的に光回折構造付き磁気情報記録部を設けてなる、磁気カードを作製した。
【００４０】
そして、以上のようにして作製されたそれぞれの磁気カードの外観観察による輝度感の評価、および雰囲気温度９５℃−湿度９５％条件下に１週間保存した後の磁気カードの外観評価を行なった。表１にその評価結果を示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】
表１からもわかるように、実施例に係る光回折構造付き磁気転写シートを使用して作製された磁気カードは、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層の海にあたる部分の背後にも光反射性を有する高屈折率のバリア層が位置しているため、輝度感が比較例に係る光回折構造付き磁気転写シートを使用して作製された磁気カードよりも高く、且つ水蒸気の進入を阻止できるために、高温多湿の条件下においても錫の薄膜からなる光反射層の変色が無かった。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明の光回折構造付き磁気転写シートは、キャシュカード、クレジットカード、通帳等の磁気情報記録媒体の作製に好適に用いられ、それを使用して得られる磁気情報記録媒体の静電気による不具合を防止し、かつ耐久性の高い光回折構造をその一部に付与するこ
とができる。
【符号の説明】
【００４４】
１ 光回折構造付き磁気情報記録部
３１ 支持体
３２ 剥離性保護層
３３ 光回折構造形成層
３４ バリア層
３５ 光反射層
３６ 磁気情報記録層
３７ 接着層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所望の輝度感を有し、且つガスバリア性に優れる光回折構造付きの磁気情報記録部を転写により容易に形成することが可能な光回折構造付き磁気転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、カードや商品券等の有価証券類の偽造を防止するために、偽造が困難であり、かつ一瞥で真贋を判定することが可能なホログラムを初めとする光回折構造体が種々の形態で利用されている。また近年では、パソコン部品や機器部品、スポーツ用品等の各種製品にこれらの光回折構造体を貼付け、真正品であることが明確に認識できるようにしたり、偽造品の流通をし難くすることが盛んに行なわれるようになっている。
【０００３】
一方、磁気情報記録媒体として広く知られているものとして、クレジットカードやキャッシュカード等の磁気カードがある。これらの磁気カードにおいても、改竄や偽造を防止するための方策が施されていることが非常に重要であり、前述したホログラム等の光回折構造体をその一部に貼付け、偽造防止策としていることが多い。
【０００４】
しかしながら、これらの磁気カードは、形状や磁気記録部を設ける位置等が規格で厳しく規制されており、限られたスペースの中に磁気情報記録部を設け、そこに用途や持ち主、有効期限等に係る磁気情報を記録しておく必要があると共に、カードとして相応しい意匠性をも有していなければならない。しかしながら、偽造防止策として貼付ける光回折構造体はその貼付けスペースが制約されてしまうため、カードとして相応しいデザインが表現し難かった。
【０００５】
このような問題を解決する手段の一つとして、ホログラム等の光回折構造体を積層して一体化させてなる磁気テープやこれを用いて製造される磁気カードが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
この磁気カードは、光の回折による色彩の変化を表現するための光回折構造を有し、光反射性の高い金属薄膜からなる光反射層を有しているが、この金属箔膜の光反射層は、金属からなるが故に層全体が導電性を示す。そのため、このような金属箔膜の光反射層を有するカードに静電気が帯電している場合、この光反射層を通じて、一瞬にしてカードの一点から放電してスパークを生じさせ、磁気データの読取りや書き込みを不安定にしたり、磁気データの読取り装置を故障させてしまうことがある。
【０００７】
このような状況に対応し、近年では、光反射性の金属薄膜を島状に配置して設け、電気導電性を示さないようにした海島構造の蒸着薄膜（錫の蒸着薄膜）を設けた構成のものが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００８】
しかしながら、海島構造の錫の蒸着薄膜は導電性を示さないように微小な粒で設けられているため、粒同士の隙間にあたる、所謂海の部分では光反射性が損なわれ、所期の輝度感が表現できなかった。また、海島構造の錫の薄膜は水蒸気等に対する耐性が劣っているという欠点も有していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平６−１６７９２０号公報
