光情報記録媒体の製造方法
【課題】第１中間層と第２中間層との界面が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している中間層を備えた光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の記録層と、複数の記録層の間に設けられ、屈折率が記録層と異なる第１中間層１５Ａおよび屈折率が記録層と略同一の第２中間層１５Ｂを有する中間層１５とを備えた光情報記録媒体の製造方法である。光情報記録媒体の製造方法は、支持シート（剥離用シートＳ）に第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料とを同時重層塗布する中間層塗布工程と、記録層形成面に対し、記録層を形成する記録層形成工程と、記録層形成工程で形成した記録層の上に、中間層塗布工程で支持シートに形成した中間層１５を積層して支持シートを剥離する中間層積層工程とを有し、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返し行う。
【解決手段】複数の記録層と、複数の記録層の間に設けられ、屈折率が記録層と異なる第１中間層１５Ａおよび屈折率が記録層と略同一の第２中間層１５Ｂを有する中間層１５とを備えた光情報記録媒体の製造方法である。光情報記録媒体の製造方法は、支持シート（剥離用シートＳ）に第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料とを同時重層塗布する中間層塗布工程と、記録層形成面に対し、記録層を形成する記録層形成工程と、記録層形成工程で形成した記録層の上に、中間層塗布工程で支持シートに形成した中間層１５を積層して支持シートを剥離する中間層積層工程とを有し、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返し行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光情報記録媒体に多層に情報を記録するため、２光子吸収などの多光子吸収反応を用いて光情報記録媒体中の記録材料に光学的変化を起こさせる方法が研究されている（例えば、特許文献１）。多光子吸収反応を用いた光情報記録媒体は、従来から広く用いられている単層の光情報記録媒体と同様に、情報の再生時に記録層の上下の両界面で反射した反射光同士が干渉すること（干渉効果という）を考慮し、記録部分と未記録部分の反射率（記録層の上下の両界面での反射光同士が干渉後、光ピックアップへ戻ってくる光の割合）の差が大きくなるように、記録部分の記録材料の屈折率変化と記録層の厚さが設定されている。特許文献１の情報記録媒体においても、同文献の図２に示すように膜厚と反射率の関係が考慮され、再生光波長をλ、記録層の屈折率をｎとして、記録層厚さをλ／４ｎ程度や、より薄い５〜５０ｎｍ程度にするとよいとされている（段落００６２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４２９０６５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１のように、再生時に記録層の両界面での反射光の干渉効果を利用する場合、記録層が設計値通りの膜厚に製造されないと良好な変調度が得られないので、膜厚の精度が要求され、光情報記録媒体の製造コストが嵩むという問題がある。
【０００５】
そこで、本願発明者等は、記録層の上下いずれか一方の界面における、記録部分と未記録部分の反射率の違いを利用して情報の再生を行う方法や、そのような再生を可能とする情報の記録方法を提案している。この方法によれば、記録層の膜厚に関して高い精度が要求されず、かつ、良好な再生出力を得ることができる。
【０００６】
一方、提案中の方法においては、記録層の上下他方の界面での反射がノイズとなる可能性があるので、本願出願人は、記録層との上下いずれか一方の界面でのみ反射を可能とする中間層を備えた光情報記録媒体についてすでに出願を行っている。具体的に、該当する出願において、中間層は、記録層に対し記録光が入射される側とは反対側で隣接して屈折率が記録層の屈折率と異なる第１中間層と、記録層に対し記録光が入射される側で隣接して屈折率が記録層の屈折率と略同一である第２中間層とを備え、第１中間層と第２中間層との界面が第１中間層と第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している。このような中間層によれば、記録層と第１中間層との界面では反射を可能とする一方、記録層と第２中間層との界面や、第１中間層と第２中間層との界面においては反射を抑制することができる。
【０００７】
本発明は、前記したような中間層、すなわち、第１中間層と第２中間層との界面が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している中間層を備えた光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した目的を達成するため、本発明は、複数の記録層と、前記記録層に対し記録光の入射方向における一方側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と異なる第１中間層と、前記記録層に対し前記一方側とは反対側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と略同一である第２中間層とを有し、前記第１中間層と前記第２中間層の界面が前記第１中間層と前記第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している、前記複数の記録層の間に設けられた中間層と、を備えた光情報記録媒体の製造方法であって、支持シートに第１中間層の材料と第２中間層の材料とを同時重層塗布する中間層塗布工程と、記録層形成面に対し、記録層を形成する記録層形成工程と、前記記録層形成工程で形成した記録層の上に、前記中間層塗布工程で支持シートに形成した中間層を積層して支持シートを剥離する中間層積層工程と、を有し、前記記録層形成工程と前記中間層積層工程とを繰り返し行うことを特徴とする。
【０００９】
本発明により製造される光情報記録媒体では、記録された情報を再生するときに、記録層と第１中間層との界面においては読出光（再生時に照射する光）が反射するが、記録層と第２中間層との界面や、第１中間層と第２中間層との界面においては読出光が反射しない。このため、記録層と第２中間層との界面や、第１中間層と第２中間層との界面における反射が、記録層と第１中間層との界面による反射光の検出を阻害しないので、高いＳ／Ｎ比で情報を読み取ることが可能となる。
【００１０】
そして、本発明の光情報記録媒体の製造方法によれば、中間層塗布工程において、第１中間層の材料と第２中間層の材料とを同時重層塗布するので、第１中間層の材料と第２中間層の材料は、界面付近で材料の拡散が起こり互いに混ざり合うこととなる。これにより、第１中間層と第２中間層との界面において、第１中間層と第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化する状態を形成することができるので、第２中間層と第１中間層との界面における反射を抑えることができる。また、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返すことで、屈折率が互いに異なる、記録層と第１中間層との界面は、はっきりとした界面となり、読出光を反射させることができる。一方、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返すことで、記録層と第２中間層との界面も、はっきりとした界面となるが、記録層と第２中間層の屈折率は略同一なので読出光の反射を抑えることができる。
【００１１】
前記した光情報記録媒体の製造方法は、支持シートに記録層の材料を塗布する記録層塗布工程を有し、前記記録層形成工程は、記録層形成面の上に、前記記録層塗布工程で支持シートに形成した記録層を積層して支持シートを剥離することにより行うことができる。
【００１２】
これによれば、記録層も、中間層と同様に、積層するだけで形成することができるので、予め記録層を作製しておくことで、例えば、記録層形成面に直接記録層の材料を塗布して硬化した後、中間層を積層するという工程を繰り返す場合と比較して、光情報記録媒体を容易に製造することができる。
【００１３】
前記した光情報記録媒体の製造方法は、前記中間層塗布工程と前記中間層積層工程の間に、第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させる中間層硬化工程を有していてもよい。また、前記記録層塗布工程と前記記録層形成工程の間に、記録層の材料を硬化させる記録層硬化工程を有していてもよい。
【００１４】
中間層硬化工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、第１中間層の材料と第２中間層の材料は、光硬化性樹脂を含み、前記中間層硬化工程は、光を照射することで第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させることができる。同様に、記録層硬化工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、記録層の材料は、光硬化性樹脂を含み、前記記録層硬化工程は、光を照射することで記録層の材料を硬化させることができる。
【００１５】
これによれば、光を照射することで、第１中間層の材料や第２中間層の材料、記録層の材料を簡単かつ迅速に硬化させることができるので、中間層や記録層を容易かつ迅速に製造することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、第１中間層と第２中間層との界面が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している中間層を備えた光情報記録媒体を比較的簡単にかつ安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】多層光情報記録媒体の断面図である。
【図２】中間層の形成工程を説明する図（ａ）と、同時重層塗布工程を説明する図（ｂ）である。
【図３】記録層形成工程を説明する図（ａ），（ｂ）である。
【図４】中間層積層工程を説明する図（ａ），（ｂ）である。
【図５】記録スポットの形成を説明する図である。
【図６】記録スポットにおける読出光の反射を説明する図である。
