光学活性な環式アミンの製造方法
光学活性な環式アミンの製造方法。
式(Ｉ)
【化１】
［式中、Ａ、R0、Rはそれぞれ請求項１に定義された通りであり、そしてR0及びＡ、又はＲ及びＡ、又はR0及びＲは、環を形成することもでき、ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上のＲ及びNH−R0基は、互いにシス配列で配置され、そしてこれらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置と異なる］の光学活性な環式アミン又はその塩は、式(II)
【化２】
［式中、Ａ、R0及びＲは、それぞれ式(Ｉ)に定義された通りである］のイミン(ラセミ体のイミン)を、水素又は水素供与体及びルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウム、白金、鉄、ニッケル及びサマリウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属と有機配位子との触媒的に活性な光学活性な錯体からなる非酵素的な触媒の存在下で式(Ｉ)の化合物に転化することからなる方法によって効果的に製造することができる。
式(Ｉ)
【化１】
［式中、Ａ、R0、Rはそれぞれ請求項１に定義された通りであり、そしてR0及びＡ、又はＲ及びＡ、又はR0及びＲは、環を形成することもでき、ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上のＲ及びNH−R0基は、互いにシス配列で配置され、そしてこれらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置と異なる］の光学活性な環式アミン又はその塩は、式(II)
【化２】
［式中、Ａ、R0及びＲは、それぞれ式(Ｉ)に定義された通りである］のイミン(ラセミ体のイミン)を、水素又は水素供与体及びルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウム、白金、鉄、ニッケル及びサマリウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属と有機配位子との触媒的に活性な光学活性な錯体からなる非酵素的な触媒の存在下で式(Ｉ)の化合物に転化することからなる方法によって効果的に製造することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性成分、例えば作物保護組成物又は薬剤の活性成分の合成に使用することができる光学活性な中間体の製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性な化合物は、光学活性な活性成分を製造するための中間体としてしばしば必要である。これはエナンチオ選択的製造方法にあてはまり、その際、所望の空間的構造が中間体の段階である種のキラル中心で導入され、そして１つ又はそれ以上の製造工程を通して活性成分上へ保持される。適切な中間体は、光学活性な天然物質又はエナンチオ選択的反応を用いてアキラル化合物からキラル中心が得られる化合物、又は選択的やり方で、存在する鏡像異性体の一方のみがエナンチオ選択的に転化されてさらに使用されるラセミ化合物である。
【０００３】
アミノ化合物は、活性作物保護成分及び活性薬剤成分の中間体として大きな重要性を有する。光学活性なアミンを製造するための多くの方法が知られており；例えばAngew. Chem. Int. Ed. 2004 (116) 806−843及びそこに引用された文献参照。光学活性な酸を用いたジアステレオマー塩を経た古典的光学分割に加えて、いくつかは、光学活性な出発物質の使用及び所望の化合物へのエナンチオ選択的転化に関する。他の方法は、酵素反応、例えば酵素又は微生物を用いたアミノ交換に基づく。他の方法では、エナンチオ選択的にキラル中心を得る反応において合成の光学活性な試薬及びその性質の使用を再び利用する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
知られている方法は、通常、ある種の基質上で非常に特異的に使用することしかできないという欠点を有する。構造的に異なる基質では、化学収率、鏡像体過剰率、選択性、純度、反応時間並びに出発物質及び補助剤の有用性といったようなパラメーターに関する結果が不十分であることが多い。従って、特定の場合に、そしてまた一般に光学活性なアミンを製造する代替方法を提供する必要がある。
【０００５】
ここで、第２の隣接するキラル中心を有するある種の光学活性な環式アミンは、隣接するキラル中心に関してラセミ体の形態で存在する化合物から特に有効なやり方でエナンチオ選択的に製造することができることが今や見い出された。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、式(Ｉ)
【化１】
［式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和の非芳香族環であり、これは３〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そしてＲ及びNH−R0基に加えてさらに置換されていてもよく、
R0は、Ｒと独立して(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニルであり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C6)アルコキシ、(C1−C6)ハロアルコキシ、(C1−C6)アルキルチオ、(C1−C6)アルカノイルオキシ、(C1−C6)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されていてもよく、ここで最後の５個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、又は
(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
【０００７】
Ｒは、R0と独立して
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニルであり、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C6)アルコキシ、(C1−C6)ハロアルコキシ、(C1−C6)アルキルチオ、非置換又は置換されたアリール、及び非置換又は置換されたヘテロアリールからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又は
非置換又は置換されたアリール、又は
非置換又は置換されたヘテロアリールであり、
又は
R0及びＡは環B1を形成し、そしてNH基及びアステリスク(*)で表わされた、NH基に結合している炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
Ｒ及びＡは環B2を形成し、そしてアステリスク(*)で表わされた、Ｒに結合している炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群からの１、２又は３個のヘテロ原子を含む、炭素環式又は複素環式環であるか、
又は
R0及びＲは環B3を形成し、そしてNH基及び各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
R0及びＲ及び必要に応じてＡは、記載された環B1、B2及びB3のうちの２つ又はそれ以上を同時に形成することができ、ここで各場合においてアステリスク(*)の印のある２個の環炭素原子上のＲ及びNH−R0基は、互いにシス配列に配置されており、そしてこれらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置とは異なる)の光学活性な環式アミン及びその塩の製造方法であって、
【０００８】
これは、式(II)
【化２】
［ここで、Ａ、R0及びＲは、それぞれ式(Ｉ)に定義された通りであり、そして式(II)の化合物は、アステリスク(*)で示された環炭素原子に関して、ラセミ混合物の形態又は当該立体異性体の他のいずれかの異性体の比率で混合物の形態で存在する］のイミン又はその塩を、水素又は水素供与体及びルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウム、白金、鉄、ニッケル及びサマリウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属、好ましくはルテニウム、ロジウム、パラジウム及びイリジウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属、特にルテニウム及びイリジウムと有機配位子との触媒活性で光学活性な錯体からなる非酵素的な触媒の存在下で式(Ｉ)又はその塩の化合物に転化することからなる前記製造方法を提供する。
【０００９】
生成物の絶対配置は、個々の場合、記載された触媒の群からの光学活性な触媒の構造に左右される。
【００１０】
式(Ｉ)の化合物は、特に式(IA)及び(IB)
【化３】
（式中、Ａ、R0及びＲは、それぞれ上記定義された通りである）の化合物である。Cahn−Ingold−Prelogの立体化学的な命名法により、化合物(IA)は、炭素原子１の置換基の順序に従って立体化学的な表示(1S−シス)又は(1R−シス)を有する。化合物(IB)は、同様に立体化学的な表示(1R−シス)又は(1S−シス)を有する。
【００１１】
各場合においてアステリスク(*)で表わされる２個のキラル中心でシス配置を有する化合物(Ｉ)は、トランス配置と比較して60〜100％、好ましくは80〜100％、特に90〜100％、非常に特別には95〜100％の選択性で得ることが好ましく、特定のシス化合物(IA)又は(IB)は、各場合において該当するシス化合物(IA)及び(IB)の総含量に基づいて20％eeを超える又はより良好には50％eeを超える、好ましくは60〜100％ee、特に80〜100％ee、非常に特別には90〜100％ee、最も好ましくは95〜100％eeのエナンチオ選択性で得られる。
【００１２】
％eeで測定された鏡像体過剰率は、鏡像異性体の混合物に基づく２つの鏡像異性体のパーセンテージの差分を意味する。
【００１３】
式(II)の特定の化合物は、一般に化合物(II−A1)、(II−A2)、(II−B1)及び(II−B2)
【化４】
の混合物からなり、化合物(II−A1)及び(II−A2)は、化合物(II−A)として短縮して一緒に表わされ、そして化合物(II−B1)及び(II−B2)は、化合物(II−B)として短縮して一緒になって表わされる。化合物(II−A)及び(II−B)は、一般に炭素原子２の配置に関してあらゆる比率で使用することができる。一般に、これに関して、1：1の比率、すなわちラセミ混合物で存在するのが好ましい。
【００１４】
化合物(II−A1)(II−A2)及び(II−B1)又は(II−B2)は、通常、反応条件下では平衡で存在する。
【００１５】
化合物(Ｉ)又は(II)が水素のシフトによって、正式な意味では式(Ｉ)又は(II)によって構造的に包含されない互変異性体を形成することができる場合、これらの互変異性体は、式(Ｉ)又は(II)の本発明の化合物の定義によって等しく包含される。
【００１６】
一般式(Ｉ)の化合物(又は同様に他の本発明の化合物)は、置換基のタイプ及び結合に応じて、式(Ｉ)中のアステリスク(*)で示される炭素原子と異なるさらなるキラル中心を含み、そして立体異性体の形態で同様に存在する。それらの特異的な三次元形態によって定義される可能な立体異性体、例えば鏡像異性体、ジアステレオマー、Ｚ及びＥ異性体は、全て式(Ｉ)によって包含される。例えば、１つ又はそれ以上のアルケニル基が存在する場合、ジアステレオマー(Ｚ及びＥ異性体)は生じることができる。例えば１つ又はそれ以上の不斉炭素原子が存在する場合、鏡像異性体及びジアステレオマーが生じることがある。立体異性体は、製造で得た混合物から、慣用の分離方法によって、例えばクロマトグラフ分離過程によって入手することができる。同様に、光学活性な出発物質及び／又は助剤を用いた立体選択反応の使用によって立体異性体を選択的に製造することができる。従って、また、本発明は、一般式(Ｉ)によって包含されるが、それらの具体的な立体化学的形態は明記されない全ての立体異性体及びそれらの混合物に関する。
【００１７】
一般式(Ｉ)の異なる置換基の可能な組み合わせは、化学物質を構成する一般的な原理が認められるように解すべきであり、すなわち、式(Ｉ)は化学的に不可能であると当業者に知られている化合物を包含しない。
【００１８】
式(Ｉ)の化合物は、例えば適切な無機又は有機酸、例えば無機酸、例えばHCl、HBr、H2SO4又はHNO3、又は有機酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸又はスルホン酸を塩基性基、例えば存在するアミノ基又は他のアミノ基、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ又はピリジノに添加することによって塩を形成することができる。次いで、これらの塩は、イオンとして酸の共役塩基を含む。
【００１９】
塩は、酸性水素原子を担持する式(Ｉ)の化合物において塩基の作用によって形成することができる。適切な塩基は、例えば有機アミンであり、そしてまたアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩及び炭酸水素塩、特にナトリウム及びカリウムの水酸化物、炭酸塩及び炭酸水素塩である。これらの塩は、酸性水素がカチオンによって置き換えられた化合物、例えば金属塩、特にアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、特にナトリウム及びカリウム塩、又はその他にアンモニウム塩、有機アミンとの塩又は第四級アンモニウム塩である。
【００２０】
脱プロトン化された形態で存在する適切な置換基、例えばスルホン酸又はカルボン酸は、アミド基のようなそれ自体プロトン化できる基と共に内部塩を形成することができる。
【００２１】
式(Ｉ)の化合物及びその塩は、以下、「本発明に従って使用される化合物(Ｉ)」又は本発明の「化合物(Ｉ)」として短縮して引用する。
【００２２】
上記及び下記に使用される用語は、当業者によく知られており、特に以下に説明された定義を有する：
無機基は、炭素原子、好ましくはハロゲン、OHのない基及びHがカチオン、例えばアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩によって置き換えられたその無機塩、NH2及び(無機)酸、例えば鉱酸とのそのアンモニウム塩、N3(アジド)、N2+A-(A-がアニオンであるジアゾニウム基)、NO、NHOH、NHNH2、NO2、S(O)OH(スルフィン酸基)、S(O)2OH(又は他に短いスルホン酸基についてはSO3H)、−O−SO2H(亜硫酸塩)、−O−SO3H(硫酸塩)、−P(O)(OH)2(ホスホン酸基)、−O−P−(OH)3(リン酸基)、及び最後の６個の酸基の水和又は脱水形態並びにまたそれらの(無機)塩であり； また、用語「無機基」は、水素基(水素原子)を包含し、後者は、多くの場合、すでにこれらの定義における有機基の非置換の基本構造の部分(例えば：「非置換フェニル」)であり；本明細書において用語「無機基」は、好ましくは擬ハロゲン基、例えばCN、SCN、有機金属錯体、炭酸塩又はCOOHを包含し、これらは炭素原子を含むため、より適切には有機基に分類されることがある。
【００２３】
無機基と対照的に、有機基は炭素原子を有する基であり、そしてこの基はヘテロ原子を経て結合されていてもよい。それは、好ましくは場合により置換された炭化水素基又は場合により置換された複素環式基である。しかしながら、それはまた好ましくはアシル基、すなわち、OH基の除去によって形成される有機酸の基を包含する。また、アシル基は、それぞれ有機アルコール成分を有する(次いで多塩基酸から誘導される)スルホンエステル基、ホスホン酸エステル基、ホスフィン酸エステル基、又はスルホン酸又はスルフィン酸から誘導されるアルキルスルホニル又はアルキルスルフィニルを含む。
【００２４】
炭化水素基は、脂肪族、環式脂肪族又は芳香族単環式基、又は場合により置換された炭化水素基の場合、炭素及び水素の元素に基づく二環式又は多環式の有機基であり、例えば基アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、フェニル、ナフチル、インダニル、インデニル、なども包含し；同じことがヒドロカーボンオキシ基に適用される。より具体的に定義しない限り、上記の定義において炭化水素及びヒドロカーボンオキシ基は、好ましくは１〜20個の炭素原子、より好ましくは１〜16個の炭素原子、特に１〜12個の炭素原子を有する。
【００２５】
炭化水素基及びより具体的にはアルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルアミノ及びアルキルチオ基、そしてまた対応する不飽和及び／又は置換された基は、それぞれ炭素骨格において直鎖又は分枝状であることができる。
【００２６】
「(C1−C4)アルキル」なる表現は、炭素原子の範囲を明記することで１〜４個の炭素原子を有する開鎖アルキルについての省略した表記を意味し、すなわちメチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、1−ブチル、2−ブチル、2−メチルプロピル又はtert−ブチル基を包含する。また、明記された炭素原子のより広い範囲の一般的なアルキル基、例えば「(C1−C6)アルキル」は、同様により大きい炭素原子数を有する直鎖又は分枝アルキル基、すなわち例えば５及び６個の炭素原子を有するアルキル基を包含する。
【００２７】
特に明記しない限り、組み合わせた基中のものを含むアルキル、アルケニル及びアルキニル基のような炭化水素基の場合、低級炭素構造、例えば１〜６個の炭素原子、特に１〜４個の炭素原子を有するもの、又は不飽和基の場合、２〜６個の炭素原子、特に２〜４個の炭素原子を有するものが好ましい。例えばアルコキシ、ハロアルキル、などの組み合わせた定義中のものを含むアルキル基は、例えば、メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、t−又は2−ブチル、ペンチル、ヘキシル、例えばn−ヘキシル、i−ヘキシル、及び1,3−ジメチルブチル、ヘプチル、例えばn−ヘプチル、1−メチルヘキシル及び1,4−ジメチルペンチルであり；アルケニル及びアルキニル基は、アルキル基に対応する可能な不飽和基の定義を有し；アルケニルは、例えばビニル、アリル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−ブテニル、ペンテニル、2−メチルペンテニル又はヘキセニル、好ましくはアリル、1−メチルプロパ−2−エン−1−イル、2−メチルプロパ−2−エン−1−イル、ブタ−2−エン−1−イル、ブタ−3−エン−1−イル、1−メチルブタ−3−エン−1−イル又は1−メチルブタ−2−エン−1−イルである。(C2−C6)アルキニルは、例えばエチニル、プロパルギル、1−メチル−2−プロピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−ブチニル、2−ペンチニル又は2−ヘキシニル、好ましくはプロパルギル、ブタ−2−イン−1−イル、ブタ−3−イン−1−イル、又は1−メチル−3−イン−1−イルである。
【００２８】
例えば(C1−C10)アルキリデンの形態を含むアルキリデンは、二重結合を経て結合された直鎖又は分枝アルカンの基であり、結合部位の位置は明記されていない。分枝アルカンの場合、本来、２個の水素原子が二重結合によって置き換えることができる位置でのみ可能であり；基は、例えば、=CH2、=CH−CH3、=C(CH3)−CH3、=C(CH3)−C2H5又は=C(C2H5)−C2H5である。
【００２９】
シクロアルキルは、好ましくは３−８個の炭素原子を有する炭素環式飽和環系、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。また、置換されたシクロアルキルは、シクロアルキル基上で二重結合を有する置換基を包含する置換基を有する環式系、例えばアルキリデン基、例えばメチリデンを包含する。また、置換されたシクロアルキルは、多環式脂肪族系、例えばビシクロ[1.1.0]ブタン−1−イル、ビシクロ[1.1.0]ブタン−2−イル、ビシクロ[2.1.0]ペンタン−1−イル、ビシクロ[2.1.0]ペンタン−2−イル、ビシクロ[2.1.0]ペンタン−5−イル、アダマンタン−1−イル及びアダマンタン−2−イルを包含する。
【００３０】
シクロアルケニルは、好ましくは４〜８個の炭素原子を有する炭素環式、非芳香族、部分的に不飽和の環系、例えば1−シクロブテニル、2−シクロブテニル、1−シクロペンテニル、2−シクロペンテニル、3−シクロペンテニル又は1−シクロヘキセニル、2−シクロヘキセニル、3−シクロヘキセニル、1,3−シクロヘキサジエニル又は1,4−シクロヘキサジエニルである。置換されたシクロアルケニルの場合、置換されたシクロアルキルについての説明が、同様に適用される。また、特に、置換されたシクロアルケニルは、対応する縮合多環式化合物、例えばベンゾ縮合された化合物、例えばテトラヒドロナフタリン−1−イル又は−2−イル、フルオレニル(ビフェニルメチル)又はスベリル(ジ−[b,f]−ベンゾシクロヘプタ−2,6−ジエン−1−イル)を包含する。
【００３１】
用語「ハロゲン」は、例えばフッ素、塩素、臭素又はヨウ素を意味する。ハロアルキル、−アルケニル及び−アルキニルは、好ましくはフッ素、塩素及び臭素の群から特にフッ素及び塩素の群からの同一又は異なるハロゲン原子によって部分的に又は完全に置換されたアルキル、アルケニル及びアルキニル、例えばモノハロアルキル、例えばCH2CH2Cl、CH2CH2F、CH2ClCH3、CH2FCH3、CH2Cl、CH2F；ペルハロアルキル、例えばCCl3又はCF3又はCF3CF2；ポリハロアルキル、例えばCHF2、CH2F、CH2FCHCl、CHCl2、CF2CF2H、CH2CF3、CH2ClCH3、CH2FCH3であり；ハロアルコキシは、例えばOCF3、OCHF2、OCH2F、CF3CF2O、OCH2CF3及びOCH2CH2Clであり；同じことは、ハロアルケニル及びハロゲンによって置換された他の基にも適用される。
【００３２】
アリールは、好ましくは６〜14個、特に６〜12個の炭素原子を有する単、二又は多環芳香族系、例えばフェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インデニル、インダニル、ペンタレニル、フルオレニル、ビフェニリルなど、好ましくはフェニルである。
【００３３】
複素環式基又は環(ヘテロシクリル)は、飽和、不飽和又は複素芳香族であり、そして一般に置換された場合、他の炭素環式又は複素環式環と縮合されている少なくとも１つの複素環式環を含み；別途、定義しない限り、複素環式環は、好ましくは３〜９個の環原子、特に３〜６個の環原子、そして複素環式環中に好ましくはＮ、Ｏ及びＳの群から１つ又はそれ以上、好ましくは１〜４個、特に１、２又は３個のヘテロ原子を含むが、２個の酸素原子が直接隣接すべきではなく、そしてまた、少なくとも１個の炭素原子が環中存在しなければならず、例えばチオフェン、フラン、ピロール、チアゾール、オキサゾール、イミダゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,3,4−チアジアゾール、1,3,4−トリアゾール、1,2,4−オキサジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,4−トリアゾール、1,2,3−トリアゾール、1,2,3,4−テトラゾール、ベンゾ[b]チオフェン、ベンゾ[b]フラン、インドール、ベンゾ[c]チオフェン、ベンゾ[c]フラン、イソインドール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾイソオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアジアゾール、ベンゾトリアゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、カルバゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、1,3,5−トリアジン、1,2,4−トリアジン、1,2,4,5−テトラジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、キナゾリン、キノリン、1,8−ナフチリジン、1,5−ナフチリジン、1,6−ナフチリジン、1,7−ナフチリジン、フタラジン、ピリドピリミジン、プリン、プテリジン、4H−キノリジン、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、オキセタン、オキシラン、ピロリジン、オキサゾリン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン、1,3−及び1,4−ジオキサン、イソオキサゾリジン又はチアゾリジンの基である。
