説明

加工装置

【課題】容器の公転及び自転の合成遠心力及び重力を利用する加工装置において、容器内へ部材を投入し混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の各種加工を施す場合に、加工済製品の排出作業を連続的に効果的に行うことができる構造を得る。
【解決手段】駆動手段により水平面内で公転する回転体30と、この回転体30の回転中心から半径方向に距離を置いた位置に配置され自転軸41を中心に自転する複数の処理室40とを備え、各処理室内で混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の加工を行う加工装置であって、各処理室40内に原料を投入する導入機構50を加工装置の中央上方に設け、各処理室40に連通する位置に配置され加工済の製品を排出口71から排出する各払出部70を回転体30に設ける一方、払出部70の公転軌道に沿って環状の開口部が形成された環状製品受け部80を配置し、排出口71が環状製品受け部80の開口部内に位置する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、例えば食用粉と水を容器の公転および自転の合成遠心力を利用して均一に混練する等、容器内で混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の加工を行うための加工装置に関し、特に、容器内の加工済製品を連続的に排出できる排出機構を有する加工装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、食用粉と水を容器の公転および自転の合成遠心力を利用して均一に混練する混練装置としては、駆動手段を備えた枠体と、この枠体の上面に固定された支持体と、この支持体に軸支され駆動手段により水平面内で回転する回転体と、この回転体の回転中心から半径方向に距離を置いた位置に傾斜配置され回転体の回転中心方向に傾斜した回転中心を中心に自転する回転部材と、この回転部材に支持された容器とを備えたものが提案されている(特許文献1参照)。
この装置によれば、食用粉と水を容器の公転および自転の合成遠心力および重力を利用して容器の内底面に沿って移動させることで、短時間で均一に混練することができる。
【特許文献1】特開2001−299191
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
上記装置によれば、所定重量比の食用粉と水を公転する回転体上で傾斜配置された回転部材で自転する容器内に入れ、食用粉と水を容器の公転および自転の合成遠心力および重力を加えながら容器の底面に沿って移動させることで、短時間で均一な混練が得られるようになっている。
【0004】
特許文献1に記載された上記装置では、容器内に部材を投入してこれを混練し、装置の駆動手段による公転及び自転を停止した後、容器より混練された部材を取り出すことが行われる。
しかしながら上記装置では、加工される部材の投入及び排出について連続的に処理することができなかった。
また、連続処理のための機構が記載されていないので当然ではあるが、連続処理を効果的に行うための構造についての言及もなかった。
【0005】
本発明は上記実情に鑑みて提案されたもので、容器の公転及び自転の合成遠心力及び重力を利用するに際して、容器内へ部材を投入し混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の各種加工を施す場合において、加工済製品の排出作業を連続的に且つ効果的に行うことができる加工装置の構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記目的を達成するため本発明(請求項1)は、駆動手段により水平面内で公転する回転体と、この回転体の回転中心から半径方向に距離を置いた位置に配置され自転軸を中心に自転する複数の処理室とを備え、各処理室内で混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の加工を行う加工装置であって、次の構成を含むことを特徴としている。
前記各処理室内に原料を投入する導入機構を加工装置の中央上方に設ける。
前記各処理室に連通する位置に配置され加工済の製品を排出口から排出する各払出部を前記回転体に設ける。
前記払出部の公転軌道に沿って環状の開口部が形成された環状製品受け部を配置する。
前記払出部の排出口が前記環状製品受け部の開口部内に位置させる。
【0007】
上記構造によれば、処理室に設けた払出部の排出口が、環状製品受け部の開口部内に位置する状態で処理室が公転するので、処理室内の加工済製品を排出口から連続的に取り出すことが可能となる。
【0008】
請求項2は、請求項1の加工装置において、前記環状製品受け部に振動子を装着したことを特徴としている。
【0009】
