印刷機、発光層形成方法、有機発光デバイス形成方法および有機発光デバイス
【課題】有機発光デバイスの発光素子層の発光層を形成するのに適した印刷機を提供する。
【解決手段】印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に配置され、その上面にグラビア版部１４とアニックス版部１とを有する平板状のインキ版２０と、インキ版２０に当接してインキ３０を受理する転写ロール２４と、を備えている。転写ロール２４は、中心ロール２５と、中心ロール２５の周面に設けられたブランケット部２７およびフレキソ部２３とを有している。このうちブランケット部２７は、インキ版２０のグラビア版部１４からインキ３０を受理するとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このブランケット部２７は弾性材料からなっている。またフレキソ部２３は、インキ版２０のアニックス版部１からインキ３０を受けるとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このフレキソ部２３も弾性材料からなっている。
【解決手段】印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に配置され、その上面にグラビア版部１４とアニックス版部１とを有する平板状のインキ版２０と、インキ版２０に当接してインキ３０を受理する転写ロール２４と、を備えている。転写ロール２４は、中心ロール２５と、中心ロール２５の周面に設けられたブランケット部２７およびフレキソ部２３とを有している。このうちブランケット部２７は、インキ版２０のグラビア版部１４からインキ３０を受理するとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このブランケット部２７は弾性材料からなっている。またフレキソ部２３は、インキ版２０のアニックス版部１からインキ３０を受けるとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このフレキソ部２３も弾性材料からなっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブランケット部とフレキソ部とを有する転写ロールによって印刷を行う印刷機に関する。また本発明は、当該印刷機を用いて有機発光デバイスの発光素子層における発光層を形成する方法に関する。また本発明は、前記印刷機により発光層を形成する工程を含む有機発光デバイスの形成方法、および有機発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光デバイスは、有機発光材料に電場を与えることで励起し発光するデバイスである。有機発光デバイスは、自己発光性であるため視認性が高く、また完全固体素子であるため耐衝撃性に優れている等の特徴を有している。その他にも、有機発光デバイスは、印加電圧１０Ｖ弱という低電圧であっても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高いこと、単純な素子構造で発光が可能であること、輝度が高く長寿命であること等の利点を有している。
【０００３】
また、有機発光デバイスは、主に対向する電極の間に少なくとも発光層を有する発光素子層が形成された積層構造である。ここで、有機発光デバイスを発光させる上で、発光素子層の各層を、ナノメートル単位の厚みとすることが可能である。このため、有機発光デバイスは、その他の発光デバイスに比べて、デバイスの薄型化及び軽量化が容易であるという利点を有している。さらに、有機発光デバイスの各層を、高分子材料を溶解させた塗布液を塗布することにより作製することができ、このため、有機発光デバイスは、紙への印刷法を応用した製法やインクジェット法を応用した製法を適用可能であるという利点等も有している。
【０００４】
こうした多くの利点を有する有機発光デバイスを広告用ディスプレイなどとして用いることが検討されている。例えば、特許文献１においては、有機発光デバイスを用いて、特定の文字または図形などからなる固定パターンを発光表示させることが提案されている。また特許文献１においては、時間の経過につれて移動または変化する文字または図形などからなる可変パターンを発光表示させることも提案されている。このような可変パターンの発光表示は、発光素子層をドット状に縦横に配列し、時間に応じて各ドットを互いに独立して発光させることにより実現されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１１１１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般に、広告用ディスプレイの固定パターンを大きくすることにより、不特定の人の注意を惹きつけることができる。また、可変パターンを設けることにより、惹きつけられた人の注意を長く保つことができる。従って、広告用ディスプレイの訴求効果を向上させるためには、一つの有機発光デバイスが、固定パターンを発光表示させる固定パターン領域と、可変パターンを表示させる可変パターン領域とをともに備えていることが好ましい。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、優れた訴求効果を有する広告用ディスプレイとして適用され得る有機発光デバイスを提供することを目的とする。また本発明は、当該有機発光デバイスの形成方法、または当該有機発光デバイスにおける発光素子層の発光層の形成方法を提供することを目的とする。さらに本発明は、当該発光素子層の発光層を形成するのに適した印刷機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、フレームと、前記フレーム上に配置され、その上面にグラビア版部とアニックス版部とを有する平板状のインキ版と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させるバックアップ体と、を備え、前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機である。
【０００９】
本発明は、ロール状のインキ版であって、その外周面にグラビア版部とアニックス版部とを有するインキ版と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させる圧胴と、を備え、前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理する第１インキ受理面を含み、前記フレキソ版部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機である。
【００１０】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも０．１〜０．５ｍｍだけ転写ロール内方に引っ込んでいる。
【００１１】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内である。
【００１２】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２５０℃の範囲内である。
【００１３】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜３．５重量％の範囲内である。
【００１４】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記転写ロールの前記ブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなっている。
【００１５】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲である。
【００１６】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのブランケット部は、転写ロールの中心ロールの周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであってもよい。
【００１７】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなり、前記グラビア版部からインキを受理する位置と、インキを前記基材上に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転する中心ロールに巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであってもよい。
【００１８】
本発明の印刷機において、前記中心ロールと前記ブランケット部との間にクッション層が介在されていてもよい。
【００１９】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのフレキソ部は、水現像可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００２０】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのフレキソ部は、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００２１】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのフレキソ部は、転写ロールの中心ロールの周面に粘着材により固定されていてもよい。
【００２２】
本発明の印刷機において、前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなっていてもよい。この場合、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置されたエアークランプ機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。または、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置された吸着機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。
【００２３】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を上記記載の印刷機により形成する方法において、少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に充填させる工程と、当該グラビア版部およびアニックス版部から前記転写ロールに前記インキを受理させる工程と、前記転写ロール上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも内方に引っ込んでいることを特徴とする発光層の形成方法である。
【００２４】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、基材を準備する工程と、前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、前記開口部内に、少なくとも発光層を有する発光素子層を形成する工程と、前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上記記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法である。
【００２５】
本発明の有機発光デバイスの形成方法において、前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定されてもよい。この場合、当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、前記第１発光領域の面積は、前記第２発光領域の面積よりも大きくなっている。また、前記第１発光領域における発光素子層の発光層は、前記ブランケット部から転移されるインキから形成され、前記第２発光領域における発光素子層の発光層は、前記フレキソ部から転移されるインキから形成される。
【００２６】
本発明の有機発光デバイスの形成方法において、好ましくは、前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。
【００２７】
本発明の有機発光デバイスの形成方法において、前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定されてもよい。この場合、前記発光素子層を形成する工程において、発光素子層が、前記絶縁層および前記開口部を覆うよう形成される。
【００２８】
本発明は、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層を有する発光素子層と、前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定され、当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする有機発光デバイスである。