【図７】未記録部分における読出光の反射を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
次に、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図１に示すように、光情報記録媒体１０は、基板１１と、サーボ信号層１２と、複数の記録層１４と、複数の中間層１５（粘着層）と、カバー層１６とを備えてなる。なお、本実施形態においては、記録層１４と第１中間層１５Ａとの界面を「前側界面１８」といい、記録層１４と第２中間層１５Ｂとの界面を「奥側界面１９」という。また、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂとの界面を「中間界面２０」という。）
【００１９】
基板１１は、記録層１４などを支持するための支持体であり、一例としてポリカーボネートの円板などからなる。基板１１の材質や厚さは特に限定されない。
【００２０】
サーボ信号層１２は、記録層１４および中間層１５を基板１１に保持させるための粘着性または接着性の樹脂材料からなり、基板１１側の面に予め凹凸または屈折率の変化によりサーボ信号が記録された層である。ここでのサーボ信号は、記録時および再生時のフォーカスの基準面であることを記録再生装置が認識できるように予め設定された信号である。所定の記録層１４に焦点を合わせる場合には、この基準面からの距離や、界面の数を考慮して焦点を制御する。また、記録時および再生時に円周方向に並んだ記録スポットのトラックに正確にレーザ光を照射できるようにトラッキング用のサーボ信号または溝を設けておくとよい。なお、サーボ信号層１２の有無は任意である。
【００２１】
記録層１４は、情報が光学的に記録される感光材料からなる層であり、本実施形態においては、記録光（記録用の照射光）の照射により屈折率が変化するものを用いる。屈折率の変化は、記録光の照射により、屈折率が小さい状態から大きい状態になるのでもよいし、逆に大きい状態から小さい状態になるのでもよい。ここでは、記録層１４は、一例として、記録光の照射により屈折率が小さくなる記録材料を用いることとする。記録層１４の材料としては、記録層１４に適度な厚みを持たせ、また、色素が光を吸収した結果発生した熱により屈折率を変化させるため、記録光を１光子吸収または多光子吸収する色素を含有する樹脂からなることが望ましい。このような色素を含有する樹脂としては、例えば、色素を高分子バインダーに分散させたものを用いることができる。高分子バインダーとしては、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などを用いることができる。また、本実施形態では、記録層１４の材料として、高分子バインダーの一部に光（紫外線）の照射により硬化する光硬化性樹脂（ＵＶ硬化樹脂）を含んでいる。
【００２２】
上記記録光を吸収する色素としては、例えば、ヒートモード型記録材料として従来用いられていた色素を用いることができる。例えば、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、アゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素）を用いることができる。また、多層の記録層を有する記録媒体において記録再生時における隣接記録層への影響を最小限にするためには、前記記録光を吸収する色素として、多光子吸収色素を用いることが望ましく、多光子吸収色素は、例えば、読出光の波長に線形吸収帯を持たない２光子吸収化合物であることが好ましい。
【００２３】
２光子吸収化合物としては、読出光の波長に線形吸収帯を持たないものであれば、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１）で表される構造を有する化合物が挙げられる。
【００２４】
【化１】
【００２５】
（一般式（１）中、ＸおよびＹはハメットのシグマパラ値（σｐ値）が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｎは１〜４の整数を表し、Ｒは置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｍは０〜４の整数を表す。）
【００２６】
一般式（１）中、ＸおよびＹはハメット式におけるσｐ値が正の値を取るもの、所謂電子吸引性の基を指し、好ましくは例えばトリフルオロメチル基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、などが挙げられ、より好ましくはトリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアルコキシカルボニル基であり、最も好ましくはシアノ基、ベンゾイル基である。これらの置換基のうち、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、およびアルコキシカルボニル基は、溶媒への溶解性の付与等の他、様々な目的で、更に置換基を有してもよく、置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。
【００２７】
ｎは１以上４以下の整数を表し、より好ましくは２または３であり、最も好ましくは２である。ｎが５以上になるほど、線形吸収が長波長側に出てくるようになり、７００ｎｍよりも短波長の領域の記録光を用いての非共鳴２光子吸収記録ができなくなる。
Ｒは置換基を表し、置換基としては、特に限定されず、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。ｍは０以上４以下の整数を表す。
【００２８】
一般式（１）で表される構造を有する化合物の具体例としては、特に限定されないが、下記の化学構造式Ｄ−１〜Ｄ−２１の化合物を使用することができる。
【００２９】
【化２】
【００３０】
記録層１４の厚さの上限は特に限定されないが、記録層１４の層数をなるべく多くするため、５μｍ以下であるのが望ましい。一例として、本実施形態では、記録層１４の厚さは１μｍである。記録層１４は、例えば、２〜１００層程度設けられる。光情報記録媒体１０の記憶容量を大きくするため、記録層１４は多い方が望ましく、例えば１０層以上であるのが望ましい。
【００３１】
中間層１５は、複数の記録層１４の間、言い換えると、各記録層１４の上下に隣接して設けられている。中間層１５は、複数の記録層１４の間で層間クロストーク（隣接する記録層１４間の信号の混じり合い）が生じないように、記録層１４同士の間隔を所定量空けるために設けられている。このため、中間層１５の厚さは、３μｍ以上であり、一例として、本実施形態では１０μｍである。
【００３２】
１つ（１層）の中間層１５は、第１中間層１５Ａと、当該第１中間層１５Ａの上側に隣接する第２中間層１５Ｂとを備えている。第１中間層１５Ａは、記録層１４に対し記録光の入射方向における一方側の一例である上側に隣接しており、第２中間層１５Ｂは、記録層１４に対し前記した一方側とは反対側の一例である下側に隣接している。
【００３３】
第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂは、記録時および再生時のレーザ光の照射により変化しない材料が用いられる。また、第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂは、記録光や読出光、再生光（読出光の照射により発生する光）の損失を最小限にするため、記録光や読出光、再生光に対し、透明な樹脂からなることが望ましい。ここでの透明とは、第１中間層１５Ａの吸収率と第２中間層１５Ｂの吸収率を合わせた吸収率が１％以下であることをいう。さらに、本実施形態では、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂは、記録層１４と同様に、その材料としてＵＶ硬化樹脂を含んでいる。
【００３４】
第１中間層１５Ａは、記録光などの照射側（図１における上）から見て記録層１４の上側（手前側）に隣接して設けられ、記録層１４の屈折率と異なる屈折率を有している。これにより、記録層１４と第１中間層１５Ａとの界面（前側界面１８）においては、屈折率の急変による読出光の反射が可能となっている。第１中間層１５Ａは、記録層１４と屈折率の差が適度に設けられているのがよい。具体的には、記録層１４の屈折率をｎ１、第１中間層１５Ａの屈折率をｎ２として、
０．００１＜（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２＜０．０４
を満たすのが望ましい。
【００３５】
（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２、つまり、反射率が０．００１より大きいことで、前側界面１８での反射光量を大きくして、情報の再生時に、Ｓ／Ｎ比を大きくすることができる。また、反射率が０．０４より小さいことで、前側界面１８での反射光量を適度な大きさに抑えて、記録時および再生時において記録再生光（本明細書において、記録光、読出光および再生光を指す。）が大きな減衰を受けることなく深い記録層１４に到達するのを可能にする。これにより、記録層１４を多数設けて高容量化を図ることが可能となる。
【００３６】
第１中間層１５Ａの屈折率ｎ２は、一例としては、１．６１である。記録層１４の屈折率ｎ１が１．４０であるとすると、（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２は、０．００４９であり、前記した不等式を満たす。
【００３７】
本実施形態において、第１中間層１５Ａは、記録層１４（硬化した後の記録層１４）よりも軟らかくなっている。具体的には、例えば、第１中間層１５Ａは、ガラス転位温度が記録層１４のガラス転位温度よりも低くなっている。このような構成は、記録層１４の材料として用いることができる高分子バインダー（樹脂）や、第１中間層１５Ａの材料として用いることができる樹脂などの軟らかさ（ガラス転位温度など）を適切に選択することにより実現することができる。
【００３８】
第２中間層１５Ｂは、記録光などの照射側から見て記録層１４の下側（奥側）に隣接して設けられ、記録層１４の屈折率と略同一である屈折率を有している。ここで、本発明において、記録層１４と第２中間層１５Ｂとの界面（奥側界面１９）での反射率は、前側界面１８での反射率よりも十分に小さいことが望ましい。奥側界面１９からの反射光と前側界面１８からの反射光が干渉すると、記録層１４の厚みの変化により再生出力が大きくなったり小さくなったりするが、このような再生出力の変動は、再生光の波長の数分の一以下という非常に小さな記録層１４の厚みの誤差を許容しないことを意味する。そして、実際の媒体においては、例えば、厚さ１μｍの記録層１４を、上記したような再生出力の変動を生じない精度に均一に製造することは非常に困難である。このような点からも、奥側界面１９での反射率を前側界面１８での反射率よりも十分に小さくすることは重要である。