【特許文献２】特開２００８−１５０７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は以上のような状況に鑑みなされたものであり、その課題とするところは、支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていて、静電気を放電させて磁気データの読取りや書き込みを不安定にしたり、磁気データ読取り装置を故障させるといった問題を生じさせることがないと共に、海島構造の錫の蒸着薄膜の低い光反射性を補い、且つ水蒸気による酸化をも防げるようにした、光回折構造付き磁気転写シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上のような課題を解決するためになされ、請求項１記載の発明は、支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気情報記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていると共に、バリア層はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率は光回折構造形成層よりも高く設定されていることを特徴とする光回折構造付き磁気転写シートである。
【００１２】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の光回折構造付き磁気転写シートにおいて、前記バリア層は、珪素、アルミニウム、錫、チタンから選ばれる金属の酸化物もしくは窒化物のいずれかからなり、その層厚が５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の磁気転写シートは、光回折構造形成層と光反射層との層間に屈折率が光回折構造形成層より高く、ガスバリア性に優れるバリア層が設けられているので、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層の光反射率が改善され、しかも水蒸気による酸化が防げるようになっているため、輝度感および耐久性に優れる光回折構造付きの磁気情報記録部が所定の被転写体に転写・形成できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の光回折構造付き磁気転写シートを用いて作製された、光回折構造付き磁気情報記録部を有する磁気カードの概略の平面状態を示す説明図である。
【図２】本発明の光回折構造付き磁気転写シートの一実施の形態の概略の断面構成を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための形態を、図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
本発明の光回折構造付き磁気転写シートは、図２にも示すように、支持体３１上に、少なくとも剥離性保護層３２、光回折構造形成層３３、バリア層３４、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５、磁気情報記録層３６、接着層３７がこの相対的順序で積層されていて、バリア層３４はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率が光回折構造形成層３３よりも高く設定されている。
【００１７】
支持体３１としては、厚みが安定しており、且つ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、必ずしもこれに限定されるものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等の耐熱性の高いフィルムを用いることができる。また、他のフィルム、例えば、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等からなるフィルムでも、その上に設ける各層の形成用材料、例えば塗液の塗工条件や乾燥条件等を満足できるものであれば使用可能である。
【００１８】
また、転写する際に後述する剥離性保護層３２の剥離が困難となるような場合には、この支持体３１の剥離性保護層３２を形成する面に離形層を設けておいてもよい。また、剥離が軽すぎるような場合には易接着処理を行って剥離性が適宜の範囲内に収まるように調整しておいてもよい。また、転写性に影響を及ぼさない範囲で、帯電防止処理やマット処理、エンボス処理等を施しておいてもよい。
【００１９】
このような支持体３１の上に設けられている剥離性保護層３２は、支持体３１との界面で剥がれて被転写体側にその他の層とともに転移する層であって、被転写体側に転写した際には後述する光回折構造層３３を覆うようになり、機械的損傷や携帯時の擦り等に係る外部損傷、生活物質（酒、水等）に対する悪影響が起きないようにするための役目を担っている。
【００２０】
このような剥離性保護層３２の構成材料としては、熱硬化系、湿気硬化系、紫外線硬化系、電子線硬化系等の各種樹脂が挙げられる。耐摩擦性を付与する目的で滑剤がこれらの樹脂に対して２０重量部程度添加されていてもよい。
【００２１】
一方、光回折構造形成層３３は、光の回折による色彩を発現する層であり、例えば、５０ｎｍ〜２０００ｎｍ程度の凹凸パターンがプレス版にて成形されてなるものである。そして、その主となる構成材料としては熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が挙げられる。より具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等の紫外線あるいは電子線硬化樹脂を挙げることができる。これらは単独で用いても、複合して用いてもよい。