【００２９】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定されてもよい。この場合、開口部は、前記第１発光領域に対応する第１開口部と、前記第２発光領域に対応する第２開口部とからなり、前記第１開口部の面積は、１ｍｍ２以上となっており、前記第２開口部の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、印刷機の転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有している。また、ブランケット部は、インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、フレキソ部は、インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含んでいる。このため、インキ版のグラビア版部と転写ロールのブランケット部との組合せによるグラビアオフセット印刷と、インキ版のアニロックス版部と転写ロールのフレキソ部との組合せによるフレキソ印刷とを、一つの転写ロールで同時に行うことができる。
また、フレキソ部の凸部は、ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいる。このため、ブランケット部によるグラビアオフセット印刷における印圧を、フレキソ部によるフレキソ印刷における印圧よりも大きくすることができる。従って、グラビアオフセット印刷とフレキソ印刷とをそれぞれ適切な印圧で同時に行うことができる。このことにより、グラビアオフセット印刷により形成される層の厚みのばらつきと、フレキソ印刷により形成される層の厚みのばらつきとを、それぞれ適切に抑制することができる。
【００３１】
また本発明によれば、発光層を形成する方法は、上記記載の印刷機により発光層を形成する工程を含んでいる。このため、インキ版のグラビア版部と転写ロールのブランケット部との組合せによるグラビアオフセット印刷と、インキ版のアニロックス版部と転写ロールのフレキソ部との組合せによるフレキソ印刷とを、一つの転写ロールで同時に行うことができる。また、フレキソ部の凸部が、ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでおり、このため、ブランケット部によるグラビアオフセット印刷における印圧を、フレキソ部によるフレキソ印刷における印圧よりも大きくすることができる。従って、グラビアオフセット印刷により、大きな印圧で、厚みの均一な発光層を形成することができ、同時にフレキソ印刷により、グラビアオフセット印刷よりも小さな印圧で、厚みの均一な発光層を精度よく形成することができる。
【００３２】
また本発明によれば、少なくとも発光層を有する発光素子層を含む有機発光デバイスを形成する方法は、上記記載の発光層形成方法により発光層を形成する工程を含んでいる。このため、グラビアオフセット印刷により、大きな印圧で、厚みの均一な発光層を形成することができ、同時にフレキソ印刷により、グラビアオフセット印刷よりも小さな印圧で、厚みの均一な発光層を精度よく形成することができる。このことにより、高品質な表示が可能で信頼性の高い有機発光デバイスを形成することができる。
【００３３】
また本発明によれば、有機発光デバイスは、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、基材上に形成され、第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層を有する発光素子層と、発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備えている。この場合、開口部内に発光素子層が形成されている領域であって、かつ第１電極層と第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定される。この発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなっている。このうち第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。このように面積の異なる二種類の発光領域を設けることにより、有機発光デバイスの誘引性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における印刷機を示す斜視図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態におけるインキ版を示す平面図。
【図３】図３（ａ）（ｂ）（ｃ）は、本発明の実施の形態において、グラビア版部のセルまたはアニロックス版部のセルの印刷方向における幅ｂと、これに直交する方向における幅ａの比ｂ／ａを示す平面図。
【図４】図４は、図１の印刷機の転写ロールのIV−IV線での断面図。
【図５】図５（ａ）は、図４の転写ロールをＶａ方向から見た場合を示す図、図５（ｂ）は、図４の転写ロールをＶｂ方向から見た場合を示す図。
【図６】図６は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスを示す平面図。
【図７】図７（ａ）（ｂ）は、本発明の実施の形態において、有機発光デバイスが発光する様子を示す図。
【図８】図８は、図６の有機発光デバイスのVIII−VIII線での部分断面斜視図。
【図９】図９（ａ）〜（ｆ）は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスの形成方法を示す図。
【図１０】図１０（ａ）〜（ｃ）は、有機発光デバイスの形成方法の変形例を示す図。
【図１１】図１１は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１２】図１２は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１３】図１３は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１４】図１４は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１５】図１５は、本発明におけるインキ版の他の実施形態を示す図。
【図１６】図１６は、本発明におけるインキ版の他の実施形態を示す図。
【図１７】図１７は、本発明におけるインキ版の他の実施形態を示す図。
【図１８】図１８は、本発明における転写ロールの他の実施形態を示す図。
【図１９】図１９は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す平面図。
【図２０】図２０は、図１９に示す有機発光デバイスにおいて、発光層と絶縁層の開口部との関係を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、図１乃至図９を参照して、本発明の実施の形態について説明する。はじめに図１を参照して、印刷機１０全体について説明する。
【００３６】
〔印刷機〕
図１に示すように、印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に配置され、その上面にグラビア版部１４とアニックス版部１とを有する平板状のインキ版２０と、インキ版２０のグラビア版部１４およびアニックス版部１にインキ３０を供給するインキ供給部７と、インキ供給部７から供給されたインキ３０をグラビア版部１４のセル１５（後述）内およびアニックス版部１のセル２（後述）内に充填させるドクターシステム８と、インキ版２０に当接してインキ３０を受理する転写ロール２４と、転写ロール２４との間で基材５２を挟持して、転写ロール２４上のインキ３０を基材５２上に転移させるバックアップ体と、を備えている。ここで、図１に示すように、バックアップ体は、フレーム５上に配置され、平板状の基材５２を載置する基材定盤６からなっている。また、転写ロール２４は、フレーム５上を矢印Ｐで示す印刷方向に沿って走行可能となるようフレーム５に設けられている。またドクターシステム８は、インキ版２０上のインキ３０を図１における右方向に向かって掻く第１ドクター８ａと、インキ３０を図１における左方向に向かって掻く第２ドクター８ｂとを有している。
【００３７】
このうち転写ロール２４は、図１に示すように、矢印Ｒで示す方向に回転する中心ロール２５と、中心ロール２５の周面に設けられたブランケット部２７およびフレキソ部２３とを有している。このうちブランケット部２７は、インキ版２０のグラビア版部１４からインキ３０を受理するとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このブランケット部２７は弾性材料からなっている。またフレキソ部２３は、インキ版２０のアニックス版部１からインキ３０を受けるとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このフレキソ部２３も弾性材料からなっている。
後述するように、このような印刷機１０により有機発光デバイス５１（後述）の透明基材５２上に発光層５８を形成する場合、ブランケット部２７から透明基材５２上に転移されるインキ３０により、有機発光デバイス５１の固定パターン領域６１の発光層５８が形成される。一方、フレキソ部２３から透明基材５２上に転移されるインキ３０により、有機発光デバイス５１の可変パターン領域６２の発光層５８が形成される。
【００３８】
〔インキ版〕
次に図２および図３を参照して、インキ版２０について詳細に説明する。図２は、本発明のインキ版２０の一実施形態を説明するための平面図である。上述のように、インキ版２０は、その上面にグラビア版部１４とアニックス版部１とを有している。以下、グラビア版部１４およびアニックス版部１についてそれぞれ詳細に説明する。
【００３９】
グラビア版部
はじめにグラビア版部１４について説明する。図２に示すように、グラビア版部１４は、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル１５を有している。また各セル１５は、ストライプ状の形状を有しており、各セル１５の間には非セル部１６が存在する。そして、各セル１５（斜線を付した部位）の幅（セル部長Ｌ１）と、非セル部１６の幅（非セル部長Ｓ１）との比Ｌ１／Ｓ１が０．８〜１００、好ましくは１〜６０の範囲内となっている。また、セル１５の幅（セル部長Ｌ１）が１０〜５００μｍ、好ましくは３０〜３００μｍの範囲内となっており、非セル部１６の幅（非セル部長Ｓ１）が２〜５００μｍ、好ましくは５〜２００μｍの範囲内となっており、セル１５の深さ（版深）が２０〜２００μｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲内となっている。これらセル１５および非セル部１６は、成膜部位全体の面積（セル１５および非セル部１６全体の面積）に占めるセル１５全体の面積の比率が５５〜９５％、好ましくは６０〜９０％の範囲内となるよう構成されている。
【００４０】
また、本発明のグラビア版部１４は、図３（ａ）に示すように、各セル１５（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり上限には特に制限はない。尚、本発明において印刷方向とは、転写ロール２４の回転方向と同義である。
また図２および図３（ａ）において、ストライプ状の形状を有する各セル１５が印刷方向Ｐと平行に延びている例を示したが、これに限られることはない。例えば図３（ｂ）（ｃ）に示すように、各セル１５が延びている方向と印刷方向Ｐとが平行となっていなくてもよい。この場合も、図３（ｂ）（ｃ）に示すように、各セル１５（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上となっている。
【００４１】
なお、グラビア版部１４におけるセル部長Ｌ１と非セル部長Ｓ１との比Ｌ１／Ｓ１が０．８未満であると、厚膜形成が困難となり、１００を超えると、グラビア版部１４のセル形成が困難となり、また膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、セル１５の幅（セル部長Ｌ１）が１０μｍ未満であると、厚膜形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部１６の幅（非セル部長Ｓ１）が２μｍ未満であると、グラビア版部１４のセル形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きく、また厚膜形成が困難となり好ましくない。
【００４２】
