光学装置の製造方法
【課題】汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る製造方法によれば、格子状の隔壁７を形成して略同じサイズの複数の区画領域Ｐを形成した後、当該複数の区画領域のうち、区画領域Ｐ２，Ｐ３における開口部５ｅを除いた部分に、液滴吐出法によって、面積を調整するための補填部材１０を形成する。つまり、補填部材１０により、表示領域Ｖにおける所定の区画領域の面積を他の区画領域の面積と異ならせることができる。よって、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などを考慮した上で、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の区画領域Ｐが広くなるように、隔壁設定を最適化することができる。従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
【解決手段】本発明に係る製造方法によれば、格子状の隔壁７を形成して略同じサイズの複数の区画領域Ｐを形成した後、当該複数の区画領域のうち、区画領域Ｐ２，Ｐ３における開口部５ｅを除いた部分に、液滴吐出法によって、面積を調整するための補填部材１０を形成する。つまり、補填部材１０により、表示領域Ｖにおける所定の区画領域の面積を他の区画領域の面積と異ならせることができる。よって、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などを考慮した上で、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の区画領域Ｐが広くなるように、隔壁設定を最適化することができる。従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料が分散または溶解した溶液をインクジェット法により隔壁（バンク）に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させる、いわゆる液滴吐出法を用いて発光画素を形成する技術が知られている。
このような液滴吐出法によって、複数の画素をマトリックス状に形成した場合、塗布された溶液の乾燥速度の差によって、発光層の膜厚に差が生じてしまい、発光画素間での輝度ムラや、発光色ムラが生じてしまうという問題があった。これは、複数の画素がマトリックス状に形成された表示領域において、その周縁部における溶液の乾燥速度が、中央部に比べて速くなることに起因していた。
【０００３】
発明者等は、上記問題を解決するために、特許文献１の表示装置（光学装置）を提案している。当該表示装置では、隔壁で囲まれた１つの発光画素の領域を区画領域としたときに、区画領域の体積が表示領域の中央部よりも周縁部側で大きくなるように隔壁を設定している。換言すれば、表示領域の中央部よりも周縁部における区画領域の方が広く（大きく）なるように隔壁設定をしていた。また、溶液の吐出量も区画領域の体積比に合わせて変化させていた。
これにより、表示領域の中央部と周縁部とにおける乾燥速度が略等しくなり、形成される発光層の膜厚の均一化を実現していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１６２０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の方法では、汎用性に乏しいという課題があった。詳しくは、区画領域の大きさや、中央部から周縁部に至る間でのサイズ変化の割合などの隔壁設定は、表示領域のサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などによって異なるが、従来の方法では、一品一様で専用の隔壁設定となってしまうため汎用性に乏しかった。
また、乾燥速度の均一化ばかりでなく、例えば、各画素が放つ色光を増強する共振構造を適用することも想定されるが、やはり、専用の隔壁設定では融通が利かなかった。
さらに、有機ＥＬ材料は、開発ステージにある材料であり、日々改良された新材料が提案されているが、新材料の特性に応じて、隔壁設定を変更して最適化を図りたいというニーズに応じることは難しかった。つまり、細部の設計変更が困難であり、設計融通性に欠けるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。
【０００７】
（適用例）
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、複数の開口部を区画する隔壁を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、所定の区画領域における開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、複数の区画領域ごとに、有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【０００８】
この製造方法によれば、隔壁を形成して複数の区画領域を形成した後、当該複数の区画領域のうち、所定の区画領域における開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材が形成される。つまり、補填部材により、表示領域における所定の区画領域の面積を他の区画領域の面積と異ならせることができる。
よって、専用の隔壁設定であったため汎用性に乏しかった従来の方法と異なり、本適用例に係る製造方法によれば、補填部材により、表示領域における区画領域の面積を個別に調整することができる。例えば、所定の区画領域を表示領域の中央部近傍に設定することにより、中央部よりも周縁部における区画領域の面積を広くして、乾燥速度を均一化し、有機層の膜厚の均一化を図ることができる。
従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
【０００９】
また、例えば、各画素が放つ色光を増強する共振構造を適用する場合、各色の有機層の厚さを含む共振器長を変える必要があるが、この製造方法によれば、色ごとの区画領域の面積を調整可能であるため、形成される有機層の厚さを色ごとに変えることができる。
また、有機ＥＬ材料の新材料を用いる場合においても、新材料の特性に応じて、補填部材により隔壁設定を変更して最適化を図ることができる。
従って、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。
【００１０】
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、複数の開口部を区画する隔壁を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の区画領域ごとに、発光画素に含まれる複数の有機層のうちの少なくとも一層を形成する工程と、所定の区画領域における開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、複数の区画領域ごとに、有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【００１１】
また、所定の区画領域には、表示領域における中央部の区画領域が含まれており、複数の区画領域の面積が、表示領域の中央部よりも周縁部で大きくなるように補填部材が形成されていることが好ましい。
また、溶液には、溶媒の種類が異なる複数種の溶液が含まれており、所定の区画領域には、複数種の溶液のうち、最も乾燥速度が遅い溶媒を用いた溶液が塗布される区画領域が少なくとも含まれることが好ましい。
また、発光画素には、赤色画素、緑色画素、青色画素が含まれ、所定の区画領域には、少なくとも赤色画素に対応する区画領域が含まれており、それぞれの区画領域の面積が、赤色画素に対応する区画領域、緑色画素に対応する区画領域、青色画素に対応する区画領域の順に、大きくなるように補填部材が形成されていることが好ましい。
【００１２】
また、隔壁は、フォトリソ法を用いて、複数の開口部を１つずつに区画する格子状に形成され、補填部材は、光硬化性樹脂を含有した溶液を液滴吐出法により塗布した後に、光を照射することにより形成されることが好ましい。
また、所定の区画領域を除いた区画領域における周縁部の一部に、撥液剤が添加されていない溶液を塗布して補填部材を形成することが好ましい。
また、区画領域には、開口部よりも深い掘り込み部が形成されており、掘り込み部にも、補填部材を形成可能であることが好ましい。
【００１３】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成されたフィルター領域を有する光学装置の製造方法であって、複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、少なくともフィルター領域の中央部の区画領域を含む区画領域に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、複数の区画領域ごとに、色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
また、フィルター領域の周縁部における区画領域の面積が、中央部における面積よりも大きくなるように、補填部材が形成されていることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態１に係る光学装置の一態様を示す斜視図。
【図２】素子基板の平面図。
【図３】図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図。
【図４】表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。
【図５】（ａ）、（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図６】（ａ）、（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図７】実施形態２に係る素子基板の拡大平面図。
【図８】実施形態３に係る素子基板の拡大平面図。
【図９】表示パネルの側断面図。
【図１０】電子機器としての携帯電話を示す斜視図。
【図１１】変形例４に係る素子基板の拡大平面図。
【図１２】素子基板の拡大断面図。
【図１３】変形例５に係る素子基板の拡大断面図。
【図１４】光学装置としてのＣＦ基板の平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１６】
（実施形態１）
「表示装置の概要」
図１は、本実施形態に係る表示装置の一態様を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る光学装置としての表示装置１００の概要について説明する。
【００１７】
表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置であり、表示パネル１８、フレキシブル基板２０などから構成されている。表示パネル１８は、素子基板１と対向基板１６との間に、発光層を含む機能層を挟持したボトムエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであり、素子基板１側から表示光を出射する。
表示パネル１８は、マトリックス状に配置された複数の画素からなる表示領域Ｖを備えている。図１の右上に拡大して示すように、表示領域Ｖには、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）の各色画素が周期的に配置されており、各画素が出射する表示光によりフルカラーの画像が表示される。なお、各画素は発光画素であるが、画素と称する。また、カラー表示を行う表示パネルに限定するものではなく、モノクロ表示を行う表示パネルであっても良い。表示領域Ｖは、縦長の長方形をなしており、図１を含む各図においては、当該縦方向をＹ軸方向とし、縦方向よりも短い横方向をＸ軸方向と定義している。また、表示パネル１８の厚さ方向をＺ軸方向としている。また、Ｙ軸（＋）、（−）方向を上下方向とし、Ｘ軸（−）、（＋）方向を左右方向としている。
【００１８】
詳しくは後述するが、表示領域Ｖの各画素における発光層を含む複数の有機層は、液滴吐出法によって形成されている。ここで、表示装置１００によれば、本実施形態に係る特徴ある製造方法によって、各画素間における発光層を含む複数の有機層の厚さが均一化されているため、輝度ムラや、発光色ムラが低減されている。
また、当該製造方法は、特に、汎用性および設計融通性に富んでいるため、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などが変化した場合であっても、常に、最適な製造条件とすることができる。
【００１９】
また、表示パネル１８において、素子基板１が対向基板１６から張出した張出し領域には、フレキシブル基板２０が接続されている。なお、フレキシブル基板とは、例えば、ポリイミドフィルムの基材に鉄箔の配線などが形成された柔軟性を有するフレキシブルプリント回路基板の略称である。また、フレキシブル基板２０には、駆動用ＩＣ（Integrated Circuit）２１が実装され、その端部には、専用のコントローラーや、外部機器（いずれも図示せず）と接続するための複数の端子が形成されている。
表示パネル１８は、フレキシブル基板２０を介して、外部機器から電力や画像信号を含む制御信号の供給を受けることにより、表示領域Ｖに画像や文字などを表示する。
【００２０】
「表示パネルの詳細な構成」
図２は、素子基板の平面図である。図３は、図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図である。
続いて、表示パネルの詳細な構成について、図２および図３を用いて説明する。
図２は、図１において素子基板１をＺ軸（＋）方向から見たときの平面図である。このため、図１と比べてＸ軸方向が反転している。また、完成状態の素子基板１をこの方向から観察した場合、一様な共通電極（陰極）が観察されることになるが、ここでは、説明の都合上、有機層を形成する前段階における平面態様を示している。
素子基板１の表示領域Ｖには、格子状の隔壁７が形成されている。詳しくは、隔壁７は、行列をなして配置された画素電極（陽極）の開口部５ｅを１つずつ区画するように形成されている。
また、隔壁７によって区画された複数の領域のことを区画領域Ｐという。複数の区画領域Ｐは、全てが略同じ大きさに形成されており、その中央部に１つの開口部５ｅが配置されている。また、図２では、好適例として、区画領域Ｐを長方形としているが、これに限定するものではなく、トラック形状や、楕円などであっても良い。また、開口部５ｅについても円形状としているが、トラック形状や、楕円、長方形などであっても良い。
【００２１】
また、表示領域Ｖの左端（Ｘ軸（−）側）における区画領域Ｐの列には赤色の有機ＥＬ層が形成され、その右隣（Ｘ軸（＋）側）の区画領域Ｐの列には緑色の有機ＥＬ層が形成され、その右隣の区画領域Ｐの列には青色の有機ＥＬ層が形成されている。以降、区画領域Ｐ列ごとに、この順番で、周期的に各色の有機ＥＬ層が形成されている。
表示領域Ｖには、面積の異なる３つの区画領域Ｐ１〜Ｐ３が形成されている。まず、区画領域Ｐ１は、表示領域Ｖの周縁部に形成されており、隔壁７によって区画された基準となる区画領域である。区画領域Ｐ１は、縦（Ｙ軸方向）が長さｇ１で、横幅（Ｘ軸方向）が長さｗの縦長の長方形をなしている。