【００３９】
以上より、本発明において、奥側界面１９での反射率は、前側界面１８での反射率の１／５以下であることが好ましく、１／１０以下であることがより好ましく、０であることが最も好ましい。そして、これを満たすために、記録層１４の屈折率と第２中間層１５Ｂの屈折率とは略同一であることが必要となる。具体的には、本明細書において屈折率が略同一とは、記録層１４の屈折率と第２中間層１５Ｂの屈折率との差が０．０５以下の場合をいい、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０１以下、最も好ましくは０の場合をいう。これにより、奥側界面１９においては、屈折率の急変による反射が起こらず、記録再生光を反射することなく透過させることができる。
【００４０】
記録層１４の屈折率と第２中間層１５Ｂの屈折率との差を小さくし、望ましくは０にするためには、記録層１４および第２中間層１５Ｂに用いる材料の配合を調整するとよい。具体的には、記録層１４の材料には、２光子吸収化合物などの色素が高分子バインダー中に混入されているので、色素または高分子バインダーの屈折率を適切に選択し、それぞれの配合比率を変更することによって屈折率を任意に調整することができる。また、高分子バインダーは、類似の基本構造を有していても重合度が異なると屈折率も変化するため、重合度が異なる高分子バインダーを用いたり、高分子バインダーの重合度を調整したりすることでも屈折率の調整が可能である。さらに、複数の高分子バインダーを配合することで調整することも可能である。また、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して屈折率を調整することも可能である。
【００４１】
第２中間層１５Ｂの屈折率を調整する場合、第２中間層１５Ｂの材料として用いることができる樹脂などのポリマー材料の重合度を調整することで、屈折率を調整することができる。また、中間層１５として使用可能な材料を任意に配合して屈折率を調整したり、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して調整したりすることも可能である。
【００４２】
本実施形態において、第２中間層１５Ｂは、記録層１４（硬化した後の記録層１４）と同等の硬さ、または、記録層１４よりも硬くなっている。具体的には、例えば、第２中間層１５Ｂは、ガラス転位温度が記録層１４のガラス転位温度以上となっている。このような構成は、記録層１４の材料として用いることができる樹脂や、第２中間層１５Ｂの材料として用いることができる樹脂などの軟らかさを適切に選択することにより実現することができる。
【００４３】
１つの中間層１５を構成する第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂとの界面（中間界面２０）は、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂが混じり合うことで徐々に屈折率が変化している。すなわち、中間界面２０では、界面が明確には形成されていない。これにより、中間界面２０においては、屈折率の急変による反射が起こらず、記録再生光を反射することなく透過させることができる。
【００４４】
カバー層１６は、記録層１４および中間層１５（第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂ）を保護するために設けられる層であり、記録再生光が透過可能な材料からなる。カバー層１６は、数十μｍ〜数ｍｍの適宜な厚さで設けられる。
【００４５】
次に、本実施形態の光情報記録媒体１０の製造方法について説明する。本実施形態の光情報記録媒体１０の製造方法は、予め中間層１５と記録層１４を個別に作製した後、これらを順に積層して、光情報記録媒体１０を製造する方法である。
【００４６】
図２（ａ）に示すように、中間層１５は、後述する中間層塗布工程などを経て、まず、支持シートの一例としての剥離用シートＳ上に形成される。
【００４７】
中間層１５の塗布工程では、例えば、図２（ｂ）に示すような、同時重層塗布装置３０が使用される。同時重層塗布装置３０は、搬送される剥離用シートＳの一方の面（下面）と対向するダイ３２を備えている。ダイ３２の内部には、ダイ３２の上端に設けられた開口に向けて中間層１５の材料を供給する第１スロット３３と第２スロット３４が形成されている。剥離用シートＳの搬送方向（図の矢印方向）において、第１スロット３３は上流側に形成され、第２スロット３４は下流側に形成されている。本実施形態において、第１スロット３３には、第２中間層１５Ｂの材料が供給され、第２スロット３４には、第１中間層１５Ａの材料が供給される。
【００４８】
図２（ａ）に示すように、ロール状に巻かれた剥離用シートＳは、引き出されて同時重層塗布装置３０（ダイ３２）上を搬送される。このとき、第１スロット３３から第２中間層１５Ｂの材料を、第２スロット３４から第１中間層１５Ａの材料を同時に供給して、剥離用シートＳの下面に第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料とを同時重層塗布する（中間層塗布工程）。これにより、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料は、界面付近で材料の拡散が起こり互いに混ざり合うこととなる。その結果、中間界面２０において、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂが混じり合うことで徐々に屈折率が変化する状態が形成されるので、中間界面２０での読出光の反射を抑えることが可能となる。
【００４９】
次いで、剥離用シートＳに塗布された第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料に対し、紫外線ランプ４０から紫外線（光）を照射することで、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料を同時に硬化させる（中間層硬化工程）。本実施形態においては、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料はＵＶ硬化樹脂を含むので、紫外線を照射することで、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料を簡単かつ迅速に硬化させることができる。
【００５０】
その後、必要に応じて、加熱装置５０で剥離用シートＳに形成された中間層１５を加熱することで、第１中間層１５Ａの材料や第２中間層１５Ｂの材料に含まれる溶剤を蒸発させたり、中間層１５を完全に硬化させたりする（中間層加熱工程）。そして、中間層１５が形成された剥離用シートＳ（中間層シートＳ１５）を巻き取ることで、中間層１５が形成される。本実施形態の中間層シートＳ１５は、剥離用シートＳの下にまず第２中間層１５Ｂが形成され、第２中間層１５Ｂの下に第１中間層１５Ａが形成されている（図２（ｂ）参照）。
【００５１】
記録層１４も、前記した中間層１５の場合と同様に、まず、剥離用シートＳ（支持シート）上に形成される。なお、図示は省略するが、記録層１４の塗布工程では、ダイの内部に１つのスロットが形成された塗布装置が使用される。
【００５２】
剥離用シートＳに記録層１４を形成する工程を図２（ａ）を参考にしながら簡単に説明すると、塗布装置上を搬送される剥離用シートＳに対し、スロットから記録層１４の材料を供給して、剥離用シートＳの下面に記録層１４の材料を層状に塗布する（記録層塗布工程）。
【００５３】
次いで、剥離用シートＳに塗布された記録層１４の材料に対し、紫外線ランプ４０から紫外線を照射することで、記録層１４の材料を硬化させる（記録層硬化工程）。本実施形態においては、記録層１４の材料もＵＶ硬化樹脂を含むので、紫外線を照射することで、記録層１４の材料を簡単かつ迅速に硬化させることができる。
【００５４】
その後、必要に応じて、加熱装置５０で剥離用シートＳに形成された記録層１４を加熱することで、記録層１４の材料に含まれる溶剤を蒸発させたり、記録層１４を完全に硬化させたりする（記録層加熱工程）。そして、記録層１４が形成された剥離用シートＳ（記録層シートＳ１４（図３（ａ）参照））を巻き取ることで、剥離用シートＳに記録層１４が形成される。
【００５５】
次に、図３（ａ）に示すように、基板１１の上にサーボ信号層１２と中間層１５を形成したワークを用意する。本実施形態においては、中間層１５の上面が、記録層１４を形成するための記録層形成面Ｆとなる。なお、中間層１５の具体的な形成方法については後述するので、ここでは詳細な説明を省略する。
【００５６】
そして、記録層形成面Ｆに対し、記録層１４を形成する（記録層形成工程）。具体的に、本実施形態の記録層形成工程では、まず、記録層形成面Ｆ（中間層１５）の上に、前記した記録層塗布工程で予め剥離用シートＳに形成した記録層１４（記録層シートＳ１４）を貼り付ける（積層する）。その後、図３（ｂ）に示すように、剥離用シートＳを剥離することにより、記録層形成面Ｆ上に記録層１４を形成することができる。
【００５７】
次いで、図４（ａ）に示すように、記録層形成工程で形成した記録層１４の上に、前記した中間層塗布工程で予め剥離用シートＳに形成した中間層１５を第１中間層１５Ａ側の面から貼り付け（積層し）、図４（ｂ）に示すように、剥離用シートＳを剥離することにより、記録層１４上に中間層１５を形成することができる（中間層積層工程）。当該工程において、屈折率が互いに異なる、記録層１４と第１中間層１５Ａとの界面（前側界面１８）は、はっきりとした界面となり、読出光を反射させることが可能となる。
【００５８】
この後、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返し行い、最後に、最も上側の中間層１５の上にカバー層１６を形成することで、図１に示すような、多層の光情報記録媒体１０を製造することができる。この過程において、記録層１４と第２中間層１５Ｂとの界面（奥側界面１９）は、はっきりとした界面となるが、記録層１４と第２中間層１５Ｂの屈折率は略同一なので、読出光の反射を抑えることが可能となる。
【００５９】