【００３４】
「ヘテロシクリル」の下で上記された基の中で、各場合の「ヘテロアリール」は、完全に不飽和の芳香族複素環式化合物、例えばピリジン、ピリミジン、(1,2,4)−オキサジアゾール、(1,3,4)−オキサジアゾール、ピロール、フラン、チオフェン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、1,2,4−トリアゾール、テトラゾール、ピラジン又はピリダジンを意味する。
【００３５】
さらに、ヘテロシクリルがＮ、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子を有する部分的に又は完全に水素化された複素環式基、例えばオキシラニル、オキセタニル、オキソラニル(＝テトラヒドロフリル)、オキサニル、ピロリニル、ピロリジニル又はピペリジニルであることは好ましい。さらにＮ、Ｏ及びＳの群から２つのヘテロ原子を有する部分的に又は完全に水素化された複素環式基、例えばオキサゾリニル、チアゾリニル、ピペラジニル、1,3−ジオキソラニル、1,3−及び1,4−ジオキサニル、オキサゾリニル、イソオキサゾリニル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル及びモルホリニルであることは好ましい。
【００３６】
部分的に又は完全に飽和した窒素複素環である場合、炭素を経て又は窒素を経て特定の化合物の分子の基に結合することができる。
【００３７】
ヘテロシクリルは、好ましくは３〜７個、特に３〜６個の環原子を有する、脂肪族の飽和若しくは不飽和、特に飽和したヘテロシクリル基又は５若しくは６個の環原子を有する複素芳香族基である。ヘテロシクリルは、好ましくはＮ、Ｏ及びＳの群からの複素環式環原子を含有する。
【００３８】
ヘテロシクリルの好ましい例は、ピリジル、チエニル、フリル、ピロリル、オキシラニル、2−オキセタニル、3−オキセタニル、オキソラニル(＝テトラヒドロフリル)、ピロリジニル、ピペリジニル、特にオキシラニル、2−オキセタニル、3−オキセタニル又はオキソラニルの群からの３〜６個の環原子を有する複素環式基、又は２若しくは３個のヘテロ原子を有する複素環式基、例えばピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、トリアジニル、チエニル、チアゾリル、チアジアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、ピペラジニル、ジオキソラニル、ジオキサニル、オキサゾリニル、イソオキサゾリニル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル又はモルホリニルである。
【００３９】
基本的な構造が、基(radicals)(＝基(group))のリスト又は一般的に定義された基の群からの「１つ又はそれ以上の基によって」置換される場合、各場合のこれは、複数の同一及び／又は構造的に異なる基による同時の置換を含む。
【００４０】
複数の場合により置換された基本構造の場合、「ここで、後者の基(＝塩基性の構造)のそれぞれは、非置換又は置換されている」なる定義は、基(＝基本構造)のそれぞれは、非置換又は他の基で独立して置換されていることを意味する。
【００４１】
置換された複素環式基について可能な置換基は、下記の置換基そしてさらにまたオキソを含む。そして置換基としてのオキソ基は、例えば複素環式環中のカルボニル基を意味する。従って、ラクトン及びラクタムも包含されることが好ましい。また、オキソ基は、複素環式環の原子上で生じることができ、そしてそれは例えばＮ及びＳの場合、種々の酸化状態で存在することができ、そしてその場合、例えば複素環式環中で二価の基−N(O)−、−S(O)−(また、略してSO)及び−S(O)2−(また、略してSO2)を形成する。
【００４２】
置換された基、例えば置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、フェニル、ベンジル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール基は、例えば非置換の基本構造から誘導された置換された基であり、置換基は、例えばハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、カルボキシ、シアノ、アジド、アルコキシカルボニル、アルカノイル、アルコキシカルボニルオキシ、アルカノイルオキシ、アリールオキシカルボニル、アリールオキシカルボニルオキシ、カルバモイル、モノ−及びジアルキルアミノカルボニル、置換されたアミノ、例えばアシルアミノ、モノ−及びジアルキルアミノ、トリアルキルシリル及び場合により置換されたシクロアルキル、場合により置換されたアリール、場合により置換されたヘテロシクリル、ここで後者の環式基はそれぞれ記載されたアルキル基の場合のようにヘテロ原子又は二価の官能基を経て結合されていてもよく、及びアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、そして環式基(＝「環式の基本構造)の場合、またアルキル、ハロアルキル、アルキルチオアルキル、アルコキシアルキル、場合により置換されたモノ−及びジアルキルアミノアルキル及びヒドロキシアルキルの群からの１つ又はそれ以上、好ましくは１、２又は３個の基であり；用語「置換された基」、例えば置換されたアルキル、などにおいて置換基として含まれるのは、記載された飽和炭化水素を含む基に加えて対応する不飽和脂肪族及び芳香族基、例えば場合により置換されたアルケニル、アルキニル、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、フェニル、フェノキシ、などである。また、環中の脂肪族部分で置換された環式基は、二重結合で環に結合されたこのような置換基、例えばアルキリデン基、例えばメチリデン又はエチリデン又はオキソ基、イミノ基又は置換されたイミノ基を有する環式系を包含する。
【００４３】
例として記載された置換基(「第１の置換基レベル」)は、炭化水素を含んでいる部分を含む場合、そこで場合によりさらに(「第２の置換基レベル)、例えば第１の置換基レベルについて定義された置換基の１つによって置換される。対応するさらなる置換基レベルは可能である。用語「置換された基」は、好ましくは１又は２の置換基レベルのみを包含する。
【００４４】
置換基レベルについての好ましい置換基は、例えばアミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、メルカプト、カルボキシ、カルボンアミド、SF5、アミノスルホニル、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、N−アルカノイルアミノ、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルコキシ、シクロアルケニルオキシ、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、アリールカルボニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボニルオキシ、アルキニルオキシカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アルケニルチオ、シクロアルケニルチオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、N−アルキルアミノカルボニル、N,N−ジアルキルアミノカルボニル、N−アルカノイル−アミノカルボニル、N−アルカノイル−N−アルキルアミノカルボニル、アリール、アリールオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、アリールチオ、アリールアミノ、ベンジルアミノ、ヘテロシクリル及びトリアルキルシリルである。
【００４５】
炭素原子を有する基の場合、１〜６個の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子、特に１又は２個の炭素原子を有するものが好ましい。一般に、ハロゲン、例えばフッ素又は塩素、(C1−C4)アルキル、好ましくはメチル又はエチル、(C1−C4)ハロアルキル、好ましくはトリフルオロメチル、(C1−C4)アルコキシ、好ましくはメトキシ又はエトキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、ニトロ及びシアノの群からの置換基が好ましい。特に好ましいのは、置換基メチル、メトキシ、フッ素及び塩素である。
【００４６】
置換されたアミノ、例えば一又は二置換されたアミノは、例えばアルキル、アルコキシ、アシル及びアリールの群からの１又は２個の同一又は異なる基によってN−置換された置換されたアミノ基の群からの基であり；好ましくはモノ−及びジアルキルアミノ、モノ−及びジアリールアミノ、アシルアミノ、N−アルキル−N−アリールアミノ、N−アルキル−N−アシルアミノ、及びまた飽和N−複素環；１〜４個の炭素原子を有するアルキル基が好ましく；アリールは、好ましくはフェニル又は置換されたフェニルであり；アシルについては、下記の定義が適用され、好ましくは(C1−C4)アルカノイルであり、同じことが置換されたヒドロキシルアミノ又はヒドラジノに適用される。
【００４７】
場合により置換されたフェニルは、好ましくは、非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)ハロアルコキシ及びニトロの群からの同一又は異なる基によって一又は多置換された、好ましくは三置換までされたフェニル、例えばo−、m−及びp−トリル、ジメチルフェニル、2−、3−及び4−クロロフェニル、2−、3−及び4−フルオロフェニル、2−、3−及び4−トリフルオロメチル及び−トリクロロメチルフェニル、2,4−、3,5−、2,5−及び2,3−ジクロロフェニル、o−、m−及びp−メトキシフェニルである。
【００４８】
場合により置換されたシクロアルキルは、好ましくは非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル及び(C1−C4)ハロアルコキシの群からの同一又は異なる基によって、特に１又は２個の(C1−C4)アルキル基によって一又は多置換された、好ましくは三置換までされたシクロアルキルである。
【００４９】
場合により置換されたヘテロシクリルは、好ましくは非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)ハロアルコキシ、ニトロ及びオキソの群からの同一又は異なる基によって一又は多置換された、好ましくは三置換までされた、特にハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル及びオキソの群からの基によって、非常に具体的には１又は２個の(C1−C4)アルキル基によって一又は多置換されたヘテロシクリルである。
【００５０】
アシルは、正式な意味では、酸性官能基でヒドロキシル基を除去することによって形成された有機酸の基であり、酸中の有機基は、ヘテロ原子を経て酸性官能基に結合することもできる。アシルの例は、カルボン酸HO−CO−RのCO−R基であり、チオカルボン酸のようにそこから誘導された酸の基、場合によりN−置換されたイミノカルボン酸、又は炭酸モノエステルの基、N−置換されたカルバミン酸、スルホン酸、スルフィン酸、N−置換されたスルホンアミド酸、ホスホン酸、ホスフィン酸である。
【００５１】
アシルは、例えばアルカノイル、例えばホルミル又は[(C1−C4)アルキル]カルボニル、フェニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、N−アルキル−1−イミノアルキル、N−アルキル及びN,N−ジアルキルカルバモイル及び有機酸の他の基である。基は、それぞれアルキル又はフェニル部分において、例えばアルキル部分においてハロゲン、アルコキシ、フェニル及びフェノキシの群からの１つ又はそれ以上の基によってさらに置換されていてもよく；フェニル部分における置換基の例は、置換されたフェニルについて一般に上記された置換基である。
【００５２】
アシルは、好ましくはより狭い意味ではアシル基、すなわち酸性基が有機基の炭素原子に直接結合した有機酸の基、例えばアルカノイル、例えばホルミル及びアセチル、アロイル、例えばフェニルカルボニル、及び飽和又は不飽和有機酸の他の基である。
【００５３】
「アロイル」は、カルボニル基、例えばベンゾイル基を経て結合した上記定義されたアリール基である。
【００５４】
一般的な基が水素として定義される場合、これは水素原子を意味する。
【００５５】
基の「イル位」は、その結合部位を表わす。
【００５６】
特に収率、空時収量、方法のエナンチオ選択性及び方法の単純性に関するより良好な製造性のため、そしてまた有用性のため、より興味深いのは、式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和の非芳香族環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そしてＲ及びNH−R0基に加えて、非置換であるか又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルコキシカルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、アリール及びヘテロシクリルからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によってさらに置換されており、ここで最後の11個の基は、それぞれ独立して非置換であるか又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そして３〜30個の環原子を有する縮合炭素環式又は複素環式環によって場合により置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群から１〜３個の環原子を含み、そしてハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって場合によりさらに置換されており、ここで最後の７個の基はそれぞれ独立して非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、Ｒと独立して、(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニルは基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換であるか又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、非置換又は置換されたフェニル及び非置換又は置換されたヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は(C3−C9)シクロアルキル、これは非置換又は置換されており、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換されたフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は(C4−C9)シクロアルケニル、これは非置換又は置換されており、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換したフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そして場合により縮合された、好ましくは環中の１つ又はそれ以上の二重結合においてさらなる置換を有する又は有しない芳香族環とベンゾ縮合されており、
又はフェニル、これは非置換又は置換された、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換されたフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換され、そして場合により縮合された、好ましくは環中の１つ又はそれ以上の二重結合においてさらなる置換を有しない又は有しない芳香族環とベンゾ縮合されており、
又はヘテロシクリル、これは非置換又は置換されており、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換されたフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換され、そして場合により不飽和又は複素芳香族ヘテロシクリルの場合、縮合された、好ましくはさらなる置換を有する又は有しない環中で１つ又はそれ以上の二重結合においてベンゾ縮合されており、
又は
【００５７】
R0は、特に、
i) CH2C6H5 (ベンジル)
ii) CH2CH=CH2 (アリル)
iii) C(CH3)3 (t−ブチル)
iv) C(C6H5)3 (トリチル)
v) CH3 (メチル)
vi) (CH2)3OCOCH3 (3−アセトキシプロピル)
vii) CH2C6H3−2,4−(OCH3)2 (2,4−ジメトキシベンジル)
viii) C6H3−2,4−(NO2)2 (2,4−ジニトロフェニル)
ix) CH2C6H4−4−OCH3 (4−メトキシベンジル)
x) CH2C6H4−2−OH (2−ヒドロキシベンジル)
xi) CH(C6H5)2 (ジフェニルメチル)
xii) CH(C6H4−4−OCH3)2 (ビス−(4−メトキシフェニル)メチル)
xiii) C(C6H5)2(C6H4−4−OCH3) (4−メトキシフェニル)ジフェニルメチル)
xiv) 5−ジベンゾスベリル (ジベンゾ[b,f]−シクロヘプタ−2,6−ジエン−1−イル)
xv) 9−フェニルフルオレン−9−イル (1−フェニルジフェニレンメチル)
からなる群より選ばれる除去可能な基(切断可能な基、脱離基)であり、ここで非置換又は置換された(すなわち、置換基の説明なしで場合により置換された)記載されたフェニル又はヘテロシクリル基はそれぞれ、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキルオキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており；特に、非置換又は置換された記載されたフェニル又はヘテロシクリル基はそれぞれ、好ましくは非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)ハロアルコキシ及びニトロからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
【００５８】
Ｒは、R0と独立して
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニル、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、場合により置換されたアリール及び場合により置換されたヘテロアリールからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は
場合により置換されたアリール、又は
場合により置換されたヘテロアリール、
ここで場合により置換された基はそれぞれ独立して好ましくは非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C5)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルキルアミノ、ジ−(C1−C4)アルキルアミノ、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の14個の基は、それぞれ独立して非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又は
R0及びＡは、環B1を形成し、そしてNH基及びアステリスク(*)で表わされ、NH基に結合した炭素原子と一緒になって、４〜30個の環原子を有し、好ましくは４〜９個の環原子を有し、特に５〜７個の環原子を有する複素環式環であり、これは場合により追加的にさらに置換されており、そしてこれはＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含み、
そして好ましくはさらなる置換を有しない記載された複素環式環であるか、又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)アルキルスルホニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は
Ｒ及びＡは、環B2を形成し、そしてアステリスク(*)で表わされ、Ｒに結合した炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環式環を形成し、これは３〜30個の環原子、好ましくは３〜９個の環原子、特に４〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１又は２又は３個のさらなるヘテロ原子を含み、
そして好ましくはさらなる置換を有することができない記載された炭素環式又は複素環式環であるか、又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)アルキルスルホニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によるさらなる置換を有することができ、
又は
R0及びRは、環B3を形成し、そしてNH基及び場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって複素環式環であり、これは４〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして場合によりＮ、Ｏ及びＳの群から１又は２個のさらなるヘテロ原子を含み、
そして好ましくはさらなる置換を有することができない記載された複素環式環であるか、又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)アルキルスルホニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によりさらなる置換を有することができ、
又は
R0及びR及び、必要に応じて、Ａは、記載された環B1、B2及びB3のうちの２つ又はそれ以上を同時に形成し、ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上のＲ及びNH R0基は、互いにシス配列に配置され、そしてこれらの炭素原子の立体化学的配置は、ラセミ体の配置と異なる、本発明の式(Ｉ)のアミノ化合物を製造方法である。
【００５９】
好ましい本発明の方法は、例えば式(Ia)の単環式化合物の製造に関する。
【化５】
【００６０】