ここで、区画領域Ｐ２，Ｐ３は、基準となる区画領域Ｐ１における開口部５ｅを除いた部分に、補填部材１０を形成して面積調整した区画領域である。詳しくは、区画領域Ｐ２，Ｐ３は、区画領域Ｐ１における縦方向の両端に補填部材１０を形成することにより、面積を段階的に小さくしている。
【００２２】
表示領域Ｖの周縁部に配置された区画領域Ｐ１の内側に、一回り小さな環状に配置されている区画領域Ｐ２の面積は、区画領域Ｐ１の面積よりも小さくなっている。そして、区画領域Ｐ２に囲まれて表示領域Ｖの中央部に配置された区画領域Ｐ３の面積は、区画領域Ｐ２の面積よりも小さくなっている。
詳しくは、表示領域Ｖの外形（点線Ｌ１）から、一回り小さな点線Ｌ２までの範囲内では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ１となっている。また、点線Ｌ２から、一回り小さな点線Ｌ３までの範囲内では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ２となっている。そして、表示領域Ｖの中央の点線Ｌ３内では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ３となっている。これらのサイズ関係を整理すると、区画領域Ｐ１、区画領域Ｐ２、区画領域Ｐ３の順に、面積が小さくなるように設定されている。
つまり、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように、区画領域Ｐのサイズが区画されている。換言すれば、表示領域Ｖの周縁部から中央部に近づくに従って、区画領域Ｐの面積が小さくなるように調整されている。
これは、表示領域Ｖにおける溶液の乾燥速度は、中央部よりも周縁部で速くなるため、この乾燥速度の均一化を図っているからである。換言すれば、表示領域Ｖにおける溶液の乾燥速度を均一化するために、周縁部から中央部に近づくに連れて、区画領域Ｐの面積が小さくなる分割構成としている。
【００２３】
具体的な区画領域Ｐ１〜Ｐ３の面積比率としては、区画領域Ｐ１の面積を１．０としたときに、例えば、「１．０：０．８５：０．７７」に設定する。換言すれば、好適例における区画領域Ｐ３，Ｐ２，Ｐ１の面積比率を、区画領域Ｐ３の面積を１．０としたときに、「１．０：１．１：１．３」に設定する。
また、これらの面積調整は、区画領域Ｐにおける縦方向の両端に形成する補填部材１０の長さ（量）を異ならせることにより行っている。
詳しくは、区画領域Ｐ１では隔壁７により区画された基準区画領域Ｐ１の長さｇ１をそのまま活かし、区画領域Ｐ２では縦方向の両端に補填部材１０ａを形成して長さｇ２とし、区画領域Ｐ３では縦方向の両端に補填部材１０ｂを形成して長さｇ３としている。
例えば、前述の好適例の場合では、長さｇ１〜ｇ３の比率を、長さｇ１を１．０としたときに、「１．０：０．８５：０．７７」に設定する。これは、区画領域Ｐ１〜Ｐ３の横幅が長さｗで一定となっているため、縦の長さｇを所望の面積比率と同率で調整することにより、所期の面積比率とすることができる。
なお、面積比率や、区画数などは上記数値に限定するものではなく、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などに応じて、適宜変更することが好ましい。
【００２４】
続いて、図３を用いて、表示パネル１８の断面構成について説明する。図３は、図２の区画領域が形成された素子基板１に、有機層、共通電極（陰極）、および対向基板を取り付けた完成状態における側断面図である。
表示パネル１８は、素子基板１、素子層２、平坦化層４、画素電極５、隔壁７、有機ＥＬ層８、共通電極９、接着層１１、対向基板１６などから構成されている。また、素子基板１と対向基板１６とに挟持された部位のことを電気光学層としての機能層１５という。換言すれば、素子層２から接着層１１までの積層構造を機能層１５という。
素子基板１は、透明な無機ガラスから構成されている。本実施形態では、好適例として、無アルカリガラスを用いている。なお、ガラスに限定するものではなく、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）などの透明基板を用いても良い。
素子層２には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）からなる画素を選択するための選択トランジスターや、有機ＥＬ層８に電流を流すための駆動トランジスター３などが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。なお、画素回路は、好適例として、活性層に低温ポリシリコンを用いているが、アモルファスシリコンを活性層として用いた構成であっても良い。
【００２５】
素子層２の上層（Ｚ軸（＋）方向）には、例えば、アクリル樹脂などからなる絶縁層である平坦化層４が形成されている。
平坦化層４の上層には、画素ごとに区画されて、第１電極としての画素電極５が形成されている。画素電極５は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層２の駆動トランジスター３のドレイン端子と平坦化層４を貫通するコンタクトホールにより接続されている。
また、画素電極５の上層には、例えば、ＳｉＯ2からなる絶縁層６が形成されており、画素電極５と有機ＥＬ層８とが接触する開口部５ｅを区画している。つまり、画素電極５が絶縁層６から露出した部分を開口部５ｅとしている。
隔壁７は、前述した格子状の隔壁であり、断面形状は、画素電極５側が広い台形状になっている。また、隔壁７の表面には、撥液化処理が施されている。なお、断面形状は、矩形や、半円状であっても良い。好適例における材料としては、光硬化性のアクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などを用いる。
【００２６】
有機層としての有機ＥＬ層８は、正孔注入層や、発光層などを含む複数の有機（薄膜）層から形成された有機ＥＬ発光層である。
好適例における有機ＥＬ層８は、正孔注入層と、中間層と、各色発光層とを、この順番に積層した構成となっている。
好適例における正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いる。また、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
好適例における中間層の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、トリフェニルアミン系ポリマーを用いても良い。
【００２７】
発光層の材料としては、有機ＥＬ層８Ｒ，８Ｇ，８Ｂごとに、赤色、緑色、青色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。
好適例としては、赤色、緑色、青色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）などを用いても良い。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
【００２８】
第２電極としての共通電極９は、全ての有機ＥＬ層８、および隔壁７を覆って共通に形成された陰極であり、単層構成であっても複数層構成であっても良い。
好適例としては、複数層構成とし、発光層側の薄い下層（電子注入層）を仕事関数が小さい材料（例えば、カルシウム）から形成し、厚い上層を仕事関数が大きい材料（例えば、アルミニウム）から形成する。
接着層１１は、好適例では、熱硬化型のエポキシ系接着剤を用いている。なお、これに限定するものではなく、特に、水分の浸入を防ぐバリア性、および対向基板の接着性を備えた接着剤であれば良く、シリコン系や、アクリル系の接着剤を用いても良い。または、共通電極９の上層に、シリコン窒化膜や、シリコン酸化膜などの無機バリア層をさらに形成した後に、接着層１１を充填する構成であっても良い。
対向基板１６は、機能層１５を封止するためのガラス基板である。または、金属基板を用いても良い。なお、対向基板１６は必須の構成ではなく、当該基板を省略しても良い。この場合、共通電極９の上層に、前述の無機バリア層を厚く形成することが好ましい。
【００２９】
「表示パネルの製造方法」
図４は、表示パネルの製造工程を示すフローチャート図である。図５（ａ）、（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。図６（ａ）、（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。
ここでは、表示パネル１８の製造方法について、隔壁７から有機ＥＬ層８の形成を中心に説明する。
【００３０】
まず、ステップＳ１では、フォトリソ法、蒸着法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などの周知の製造方法を用いて、絶縁層６までが作り込まれた素子基板１を形成する。換言すれば、画素電極５、および絶縁層６までが作り込まれて、開口部５ｅが形成された素子基板１を準備する。
ステップＳ２では、フォトリソ法を用いて、格子状の隔壁７を形成する。詳しくは、前述した光硬化性の樹脂を素子基板１の全面にスピンコート法などにより塗布した後、格子状のマスクを用いて露光し、現像することによって格子状の隔壁７を形成する。なお、好適例では、黒色の光硬化性樹脂を用いている。
これにより、図５（ａ）に示すように、複数の開口部５ｅを１つずつに区画する隔壁７が形成される。換言すれば、表示領域Ｖを複数の区画領域Ｐ１に区画する隔壁７が形成される。
【００３１】
ステップＳ３では、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、補填部材１０を形成する。詳しくは、光硬化性樹脂を含有した溶液を液滴吐出法により所定の位置に塗布した後に、光を照射して形成する。
好適例では、図５（ｂ）に示すように、液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド５００からＵＶ硬化インク（溶液）を図２のレイアウトに沿って吐出し、紫外線を照射することにより、補填部材１０を形成している。図５（ｂ）は、ＵＶ硬化インクを表示領域Ｖの中程まで吐出配置した状態を示している。当該図では、シングルヘッドの吐出ヘッド５００によって、補填部材１０を１つずつ塗布する様子が示されているが、所期のレイアウトおよびサイズに沿って、溶液を吐出可能な構成であれば良い。例えば、マルチヘッドの吐出ヘッドを用いて、１行単位で形成することであっても良い。
【００３２】
また、図６（ａ）に示すように、断面形状においては台形の隔壁７の傾斜面を伸ばすように、補填部材１０ａが形成される。換言すれば、隔壁７の幅（Ｙ軸方向の長さ）を広げるように、当該隔壁の側面に補填部材１０ａが形成される。なお、図６（ａ）は、図２のｊ−ｊ断面における側断面図である。
また、ＵＶ硬化インクの色調は、補填部材１０の形成状態を視認するために隔壁７と見分けの付く色調とすることが好ましい。
なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサー法や、ニードルディスペンサー法などのディスペンサー法を用いても良い。
この工程により、図２に示すように補填部材１０ａ，１０ｂが形成され、表示領域Ｖに３つの区画領域Ｐ１〜Ｐ３が形成される。
【００３３】
ステップＳ４では、開口部５ｅを含む表示領域Ｖの露出面に親液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。この処理により、開口部５ｅを含む表示領域Ｖの露出面に水酸基が導入されて親液性が付与される。
ステップＳ５では、隔壁７、および補填部材１０を含む表示領域Ｖの露出面に撥液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行う。これにより、隔壁７、および補填部材１０を含む表示領域Ｖの露出面にフッ素基が導入されて撥液性が付与される。なお、無機物から構成されている開口部５ｅ、および絶縁層６は、この撥液化処理によって撥液化されることはない。
【００３４】
ステップＳ６では、液滴吐出法を用いて、区画領域Ｐごとに有機ＥＬ層８を形成する。有機ＥＬ層８の形成は、有機層ごとに、溶剤の塗布工程と乾燥工程とを繰り返えすことにより行われる。
まず、第１層目として正孔注入層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質として固形分濃度が０．５％で重量比が１：５０のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含み、溶媒の５０％としてジエチレングリコールモノブチルエーテルと、溶媒の残量として純水（具体的には超純水）とを含有する溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに吐出する。
また、溶液の吐出量は、区画領域Ｐの面積比に合わせて変化させる。換言すれば、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：０．８５：０．７７」としている。
【００３５】
図６（ａ）は、正孔注入層の溶液を１つの区画領域Ｐ２に塗布した状態を示している。
液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド５１０から吐出された溶液の液滴ｄは、区画領域Ｐ２内に着弾し、当該図に示すように、凸状（水玉状）に塗布（充填）される。なお、液滴ｄが凸状となるのは、区画領域Ｐ２の底部を形成する開口部５ｅおよび絶縁層６が親液性を有するとともに、側壁を構成する隔壁７、および補填部材１０が撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Ｐ２に満たされることになる。換言すれば、区画領域Ｐ２の底部は接触角が小さくてぬれやすく、側壁は接触角が大きくてぬれにくくなっているからである。なお、区画領域Ｐ１，Ｐ３においても同様である。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。まず、溶液が塗布された状態の素子基板１を真空チャンバーに移して、真空乾燥を行う。これにより、溶液中の溶媒の沸点が下がり、当該溶媒が低温で蒸発することになるため、溶質が析出して正孔注入層が形成される。さらに、残存する溶媒を除去するために熱処理を行う。好適例では、窒素ガス雰囲気下において、約２００℃で約１０分間の熱処理を行う。
また、乾燥工程において、素子基板１を加熱しても良い。例えば、当該基板をホットプレート上に載せて加熱する方法や、表示領域Ｖの上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
【００３６】
次に、第２層目として中間層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質としてポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用い、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを用いた溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに正孔注入層の上に吐出する。