以上説明した光情報記録媒体１０の製造方法では、材料の同時重層塗布により、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂとの界面が混じり合って徐々に屈折率が変化する中間層１５を備えた光情報記録媒体１０を、比較的簡単にかつ安価に製造することができる。また、記録層１４や中間層１５を予め作製し、積層することで光情報記録媒体１０を製造できるので、ワークに直接材料を塗布した後、硬化させることで記録層や中間層を形成する従来の製造方法と比較して、光情報記録媒体１０を容易に製造することができる。
【００６０】
次に、本実施形態の光情報記録媒体１０に、情報を記録・再生する方法の一例について簡単に説明する。
所望の記録層１４に情報を記録するとき、その記録層１４に、記録すべき情報に応じて出力が変調されたレーザ光（記録光ＲＢ）を照射する。
【００６１】
そうすると、図５に模式的に示すように、色素が記録光ＲＢを吸収して発生する熱により記録層１４が膨張（変形）する。本実施形態では、第１中間層１５Ａが記録層１４よりも軟らかく、第２中間層１５Ｂが記録層１４と同等以上の硬さを有しているので、膨張した記録層１４は第１中間層１５Ａ（上側）に向かう凸形状（以下、記録スポットＭという。）を形成する（前側界面１８に凸形状が形成される）。
【００６２】
所望の記録層１４から情報を再生するとき、その記録層１４にＣＷレーザ光（読出光ＯＢ）を照射する。そうすると、図６に示すように、記録スポットＭに照射された読出光ＯＢは、凸形状の記録スポットＭで反射し、その大部分が、読出光ＯＢの進行方向（図６の上側）から見て記録スポットＭから拡散するように進行する。このため、記録スポットＭ（記録部分）での反射光の強度は小さくなる。
【００６３】
一方、図７に示すように、未記録部分、つまり、記録スポットＭ以外の位置に照射された読出光ＯＢは、平面状の前側界面１８で反射して、その大部分が、光検出器に戻ることとなる。このため、未記録部分での反射光の強度は、記録部分での反射光の強度よりも大きくなる。このように、本実施形態の光情報記録媒体１０においては、記録部分と未記録部分の前側界面１８における反射光強度（反射率）の違いが得られることで、情報を再生することが可能となっている。
【００６４】
従来の記録方式では、記録層の手前側の界面の反射と記録層の奥側の界面の反射の干渉効果を用いて情報の再生をしていたので、記録層の奥側の界面の反射が必須であったが、前記した本実施形態の再生方式においては、奥側界面１９の反射は必要ではない。むしろ、より深く（奥側）の記録層１４から情報を再生しようとするときには、奥側界面１９の反射はノイズとなるおそれがある。
【００６５】
そこで、本実施形態においては、第２中間層１５Ｂの屈折率を記録層１４の屈折率と略同一とすることで、奥側界面１９における記録再生光の反射をなくしている。また、本実施形態においては、第２中間層１５Ｂと、記録層１４と異なる屈折率を有する第１中間層１５Ａとの界面（中間界面２０）において第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂの屈折率を徐々に変化させることで、中間界面２０における記録再生光の反射もなくしている。
【００６６】
以上のような、本発明の製造方法により製造された光情報記録媒体１０によれば、再生光のＳ／Ｎ比を向上させることが可能となるので、良好な再生出力を得ることができる。また、前側界面１８の反射、奥側界面１９の反射および中間界面２０の反射を合わせた反射率を一定とする条件の下においては、奥側界面１９や中間界面２０での反射が起こる場合に比較して、前側界面１８の反射率を大きめに設定することが可能となるので、情報の再生時に高いＳ／Ｎ比を確保することができる。
【００６７】
また、光情報記録媒体１０によれば、奥側界面１９や中間界面２０での反射による記録再生光のロス（減衰）を小さくすることができる。これにより、より奥側の記録層１４に対して情報の記録・再生を行うことが可能となるので、より多層の光情報記録媒体１０を製造することが可能となる。また、手前側（カバー層１６に近い側）の記録層１４と、奥側（基板１１に近い側）の記録層１４との間の記録・再生条件の差を小さくすることができる。
【００６８】
さらに、光情報記録媒体１０によれば、干渉効果を用いずに、記録層１４に形成された記録スポットＭ（記録部分）と未記録部分の反射率の違いを利用して、再生出力の変調を得ることができるので、記録層１４の膜厚の精度はそれほど高く要求されず、製造コストを抑えることが可能となる。また、再生時には前側界面１８における読出光の反射を利用しているので、蛍光を利用する場合と比較して、高い再生出力を得ることができる。
【００６９】
以上に本発明の実施形態について説明したが、本発明は、前記した実施形態に限定されることなく適宜変形して実施することが可能である。
例えば、前記実施形態においては、予め作製した記録層１４（記録層シートＳ１４）を積層して剥離用シートＳを剥離することにより、記録層形成面に対して記録層１４を形成したが、これに限定されるものではない。例えば、記録層形成面に記録層の材料をスピンコートなどにより直接塗布した後、硬化することで、記録層形成面に対して記録層を形成してもよい。
【００７０】
また、前記実施形態においては、記録層１４の材料、第１中間層１５Ａの材料および第２中間層１５Ｂの材料は、ＵＶ硬化樹脂（光硬化性樹脂）を含んでいたが、これに限定されず、光硬化性樹脂を含まないものであってもよい。この場合、材料の硬化は、加熱により材料を乾燥させることなどで行うことができる。なお、本発明において、中間層硬化工程や記録層硬化工程の実施は任意であり、各層の材料の特性などによって適宜省略することができる。
【００７１】
また、前記実施形態においては、第１中間層１５Ａが記録層１４に対し上側（手前側）に隣接し、第２中間層１５Ｂが記録層１４に対し下側（奥側）に隣接することで、前側界面１８で読出光の反射を可能とし、奥側界面１９で読出光の反射を抑制する光情報記録媒体１０を例示したが、これに限定されるものではない。すなわち、光情報記録媒体は、第１中間層が記録層に対し下側（奥側）に隣接し、第２中間層が記録層に対し上側（手前側）に隣接することで、奥側界面（記録層と第１中間層との界面）で読出光の反射を可能とし、前側界面（記録層と第２中間層との界面）で読出光の反射を抑制する構成としてもよい。
【００７２】
このような光情報記録媒体を製造するには、中間層塗布工程（図２（ｂ）参照）において、前記実施形態の場合とは逆に、第１スロット３３から第１中間層の材料を、第２スロット３４から第２中間層の材料を同時に供給すればよい。これによれば、支持シートに形成される中間層は、図２（ｂ）の上下を基準にして、支持シート（剥離用シートＳ）の下にまず第１中間層が形成され、第１中間層の下に第２中間層が形成されることとなる。そして、中間層積層工程において、記録層の上に、中間層を第２中間層側の面から積層して支持シートを剥離することにより、第２中間層が記録層に対し上側に隣接することとなる。その後、記録層形成工程を実行することで、第１中間層の上に記録層が形成されるので、第１中間層が記録層に対し下側に隣接することとなる。
【００７３】
また、前記実施形態においては、第１中間層１５Ａが記録層１４よりも軟らかく、第２中間層１５Ｂが記録層１４と同等以上の硬さを有していたが、これに限定されず、第１中間層と第２中間層の両方（中間層）が記録層よりも軟らかくなっていてもよい。この場合、前記実施形態で説明した記録方法において、記録スポット（凸形状）は、第１中間層側と第２中間層側の両側に向けて形成される（前側界面および奥側界面の両方に形成される）。ちなみに、記録層よりも軟らかい第１中間層が、記録層に対し下側に隣接し、記録層と同等以上の硬さを有する第２中間層が、記録層に対し上側に隣接する光情報記録媒体では、凸形状は、下側（第１中間層）に向けて形成される（奥側界面に形成される）。
【００７４】
また、前記実施形態においては、サーボ信号層１２上に設けられた中間層１５の上に最も下側の記録層１４（図３で示す記録層１４）を形成したが、これに限定されるものではない。例えば、サーボ信号層１２の表面を記録層形成面とし、サーボ信号層１２の上に記録層１４を形成してもよい。この場合、前記実施形態の光情報記録媒体１０では、サーボ信号層１２と記録層１４が略同一の屈折率を有するようにするとよい。また、第１中間層が記録層に対し下側に隣接し、第２中間層が記録層に対し上側に隣接する光情報記録媒体では、サーボ信号層１２と記録層１４が異なる屈折率を有するようにするとよい。
【００７５】
また、前記実施形態においては、中間層１５の上にカバー層１６を形成したが、これに限定されず、記録層１４の上にカバー層１６を形成してもよい。
【符号の説明】
【００７６】
１０ 光情報記録媒体
１１ 基板
１４ 記録層
１５ 中間層
１５Ａ 第１中間層
１５Ｂ 第２中間層
１６ カバー層
１８ 前側界面
１９ 奥側界面
２０ 中間界面
３０ 同時重層塗布装置
Ｆ 記録層形成面
ＲＢ 記録光
Ｓ 剥離用シート
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光情報記録媒体に多層に情報を記録するため、２光子吸収などの多光子吸収反応を用いて光情報記録媒体中の記録材料に光学的変化を起こさせる方法が研究されている（例えば、特許文献１）。多光子吸収反応を用いた光情報記録媒体は、従来から広く用いられている単層の光情報記録媒体と同様に、情報の再生時に記録層の上下の両界面で反射した反射光同士が干渉すること（干渉効果という）を考慮し、記録部分と未記録部分の反射率（記録層の上下の両界面での反射光同士が干渉後、光ピックアップへ戻ってくる光の割合）の差が大きくなるように、記録部分の記録材料の屈折率変化と記録層の厚さが設定されている。特許文献１の情報記録媒体においても、同文献の図２に示すように膜厚と反射率の関係が考慮され、再生光波長をλ、記録層の屈折率をｎとして、記録層厚さをλ／４ｎ程度や、より薄い５〜５０ｎｍ程度にするとよいとされている（段落００６２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４２９０６５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１のように、再生時に記録層の両界面での反射光の干渉効果を利用する場合、記録層が設計値通りの膜厚に製造されないと良好な変調度が得られないので、膜厚の精度が要求され、光情報記録媒体の製造コストが嵩むという問題がある。
【０００５】
そこで、本願発明者等は、記録層の上下いずれか一方の界面における、記録部分と未記録部分の反射率の違いを利用して情報の再生を行う方法や、そのような再生を可能とする情報の記録方法を提案している。この方法によれば、記録層の膜厚に関して高い精度が要求されず、かつ、良好な再生出力を得ることができる。
【０００６】