ここで、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子を有し、好ましくは４〜９個の環原子を有し、特に５〜７個の環原子を有する炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和非芳香族環であり、そして複素環式環の場合、これはＮ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１〜３個の複素環式環の原子を有し、そしてR1及びNH−R0基に加えて非置換又はさらにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルコキシカルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の８個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、R1と独立して、式(Ｉ)に上記定義された通りであり、好ましくは式(Ｉ)について好ましく定義された通りであり、そして特に(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニル基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されたフェニル、及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されたヘテロシクリル
からなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は(C3−C6)シクロアルキル、フェニル又はヘテロシクリル、ここで最後の３個の基のそれぞれ場合により置換されるか、又は例えば前記の除去可能な基i)〜xiii)の１つであり、
【００６１】
R1は、R0と独立して、
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニル、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又はアリール又はヘテロシクリル、ここで最後の2個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、好ましくは、非置換又は場合により置換されたフェニル又はヘテロシクリルについて式(Ｉ)中のＲのように、特にハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル及び(C1−C4)ハロアルコキシからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ia)は、式(Ia−A)又は(Ia−B)
【化６】
［式中、一般的な基は、式(Ia)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率での式(Ia−A)及び(Ia−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６２】
また、式(Ib)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化７】
式中、
A1は、直接結合又は式(CR6R7)nの基であり、ここにおいてｎは１〜６であり、そしてR6及びR7はそれぞれ独立して、又はｎが１より大きい場合、R6及びR7基は各場合、独立して水素、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C4)アルコキシ又は(C1−C4)ハロアルコキシであり、ここで個々のCR6R7基は、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子によって置き換えられることができ、
R0は、式(Ｉ)に上記定義された通り、好ましくは式(Ｉ)について好ましく定義された通りであり、そして特に、R1と独立して(C1−C6)アルキル又は(C2−C6)アルケニル基であり、
ここで最後の２個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)−アルコキシ]−カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ−[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されたアリール、及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によっ
て置換されたヘテロシクリル
からなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
【００６３】
又は(C3−C6)シクロアルキル、フェニル又はヘテロシクリルであり、ここで最後の3個の基はそれぞれ場合により置換されており、
又は例えば記載された除去可能な基i)〜xiii)の１つであり、そして
R1は、R0と独立して、
非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、場合により置換されたアリール及び場合により置換されたヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換された(C1−C6)アルキル、又は
場合により置換されたアリール、又は
場合により置換されたヘテロシクリルであり、
ここで場合により置換された基はそれぞれ独立して好ましくは非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C5)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルキルアミノ、ジ(C1−C4)アルキルアミノ、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の14個の基はそれぞれ独立して非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
そして好ましくは、
R1は、R0と独立して、
非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換された(C1−C6)アルキル、又はフェニル又はヘテロシクリルであり、そして
R2は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R3は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R4は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、そして
R5は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
【００６４】
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物は式(Ib−A)又は(Ib−B)
【化８】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Ib)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ib−A)及び(Ib−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６５】
また、式(Ic)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化９】
式中、
A1は、直接結合又は式(CR6R7)nの基であり、ここにおいてｎは１〜６であり、そしてR6及びR7は、それぞれ独立して又はｎが１より大きい場合、R6及びR7基は、各場合独立して水素、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C4)アルコキシ又は(C1−C4)ハロアルコキシであり、ここで個々のCR6R7基は、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子によって置き換えることができ、
A2は、他の環との共通の２個の炭素原子と一緒になって、炭素環式非芳香族環であり、これは３〜９個の炭素原子を有し、そして非置換又は(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ、ヒドロキシ、アミノ及びCNからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、式(Ｉ)に上記定義された通りであり、好ましくは式(Ｉ)について好ましく定義された通りであり、そして特に独立して式(Ib)において定義された通りであり、そして
R1は、独立して式(Ib)において定義された通りであり、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ic)は、式(Ic−A)又は(lc−B)
【化１０】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Ic)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ic−A)及び(Ic−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６６】
また、式(Id)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化１１】
式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和非芳香族環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群から１〜３個の複素環式環原子を有し、そしてA'及びNH−R0基に加えて、非置換又はさらにハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そしてA'は、NH基及び各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって複素環式環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合によりＮ、Ｏ及びＳの群からの１又は２個のさらなるヘテロ原子を含み、そして非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及びフェニル(これは非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されている)からなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基A'及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Id)は式(Id−A)又は(Id−B)
【化１２】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Id)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Id−A)及び(Id−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６７】
また、式(Ie)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化１３】
式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環の飽和又は不飽和非芳香族環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群から１〜３個の複素環式環原子を有し、そしてA''及びNH−R0基に加えて、非置換又はさらにハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そして
A''は、Ａ及び２で表わされる(＝A''に結合したアステリスクで表わされる炭素原子)炭素原子と一緒になって、炭素環式又は複素環式環であり、これは４〜９個の環原子を有し、特に５〜７個の環原子、そして複素環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１又は２又は３個のヘテロ原子を含み、そして非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及びフェニル(これは非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]−カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されている)からなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
ここでR0は、式(Ｉ)、(Ia)、(Ib)又は(Ic)中のようにA''と独立して定義され、そして各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基A''及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ie)は、式(Ie−A)又は(Ie−B)
【化１４】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Ie)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ie−A)及び(Ie−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６８】
化合物(II)のイミノ基の還元は、例えば、カルボニル化合物の還元について知られているような方法、又はイミン(II−A)及びイミン(II−B)との間の化学平衡が可能となる反応条件下、水素又は水素供与体及びキラル遷移金属触媒の存在下で接触不斉水素化又は接触移動水素化として特にそのために開発された方法と同様に実施することができる。
【００６９】
反応に有用なキラル触媒は、ケトンの不斉還元について同様に記載されたもの、例えば以下の引用文献又はそれらのそれぞれに引用文献に記載されたもの：
Angew. Chem. Int. Ed. 2001 (40) p. 40−73、
Tetrahedron Lett. 1999 (40) 5043−5046、
J. Org. Chem. 1996, 61, 4872−4873 Angew. Chem. Int. Ed. 2004 (116) 806−843、具体的には第829−830頁及びそこに引用された文献、
Tetrahedron Asymmetry. 2003 (14) 1407−1446、
Org. Lett 1999 (1) 1119−1121、
Tetrahedron 2003 (59) 8291−8327。
【００７０】
還元に適切な触媒は、例えば、
１．式(1)及び(2)
【化１５】
のルテニウムジホスフィン1,2−ジアミン錯体及び他のジアミンブリッジを有する式(1')又は(2')の類似の錯体
【化１６】
ここで、各場合、
Arはアリール基、好ましくはフェニル基であり、これは非置換又は置換されており、
D*は、キラル有機基であり、
Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ水素又は場合により置換された脂肪族又は芳香族基であり、それらは対で互いに結合することもでき、ここで1,2−ジアミンブリッジは、化合物(1)の場合、キラル又はアキラルであり、そして化合物(2)の場合、キラルであり、
A*は、結合部位の間で、１〜４個の炭素原子、好ましくは２個の炭素原子を有するアルキレンであり、ここでアルキレンは場合により置換されており、好ましくは非置換であるか、又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又はシクロアルキレン、これは３〜６個の炭素原子を有し、そして非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、好ましくは同様に場合により置換された1,2−シクロアルキレン、又は二価の複素環式基、これは３〜６個の環原子、及びＯ、Ｓ及びＮの群からの１、２又は３個の複素環式環原子を有し、ここで環は非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されている。
【００７１】
化合物(1)及び(2)又は(1')及び(2')は、ルテニウム塩及びジホスフィンブリッジ及びジアミンブリッジ化合物から水素化の前に又はその場で製造することができる。
【００７２】
触媒(1)又は(1')を製造するためのジフェニルホスフィンブリッジAr2P−D*−PAr2の例は、式(1a)、(1b)、及び(1c)の化合物：
【化１７】
特に化合物：(S)−BINAP：Ar＝フェニル [1,1'−ビナフチル−2,2'−ビス−(ジフェニルホスフィン)]
(S)−TolBINAP：Ar＝4−トリル [1,1'−ビナフチル−2,2'−ビス−(ジ−p−トリルホスフィン)]
(S)−XylBINAP：Ar＝3,5−キシリル[1,1'−ビナフチル−2,2'−ビス−(ジ−m−キシリルホスフィン)]
及び同様に(R)−BINAP、(R)−TolBINAP及び(R)−XylBINAP
【化１８】
(1b)＝(S,S)−DIOP
(1c)＝(S,S)−CHIRAPHOS
【００７３】
触媒(1)及び(2)又は(1')及び(2')キラルジアミンブリッジの例は、以下の化合物である：
(S,S)−DPEN＝(1S,2S)−1,2−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、
(S,S)−1,2−ジアミノシクロヘキサン、
(S)−DAIPEN＝(2S)−1,2−ジアミノ−1,1−ビス−(4−メトキシフェニル)−3−メチルブタン、
3,4−O−イソプロピリデン−(3S,4S)−ジヒドロキシ−(2S,5S)−ジアミノヘキサン及び対応する鏡像異性化合物(R,R)−DPEN、
(R,R)−1,2−ジアミノシクロヘキサン、(R)−DAIPEN及び
3,4−O−イソプロピリデン−(3R,4R)−ジヒドロキシ−(2R,5R)−ジアミノヘキサン。
【００７４】
化合物(1)又は(1')を製造するのに有用なアキラルジアミンの例は、1,2−ジアミノエタンである。
【００７５】
２．１の下で明記されたルテニウム錯体に対応して、同様のイリジウム錯体例えば[Ir((R)−BINAP)(cod)]BF4＋P[C6H4−2−N(CH3)2]2C6H5を使用することができ、ここで「cod」は、リガンドシクロオクタジエンを意味する。
３．１の下で明記されたルテニウム錯体に対応して、同様のイリジウム錯体、例えば
(R,S,R,S)−Me−PennPhos−Rh
oxoProNOP−Rh
を使用することもできる。
【００７６】
４．式(3)の金属錯体
【化１９】
式中、
Ｍは、Ru、Rh及びIrの群からの金属(II)イオンであり、
Ｘは、Ｏ又はNR*R**であり、
Arは、アリール基、好ましくはフェニルであり、これは非置換又は置換されており、特にアルキルフェニルであり、
Ra、Rb及びRcは、場合により置換された脂肪族又は芳香族基であり、これは対で互いに結合することもでき、ブリッジはキラルであり、そして
Ｒ、R*、R**及びR***はそれぞれ独立して非共有電子対、Ｈ、アルキル又はアシルであり、特に対応するルテニウム(II) 1,2−ジアミン錯体である。
【００７７】
５．キラル配位子を含む式(4)及び(5)のロジウム(III)及びイリジウム(III)錯体及びそれらの鏡像異性形態
【化２０】
(式中、Ｍは、Rh又はIrであり、そしてRa、Rb及びRcは、それぞれ有機基である)。また、この群からのいくつかの触媒は、商業的に入手可能であり(Aveciaからの(R)Cathy触媒)、例えばキラル二環式配位子を含む式(4a)又は(4b)
【化２１】
のロジウム(III)及びイリジウム(III)錯体及びそれらの鏡像異性形態。
【００７８】
不斉水素化は、一般に適切な溶媒中、適切な量の溶解された触媒の存在下で、場合により塩基を添加して式(II)の化合物を水素化することによって実施することができる。また、触媒は、場合により反応中に成分からその場で得ることもできる。
【００７９】
水素化は、例えば、水素供与体として水素ガスを使用して不斉水素化として又は他の水素供与体を用いて不斉移動水素化の条件下で実施することができる。
【００８０】
化合物(II)対触媒の量的比率は、広範囲に変化することができ、一般に触媒１モル当たり化合物(II)の10mol〜100 000mol、好ましくは50mol〜100 000mol、特に触媒１モル当たり化合物(II)100mol〜10 000molの範囲である。
【００８１】
本発明の反応に適切な温度は、予備実験で決定することができる。それは、一般に−80℃から混合物の沸点の温度範囲内であり、好ましくは０℃〜100℃の温度、特に15℃〜60℃、とりわけ室温である。反応は、通常１〜100bar、好ましくは１bar〜10barの水素圧力で実施される。
【００８２】
接触水素化に適切な溶媒は、反応条件下で不活性であり、水素化反応中に典型的に使用されるような溶媒、又はそれらの混合物、例えば
− アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、
− 水、
− カルボン酸エステル、例えば酢酸エチル、
− カルボン酸、例えば氷酢酸、
− 芳香族又は脂肪族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びパラフィン、好ましくはトルエン、キシレン又はメシチレン又は他に混合物、例えば(R)Solvesso (芳香族画分との鉱油混合物)、
− ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えば塩素化アルカン及びアルケン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、
− ニトリル、例えばアセトニトリル、
− エーテル、例えばジエチルエーテル又は環式エーテル、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン、
− アミド、例えばジメチルホルムアミド、スルホン、例えばスルホラン、及び記載された溶媒の混合物。
【００８３】
水素化の変法として、不斉移動水素化は、上述の触媒の存在下で水素供与体を用いて実施することができる。適切な水素供与体は、条件下でそれ自体酸化することができる化合物である。適切な水素供与体は、例えばギ酸及びその塩であり、これはLeukart−Wallach反応の実施にも使用される(例えばHouben−Weyl 11/1, 648−664 and Synthesis 1988, 92及びそこに引用された文献参照)。従って、適切な水素供与体はギ酸であり、これは場合により塩基、例えば第三級アミン塩基と組み合わせて使用することができる。塩基は、例えば、アンモニア又は第一級、第二級及び、第三級アミン、例えばアルキル、アラルキル及び／又はアリール基を有するもの、好ましくは(C1−C4)アルキル基を有する対応するアミンである。適切な塩は、対応する(置換された)ギ酸アンモニウムである。また、さらなる水素供与体は、各場合、文献中に具体的に記載された触媒と組み合わせたイソプロパノール又はシクロヘキサジエン(Adv. Synth. Catal. 2003, Vol. 345, pages 67−77, Tetrahedron: Asymmetry 10 (1999) 2045−2061, Eur. J. Inorg. Chem. 2002, 2239−2251参照)である。
【００８４】
ギ酸及び第三級アミン、例えばトリエチルアミンと組み合わせた前記の式(3)、(4)及び(5)の触媒の使用が好ましい。ギ酸：アミンの適切な混合比率は、質量に基づいて10：1〜1：10である。供与体系は、溶媒として直接使用することができ、又は補助溶媒として他の溶媒との混合物中で使用することもできる。
【００８５】
接触移動水素化に適切な溶媒は、反応条件下で不活性な溶媒又はそれらの混合物、例えば
− アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、
− 水、
− カルボン酸エステル、例えば酢酸エチル、
− カルボン酸、例えば氷酢酸、
− 芳香族又は脂肪族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びパラフィン、好ましくはトルエン、キシレン又はメシチレン又は他に混合物、例えばRSolvesso(芳香族画分との鉱油混合物)、
− ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えば塩素化アルカン及びアルケン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、
− ニトリル、例えばアセトニトリル、