上記構造によれば、振動子により環状製品受け部に振動を与えることにより、処理室から環状製品受け部内に導かれた加工済製品を移動させ易くすることができる。
【0010】
請求項3は、請求項1の加工装置において、前記処理室は、前記払出部に対して自転軸方向に分離可能な分離機構を備えて合体状態又は分離状態で公転可能に構成するとともに、前記分離機構は、前記処理室の底面が分離する構造としたことを特徴としている。
【0011】
上記構造によれば、処理室の底面が分離する分離機構としたことにより、公転及び自転を行いながら処理室の下方部から加工済製品を払出部へ移動させることができる。
【0012】
請求項4は、請求項1の加工装置において、前記処理室を区画する網体を装着する一方、前記払出部に対して自転軸方向に分離可能な分離機構を備えて合体状態又は分離状態で公転可能に構成するとともに、前記分離機構は、前記網体の上下で分離する構造としたことを特徴としている。
【0013】
上記構造によれば、網体の上下で分離する分離機構としたことにより、網体の上側に残る加工済製品と、網体を通過して下側に導かれる加工済製品とに分離し、それぞれを別々に排出可能とすることができる。
【0014】
請求項5は、請求項3又は請求項4の加工装置において、前記分離機構は、前記回転体とともに公転し前記回転体に対して接離する方向に移動可能なリング体と、公転しない部位に固定され先端部が前記リング体を押し下げるように動作する揺動手段を設けて前記回転体に対して離反する操作を行う操作レバーとを具備することを特徴としている。
【0015】
上記構造によれば、機械的な機構で分離機構を構成することができる。
【0016】
請求項6は、請求項3又は請求項4の加工装置において、前記分離機構は、各処理室に対応して前記回転体に配置されて前記回転体と一体で公転し、前記処理室を自転軸方向に分離させる駆動機構を有することを特徴としている。
【0017】
上記機構によれば、例えば電気的な駆動機構で分離機構を構成することができる。
【0018】
本発明の加工装置によれば、処理室に設けた払出部と、払出部の排出口の公転軌道に対向して位置する開口部を有する環状製品受け部とにより排出機構を構成することにより、処理室内での公転及び自転の複合遠心力及び重力を利用した処理中において、加工済製品の排出作業を連続的に行うことができ、処理効率の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0019】
本発明の実施の形態の一例について、図面を参照しながら説明する。
本発明の加工装置は、図1に示されるように、駆動手段により水平面内で回転する回転体30と、この回転体30の回転中心から半径方向に距離を置いた位置に配置され自転軸を中心に自転する複数の処理室40とを備え、各処理室40内で原料の混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の加工を行う装置である。
【0020】
本発明による加工装置は、基台1上に、蓋体2で上面が塞がれた筒状の箱体3が固定されて構成されている。箱体3の高さ方向の略中央位置には、基台1に平行して位置する区画台4が形成され、この区画台4を境界に上方部に加工機構が、下方部に駆動機構がそれぞれ配置されている。
すなわち、基台1の上面に公転用モータ21が固定され、区画台4の中央に設けた孔5を貫通するように公転軸11が配置され、回転体軸11及びモータ回転軸の各端部に装着された各プーリ12,22間をベルト23で駆動することでモータ21の回転が公転軸11に伝達される駆動手段20が構成され、この駆動手段20により公転軸11の上端に固定された回転体30が水平面内で回転(公転)するように構成されている。
【0021】
回転体30には、互いに対向する位置において、回転中心から半径方向に距離を置いた位置にそれぞれ傾斜配置(斜め上方に45度の角度で傾斜して配置)されるように、円筒状の処理室40をそれぞれ支持するための一対の支持体31が固定されている。また、前記した各処理室40に原料供給を行う導入機構50は、支持体31で挟まれた位置の上方において、支持体上端に形成されたフランジ部32に固定され、回転体30と同時に回転するように構成されている。
【0022】
各処理室40は、支持体31に対して回転可能なように、ベアリング33を介して配置されている。また、処理室40の上側には大径部41が形成され、この大径部41の裏面がベアリング42を介して支持体上端に形成されたフランジ部32上に載置されることで、処理室40が落下しないように支持体31内に内在するようになっている。
【0023】
処理室40の大径部41上面には、断面L字型で外側周囲にギア面43aが形成された自転動力伝達部43が固定されている。そして、自転動力伝達部43のギア面43aは、公転軸11の中央に貫通された貫通孔13内に挿入配置された自転軸14の上端に固定された円錐台部15の傾斜面に形成されたギア面15aに噛合されている。