また、セル１５の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。さらに、比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、後述する発光層の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層の形成が困難となり好ましくない。
【００４３】
アニロックス版部
次にアニロックス版部１について説明する。図２に示すように、アニロックス版部１は、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル２を有している。また各セル２は、ストライプ状の形状を有しており、各セル２の間には非セル部３が存在する。これらセル２および非セル部３は、成膜部位全体の面積（セル２および非セル部３全体の面積）に占めるセル２全体の面積の比率が５５〜９５％、好ましくは７０〜９５％となるよう構成されている。成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率を上述のように設定することにより、転写ロール２４のフレキソ部２３に対して十分な量のインキ３０を渡すことができる。
セル２の幅（セル部長Ｌ２）は、例えば１０〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは３０〜３００μｍの範囲内となっている。また、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ２）は、例えば２〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは５〜２００μｍの範囲内となっている。
【００４４】
また、グラビア版部１４のセル１５の場合と同様に、各セル２における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａは、０．６以上となっている（図３（ａ）参照）。比ｂ／ａの上限には特に制限はない。また、グラビア版部１４のセル１５の場合と同様に、各セル２が延びている方向と印刷方向Ｐとが平行となっていなくてもよい（図３（ｂ）（ｃ）参照）。
【００４５】
また、各セル２の深さ（版深）は、好ましくは２０〜２００μｍの範囲内、さらに好ましくは３０〜１００μｍの範囲内となっている。また、好ましくは、アニロックス版部１の各セル２の深さは、グラビア版部１４の各セル１５の深さと同一になっている。このように、セル２とセル１５の深さを同一とすることにより、グラビア版部１４とアニロックス版部１とを有するインキ版２０をより容易に作製することができる。
【００４６】
〔転写ロール〕
次に図４および図５（ａ）（ｂ）を参照して、転写ロールについて詳細に説明する。ここで図４は、図１の印刷機１０の転写ロール２４のIV−IV線での断面図であり、図５（ａ）は、図４の転写ロール２４をＶａ方向から見た場合を示す図であり、図５（ｂ）は、図４の転写ロール２４をＶｂ方向から見た場合を示す図である。
上述のように、転写ロール２４は、矢印Ｒで示す方向に回転する中心ロール２５と、中心ロール２５の周面に設けられたブランケット部２７およびフレキソ部２３とを有している。以下、ブランケット部２７およびフレキソ部２３についてそれぞれ詳細に説明する。
【００４７】
ブランケット部
はじめにブランケット部２７について説明する。上述のように、ブランケット部２７は弾性材料からなっている。とりわけ好ましくは、ブランケット部２７は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルム２７ａからなっている。また図４および図５（ａ）に示すように、ブランケット部２７を構成する樹脂フィルム２７ａは、転写ロール２４の中心ロール２５の周面に一体的に設けられている。また図４および図５（ａ）に示すように、ブランケット部２７の外面２７ｂは、ブランケット部２７全域にわたって平坦になっている。この外面２７ｂが、インキ版２０のグラビア版部１４からのインキ３０を受理するインキ受理面となっており、外面２７ｂには、グラビア版部１４のセル１５のパターンに応じた絵柄でインキ３０が受理される。外面２７ｂに受理されたインキ３０は、その後、基材５２上に転移される。
このように本実施の形態によれば、インキ版２０のグラビア版部１４と転写ロール２４のブランケット部２７との組合せにより、いわゆるグラビアオフセット印刷が行われる。
【００４８】
ブランケット部２７を構成する樹脂フィルム２７ａの表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、グラビア版部１４からのインキ受理性が低下する。このため、基材５２に均一な厚みでインキ３０を転移させることが困難となる。なお、樹脂フィルム２７ａの表面張力（固体の表面張力［γｓ］）は、例えば、自動接触角計（協和界面科学（株）製 DropMaster 700型）を用いることにより算出される。この場合、はじめに、２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計にて接触角θを測定し、次に、γｓ（固体の表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（固体の液体の表面張力）の式に基づいて樹脂フィルム２７ａの表面張力が算出される。
【００４９】
使用する樹脂フィルム２７ａとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンテレフタレートフィルム、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、コロナ処理を施したポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンナフタレートフィルム、ポリノルボルネンフィルム、メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルム２７ａの厚みは、例えば、５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲とすることができる。樹脂フィルム２７ａの厚みが５μｍ未満であると、フィルム加工性、中心ロール２５への装着性が低下して好ましくない。また、樹脂フィルム２７ａの厚みが２００μｍを超えると、硬度が高くなりすぎ、柔軟性が低下して好ましくない。
【００５０】
なお、中心ロール２５とブランケット部２７の樹脂フィルム２７ａとの間にクッション層（図示せず）が介在されていてもよい。この場合、クッション層の硬度は、例えば、２０〜８０の範囲とすることができ、クッション層の厚みは、例えば、０．１〜３０ｍｍの範囲とすることができる。尚、上記の硬度は、ＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００５１】
フレキソ部
次にフレキソ部２３について説明する。上述のように、フレキソ部２３は、転写ロール２４の中心ロール２５の周面に設けられている。この場合、フレキソ部２３は、中心ロール２５の周面に粘着材により固定されている。また上述のように、フレキソ版２３は弾性材料から形成されており、また図４および図５（ｂ）に示すように、フレキソ版２３は、それぞれが転写ロール２４の回転方向に沿って延びるとともに、ストライプ状に配置された複数の凸部２３ａと、各凸部２３ａ間に形成された凹部２３ｂとを有している。図４および図５（ｂ）に示すように、凸部２３ａの上面２３ｃが、インキ版２０のアニックス版部１からのインキ３０を受ける面となっている。このため、転写ロール２４上のインキ３０を基材５２上に転移させる際、フレキソ部２３からのインキ３０は、フレキソ部２３の凸部２３ａのパターンに応じた絵柄で転移される。
このように本実施の形態によれば、インキ版２０のアニックス版部１と転写ロール２４のフレキソ部２３との組合せにより、いわゆるフレキソ印刷が行われる。
【００５２】
弾性材料からなるフレキソ部２３の作製方法が特に限られることはなく、例えば、水現像可能な樹脂材料を露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングすることにより作製することができる。水現像可能な樹脂材料としては、例えば、ポリビニルアルコールを用いることができる。
【００５３】
また、中心ロール２５周面上に粘着材により樹脂材料を設け、この樹脂材料をレーザ光で彫刻することによりフレキソ部２３を作製してもよい。レーザ光による彫刻が可能な樹脂材料としては、例えば、無機多孔質体微粒子を含有する感光性樹脂を用いることができる。感光性樹脂の例としては、例えばエラストマー樹脂を挙げることができる。
【００５４】
上述のように、転写ロール２４は、ブランケット部２７とフレキソ部２３とをともに有している。この場合、上述のように、ブランケット部２７によりグラビアオフセット印刷が行われ、フレキソ部２３によりフレキソ印刷が行われる。
グラビアオフセット印刷においては、ブランケット部２７の平坦な外面２７ｂが全面にわたって基材５２にインキ３０を押しつける。このため、一般にグラビアオフセット印刷は、大面積の層を均一な厚みで形成する用途に適している。
一方、フレキソ印刷においては、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃのみが基材５２にインキ３０を押しつける。このため、一般にフレキソ印刷は、微細な層を均一な厚みで形成する用途に適している。
本実施の形態によれば、転写ロール２４が、ブランケット部２７とフレキソ部２３とをともに有しており、このため、基材５２上に、大面積かつ均一な厚みの層と、微細かつ均一な厚みの層と、を同時に形成することができる。
【００５５】
上述のように、フレキソ部２３は、微細な層を形成するために用いられる。ここで、微細な層を形成するためには、フレキソ部２３を、大きなゴム硬度を有する弾性材料から構成することが好ましい。なぜなら、フレキソ部２３を構成する弾性材料のゴム硬度が小さすぎると、フレキソ部２３の凸部２３ａのインキ３０を基材５２に転移させる際、凸部２３ａが大きく弾性変形し、これによって、基材５２に形成される層の面積が想定よりも広がることが考えられるからである。このため、好ましくは、フレキソ部２３は、ブランケット部２７の樹脂フィルム２７ａよりもゴム硬度が高い弾性材料から構成されている。
【００５６】
上述のように、フレキソ部２３のゴム硬度は、ブランケット部２７のゴム硬度よりも高くなっている。例えば、フレキソ部のゴム硬度は８３（ＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度）となっており、ブランケット部２７のゴム硬度は５０〜８０の範囲内となっている。この場合、フレキソ部２３によるフレキソ印刷によって均一な厚みの層を形成するためには、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量を、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくすることが好ましい。なぜなら、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量がブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量と等しい場合、フレキソ部２３が、押し込み量に対応するよう十分に弾性変形できないことが考えられるからである。フレキソ部２３が、押し込み量に対応するよう十分に弾性変形できない場合、インキ版２０または基材５２に生じた振動がフレキソ部２３の凸部２３ａにおいて十分に吸収されず、このことにより、形成される層の厚みにムラが生じることが考えられる。このため、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量を、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくすることが好ましい。
【００５７】
図４に示すように、転写ロール２４において、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃは、ブランケット部２７の外面２７ｂからなるインキ受理面よりも転写ロール２４内方（中心ロール２５の方）にΔｈだけ引っ込んでいる。このため、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量を、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくすることができる。
また、Δｈの引っ込みを設けることにより、転写ロール２４上のインキ３０を基材５２上に転移させる際、ブランケット部２７が基材５２にインキ３０を押し付ける力（グラビアオフセット印刷の印圧）が、フレキソ部２３が基材５２にインキ３０を押し付ける力（フレキソ印刷の印圧）よりも大きくなっている。すなわち、ブランケット部２７によって、大きな印圧で基材５２上にインキ３０を転移させることができ、同時に、フレキソ部２３によって、ブランケット部２７よりも小さな印圧で基材５２上にインキ３０を転移させることができる。