− エーテル、例えばジエチルエーテル又は環式エーテル、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン、
− アミド、例えばジメチルホルムアミド、スルホン、例えばスルホラン、及び記載された溶媒の混合物。
【００８６】
接触水素化及び接触移動水素化は、ケトンから光学活性なアルコールへの還元について記載された文献に記述されたように慣用の条件と同様に実施することができる。
【００８７】
触媒の量及び反応時間に関する反応の実施は、高い転化率、化学収率及び鏡像体過剰率を達成するために予備実験で最適化すべきである。
【００８８】
驚くべきことに、水素化において、アミノ基が結合しているキラル中心に関してだけでなく、また隣接したキラル中心に関してもアミン(Ｉ)の非常に良好なエナンチオ選択性を達成することが可能である。
【００８９】
式(II)の出発物質は、知られている又は知られている方法と同様に製造することができる。単純な可能性は、対応するケトンを経た製造である。環式ケトンは、多くの場合商業的に入手可能であるか、又は当業者に知られている多数の反応によって他の化合物、例えばアルコール、ハロゲン化合物から又はエステル又はカルボン酸から閉環反応によって製造することができる。また、二環式ケトンは、例えば、WO 97/031904及びWO 2004/069814に記載されている。
【００９０】
また、光学活性なアミン(Ｉ)及びその塩の製造する特定の手段は、対応するケトンからイミンをその場で製造し、そして触媒の存在下で直接還元する二段法を実施することからなる。ケトンを適切な量の第一級アミンR0−NH2（ここで、R0は式(Ｉ)において定義された通りである）と反応させることによってイミンを形成し、そして中間体を単離することなくアミンに還元する。例えば、その場での方法は、ケトン１モル当たり第一級アミン0.1molから数倍過剰量までの量、好ましくはケトン１モル当たり第一級アミン１〜10mol、特に１〜５mol、より好ましくは１〜２molを用いて実施することができる。二段反応は、一般に光学活性な触媒を加えることによって制御することができる。温度条件は、触媒反応に適切な温度に実質的に左右される。
【００９１】
生成した式(Ｉ)の化合物は、光学活性な活性成分を製造するための光学活性なシントンとして適切である。化合物(Ｉ)及びその塩の特に頻繁な使用は、対応する遊離アミン(I')の製造であり、式(I')と式(Ｉ)との違いは、R0基を水素によって置き換えることからなる。
【００９２】
従って、式(I')遊離光学活性なシスアミン及びその塩は、同様に、本発明の主題の部分を構成する。それらは、標準反応、例えば保護基R0の脱離によって式(Ｉ)の適切な化合物から製造することができ、そのための脱離反応、好ましくは穏やかな脱離反応は知られている。このような除去可能な基の例は、上記の基i)−xv)である。これらの基の製造及びそれらの一般的な及び好ましい脱離法は、例えばハンドブック“Protective Groups in Organic Synthesis”, 3rd ed., T.W. Greene and P.G.M. Wuts; 1999, John Wiley & Sons, Inc.(特に第573〜585頁参照)及びそこに引用された文献に記載されている。
【００９３】
実験を以下の実施例によって詳細に説明するが、本発明をこれらの実施態様に限定しようとするものではない。特に明記しない限り、量は質量に基づく。
実施例中の略語：
Me＝メチル
Et＝エチル
n−又はi−Pr又はt−ブチル＝n−プロピル又はイソプロピル又はt−ブチル
Ph＝フェニル
Ts＝p−トシル＝p−トリルスルホニルアリル＝CH2−CH＝CH2
Bzl＝ベンジル＝CH2Ph
p−MeO−Bzl＝パラ−メトキシベンジル＝(p−メトキシフェニル)メチル
【００９４】
実施例A1
シス(S,S)−ベンジル−(2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ−1−イル)アミン
A1a) 触媒Ru(p−シメン)−(S,S)−TsDPENの製造
最初にビス(p−シメンルテニウムジクロリド)を有機溶媒中に入れ、そして室温で(S,S)−TsDPEN[(S,S)−N−トシル−1,2−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン]と反応させた。濃縮して高真空下で溶媒を除去して式：
【化２２】
のRu(p−シメン)(S,S)−TsDPENを得た。
同様に、化合物Ru(p−シメン)(R,R)−TsDPENは、(R,R)−TsDPENを使用して得た。
【００９５】
A1b) (1S,2S)−N−ベンジル(2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ−1−イル)アミン
実施例A1aからの触媒３mg(4.7μmol)をギ酸及びトリエチルアミン(5：2 v/v)の混合物１ml中に溶解し、20分間撹拌した。次いで、ジクロロメタン1.7ml中のジクロロメタン1.7ml中のラセミ体のN−ベンジル(2−メチル−3,4−ジヒドロ2H−ナフタ−1−イリデン)アミン350mg(1.141mmol)の溶液を加え、混合物を室温で５日撹拌した。溶媒を除去した後、メタノール５ml中に溶解し、水酸化カリウム約200mgで処理し、そして室温で水10mlと混合し、各場合、ジクロロメタン15mlで３回抽出を実施し、そして有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を除去してカラムクロマトグラフィ(20：1ヘキサン／酢酸エチル)の後、(1S,2S)−N−ベンジル(2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ−1−イル)アミン229mg(収率65％)を薄黄色の油として得た。
[a]21D＝31.1°(c 0.8，CHCl3)；1H NMR (400 MHz, C6D6) d =6.98−7.22 (m, 9H), 3.75 (d, 1H, J = 14.0 Hz), 3.71 (d, 1H, J = 14.0 Hz), 3.47 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 2.68 (dt, 1H, J = 17.2, 5.6 Hz), 2.55 (dt, 1H, J = 16.8, 8.0 Hz), 1.84 (m, 4H), 1.63 (m, 1H), 1.48 (m, 1H), 0.95 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 13C NMR (100 MHz, C6D6) d = 141.8, 140.2, 136.5, 129.5, 129.2, 128.7, 128.6, 127.2, 127.0, 125.8, 259.3, 52.6, 32.5, 28.0, 26.5, 16.5。鏡像体過剰率(ee％)はクロマトグラフィによって測定した(ee＝98％)。Chiralpak AD(Daicel)のHPLC、96：4 n−ヘキサン：イソプロパノール，30℃，流速：0.5ml／分；RT：7.07分
【００９６】
実施例A2
(1R,2S)−N−アリル(2−メチルシクロヘキシル)アミン
ギ酸及びトリエチルアミン(5：2 v/v)の混合物3.2ml中の実施例A1aからの触媒22.5mg(35μmol)の溶液を2−メチルシクロヘキサノン676mg(６mmol)、アリルアミン2.74ｇ(48mmol)及び硫酸マグネシウム100mgの混合物に滴加し、そして撹拌した。室温で７日後、反応混合物を水20mlで希釈し、ジクロロメタン15mlで３回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を除去してカラムクロマトグラフィ(シリカゲル，10：1ジクロロメタン／メタノール)後、(1R,2S)−N−アリル(2−メチルシクロヘキシル)アミン708mg(収率77％)を得た。
[a]21D＝＋8.2°(c 0.7，CHCl3)；1H NMR (300 MHz, CDCl3) d =5.88 (m, 1H), 5.14 (dd, 1H, J = 1.6, 16.2 Hz), 5.03 (m, 1H), 3.19 (m, 1H), 2.58 (m, 1H), 1.90 (m, 1H),
1.7−1.2 (m, 9H), 0.86 (d, 1H, J = 7.0 Hz), 13C NMR (75 MHz) d = 137.8, 115.8, 58.8, 49.9, 31.4, 28.4, 24.1, 22.2, 19.6, 13.8。鏡像体過剰率(ee％)はクロマトグラフィによって測定した(ee＝95.9％)。Chiralpak OJ(Daicel)のHPLC，99.5：0.5 n−ヘキサン：イソプロパノール，30℃，流速：0.5ml／分；RT：17.16分
【００９７】
実施例A3
(1R,2R)−N−ベンジル(2−フェニルシクロヘキシル)アミン
IrCl[(S,S)−TsDPEN]Cp*16.6mg及び乾燥ジクロロメタン10ml中のラセミ体の1−ベンジル−N−[2−フェニルシクロヘキシリデン]アミンの溶液をギ酸及びトリエチルアミン(5：2 v/v)の混合物3.2mlに加えた。室温で24時間撹拌した後、pH10になるまで混合物を0.5M aq.Na2CO3で希釈し、次いでジクロロメタン(２×30ml)で抽出した。続いて、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、そして残留物をカラムクロマトグラフィ(シリカゲル，1：12酢酸エチル／ヘキサン)によって精製した。(1R,2R)−N−ベンジル(2−フェニルシクロヘキシル)アミンを収率60％で得た。[α]22D＝＋33.4°(c 0.7，CHCl3)；1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ＝6.9−7.4 (m, 10H), 3.68 (d, J = 13.8 Hz, 1H), 3.0 (m, 1H), 2.85 (dt, J = 13.3, 3.2 Hz), 1H), 1.1−2.2 (m, 8H)；13C NMR (75 MHz) ｄ = 143.9, 140.3, 127.7, 127.5, 127.1, 125.9, 125.5, 56.1, 50.7, 46.5, 29.2, 25.9, 24.1, 19.1。ジアステレオマー過剰率(de)は、1H−NMRによって測定した(de＞98％)。鏡像体過剰率は、脱ベンジル化して解放されたアミノ官能基を続いてアセチル化した後、測定した(ee＝50％)。
【００９８】
また、実施例A1、A2及びA3及び説明に記載した変法に従って、以下の表１及び２に記載した実施例の化合物を得た。
【００９９】
表１及び２の説明：
キラル相上のHPLCによる保持時間の測定方法。全ての測定で30℃の溶離剤としてn−ヘキサン／イソプロパノールを用いた。
報告された関連事項は以下の通り：RT(分)、
溶離剤及び流速(vnHex／viPrOH−ml／min)
(1) Chiralpak AD(Daicel)
(2) Chiralpak OJ(Daicel)
(3) Chiralpak OB(Daicel)
(4) N−ベンゾイル誘導体として特徴づけた。
化合物に関するいくつかのデータは、各表の最後に報告した。
【０１００】
【表１】
【０１０１】
【表２】
【０１０２】
【表３】
【０１０３】
【表４】
【０１０４】
表１の化合物に関する物理的データ：
化合物番号：aB46：Ref(2, 4)，Rt＝17.2，n−ヘキサン／イソプロパノール＝99.5：0.5(v/v)，流速＝0.5ml／分
【０１０５】
【表５】
【０１０６】
【表６】
【０１０７】
【表７】
【０１０８】
【表８】
【０１０９】
【表９】
【０１１０】
【表１０】
【０１１１】
【表１１】
【０１１２】
【表１２】
【０１１３】
【表１３】
【０１１４】
【表１４】
【０１１５】
【表１５】
【０１１６】
【表１６】
【０１１７】
【表１７】
【０１１８】
【表１８】
【０１１９】
【表１９】
【０１２０】
【表２０】
【０１２１】
【表２１】
【０１２２】
【表２２】
【０１２３】
【表２３】
【０１２４】
【表２４】
【０１２５】
【表２５】
【０１２６】
表２の化合物に関する物理的データ：
化合物番号：bA214：Ref(1)，Rt＝6.7
n−ヘキサン／イソプロパノール＝92：8(v/v)、
流速＝0.5ml／分、
化合物番号：bA218：Ref(1, 4)，Rt＝13.9
n−ヘキサン／イソプロパノール＝90：10(v/v)、
流速＝1.0ml／分，
化合物番号：bA237：Ref (3)，Rt＝17.4，
n−ヘキサン／イソプロパノール＝99：1(v/v)、
流速＝0.3ml／分、
化合物番号：bB237：Ref (3)，Rt＝19.9，
n−ヘキサン／イソプロパノール＝99：1(v/v)、
流速＝0.3ml／分、
化合物番号：bA239：Ref (3, 4)，Rt＝12.3，
n−ヘキサン／イソプロパノール＝90：10(v/v)，
流速＝1.0ml／分、
化合物番号：bA406：Ref(1)，Rt＝7.1
n−ヘキサン／イソプロパノール＝96：4(v/v)、
流速＝0.5ml／分
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性成分、例えば作物保護組成物又は薬剤の活性成分の合成に使用することができる光学活性な中間体の製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性な化合物は、光学活性な活性成分を製造するための中間体としてしばしば必要である。これはエナンチオ選択的製造方法にあてはまり、その際、所望の空間的構造が中間体の段階である種のキラル中心で導入され、そして１つ又はそれ以上の製造工程を通して活性成分上へ保持される。適切な中間体は、光学活性な天然物質又はエナンチオ選択的反応を用いてアキラル化合物からキラル中心が得られる化合物、又は選択的やり方で、存在する鏡像異性体の一方のみがエナンチオ選択的に転化されてさらに使用されるラセミ化合物である。
【０００３】
アミノ化合物は、活性作物保護成分及び活性薬剤成分の中間体として大きな重要性を有する。光学活性なアミンを製造するための多くの方法が知られており；例えばAngew. Chem. Int. Ed. 2004 (116) 806−843及びそこに引用された文献参照。光学活性な酸を用いたジアステレオマー塩を経た古典的光学分割に加えて、いくつかは、光学活性な出発物質の使用及び所望の化合物へのエナンチオ選択的転化に関する。他の方法は、酵素反応、例えば酵素又は微生物を用いたアミノ交換に基づく。他の方法では、エナンチオ選択的にキラル中心を得る反応において合成の光学活性な試薬及びその性質の使用を再び利用する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
知られている方法は、通常、ある種の基質上で非常に特異的に使用することしかできないという欠点を有する。構造的に異なる基質では、化学収率、鏡像体過剰率、選択性、純度、反応時間並びに出発物質及び補助剤の有用性といったようなパラメーターに関する結果が不十分であることが多い。従って、特定の場合に、そしてまた一般に光学活性なアミンを製造する代替方法を提供する必要がある。
【０００５】
ここで、第２の隣接するキラル中心を有するある種の光学活性な環式アミンは、隣接するキラル中心に関してラセミ体の形態で存在する化合物から特に有効なやり方でエナンチオ選択的に製造することができることが今や見い出された。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、式(Ｉ)
【化１】
［式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和の非芳香族環であり、これは３〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そしてＲ及びNH−R0基に加えてさらに置換されていてもよく、
R0は、Ｒと独立して(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニルであり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C6)アルコキシ、(C1−C6)ハロアルコキシ、(C1−C6)アルキルチオ、(C1−C6)アルカノイルオキシ、(C1−C6)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されていてもよく、ここで最後の５個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、又は
(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
【０００７】
Ｒは、R0と独立して
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニルであり、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C6)アルコキシ、(C1−C6)ハロアルコキシ、(C1−C6)アルキルチオ、非置換又は置換されたアリール、及び非置換又は置換されたヘテロアリールからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又は
非置換又は置換されたアリール、又は
非置換又は置換されたヘテロアリールであり、
又は
R0及びＡは環B1を形成し、そしてNH基及びアステリスク(*)で表わされた、NH基に結合している炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
Ｒ及びＡは環B2を形成し、そしてアステリスク(*)で表わされた、Ｒに結合している炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群からの１、２又は３個のヘテロ原子を含む、炭素環式又は複素環式環であるか、
又は
R0及びＲは環B3を形成し、そしてNH基及び各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
R0及びＲ及び必要に応じてＡは、記載された環B1、B2及びB3のうちの２つ又はそれ以上を同時に形成することができ、ここで各場合においてアステリスク(*)の印のある２個の環炭素原子上のＲ及びNH−R0基は、互いにシス配列に配置されており、そしてこれらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置とは異なる)の光学活性な環式アミン及びその塩の製造方法であって、
【０００８】
これは、式(II)
【化２】
［ここで、Ａ、R0及びＲは、それぞれ式(Ｉ)に定義された通りであり、そして式(II)の化合物は、アステリスク(*)で示された環炭素原子に関して、ラセミ混合物の形態又は当該立体異性体の他のいずれかの異性体の比率で混合物の形態で存在する］のイミン又はその塩を、水素又は水素供与体及びルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウム、白金、鉄、ニッケル及びサマリウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属、好ましくはルテニウム、ロジウム、パラジウム及びイリジウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属、特にルテニウム及びイリジウムと有機配位子との触媒活性で光学活性な錯体からなる非酵素的な触媒の存在下で式(Ｉ)又はその塩の化合物に転化することからなる前記製造方法を提供する。
【０００９】
生成物の絶対配置は、個々の場合、記載された触媒の群からの光学活性な触媒の構造に左右される。
【００１０】
式(Ｉ)の化合物は、特に式(IA)及び(IB)
【化３】
（式中、Ａ、R0及びＲは、それぞれ上記定義された通りである）の化合物である。Cahn−Ingold−Prelogの立体化学的な命名法により、化合物(IA)は、炭素原子１の置換基の順序に従って立体化学的な表示(1S−シス)又は(1R−シス)を有する。化合物(IB)は、同様に立体化学的な表示(1R−シス)又は(1S−シス)を有する。
【００１１】
各場合においてアステリスク(*)で表わされる２個のキラル中心でシス配置を有する化合物(Ｉ)は、トランス配置と比較して60〜100％、好ましくは80〜100％、特に90〜100％、非常に特別には95〜100％の選択性で得ることが好ましく、特定のシス化合物(IA)又は(IB)は、各場合において該当するシス化合物(IA)及び(IB)の総含量に基づいて20％eeを超える又はより良好には50％eeを超える、好ましくは60〜100％ee、特に80〜100％ee、非常に特別には90〜100％ee、最も好ましくは95〜100％eeのエナンチオ選択性で得られる。
【００１２】
％eeで測定された鏡像体過剰率は、鏡像異性体の混合物に基づく２つの鏡像異性体のパーセンテージの差分を意味する。
【００１３】
式(II)の特定の化合物は、一般に化合物(II−A1)、(II−A2)、(II−B1)及び(II−B2)
【化４】
の混合物からなり、化合物(II−A1)及び(II−A2)は、化合物(II−A)として短縮して一緒に表わされ、そして化合物(II−B1)及び(II−B2)は、化合物(II−B)として短縮して一緒になって表わされる。化合物(II−A)及び(II−B)は、一般に炭素原子２の配置に関してあらゆる比率で使用することができる。一般に、これに関して、1：1の比率、すなわちラセミ混合物で存在するのが好ましい。
【００１４】
化合物(II−A1)(II−A2)及び(II−B1)又は(II−B2)は、通常、反応条件下では平衡で存在する。
【００１５】
化合物(Ｉ)又は(II)が水素のシフトによって、正式な意味では式(Ｉ)又は(II)によって構造的に包含されない互変異性体を形成することができる場合、これらの互変異性体は、式(Ｉ)又は(II)の本発明の化合物の定義によって等しく包含される。
【００１６】
一般式(Ｉ)の化合物(又は同様に他の本発明の化合物)は、置換基のタイプ及び結合に応じて、式(Ｉ)中のアステリスク(*)で示される炭素原子と異なるさらなるキラル中心を含み、そして立体異性体の形態で同様に存在する。それらの特異的な三次元形態によって定義される可能な立体異性体、例えば鏡像異性体、ジアステレオマー、Ｚ及びＥ異性体は、全て式(Ｉ)によって包含される。例えば、１つ又はそれ以上のアルケニル基が存在する場合、ジアステレオマー(Ｚ及びＥ異性体)は生じることができる。例えば１つ又はそれ以上の不斉炭素原子が存在する場合、鏡像異性体及びジアステレオマーが生じることがある。立体異性体は、製造で得た混合物から、慣用の分離方法によって、例えばクロマトグラフ分離過程によって入手することができる。同様に、光学活性な出発物質及び／又は助剤を用いた立体選択反応の使用によって立体異性体を選択的に製造することができる。従って、また、本発明は、一般式(Ｉ)によって包含されるが、それらの具体的な立体化学的形態は明記されない全ての立体異性体及びそれらの混合物に関する。
【００１７】
一般式(Ｉ)の異なる置換基の可能な組み合わせは、化学物質を構成する一般的な原理が認められるように解すべきであり、すなわち、式(Ｉ)は化学的に不可能であると当業者に知られている化合物を包含しない。
【００１８】
式(Ｉ)の化合物は、例えば適切な無機又は有機酸、例えば無機酸、例えばHCl、HBr、H2SO4又はHNO3、又は有機酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸又はスルホン酸を塩基性基、例えば存在するアミノ基又は他のアミノ基、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ又はピリジノに添加することによって塩を形成することができる。次いで、これらの塩は、イオンとして酸の共役塩基を含む。
【００１９】
塩は、酸性水素原子を担持する式(Ｉ)の化合物において塩基の作用によって形成することができる。適切な塩基は、例えば有機アミンであり、そしてまたアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩及び炭酸水素塩、特にナトリウム及びカリウムの水酸化物、炭酸塩及び炭酸水素塩である。これらの塩は、酸性水素がカチオンによって置き換えられた化合物、例えば金属塩、特にアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、特にナトリウム及びカリウム塩、又はその他にアンモニウム塩、有機アミンとの塩又は第四級アンモニウム塩である。