基台1には処理室自転用モータ25が固定され、自転軸14及び処理室自転用モータ25の回転軸の各端部に装着された各プーリ16,26間をベルト27で駆動することで処理室自転用モータ25の回転が自転軸14に伝達される駆動手段が構成され、この駆動手段により自転軸14の回転が円錐台部15及び自転動力伝達部43を介して処理室40に伝達され、処理室40が支持体31内で回転(自転)するように構成されている。
したがって、回転体30と処理室40は、それぞれ別のモータ(公転用モータ21、処理室自転用モータ25)により回転するので、回転体と処理室の回転方向についても同一方向、逆方向のいずれに構成することもできる。
【0024】
各処理室40の内壁には、底面がメッシュ状に形成された籠体44が固定されている。また、処理室40の下方側には、処理室40の内径より小さい径を有する排出口45が連続して形成され、この排出口45が支持体31の各処理室40に連通する位置に配置された払出部70内に位置するように構成されている。払出部70の下端側には排出口71が形成され、この排出口71が、公転軌道に沿った環状の開口を有して区画台4上に配置された環状製品受け部80内を移動するようになっている。
環状製品受け部80は、その外側側面の一箇所に取出口81が設けられ、箱体の側面開口82を介して外部に処理室40内で加工された加工済製品を取り出すように構成されている。
【0025】
上記構造によれば、公転用モータ21の回転により、公転軸11及びこれに固定された回転体30が公転し、回転体30の支持体31に支持されている処理室40も回転体30と同時に公転し、更に回転体30に固定されている導入機構50も回転する。
この状態において、処理室自転用モータ25が回転(例えば、公転用モータ21と逆方向に回転)すれば、自転軸14及び円錐台部15が回転し、自転動力伝達部43を介して処理室40が回転体30に支持された状態で自転する。
この時、導入機構50から原料を投入すれば、導入機構50から各処理室40に原料が導かれ、処理室40内の籠体44内で公転及び自転による遠心力を受けて加工され、排出口45・払出部70・環状製品受け部80を介して、取出口81から取り出し可能となる。
【0026】
したがって、処理室40を公転させる公転軸11の内側に、処理室40を自転させるための自転軸14を形成し、該自転軸14から処理室40への動力伝達機構を円錐台部15と自転動力伝達部43とで形成することで処理室上部に配置し、被処理物の回収経路を処理室下部の排出口としたことにより、導入機構から原料を連続投入し、処理室40で加工後に、排出口・払出部・環状製品受け部80を介して、取出口81から加工済製品を連続して取り出すことを可能としている。
【0027】
また、図2に示すように、環状製品受け部80の下面における数箇所に振動子83を装着するようにしてもよい。振動子83は、例えば、環状製品受け部80における加工済製品の進行方向に対して前後するような方向に振動が与えられるように、電気的エネルギーを機械的な運動に変換する素子を内在して構成されている。この場合、環状製品受け部80は蓋体2側面の壁面に固定されることにより、振動子83からの揺れに応じて揺動可能に装着されている。
この例によれば、振動子83により環状製品受け部80に振動を与えることにより、処理室40から環状製品受け部80内に導かれた加工済製品を取出口81に移動させ易くすることができる。
【0028】
上記例では、環状製品受け部80に対して一つの取出口81が形成されるようにしたが、図3に示すように、4本の直線状の方形体80a,80b,80c,80dを組合せ、各方形体の先端側に取出口81a,81b,81c,81dを設けるようにしてもよい。すなわち、環状製品受け部80は、この例のように、方形体の側面壁でその内部が区画されていても、処理室40の払出部70の排出口71の公転軌道に沿って上方に環状の開口(点線部)が形成されている構成を含むものである。
【0029】
図4は、加工装置の他の実施例を示すものであり、処理室40において網体46(図1の例の籠体44に相当)を境に加工済製品を分離する分離機構が設けられている。図中、図1と同一の構成を採る部分については同一符号を付している。
この例の加工装置は、図に示されるように、駆動手段により水平面内で回転する回転体30と、この回転体30の回転中心から半径方向に距離を置いた位置に配置され自転軸を中心に自転する複数の処理室40とを備え、各処理室40内で原料の混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の加工を行う装置である。
以下、図1の加工装置と異なる構成を中心に説明する
【0030】