【００５８】
Δｈの範囲は、ブランケット部２７またはフレキソ部２３からのインキ３０により基材５２上に形成される各層の面積、厚み、厚みのばらつきの許容値、またはインキ３０の特性などに応じて適宜選択されるが、好ましくは、上記Δｈが０．１〜０．５ｍｍの範囲内となっている。Δｈをこのような範囲内で選択することにより、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷によって大面積かつ均一な厚みの層を形成し、同時に、フレキソ部２３によるフレキソ印刷によって微細かつ均一な厚みの層を形成することができる。
【００５９】
〔インキ〕
次に、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０について詳細に説明する。インキ３０は、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなっている。インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっているインキ３０が用いられる。このように、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０は、一般的なインキよりも粘度が小さくなっており、このため、一般的なインキを用いる場合に比べて、インキにより形成される層の高さにばらつきが生じやすい。この課題に対応するため、本実施の形態においては、上述のように、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃが、ブランケット部２７の外面２７ｂからなるインキ受理面よりも転写ロール２４内方にΔｈだけ引っ込むよう転写ロール２４を構成している。このことにより、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷における印圧と、フレキソ部２３によるフレキソ印刷における印圧とが、インキ３０の粘度に応じて最適に設定される。
【００６０】
なお、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの層の形成が困難となる。一方、２００ｃＰを超えると、インキ版２０のグラビア版部１４またはアニロックス版部１のセル目による凹凸が大きくなり、均一な厚みの層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により、測定温度２３℃で定常流測定モードにより行うものとする。また、インキ３０において、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となっていることが好ましい。比（Ｖ１／Ｖ２）を上記の範囲内とすることにより、インキ３０がニュートン流動を示すようになる。
【００６１】
また、印刷機１０で用いられるインキ３０において、使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつ、沸点が１６５〜２５０℃の範囲内であることが好ましい。
なお、インキ３０に使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、インキ版２０から転写ロール２４へのインキ３０の受理性が低下することが考えられ、好ましくない。さらに、インキ３０の溶媒の沸点が１６５℃未満であると、転写ロール２４から基材５２に転移されたインキ３０が直ちに乾燥し、これによって、インキ３０により形成される層にスジが発生しやすくなることが考えられる。また、インキ３０の溶媒の沸点が２５０℃を超えると、インキ３０の乾燥が困難となり、乾燥ゾーンでの乾燥による基材５２等への影響が生じること、溶剤の残留を生じることなどが考えられ、好ましくない。尚、溶媒の表面張力の測定は、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で行うものとする。
【００６２】
（インキの固形分）
インキ３０に用いる溶媒および固形分は、印刷機１０によって基材５２上に形成する層に応じて適宜選択される。例えば、後述するように印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、発光層５８用のインキ３０の固形分として、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００６３】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００６４】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
発光層用インキ３０における上述の固形分の含有量は、好ましくは、１．５〜３．５重量％の範囲で設定される。
【００６５】
（インキの溶媒）
また、印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、インキ３０の溶媒として、表面張力が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、沸点が上記の範囲（１６５〜２５０℃）を満足するもの、例えば、クメン、アニソール、ｎ−プロピルベンゼン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、リモネン、ｐ−シメン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン、安息香酸メチル、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、アミルベンゼン、テトラリン、安息香酸エチル、フェニルヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸ブチル等を単独で使用することができる。また、混合溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した表面張力と沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、表面張力がＡｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＢ℃の溶媒１と、表面張力がＣｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＤ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した表面張力［（Ａ×３／１０）＋（Ｃ×７／１０）］が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ｂ×３／１０）＋（Ｄ×７／１０）］が上記の範囲（１６５〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々の溶媒は、表面張力と沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００６６】
〔有機発光デバイス〕
次に図６乃至図８を参照して、本実施の形態における印刷機１０により形成される発光層５８を含む有機発光デバイス５１について説明する。はじめに図６および図７（ａ）（ｂ）を参照して、有機発光デバイス５１を有機発光デバイス５１の法線方向から見た場合の構造について説明する。図６は、本発明の実施の形態における有機発光デバイス５１を示す平面図であり、図７（ａ）（ｂ）は、本発明の実施の形態において、有機発光デバイス５１が発光する様子を示す図である。
【００６７】
図６および図７（ａ）（ｂ）に示すように、有機発光デバイス５１は、固定パターンが発光表示される固定パターン領域６１と、可変パターンが発光表示される可変パターン領域６２とを有している。このうち固定パターン領域６１は、図６および図７（ａ）（ｂ）に示すように、「Ａ」、「Ｂ」、「Ｃ」という文字を表示するよう発光している３つの第１発光領域６３を含んでいる。一方、可変パターン領域６２は、ドット状に縦横に配列された多数の第２発光領域６４を含んでいる。なお図６および図７（ａ）（ｂ）において、黒塗りにされている第１発光領域６３または第２発光領域６４は、当該第１発光領域６３または第２発光領域６４が発光状態であることを示している。一方、白塗りにされている第１発光領域６３または第２発光領域６４は、当該第１発光領域６３または第２発光領域６４が非発光状態であることを示している。
【００６８】
図６および図７（ａ）（ｂ）からわかるように、第１発光領域６３の面積は、第２発光領域６４の面積よりも大きくなっている。例えば、第１発光領域６３の面積は少なくとも１ｍｍ２以上となっており、第２発光領域６４の面積は１ｍｍ２よりも小さくなっている。
このように、固定パターン領域６１における第１発光領域６３の面積を１ｍｍ２以上とすることにより、有機発光デバイス５１が広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果を大きくすることができる。
また、可変パターン領域６２における第２発光領域６４の面積を１ｍｍ２よりも小さくすることにより、可変パターン領域６２において任意の文字、図形などを精密に表示することができる。このことにより、有機発光デバイス５１が広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果を大きくすることができる。
すなわち、面積の異なる二種類の発光領域６３，６４を設けることにより、有機発光デバイスが広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果や誘引性を向上させることができる。
また、後述するように、第１発光領域６３および第２発光領域６４における発光層５８は、それぞれ本実施の形態による印刷機１０から形成されている。このため、第１発光領域６３と第２発光領域６４の双方において、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高い、高品質な表示を実現することができる。このことにより、有機発光デバイスが広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果や誘引性をさらに向上させることができる。
【００６９】
なお本実施の形態において、第１発光領域６３の発光層５８は、インキ版２０のグラビア版部１４と転写ロール２４のブランケット部２７との組合せによるグラビアオフセット印刷によって形成される。また、第２発光領域６４における発光層５８は、インキ版２０のアニックス版部１と転写ロール２４のフレキソ部２３との組合せによるフレキソ印刷によって形成される。
上述のように、フレキソ部２３のゴム硬度はブランケット部２７のゴム硬度よりも高くなっており、かつ、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量はブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくなっている。このため、第２発光領域６４の面積を１ｍｍ２よりも小さくすることが可能となっている。
一方、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷においては、上述のように、フレキソ印刷の場合よりも押し込み量が大きくなっている。このため、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷は、１ｍｍ２以上の面積を有する第１発光領域６３を形成するのに適している。
【００７０】
次に図７（ａ）（ｂ）を参照して、有機発光デバイス５１が発光する様子について説明する。
図７（ａ）に示す有機発光デバイス５１において、固定パターン領域６１の３つの第１発光領域６３は全て発光状態となっており、これによって「ＡＢＣ」という文字が大きく表示されている。一方、可変パターン領域６２においては、所定の第２発光領域６４のみが発光状態となっており、これによって「１２３」という数字が表示されている。
図７（ｂ）に示す有機発光デバイス５１においても、固定パターン領域６１の３つの第１発光領域６３は全て発光状態となっており、これによって「ＡＢＣ」という文字が大きく表示されている。一方、可変パターン領域６２においては、図７（ａ）の場合とは異なる所定の第２発光領域６４のみが発光状態となっており、これによって「２３４」という数字が表示されている。
このように、可変パターン領域６２においては、発光状態とする第２発光領域６４を任意に選択することにより、任意の文字、記号、図形などが表示される。また表示の内容を時間に応じて変化させることもできる。
【００７１】
次に、有機発光デバイス５１の層構成について説明する。なお有機発光デバイス５１の固定パターン領域６１と可変パターン領域６２とは、後述する透明電極層５３、絶縁層５４または発光層５８のパターンが異なるのみであり、層構成は略同一である。ここでは、可変パターン領域６２における層構成について説明する。