【００２０】
脱プロトン化された形態で存在する適切な置換基、例えばスルホン酸又はカルボン酸は、アミド基のようなそれ自体プロトン化できる基と共に内部塩を形成することができる。
【００２１】
式(Ｉ)の化合物及びその塩は、以下、「本発明に従って使用される化合物(Ｉ)」又は本発明の「化合物(Ｉ)」として短縮して引用する。
【００２２】
上記及び下記に使用される用語は、当業者によく知られており、特に以下に説明された定義を有する：
無機基は、炭素原子、好ましくはハロゲン、OHのない基及びHがカチオン、例えばアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩によって置き換えられたその無機塩、NH2及び(無機)酸、例えば鉱酸とのそのアンモニウム塩、N3(アジド)、N2+A-(A-がアニオンであるジアゾニウム基)、NO、NHOH、NHNH2、NO2、S(O)OH(スルフィン酸基)、S(O)2OH(又は他に短いスルホン酸基についてはSO3H)、−O−SO2H(亜硫酸塩)、−O−SO3H(硫酸塩)、−P(O)(OH)2(ホスホン酸基)、−O−P−(OH)3(リン酸基)、及び最後の６個の酸基の水和又は脱水形態並びにまたそれらの(無機)塩であり； また、用語「無機基」は、水素基(水素原子)を包含し、後者は、多くの場合、すでにこれらの定義における有機基の非置換の基本構造の部分(例えば：「非置換フェニル」)であり；本明細書において用語「無機基」は、好ましくは擬ハロゲン基、例えばCN、SCN、有機金属錯体、炭酸塩又はCOOHを包含し、これらは炭素原子を含むため、より適切には有機基に分類されることがある。
【００２３】
無機基と対照的に、有機基は炭素原子を有する基であり、そしてこの基はヘテロ原子を経て結合されていてもよい。それは、好ましくは場合により置換された炭化水素基又は場合により置換された複素環式基である。しかしながら、それはまた好ましくはアシル基、すなわち、OH基の除去によって形成される有機酸の基を包含する。また、アシル基は、それぞれ有機アルコール成分を有する(次いで多塩基酸から誘導される)スルホンエステル基、ホスホン酸エステル基、ホスフィン酸エステル基、又はスルホン酸又はスルフィン酸から誘導されるアルキルスルホニル又はアルキルスルフィニルを含む。
【００２４】
炭化水素基は、脂肪族、環式脂肪族又は芳香族単環式基、又は場合により置換された炭化水素基の場合、炭素及び水素の元素に基づく二環式又は多環式の有機基であり、例えば基アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、フェニル、ナフチル、インダニル、インデニル、なども包含し；同じことがヒドロカーボンオキシ基に適用される。より具体的に定義しない限り、上記の定義において炭化水素及びヒドロカーボンオキシ基は、好ましくは１〜20個の炭素原子、より好ましくは１〜16個の炭素原子、特に１〜12個の炭素原子を有する。
【００２５】
炭化水素基及びより具体的にはアルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルアミノ及びアルキルチオ基、そしてまた対応する不飽和及び／又は置換された基は、それぞれ炭素骨格において直鎖又は分枝状であることができる。
【００２６】
「(C1−C4)アルキル」なる表現は、炭素原子の範囲を明記することで１〜４個の炭素原子を有する開鎖アルキルについての省略した表記を意味し、すなわちメチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、1−ブチル、2−ブチル、2−メチルプロピル又はtert−ブチル基を包含する。また、明記された炭素原子のより広い範囲の一般的なアルキル基、例えば「(C1−C6)アルキル」は、同様により大きい炭素原子数を有する直鎖又は分枝アルキル基、すなわち例えば５及び６個の炭素原子を有するアルキル基を包含する。
【００２７】
特に明記しない限り、組み合わせた基中のものを含むアルキル、アルケニル及びアルキニル基のような炭化水素基の場合、低級炭素構造、例えば１〜６個の炭素原子、特に１〜４個の炭素原子を有するもの、又は不飽和基の場合、２〜６個の炭素原子、特に２〜４個の炭素原子を有するものが好ましい。例えばアルコキシ、ハロアルキル、などの組み合わせた定義中のものを含むアルキル基は、例えば、メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、t−又は2−ブチル、ペンチル、ヘキシル、例えばn−ヘキシル、i−ヘキシル、及び1,3−ジメチルブチル、ヘプチル、例えばn−ヘプチル、1−メチルヘキシル及び1,4−ジメチルペンチルであり；アルケニル及びアルキニル基は、アルキル基に対応する可能な不飽和基の定義を有し；アルケニルは、例えばビニル、アリル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−ブテニル、ペンテニル、2−メチルペンテニル又はヘキセニル、好ましくはアリル、1−メチルプロパ−2−エン−1−イル、2−メチルプロパ−2−エン−1−イル、ブタ−2−エン−1−イル、ブタ−3−エン−1−イル、1−メチルブタ−3−エン−1−イル又は1−メチルブタ−2−エン−1−イルである。(C2−C6)アルキニルは、例えばエチニル、プロパルギル、1−メチル−2−プロピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−ブチニル、2−ペンチニル又は2−ヘキシニル、好ましくはプロパルギル、ブタ−2−イン−1−イル、ブタ−3−イン−1−イル、又は1−メチル−3−イン−1−イルである。
【００２８】
例えば(C1−C10)アルキリデンの形態を含むアルキリデンは、二重結合を経て結合された直鎖又は分枝アルカンの基であり、結合部位の位置は明記されていない。分枝アルカンの場合、本来、２個の水素原子が二重結合によって置き換えることができる位置でのみ可能であり；基は、例えば、=CH2、=CH−CH3、=C(CH3)−CH3、=C(CH3)−C2H5又は=C(C2H5)−C2H5である。
【００２９】
シクロアルキルは、好ましくは３−８個の炭素原子を有する炭素環式飽和環系、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。また、置換されたシクロアルキルは、シクロアルキル基上で二重結合を有する置換基を包含する置換基を有する環式系、例えばアルキリデン基、例えばメチリデンを包含する。また、置換されたシクロアルキルは、多環式脂肪族系、例えばビシクロ[1.1.0]ブタン−1−イル、ビシクロ[1.1.0]ブタン−2−イル、ビシクロ[2.1.0]ペンタン−1−イル、ビシクロ[2.1.0]ペンタン−2−イル、ビシクロ[2.1.0]ペンタン−5−イル、アダマンタン−1−イル及びアダマンタン−2−イルを包含する。
【００３０】
シクロアルケニルは、好ましくは４〜８個の炭素原子を有する炭素環式、非芳香族、部分的に不飽和の環系、例えば1−シクロブテニル、2−シクロブテニル、1−シクロペンテニル、2−シクロペンテニル、3−シクロペンテニル又は1−シクロヘキセニル、2−シクロヘキセニル、3−シクロヘキセニル、1,3−シクロヘキサジエニル又は1,4−シクロヘキサジエニルである。置換されたシクロアルケニルの場合、置換されたシクロアルキルについての説明が、同様に適用される。また、特に、置換されたシクロアルケニルは、対応する縮合多環式化合物、例えばベンゾ縮合された化合物、例えばテトラヒドロナフタリン−1−イル又は−2−イル、フルオレニル(ビフェニルメチル)又はスベリル(ジ−[b,f]−ベンゾシクロヘプタ−2,6−ジエン−1−イル)を包含する。
【００３１】
用語「ハロゲン」は、例えばフッ素、塩素、臭素又はヨウ素を意味する。ハロアルキル、−アルケニル及び−アルキニルは、好ましくはフッ素、塩素及び臭素の群から特にフッ素及び塩素の群からの同一又は異なるハロゲン原子によって部分的に又は完全に置換されたアルキル、アルケニル及びアルキニル、例えばモノハロアルキル、例えばCH2CH2Cl、CH2CH2F、CH2ClCH3、CH2FCH3、CH2Cl、CH2F；ペルハロアルキル、例えばCCl3又はCF3又はCF3CF2；ポリハロアルキル、例えばCHF2、CH2F、CH2FCHCl、CHCl2、CF2CF2H、CH2CF3、CH2ClCH3、CH2FCH3であり；ハロアルコキシは、例えばOCF3、OCHF2、OCH2F、CF3CF2O、OCH2CF3及びOCH2CH2Clであり；同じことは、ハロアルケニル及びハロゲンによって置換された他の基にも適用される。
【００３２】
アリールは、好ましくは６〜14個、特に６〜12個の炭素原子を有する単、二又は多環芳香族系、例えばフェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インデニル、インダニル、ペンタレニル、フルオレニル、ビフェニリルなど、好ましくはフェニルである。
【００３３】
複素環式基又は環(ヘテロシクリル)は、飽和、不飽和又は複素芳香族であり、そして一般に置換された場合、他の炭素環式又は複素環式環と縮合されている少なくとも１つの複素環式環を含み；別途、定義しない限り、複素環式環は、好ましくは３〜９個の環原子、特に３〜６個の環原子、そして複素環式環中に好ましくはＮ、Ｏ及びＳの群から１つ又はそれ以上、好ましくは１〜４個、特に１、２又は３個のヘテロ原子を含むが、２個の酸素原子が直接隣接すべきではなく、そしてまた、少なくとも１個の炭素原子が環中存在しなければならず、例えばチオフェン、フラン、ピロール、チアゾール、オキサゾール、イミダゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,3,4−チアジアゾール、1,3,4−トリアゾール、1,2,4−オキサジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,4−トリアゾール、1,2,3−トリアゾール、1,2,3,4−テトラゾール、ベンゾ[b]チオフェン、ベンゾ[b]フラン、インドール、ベンゾ[c]チオフェン、ベンゾ[c]フラン、イソインドール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾイソオキサゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアジアゾール、ベンゾトリアゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、カルバゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、1,3,5−トリアジン、1,2,4−トリアジン、1,2,4,5−テトラジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、キナゾリン、キノリン、1,8−ナフチリジン、1,5−ナフチリジン、1,6−ナフチリジン、1,7−ナフチリジン、フタラジン、ピリドピリミジン、プリン、プテリジン、4H−キノリジン、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、オキセタン、オキシラン、ピロリジン、オキサゾリン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン、1,3−及び1,4−ジオキサン、イソオキサゾリジン又はチアゾリジンの基である。
【００３４】
「ヘテロシクリル」の下で上記された基の中で、各場合の「ヘテロアリール」は、完全に不飽和の芳香族複素環式化合物、例えばピリジン、ピリミジン、(1,2,4)−オキサジアゾール、(1,3,4)−オキサジアゾール、ピロール、フラン、チオフェン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、1,2,4−トリアゾール、テトラゾール、ピラジン又はピリダジンを意味する。
【００３５】
さらに、ヘテロシクリルがＮ、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子を有する部分的に又は完全に水素化された複素環式基、例えばオキシラニル、オキセタニル、オキソラニル(＝テトラヒドロフリル)、オキサニル、ピロリニル、ピロリジニル又はピペリジニルであることは好ましい。さらにＮ、Ｏ及びＳの群から２つのヘテロ原子を有する部分的に又は完全に水素化された複素環式基、例えばオキサゾリニル、チアゾリニル、ピペラジニル、1,3−ジオキソラニル、1,3−及び1,4−ジオキサニル、オキサゾリニル、イソオキサゾリニル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル及びモルホリニルであることは好ましい。
【００３６】
部分的に又は完全に飽和した窒素複素環である場合、炭素を経て又は窒素を経て特定の化合物の分子の基に結合することができる。
【００３７】
ヘテロシクリルは、好ましくは３〜７個、特に３〜６個の環原子を有する、脂肪族の飽和若しくは不飽和、特に飽和したヘテロシクリル基又は５若しくは６個の環原子を有する複素芳香族基である。ヘテロシクリルは、好ましくはＮ、Ｏ及びＳの群からの複素環式環原子を含有する。
【００３８】
ヘテロシクリルの好ましい例は、ピリジル、チエニル、フリル、ピロリル、オキシラニル、2−オキセタニル、3−オキセタニル、オキソラニル(＝テトラヒドロフリル)、ピロリジニル、ピペリジニル、特にオキシラニル、2−オキセタニル、3−オキセタニル又はオキソラニルの群からの３〜６個の環原子を有する複素環式基、又は２若しくは３個のヘテロ原子を有する複素環式基、例えばピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、トリアジニル、チエニル、チアゾリル、チアジアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、ピペラジニル、ジオキソラニル、ジオキサニル、オキサゾリニル、イソオキサゾリニル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル又はモルホリニルである。
【００３９】
基本的な構造が、基(radicals)(＝基(group))のリスト又は一般的に定義された基の群からの「１つ又はそれ以上の基によって」置換される場合、各場合のこれは、複数の同一及び／又は構造的に異なる基による同時の置換を含む。
【００４０】
複数の場合により置換された基本構造の場合、「ここで、後者の基(＝塩基性の構造)のそれぞれは、非置換又は置換されている」なる定義は、基(＝基本構造)のそれぞれは、非置換又は他の基で独立して置換されていることを意味する。
【００４１】
置換された複素環式基について可能な置換基は、下記の置換基そしてさらにまたオキソを含む。そして置換基としてのオキソ基は、例えば複素環式環中のカルボニル基を意味する。従って、ラクトン及びラクタムも包含されることが好ましい。また、オキソ基は、複素環式環の原子上で生じることができ、そしてそれは例えばＮ及びＳの場合、種々の酸化状態で存在することができ、そしてその場合、例えば複素環式環中で二価の基−N(O)−、−S(O)−(また、略してSO)及び−S(O)2−(また、略してSO2)を形成する。
【００４２】
置換された基、例えば置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、フェニル、ベンジル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール基は、例えば非置換の基本構造から誘導された置換された基であり、置換基は、例えばハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、カルボキシ、シアノ、アジド、アルコキシカルボニル、アルカノイル、アルコキシカルボニルオキシ、アルカノイルオキシ、アリールオキシカルボニル、アリールオキシカルボニルオキシ、カルバモイル、モノ−及びジアルキルアミノカルボニル、置換されたアミノ、例えばアシルアミノ、モノ−及びジアルキルアミノ、トリアルキルシリル及び場合により置換されたシクロアルキル、場合により置換されたアリール、場合により置換されたヘテロシクリル、ここで後者の環式基はそれぞれ記載されたアルキル基の場合のようにヘテロ原子又は二価の官能基を経て結合されていてもよく、及びアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、そして環式基(＝「環式の基本構造)の場合、またアルキル、ハロアルキル、アルキルチオアルキル、アルコキシアルキル、場合により置換されたモノ−及びジアルキルアミノアルキル及びヒドロキシアルキルの群からの１つ又はそれ以上、好ましくは１、２又は３個の基であり；用語「置換された基」、例えば置換されたアルキル、などにおいて置換基として含まれるのは、記載された飽和炭化水素を含む基に加えて対応する不飽和脂肪族及び芳香族基、例えば場合により置換されたアルケニル、アルキニル、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、フェニル、フェノキシ、などである。また、環中の脂肪族部分で置換された環式基は、二重結合で環に結合されたこのような置換基、例えばアルキリデン基、例えばメチリデン又はエチリデン又はオキソ基、イミノ基又は置換されたイミノ基を有する環式系を包含する。
【００４３】
例として記載された置換基(「第１の置換基レベル」)は、炭化水素を含んでいる部分を含む場合、そこで場合によりさらに(「第２の置換基レベル)、例えば第１の置換基レベルについて定義された置換基の１つによって置換される。対応するさらなる置換基レベルは可能である。用語「置換された基」は、好ましくは１又は２の置換基レベルのみを包含する。
【００４４】
置換基レベルについての好ましい置換基は、例えばアミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、メルカプト、カルボキシ、カルボンアミド、SF5、アミノスルホニル、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、N−アルカノイルアミノ、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルコキシ、シクロアルケニルオキシ、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、アリールカルボニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボニルオキシ、アルキニルオキシカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アルケニルチオ、シクロアルケニルチオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、N−アルキルアミノカルボニル、N,N−ジアルキルアミノカルボニル、N−アルカノイル−アミノカルボニル、N−アルカノイル−N−アルキルアミノカルボニル、アリール、アリールオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、アリールチオ、アリールアミノ、ベンジルアミノ、ヘテロシクリル及びトリアルキルシリルである。
【００４５】
炭素原子を有する基の場合、１〜６個の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子、特に１又は２個の炭素原子を有するものが好ましい。一般に、ハロゲン、例えばフッ素又は塩素、(C1−C4)アルキル、好ましくはメチル又はエチル、(C1−C4)ハロアルキル、好ましくはトリフルオロメチル、(C1−C4)アルコキシ、好ましくはメトキシ又はエトキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、ニトロ及びシアノの群からの置換基が好ましい。特に好ましいのは、置換基メチル、メトキシ、フッ素及び塩素である。
【００４６】
置換されたアミノ、例えば一又は二置換されたアミノは、例えばアルキル、アルコキシ、アシル及びアリールの群からの１又は２個の同一又は異なる基によってN−置換された置換されたアミノ基の群からの基であり；好ましくはモノ−及びジアルキルアミノ、モノ−及びジアリールアミノ、アシルアミノ、N−アルキル−N−アリールアミノ、N−アルキル−N−アシルアミノ、及びまた飽和N−複素環；１〜４個の炭素原子を有するアルキル基が好ましく；アリールは、好ましくはフェニル又は置換されたフェニルであり；アシルについては、下記の定義が適用され、好ましくは(C1−C4)アルカノイルであり、同じことが置換されたヒドロキシルアミノ又はヒドラジノに適用される。
【００４７】
場合により置換されたフェニルは、好ましくは、非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)ハロアルコキシ及びニトロの群からの同一又は異なる基によって一又は多置換された、好ましくは三置換までされたフェニル、例えばo−、m−及びp−トリル、ジメチルフェニル、2−、3−及び4−クロロフェニル、2−、3−及び4−フルオロフェニル、2−、3−及び4−トリフルオロメチル及び−トリクロロメチルフェニル、2,4−、3,5−、2,5−及び2,3−ジクロロフェニル、o−、m−及びp−メトキシフェニルである。
【００４８】
場合により置換されたシクロアルキルは、好ましくは非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル及び(C1−C4)ハロアルコキシの群からの同一又は異なる基によって、特に１又は２個の(C1−C4)アルキル基によって一又は多置換された、好ましくは三置換までされたシクロアルキルである。
【００４９】
場合により置換されたヘテロシクリルは、好ましくは非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)ハロアルコキシ、ニトロ及びオキソの群からの同一又は異なる基によって一又は多置換された、好ましくは三置換までされた、特にハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル及びオキソの群からの基によって、非常に具体的には１又は２個の(C1−C4)アルキル基によって一又は多置換されたヘテロシクリルである。
【００５０】
アシルは、正式な意味では、酸性官能基でヒドロキシル基を除去することによって形成された有機酸の基であり、酸中の有機基は、ヘテロ原子を経て酸性官能基に結合することもできる。アシルの例は、カルボン酸HO−CO−RのCO−R基であり、チオカルボン酸のようにそこから誘導された酸の基、場合によりN−置換されたイミノカルボン酸、又は炭酸モノエステルの基、N−置換されたカルバミン酸、スルホン酸、スルフィン酸、N−置換されたスルホンアミド酸、ホスホン酸、ホスフィン酸である。
【００５１】
アシルは、例えばアルカノイル、例えばホルミル又は[(C1−C4)アルキル]カルボニル、フェニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、N−アルキル−1−イミノアルキル、N−アルキル及びN,N−ジアルキルカルバモイル及び有機酸の他の基である。基は、それぞれアルキル又はフェニル部分において、例えばアルキル部分においてハロゲン、アルコキシ、フェニル及びフェノキシの群からの１つ又はそれ以上の基によってさらに置換されていてもよく；フェニル部分における置換基の例は、置換されたフェニルについて一般に上記された置換基である。
【００５２】
アシルは、好ましくはより狭い意味ではアシル基、すなわち酸性基が有機基の炭素原子に直接結合した有機酸の基、例えばアルカノイル、例えばホルミル及びアセチル、アロイル、例えばフェニルカルボニル、及び飽和又は不飽和有機酸の他の基である。
【００５３】
「アロイル」は、カルボニル基、例えばベンゾイル基を経て結合した上記定義されたアリール基である。
【００５４】
一般的な基が水素として定義される場合、これは水素原子を意味する。
【００５５】
基の「イル位」は、その結合部位を表わす。
【００５６】