また、溶液の吐出量は、正孔注入層の場合と同様に、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：０．８５：０．７７」としている。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。好適例では、真空乾燥に続いて、窒素ガス雰囲気下における約１３０℃で約１時間の熱処理を行う。
【００３７】
次に、第３層目として発光層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質として赤色、緑色、青色の各色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用い、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを用いた色ごとの溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに中間層の上に吐出する。
また、溶液の吐出量は、正孔注入層の場合と同様に、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：０．８５：０．７７」としている。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。好適例では、真空乾燥に続いて、窒素ガス雰囲気下における約１３０℃で約１時間の熱処理を行う。
【００３８】
図６（ｂ）には、このようにして、区画領域Ｐ２内に正孔注入層、中間層、発光層の３層が積層された積層構造からなる有機ＥＬ層８が示されている。
ステップＳ７では、全ての有機ＥＬ層８、および隔壁７を覆って、共通電極９（図３）を形成する。好適例では、２層構成としており、電子注入層としてのカルシウムと、陰極層としてのアルミニウムとをこの順番で蒸着法により積層して、共通電極９を形成している。なお、図４のフローチャートでは省略しているが、共通電極９の形成後、接着層１１により対向基板１６が貼り合わされて表示パネル１８が完成する。
【００３９】
また、赤色、緑色、青色の各色で用いる溶媒が異なる場合には、溶媒の乾燥速度に応じて、さらに吐出量を調整しても良い。例えば、緑色のみにテトラメチルベンゼンを溶媒として用いる場合には、溶媒量を重量比４０％とするとともに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への溶液の吐出量を「１．３：１．１：１．０」とする。
このように、沸点（蒸気圧）が異なる溶媒を用いた場合には、溶媒ごとの乾燥速度に差が生じるが、この乾燥速度の違いを吐出量によって調整することができる。換言すれば、溶媒の種類に応じて吐出量を調整することによって、各色間における乾燥速度の均一化を図ることができる。
【００４０】
「好適例における寸法」
上述した好適例による各部の寸法について、図３、および図６（ｂ）を用いて紹介しておく。
まず、開口部５ｅの直径は約１００μｍとした。また、開口部５ｅを区画する絶縁層６の厚さは、約１００ｎｍである。
また、隔壁７の高さ（厚さ）は約２μｍである。補填部材１０の高さも略同等である。
有機ＥＬ層８を構成する正孔注入層、中間層、発光層の厚さは、それぞれ約５０ｎｍ、約１０ｎｍ、約１００ｎｍとした。
また、共通電極９の厚さは、カルシウムの厚さが約５ｎｍ、アルミニウムの厚さが約３００ｎｍとした。
【００４１】
上述した通り、本実施形態に係る表示装置１００、および製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
上述した製造方法によれば、格子状の隔壁７を形成して略同じサイズの複数の区画領域Ｐを形成した後、当該複数の区画領域のうち、区画領域Ｐ２，Ｐ３における開口部５ｅを除いた部分に、液滴吐出法によって、面積を調整するための補填部材１０を形成している。つまり、補填部材１０により、表示領域Ｖにおける所定の区画領域の面積を他の区画領域の面積と異ならせることができる。
よって、専用の隔壁設定であったため汎用性に乏しかった従来の方法と異なり、本適用例に係る製造方法によれば、補填部材１０により、表示領域Ｖにおける区画領域Ｐの面積を個別に調整することができる。好適例では、所定の区画領域を表示領域Ｖの中央部近傍に設定することにより、区画領域Ｐ３，Ｐ２，Ｐ１の順に面積が大きくなるようにして、乾燥速度を均一化し、有機層の膜厚の均一化を図っている。換言すれば、中央部よりも周縁部における区画領域Ｐの面積を広くして、乾燥速度を均一化し、有機層の膜厚の均一化を図っている。
従って、汎用性に富んだ表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００４２】
また、例えば、有機ＥＬ材料の新材料を用いる場合においても、新材料の特性に応じて、補填部材１０により隔壁設定を調整して最適化を図ることができる。
従って、設計融通性に優れた表示装置１００の製造方法を提供することができる。
さらに、格子状の隔壁７をフォトリソ法によって形成しているため、区画領域Ｐ１の形状を設計値に基づいて、精度良く形成することができる。よって、基準区画領域Ｐ１の面積精度を精度良く作り込むことができる。
また、基準区画領域Ｐ１をベースとする所定の区画領域Ｐの面積精度は、補填部材１０の形成精度に略依存することになるが、吐出精度に優れた液滴吐出法を採用しているため、製造バラツキを抑制することができる。
また、区画領域Ｐの面積、および体積は、区画領域Ｐの縦の長さｇのみで略規定されるため、設計が容易となり、また製造時における管理も容易となるという効果もある。さらに、近年のインクジェット装置の吐出精度は優れており、略設定値通りの吐出位置、吐出量で補填部材１０を形成することが可能であるため、所期の面積の区画領域Ｐを容易に形成することができる。
【００４３】
表示装置１００によれば、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように、区画領域Ｐの面積が区画領域Ｐ１〜Ｐ３の複数段階に区画されている。
さらに、溶液の吐出量を区画領域Ｐの面積比に合わせて変化させて、単位面積当りの溶液量を同一としている。
よって、乾燥工程において、溶液中の溶媒が表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の方で早く乾燥（蒸発）しても、各区画領域の面積と溶液量とのバランスが取られているため、全ての区画領域Ｐにおける乾燥時間は略同一となる。換言すれば、全ての区画領域Ｐにおける乾燥時間が略均一となるように、各区画領域の面積と溶液量とが定められている。
これにより、乾燥工程における溶液の対流の程度（度合）も、全ての区画領域において同程度のものとなるため、各区画領域に形成される有機ＥＬ層８の膜厚が均一化される。
従って、輝度ムラや、発光色ムラを低減した表示装置１００を提供することができる。
【００４４】
（実施形態２）
図７は、実施形態２に係る素子基板の拡大平面図であり、図２に対応している。当該図は、表示領域ＶにおけるＲＧＢの区画領域の拡大図である。
以下、本発明の実施形態２に係る表示装置について説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
本実施形態の表示装置は、実施形態１の素子基板１とは異なる構成の素子基板３１を備えている。詳しくは、所定の区画領域Ｐの設定が実施形態１の素子基板１と異なる。また、製造工程の一部も異なっている。それ以外は、表示装置１００での説明と同様である。
【００４５】
実施形態２の素子基板３１では、有機層形成に用いる溶液の乾燥速度に応じて、所定の区画領域Ｐの設定を行っている。
詳しくは、ステップＳ６（図４）において、有機ＥＬ層８Ｒの形成時に用いる溶液の溶媒をイソプロピルビフェニルとし、有機ＥＬ層８Ｇの形成時に用いる溶液の溶媒をイソプロピルベンゼンとし、有機ＥＬ層８Ｂの形成時に用いる溶液の溶媒をシクロヘキシルベンゼンとしている。なお、溶質については、前述した材料を用いることができる。
そして、これらの溶液の乾燥速度は、赤色の溶液、青色の溶液、緑色の溶液の順に早くなる。換言すれば、緑色の溶液が一番早く、赤色の溶液が一番遅くなっている。
【００４６】
本実施形態では、この乾燥速度に応じて、乾燥速度が一番早い緑色の区画領域を基準となる区画領域Ｐ１とし、青色の区画領域Ｐ１２、および赤色の区画領域Ｐ１３を所定の区画領域として、それぞれ補填部材１０ｃ，１０ｄを形成して面積調整をしている。換言すれば、複数種の溶液のうち、最も乾燥速度が遅い赤色の溶液が塗布される区画領域Ｐ１３と、次に乾燥速度が遅い青色の溶液が塗布される区画領域Ｐ１２とを所定の区画領域としている。
詳しくは、緑色の区画領域Ｐ１、青色の区画領域Ｐ１２、赤色の区画領域Ｐ１３の順に面積が小さくなるように、区画領域Ｐ１２，Ｐ１３における縦方向の長さｇ１２，ｇ１３を設定している。また、溶液の吐出量は、実施形態１での説明と同様に、単位面積当りの溶液量が同一となるように設定する。
また、図７のＲＧＢの３区画領域は、無作為に抽出したものであるが、この配列が表示領域Ｖ全体に繰り返されている。詳しくは、図２での説明と同様に、Ｙ軸方向にはＲＧＢの同一色がライン状に形成され、また、Ｘ軸方向にはＲＧＢが周期的に繰り返し配置されている。
【００４７】
「製造方法について」
続いて、素子基板３１の製造方法について、実施形態１と異なる点を中心に説明する。
本実施形態では、図４のフローチャートの撥液化処理（ステップＳ５）を省略することを実現している。
このために、ステップＳ２の隔壁形成工程、およびステップＳ３の補填部材形成工程を変更している。
詳しくは、ステップＳ２の隔壁形成工程では、フッ素系ポリマーなどの撥液剤が添加された光硬化性の樹脂を用いて、隔壁７を形成している。また、ステップＳ３の補填部材形成工程でも、撥液剤が添加された光硬化性樹脂の溶液を用いて、補填部材１０ｃ，１０ｄを形成している。これらの点以外は、実施形態１の製造方法と同様である。
【００４８】
なお、ステップＳ３の補填部材形成工程では、撥液剤が添加されていない溶液を用いても良い。これは、仮に、補填部材１０ｃ，１０ｄの接触角が小さくて、隣の区画領域内に溶液が入ったとしても、隣の区画領域の色調も同一色であるため、実害がないからである。
また、本実施形態の製造方法を実施形態１の素子基板１に適用しても良く、この場合であっても同様な作用効果を得ることができる。
【００４９】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、ＲＧＢ各色の溶液の乾燥速度が異なる場合において、乾燥速度が速い溶液が塗布される区画領域の面積を相対的に大きくし、乾燥速度が遅い溶液が塗布される区画領域の面積を小さくすることにより、乾燥速度の均一化が図られるため、各区画領域における膜厚を均一化することができる。
つまり、ＲＧＢ各色の溶液の乾燥速度が異なる場合においても、所定の区画領域の設定を含む隔壁設定を調整して最適化を図ることができる。
特に、有機ＥＬ材料の新材料を用いる際に、新材料の特性に応じて、最適な溶媒を選択する場合が想定されるが、この場合であっても、補填部材１０により隔壁設定を調整して最適化を図ることができる。
従って、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。
【００５０】
さらに、製造工程においては、図４の撥液化処理（ステップＳ５）を省略することができる。
従って、製造効率に優れた表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００５１】
（実施形態３）
図８は、実施形態３に係る素子基板の拡大平面図であり、図２に対応している。当該図は、表示領域ＶにおけるＲＧＢの区画領域の拡大図である。図９は、図８のｋ−ｋ断面における側断面図であり、図３に対応している。
以下、本発明の実施形態３に係る表示パネル３８について説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
本実施形態の表示パネル３８は、実施形態１の素子基板１とは異なる構成の素子基板４１を備えている。素子基板４１は、ＲＧＢの各色画素が出射する所定の波長域の表示光を選択的に共振させるための光共振器構造を備えており、それに伴って、所定の区画領域Ｐの設定が実施形態１の素子基板１と異なっている。それ以外は、表示装置１００での説明と同様である。
【００５２】
本実施形態では、各区画領域の色調に応じて、青色の区画領域を基準となる区画領域Ｐ１とし、緑色の区画領域Ｐ２２、および赤色の区画領域Ｐ２３を所定の区画領域として、それぞれ補填部材１０ｅ，１０ｆを形成して面積調整をしている。
詳しくは、青色の区画領域Ｐ１、緑色の区画領域Ｐ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の順に面積が小さくなるように、区画領域Ｐ２２，Ｐ２３における縦方向の長さｇ２２，ｇ２３を設定している。換言すれば、青色の区画領域Ｐ１の長さｇ１、緑色の区画領域Ｐ２２の長さｇ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の長さｇ２３の順に短くなるように、補填部材１０ｅ，１０ｆを形成している。また、各溶液の吐出量は、区画領域の面積に拘らず同一量としている。
また、図８のＲＧＢの３区画領域は、無作為に抽出したものであるが、この配列が表示領域Ｖ全体に繰り返されている。詳しくは、図２での説明と同様に、Ｙ軸方向にはＲＧＢの同一色がライン状に形成され、また、Ｘ軸方向にはＲＧＢが周期的に繰り返し配置されている。
【００５３】
また、図９に示すように、断面構成においては、光共振器構造を構成するために、素子基板４１の機能層１５側にハーフミラー層３５が形成されている。ハーフミラー層３５は、誘電体多層膜であり、好適例としては、ＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜とが交互に積層された多層膜である。
そして、光共振器構造は、ハーフミラー層３５と、反射性を有する共通電極９とによって構成されている。
ここで、各区画領域に同一量の溶液を塗布して有機層を形成すると、その厚さは、面積の小さい区画領域ほど厚くなり、図９に示すように、有機ＥＬ層８Ｂ、有機ＥＬ層８Ｇ、有機ＥＬ層８Ｒの順で、厚くなるように形成される。なお、好適例における有機ＥＬ層８Ｂ，８Ｇ，８Ｒの厚さは、約１０ｎｍ、約５０ｎｍ、約１００ｎｍとした。
【００５４】
これにより、ハーフミラー層３５から共通電極９までの距離で規定される光共振器構造の共振器長は、図９の矢印で示すように、青色の区画領域Ｐ１、緑色の区画領域Ｐ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の順に、各有機ＥＬ層の厚さに応じて、長くなるように設定される。よって、各画素からは、光共振器構造において共振する波長域の光（Ｂ，Ｇ，Ｒ）が選択的に増強されて出射される。
なお、この共振器長の調整に、実施形態１の周縁部側の面積を広くする調整を加味して、区画領域の長さｇを設定しても良い。これによれば、共振構造を実現するとともに、色ごとの有機ＥＬ層８の膜厚の均一化を図ることができる。
【００５５】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、色ごとの区画領域の面積を青色の区画領域Ｐ１、緑色の区画領域Ｐ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の順に小さくなるように設定することにより、形成される有機層の厚さを有機ＥＬ層８Ｂ、有機ＥＬ層８Ｇ、有機ＥＬ層８Ｒの順で厚くすることができる。よって、各有機層の厚さに応じて、所期の共振器長を確保することができる。