【００７２】
図８は、図６の有機発光デバイス５１の可変パターン領域６２におけるVIII−VIII線での断面図である。図８に示すように、有機発光デバイス５１は、透明基材５２と、この透明基材５２上に矢印ｃ方向に延設さられた帯状パターンの複数の透明電極層（第１電極層）５３と、ストライプ形状の開口部５５を有する絶縁層５４と、開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように矢印ｄ方向に延設された帯状パターンの複数の電極層６０（第２電極層）とを備えている。
上記の絶縁層５４の開口部５５は、矢印ｃ方向に沿ったストライプ形状の開口部であり、各透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させるよう、各透明電極層５３上に位置している。なお図６および図８から分かるように、各開口部５５は、印刷方向Ｐと直交する方向に延びている。
【００７３】
また、発光素子層５６は、絶縁層５４と各開口部５５内の透明電極層５３とを被覆するように配設された正孔注入層５７と、正孔注入層５７上に所定パターンで配設された発光層５８と、正孔注入層５７および発光層５８を被覆するように配設された電子注入層５９と、からなる。なお発光層５８は、図９（ｃ）を参照して後述するように、帯状パターンの赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂが、この順で矢印ｃ方向に繰り返し配列されているものであってもよい。この場合、印刷機１０において、各発光層５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂに対応するインキとして、赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂが用いられる。
尚、電子注入層５９は、絶縁層５４を覆うように形成されているが、電極層６０の下層となる領域のみに形成されたものであってもよい。
【００７４】
このような有機発光デバイス５１は、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する領域であって、かつ開口部５５内に発光素子層５６が形成されている領域が第１発光領域６３または第２発光領域６４となるパッシブマトリックス型である。また発光層５８（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）は、後述するように、印刷機１０により形成される。このため、発光層５８の厚みを均一に７０ｎｍ以上とすることができ、これによって、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高く、高品質な表示が可能となる。また上述のように、発光素子層５６の各層５７，５８，５９は、電極層６０の下層となる領域において、それぞれ絶縁層５４と各開口部５５内の透明電極層５３とを被覆するように配設されている。このため、発光素子層５６を挟持する位置に存在する透明電極層５３と電極層６０とが短絡するのをより確実に防ぐことができ、これによって信頼性を更に高くすることができる。
【００７５】
次に、有機発光デバイス５１の各構成部材について詳細に説明する。
【００７６】
（透明基材）
はじめに透明基材５２について詳述する。透明基材５２は、ボトムエミッション方式の場合、観察者側の表面に設けられ、発光層５８からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有する材料からなる。尚、発光層５８からの光を取り出す方向を反対方向とする場合（トップエミッション方式の場合）には、透明基板５２に替えて不透明な基板を使用してもよい。
透明基板５２（これに替わる不透明な基板も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００７７】
透明基板５２を構成する樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機発光デバイス用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基板５２の厚さは、通常、５０μｍ〜１．１ｍｍ程度である。
【００７８】
このような透明基板５２は、その用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基板５２に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものを用いることができる。
【００７９】
（透明電極層）
次に、透明電極層５３について詳述する。透明電極層５３は、図５に示す例では陽極であり、発光層５８に正電荷（正孔）を注入するために、正孔注入層５７に隣接して配設されている。尚、透明電極層５３は陰極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
【００８０】
透明電極層５３は、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。
透明電極層５３は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層５３の厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
この透明電極層５３は、周辺の端子部から中央の画素領域まで所望のパターン形状で配設されている。このようなパターン形状の透明電極層５３は、スパッタリング法や真空蒸着法等においてメタルマスクを用いることにより形成され、または、全面に透明電極層用の材料を成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることにより形成される。
【００８１】
絶縁層５４は、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５を有している。この絶縁層５４は、例えば、はじめに透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、次にパターン露光、現像を行うことにより形成される。または、熱硬化性樹脂材料を用いて絶縁層５４を形成してもよい。
後述するように、絶縁層５４が形成された部分は非発光領域となっている。絶縁層５４の厚みは、絶縁層５４を構成する樹脂固有の絶縁抵抗に応じて適宜設定できるが、例えば、０．０５〜５．０μｍ程度とすることができる。また、上述の樹脂材料にカーボンブラックや、チタン窒化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物等のチタン系黒色顔料の１種、あるいは２種以上の遮光性微粒子を混合することにより、ブラックマトリックスを形成して絶縁層５４としてもよい。
尚、このような絶縁層５４の形状は、上述の形状に限定されるものではない。
【００８２】
（発光素子層）
次に発光素子層５６について詳述する。発光素子層５６は、図８に示す例では、透明電極層５３側から正孔注入層５７、発光層５８、および電子注入層５９が積層された構造となっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、正孔注入層５７と発光層５８とからなる構造、発光層５８と電子注入層５９からなる構造、さらに、正孔注入層５７と発光層５８との間に正孔輸送層（図示せず）を介在させた構造、発光層５８と電子注入層５９との間に電子輸送層（図示せず）を介在させた構造等としてもよい。
また、発光波長を調整し、または発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
以下、発光素子層５６の各層について詳細に説明する。
【００８３】
発光層
発光素子層５６の発光層５８は、後に図９（ｃ）に示す例では、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂからなっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、有機発光デバイスの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で設けてもよく、または、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせなどを設けてもよい。
発光層５８に用いる有機発光材料としては、上述のインキ３０の固形分の説明で挙げた材料を用いることができる。
【００８４】
正孔注入層
発光素子層５６の正孔注入層５７は、上述のように、絶縁層５４と各開口部５５内の透明電極層５３とを被覆するように配設されている。正孔注入層５７を形成する正孔注入材料としては、例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００８５】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
【００８６】
上述の材料から形成される正孔注入層５７は、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により正孔注入層５７を形成することもできる。
【００８７】
正孔輸送層
正孔輸送層を形成する材料としては、例えば、オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等の材料が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
【００８８】
電子注入層
電子注入層５９を形成する材料としては、例えば、カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。このような材料から形成される電子注入層５９は、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により電子注入層５９を形成することもできる。
【００８９】
上述の発光素子層５６の各層において、その厚みが特に制限されることはなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。また、発光素子層５６の各層にドーピングされる材料の例として、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等の材料を挙げることができる。
【００９０】
（電極層）
次に電極層６０について詳述する。電極層６０は、図８に示す例では陰極であり、発光層５８に負電荷（電子）を注入するために、電子注入層５９に隣接して配設されている。尚、電極層６０は陽極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
このような電極層６０の材料としては、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、上述の透明電極層５３と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。中でも、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層６０はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層６０の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
上記の電極層６０は、上述の電極材料を用いてマスクを介したスパッタリング法や真空蒸着法等の方法によりパターン形状に成膜して形成することができる。
【００９１】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、発光層５８を含む有機発光デバイス５１の形成方法について、図１および図９を参照して説明する。
【００９２】
はじめに、図９（ａ）に示すように、透明基材５２上に、所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する。透明電極層５３を形成する方法が特に限られることはなく、メタルマスクを用いたスパッタリング法や真空蒸着法等によって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法、または、透明電極層用の材料を透明基材５２上の全面にわたって成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることによって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法などが適宜選択される。
【００９３】
次に、図９（ｂ）に示すように、透明基材５２上に、透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部５５を有する絶縁層５４を形成する。この場合、はじめに、透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、その後、塗布された感光性樹脂材料に対してパターン露光、現像を行う。このようにして、複数の開口部５５を有する絶縁層５４が形成される。