この例では、回転体の公転については図1と同様に、公転用モータ21により行われるが、処理室40の自転は、図4に示すように、処理室40の上側周囲に電動機回転子101を固定し、この電動機回転子101に対向可能なように処理室40周囲の支持体31に電動機固定子102を配置している。そして、この電動機固定子102に対して電源供給手段103よりケーブル104を介して駆動電圧が供給されることにより、電動機固定子102側に対して電動機回転子101側が回転する方向に力が作用し、処理室40が自転するようになっている。
【0031】
また、処理室40は、払出部70に対して自転軸方向に移動可能な分離機構を備え、合体状態又は分離状態で公転可能に構成されている。すなわち、支持体31に対して回転可能なように、ベアリング33,42を介して底部が開口された処理室40が配置され、処理室40内に上面が開口されたスライド室47が挿入配置されている。スライド室47は、図5に示すように、処理室40内を軸方向に移動可能に配置され、中央で区画する網体46が固定されるとともに、下方周囲に側面下方開口部47aが、網体46の上方位置に側面上方開口部47bがそれぞれ形成されている。
【0032】
スライド室47は処理室40と同時に自転するように、図6に示されるように、スライド室47の突起47xが処理室40の凹部40xに嵌合配置させることで、スライド室47が処理室40内で回転することを防止している。
【0033】
スライド室47の底体48には昇降軸49が装着され、この昇降軸49が支持体31を貫通し、支持体31の外側に配置された駆動機構110により電気的手段で軸方向に移動可能なように構成されている。また、スライド室47の底体48は、加工済製品が移動し易いように、その上面に円錐状部48aが形成されている。
したがって、払出部70に対して自転軸方向に分離可能な分離機構を備えることで、処理室40に対してスライド室47が合体状態又は分離状態で公転可能に構成されている。また、分離機構は、網体46の上下で加工済製品を分離できる構造となっている。
【0034】
すなわち、処理室40に対してスライド室47が移動した状態(図5の状態)で、側面下方開口部47aが払出部70aの排出口71aに、側面上方開口部47bが払出部70bの排出口71bにそれぞれ連通するように構成されている。排出口71aは環状製品受け部80aに、第二排出口71bは環状製品受け部80aより小径の第二環状製品受け部80b内を支持体31の公転軌道に沿って移動するように構成されている。
【0035】
上記構成によれば、処理室40内にスライド室47を設けることで、処理室40に対してスライド室47が下方に移動すると、処理室40の底面が分離する分離機構とすることができ、公転及び自転を行いながら処理室40の下方部から加工済製品を払出部70へ移動させることができる。
【0036】
上記構造によれば、網体46の上下で分離する分離機構としたことにより、網体46を通過して下側に導かれる加工済製品と、網体46の上側に残る加工済製品とに分離し、それぞれを排出口71a及び第二排出口71bから環状製品受け部80a及び第二環状製品受け部80bへ別々に排出可能とすることができる。したがって、例えば、加工済製品(液体)を環状製品受け部80aへ、加工物の残渣(カス)を第二環状製品受け部80bへ区別して排出させることが可能となる。
【0037】
図7は、加工装置の他の実施例を示すものであり、排出機構において機械的な機構で分離機構が構成されている。図中、図1及び図4と同一の構成を採る部分については同一符号を付している。
この例の加工装置は、図4の例と同様に、回転体30の公転のみ公転用モータ21により行い、処理室40の自転は、処理室40の周囲に固定された電動機回転子101と、この電動機回転子101に対向するように支持体31に配置された電動機固定子102により行われる。
そして、図1及び図4の例と同様に、駆動手段により水平面内で回転する回転体30と、この回転体30の回転中心から半径方向に距離を置いた位置に配置され自転軸を中心に自転する複数の処理室40とを備え、各処理室40内で原料の混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の加工を行う装置である。
以下、図1及び図4の加工装置と異なる構成を中心に説明する。
【0038】
処理室40内には、原料の加工を促進させるための螺旋片46´(図1の籠体44や、図4の網体46に相当する)が、処理室40の直径方向に架け渡すように装着されている。
【0039】
支持体31内に自転可能に配置された各処理室40の底面には開口部40aが形成され、処理室40に対応する位置の支持体裏面を貫通する昇降軸49の上端に底体48が固定され、この底体48が前記開口部40aに対して昇降可能に構成されている。底体48の上面は円錐状部48aを形成している。各処理室40の底体48は、支持体裏面に設けられた各昇降手段200により常時上方に付勢されるように構成されている。
【0040】