つまり、本実施形態に係る製造方法を光共振器構造にも適用することができる。
従って、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。
また、共振器長は、各区画領域の縦方向の長さｇを調整することによって変更することができる。換言すれば、各区画領域の縦方向の長さｇを変更することによって、簡便に共振器長を調整することができる。
従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
【００５６】
（電子機器）
図１０は、上述の表示装置を搭載した携帯電話を示す斜視図である。
上述した表示装置１００は、例えば、電子機器としての携帯電話２００に搭載して用いることができる。
携帯電話２００は、本体部３５０と、当該本体部に対して開閉自在に設けられた表示部３７０とを備えるとともに、実施形態１に係る表示装置１００を内蔵している。詳しくは、表示装置１００は、表示部３７０に組み込まれており、表示パネル１８が表示画面となっている。また、本体部３５０には、複数の操作ボタンを有する操作部３６５が設けられている。
つまり、携帯電話２００は、輝度ムラや、発光色ムラを低減した表示装置１００を搭載している。従って、安定した画質の携帯電話２００を提供することができる。
なお、表示パネル１８の素子基板には、実施形態２，３に係る素子基板３１，４１を用いても良く、この場合であっても、各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００５７】
また、携帯電話の態様は、図１０に示した折畳み式に限定するものではなく、表示パネルを備えた携帯電話であれば良い。
例えば、本体部３５０に対して表示部３７０が折畳み、および旋回可能に設けられた携帯電話であっても良い。または、一体型の携帯電話や、一体型の本体部に操作部が収納されているスライド式の携帯電話であっても良い。
また、電子機器としては、携帯電話に限定するものではなく、液晶パネルを備えた電子機器であれば良い。
例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、輝度ムラや、発光色ムラが低減された高品位の表示を得ることができる。
【００５８】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
【００５９】
（変形例１）
図４、および図５を用いて説明する。
上記各実施形態では、補填部材１０を形成した後に、有機ＥＬ層８を形成していたが、この順番に限定するものではなく、少なくとも発光に寄与する発光層を補填部材１０の形成後に塗布することであれば良い。換言すれば、補填部材１０の形成前に、有機ＥＬ層８の一部を形成しても良い。
例えば、図５（ａ）に示す、格子状の隔壁７を形成（ステップＳ２）した後に、液滴吐出法を用いて、正孔注入層を区画領域ごとに形成しても良い。また、正孔注入層の上に、さらに、中間層を形成しても良い。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００６０】
（変形例２）
また、変形例１の構成に限定するものではなく、発光層を形成した後に、補填部材１０を形成することであっても良い。
詳しくは、補填部材１０の形成（ステップＳ３）に続いて、液滴吐出法を用いて、正孔注入層、中間層、発光層を各区画領域に形成しても良い。そして、各区画領域の発光層の上に補填部材１０を形成する。
この構成によれば、補填部材１０により、発光層と共通電極９との接触面積を調整することになるため、例えば、区画領域Ｐの長さｇを、赤色、緑色、青色の順で長くすることにより、各色の寿命の均一化を図ることができる。
【００６１】
（変形例３）
図３を用いて説明する。
上記各実施形態では、表示パネル１８をボトムエミッション型の有機ＥＬパネルとして説明したが、トップエミッション型の有機ＥＬパネルであっても良く、有機層を塗布および乾燥して形成する光学装置であれば良い。
詳しくは、表示パネル１８をトップエミッション型とする場合、画素電極５の素子基板１側に全反射層を形成する。また、共通電極９を薄くしてハーフミラー層とする。これにより、対向基板１６側から、表示光が出射されることになる。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００６２】
（変形例４）
図１１は、変形例４に係る素子基板の拡大平面図であり、図８に対応している。図１２は、図１１のｍ−ｍ断面における側断面図である。
上記各実施形態では、隔壁７、および補填部材１０の表面に撥液処理を行うものとして説明したが、有機層の膜厚を薄くしたい区画領域ではこの限りではない。換言すれば、有機層の膜厚を薄くしたい区画領域では、意図的に隔壁７、および補填部材１０に撥液処理を施さなくても良い。
ここでは、実施形態３の光共振器構造を備えた素子基板４１に本変形例の製造方法を適用した場合について説明する。なお、上記各実施形態と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
【００６３】
図１１の素子基板４１ｂにおいて、青色の区画領域Ｐ１１の縦方向の両端には、撥液性が付与されていない補填部材１０ｈが形成されている。換言すれば、青色の区画領域Ｐ１１は、図８の区画領域Ｐ１の縦方向の両端に補填部材１０ｈを形成したものである。これ以外の素子基板４１ｂの構成は、図８の素子基板４１と同一である。
まず、素子基板４１ｂの製造方法は、実施形態２の製造方法を応用している。詳しくは、撥液剤が添加された光硬化性の樹脂を用いて隔壁７を形成した後、撥液剤が添加された光硬化性樹脂の溶液と、撥液剤が添加されていない光硬化性樹脂の溶液とを選択的に使い分けて、各補填部材を形成している。
つまり、区画領域Ｐ１１には、選択的に撥液剤が添加されていない溶液を用いて補填部材１０ｈを形成し、その他の区画領域では、撥液剤が添加された溶液を用いている。
【００６４】
また、図１２に示すように、補填部材１０ｈを形成する際には、隔壁７の上面にまで、溶液が掛かるように塗布することが好ましい。
これにより、当該図に示すように、区画領域Ｐ１１に吐出された有機層の溶液は、接触角が小さい補填部材１０ｈの上に広がった状態に塗布される。換言すれば、有機層の溶液の塗布面積が大きくなる。
よって、区画領域Ｐ１１に形成される有機ＥＬ層８Ｂの膜厚をより薄くすることができる。換言すれば、撥液剤が添加された溶液と、撥液剤が添加されていない溶液とを選択的に使い分けることにより、有機層の膜厚の調整幅を広げることができる。
従って、汎用性に富み、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。なお、本変形例の製造方法は、実施形態３以外の上記各実施形態、および変形例にも適用することが可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
【００６５】
（変形例５）
図１３は、変形例５に係る素子基板の側断面図であり、図６に対応している。
上記各実施形態では、区画領域の底面は、画素電極５（開口部５ｅ）と略同一面となっていたが、この構成に限定するものではなく、画素電極５よりも低い（深い）部分が形成されていても良い。換言すれば、区画領域に画素電極５よりも低い掘り込み部が形成されていても良い。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
【００６６】
図１３は、図２のｊ−ｊ断面における側断面図であり、隔壁７を形成した後における１つの区画領域Ｐ１ｂの側断面図を示している。
区画領域Ｐ１ｂには、縦方向（Ｙ軸方向）における両端に画素電極５（開口部５ｅ）よりも低い掘り込み部ｎが形成されている。換言すれば、区画領域Ｐ１ｂは、厚さ方向（Ｚ軸方向）において区画領域の体積を広げる２つの掘り込み部ｎを備えている。この点以外の構成は、実施形態１での説明と略同様である。なお、区画領域の両端に掘り込み部ｎを２ヶ所形成することに限定するものではなく、開口部５ｅを除いた区画領域内であれば、どこに掘り込み部ｎを配置しても良く、また、形成数もいくつであっても良い。
また、掘り込み部ｎを形成するために、アクリル樹脂などからなる平坦化層４が厚く形成されている。そして、多階調（グレースケール）マスクを用いたフォトリソ法によって、すり鉢状の掘り込み部ｎを形成する。なお、多階調マスクを用いることに限定するものではなく、オーバーエッチングや、アンダーエッチングなどのエッチング技術を用いても良い。なお、掘り込み部ｎは、補填部材１０を形成（充填）可能なサイズとなっている。
また、画素電極５は、蒸着マスクを用いたイオンプレーティング法により、平坦化層４の凸部に選択的に形成する。
【００６７】
この構成によれば、２つの掘り込み部ｎの体積分、区画領域Ｐ１ｂの体積が増えるため、補填部材１０の充填量の調整幅が広がり、有機層の膜厚の調整幅を広げることができる。換言すれば、よりダイナミックに有機層の膜厚調整を行うことができる。
従って、汎用性に富み、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。なお、本変形例の製造方法は、実施形態１以外の上記各実施形態、および変形例にも適用することが可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
【００６８】
（変形例６）
図１４は、光学装置としてのＣＦ基板の平面図であり、図２に対応している。
上記各実施形態では、有機ＥＬパネルである表示パネル１８を用いて説明したが、光学装置としてのＣＦ基板に適用することであっても良い。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
変形例６に係るＣＦ基板１１６は、液晶パネルや、トップエミッション型の有機ＥＬパネルに用いられるカラーフィルターが形成された基板である。
上記各実施形態の製造方法をＣＦ基板１１６に適用する場合、基板は透明な無垢基板を用いる（ステップＳ１）。また、図４の有機層形成工程（ステップＳ６）が変更となる。そして、共通電極形成工程（ステップＳ７）は不要となる。それ以外の工程は、同一である。
【００６９】
詳しくは、有機層形成工程（ステップＳ６）では、色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって１回塗布するだけで良い。換言すれば、有機層は１層のみの構成となる。また、図１４では、複数の色フィルターが形成された領域を領域Ｖ（表示領域Ｖに相当する）としており、ＲＧＢの３色のカラーフィルターをストライプ状に配置しているが、さらに色数が多くても良い。また、デルタ配置などの異なる色配置であっても良い。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００７０】
１，３１，４１…基板としての素子基板、５…第１電極としての画素電極、５ｅ…開口部、７…隔壁、８，８Ｒ，８Ｇ，８Ｂ…複数の有機層としての有機ＥＬ層、９…第２電極としての共通電極、１０，１０ａ〜１０ｆ，１０ｈ…補填部材、１８，３８…表示パネル、１００…光学装置としての表示装置、１１６…光学装置としてのＣＦ基板、２００…電子機器としての携帯電話、Ｐ，Ｐ１〜Ｐ３，Ｐ１１〜Ｐ１３，Ｐ２２〜Ｐ２３…区画領域、ｎ…掘り込み部、Ｖ…表示領域。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料が分散または溶解した溶液をインクジェット法により隔壁（バンク）に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させる、いわゆる液滴吐出法を用いて発光画素を形成する技術が知られている。
このような液滴吐出法によって、複数の画素をマトリックス状に形成した場合、塗布された溶液の乾燥速度の差によって、発光層の膜厚に差が生じてしまい、発光画素間での輝度ムラや、発光色ムラが生じてしまうという問題があった。これは、複数の画素がマトリックス状に形成された表示領域において、その周縁部における溶液の乾燥速度が、中央部に比べて速くなることに起因していた。
【０００３】
発明者等は、上記問題を解決するために、特許文献１の表示装置（光学装置）を提案している。当該表示装置では、隔壁で囲まれた１つの発光画素の領域を区画領域としたときに、区画領域の体積が表示領域の中央部よりも周縁部側で大きくなるように隔壁を設定している。換言すれば、表示領域の中央部よりも周縁部における区画領域の方が広く（大きく）なるように隔壁設定をしていた。また、溶液の吐出量も区画領域の体積比に合わせて変化させていた。
これにより、表示領域の中央部と周縁部とにおける乾燥速度が略等しくなり、形成される発光層の膜厚の均一化を実現していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１６２０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の方法では、汎用性に乏しいという課題があった。詳しくは、区画領域の大きさや、中央部から周縁部に至る間でのサイズ変化の割合などの隔壁設定は、表示領域のサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などによって異なるが、従来の方法では、一品一様で専用の隔壁設定となってしまうため汎用性に乏しかった。
また、乾燥速度の均一化ばかりでなく、例えば、各画素が放つ色光を増強する共振構造を適用することも想定されるが、やはり、専用の隔壁設定では融通が利かなかった。
さらに、有機ＥＬ材料は、開発ステージにある材料であり、日々改良された新材料が提案されているが、新材料の特性に応じて、隔壁設定を変更して最適化を図りたいというニーズに応じることは難しかった。つまり、細部の設計変更が困難であり、設計融通性に欠けるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。
【０００７】
（適用例）
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、複数の開口部を区画する隔壁を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、所定の区画領域における開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、複数の区画領域ごとに、有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【０００８】
この製造方法によれば、隔壁を形成して複数の区画領域を形成した後、当該複数の区画領域のうち、所定の区画領域における開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材が形成される。つまり、補填部材により、表示領域における所定の区画領域の面積を他の区画領域の面積と異ならせることができる。
よって、専用の隔壁設定であったため汎用性に乏しかった従来の方法と異なり、本適用例に係る製造方法によれば、補填部材により、表示領域における区画領域の面積を個別に調整することができる。例えば、所定の区画領域を表示領域の中央部近傍に設定することにより、中央部よりも周縁部における区画領域の面積を広くして、乾燥速度を均一化し、有機層の膜厚の均一化を図ることができる。