一方、提案中の方法においては、記録層の上下他方の界面での反射がノイズとなる可能性があるので、本願出願人は、記録層との上下いずれか一方の界面でのみ反射を可能とする中間層を備えた光情報記録媒体についてすでに出願を行っている。具体的に、該当する出願において、中間層は、記録層に対し記録光が入射される側とは反対側で隣接して屈折率が記録層の屈折率と異なる第１中間層と、記録層に対し記録光が入射される側で隣接して屈折率が記録層の屈折率と略同一である第２中間層とを備え、第１中間層と第２中間層との界面が第１中間層と第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している。このような中間層によれば、記録層と第１中間層との界面では反射を可能とする一方、記録層と第２中間層との界面や、第１中間層と第２中間層との界面においては反射を抑制することができる。
【０００７】
本発明は、前記したような中間層、すなわち、第１中間層と第２中間層との界面が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している中間層を備えた光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した目的を達成するため、本発明は、複数の記録層と、前記記録層に対し記録光の入射方向における一方側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と異なる第１中間層と、前記記録層に対し前記一方側とは反対側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と略同一である第２中間層とを有し、前記第１中間層と前記第２中間層の界面が前記第１中間層と前記第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している、前記複数の記録層の間に設けられた中間層と、を備えた光情報記録媒体の製造方法であって、支持シートに第１中間層の材料と第２中間層の材料とを同時重層塗布する中間層塗布工程と、記録層形成面に対し、記録層を形成する記録層形成工程と、前記記録層形成工程で形成した記録層の上に、前記中間層塗布工程で支持シートに形成した中間層を積層して支持シートを剥離する中間層積層工程と、を有し、前記記録層形成工程と前記中間層積層工程とを繰り返し行うことを特徴とする。
【０００９】
本発明により製造される光情報記録媒体では、記録された情報を再生するときに、記録層と第１中間層との界面においては読出光（再生時に照射する光）が反射するが、記録層と第２中間層との界面や、第１中間層と第２中間層との界面においては読出光が反射しない。このため、記録層と第２中間層との界面や、第１中間層と第２中間層との界面における反射が、記録層と第１中間層との界面による反射光の検出を阻害しないので、高いＳ／Ｎ比で情報を読み取ることが可能となる。
【００１０】
そして、本発明の光情報記録媒体の製造方法によれば、中間層塗布工程において、第１中間層の材料と第２中間層の材料とを同時重層塗布するので、第１中間層の材料と第２中間層の材料は、界面付近で材料の拡散が起こり互いに混ざり合うこととなる。これにより、第１中間層と第２中間層との界面において、第１中間層と第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化する状態を形成することができるので、第２中間層と第１中間層との界面における反射を抑えることができる。また、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返すことで、屈折率が互いに異なる、記録層と第１中間層との界面は、はっきりとした界面となり、読出光を反射させることができる。一方、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返すことで、記録層と第２中間層との界面も、はっきりとした界面となるが、記録層と第２中間層の屈折率は略同一なので読出光の反射を抑えることができる。
【００１１】
前記した光情報記録媒体の製造方法は、支持シートに記録層の材料を塗布する記録層塗布工程を有し、前記記録層形成工程は、記録層形成面の上に、前記記録層塗布工程で支持シートに形成した記録層を積層して支持シートを剥離することにより行うことができる。
【００１２】
これによれば、記録層も、中間層と同様に、積層するだけで形成することができるので、予め記録層を作製しておくことで、例えば、記録層形成面に直接記録層の材料を塗布して硬化した後、中間層を積層するという工程を繰り返す場合と比較して、光情報記録媒体を容易に製造することができる。
【００１３】
前記した光情報記録媒体の製造方法は、前記中間層塗布工程と前記中間層積層工程の間に、第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させる中間層硬化工程を有していてもよい。また、前記記録層塗布工程と前記記録層形成工程の間に、記録層の材料を硬化させる記録層硬化工程を有していてもよい。
【００１４】
中間層硬化工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、第１中間層の材料と第２中間層の材料は、光硬化性樹脂を含み、前記中間層硬化工程は、光を照射することで第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させることができる。同様に、記録層硬化工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、記録層の材料は、光硬化性樹脂を含み、前記記録層硬化工程は、光を照射することで記録層の材料を硬化させることができる。
【００１５】
これによれば、光を照射することで、第１中間層の材料や第２中間層の材料、記録層の材料を簡単かつ迅速に硬化させることができるので、中間層や記録層を容易かつ迅速に製造することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、第１中間層と第２中間層との界面が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している中間層を備えた光情報記録媒体を比較的簡単にかつ安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】多層光情報記録媒体の断面図である。
【図２】中間層の形成工程を説明する図（ａ）と、同時重層塗布工程を説明する図（ｂ）である。
【図３】記録層形成工程を説明する図（ａ），（ｂ）である。
【図４】中間層積層工程を説明する図（ａ），（ｂ）である。
【図５】記録スポットの形成を説明する図である。
【図６】記録スポットにおける読出光の反射を説明する図である。
【図７】未記録部分における読出光の反射を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
次に、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図１に示すように、光情報記録媒体１０は、基板１１と、サーボ信号層１２と、複数の記録層１４と、複数の中間層１５（粘着層）と、カバー層１６とを備えてなる。なお、本実施形態においては、記録層１４と第１中間層１５Ａとの界面を「前側界面１８」といい、記録層１４と第２中間層１５Ｂとの界面を「奥側界面１９」という。また、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂとの界面を「中間界面２０」という。）
【００１９】
基板１１は、記録層１４などを支持するための支持体であり、一例としてポリカーボネートの円板などからなる。基板１１の材質や厚さは特に限定されない。
【００２０】
サーボ信号層１２は、記録層１４および中間層１５を基板１１に保持させるための粘着性または接着性の樹脂材料からなり、基板１１側の面に予め凹凸または屈折率の変化によりサーボ信号が記録された層である。ここでのサーボ信号は、記録時および再生時のフォーカスの基準面であることを記録再生装置が認識できるように予め設定された信号である。所定の記録層１４に焦点を合わせる場合には、この基準面からの距離や、界面の数を考慮して焦点を制御する。また、記録時および再生時に円周方向に並んだ記録スポットのトラックに正確にレーザ光を照射できるようにトラッキング用のサーボ信号または溝を設けておくとよい。なお、サーボ信号層１２の有無は任意である。
【００２１】
記録層１４は、情報が光学的に記録される感光材料からなる層であり、本実施形態においては、記録光（記録用の照射光）の照射により屈折率が変化するものを用いる。屈折率の変化は、記録光の照射により、屈折率が小さい状態から大きい状態になるのでもよいし、逆に大きい状態から小さい状態になるのでもよい。ここでは、記録層１４は、一例として、記録光の照射により屈折率が小さくなる記録材料を用いることとする。記録層１４の材料としては、記録層１４に適度な厚みを持たせ、また、色素が光を吸収した結果発生した熱により屈折率を変化させるため、記録光を１光子吸収または多光子吸収する色素を含有する樹脂からなることが望ましい。このような色素を含有する樹脂としては、例えば、色素を高分子バインダーに分散させたものを用いることができる。高分子バインダーとしては、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などを用いることができる。また、本実施形態では、記録層１４の材料として、高分子バインダーの一部に光（紫外線）の照射により硬化する光硬化性樹脂（ＵＶ硬化樹脂）を含んでいる。
【００２２】
上記記録光を吸収する色素としては、例えば、ヒートモード型記録材料として従来用いられていた色素を用いることができる。例えば、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、アゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素）を用いることができる。また、多層の記録層を有する記録媒体において記録再生時における隣接記録層への影響を最小限にするためには、前記記録光を吸収する色素として、多光子吸収色素を用いることが望ましく、多光子吸収色素は、例えば、読出光の波長に線形吸収帯を持たない２光子吸収化合物であることが好ましい。
【００２３】
２光子吸収化合物としては、読出光の波長に線形吸収帯を持たないものであれば、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１）で表される構造を有する化合物が挙げられる。
【００２４】
【化１】
【００２５】