【００９４】
その後、図９（ｃ）に示すように、開口部５５内の透明電極層５３上および絶縁層５４を被覆するよう、正孔注入層５７を形成する。正孔注入層５７を形成する方法が特に限られることはなく、例えば、固定パターン領域６１および可変パターン領域６２に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
【００９５】
次に、図９（ｄ）に示すように、正孔注入層５７上に発光層５８を形成する。発光層５８は、上述の印刷機１０を用いて形成される。
【００９６】
以下、印刷機１０を用いて発光層５８を形成する方法について詳述する。はじめに、発光層５８の材料となる有機発光材料を含有するインキ３０を、ドクター８を用いて、インキ版２０の、グラビア版部１４のセル１５およびアニロックス版部１のセル２に充填させる。次に、インキ版２０上で転写ロール２４を走行させ、これによって、インキ版２０のグラビア版部１４のセル１５から転写ロール２４のブランケット部２７へインキ３０を受理させるとともに、インキ版２０のアニロックス版部１のセル２から転写ロール２４のフレキソ部２３へインキ３０を受けさせる。その後、転写ロール２４を基材定盤６に向って走行させる。
【００９７】
次に、基材定盤６上の透明基材５２上で転写ロール２４を走行させる。これによって、固定パターン領域６１において、ブランケット部２７により所定の印圧で、正孔注入層５７上にインキ３０がグラビアオフセット印刷される。同時に、可変パターン領域６２において、フレキソ部２３により所定の印圧で、正孔注入層５７上にインキ３０が図９（ｄ）に示す所定のパターンでフレキソ印刷される。なお、このとき、赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂが順に配列されるように印刷が行われてもよい。
その後、転移されたインキ３０を適宜乾燥させることにより正孔注入層５７上に発光層５８（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）が形成される。
【００９８】
その後、図９（ｅ）に示すように、正孔注入層５７および発光層５８を被覆するよう、電子注入層５９を形成する。電子注入層５９を形成する方法が特に限られることはなく、例えば、正孔注入層５７を形成する場合と同様に、固定パターン領域６１および可変パターン領域６２に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
【００９９】
最後に、発光素子層５６のうち所望の開口部５５内に位置する発光素子層５６に接続されるよう、電極層６０を所定のパターン形状で形成する。このようにして、図８に示す有機発光デバイス５１が形成される。
【０１００】
このようにして形成された有機発光デバイス５１において、開口部５５内に発光素子層５６が形成されている領域であって、かつ透明電極層５３と電極層６０との間に発光素子層５６が形成されている領域により、発光領域が画定される。このようにして画定される発光領域は、透明電極層５３と電極層６０との間に電圧を印加することによって光を放出する領域である。ここで、図９（ｆ）に示すように、有機発光デバイス５１の固定パターン領域６１における発光領域が第１発光領域６３となっており、可変パターン領域６３における発光領域が第２発光領域６４となっている。また上述のように、第１発光領域６３における発光層５８は、インキ版２０のグラビア版部１４と転写ロール２４のブランケット部２７との組合せによるグラビアオフセット印刷によって形成される。また、第２発光領域６４における発光層５８は、インキ版２０のアニックス版部１と転写ロール２４のフレキソ部２３との組合せによるフレキソ印刷によって形成される。
【０１０１】
ところで、本実施の形態によれば、上述のとおり、転写ロール２４において、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃは、ブランケット部２７の外面２７ｂからなるインキ受理面よりも転写ロール２４内方にΔｈだけ引っ込んでいる。このため、印刷機１０によって発光層５８を形成する際、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷における印圧が、フレキソ部２３によるフレキソ印圧の印圧よりも大きくなっている。このため、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷によって大面積かつ均一な厚みの発光層５８を形成し、同時に、フレキソ部２３によるフレキソ印刷によって微細かつ均一な厚みの発光層５８を形成することができる。このことにより、第１発光領域６３と第２発光領域６４の双方において、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高い、高品質な表示を実現することができる。
【０１０２】
なお、本実施の形態において、開口部５５内に発光素子層５６が形成されている領域であって、かつ透明電極層５３と電極層６０との間に発光素子層５６が形成されている領域により発光領域が画定される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、絶縁層５４の開口部５５により発光領域が画定されていてもよい。
【０１０３】
例えば、図１０（ａ）に示すようなパターンの開口部５５を有する絶縁層５４が透明電極層５３上に形成される場合を考える。ここで、固定パターン領域６１が形成される部分における開口部が第１開口部５５Ａとなっており、可変パターン領域が形成される部分における開口部が第２開口部５５Ｂとなっている。この場合、絶縁層５４が形成された後、図１０（ｂ）に示すように、少なくとも開口部５５Ａ，５５Ｂを覆うように正孔注入層５７、発光層５８および電子注入層５９が順次形成される。次に、図１０（ｃ）に示すように、電子注入層５９上に電極層６０が形成される。
【０１０４】
ここで有機発光デバイス５１を上方から見た場合、絶縁層５４が形成されている領域においては、透明電極層５３と電極層６０との間の電流の流れが絶縁層５４により遮断される。このため、絶縁層５４が形成されている領域が非発光領域となり、絶縁層５４の開口部５５Ａ，５５Ｂが形成されている領域が発光領域となる。すなわち、図１０（ａ）（ｃ）に示すように、第１開口部５５Ａにより、固定パターン領域６１の第１発光領域６３が画定され、第２開口部５５Ｂにより、可変パターン領域６２の第２発光領域６４が画定される。
【０１０５】
このとき、第１開口部５５Ａの面積は、少なくとも１ｍｍ２以上となっており、第２開口部５５Ｂの面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。このため、固定パターン領域６１における第１発光領域６３の面積を少なくとも１ｍｍ２以上とし、可変パターン領域６２における第２発光領域６４の面積を１ｍｍ２よりも小さくすることができる。すなわち、各開口部５５Ａ，５５Ｂの面積を適宜設定することにより、各発光領域６３，６４の面積を任意に設定することができる。
【０１０６】
〔印刷機の変形例〕
印刷機の変形例１
なお印刷機１０において、インキ版２０におけるグラビア版部１４またはアニロックス版部１の配置が特に限られることはなく、同様に、転写ロール２４におけるブランケット部２７またはフレキソ部２３の配置が特に限られることもない。例えば、図１１に示すように、転写ロール２４において、ブランケット部２７とフレキソ部２３とが転写ロール２４の回転方向Ｒに沿って並ぶよう配置されていてもよい。この場合、転写ロール２４のブランケット部２７およびフレキソ部２３に対応するよう、インキ版２０において、グラビア版部１４とアニロックス版部１とが印刷方向Ｐに沿って並ぶよう配置される。
【０１０７】
印刷機の変形例２
また本実施の形態において、転写ロール２４との間で基材５２を挟持するバックアップ体が、平板状の印刷定盤６からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１２に示すように、バックアップ体が、転写ロール２４との間で基材５２を挟持するロール状の圧胴６ａからなっていてもよい。この場合、はじめに、インキ供給部７によりインキ版２０の上面にインキ３０が供給され、次にドクター８により、インキ版２０の上面における不要なインキ３０が掻き取られる。その後、インキ版２０の上面のインキ３０が転写ロール２４に受理される。次に、転写ロール２４のインキ３０が、圧胴６ａ上を搬送されている基材５２上に転移される。
【０１０８】
印刷機の変形例３
また本実施の形態において、インキ版が、平板状の形状を有するインキ版２０からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１３に示すように、インキ版が、ロール状の形状を有するインキ版胴２０ａからなっていてもよい。この場合、インキ版胴２０ａの外周面には、平板状のインキ版２０の場合と同様に、複数のセル１５を有するグラビア版部１４と、複数のセル２を有するアニロックス版部１とが形成されている。また平板状のインキ版２０の場合と同様に、インキ版胴２０ａのグラビア版部１４のインキ３０は転写ロール２４のブランケット部２７によって受理され、インキ版胴２０ａのアニロックス版部１のインキ３０は転写ロール２４のフレキソ部２３によって受けられる。
【０１０９】
ロール状のインキ版胴２０ａを備えた印刷機１０においては、図１３に示すように、はじめに、インキパン７ａ（インキ供給部）によりインキ版胴２０ａの外周面にインキ３０が供給され、次にドクター８により、インキ版胴２０ａの外周面における不要なインキ３０が掻き取られる。その後、インキ版２０の上面のインキ３０が転写ロール２４によって受理される。次に、転写ロール２４のインキ３０が、圧胴６ａ上を搬送されている基材５２上に転移される。
【０１１０】
印刷機の変形例４
また印刷機１０において、転写ロール２４のブランケット部２７を構成する樹脂フィルム２７ａが、転写ロール２４の中心ロール２５の周面に一体的に設けられている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１４に示すように、樹脂フィルム２７ａが、中心ロール２５に巻き付くように中心ロール２５の回転とともに搬送されるものであってもよい。この場合、インキ版胴２０ａからインキ３０を受理する位置（矢印ｅで示される位置）と、インキ３０を基材５２に転移させる位置（矢印ｆで示される位置）と、を少なくとも含む範囲において、中心ロール２５に樹脂フィルム２７ａが巻き付けられる。
【０１１１】
〔インキ版の変形例〕
また、本実施の形態のインキ版２０において、グラビア版部１４のセルが、ストライプ状の形状を有するセル１５からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、グラビア版部１４のセル１５が、グラビア版部１４に格子状に配置されたセル１５からなっていてもよい。同様に、アニロックス版部１のセル２が、アニロックス版部１に格子状に配置されたセル２からなっていてもよい。
【０１１２】
例えば、図１５に示すように、グラビア版部１４のセル１５が、複数に区画された形状（図１５に示す例では、各セル１５は正方形）を有していてもよい。この場合、各セル１５の間には非セル部１６が存在する。また、アニロックス版部１のセル２についても同様に、図１５に示すように、アニロックス版部１のセル２が、複数に区画された形状（図１５に示す例では、各セル２は正方形）を有していてもよい。また図１６に示すように、各セル２，１５が菱形の形状を有していてもよい。さらに図１７に示すように、各セル２，１５が楕円形の形状を有していてもよい。
【０１１３】
図１５〜図１７に示す各セル２，１５において、各セル２，１５（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが好ましくは０．６以上であり、上限には特に制限はない。また、成膜部位に占める総セル面積が好ましくは５５〜９５％の範囲内であり、非セル部３，１６の幅（非セル部長Ｓ３，Ｓ４）が２〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍの範囲内であり、各セル２，１５の深さ（版深）が１５〜１００μｍ、好ましくは１５〜８０μｍの範囲内である。
【０１１４】