【００２２】
この光回折構造形成層３３には、上述したように、ホログラム等の光回折構造となる凹凸形状がプレス加工される。そして、その凹凸構造はピッチが５ｎｍ乃至２０００ｎｍ程度で、深さが２０ｎｍ〜５００ｎｍ程度の形状で設けられる。
【００２３】
このような光回折構造形成層３３上に設けられるバリア層３４は、その上に設けられる海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５の光反射率の改善と、水蒸気による酸化等を防ぐために設けられている層であって、光回折構造形成層３３よりも屈折率が高く、ガスバリア性に優れる無機酸化物からなるものである。
【００２４】
ガスバリア性の高い薄膜形成用材料としてはＳｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物もしくは窒化物等が挙げられる。これらの中では、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｔｉから選ばれる金属を含む酸化物もしくは窒化物が好ましく用いられる。その中でも屈折率の高い材料の例としては、ＴｉＯ２（２．６）ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）が挙げられる。ここで化学式の後ろに続くカッコ内の数値は、それぞれの屈折率ｎである。
【００２５】
これらの材料を用いて真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等にて５ｎｍ〜５００ｎｍ程度の層厚で薄膜を設け、バリア層３４とすればよい。層の厚みが有りすぎると曲げ応力が加わることによりクラックが発生し、薄すぎると膜が層を形成せずに島状に分布してしまうため、水蒸気バリア性等のガスバリア性が悪くなる。従って、１０ｎｍ〜２００
ｎｍ程度の厚みで設けることが望ましい。また、上記した材料を用い、２層以上に積層して設けるようにしてもよい。
【００２６】
このようなバリア層３４の上に設けられている、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５は、主として、静電気が放電して磁気データの読取りや書き込みを不安定にしたり、磁気データ読取り装置を故障させないようにするために設ける層である。
【００２７】
このような海島構造の錫の薄膜からなる光反射層３５は、真空蒸着等における蒸発速度、膜層厚等を制御することにより形成することができる。ここで海島構造とは、錫からなる微小な薄膜を島とみたてた場合、個々の島がそれ以外の海とみたてた部分に独立して配置された構造の薄膜層であり、隣り合わせた各島とは接続していない状態のものである。島の間隔は１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度であればよいが、１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度であればより好ましい。
【００２８】
このような海島構造の錫の蒸着薄膜からなる光反射層３５の上に設けられている磁気情報記録層３６は、γ−酸化鉄、マグネタイト、コバルト被着γＦｅ２Ｏ３、バリウムフェライト、二酸化クロム、鉄系メタル磁性粉等の磁性粉をバインダー中に分散して作製した磁性塗料を、コーティング法にて５〜２０μｍ程度の厚みで形成した層である。
【００２９】
磁性塗料には、必要に応じて界面活性剤、可塑剤、ワックス、カーボンブラックやフィラー類を添加することもできる。
【００３０】
そして、このような磁気情報記録層３６の上に設けられているのが接着層３７であり、様々な被転写体（例えば、紙・プラスチックフィルム）に接した状態で熱および圧力が与えられることにより、被転写体側に転移、接着する機能を有する層である。
【００３１】
具体的な構成材料としては、熱可塑性樹脂等の感熱性接着材料が使用される。そして、公知のコーティング法によって１〜１０μｍ程度の厚みで設ければよい。
【００３２】
以下、本発明の実施例について述べる。
【実施例】
【００３３】
厚みが２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）の一方の面に、下記組成の剥離性保護層の形成用材料を用いてグラビアコート法により厚みが１μｍの剥離性保護層を塗布・形成した。
【００３４】
次に、この剥離性保護層の上に、下記組成の光回折構造形成層の形成用材料を用いてグラビアコート法により厚みが２μｍの薄膜を塗布・形成した。そして、この薄膜に対して光回折構造の凹凸形状を面付けしたニッケル製のプレス版を用いて、ロールエンボス法にて成型加工を施し、光回折構造形成層を得た。
【００３５】
続いて、この光回折構造形成層上に真空蒸着法により酸化ケイ素（Ｓｉ２Ｏ３）の薄膜を１０ｎｍで蒸着し、バリア層を設けた。そして、このバリア層上には、真空蒸着法により錫（Ｓｎ）の海島構造の薄膜を蒸着し、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層を設けた。光反射層の島の部分は１００ｎｍで、その間隔は１０ｎｍであった。
【００３６】