（一般式（１）中、ＸおよびＹはハメットのシグマパラ値（σｐ値）が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｎは１〜４の整数を表し、Ｒは置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｍは０〜４の整数を表す。）
【００２６】
一般式（１）中、ＸおよびＹはハメット式におけるσｐ値が正の値を取るもの、所謂電子吸引性の基を指し、好ましくは例えばトリフルオロメチル基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、などが挙げられ、より好ましくはトリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアルコキシカルボニル基であり、最も好ましくはシアノ基、ベンゾイル基である。これらの置換基のうち、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、およびアルコキシカルボニル基は、溶媒への溶解性の付与等の他、様々な目的で、更に置換基を有してもよく、置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。
【００２７】
ｎは１以上４以下の整数を表し、より好ましくは２または３であり、最も好ましくは２である。ｎが５以上になるほど、線形吸収が長波長側に出てくるようになり、７００ｎｍよりも短波長の領域の記録光を用いての非共鳴２光子吸収記録ができなくなる。
Ｒは置換基を表し、置換基としては、特に限定されず、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。ｍは０以上４以下の整数を表す。
【００２８】
一般式（１）で表される構造を有する化合物の具体例としては、特に限定されないが、下記の化学構造式Ｄ−１〜Ｄ−２１の化合物を使用することができる。
【００２９】
【化２】
【００３０】
記録層１４の厚さの上限は特に限定されないが、記録層１４の層数をなるべく多くするため、５μｍ以下であるのが望ましい。一例として、本実施形態では、記録層１４の厚さは１μｍである。記録層１４は、例えば、２〜１００層程度設けられる。光情報記録媒体１０の記憶容量を大きくするため、記録層１４は多い方が望ましく、例えば１０層以上であるのが望ましい。
【００３１】
中間層１５は、複数の記録層１４の間、言い換えると、各記録層１４の上下に隣接して設けられている。中間層１５は、複数の記録層１４の間で層間クロストーク（隣接する記録層１４間の信号の混じり合い）が生じないように、記録層１４同士の間隔を所定量空けるために設けられている。このため、中間層１５の厚さは、３μｍ以上であり、一例として、本実施形態では１０μｍである。
【００３２】
１つ（１層）の中間層１５は、第１中間層１５Ａと、当該第１中間層１５Ａの上側に隣接する第２中間層１５Ｂとを備えている。第１中間層１５Ａは、記録層１４に対し記録光の入射方向における一方側の一例である上側に隣接しており、第２中間層１５Ｂは、記録層１４に対し前記した一方側とは反対側の一例である下側に隣接している。
【００３３】
第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂは、記録時および再生時のレーザ光の照射により変化しない材料が用いられる。また、第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂは、記録光や読出光、再生光（読出光の照射により発生する光）の損失を最小限にするため、記録光や読出光、再生光に対し、透明な樹脂からなることが望ましい。ここでの透明とは、第１中間層１５Ａの吸収率と第２中間層１５Ｂの吸収率を合わせた吸収率が１％以下であることをいう。さらに、本実施形態では、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂは、記録層１４と同様に、その材料としてＵＶ硬化樹脂を含んでいる。
【００３４】
第１中間層１５Ａは、記録光などの照射側（図１における上）から見て記録層１４の上側（手前側）に隣接して設けられ、記録層１４の屈折率と異なる屈折率を有している。これにより、記録層１４と第１中間層１５Ａとの界面（前側界面１８）においては、屈折率の急変による読出光の反射が可能となっている。第１中間層１５Ａは、記録層１４と屈折率の差が適度に設けられているのがよい。具体的には、記録層１４の屈折率をｎ１、第１中間層１５Ａの屈折率をｎ２として、
０．００１＜（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２＜０．０４
を満たすのが望ましい。
【００３５】
（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２、つまり、反射率が０．００１より大きいことで、前側界面１８での反射光量を大きくして、情報の再生時に、Ｓ／Ｎ比を大きくすることができる。また、反射率が０．０４より小さいことで、前側界面１８での反射光量を適度な大きさに抑えて、記録時および再生時において記録再生光（本明細書において、記録光、読出光および再生光を指す。）が大きな減衰を受けることなく深い記録層１４に到達するのを可能にする。これにより、記録層１４を多数設けて高容量化を図ることが可能となる。
【００３６】
第１中間層１５Ａの屈折率ｎ２は、一例としては、１．６１である。記録層１４の屈折率ｎ１が１．４０であるとすると、（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２は、０．００４９であり、前記した不等式を満たす。
【００３７】
本実施形態において、第１中間層１５Ａは、記録層１４（硬化した後の記録層１４）よりも軟らかくなっている。具体的には、例えば、第１中間層１５Ａは、ガラス転位温度が記録層１４のガラス転位温度よりも低くなっている。このような構成は、記録層１４の材料として用いることができる高分子バインダー（樹脂）や、第１中間層１５Ａの材料として用いることができる樹脂などの軟らかさ（ガラス転位温度など）を適切に選択することにより実現することができる。
【００３８】
第２中間層１５Ｂは、記録光などの照射側から見て記録層１４の下側（奥側）に隣接して設けられ、記録層１４の屈折率と略同一である屈折率を有している。ここで、本発明において、記録層１４と第２中間層１５Ｂとの界面（奥側界面１９）での反射率は、前側界面１８での反射率よりも十分に小さいことが望ましい。奥側界面１９からの反射光と前側界面１８からの反射光が干渉すると、記録層１４の厚みの変化により再生出力が大きくなったり小さくなったりするが、このような再生出力の変動は、再生光の波長の数分の一以下という非常に小さな記録層１４の厚みの誤差を許容しないことを意味する。そして、実際の媒体においては、例えば、厚さ１μｍの記録層１４を、上記したような再生出力の変動を生じない精度に均一に製造することは非常に困難である。このような点からも、奥側界面１９での反射率を前側界面１８での反射率よりも十分に小さくすることは重要である。
【００３９】
以上より、本発明において、奥側界面１９での反射率は、前側界面１８での反射率の１／５以下であることが好ましく、１／１０以下であることがより好ましく、０であることが最も好ましい。そして、これを満たすために、記録層１４の屈折率と第２中間層１５Ｂの屈折率とは略同一であることが必要となる。具体的には、本明細書において屈折率が略同一とは、記録層１４の屈折率と第２中間層１５Ｂの屈折率との差が０．０５以下の場合をいい、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０１以下、最も好ましくは０の場合をいう。これにより、奥側界面１９においては、屈折率の急変による反射が起こらず、記録再生光を反射することなく透過させることができる。
【００４０】
記録層１４の屈折率と第２中間層１５Ｂの屈折率との差を小さくし、望ましくは０にするためには、記録層１４および第２中間層１５Ｂに用いる材料の配合を調整するとよい。具体的には、記録層１４の材料には、２光子吸収化合物などの色素が高分子バインダー中に混入されているので、色素または高分子バインダーの屈折率を適切に選択し、それぞれの配合比率を変更することによって屈折率を任意に調整することができる。また、高分子バインダーは、類似の基本構造を有していても重合度が異なると屈折率も変化するため、重合度が異なる高分子バインダーを用いたり、高分子バインダーの重合度を調整したりすることでも屈折率の調整が可能である。さらに、複数の高分子バインダーを配合することで調整することも可能である。また、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して屈折率を調整することも可能である。
【００４１】
第２中間層１５Ｂの屈折率を調整する場合、第２中間層１５Ｂの材料として用いることができる樹脂などのポリマー材料の重合度を調整することで、屈折率を調整することができる。また、中間層１５として使用可能な材料を任意に配合して屈折率を調整したり、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して調整したりすることも可能である。
【００４２】
本実施形態において、第２中間層１５Ｂは、記録層１４（硬化した後の記録層１４）と同等の硬さ、または、記録層１４よりも硬くなっている。具体的には、例えば、第２中間層１５Ｂは、ガラス転位温度が記録層１４のガラス転位温度以上となっている。このような構成は、記録層１４の材料として用いることができる樹脂や、第２中間層１５Ｂの材料として用いることができる樹脂などの軟らかさを適切に選択することにより実現することができる。
【００４３】
１つの中間層１５を構成する第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂとの界面（中間界面２０）は、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂが混じり合うことで徐々に屈折率が変化している。すなわち、中間界面２０では、界面が明確には形成されていない。これにより、中間界面２０においては、屈折率の急変による反射が起こらず、記録再生光を反射することなく透過させることができる。
【００４４】
カバー層１６は、記録層１４および中間層１５（第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂ）を保護するために設けられる層であり、記録再生光が透過可能な材料からなる。カバー層１６は、数十μｍ〜数ｍｍの適宜な厚さで設けられる。
【００４５】
次に、本実施形態の光情報記録媒体１０の製造方法について説明する。本実施形態の光情報記録媒体１０の製造方法は、予め中間層１５と記録層１４を個別に作製した後、これらを順に積層して、光情報記録媒体１０を製造する方法である。