昇降手段200は、昇降軸49を常時上方へ付勢する押上手段201と、処理室40の公転軌道に沿った環状平面を有し、この環状平面に各昇降軸49の下端が固定された円盤(リング体)202と、円盤202を下方に降下させため箱体3の壁面に一定角度回動可能な揺動手段として装着されたレバー203から構成されている。したがって、円盤(リング体)202は、回転体30とともに公転し、回転体30に対して接離する方向に移動可能に構成されるとともに、レバー203は、箱体3の壁面(公転しない部位)に固定され、先端部が円盤202を押し下げるように動作可能に構成され、通常の状態では、箱体3内のレバー203先端を円盤202の環状面が上方に押し上げる力が作用している。
昇降軸49は押上手段201により上方に押し上げられているため、通常の状態では処理室40の底体48が閉じるようになっている。この状態から、押上手段201に抗してレバー203の一端側を上げると、円盤202を下方に降下させて(回転体30に対して円盤202を離反させる操作が行われ)、昇降軸49及び底体48が下方に移動し処理室40の底部が開口することになる。
【0041】
支持体31の下方に連結された払出部70は側方に排出口71が形成され、この排出口71が、箱体3の周囲に設けた環状製品受け部80の開口部内に位置するようになっている。
【図面の簡単な説明】
【0042】
【図1】本発明の実施の形態の一例の加工装置の断面説明図である。
【図2】環状製品受け部に振動子を装着した一例を示す斜視説明図である。
【図3】環状製品受け部の他の例を示す平面説明図である。
【図4】加工装置の他の例を示す断面図である。
【図5】図4の加工装置の排出機構の構造を示す断面説明図である。
【図6】図4の加工装置の処理室部のA−A断面説明図である。
【図7】加工装置の他の例を示す斜視説明図である。
【符号の説明】
【0043】
1…基台、 2…蓋体、 3…箱体、 4…区画台、 11…公転軸、 15…円錐台部、 15a…ギア面、 20…駆動手段、 21…公転用モータ、 25…自転用モータ、 30…回転体、 31…支持体、 32…フランジ部、 40…処理室、 43…自転動力伝達部、 43a…ギア面、 44…籠体、 45…排出口、 46…網体、 46´…螺旋片、 47…スライド室、 48…底体、 49…昇降軸、 50…導入機構、 70…払出部、 71…排出口、 80…環状製品受け部、 81…取出口、 82…側面開口、 83…振動子。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
駆動手段により水平面内で公転する回転体と、この回転体の回転中心から半径方向に距離を置いた位置に配置され自転軸を中心に自転する複数の処理室とを備え、各処理室内で混練、粉砕、分離、脱泡、脱水、着色等の加工を行う加工装置であって、
前記各処理室内に原料を投入する導入機構を加工装置の中央上方に設け、
前記各処理室に連通する位置に配置され加工済の製品を排出口から排出する各払出部を前記回転体に設ける一方、
前記払出部の公転軌道に沿って環状の開口部が形成された環状製品受け部を配置し、
前記払出部の排出口が前記環状製品受け部の開口部内に位置して成る
ことを特徴とする加工装置。
【請求項2】
前記環状製品受け部に振動子を装着した請求項1の加工装置。
【請求項3】
前記処理室は、前記払出部に対して自転軸方向に分離可能な分離機構を備えて合体状態又は分離状態で公転可能に構成するとともに、
前記分離機構は、前記処理室の底面が分離する構造とした請求項1に記載の加工装置。
【請求項4】
前記処理室を区画する網体を装着する一方、前記払出部に対して自転軸方向に分離可能な分離機構を備えて合体状態又は分離状態で公転可能に構成するとともに、
前記分離機構は、前記網体の上下で分離する構造とした請求項1に記載の加工装置。
【請求項5】
前記分離機構は、
前記回転体とともに公転し前記回転体に対して接離する方向に移動可能なリング体と、
公転しない部位に固定され先端部が前記リング体を押し下げるように動作する揺動手段を設けて前記回転体に対して離反する操作を行う操作レバーとを具備する請求項3又は請求項4に記載の加工装置。
【請求項6】
前記分離機構は、
各処理室に対応して前記回転体に配置されて前記回転体と一体で公転し、前記処理室を自転軸方向に分離させる駆動機構を有する請求項3又は請求項4に記載の加工装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【公開番号】特開2010−179265(P2010−179265A)
【公開日】平成22年8月19日(2010.8.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−26795(P2009−26795)
【出願日】平成21年2月6日(2009.2.6)
【出願人】(505452058)株式会社ファイブプラネット (2)
【出願人】(302067903)ネピュレ株式会社 (11)
【出願人】(000120755)永田精機株式会社 (12)
【Fターム(参考)】