特に収率、空時収量、方法のエナンチオ選択性及び方法の単純性に関するより良好な製造性のため、そしてまた有用性のため、より興味深いのは、式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和の非芳香族環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そしてＲ及びNH−R0基に加えて、非置換であるか又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルコキシカルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、アリール及びヘテロシクリルからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によってさらに置換されており、ここで最後の11個の基は、それぞれ独立して非置換であるか又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そして３〜30個の環原子を有する縮合炭素環式又は複素環式環によって場合により置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群から１〜３個の環原子を含み、そしてハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって場合によりさらに置換されており、ここで最後の７個の基はそれぞれ独立して非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、Ｒと独立して、(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニルは基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換であるか又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、非置換又は置換されたフェニル及び非置換又は置換されたヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は(C3−C9)シクロアルキル、これは非置換又は置換されており、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換されたフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は(C4−C9)シクロアルケニル、これは非置換又は置換されており、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換したフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そして場合により縮合された、好ましくは環中の１つ又はそれ以上の二重結合においてさらなる置換を有する又は有しない芳香族環とベンゾ縮合されており、
又はフェニル、これは非置換又は置換された、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換されたフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換され、そして場合により縮合された、好ましくは環中の１つ又はそれ以上の二重結合においてさらなる置換を有しない又は有しない芳香族環とベンゾ縮合されており、
又はヘテロシクリル、これは非置換又は置換されており、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び非置換又は置換されたフェニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換され、そして場合により不飽和又は複素芳香族ヘテロシクリルの場合、縮合された、好ましくはさらなる置換を有する又は有しない環中で１つ又はそれ以上の二重結合においてベンゾ縮合されており、
又は
【００５７】
R0は、特に、
i) CH2C6H5 (ベンジル)
ii) CH2CH=CH2 (アリル)
iii) C(CH3)3 (t−ブチル)
iv) C(C6H5)3 (トリチル)
v) CH3 (メチル)
vi) (CH2)3OCOCH3 (3−アセトキシプロピル)
vii) CH2C6H3−2,4−(OCH3)2 (2,4−ジメトキシベンジル)
viii) C6H3−2,4−(NO2)2 (2,4−ジニトロフェニル)
ix) CH2C6H4−4−OCH3 (4−メトキシベンジル)
x) CH2C6H4−2−OH (2−ヒドロキシベンジル)
xi) CH(C6H5)2 (ジフェニルメチル)
xii) CH(C6H4−4−OCH3)2 (ビス−(4−メトキシフェニル)メチル)
xiii) C(C6H5)2(C6H4−4−OCH3) (4−メトキシフェニル)ジフェニルメチル)
xiv) 5−ジベンゾスベリル (ジベンゾ[b,f]−シクロヘプタ−2,6−ジエン−1−イル)
xv) 9−フェニルフルオレン−9−イル (1−フェニルジフェニレンメチル)
からなる群より選ばれる除去可能な基(切断可能な基、脱離基)であり、ここで非置換又は置換された(すなわち、置換基の説明なしで場合により置換された)記載されたフェニル又はヘテロシクリル基はそれぞれ、好ましくは非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキルオキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており；特に、非置換又は置換された記載されたフェニル又はヘテロシクリル基はそれぞれ、好ましくは非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)ハロアルコキシ及びニトロからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
【００５８】
Ｒは、R0と独立して
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニル、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、場合により置換されたアリール及び場合により置換されたヘテロアリールからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は
場合により置換されたアリール、又は
場合により置換されたヘテロアリール、
ここで場合により置換された基はそれぞれ独立して好ましくは非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C5)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルキルアミノ、ジ−(C1−C4)アルキルアミノ、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の14個の基は、それぞれ独立して非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又は
R0及びＡは、環B1を形成し、そしてNH基及びアステリスク(*)で表わされ、NH基に結合した炭素原子と一緒になって、４〜30個の環原子を有し、好ましくは４〜９個の環原子を有し、特に５〜７個の環原子を有する複素環式環であり、これは場合により追加的にさらに置換されており、そしてこれはＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含み、
そして好ましくはさらなる置換を有しない記載された複素環式環であるか、又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)アルキルスルホニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は
Ｒ及びＡは、環B2を形成し、そしてアステリスク(*)で表わされ、Ｒに結合した炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環式環を形成し、これは３〜30個の環原子、好ましくは３〜９個の環原子、特に４〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１又は２又は３個のさらなるヘテロ原子を含み、
そして好ましくはさらなる置換を有することができない記載された炭素環式又は複素環式環であるか、又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)アルキルスルホニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によるさらなる置換を有することができ、
又は
R0及びRは、環B3を形成し、そしてNH基及び場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって複素環式環であり、これは４〜30個の環原子、好ましくは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして場合によりＮ、Ｏ及びＳの群から１又は２個のさらなるヘテロ原子を含み、
そして好ましくはさらなる置換を有することができない記載された複素環式環であるか、又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)アルキルスルホニルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によりさらなる置換を有することができ、
又は
R0及びR及び、必要に応じて、Ａは、記載された環B1、B2及びB3のうちの２つ又はそれ以上を同時に形成し、ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上のＲ及びNH R0基は、互いにシス配列に配置され、そしてこれらの炭素原子の立体化学的配置は、ラセミ体の配置と異なる、本発明の式(Ｉ)のアミノ化合物を製造方法である。
【００５９】
好ましい本発明の方法は、例えば式(Ia)の単環式化合物の製造に関する。
【化５】
【００６０】
ここで、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子を有し、好ましくは４〜９個の環原子を有し、特に５〜７個の環原子を有する炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和非芳香族環であり、そして複素環式環の場合、これはＮ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１〜３個の複素環式環の原子を有し、そしてR1及びNH−R0基に加えて非置換又はさらにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルコキシカルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の８個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、R1と独立して、式(Ｉ)に上記定義された通りであり、好ましくは式(Ｉ)について好ましく定義された通りであり、そして特に(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニル基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されたフェニル、及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されたヘテロシクリル
からなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又は(C3−C6)シクロアルキル、フェニル又はヘテロシクリル、ここで最後の３個の基のそれぞれ場合により置換されるか、又は例えば前記の除去可能な基i)〜xiii)の１つであり、
【００６１】
R1は、R0と独立して、
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニル、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又はアリール又はヘテロシクリル、ここで最後の2個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、好ましくは、非置換又は場合により置換されたフェニル又はヘテロシクリルについて式(Ｉ)中のＲのように、特にハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル及び(C1−C4)ハロアルコキシからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ia)は、式(Ia−A)又は(Ia−B)
【化６】
［式中、一般的な基は、式(Ia)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率での式(Ia−A)及び(Ia−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６２】
また、式(Ib)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化７】
式中、
A1は、直接結合又は式(CR6R7)nの基であり、ここにおいてｎは１〜６であり、そしてR6及びR7はそれぞれ独立して、又はｎが１より大きい場合、R6及びR7基は各場合、独立して水素、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C4)アルコキシ又は(C1−C4)ハロアルコキシであり、ここで個々のCR6R7基は、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子によって置き換えられることができ、
R0は、式(Ｉ)に上記定義された通り、好ましくは式(Ｉ)について好ましく定義された通りであり、そして特に、R1と独立して(C1−C6)アルキル又は(C2−C6)アルケニル基であり、
ここで最後の２個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)−アルコキシ]−カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ−[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されたアリール、及び
非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]−アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によっ
て置換されたヘテロシクリル
からなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
【００６３】
又は(C3−C6)シクロアルキル、フェニル又はヘテロシクリルであり、ここで最後の3個の基はそれぞれ場合により置換されており、
又は例えば記載された除去可能な基i)〜xiii)の１つであり、そして
R1は、R0と独立して、
非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、場合により置換されたアリール及び場合により置換されたヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換された(C1−C6)アルキル、又は
場合により置換されたアリール、又は
場合により置換されたヘテロシクリルであり、
ここで場合により置換された基はそれぞれ独立して好ましくは非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C5)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルキルアミノ、ジ(C1−C4)アルキルアミノ、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の14個の基はそれぞれ独立して非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C5−C9)シクロアルケニル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
そして好ましくは、
R1は、R0と独立して、
非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換された(C1−C6)アルキル、又はフェニル又はヘテロシクリルであり、そして
R2は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R3は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R4は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、そして
R5は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
【００６４】
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物は式(Ib−A)又は(Ib−B)
【化８】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Ib)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ib−A)及び(Ib−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６５】
また、式(Ic)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化９】
式中、
A1は、直接結合又は式(CR6R7)nの基であり、ここにおいてｎは１〜６であり、そしてR6及びR7は、それぞれ独立して又はｎが１より大きい場合、R6及びR7基は、各場合独立して水素、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C4)アルコキシ又は(C1−C4)ハロアルコキシであり、ここで個々のCR6R7基は、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子によって置き換えることができ、
A2は、他の環との共通の２個の炭素原子と一緒になって、炭素環式非芳香族環であり、これは３〜９個の炭素原子を有し、そして非置換又は(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ、ヒドロキシ、アミノ及びCNからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、式(Ｉ)に上記定義された通りであり、好ましくは式(Ｉ)について好ましく定義された通りであり、そして特に独立して式(Ib)において定義された通りであり、そして
R1は、独立して式(Ib)において定義された通りであり、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ic)は、式(Ic−A)又は(lc−B)
【化１０】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Ic)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ic−A)及び(Ic−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６６】
また、式(Id)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化１１】
式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和非芳香族環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群から１〜３個の複素環式環原子を有し、そしてA'及びNH−R0基に加えて、非置換又はさらにハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そしてA'は、NH基及び各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって複素環式環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして場合によりＮ、Ｏ及びＳの群からの１又は２個のさらなるヘテロ原子を含み、そして非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及びフェニル(これは非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されている)からなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基A'及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Id)は式(Id−A)又は(Id−B)
【化１２】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Id)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Id−A)及び(Id−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６７】
また、式(Ie)の二環式アミノ化合物の製造方法が好ましい。
【化１３】
式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環の飽和又は不飽和非芳香族環であり、これは４〜９個の環原子、特に５〜７個の環原子を有し、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群から１〜３個の複素環式環原子を有し、そしてA''及びNH−R0基に加えて、非置換又はさらにハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、そして
A''は、Ａ及び２で表わされる(＝A''に結合したアステリスクで表わされる炭素原子)炭素原子と一緒になって、炭素環式又は複素環式環であり、これは４〜９個の環原子を有し、特に５〜７個の環原子、そして複素環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１又は２又は３個のヘテロ原子を含み、そして非置換又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及びフェニル(これは非置換又はハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C2−C4)アルキニル、(C1−C4)ハロアルキル、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルコキシ−(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルフィニル、(C1−C4)アルキルスルホニル、(C1−C4)−アルカノイル、[(C1−C4)アルコキシ]−カルボニル、(C1−C4)アルキルアミノ及びジ[(C1−C4)アルキル]アミノからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されている)からなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
ここでR0は、式(Ｉ)、(Ia)、(Ib)又は(Ic)中のようにA''と独立して定義され、そして各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基A''及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ie)は、式(Ie−A)又は(Ie−B)
【化１４】