上記の比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、発光層５８の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層５８の形成が困難となり好ましくない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５％未満であると、厚膜形成が困難となり、９５％を超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部３，１６の幅（非セル部長Ｓ３，Ｓ４）が２μｍ未満であると、各セル２，１５の形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり、かつ厚膜形成が困難となり好ましくない。また、各セル２，１５の深さ（版深）が１５μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、１００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。
尚、上述の各セル２，１５の形状は例示であり、上述の形態に限定されるものではない。
【０１１５】
〔転写ロールの変形例〕
また、本実施の形態において、転写ロール２４が、軸心となる中心ロール２５と、中心ロール２５の外周上に設けられたフレキソ部２３およびブランケット部２７とからなっている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１８に示すように、転写ロール２４が、中心ロール２５と、中心ロール２５を取り囲む円筒状のプラスチックスリーブ２６と、プラスチックスリーブ２６の外周上に設けられたフレキソ部２３およびブランケット部２７とからなっていてもよい。この場合、プラスチックスリーブ２６を中心ロール２５上に固定する方法が特に限られることはない。例えば、プラスチックスリーブ２６が、中心ロール２５内に配置されたエアークランプ機構（図示せず）によって中心ロール２５上に固定されていてもよく、または、プラスチックスリーブ２６が、中心ロール２５内に配置された吸着機構（図示せず）によって中心ロール２５上に固定されていてもよい。
【０１１６】
〔有機発光デバイスの変形例〕
また、本実施の形態において、有機発光デバイスが、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型の有機発光デバイス５１である例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、有機発光デバイスがアクティブマトリックス型であってもよい。
【０１１７】
図１９および図２０は、アクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスの一例を説明するための図である。図１９は電極配線パターンを示す図であり、透明基材（図示せず）上に形成された電極配線パターン７３は、信号線７３Ａ、走査線７３Ｂ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７３Ｃ、透明電極（画素電極）層７３Ｄからなる。また、これらの電極配線パターン７３を被覆するように絶縁層７４（図１９で斜線を付した部位）が形成されており、この絶縁層７４は、各透明電極層７３Ｄ上に位置する開口部７５を備えている。また、絶縁層７４には、各開口部７５内の透明電極層７３Ｄを被覆するように発光素子層（図示せず）が形成され、この発光素子層上に電極（共通電極）層（図示せず）が配設される。
【０１１８】
上記の発光素子層は、絶縁層７４と各開口部７５内の透明電極層７３Ｄとを被覆するように配設された正孔注入層と、開口部７５内の透明電極層７３Ｄ（正孔注入層）を被覆するように各開口部７５に配設された複数の発光層と、これらを被覆するように配設された電子注入層と、から構成することができる。図２０は、絶縁層７４の開口部７５と発光層との関係を示す図である。図２０では、発光層は、開口部７５よりも大きい所望のパターン形状の赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂからなっている。
【０１１９】
このようなアクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスも、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）は、本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、このため、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）の厚みのばらつきが小さくなっている。このことにより、発光素子層の発光時の輝度、効率の高い、高品質の表示が可能である。また、開口部７５の周縁の絶縁層７４に乗り上げるように発光素子層を形成した場合、発光素子層を挟持する位置に存在する透明電極層７３Ｄと電極層（図示せず）との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
尚、上記の発光素子層は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【実施例】
【０１２０】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【０１２１】
［実施例１］
本発明の印刷機１０を用いて、基材５２上にインキ３０を印刷した。
インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃｐであり、沸点が１８６℃であるインキを用いた。インキ３０の固形分の重量％を２．５重量％、インキ３０の溶媒の表面張力を３２ｄｙｎｅ／ｃｍとした。
転写ロール２４としては、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃの高さと、ブランケット部２７の外面２７ｂの高さとの差Δｈが−０．１〜＋０．８ｍｍまで０．１ｍｍ刻みで異なっている計１０種類の転写ロールを用いた。なお、Δｈの値が正の値であることは、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃがブランケット部２７の外面２７ｂよりも内方に引っ込んでいることを意味している。
【０１２２】
上述の１０種類の転写ロール２４を用いて、計１０通りの印刷を行った。各印刷において、転写ロール２４のフレキソ部２３およびブランケット部２７によってそれぞれ形成された印刷物について、その厚み（膜厚）を複数の点で測定した。次に、複数の点で測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、最大値（膜厚ｍａｘ）、最小値（膜厚ｍｉｎ）を算出した。その後、当該平均値、最大値および最小値に基づき、膜厚変動率（％）を算出した。なお膜厚変動率（％）は、具体的には以下の式により導かれる。
膜厚変動率（％）＝｛（膜厚ｍａｘ−膜厚ｍｉｎ）／平均膜厚｝×１００
【０１２３】
印刷機１０の転写ロール２４におけるΔｈを−０．１〜＋０．８ｍｍまで０．１ｍｍ刻みで変更して、印刷物３０ａの膜厚変動率を評価した結果を表１に示す。なお表１において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１】
【０１２４】
表１に示されているように、Δｈが０．１〜０．５ｍｍの範囲内となっている場合に、フレキソ部２３およびブランケット部２７によって基材５２上に形成された印刷物の膜厚変動率がそれぞれ５％以内となっていた。とりわけ、Δｈが０．２〜０．４ｍｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物の膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
【符号の説明】
【０１２５】
１…アニロックス版部
２…セル
３…非セル部
５…フレーム
６…基材定盤
６ａ…圧胴
７…インキ供給部
７ａ…インキパン
８…ドクターシステム
８ａ…第１ドクター
８ｂ…第２ドクター
１０…印刷機
１４…グラビア版部
１５…セル
１６…非セル部
２０…インキ版
２３…フレキソ部
２３ａ…凸部
２３ｂ…凹部
２３ｃ…上面
２４…転写ロール
２５…中心ロール
２６…プラスチックスリーブ
２７…ブランケット部
２７ａ…樹脂フィルム
２７ｂ…外面
３０…インキ
５１…有機発光デバイス
５２…透明基材
５３…透明電極層
５４，７４…絶縁層
５５，７５…開口部
５６…発光素子層
５７…正孔注入層
５７ａ…正孔輸送層
５８，５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂ，７８Ｒ，７８Ｇ，７８Ｇ…発光層
５９…電子注入層
６０…電極層
６１…固定パターン領域
６２…可変パターン領域
６３…第１発光領域
６４…第２発光領域
７３…電極配線パターン
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブランケット部とフレキソ部とを有する転写ロールによって印刷を行う印刷機に関する。また本発明は、当該印刷機を用いて有機発光デバイスの発光素子層における発光層を形成する方法に関する。また本発明は、前記印刷機により発光層を形成する工程を含む有機発光デバイスの形成方法、および有機発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光デバイスは、有機発光材料に電場を与えることで励起し発光するデバイスである。有機発光デバイスは、自己発光性であるため視認性が高く、また完全固体素子であるため耐衝撃性に優れている等の特徴を有している。その他にも、有機発光デバイスは、印加電圧１０Ｖ弱という低電圧であっても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高いこと、単純な素子構造で発光が可能であること、輝度が高く長寿命であること等の利点を有している。
【０００３】
また、有機発光デバイスは、主に対向する電極の間に少なくとも発光層を有する発光素子層が形成された積層構造である。ここで、有機発光デバイスを発光させる上で、発光素子層の各層を、ナノメートル単位の厚みとすることが可能である。このため、有機発光デバイスは、その他の発光デバイスに比べて、デバイスの薄型化及び軽量化が容易であるという利点を有している。さらに、有機発光デバイスの各層を、高分子材料を溶解させた塗布液を塗布することにより作製することができ、このため、有機発光デバイスは、紙への印刷法を応用した製法やインクジェット法を応用した製法を適用可能であるという利点等も有している。
【０００４】
こうした多くの利点を有する有機発光デバイスを広告用ディスプレイなどとして用いることが検討されている。例えば、特許文献１においては、有機発光デバイスを用いて、特定の文字または図形などからなる固定パターンを発光表示させることが提案されている。また特許文献１においては、時間の経過につれて移動または変化する文字または図形などからなる可変パターンを発光表示させることも提案されている。このような可変パターンの発光表示は、発光素子層をドット状に縦横に配列し、時間に応じて各ドットを互いに独立して発光させることにより実現されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１１１１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般に、広告用ディスプレイの固定パターンを大きくすることにより、不特定の人の注意を惹きつけることができる。また、可変パターンを設けることにより、惹きつけられた人の注意を長く保つことができる。従って、広告用ディスプレイの訴求効果を向上させるためには、一つの有機発光デバイスが、固定パターンを発光表示させる固定パターン領域と、可変パターンを表示させる可変パターン領域とをともに備えていることが好ましい。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、優れた訴求効果を有する広告用ディスプレイとして適用され得る有機発光デバイスを提供することを目的とする。また本発明は、当該有機発光デバイスの形成方法、または当該有機発光デバイスにおける発光素子層の発光層の形成方法を提供することを目的とする。さらに本発明は、当該発光素子層の発光層を形成するのに適した印刷機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、フレームと、前記フレーム上に配置され、その上面にグラビア版部とアニックス版部とを有する平板状のインキ版と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させるバックアップ体と、を備え、前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機である。
【０００９】
本発明は、ロール状のインキ版であって、その外周面にグラビア版部とアニックス版部とを有するインキ版と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させる圧胴と、を備え、前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理する第１インキ受理面を含み、前記フレキソ版部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機である。