従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
【０００９】
また、例えば、各画素が放つ色光を増強する共振構造を適用する場合、各色の有機層の厚さを含む共振器長を変える必要があるが、この製造方法によれば、色ごとの区画領域の面積を調整可能であるため、形成される有機層の厚さを色ごとに変えることができる。
また、有機ＥＬ材料の新材料を用いる場合においても、新材料の特性に応じて、補填部材により隔壁設定を変更して最適化を図ることができる。
従って、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。
【００１０】
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、複数の開口部を区画する隔壁を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の区画領域ごとに、発光画素に含まれる複数の有機層のうちの少なくとも一層を形成する工程と、所定の区画領域における開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、複数の区画領域ごとに、有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【００１１】
また、所定の区画領域には、表示領域における中央部の区画領域が含まれており、複数の区画領域の面積が、表示領域の中央部よりも周縁部で大きくなるように補填部材が形成されていることが好ましい。
また、溶液には、溶媒の種類が異なる複数種の溶液が含まれており、所定の区画領域には、複数種の溶液のうち、最も乾燥速度が遅い溶媒を用いた溶液が塗布される区画領域が少なくとも含まれることが好ましい。
また、発光画素には、赤色画素、緑色画素、青色画素が含まれ、所定の区画領域には、少なくとも赤色画素に対応する区画領域が含まれており、それぞれの区画領域の面積が、赤色画素に対応する区画領域、緑色画素に対応する区画領域、青色画素に対応する区画領域の順に、大きくなるように補填部材が形成されていることが好ましい。
【００１２】
また、隔壁は、フォトリソ法を用いて、複数の開口部を１つずつに区画する格子状に形成され、補填部材は、光硬化性樹脂を含有した溶液を液滴吐出法により塗布した後に、光を照射することにより形成されることが好ましい。
また、所定の区画領域を除いた区画領域における周縁部の一部に、撥液剤が添加されていない溶液を塗布して補填部材を形成することが好ましい。
また、区画領域には、開口部よりも深い掘り込み部が形成されており、掘り込み部にも、補填部材を形成可能であることが好ましい。
【００１３】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成されたフィルター領域を有する光学装置の製造方法であって、複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、少なくともフィルター領域の中央部の区画領域を含む区画領域に、液滴吐出法によって、区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、複数の区画領域ごとに、色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、溶液を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
また、フィルター領域の周縁部における区画領域の面積が、中央部における面積よりも大きくなるように、補填部材が形成されていることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態１に係る光学装置の一態様を示す斜視図。
【図２】素子基板の平面図。
【図３】図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図。
【図４】表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。
【図５】（ａ）、（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図６】（ａ）、（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図７】実施形態２に係る素子基板の拡大平面図。
【図８】実施形態３に係る素子基板の拡大平面図。
【図９】表示パネルの側断面図。
【図１０】電子機器としての携帯電話を示す斜視図。
【図１１】変形例４に係る素子基板の拡大平面図。
【図１２】素子基板の拡大断面図。
【図１３】変形例５に係る素子基板の拡大断面図。
【図１４】光学装置としてのＣＦ基板の平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１６】
（実施形態１）
「表示装置の概要」
図１は、本実施形態に係る表示装置の一態様を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る光学装置としての表示装置１００の概要について説明する。
【００１７】
表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置であり、表示パネル１８、フレキシブル基板２０などから構成されている。表示パネル１８は、素子基板１と対向基板１６との間に、発光層を含む機能層を挟持したボトムエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであり、素子基板１側から表示光を出射する。
表示パネル１８は、マトリックス状に配置された複数の画素からなる表示領域Ｖを備えている。図１の右上に拡大して示すように、表示領域Ｖには、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）の各色画素が周期的に配置されており、各画素が出射する表示光によりフルカラーの画像が表示される。なお、各画素は発光画素であるが、画素と称する。また、カラー表示を行う表示パネルに限定するものではなく、モノクロ表示を行う表示パネルであっても良い。表示領域Ｖは、縦長の長方形をなしており、図１を含む各図においては、当該縦方向をＹ軸方向とし、縦方向よりも短い横方向をＸ軸方向と定義している。また、表示パネル１８の厚さ方向をＺ軸方向としている。また、Ｙ軸（＋）、（−）方向を上下方向とし、Ｘ軸（−）、（＋）方向を左右方向としている。
【００１８】
詳しくは後述するが、表示領域Ｖの各画素における発光層を含む複数の有機層は、液滴吐出法によって形成されている。ここで、表示装置１００によれば、本実施形態に係る特徴ある製造方法によって、各画素間における発光層を含む複数の有機層の厚さが均一化されているため、輝度ムラや、発光色ムラが低減されている。
また、当該製造方法は、特に、汎用性および設計融通性に富んでいるため、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などが変化した場合であっても、常に、最適な製造条件とすることができる。
【００１９】
また、表示パネル１８において、素子基板１が対向基板１６から張出した張出し領域には、フレキシブル基板２０が接続されている。なお、フレキシブル基板とは、例えば、ポリイミドフィルムの基材に鉄箔の配線などが形成された柔軟性を有するフレキシブルプリント回路基板の略称である。また、フレキシブル基板２０には、駆動用ＩＣ（Integrated Circuit）２１が実装され、その端部には、専用のコントローラーや、外部機器（いずれも図示せず）と接続するための複数の端子が形成されている。
表示パネル１８は、フレキシブル基板２０を介して、外部機器から電力や画像信号を含む制御信号の供給を受けることにより、表示領域Ｖに画像や文字などを表示する。
【００２０】
「表示パネルの詳細な構成」
図２は、素子基板の平面図である。図３は、図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図である。
続いて、表示パネルの詳細な構成について、図２および図３を用いて説明する。
図２は、図１において素子基板１をＺ軸（＋）方向から見たときの平面図である。このため、図１と比べてＸ軸方向が反転している。また、完成状態の素子基板１をこの方向から観察した場合、一様な共通電極（陰極）が観察されることになるが、ここでは、説明の都合上、有機層を形成する前段階における平面態様を示している。
素子基板１の表示領域Ｖには、格子状の隔壁７が形成されている。詳しくは、隔壁７は、行列をなして配置された画素電極（陽極）の開口部５ｅを１つずつ区画するように形成されている。
また、隔壁７によって区画された複数の領域のことを区画領域Ｐという。複数の区画領域Ｐは、全てが略同じ大きさに形成されており、その中央部に１つの開口部５ｅが配置されている。また、図２では、好適例として、区画領域Ｐを長方形としているが、これに限定するものではなく、トラック形状や、楕円などであっても良い。また、開口部５ｅについても円形状としているが、トラック形状や、楕円、長方形などであっても良い。
【００２１】
また、表示領域Ｖの左端（Ｘ軸（−）側）における区画領域Ｐの列には赤色の有機ＥＬ層が形成され、その右隣（Ｘ軸（＋）側）の区画領域Ｐの列には緑色の有機ＥＬ層が形成され、その右隣の区画領域Ｐの列には青色の有機ＥＬ層が形成されている。以降、区画領域Ｐ列ごとに、この順番で、周期的に各色の有機ＥＬ層が形成されている。
表示領域Ｖには、面積の異なる３つの区画領域Ｐ１〜Ｐ３が形成されている。まず、区画領域Ｐ１は、表示領域Ｖの周縁部に形成されており、隔壁７によって区画された基準となる区画領域である。区画領域Ｐ１は、縦（Ｙ軸方向）が長さｇ１で、横幅（Ｘ軸方向）が長さｗの縦長の長方形をなしている。
ここで、区画領域Ｐ２，Ｐ３は、基準となる区画領域Ｐ１における開口部５ｅを除いた部分に、補填部材１０を形成して面積調整した区画領域である。詳しくは、区画領域Ｐ２，Ｐ３は、区画領域Ｐ１における縦方向の両端に補填部材１０を形成することにより、面積を段階的に小さくしている。
【００２２】
表示領域Ｖの周縁部に配置された区画領域Ｐ１の内側に、一回り小さな環状に配置されている区画領域Ｐ２の面積は、区画領域Ｐ１の面積よりも小さくなっている。そして、区画領域Ｐ２に囲まれて表示領域Ｖの中央部に配置された区画領域Ｐ３の面積は、区画領域Ｐ２の面積よりも小さくなっている。
詳しくは、表示領域Ｖの外形（点線Ｌ１）から、一回り小さな点線Ｌ２までの範囲内では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ１となっている。また、点線Ｌ２から、一回り小さな点線Ｌ３までの範囲内では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ２となっている。そして、表示領域Ｖの中央の点線Ｌ３内では、区画領域Ｐのサイズが区画領域Ｐ３となっている。これらのサイズ関係を整理すると、区画領域Ｐ１、区画領域Ｐ２、区画領域Ｐ３の順に、面積が小さくなるように設定されている。
つまり、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように、区画領域Ｐのサイズが区画されている。換言すれば、表示領域Ｖの周縁部から中央部に近づくに従って、区画領域Ｐの面積が小さくなるように調整されている。
これは、表示領域Ｖにおける溶液の乾燥速度は、中央部よりも周縁部で速くなるため、この乾燥速度の均一化を図っているからである。換言すれば、表示領域Ｖにおける溶液の乾燥速度を均一化するために、周縁部から中央部に近づくに連れて、区画領域Ｐの面積が小さくなる分割構成としている。
【００２３】
具体的な区画領域Ｐ１〜Ｐ３の面積比率としては、区画領域Ｐ１の面積を１．０としたときに、例えば、「１．０：０．８５：０．７７」に設定する。換言すれば、好適例における区画領域Ｐ３，Ｐ２，Ｐ１の面積比率を、区画領域Ｐ３の面積を１．０としたときに、「１．０：１．１：１．３」に設定する。
また、これらの面積調整は、区画領域Ｐにおける縦方向の両端に形成する補填部材１０の長さ（量）を異ならせることにより行っている。
詳しくは、区画領域Ｐ１では隔壁７により区画された基準区画領域Ｐ１の長さｇ１をそのまま活かし、区画領域Ｐ２では縦方向の両端に補填部材１０ａを形成して長さｇ２とし、区画領域Ｐ３では縦方向の両端に補填部材１０ｂを形成して長さｇ３としている。
例えば、前述の好適例の場合では、長さｇ１〜ｇ３の比率を、長さｇ１を１．０としたときに、「１．０：０．８５：０．７７」に設定する。これは、区画領域Ｐ１〜Ｐ３の横幅が長さｗで一定となっているため、縦の長さｇを所望の面積比率と同率で調整することにより、所期の面積比率とすることができる。
なお、面積比率や、区画数などは上記数値に限定するものではなく、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などに応じて、適宜変更することが好ましい。
【００２４】
続いて、図３を用いて、表示パネル１８の断面構成について説明する。図３は、図２の区画領域が形成された素子基板１に、有機層、共通電極（陰極）、および対向基板を取り付けた完成状態における側断面図である。
表示パネル１８は、素子基板１、素子層２、平坦化層４、画素電極５、隔壁７、有機ＥＬ層８、共通電極９、接着層１１、対向基板１６などから構成されている。また、素子基板１と対向基板１６とに挟持された部位のことを電気光学層としての機能層１５という。換言すれば、素子層２から接着層１１までの積層構造を機能層１５という。
素子基板１は、透明な無機ガラスから構成されている。本実施形態では、好適例として、無アルカリガラスを用いている。なお、ガラスに限定するものではなく、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）などの透明基板を用いても良い。
素子層２には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）からなる画素を選択するための選択トランジスターや、有機ＥＬ層８に電流を流すための駆動トランジスター３などが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。なお、画素回路は、好適例として、活性層に低温ポリシリコンを用いているが、アモルファスシリコンを活性層として用いた構成であっても良い。
【００２５】
素子層２の上層（Ｚ軸（＋）方向）には、例えば、アクリル樹脂などからなる絶縁層である平坦化層４が形成されている。
平坦化層４の上層には、画素ごとに区画されて、第１電極としての画素電極５が形成されている。画素電極５は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層２の駆動トランジスター３のドレイン端子と平坦化層４を貫通するコンタクトホールにより接続されている。
また、画素電極５の上層には、例えば、ＳｉＯ2からなる絶縁層６が形成されており、画素電極５と有機ＥＬ層８とが接触する開口部５ｅを区画している。つまり、画素電極５が絶縁層６から露出した部分を開口部５ｅとしている。