［式中、一般的な基は、それぞれ式(Ie)において定義された通りである］の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ie−A)及び(Ie−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する。
【００６８】
化合物(II)のイミノ基の還元は、例えば、カルボニル化合物の還元について知られているような方法、又はイミン(II−A)及びイミン(II−B)との間の化学平衡が可能となる反応条件下、水素又は水素供与体及びキラル遷移金属触媒の存在下で接触不斉水素化又は接触移動水素化として特にそのために開発された方法と同様に実施することができる。
【００６９】
反応に有用なキラル触媒は、ケトンの不斉還元について同様に記載されたもの、例えば以下の引用文献又はそれらのそれぞれに引用文献に記載されたもの：
Angew. Chem. Int. Ed. 2001 (40) p. 40−73、
Tetrahedron Lett. 1999 (40) 5043−5046、
J. Org. Chem. 1996, 61, 4872−4873 Angew. Chem. Int. Ed. 2004 (116) 806−843、具体的には第829−830頁及びそこに引用された文献、
Tetrahedron Asymmetry. 2003 (14) 1407−1446、
Org. Lett 1999 (1) 1119−1121、
Tetrahedron 2003 (59) 8291−8327。
【００７０】
還元に適切な触媒は、例えば、
１．式(1)及び(2)
【化１５】
のルテニウムジホスフィン1,2−ジアミン錯体及び他のジアミンブリッジを有する式(1')又は(2')の類似の錯体
【化１６】
ここで、各場合、
Arはアリール基、好ましくはフェニル基であり、これは非置換又は置換されており、
D*は、キラル有機基であり、
Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ水素又は場合により置換された脂肪族又は芳香族基であり、それらは対で互いに結合することもでき、ここで1,2−ジアミンブリッジは、化合物(1)の場合、キラル又はアキラルであり、そして化合物(2)の場合、キラルであり、
A*は、結合部位の間で、１〜４個の炭素原子、好ましくは２個の炭素原子を有するアルキレンであり、ここでアルキレンは場合により置換されており、好ましくは非置換であるか、又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又はシクロアルキレン、これは３〜６個の炭素原子を有し、そして非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、好ましくは同様に場合により置換された1,2−シクロアルキレン、又は二価の複素環式基、これは３〜６個の環原子、及びＯ、Ｓ及びＮの群からの１、２又は３個の複素環式環原子を有し、ここで環は非置換又はハロゲン、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されている。
【００７１】
化合物(1)及び(2)又は(1')及び(2')は、ルテニウム塩及びジホスフィンブリッジ及びジアミンブリッジ化合物から水素化の前に又はその場で製造することができる。
【００７２】
触媒(1)又は(1')を製造するためのジフェニルホスフィンブリッジAr2P−D*−PAr2の例は、式(1a)、(1b)、及び(1c)の化合物：
【化１７】
特に化合物：(S)−BINAP：Ar＝フェニル [1,1'−ビナフチル−2,2'−ビス−(ジフェニルホスフィン)]
(S)−TolBINAP：Ar＝4−トリル [1,1'−ビナフチル−2,2'−ビス−(ジ−p−トリルホスフィン)]
(S)−XylBINAP：Ar＝3,5−キシリル[1,1'−ビナフチル−2,2'−ビス−(ジ−m−キシリルホスフィン)]
及び同様に(R)−BINAP、(R)−TolBINAP及び(R)−XylBINAP
【化１８】
(1b)＝(S,S)−DIOP
(1c)＝(S,S)−CHIRAPHOS
【００７３】
触媒(1)及び(2)又は(1')及び(2')キラルジアミンブリッジの例は、以下の化合物である：
(S,S)−DPEN＝(1S,2S)−1,2−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、
(S,S)−1,2−ジアミノシクロヘキサン、
(S)−DAIPEN＝(2S)−1,2−ジアミノ−1,1−ビス−(4−メトキシフェニル)−3−メチルブタン、
3,4−O−イソプロピリデン−(3S,4S)−ジヒドロキシ−(2S,5S)−ジアミノヘキサン及び対応する鏡像異性化合物(R,R)−DPEN、
(R,R)−1,2−ジアミノシクロヘキサン、(R)−DAIPEN及び
3,4−O−イソプロピリデン−(3R,4R)−ジヒドロキシ−(2R,5R)−ジアミノヘキサン。
【００７４】
化合物(1)又は(1')を製造するのに有用なアキラルジアミンの例は、1,2−ジアミノエタンである。
【００７５】
２．１の下で明記されたルテニウム錯体に対応して、同様のイリジウム錯体例えば[Ir((R)−BINAP)(cod)]BF4＋P[C6H4−2−N(CH3)2]2C6H5を使用することができ、ここで「cod」は、リガンドシクロオクタジエンを意味する。
３．１の下で明記されたルテニウム錯体に対応して、同様のイリジウム錯体、例えば
(R,S,R,S)−Me−PennPhos−Rh
oxoProNOP−Rh
を使用することもできる。
【００７６】
４．式(3)の金属錯体
【化１９】
式中、
Ｍは、Ru、Rh及びIrの群からの金属(II)イオンであり、
Ｘは、Ｏ又はNR*R**であり、
Arは、アリール基、好ましくはフェニルであり、これは非置換又は置換されており、特にアルキルフェニルであり、
Ra、Rb及びRcは、場合により置換された脂肪族又は芳香族基であり、これは対で互いに結合することもでき、ブリッジはキラルであり、そして
Ｒ、R*、R**及びR***はそれぞれ独立して非共有電子対、Ｈ、アルキル又はアシルであり、特に対応するルテニウム(II) 1,2−ジアミン錯体である。
【００７７】
５．キラル配位子を含む式(4)及び(5)のロジウム(III)及びイリジウム(III)錯体及びそれらの鏡像異性形態
【化２０】
(式中、Ｍは、Rh又はIrであり、そしてRa、Rb及びRcは、それぞれ有機基である)。また、この群からのいくつかの触媒は、商業的に入手可能であり(Aveciaからの(R)Cathy触媒)、例えばキラル二環式配位子を含む式(4a)又は(4b)
【化２１】
のロジウム(III)及びイリジウム(III)錯体及びそれらの鏡像異性形態。
【００７８】
不斉水素化は、一般に適切な溶媒中、適切な量の溶解された触媒の存在下で、場合により塩基を添加して式(II)の化合物を水素化することによって実施することができる。また、触媒は、場合により反応中に成分からその場で得ることもできる。
【００７９】
水素化は、例えば、水素供与体として水素ガスを使用して不斉水素化として又は他の水素供与体を用いて不斉移動水素化の条件下で実施することができる。
【００８０】
化合物(II)対触媒の量的比率は、広範囲に変化することができ、一般に触媒１モル当たり化合物(II)の10mol〜100 000mol、好ましくは50mol〜100 000mol、特に触媒１モル当たり化合物(II)100mol〜10 000molの範囲である。
【００８１】
本発明の反応に適切な温度は、予備実験で決定することができる。それは、一般に−80℃から混合物の沸点の温度範囲内であり、好ましくは０℃〜100℃の温度、特に15℃〜60℃、とりわけ室温である。反応は、通常１〜100bar、好ましくは１bar〜10barの水素圧力で実施される。
【００８２】
接触水素化に適切な溶媒は、反応条件下で不活性であり、水素化反応中に典型的に使用されるような溶媒、又はそれらの混合物、例えば
− アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、
− 水、
− カルボン酸エステル、例えば酢酸エチル、
− カルボン酸、例えば氷酢酸、
− 芳香族又は脂肪族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びパラフィン、好ましくはトルエン、キシレン又はメシチレン又は他に混合物、例えば(R)Solvesso (芳香族画分との鉱油混合物)、
− ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えば塩素化アルカン及びアルケン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、
− ニトリル、例えばアセトニトリル、
− エーテル、例えばジエチルエーテル又は環式エーテル、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン、
− アミド、例えばジメチルホルムアミド、スルホン、例えばスルホラン、及び記載された溶媒の混合物。
【００８３】
水素化の変法として、不斉移動水素化は、上述の触媒の存在下で水素供与体を用いて実施することができる。適切な水素供与体は、条件下でそれ自体酸化することができる化合物である。適切な水素供与体は、例えばギ酸及びその塩であり、これはLeukart−Wallach反応の実施にも使用される(例えばHouben−Weyl 11/1, 648−664 and Synthesis 1988, 92及びそこに引用された文献参照)。従って、適切な水素供与体はギ酸であり、これは場合により塩基、例えば第三級アミン塩基と組み合わせて使用することができる。塩基は、例えば、アンモニア又は第一級、第二級及び、第三級アミン、例えばアルキル、アラルキル及び／又はアリール基を有するもの、好ましくは(C1−C4)アルキル基を有する対応するアミンである。適切な塩は、対応する(置換された)ギ酸アンモニウムである。また、さらなる水素供与体は、各場合、文献中に具体的に記載された触媒と組み合わせたイソプロパノール又はシクロヘキサジエン(Adv. Synth. Catal. 2003, Vol. 345, pages 67−77, Tetrahedron: Asymmetry 10 (1999) 2045−2061, Eur. J. Inorg. Chem. 2002, 2239−2251参照)である。
【００８４】
ギ酸及び第三級アミン、例えばトリエチルアミンと組み合わせた前記の式(3)、(4)及び(5)の触媒の使用が好ましい。ギ酸：アミンの適切な混合比率は、質量に基づいて10：1〜1：10である。供与体系は、溶媒として直接使用することができ、又は補助溶媒として他の溶媒との混合物中で使用することもできる。
【００８５】
接触移動水素化に適切な溶媒は、反応条件下で不活性な溶媒又はそれらの混合物、例えば
− アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、
− 水、
− カルボン酸エステル、例えば酢酸エチル、
− カルボン酸、例えば氷酢酸、
− 芳香族又は脂肪族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びパラフィン、好ましくはトルエン、キシレン又はメシチレン又は他に混合物、例えばRSolvesso(芳香族画分との鉱油混合物)、
− ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えば塩素化アルカン及びアルケン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、
− ニトリル、例えばアセトニトリル、
− エーテル、例えばジエチルエーテル又は環式エーテル、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン、
− アミド、例えばジメチルホルムアミド、スルホン、例えばスルホラン、及び記載された溶媒の混合物。
【００８６】
接触水素化及び接触移動水素化は、ケトンから光学活性なアルコールへの還元について記載された文献に記述されたように慣用の条件と同様に実施することができる。
【００８７】
触媒の量及び反応時間に関する反応の実施は、高い転化率、化学収率及び鏡像体過剰率を達成するために予備実験で最適化すべきである。
【００８８】
驚くべきことに、水素化において、アミノ基が結合しているキラル中心に関してだけでなく、また隣接したキラル中心に関してもアミン(Ｉ)の非常に良好なエナンチオ選択性を達成することが可能である。
【００８９】
式(II)の出発物質は、知られている又は知られている方法と同様に製造することができる。単純な可能性は、対応するケトンを経た製造である。環式ケトンは、多くの場合商業的に入手可能であるか、又は当業者に知られている多数の反応によって他の化合物、例えばアルコール、ハロゲン化合物から又はエステル又はカルボン酸から閉環反応によって製造することができる。また、二環式ケトンは、例えば、WO 97/031904及びWO 2004/069814に記載されている。
【００９０】
また、光学活性なアミン(Ｉ)及びその塩の製造する特定の手段は、対応するケトンからイミンをその場で製造し、そして触媒の存在下で直接還元する二段法を実施することからなる。ケトンを適切な量の第一級アミンR0−NH2（ここで、R0は式(Ｉ)において定義された通りである）と反応させることによってイミンを形成し、そして中間体を単離することなくアミンに還元する。例えば、その場での方法は、ケトン１モル当たり第一級アミン0.1molから数倍過剰量までの量、好ましくはケトン１モル当たり第一級アミン１〜10mol、特に１〜５mol、より好ましくは１〜２molを用いて実施することができる。二段反応は、一般に光学活性な触媒を加えることによって制御することができる。温度条件は、触媒反応に適切な温度に実質的に左右される。
【００９１】
生成した式(Ｉ)の化合物は、光学活性な活性成分を製造するための光学活性なシントンとして適切である。化合物(Ｉ)及びその塩の特に頻繁な使用は、対応する遊離アミン(I')の製造であり、式(I')と式(Ｉ)との違いは、R0基を水素によって置き換えることからなる。
【００９２】
従って、式(I')遊離光学活性なシスアミン及びその塩は、同様に、本発明の主題の部分を構成する。それらは、標準反応、例えば保護基R0の脱離によって式(Ｉ)の適切な化合物から製造することができ、そのための脱離反応、好ましくは穏やかな脱離反応は知られている。このような除去可能な基の例は、上記の基i)−xv)である。これらの基の製造及びそれらの一般的な及び好ましい脱離法は、例えばハンドブック“Protective Groups in Organic Synthesis”, 3rd ed., T.W. Greene and P.G.M. Wuts; 1999, John Wiley & Sons, Inc.(特に第573〜585頁参照)及びそこに引用された文献に記載されている。
【００９３】
実験を以下の実施例によって詳細に説明するが、本発明をこれらの実施態様に限定しようとするものではない。特に明記しない限り、量は質量に基づく。
実施例中の略語：
Me＝メチル
Et＝エチル
n−又はi−Pr又はt−ブチル＝n−プロピル又はイソプロピル又はt−ブチル
Ph＝フェニル
Ts＝p−トシル＝p−トリルスルホニルアリル＝CH2−CH＝CH2
Bzl＝ベンジル＝CH2Ph
p−MeO−Bzl＝パラ−メトキシベンジル＝(p−メトキシフェニル)メチル
【００９４】
実施例A1
シス(S,S)−ベンジル−(2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ−1−イル)アミン
A1a) 触媒Ru(p−シメン)−(S,S)−TsDPENの製造
最初にビス(p−シメンルテニウムジクロリド)を有機溶媒中に入れ、そして室温で(S,S)−TsDPEN[(S,S)−N−トシル−1,2−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン]と反応させた。濃縮して高真空下で溶媒を除去して式：
【化２２】
のRu(p−シメン)(S,S)−TsDPENを得た。
同様に、化合物Ru(p−シメン)(R,R)−TsDPENは、(R,R)−TsDPENを使用して得た。
【００９５】
A1b) (1S,2S)−N−ベンジル(2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ−1−イル)アミン
実施例A1aからの触媒３mg(4.7μmol)をギ酸及びトリエチルアミン(5：2 v/v)の混合物１ml中に溶解し、20分間撹拌した。次いで、ジクロロメタン1.7ml中のジクロロメタン1.7ml中のラセミ体のN−ベンジル(2−メチル−3,4−ジヒドロ2H−ナフタ−1−イリデン)アミン350mg(1.141mmol)の溶液を加え、混合物を室温で５日撹拌した。溶媒を除去した後、メタノール５ml中に溶解し、水酸化カリウム約200mgで処理し、そして室温で水10mlと混合し、各場合、ジクロロメタン15mlで３回抽出を実施し、そして有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を除去してカラムクロマトグラフィ(20：1ヘキサン／酢酸エチル)の後、(1S,2S)−N−ベンジル(2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ−1−イル)アミン229mg(収率65％)を薄黄色の油として得た。
[a]21D＝31.1°(c 0.8，CHCl3)；1H NMR (400 MHz, C6D6) d =6.98−7.22 (m, 9H), 3.75 (d, 1H, J = 14.0 Hz), 3.71 (d, 1H, J = 14.0 Hz), 3.47 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 2.68 (dt, 1H, J = 17.2, 5.6 Hz), 2.55 (dt, 1H, J = 16.8, 8.0 Hz), 1.84 (m, 4H), 1.63 (m, 1H), 1.48 (m, 1H), 0.95 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 13C NMR (100 MHz, C6D6) d = 141.8, 140.2, 136.5, 129.5, 129.2, 128.7, 128.6, 127.2, 127.0, 125.8, 259.3, 52.6, 32.5, 28.0, 26.5, 16.5。鏡像体過剰率(ee％)はクロマトグラフィによって測定した(ee＝98％)。Chiralpak AD(Daicel)のHPLC、96：4 n−ヘキサン：イソプロパノール，30℃，流速：0.5ml／分；RT：7.07分
【００９６】
実施例A2
(1R,2S)−N−アリル(2−メチルシクロヘキシル)アミン
ギ酸及びトリエチルアミン(5：2 v/v)の混合物3.2ml中の実施例A1aからの触媒22.5mg(35μmol)の溶液を2−メチルシクロヘキサノン676mg(６mmol)、アリルアミン2.74ｇ(48mmol)及び硫酸マグネシウム100mgの混合物に滴加し、そして撹拌した。室温で７日後、反応混合物を水20mlで希釈し、ジクロロメタン15mlで３回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を除去してカラムクロマトグラフィ(シリカゲル，10：1ジクロロメタン／メタノール)後、(1R,2S)−N−アリル(2−メチルシクロヘキシル)アミン708mg(収率77％)を得た。
[a]21D＝＋8.2°(c 0.7，CHCl3)；1H NMR (300 MHz, CDCl3) d =5.88 (m, 1H), 5.14 (dd, 1H, J = 1.6, 16.2 Hz), 5.03 (m, 1H), 3.19 (m, 1H), 2.58 (m, 1H), 1.90 (m, 1H),
1.7−1.2 (m, 9H), 0.86 (d, 1H, J = 7.0 Hz), 13C NMR (75 MHz) d = 137.8, 115.8, 58.8, 49.9, 31.4, 28.4, 24.1, 22.2, 19.6, 13.8。鏡像体過剰率(ee％)はクロマトグラフィによって測定した(ee＝95.9％)。Chiralpak OJ(Daicel)のHPLC，99.5：0.5 n−ヘキサン：イソプロパノール，30℃，流速：0.5ml／分；RT：17.16分
【００９７】
実施例A3
(1R,2R)−N−ベンジル(2−フェニルシクロヘキシル)アミン
IrCl[(S,S)−TsDPEN]Cp*16.6mg及び乾燥ジクロロメタン10ml中のラセミ体の1−ベンジル−N−[2−フェニルシクロヘキシリデン]アミンの溶液をギ酸及びトリエチルアミン(5：2 v/v)の混合物3.2mlに加えた。室温で24時間撹拌した後、pH10になるまで混合物を0.5M aq.Na2CO3で希釈し、次いでジクロロメタン(２×30ml)で抽出した。続いて、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、そして残留物をカラムクロマトグラフィ(シリカゲル，1：12酢酸エチル／ヘキサン)によって精製した。(1R,2R)−N−ベンジル(2−フェニルシクロヘキシル)アミンを収率60％で得た。[α]22D＝＋33.4°(c 0.7，CHCl3)；1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ＝6.9−7.4 (m, 10H), 3.68 (d, J = 13.8 Hz, 1H), 3.0 (m, 1H), 2.85 (dt, J = 13.3, 3.2 Hz), 1H), 1.1−2.2 (m, 8H)；13C NMR (75 MHz) ｄ = 143.9, 140.3, 127.7, 127.5, 127.1, 125.9, 125.5, 56.1, 50.7, 46.5, 29.2, 25.9, 24.1, 19.1。ジアステレオマー過剰率(de)は、1H−NMRによって測定した(de＞98％)。鏡像体過剰率は、脱ベンジル化して解放されたアミノ官能基を続いてアセチル化した後、測定した(ee＝50％)。
【００９８】
また、実施例A1、A2及びA3及び説明に記載した変法に従って、以下の表１及び２に記載した実施例の化合物を得た。
【００９９】
表１及び２の説明：
キラル相上のHPLCによる保持時間の測定方法。全ての測定で30℃の溶離剤としてn−ヘキサン／イソプロパノールを用いた。
報告された関連事項は以下の通り：RT(分)、
溶離剤及び流速(vnHex／viPrOH−ml／min)
(1) Chiralpak AD(Daicel)
(2) Chiralpak OJ(Daicel)
(3) Chiralpak OB(Daicel)
(4) N−ベンゾイル誘導体として特徴づけた。
化合物に関するいくつかのデータは、各表の最後に報告した。
【０１００】
【表１】
【０１０１】
【表２】
【０１０２】
【表３】
【０１０３】
【表４】
【０１０４】
表１の化合物に関する物理的データ：
化合物番号：aB46：Ref(2, 4)，Rt＝17.2，n−ヘキサン／イソプロパノール＝99.5：0.5(v/v)，流速＝0.5ml／分
【０１０５】
【表５】
【０１０６】
【表６】
【０１０７】
【表７】
【０１０８】
【表８】
【０１０９】
【表９】
【０１１０】
【表１０】
【０１１１】
【表１１】
【０１１２】
【表１２】
【０１１３】
【表１３】
【０１１４】
【表１４】
【０１１５】
【表１５】
【０１１６】
【表１６】
【０１１７】
【表１７】
【０１１８】
【表１８】
【０１１９】
【表１９】
【０１２０】
【表２０】
【０１２１】
【表２１】
【０１２２】
【表２２】
【０１２３】
【表２３】
【０１２４】
【表２４】
【０１２５】
【表２５】
【０１２６】
表２の化合物に関する物理的データ：
化合物番号：bA214：Ref(1)，Rt＝6.7
n−ヘキサン／イソプロパノール＝92：8(v/v)、
流速＝0.5ml／分、
化合物番号：bA218：Ref(1, 4)，Rt＝13.9
n−ヘキサン／イソプロパノール＝90：10(v/v)、
流速＝1.0ml／分，
化合物番号：bA237：Ref (3)，Rt＝17.4，
n−ヘキサン／イソプロパノール＝99：1(v/v)、
流速＝0.3ml／分、
化合物番号：bB237：Ref (3)，Rt＝19.9，
n−ヘキサン／イソプロパノール＝99：1(v/v)、