【００４６】
図２（ａ）に示すように、中間層１５は、後述する中間層塗布工程などを経て、まず、支持シートの一例としての剥離用シートＳ上に形成される。
【００４７】
中間層１５の塗布工程では、例えば、図２（ｂ）に示すような、同時重層塗布装置３０が使用される。同時重層塗布装置３０は、搬送される剥離用シートＳの一方の面（下面）と対向するダイ３２を備えている。ダイ３２の内部には、ダイ３２の上端に設けられた開口に向けて中間層１５の材料を供給する第１スロット３３と第２スロット３４が形成されている。剥離用シートＳの搬送方向（図の矢印方向）において、第１スロット３３は上流側に形成され、第２スロット３４は下流側に形成されている。本実施形態において、第１スロット３３には、第２中間層１５Ｂの材料が供給され、第２スロット３４には、第１中間層１５Ａの材料が供給される。
【００４８】
図２（ａ）に示すように、ロール状に巻かれた剥離用シートＳは、引き出されて同時重層塗布装置３０（ダイ３２）上を搬送される。このとき、第１スロット３３から第２中間層１５Ｂの材料を、第２スロット３４から第１中間層１５Ａの材料を同時に供給して、剥離用シートＳの下面に第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料とを同時重層塗布する（中間層塗布工程）。これにより、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料は、界面付近で材料の拡散が起こり互いに混ざり合うこととなる。その結果、中間界面２０において、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂが混じり合うことで徐々に屈折率が変化する状態が形成されるので、中間界面２０での読出光の反射を抑えることが可能となる。
【００４９】
次いで、剥離用シートＳに塗布された第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料に対し、紫外線ランプ４０から紫外線（光）を照射することで、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料を同時に硬化させる（中間層硬化工程）。本実施形態においては、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料はＵＶ硬化樹脂を含むので、紫外線を照射することで、第１中間層１５Ａの材料と第２中間層１５Ｂの材料を簡単かつ迅速に硬化させることができる。
【００５０】
その後、必要に応じて、加熱装置５０で剥離用シートＳに形成された中間層１５を加熱することで、第１中間層１５Ａの材料や第２中間層１５Ｂの材料に含まれる溶剤を蒸発させたり、中間層１５を完全に硬化させたりする（中間層加熱工程）。そして、中間層１５が形成された剥離用シートＳ（中間層シートＳ１５）を巻き取ることで、中間層１５が形成される。本実施形態の中間層シートＳ１５は、剥離用シートＳの下にまず第２中間層１５Ｂが形成され、第２中間層１５Ｂの下に第１中間層１５Ａが形成されている（図２（ｂ）参照）。
【００５１】
記録層１４も、前記した中間層１５の場合と同様に、まず、剥離用シートＳ（支持シート）上に形成される。なお、図示は省略するが、記録層１４の塗布工程では、ダイの内部に１つのスロットが形成された塗布装置が使用される。
【００５２】
剥離用シートＳに記録層１４を形成する工程を図２（ａ）を参考にしながら簡単に説明すると、塗布装置上を搬送される剥離用シートＳに対し、スロットから記録層１４の材料を供給して、剥離用シートＳの下面に記録層１４の材料を層状に塗布する（記録層塗布工程）。
【００５３】
次いで、剥離用シートＳに塗布された記録層１４の材料に対し、紫外線ランプ４０から紫外線を照射することで、記録層１４の材料を硬化させる（記録層硬化工程）。本実施形態においては、記録層１４の材料もＵＶ硬化樹脂を含むので、紫外線を照射することで、記録層１４の材料を簡単かつ迅速に硬化させることができる。
【００５４】
その後、必要に応じて、加熱装置５０で剥離用シートＳに形成された記録層１４を加熱することで、記録層１４の材料に含まれる溶剤を蒸発させたり、記録層１４を完全に硬化させたりする（記録層加熱工程）。そして、記録層１４が形成された剥離用シートＳ（記録層シートＳ１４（図３（ａ）参照））を巻き取ることで、剥離用シートＳに記録層１４が形成される。
【００５５】
次に、図３（ａ）に示すように、基板１１の上にサーボ信号層１２と中間層１５を形成したワークを用意する。本実施形態においては、中間層１５の上面が、記録層１４を形成するための記録層形成面Ｆとなる。なお、中間層１５の具体的な形成方法については後述するので、ここでは詳細な説明を省略する。
【００５６】
そして、記録層形成面Ｆに対し、記録層１４を形成する（記録層形成工程）。具体的に、本実施形態の記録層形成工程では、まず、記録層形成面Ｆ（中間層１５）の上に、前記した記録層塗布工程で予め剥離用シートＳに形成した記録層１４（記録層シートＳ１４）を貼り付ける（積層する）。その後、図３（ｂ）に示すように、剥離用シートＳを剥離することにより、記録層形成面Ｆ上に記録層１４を形成することができる。
【００５７】
次いで、図４（ａ）に示すように、記録層形成工程で形成した記録層１４の上に、前記した中間層塗布工程で予め剥離用シートＳに形成した中間層１５を第１中間層１５Ａ側の面から貼り付け（積層し）、図４（ｂ）に示すように、剥離用シートＳを剥離することにより、記録層１４上に中間層１５を形成することができる（中間層積層工程）。当該工程において、屈折率が互いに異なる、記録層１４と第１中間層１５Ａとの界面（前側界面１８）は、はっきりとした界面となり、読出光を反射させることが可能となる。
【００５８】
この後、記録層形成工程と中間層積層工程とを繰り返し行い、最後に、最も上側の中間層１５の上にカバー層１６を形成することで、図１に示すような、多層の光情報記録媒体１０を製造することができる。この過程において、記録層１４と第２中間層１５Ｂとの界面（奥側界面１９）は、はっきりとした界面となるが、記録層１４と第２中間層１５Ｂの屈折率は略同一なので、読出光の反射を抑えることが可能となる。
【００５９】
以上説明した光情報記録媒体１０の製造方法では、材料の同時重層塗布により、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂとの界面が混じり合って徐々に屈折率が変化する中間層１５を備えた光情報記録媒体１０を、比較的簡単にかつ安価に製造することができる。また、記録層１４や中間層１５を予め作製し、積層することで光情報記録媒体１０を製造できるので、ワークに直接材料を塗布した後、硬化させることで記録層や中間層を形成する従来の製造方法と比較して、光情報記録媒体１０を容易に製造することができる。
【００６０】
次に、本実施形態の光情報記録媒体１０に、情報を記録・再生する方法の一例について簡単に説明する。
所望の記録層１４に情報を記録するとき、その記録層１４に、記録すべき情報に応じて出力が変調されたレーザ光（記録光ＲＢ）を照射する。
【００６１】
そうすると、図５に模式的に示すように、色素が記録光ＲＢを吸収して発生する熱により記録層１４が膨張（変形）する。本実施形態では、第１中間層１５Ａが記録層１４よりも軟らかく、第２中間層１５Ｂが記録層１４と同等以上の硬さを有しているので、膨張した記録層１４は第１中間層１５Ａ（上側）に向かう凸形状（以下、記録スポットＭという。）を形成する（前側界面１８に凸形状が形成される）。
【００６２】
所望の記録層１４から情報を再生するとき、その記録層１４にＣＷレーザ光（読出光ＯＢ）を照射する。そうすると、図６に示すように、記録スポットＭに照射された読出光ＯＢは、凸形状の記録スポットＭで反射し、その大部分が、読出光ＯＢの進行方向（図６の上側）から見て記録スポットＭから拡散するように進行する。このため、記録スポットＭ（記録部分）での反射光の強度は小さくなる。
【００６３】
一方、図７に示すように、未記録部分、つまり、記録スポットＭ以外の位置に照射された読出光ＯＢは、平面状の前側界面１８で反射して、その大部分が、光検出器に戻ることとなる。このため、未記録部分での反射光の強度は、記録部分での反射光の強度よりも大きくなる。このように、本実施形態の光情報記録媒体１０においては、記録部分と未記録部分の前側界面１８における反射光強度（反射率）の違いが得られることで、情報を再生することが可能となっている。
【００６４】
従来の記録方式では、記録層の手前側の界面の反射と記録層の奥側の界面の反射の干渉効果を用いて情報の再生をしていたので、記録層の奥側の界面の反射が必須であったが、前記した本実施形態の再生方式においては、奥側界面１９の反射は必要ではない。むしろ、より深く（奥側）の記録層１４から情報を再生しようとするときには、奥側界面１９の反射はノイズとなるおそれがある。
【００６５】
そこで、本実施形態においては、第２中間層１５Ｂの屈折率を記録層１４の屈折率と略同一とすることで、奥側界面１９における記録再生光の反射をなくしている。また、本実施形態においては、第２中間層１５Ｂと、記録層１４と異なる屈折率を有する第１中間層１５Ａとの界面（中間界面２０）において第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂの屈折率を徐々に変化させることで、中間界面２０における記録再生光の反射もなくしている。
【００６６】
以上のような、本発明の製造方法により製造された光情報記録媒体１０によれば、再生光のＳ／Ｎ比を向上させることが可能となるので、良好な再生出力を得ることができる。また、前側界面１８の反射、奥側界面１９の反射および中間界面２０の反射を合わせた反射率を一定とする条件の下においては、奥側界面１９や中間界面２０での反射が起こる場合に比較して、前側界面１８の反射率を大きめに設定することが可能となるので、情報の再生時に高いＳ／Ｎ比を確保することができる。
【００６７】
また、光情報記録媒体１０によれば、奥側界面１９や中間界面２０での反射による記録再生光のロス（減衰）を小さくすることができる。これにより、より奥側の記録層１４に対して情報の記録・再生を行うことが可能となるので、より多層の光情報記録媒体１０を製造することが可能となる。また、手前側（カバー層１６に近い側）の記録層１４と、奥側（基板１１に近い側）の記録層１４との間の記録・再生条件の差を小さくすることができる。
【００６８】