隔壁７は、前述した格子状の隔壁であり、断面形状は、画素電極５側が広い台形状になっている。また、隔壁７の表面には、撥液化処理が施されている。なお、断面形状は、矩形や、半円状であっても良い。好適例における材料としては、光硬化性のアクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などを用いる。
【００２６】
有機層としての有機ＥＬ層８は、正孔注入層や、発光層などを含む複数の有機（薄膜）層から形成された有機ＥＬ発光層である。
好適例における有機ＥＬ層８は、正孔注入層と、中間層と、各色発光層とを、この順番に積層した構成となっている。
好適例における正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いる。また、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
好適例における中間層の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、トリフェニルアミン系ポリマーを用いても良い。
【００２７】
発光層の材料としては、有機ＥＬ層８Ｒ，８Ｇ，８Ｂごとに、赤色、緑色、青色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。
好適例としては、赤色、緑色、青色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）などを用いても良い。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
【００２８】
第２電極としての共通電極９は、全ての有機ＥＬ層８、および隔壁７を覆って共通に形成された陰極であり、単層構成であっても複数層構成であっても良い。
好適例としては、複数層構成とし、発光層側の薄い下層（電子注入層）を仕事関数が小さい材料（例えば、カルシウム）から形成し、厚い上層を仕事関数が大きい材料（例えば、アルミニウム）から形成する。
接着層１１は、好適例では、熱硬化型のエポキシ系接着剤を用いている。なお、これに限定するものではなく、特に、水分の浸入を防ぐバリア性、および対向基板の接着性を備えた接着剤であれば良く、シリコン系や、アクリル系の接着剤を用いても良い。または、共通電極９の上層に、シリコン窒化膜や、シリコン酸化膜などの無機バリア層をさらに形成した後に、接着層１１を充填する構成であっても良い。
対向基板１６は、機能層１５を封止するためのガラス基板である。または、金属基板を用いても良い。なお、対向基板１６は必須の構成ではなく、当該基板を省略しても良い。この場合、共通電極９の上層に、前述の無機バリア層を厚く形成することが好ましい。
【００２９】
「表示パネルの製造方法」
図４は、表示パネルの製造工程を示すフローチャート図である。図５（ａ）、（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。図６（ａ）、（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。
ここでは、表示パネル１８の製造方法について、隔壁７から有機ＥＬ層８の形成を中心に説明する。
【００３０】
まず、ステップＳ１では、フォトリソ法、蒸着法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などの周知の製造方法を用いて、絶縁層６までが作り込まれた素子基板１を形成する。換言すれば、画素電極５、および絶縁層６までが作り込まれて、開口部５ｅが形成された素子基板１を準備する。
ステップＳ２では、フォトリソ法を用いて、格子状の隔壁７を形成する。詳しくは、前述した光硬化性の樹脂を素子基板１の全面にスピンコート法などにより塗布した後、格子状のマスクを用いて露光し、現像することによって格子状の隔壁７を形成する。なお、好適例では、黒色の光硬化性樹脂を用いている。
これにより、図５（ａ）に示すように、複数の開口部５ｅを１つずつに区画する隔壁７が形成される。換言すれば、表示領域Ｖを複数の区画領域Ｐ１に区画する隔壁７が形成される。
【００３１】
ステップＳ３では、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、補填部材１０を形成する。詳しくは、光硬化性樹脂を含有した溶液を液滴吐出法により所定の位置に塗布した後に、光を照射して形成する。
好適例では、図５（ｂ）に示すように、液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド５００からＵＶ硬化インク（溶液）を図２のレイアウトに沿って吐出し、紫外線を照射することにより、補填部材１０を形成している。図５（ｂ）は、ＵＶ硬化インクを表示領域Ｖの中程まで吐出配置した状態を示している。当該図では、シングルヘッドの吐出ヘッド５００によって、補填部材１０を１つずつ塗布する様子が示されているが、所期のレイアウトおよびサイズに沿って、溶液を吐出可能な構成であれば良い。例えば、マルチヘッドの吐出ヘッドを用いて、１行単位で形成することであっても良い。
【００３２】
また、図６（ａ）に示すように、断面形状においては台形の隔壁７の傾斜面を伸ばすように、補填部材１０ａが形成される。換言すれば、隔壁７の幅（Ｙ軸方向の長さ）を広げるように、当該隔壁の側面に補填部材１０ａが形成される。なお、図６（ａ）は、図２のｊ−ｊ断面における側断面図である。
また、ＵＶ硬化インクの色調は、補填部材１０の形成状態を視認するために隔壁７と見分けの付く色調とすることが好ましい。
なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサー法や、ニードルディスペンサー法などのディスペンサー法を用いても良い。
この工程により、図２に示すように補填部材１０ａ，１０ｂが形成され、表示領域Ｖに３つの区画領域Ｐ１〜Ｐ３が形成される。
【００３３】
ステップＳ４では、開口部５ｅを含む表示領域Ｖの露出面に親液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。この処理により、開口部５ｅを含む表示領域Ｖの露出面に水酸基が導入されて親液性が付与される。
ステップＳ５では、隔壁７、および補填部材１０を含む表示領域Ｖの露出面に撥液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行う。これにより、隔壁７、および補填部材１０を含む表示領域Ｖの露出面にフッ素基が導入されて撥液性が付与される。なお、無機物から構成されている開口部５ｅ、および絶縁層６は、この撥液化処理によって撥液化されることはない。
【００３４】
ステップＳ６では、液滴吐出法を用いて、区画領域Ｐごとに有機ＥＬ層８を形成する。有機ＥＬ層８の形成は、有機層ごとに、溶剤の塗布工程と乾燥工程とを繰り返えすことにより行われる。
まず、第１層目として正孔注入層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質として固形分濃度が０．５％で重量比が１：５０のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含み、溶媒の５０％としてジエチレングリコールモノブチルエーテルと、溶媒の残量として純水（具体的には超純水）とを含有する溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに吐出する。
また、溶液の吐出量は、区画領域Ｐの面積比に合わせて変化させる。換言すれば、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：０．８５：０．７７」としている。
【００３５】
図６（ａ）は、正孔注入層の溶液を１つの区画領域Ｐ２に塗布した状態を示している。
液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド５１０から吐出された溶液の液滴ｄは、区画領域Ｐ２内に着弾し、当該図に示すように、凸状（水玉状）に塗布（充填）される。なお、液滴ｄが凸状となるのは、区画領域Ｐ２の底部を形成する開口部５ｅおよび絶縁層６が親液性を有するとともに、側壁を構成する隔壁７、および補填部材１０が撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Ｐ２に満たされることになる。換言すれば、区画領域Ｐ２の底部は接触角が小さくてぬれやすく、側壁は接触角が大きくてぬれにくくなっているからである。なお、区画領域Ｐ１，Ｐ３においても同様である。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。まず、溶液が塗布された状態の素子基板１を真空チャンバーに移して、真空乾燥を行う。これにより、溶液中の溶媒の沸点が下がり、当該溶媒が低温で蒸発することになるため、溶質が析出して正孔注入層が形成される。さらに、残存する溶媒を除去するために熱処理を行う。好適例では、窒素ガス雰囲気下において、約２００℃で約１０分間の熱処理を行う。
また、乾燥工程において、素子基板１を加熱しても良い。例えば、当該基板をホットプレート上に載せて加熱する方法や、表示領域Ｖの上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
【００３６】
次に、第２層目として中間層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質としてポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用い、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを用いた溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに正孔注入層の上に吐出する。
また、溶液の吐出量は、正孔注入層の場合と同様に、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：０．８５：０．７７」としている。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。好適例では、真空乾燥に続いて、窒素ガス雰囲気下における約１３０℃で約１時間の熱処理を行う。
【００３７】
次に、第３層目として発光層を形成する。
好適例における塗布工程では、溶質として赤色、緑色、青色の各色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用い、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを用いた色ごとの溶液を用いる。そして、当該溶液を液滴吐出装置で、区画領域Ｐごとに中間層の上に吐出する。
また、溶液の吐出量は、正孔注入層の場合と同様に、単位面積当りの溶液量を同一としている。好適例の場合、区画領域Ｐ１への吐出量を１．０としたときに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への吐出量を「１．０：０．８５：０．７７」としている。
続いて、乾燥工程を行う。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。好適例では、真空乾燥に続いて、窒素ガス雰囲気下における約１３０℃で約１時間の熱処理を行う。
【００３８】
図６（ｂ）には、このようにして、区画領域Ｐ２内に正孔注入層、中間層、発光層の３層が積層された積層構造からなる有機ＥＬ層８が示されている。
ステップＳ７では、全ての有機ＥＬ層８、および隔壁７を覆って、共通電極９（図３）を形成する。好適例では、２層構成としており、電子注入層としてのカルシウムと、陰極層としてのアルミニウムとをこの順番で蒸着法により積層して、共通電極９を形成している。なお、図４のフローチャートでは省略しているが、共通電極９の形成後、接着層１１により対向基板１６が貼り合わされて表示パネル１８が完成する。
【００３９】
また、赤色、緑色、青色の各色で用いる溶媒が異なる場合には、溶媒の乾燥速度に応じて、さらに吐出量を調整しても良い。例えば、緑色のみにテトラメチルベンゼンを溶媒として用いる場合には、溶媒量を重量比４０％とするとともに、各区画領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３への溶液の吐出量を「１．３：１．１：１．０」とする。
このように、沸点（蒸気圧）が異なる溶媒を用いた場合には、溶媒ごとの乾燥速度に差が生じるが、この乾燥速度の違いを吐出量によって調整することができる。換言すれば、溶媒の種類に応じて吐出量を調整することによって、各色間における乾燥速度の均一化を図ることができる。
【００４０】
「好適例における寸法」
上述した好適例による各部の寸法について、図３、および図６（ｂ）を用いて紹介しておく。
まず、開口部５ｅの直径は約１００μｍとした。また、開口部５ｅを区画する絶縁層６の厚さは、約１００ｎｍである。
また、隔壁７の高さ（厚さ）は約２μｍである。補填部材１０の高さも略同等である。
有機ＥＬ層８を構成する正孔注入層、中間層、発光層の厚さは、それぞれ約５０ｎｍ、約１０ｎｍ、約１００ｎｍとした。
また、共通電極９の厚さは、カルシウムの厚さが約５ｎｍ、アルミニウムの厚さが約３００ｎｍとした。
【００４１】
上述した通り、本実施形態に係る表示装置１００、および製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
上述した製造方法によれば、格子状の隔壁７を形成して略同じサイズの複数の区画領域Ｐを形成した後、当該複数の区画領域のうち、区画領域Ｐ２，Ｐ３における開口部５ｅを除いた部分に、液滴吐出法によって、面積を調整するための補填部材１０を形成している。つまり、補填部材１０により、表示領域Ｖにおける所定の区画領域の面積を他の区画領域の面積と異ならせることができる。
よって、専用の隔壁設定であったため汎用性に乏しかった従来の方法と異なり、本適用例に係る製造方法によれば、補填部材１０により、表示領域Ｖにおける区画領域Ｐの面積を個別に調整することができる。好適例では、所定の区画領域を表示領域Ｖの中央部近傍に設定することにより、区画領域Ｐ３，Ｐ２，Ｐ１の順に面積が大きくなるようにして、乾燥速度を均一化し、有機層の膜厚の均一化を図っている。換言すれば、中央部よりも周縁部における区画領域Ｐの面積を広くして、乾燥速度を均一化し、有機層の膜厚の均一化を図っている。
従って、汎用性に富んだ表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００４２】
また、例えば、有機ＥＬ材料の新材料を用いる場合においても、新材料の特性に応じて、補填部材１０により隔壁設定を調整して最適化を図ることができる。
従って、設計融通性に優れた表示装置１００の製造方法を提供することができる。
さらに、格子状の隔壁７をフォトリソ法によって形成しているため、区画領域Ｐ１の形状を設計値に基づいて、精度良く形成することができる。よって、基準区画領域Ｐ１の面積精度を精度良く作り込むことができる。
また、基準区画領域Ｐ１をベースとする所定の区画領域Ｐの面積精度は、補填部材１０の形成精度に略依存することになるが、吐出精度に優れた液滴吐出法を採用しているため、製造バラツキを抑制することができる。
また、区画領域Ｐの面積、および体積は、区画領域Ｐの縦の長さｇのみで略規定されるため、設計が容易となり、また製造時における管理も容易となるという効果もある。さらに、近年のインクジェット装置の吐出精度は優れており、略設定値通りの吐出位置、吐出量で補填部材１０を形成することが可能であるため、所期の面積の区画領域Ｐを容易に形成することができる。