流速＝0.3ml／分、
化合物番号：bA239：Ref (3, 4)，Rt＝12.3，
n−ヘキサン／イソプロパノール＝90：10(v/v)，
流速＝1.0ml／分、
化合物番号：bA406：Ref(1)，Rt＝7.1
n−ヘキサン／イソプロパノール＝96：4(v/v)、
流速＝0.5ml／分
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(Ｉ)
【化１】
［式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和の非芳香族環であり、これは３〜30個の環原子を有し、そしてR1及びNH−R0基に加えてさらに置換されていてもよく、
R0は、Ｒと独立して(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニル基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されていてもよく、ここで最後の５個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、又は
(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
Ｒは、R0と独立して
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニルであり、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C6)アルコキシ、(C1−C6)ハロアルコキシ、(C1−C6)アルキルチオ、非置換又は置換されたアリール、及び非置換又は置換されたヘテロアリールからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又は
非置換又は置換されたアリール、又は
非置換又は置換されたヘテロアリールであり、
又は
R0及びＡは環B1を形成し、そしてNH基及びアステリスク(*)で表わされた、NH基に結合している炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
Ｒ及びＡは環B2を形成し、そしてアステリスク(*)で表わされた、Ｒに結合している炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群からの１、２又は３個のヘテロ原子を含む、炭素環式又は複素環式環であるか、
又は
R0及びＲは環B3を形成し、そしてNH基及び各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
R0及びＲ及び必要に応じてＡは、記載された環B1、B2及びB3のうちの２つ又はそれ以上を同時に形成してよく、ここで各場合においてアステリスク(*)の印のある２個の環炭素原子上のＲ及びNH−R0基は、互いにシス配列に配置されており、そしてこれらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置とは異なる］の光学活性な環式アミン又はその塩の製造方法であって、
式(II)
【化２】
［ここで、Ａ、R0及びRは、それぞれ式(Ｉ)に定義された通りであり、そして式(II)の化合物は、アステリスク(*)で示された環炭素原子に関して、ラセミ混合物の形態又は当該立体異性体の他のいずれかの異性体の比率で混合物の形態で存在する］のイミン又はその塩を、水素又は水素供与体及びルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウム、白金、鉄、ニッケル及びサマリウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属と有機配位子との触媒活性で光学活性な錯体からなる非酵素的な触媒の存在下で式(Ｉ)又はその塩の化合物に転化することからなる上記製造方法。
【請求項２】
各場合においてアステリスク(*)で表わされる２個のキラル中心においてシス配置を有する化合物(Ｉ)又はその塩が、トランス配置と比較して60から100％までの選択性で得られ、シス化合物の１つの鏡像異性体がシス化合物の鏡像異性体の総含量に基づいて各場合において20％eeを超えるエナンチオ選択性で得られる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
式(Ia)
【化３】
［式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子を有する炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和非芳香族環であり、そして複素環式環の場合、これはＮ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１〜３個の複素環式環の原子を有し、そしてR1及びNH−R0基に加えて非置換又はさらにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルコキシカルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の８個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、R1と独立して、(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニル基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の５個の基は非置換又は置換されており、
又は(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基は非置換又は置換されており、
R1は、R0と独立して、
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニル、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又はアリール又はヘテロシクリル、ここで最後の２個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ia)は、式(Ia−A)又は(Ia−B)
【化４】
（式中、一般的な基は、式(Ia)において定義された通りである）の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率での式(Ia−A)及び(Ia−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する］
の化合物を製造する、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
式(Ib)
【化５】
［式中、
A1は、直接結合又は式(CR6R7)nの基であり、ここにおいてｎは１〜６であり、そしてR6及びR7はそれぞれ独立して、又はｎが１より大きい場合、R6及びR7基は各場合、独立して水素、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C4)アルコキシ又は(C1−C4)ハロアルコキシであり、ここで個々のCR6R7基は、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子
によって置き換えられてよく、
R0は、R1と独立して(C1−C6)アルキル又は(C2−C6)アルケニル基であり、
ここで最後の２個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基で置換されており、ここで最後の５個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
又は(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基は非置換又は置換されており、
R1は、R0と独立して、
非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、場合により置換されたアリール及び場合により置換されたヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換された(C1−C6)アルキル、又は
場合により置換されたアリール、又は
場合により置換されたヘテロシクリルであり、そして
R2は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R3は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R4は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、そして
R5は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物は式(Ib−A)又は(Ib−B)
【化６】
（式中、一般的な基は、それぞれ式(Ib)において定義された通りである）の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ib−A)及び(Ib−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する］
の化合物又はその塩を製造する、請求項１又は２記載の方法。
【請求項５】
反応を不活性有機溶媒の存在下で、又は実質上実施する請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
反応を接触水素化として実施する請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
反応を接触移動水素化として実施する請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
第三級アミンの存在下で水素供与体としてギ酸を用いて反応を実施する請求項７記載の方法。
【請求項９】
式(II)のイミンを対応するケトン及び式R0−NH2のアミンからその場で製造して還元する請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
式(I')
【化７】
［式中、Ａ及びＲは、それぞれ請求項１の式(Ｉ)に定義された通りであり、そしてここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上のＲ及びNH2基は、互いにシス配列で配置され、これらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置と異なる］のアミン又はその塩。
【請求項１１】
式(Ｉ)
【化８】
［式中、Ａ及びＲは、それぞれ式(I')に定義された通りであり、そしてR0は除去可能な基である］の化合物又はその塩から、慣用の方法によってR0基を除去することからなる、請求項１０記載の式(I')の化合物又はその塩の製造方法。
【請求項１】
式(Ｉ)
【化１】
［式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和の非芳香族環であり、これは３〜30個の環原子を有し、そしてR1及びNH−R0基に加えてさらに置換されていてもよく、
R0は、Ｒと独立して(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニル基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されていてもよく、ここで最後の５個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、又は
(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
Ｒは、R0と独立して
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニルであり、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C6)アルコキシ、(C1−C6)ハロアルコキシ、(C1−C6)アルキルチオ、非置換又は置換されたアリール、及び非置換又は置換されたヘテロアリールからなる群から選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、又は
非置換又は置換されたアリール、又は
非置換又は置換されたヘテロアリールであり、
又は
R0及びＡは環B1を形成し、そしてNH基及びアステリスク(*)で表わされた、NH基に結合している炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
Ｒ及びＡは環B2を形成し、そしてアステリスク(*)で表わされた、Ｒに結合している炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そして複素環式環の場合、Ｎ、Ｏ及びＳの群からの１、２又は３個のヘテロ原子を含む、炭素環式又は複素環式環であるか、
又は
R0及びＲは環B3を形成し、そしてNH基及び各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって４〜30個の環原子を有し、そして場合により追加的にさらに置換されており、そしてＮ、Ｏ及びＳの群から場合により１又は２個のさらなるヘテロ原子を含む複素環式環であるか、
又は
R0及びＲ及び必要に応じてＡは、記載された環B1、B2及びB3のうちの２つ又はそれ以上を同時に形成してよく、ここで各場合においてアステリスク(*)の印のある２個の環炭素原子上のＲ及びNH−R0基は、互いにシス配列に配置されており、そしてこれらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置とは異なる］の光学活性な環式アミン又はその塩の製造方法であって、
式(II)
【化２】
［ここで、Ａ、R0及びRは、それぞれ式(Ｉ)に定義された通りであり、そして式(II)の化合物は、アステリスク(*)で示された環炭素原子に関して、ラセミ混合物の形態又は当該立体異性体の他のいずれかの異性体の比率で混合物の形態で存在する］のイミン又はその塩を、水素又は水素供与体及びルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウム、白金、鉄、ニッケル及びサマリウムの群からの１つ又はそれ以上の遷移金属と有機配位子との触媒活性で光学活性な錯体からなる非酵素的な触媒の存在下で式(Ｉ)又はその塩の化合物に転化することからなる上記製造方法。
【請求項２】
各場合においてアステリスク(*)で表わされる２個のキラル中心においてシス配置を有する化合物(Ｉ)又はその塩が、トランス配置と比較して60から100％までの選択性で得られ、シス化合物の１つの鏡像異性体がシス化合物の鏡像異性体の総含量に基づいて各場合において20％eeを超えるエナンチオ選択性で得られる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
式(Ia)
【化３】
［式中、
Ａは、各場合においてアステリスク(*)で表わされる炭素原子と一緒になって、３〜30個の環原子を有する炭素環式又は複素環式の飽和又は不飽和非芳香族環であり、そして複素環式環の場合、これはＮ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる１〜３個の複素環式環の原子を有し、そしてR1及びNH−R0基に加えて非置換又はさらにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、(C1−C4)アルキル、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルコキシカルボニル、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルキルスルホニル、アリール及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の８個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C3−C9)シクロアルキル、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、そして環式基の場合、また(C1−C4)アルキル及び(C1−C4)ハロアルキルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
R0は、R1と独立して、(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C3−C6)アルキニル基であり、
ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、ここで最後の５個の基は非置換又は置換されており、
又は(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基は非置換又は置換されており、
R1は、R0と独立して、
(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル又は(C2−C6)アルキニル、ここで最後の３個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ及び(C1−C4)アルキルチオからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換されており、
又はアリール又はヘテロシクリル、ここで最後の２個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物(Ia)は、式(Ia−A)又は(Ia−B)
【化４】
（式中、一般的な基は、式(Ia)において定義された通りである）の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率での式(Ia−A)及び(Ia−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する］
の化合物を製造する、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
式(Ib)
【化５】
［式中、
A1は、直接結合又は式(CR6R7)nの基であり、ここにおいてｎは１〜６であり、そしてR6及びR7はそれぞれ独立して、又はｎが１より大きい場合、R6及びR7基は各場合、独立して水素、(C1−C4)アルキル、(C1−C4)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C4)アルコキシ又は(C1−C4)ハロアルコキシであり、ここで個々のCR6R7基は、Ｏ及びＳの群からのヘテロ原子
によって置き換えられてよく、
R0は、R1と独立して(C1−C6)アルキル又は(C2−C6)アルケニル基であり、
ここで最後の２個の基はそれぞれ非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、(C1−C4)アルカノイルオキシ、(C1−C4)ハロアルカノイルオキシ、アリール、アリールオキシ、アロイル、アロイルオキシ及びヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基で置換されており、ここで最後の５個の基はそれぞれ非置換又は置換されており、
又は(C3−C9)シクロアルキル、(C4−C9)シクロアルケニル、アリール又はヘテロシクリルであり、ここで最後の４個の基は非置換又は置換されており、
R1は、R0と独立して、
非置換又はハロゲン、シアノ、(C1−C4)アルコキシ、(C1−C4)ハロアルコキシ、(C1−C4)アルキルチオ、場合により置換されたアリール及び場合により置換されたヘテロシクリルからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基によって置換された(C1−C6)アルキル、又は
場合により置換されたアリール、又は
場合により置換されたヘテロシクリルであり、そして
R2は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R3は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
R4は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、そして
R5は、Ｈ、(C1−C4)アルキル、(C1−C3)ハロアルキル、ハロゲン、(C1−C3)アルコキシ、(C1−C3)ハロアルコキシ又はCNであり、
ここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上の置換基R1及びアミノ基は、互いにシス配列で配置され、そして化合物は式(Ib−A)又は(Ib−B)
【化６】
（式中、一般的な基は、それぞれ式(Ib)において定義された通りである）の立体化学的に純粋な化合物の形態で、又は1：1の比率以外の異性体比率における式(Ib−A)及び(Ib−B)の化合物の異性体混合物の形態で存在する］
の化合物又はその塩を製造する、請求項１又は２記載の方法。
【請求項５】
反応を不活性有機溶媒の存在下で、又は実質上実施する請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
反応を接触水素化として実施する請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
反応を接触移動水素化として実施する請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
第三級アミンの存在下で水素供与体としてギ酸を用いて反応を実施する請求項７記載の方法。
【請求項９】
式(II)のイミンを対応するケトン及び式R0−NH2のアミンからその場で製造して還元する請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
式(I')
【化７】
［式中、Ａ及びＲは、それぞれ請求項１の式(Ｉ)に定義された通りであり、そしてここで各場合においてアステリスク(*)で示される２個の環炭素原子上のＲ及びNH2基は、互いにシス配列で配置され、これらの炭素原子の立体化学的な配置は、ラセミ体の配置と異なる］のアミン又はその塩。
【請求項１１】
式(Ｉ)
【化８】
［式中、Ａ及びＲは、それぞれ式(I')に定義された通りであり、そしてR0は除去可能な基である］の化合物又はその塩から、慣用の方法によってR0基を除去することからなる、請求項１０記載の式(I')の化合物又はその塩の製造方法。
【公表番号】特表２００８−５２６６９４（Ｐ２００８−５２６６９４Ａ）
【公表日】平成２０年７月２４日（２００８．７．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５４８７１７（Ｐ２００７−５４８７１７）
【出願日】平成１７年１２月１３日（２００５．１２．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／０１３３７１
【国際公開番号】ＷＯ２００６／０７２３７４
【国際公開日】平成１８年７月１３日（２００６．７．１３）
【出願人】（３０２０６３９６１）バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト (524)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２０年７月２４日（２００８．７．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１２月１３日（２００５．１２．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／０１３３７１
【国際公開番号】ＷＯ２００６／０７２３７４
【国際公開日】平成１８年７月１３日（２００６．７．１３）
【出願人】（３０２０６３９６１）バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト (524)
【Ｆターム（参考）】
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