さらに、光情報記録媒体１０によれば、干渉効果を用いずに、記録層１４に形成された記録スポットＭ（記録部分）と未記録部分の反射率の違いを利用して、再生出力の変調を得ることができるので、記録層１４の膜厚の精度はそれほど高く要求されず、製造コストを抑えることが可能となる。また、再生時には前側界面１８における読出光の反射を利用しているので、蛍光を利用する場合と比較して、高い再生出力を得ることができる。
【００６９】
以上に本発明の実施形態について説明したが、本発明は、前記した実施形態に限定されることなく適宜変形して実施することが可能である。
例えば、前記実施形態においては、予め作製した記録層１４（記録層シートＳ１４）を積層して剥離用シートＳを剥離することにより、記録層形成面に対して記録層１４を形成したが、これに限定されるものではない。例えば、記録層形成面に記録層の材料をスピンコートなどにより直接塗布した後、硬化することで、記録層形成面に対して記録層を形成してもよい。
【００７０】
また、前記実施形態においては、記録層１４の材料、第１中間層１５Ａの材料および第２中間層１５Ｂの材料は、ＵＶ硬化樹脂（光硬化性樹脂）を含んでいたが、これに限定されず、光硬化性樹脂を含まないものであってもよい。この場合、材料の硬化は、加熱により材料を乾燥させることなどで行うことができる。なお、本発明において、中間層硬化工程や記録層硬化工程の実施は任意であり、各層の材料の特性などによって適宜省略することができる。
【００７１】
また、前記実施形態においては、第１中間層１５Ａが記録層１４に対し上側（手前側）に隣接し、第２中間層１５Ｂが記録層１４に対し下側（奥側）に隣接することで、前側界面１８で読出光の反射を可能とし、奥側界面１９で読出光の反射を抑制する光情報記録媒体１０を例示したが、これに限定されるものではない。すなわち、光情報記録媒体は、第１中間層が記録層に対し下側（奥側）に隣接し、第２中間層が記録層に対し上側（手前側）に隣接することで、奥側界面（記録層と第１中間層との界面）で読出光の反射を可能とし、前側界面（記録層と第２中間層との界面）で読出光の反射を抑制する構成としてもよい。
【００７２】
このような光情報記録媒体を製造するには、中間層塗布工程（図２（ｂ）参照）において、前記実施形態の場合とは逆に、第１スロット３３から第１中間層の材料を、第２スロット３４から第２中間層の材料を同時に供給すればよい。これによれば、支持シートに形成される中間層は、図２（ｂ）の上下を基準にして、支持シート（剥離用シートＳ）の下にまず第１中間層が形成され、第１中間層の下に第２中間層が形成されることとなる。そして、中間層積層工程において、記録層の上に、中間層を第２中間層側の面から積層して支持シートを剥離することにより、第２中間層が記録層に対し上側に隣接することとなる。その後、記録層形成工程を実行することで、第１中間層の上に記録層が形成されるので、第１中間層が記録層に対し下側に隣接することとなる。
【００７３】
また、前記実施形態においては、第１中間層１５Ａが記録層１４よりも軟らかく、第２中間層１５Ｂが記録層１４と同等以上の硬さを有していたが、これに限定されず、第１中間層と第２中間層の両方（中間層）が記録層よりも軟らかくなっていてもよい。この場合、前記実施形態で説明した記録方法において、記録スポット（凸形状）は、第１中間層側と第２中間層側の両側に向けて形成される（前側界面および奥側界面の両方に形成される）。ちなみに、記録層よりも軟らかい第１中間層が、記録層に対し下側に隣接し、記録層と同等以上の硬さを有する第２中間層が、記録層に対し上側に隣接する光情報記録媒体では、凸形状は、下側（第１中間層）に向けて形成される（奥側界面に形成される）。
【００７４】
また、前記実施形態においては、サーボ信号層１２上に設けられた中間層１５の上に最も下側の記録層１４（図３で示す記録層１４）を形成したが、これに限定されるものではない。例えば、サーボ信号層１２の表面を記録層形成面とし、サーボ信号層１２の上に記録層１４を形成してもよい。この場合、前記実施形態の光情報記録媒体１０では、サーボ信号層１２と記録層１４が略同一の屈折率を有するようにするとよい。また、第１中間層が記録層に対し下側に隣接し、第２中間層が記録層に対し上側に隣接する光情報記録媒体では、サーボ信号層１２と記録層１４が異なる屈折率を有するようにするとよい。
【００７５】
また、前記実施形態においては、中間層１５の上にカバー層１６を形成したが、これに限定されず、記録層１４の上にカバー層１６を形成してもよい。
【符号の説明】
【００７６】
１０ 光情報記録媒体
１１ 基板
１４ 記録層
１５ 中間層
１５Ａ 第１中間層
１５Ｂ 第２中間層
１６ カバー層
１８ 前側界面
１９ 奥側界面
２０ 中間界面
３０ 同時重層塗布装置
Ｆ 記録層形成面
ＲＢ 記録光
Ｓ 剥離用シート
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の記録層と、
前記記録層に対し記録光の入射方向における一方側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と異なる第１中間層と、前記記録層に対し前記一方側とは反対側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と略同一である第２中間層とを有し、前記第１中間層と前記第２中間層の界面が前記第１中間層と前記第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している、前記複数の記録層の間に設けられた中間層と、を備えた光情報記録媒体の製造方法であって、
支持シートに第１中間層の材料と第２中間層の材料とを同時重層塗布する中間層塗布工程と、
記録層形成面に対し、記録層を形成する記録層形成工程と、
前記記録層形成工程で形成した記録層の上に、前記中間層塗布工程で支持シートに形成した中間層を積層して支持シートを剥離する中間層積層工程と、を有し、
前記記録層形成工程と前記中間層積層工程とを繰り返し行うことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
支持シートに記録層の材料を塗布する記録層塗布工程を有し、
前記記録層形成工程は、記録層形成面の上に、前記記録層塗布工程で支持シートに形成した記録層を積層して支持シートを剥離することにより行うことを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記中間層塗布工程と前記中間層積層工程の間に、第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させる中間層硬化工程を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記記録層塗布工程と前記記録層形成工程の間に、記録層の材料を硬化させる記録層硬化工程を有することを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
第１中間層の材料と第２中間層の材料は、光硬化性樹脂を含み、
前記中間層硬化工程は、光を照射することで第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させることを特徴とする請求項３に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
記録層の材料は、光硬化性樹脂を含み、
前記記録層硬化工程は、光を照射することで記録層の材料を硬化させることを特徴とする請求項４に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１】
複数の記録層と、
前記記録層に対し記録光の入射方向における一方側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と異なる第１中間層と、前記記録層に対し前記一方側とは反対側に隣接して屈折率が前記記録層の屈折率と略同一である第２中間層とを有し、前記第１中間層と前記第２中間層の界面が前記第１中間層と前記第２中間層が混じり合うことで徐々に屈折率が変化している、前記複数の記録層の間に設けられた中間層と、を備えた光情報記録媒体の製造方法であって、
支持シートに第１中間層の材料と第２中間層の材料とを同時重層塗布する中間層塗布工程と、
記録層形成面に対し、記録層を形成する記録層形成工程と、
前記記録層形成工程で形成した記録層の上に、前記中間層塗布工程で支持シートに形成した中間層を積層して支持シートを剥離する中間層積層工程と、を有し、
前記記録層形成工程と前記中間層積層工程とを繰り返し行うことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
支持シートに記録層の材料を塗布する記録層塗布工程を有し、
前記記録層形成工程は、記録層形成面の上に、前記記録層塗布工程で支持シートに形成した記録層を積層して支持シートを剥離することにより行うことを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記中間層塗布工程と前記中間層積層工程の間に、第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させる中間層硬化工程を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記記録層塗布工程と前記記録層形成工程の間に、記録層の材料を硬化させる記録層硬化工程を有することを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
第１中間層の材料と第２中間層の材料は、光硬化性樹脂を含み、
前記中間層硬化工程は、光を照射することで第１中間層の材料と第２中間層の材料を硬化させることを特徴とする請求項３に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
記録層の材料は、光硬化性樹脂を含み、
前記記録層硬化工程は、光を照射することで記録層の材料を硬化させることを特徴とする請求項４に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１２−８９１９４（Ｐ２０１２−８９１９４Ａ）
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２３４５８８（Ｐ２０１０−２３４５８８）
【出願日】平成２２年１０月１９日（２０１０．１０．１９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月１９日（２０１０．１０．１９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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