【００４３】
表示装置１００によれば、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部における面積が大きくなるように、区画領域Ｐの面積が区画領域Ｐ１〜Ｐ３の複数段階に区画されている。
さらに、溶液の吐出量を区画領域Ｐの面積比に合わせて変化させて、単位面積当りの溶液量を同一としている。
よって、乾燥工程において、溶液中の溶媒が表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の方で早く乾燥（蒸発）しても、各区画領域の面積と溶液量とのバランスが取られているため、全ての区画領域Ｐにおける乾燥時間は略同一となる。換言すれば、全ての区画領域Ｐにおける乾燥時間が略均一となるように、各区画領域の面積と溶液量とが定められている。
これにより、乾燥工程における溶液の対流の程度（度合）も、全ての区画領域において同程度のものとなるため、各区画領域に形成される有機ＥＬ層８の膜厚が均一化される。
従って、輝度ムラや、発光色ムラを低減した表示装置１００を提供することができる。
【００４４】
（実施形態２）
図７は、実施形態２に係る素子基板の拡大平面図であり、図２に対応している。当該図は、表示領域ＶにおけるＲＧＢの区画領域の拡大図である。
以下、本発明の実施形態２に係る表示装置について説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
本実施形態の表示装置は、実施形態１の素子基板１とは異なる構成の素子基板３１を備えている。詳しくは、所定の区画領域Ｐの設定が実施形態１の素子基板１と異なる。また、製造工程の一部も異なっている。それ以外は、表示装置１００での説明と同様である。
【００４５】
実施形態２の素子基板３１では、有機層形成に用いる溶液の乾燥速度に応じて、所定の区画領域Ｐの設定を行っている。
詳しくは、ステップＳ６（図４）において、有機ＥＬ層８Ｒの形成時に用いる溶液の溶媒をイソプロピルビフェニルとし、有機ＥＬ層８Ｇの形成時に用いる溶液の溶媒をイソプロピルベンゼンとし、有機ＥＬ層８Ｂの形成時に用いる溶液の溶媒をシクロヘキシルベンゼンとしている。なお、溶質については、前述した材料を用いることができる。
そして、これらの溶液の乾燥速度は、赤色の溶液、青色の溶液、緑色の溶液の順に早くなる。換言すれば、緑色の溶液が一番早く、赤色の溶液が一番遅くなっている。
【００４６】
本実施形態では、この乾燥速度に応じて、乾燥速度が一番早い緑色の区画領域を基準となる区画領域Ｐ１とし、青色の区画領域Ｐ１２、および赤色の区画領域Ｐ１３を所定の区画領域として、それぞれ補填部材１０ｃ，１０ｄを形成して面積調整をしている。換言すれば、複数種の溶液のうち、最も乾燥速度が遅い赤色の溶液が塗布される区画領域Ｐ１３と、次に乾燥速度が遅い青色の溶液が塗布される区画領域Ｐ１２とを所定の区画領域としている。
詳しくは、緑色の区画領域Ｐ１、青色の区画領域Ｐ１２、赤色の区画領域Ｐ１３の順に面積が小さくなるように、区画領域Ｐ１２，Ｐ１３における縦方向の長さｇ１２，ｇ１３を設定している。また、溶液の吐出量は、実施形態１での説明と同様に、単位面積当りの溶液量が同一となるように設定する。
また、図７のＲＧＢの３区画領域は、無作為に抽出したものであるが、この配列が表示領域Ｖ全体に繰り返されている。詳しくは、図２での説明と同様に、Ｙ軸方向にはＲＧＢの同一色がライン状に形成され、また、Ｘ軸方向にはＲＧＢが周期的に繰り返し配置されている。
【００４７】
「製造方法について」
続いて、素子基板３１の製造方法について、実施形態１と異なる点を中心に説明する。
本実施形態では、図４のフローチャートの撥液化処理（ステップＳ５）を省略することを実現している。
このために、ステップＳ２の隔壁形成工程、およびステップＳ３の補填部材形成工程を変更している。
詳しくは、ステップＳ２の隔壁形成工程では、フッ素系ポリマーなどの撥液剤が添加された光硬化性の樹脂を用いて、隔壁７を形成している。また、ステップＳ３の補填部材形成工程でも、撥液剤が添加された光硬化性樹脂の溶液を用いて、補填部材１０ｃ，１０ｄを形成している。これらの点以外は、実施形態１の製造方法と同様である。
【００４８】
なお、ステップＳ３の補填部材形成工程では、撥液剤が添加されていない溶液を用いても良い。これは、仮に、補填部材１０ｃ，１０ｄの接触角が小さくて、隣の区画領域内に溶液が入ったとしても、隣の区画領域の色調も同一色であるため、実害がないからである。
また、本実施形態の製造方法を実施形態１の素子基板１に適用しても良く、この場合であっても同様な作用効果を得ることができる。
【００４９】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、ＲＧＢ各色の溶液の乾燥速度が異なる場合において、乾燥速度が速い溶液が塗布される区画領域の面積を相対的に大きくし、乾燥速度が遅い溶液が塗布される区画領域の面積を小さくすることにより、乾燥速度の均一化が図られるため、各区画領域における膜厚を均一化することができる。
つまり、ＲＧＢ各色の溶液の乾燥速度が異なる場合においても、所定の区画領域の設定を含む隔壁設定を調整して最適化を図ることができる。
特に、有機ＥＬ材料の新材料を用いる際に、新材料の特性に応じて、最適な溶媒を選択する場合が想定されるが、この場合であっても、補填部材１０により隔壁設定を調整して最適化を図ることができる。
従って、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。
【００５０】
さらに、製造工程においては、図４の撥液化処理（ステップＳ５）を省略することができる。
従って、製造効率に優れた表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００５１】
（実施形態３）
図８は、実施形態３に係る素子基板の拡大平面図であり、図２に対応している。当該図は、表示領域ＶにおけるＲＧＢの区画領域の拡大図である。図９は、図８のｋ−ｋ断面における側断面図であり、図３に対応している。
以下、本発明の実施形態３に係る表示パネル３８について説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
本実施形態の表示パネル３８は、実施形態１の素子基板１とは異なる構成の素子基板４１を備えている。素子基板４１は、ＲＧＢの各色画素が出射する所定の波長域の表示光を選択的に共振させるための光共振器構造を備えており、それに伴って、所定の区画領域Ｐの設定が実施形態１の素子基板１と異なっている。それ以外は、表示装置１００での説明と同様である。
【００５２】
本実施形態では、各区画領域の色調に応じて、青色の区画領域を基準となる区画領域Ｐ１とし、緑色の区画領域Ｐ２２、および赤色の区画領域Ｐ２３を所定の区画領域として、それぞれ補填部材１０ｅ，１０ｆを形成して面積調整をしている。
詳しくは、青色の区画領域Ｐ１、緑色の区画領域Ｐ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の順に面積が小さくなるように、区画領域Ｐ２２，Ｐ２３における縦方向の長さｇ２２，ｇ２３を設定している。換言すれば、青色の区画領域Ｐ１の長さｇ１、緑色の区画領域Ｐ２２の長さｇ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の長さｇ２３の順に短くなるように、補填部材１０ｅ，１０ｆを形成している。また、各溶液の吐出量は、区画領域の面積に拘らず同一量としている。
また、図８のＲＧＢの３区画領域は、無作為に抽出したものであるが、この配列が表示領域Ｖ全体に繰り返されている。詳しくは、図２での説明と同様に、Ｙ軸方向にはＲＧＢの同一色がライン状に形成され、また、Ｘ軸方向にはＲＧＢが周期的に繰り返し配置されている。
【００５３】
また、図９に示すように、断面構成においては、光共振器構造を構成するために、素子基板４１の機能層１５側にハーフミラー層３５が形成されている。ハーフミラー層３５は、誘電体多層膜であり、好適例としては、ＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜とが交互に積層された多層膜である。
そして、光共振器構造は、ハーフミラー層３５と、反射性を有する共通電極９とによって構成されている。
ここで、各区画領域に同一量の溶液を塗布して有機層を形成すると、その厚さは、面積の小さい区画領域ほど厚くなり、図９に示すように、有機ＥＬ層８Ｂ、有機ＥＬ層８Ｇ、有機ＥＬ層８Ｒの順で、厚くなるように形成される。なお、好適例における有機ＥＬ層８Ｂ，８Ｇ，８Ｒの厚さは、約１０ｎｍ、約５０ｎｍ、約１００ｎｍとした。
【００５４】
これにより、ハーフミラー層３５から共通電極９までの距離で規定される光共振器構造の共振器長は、図９の矢印で示すように、青色の区画領域Ｐ１、緑色の区画領域Ｐ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の順に、各有機ＥＬ層の厚さに応じて、長くなるように設定される。よって、各画素からは、光共振器構造において共振する波長域の光（Ｂ，Ｇ，Ｒ）が選択的に増強されて出射される。
なお、この共振器長の調整に、実施形態１の周縁部側の面積を広くする調整を加味して、区画領域の長さｇを設定しても良い。これによれば、共振構造を実現するとともに、色ごとの有機ＥＬ層８の膜厚の均一化を図ることができる。
【００５５】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、色ごとの区画領域の面積を青色の区画領域Ｐ１、緑色の区画領域Ｐ２２、赤色の区画領域Ｐ２３の順に小さくなるように設定することにより、形成される有機層の厚さを有機ＥＬ層８Ｂ、有機ＥＬ層８Ｇ、有機ＥＬ層８Ｒの順で厚くすることができる。よって、各有機層の厚さに応じて、所期の共振器長を確保することができる。
つまり、本実施形態に係る製造方法を光共振器構造にも適用することができる。
従って、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。
また、共振器長は、各区画領域の縦方向の長さｇを調整することによって変更することができる。換言すれば、各区画領域の縦方向の長さｇを変更することによって、簡便に共振器長を調整することができる。
従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。
【００５６】
（電子機器）
図１０は、上述の表示装置を搭載した携帯電話を示す斜視図である。
上述した表示装置１００は、例えば、電子機器としての携帯電話２００に搭載して用いることができる。
携帯電話２００は、本体部３５０と、当該本体部に対して開閉自在に設けられた表示部３７０とを備えるとともに、実施形態１に係る表示装置１００を内蔵している。詳しくは、表示装置１００は、表示部３７０に組み込まれており、表示パネル１８が表示画面となっている。また、本体部３５０には、複数の操作ボタンを有する操作部３６５が設けられている。
つまり、携帯電話２００は、輝度ムラや、発光色ムラを低減した表示装置１００を搭載している。従って、安定した画質の携帯電話２００を提供することができる。
なお、表示パネル１８の素子基板には、実施形態２，３に係る素子基板３１，４１を用いても良く、この場合であっても、各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００５７】
また、携帯電話の態様は、図１０に示した折畳み式に限定するものではなく、表示パネルを備えた携帯電話であれば良い。
例えば、本体部３５０に対して表示部３７０が折畳み、および旋回可能に設けられた携帯電話であっても良い。または、一体型の携帯電話や、一体型の本体部に操作部が収納されているスライド式の携帯電話であっても良い。
また、電子機器としては、携帯電話に限定するものではなく、液晶パネルを備えた電子機器であれば良い。
例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、輝度ムラや、発光色ムラが低減された高品位の表示を得ることができる。
【００５８】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
【００５９】
（変形例１）
図４、および図５を用いて説明する。
上記各実施形態では、補填部材１０を形成した後に、有機ＥＬ層８を形成していたが、この順番に限定するものではなく、少なくとも発光に寄与する発光層を補填部材１０の形成後に塗布することであれば良い。換言すれば、補填部材１０の形成前に、有機ＥＬ層８の一部を形成しても良い。
例えば、図５（ａ）に示す、格子状の隔壁７を形成（ステップＳ２）した後に、液滴吐出法を用いて、正孔注入層を区画領域ごとに形成しても良い。また、正孔注入層の上に、さらに、中間層を形成しても良い。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００６０】
（変形例２）
また、変形例１の構成に限定するものではなく、発光層を形成した後に、補填部材１０を形成することであっても良い。
詳しくは、補填部材１０の形成（ステップＳ３）に続いて、液滴吐出法を用いて、正孔注入層、中間層、発光層を各区画領域に形成しても良い。そして、各区画領域の発光層の上に補填部材１０を形成する。
この構成によれば、補填部材１０により、発光層と共通電極９との接触面積を調整することになるため、例えば、区画領域Ｐの長さｇを、赤色、緑色、青色の順で長くすることにより、各色の寿命の均一化を図ることができる。
【００６１】
（変形例３）
図３を用いて説明する。
上記各実施形態では、表示パネル１８をボトムエミッション型の有機ＥＬパネルとして説明したが、トップエミッション型の有機ＥＬパネルであっても良く、有機層を塗布および乾燥して形成する光学装置であれば良い。
詳しくは、表示パネル１８をトップエミッション型とする場合、画素電極５の素子基板１側に全反射層を形成する。また、共通電極９を薄くしてハーフミラー層とする。これにより、対向基板１６側から、表示光が出射されることになる。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００６２】
（変形例４）
図１１は、変形例４に係る素子基板の拡大平面図であり、図８に対応している。図１２は、図１１のｍ−ｍ断面における側断面図である。
上記各実施形態では、隔壁７、および補填部材１０の表面に撥液処理を行うものとして説明したが、有機層の膜厚を薄くしたい区画領域ではこの限りではない。換言すれば、有機層の膜厚を薄くしたい区画領域では、意図的に隔壁７、および補填部材１０に撥液処理を施さなくても良い。
ここでは、実施形態３の光共振器構造を備えた素子基板４１に本変形例の製造方法を適用した場合について説明する。なお、上記各実施形態と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
【００６３】
図１１の素子基板４１ｂにおいて、青色の区画領域Ｐ１１の縦方向の両端には、撥液性が付与されていない補填部材１０ｈが形成されている。換言すれば、青色の区画領域Ｐ１１は、図８の区画領域Ｐ１の縦方向の両端に補填部材１０ｈを形成したものである。これ以外の素子基板４１ｂの構成は、図８の素子基板４１と同一である。