そして、光反射層の上には下記組成の磁気情報記録層の形成用材料を用いてマイクログラビア法により厚みが８μｍの薄膜を塗布し、磁気情報記録層を設けた。そして最後に、この磁気情報記録層上に、下記組成の接着層の形成用材料を用いてグラビアコート法により厚みが２μｍの薄膜を塗布し、接着層を設け、本発明の光回折構造付き磁気転写シート
を得た。
【００３７】
［剥離性保護層の形成用材料］
アクリル樹脂 １５部
ポリエチレンＷＡＸ １部
メチルエチルケトン ５０部
トルエン ３４部
［光回折構造形成層の形成用材料］
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １５部
ウレタン樹脂 １０部
メチルエチルケトン ５０部
トルエン ２５部
［磁気情報記録層の形成用材料］
γＦｅ２Ｏ３磁性粉 ３０部
塩酢ビ共重合体 ３部
ポリウレタンエラストマー ２０部
メチルエチルケトン １５部
トルエン １５部
［接着層の形成用材料]
ポリエステル樹脂 ２０部
酢酸エチル ６０部
酢酸ブチル ２０部
【００３８】
＜比較例＞
バリア層を設けなった以外は実施例と同様にして、比較のための光回折構造付き磁気転写シートを作製した。
【００３９】
以上のようにして得られた実施例と比較例に係るそれぞれの磁気転写シートを、ポリカーボネイトからなるカード基体にその接着層が当接するように配置させ、しかる後に磁気転写シートの支持体（ＰＥＴフィルム）側から加熱押圧した後、支持体を剥がし、図１にその外観を示すような、部分的に光回折構造付き磁気情報記録部を設けてなる、磁気カードを作製した。
【００４０】
そして、以上のようにして作製されたそれぞれの磁気カードの外観観察による輝度感の評価、および雰囲気温度９５℃−湿度９５％条件下に１週間保存した後の磁気カードの外観評価を行なった。表１にその評価結果を示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】
表１からもわかるように、実施例に係る光回折構造付き磁気転写シートを使用して作製された磁気カードは、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層の海にあたる部分の背後にも光反射性を有する高屈折率のバリア層が位置しているため、輝度感が比較例に係る光回折構造付き磁気転写シートを使用して作製された磁気カードよりも高く、且つ水蒸気の進入を阻止できるために、高温多湿の条件下においても錫の薄膜からなる光反射層の変色が無かった。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明の光回折構造付き磁気転写シートは、キャシュカード、クレジットカード、通帳等の磁気情報記録媒体の作製に好適に用いられ、それを使用して得られる磁気情報記録媒体の静電気による不具合を防止し、かつ耐久性の高い光回折構造をその一部に付与するこ
とができる。
【符号の説明】
【００４４】
１ 光回折構造付き磁気情報記録部
３１ 支持体
３２ 剥離性保護層
３３ 光回折構造形成層
３４ バリア層
３５ 光反射層
３６ 磁気情報記録層
３７ 接着層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気情報記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていると共に、バリア層はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率は光回折構造形成層よりも高く設定されていることを特徴とする光回折構造付き磁気転写シート。
【請求項２】
前記バリア層は、珪素、アルミニウム、錫、チタンから選ばれる金属を含む酸化物もしくは窒化物のいずれかからなり、その層厚は５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とする請求項１記載の光回折構造付き磁気転写シート。
【請求項１】
支持体上に、少なくとも剥離性保護層、光回折構造形成層、バリア層、海島構造の錫の薄膜からなる光反射層、磁気情報記録層、接着層がこの相対的順序で積層されていると共に、バリア層はガスバリア性を有する無機化合物の薄膜からなり、且つその屈折率は光回折構造形成層よりも高く設定されていることを特徴とする光回折構造付き磁気転写シート。
【請求項２】
前記バリア層は、珪素、アルミニウム、錫、チタンから選ばれる金属を含む酸化物もしくは窒化物のいずれかからなり、その層厚は５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とする請求項１記載の光回折構造付き磁気転写シート。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１１−２１８６１９（Ｐ２０１１−２１８６１９Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８８４３６（Ｐ２０１０−８８４３６）
【出願日】平成２２年４月７日（２０１０．４．７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月７日（２０１０．４．７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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