まず、素子基板４１ｂの製造方法は、実施形態２の製造方法を応用している。詳しくは、撥液剤が添加された光硬化性の樹脂を用いて隔壁７を形成した後、撥液剤が添加された光硬化性樹脂の溶液と、撥液剤が添加されていない光硬化性樹脂の溶液とを選択的に使い分けて、各補填部材を形成している。
つまり、区画領域Ｐ１１には、選択的に撥液剤が添加されていない溶液を用いて補填部材１０ｈを形成し、その他の区画領域では、撥液剤が添加された溶液を用いている。
【００６４】
また、図１２に示すように、補填部材１０ｈを形成する際には、隔壁７の上面にまで、溶液が掛かるように塗布することが好ましい。
これにより、当該図に示すように、区画領域Ｐ１１に吐出された有機層の溶液は、接触角が小さい補填部材１０ｈの上に広がった状態に塗布される。換言すれば、有機層の溶液の塗布面積が大きくなる。
よって、区画領域Ｐ１１に形成される有機ＥＬ層８Ｂの膜厚をより薄くすることができる。換言すれば、撥液剤が添加された溶液と、撥液剤が添加されていない溶液とを選択的に使い分けることにより、有機層の膜厚の調整幅を広げることができる。
従って、汎用性に富み、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。なお、本変形例の製造方法は、実施形態３以外の上記各実施形態、および変形例にも適用することが可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
【００６５】
（変形例５）
図１３は、変形例５に係る素子基板の側断面図であり、図６に対応している。
上記各実施形態では、区画領域の底面は、画素電極５（開口部５ｅ）と略同一面となっていたが、この構成に限定するものではなく、画素電極５よりも低い（深い）部分が形成されていても良い。換言すれば、区画領域に画素電極５よりも低い掘り込み部が形成されていても良い。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
【００６６】
図１３は、図２のｊ−ｊ断面における側断面図であり、隔壁７を形成した後における１つの区画領域Ｐ１ｂの側断面図を示している。
区画領域Ｐ１ｂには、縦方向（Ｙ軸方向）における両端に画素電極５（開口部５ｅ）よりも低い掘り込み部ｎが形成されている。換言すれば、区画領域Ｐ１ｂは、厚さ方向（Ｚ軸方向）において区画領域の体積を広げる２つの掘り込み部ｎを備えている。この点以外の構成は、実施形態１での説明と略同様である。なお、区画領域の両端に掘り込み部ｎを２ヶ所形成することに限定するものではなく、開口部５ｅを除いた区画領域内であれば、どこに掘り込み部ｎを配置しても良く、また、形成数もいくつであっても良い。
また、掘り込み部ｎを形成するために、アクリル樹脂などからなる平坦化層４が厚く形成されている。そして、多階調（グレースケール）マスクを用いたフォトリソ法によって、すり鉢状の掘り込み部ｎを形成する。なお、多階調マスクを用いることに限定するものではなく、オーバーエッチングや、アンダーエッチングなどのエッチング技術を用いても良い。なお、掘り込み部ｎは、補填部材１０を形成（充填）可能なサイズとなっている。
また、画素電極５は、蒸着マスクを用いたイオンプレーティング法により、平坦化層４の凸部に選択的に形成する。
【００６７】
この構成によれば、２つの掘り込み部ｎの体積分、区画領域Ｐ１ｂの体積が増えるため、補填部材１０の充填量の調整幅が広がり、有機層の膜厚の調整幅を広げることができる。換言すれば、よりダイナミックに有機層の膜厚調整を行うことができる。
従って、汎用性に富み、設計融通性に優れた光学装置の製造方法を提供することができる。なお、本変形例の製造方法は、実施形態１以外の上記各実施形態、および変形例にも適用することが可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
【００６８】
（変形例６）
図１４は、光学装置としてのＣＦ基板の平面図であり、図２に対応している。
上記各実施形態では、有機ＥＬパネルである表示パネル１８を用いて説明したが、光学装置としてのＣＦ基板に適用することであっても良い。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
変形例６に係るＣＦ基板１１６は、液晶パネルや、トップエミッション型の有機ＥＬパネルに用いられるカラーフィルターが形成された基板である。
上記各実施形態の製造方法をＣＦ基板１１６に適用する場合、基板は透明な無垢基板を用いる（ステップＳ１）。また、図４の有機層形成工程（ステップＳ６）が変更となる。そして、共通電極形成工程（ステップＳ７）は不要となる。それ以外の工程は、同一である。
【００６９】
詳しくは、有機層形成工程（ステップＳ６）では、色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって１回塗布するだけで良い。換言すれば、有機層は１層のみの構成となる。また、図１４では、複数の色フィルターが形成された領域を領域Ｖ（表示領域Ｖに相当する）としており、ＲＧＢの３色のカラーフィルターをストライプ状に配置しているが、さらに色数が多くても良い。また、デルタ配置などの異なる色配置であっても良い。
これらの構成であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００７０】
１，３１，４１…基板としての素子基板、５…第１電極としての画素電極、５ｅ…開口部、７…隔壁、８，８Ｒ，８Ｇ，８Ｂ…複数の有機層としての有機ＥＬ層、９…第２電極としての共通電極、１０，１０ａ〜１０ｆ，１０ｈ…補填部材、１８，３８…表示パネル、１００…光学装置としての表示装置、１１６…光学装置としてのＣＦ基板、２００…電子機器としての携帯電話、Ｐ，Ｐ１〜Ｐ３，Ｐ１１〜Ｐ１３，Ｐ２２〜Ｐ２３…区画領域、ｎ…掘り込み部、Ｖ…表示領域。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、
複数の前記開口部を区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、所定の前記区画領域における前記開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、前記区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、
前記第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項２】
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、
複数の前記開口部を区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の区画領域ごとに、前記発光画素に含まれる複数の有機層のうちの少なくとも一層を形成する工程と、
所定の前記区画領域における前記開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、前記区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、
前記第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記所定の区画領域には、前記表示領域における中央部の区画領域が含まれており、
前記複数の区画領域の面積が、前記表示領域の中央部よりも周縁部で大きくなるように前記補填部材が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記溶液には、溶媒の種類が異なる複数種の溶液が含まれており、
前記所定の区画領域には、前記複数種の溶液のうち、最も乾燥速度が遅い前記溶媒を用いた前記溶液が前記塗布される前記区画領域が少なくとも含まれることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記発光画素には、赤色画素、緑色画素、青色画素が含まれ、
前記所定の区画領域には、少なくとも前記赤色画素に対応する前記区画領域が含まれており、
それぞれの前記区画領域の面積が、前記赤色画素に対応する前記区画領域、前記緑色画素に対応する前記区画領域、前記青色画素に対応する前記区画領域の順に、大きくなるように前記補填部材が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記隔壁は、フォトリソ法を用いて、前記複数の開口部を１つずつに区画する格子状に形成され、
前記補填部材は、光硬化性樹脂を含有した溶液を前記液滴吐出法により塗布した後に、光を照射することにより形成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記所定の区画領域を除いた前記区画領域における周縁部の一部に、撥液剤が添加されていない前記溶液を塗布して前記補填部材を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記区画領域には、前記開口部よりも深い掘り込み部が形成されており、
前記掘り込み部にも、前記補填部材を形成可能であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項９】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成されたフィルター領域を有する光学装置の製造方法であって、
前記複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、少なくとも前記フィルター領域の中央部の前記区画領域を含む前記区画領域に、液滴吐出法によって、前記区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項１０】
前記フィルター領域の周縁部における前記区画領域の面積が、中央部における面積よりも大きくなるように、前記補填部材が形成されていることを特徴とする請求項９に記載の光学装置の製造方法。
【請求項１】
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、
複数の前記開口部を区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、所定の前記区画領域における前記開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、前記区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、
前記第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項２】
有機材料を含む複数の発光画素が形成された表示領域を有する光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部を含む複数の第１電極を形成する工程と、
複数の前記開口部を区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の区画領域ごとに、前記発光画素に含まれる複数の有機層のうちの少なくとも一層を形成する工程と、
所定の前記区画領域における前記開口部を除いた部分に、液滴吐出法によって、前記区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記有機材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、
前記第１電極と対となる第２電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記所定の区画領域には、前記表示領域における中央部の区画領域が含まれており、
前記複数の区画領域の面積が、前記表示領域の中央部よりも周縁部で大きくなるように前記補填部材が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記溶液には、溶媒の種類が異なる複数種の溶液が含まれており、
前記所定の区画領域には、前記複数種の溶液のうち、最も乾燥速度が遅い前記溶媒を用いた前記溶液が前記塗布される前記区画領域が少なくとも含まれることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記発光画素には、赤色画素、緑色画素、青色画素が含まれ、
前記所定の区画領域には、少なくとも前記赤色画素に対応する前記区画領域が含まれており、
それぞれの前記区画領域の面積が、前記赤色画素に対応する前記区画領域、前記緑色画素に対応する前記区画領域、前記青色画素に対応する前記区画領域の順に、大きくなるように前記補填部材が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記隔壁は、フォトリソ法を用いて、前記複数の開口部を１つずつに区画する格子状に形成され、
前記補填部材は、光硬化性樹脂を含有した溶液を前記液滴吐出法により塗布した後に、光を照射することにより形成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記所定の区画領域を除いた前記区画領域における周縁部の一部に、撥液剤が添加されていない前記溶液を塗布して前記補填部材を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記区画領域には、前記開口部よりも深い掘り込み部が形成されており、
前記掘り込み部にも、前記補填部材を形成可能であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項９】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成されたフィルター領域を有する光学装置の製造方法であって、
前記複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の区画領域のうち、少なくとも前記フィルター領域の中央部の前記区画領域を含む前記区画領域に、液滴吐出法によって、前記区画領域の面積を調整するための補填部材を形成する工程と、
前記複数の区画領域ごとに、前記色フィルターを構成する材料を溶解した溶液を液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶液を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項１０】
前記フィルター領域の周縁部における前記区画領域の面積が、中央部における面積よりも大きくなるように、前記補填部材が形成されていることを特徴とする請求項９に記載の光学装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２０１１−５４５１３（Ｐ２０１１−５４５１３Ａ）
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２０４４３７（Ｐ２００９−２０４４３７）
【出願日】平成２１年９月４日（２００９．９．４）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月４日（２００９．９．４）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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