【００１０】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも０．１〜０．５ｍｍだけ転写ロール内方に引っ込んでいる。
【００１１】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内である。
【００１２】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２５０℃の範囲内である。
【００１３】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜３．５重量％の範囲内である。
【００１４】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記転写ロールの前記ブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなっている。
【００１５】
本発明の印刷機において、好ましくは、前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲である。
【００１６】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのブランケット部は、転写ロールの中心ロールの周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであってもよい。
【００１７】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなり、前記グラビア版部からインキを受理する位置と、インキを前記基材上に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転する中心ロールに巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであってもよい。
【００１８】
本発明の印刷機において、前記中心ロールと前記ブランケット部との間にクッション層が介在されていてもよい。
【００１９】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのフレキソ部は、水現像可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００２０】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのフレキソ部は、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００２１】
本発明の印刷機において、前記転写ロールのフレキソ部は、転写ロールの中心ロールの周面に粘着材により固定されていてもよい。
【００２２】
本発明の印刷機において、前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなっていてもよい。この場合、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置されたエアークランプ機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。または、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置された吸着機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。
【００２３】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を上記記載の印刷機により形成する方法において、少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に充填させる工程と、当該グラビア版部およびアニックス版部から前記転写ロールに前記インキを受理させる工程と、前記転写ロール上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも内方に引っ込んでいることを特徴とする発光層の形成方法である。
【００２４】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、基材を準備する工程と、前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、前記開口部内に、少なくとも発光層を有する発光素子層を形成する工程と、前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上記記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法である。
【００２５】
本発明の有機発光デバイスの形成方法において、前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定されてもよい。この場合、当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、前記第１発光領域の面積は、前記第２発光領域の面積よりも大きくなっている。また、前記第１発光領域における発光素子層の発光層は、前記ブランケット部から転移されるインキから形成され、前記第２発光領域における発光素子層の発光層は、前記フレキソ部から転移されるインキから形成される。
【００２６】
本発明の有機発光デバイスの形成方法において、好ましくは、前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。
【００２７】
本発明の有機発光デバイスの形成方法において、前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定されてもよい。この場合、前記発光素子層を形成する工程において、発光素子層が、前記絶縁層および前記開口部を覆うよう形成される。
【００２８】
本発明は、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層を有する発光素子層と、前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定され、当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする有機発光デバイスである。
【００２９】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定されてもよい。この場合、開口部は、前記第１発光領域に対応する第１開口部と、前記第２発光領域に対応する第２開口部とからなり、前記第１開口部の面積は、１ｍｍ２以上となっており、前記第２開口部の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、印刷機の転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有している。また、ブランケット部は、インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、フレキソ部は、インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含んでいる。このため、インキ版のグラビア版部と転写ロールのブランケット部との組合せによるグラビアオフセット印刷と、インキ版のアニロックス版部と転写ロールのフレキソ部との組合せによるフレキソ印刷とを、一つの転写ロールで同時に行うことができる。
また、フレキソ部の凸部は、ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいる。このため、ブランケット部によるグラビアオフセット印刷における印圧を、フレキソ部によるフレキソ印刷における印圧よりも大きくすることができる。従って、グラビアオフセット印刷とフレキソ印刷とをそれぞれ適切な印圧で同時に行うことができる。このことにより、グラビアオフセット印刷により形成される層の厚みのばらつきと、フレキソ印刷により形成される層の厚みのばらつきとを、それぞれ適切に抑制することができる。
【００３１】
また本発明によれば、発光層を形成する方法は、上記記載の印刷機により発光層を形成する工程を含んでいる。このため、インキ版のグラビア版部と転写ロールのブランケット部との組合せによるグラビアオフセット印刷と、インキ版のアニロックス版部と転写ロールのフレキソ部との組合せによるフレキソ印刷とを、一つの転写ロールで同時に行うことができる。また、フレキソ部の凸部が、ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでおり、このため、ブランケット部によるグラビアオフセット印刷における印圧を、フレキソ部によるフレキソ印刷における印圧よりも大きくすることができる。従って、グラビアオフセット印刷により、大きな印圧で、厚みの均一な発光層を形成することができ、同時にフレキソ印刷により、グラビアオフセット印刷よりも小さな印圧で、厚みの均一な発光層を精度よく形成することができる。
【００３２】
また本発明によれば、少なくとも発光層を有する発光素子層を含む有機発光デバイスを形成する方法は、上記記載の発光層形成方法により発光層を形成する工程を含んでいる。このため、グラビアオフセット印刷により、大きな印圧で、厚みの均一な発光層を形成することができ、同時にフレキソ印刷により、グラビアオフセット印刷よりも小さな印圧で、厚みの均一な発光層を精度よく形成することができる。このことにより、高品質な表示が可能で信頼性の高い有機発光デバイスを形成することができる。
【００３３】
また本発明によれば、有機発光デバイスは、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、基材上に形成され、第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層を有する発光素子層と、発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備えている。この場合、開口部内に発光素子層が形成されている領域であって、かつ第１電極層と第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定される。この発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなっている。このうち第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。このように面積の異なる二種類の発光領域を設けることにより、有機発光デバイスの誘引性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における印刷機を示す斜視図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態におけるインキ版を示す平面図。
【図３】図３（ａ）（ｂ）（ｃ）は、本発明の実施の形態において、グラビア版部のセルまたはアニロックス版部のセルの印刷方向における幅ｂと、これに直交する方向における幅ａの比ｂ／ａを示す平面図。
【図４】図４は、図１の印刷機の転写ロールのIV−IV線での断面図。
【図５】図５（ａ）は、図４の転写ロールをＶａ方向から見た場合を示す図、図５（ｂ）は、図４の転写ロールをＶｂ方向から見た場合を示す図。
【図６】図６は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスを示す平面図。
【図７】図７（ａ）（ｂ）は、本発明の実施の形態において、有機発光デバイスが発光する様子を示す図。
【図８】図８は、図６の有機発光デバイスのVIII−VIII線での部分断面斜視図。
【図９】図９（ａ）〜（ｆ）は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスの形成方法を示す図。
【図１０】図１０（ａ）〜（ｃ）は、有機発光デバイスの形成方法の変形例を示す図。
【図１１】図１１は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１２】図１２は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１３】図１３は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１４】図１４は、本発明における印刷機の他の実施形態を示す図。
【図１５】図１５は、本発明におけるインキ版の他の実施形態を示す図。
【図１６】図１６は、本発明におけるインキ版の他の実施形態を示す図。
【図１７】図１７は、本発明におけるインキ版の他の実施形態を示す図。
【図１８】図１８は、本発明における転写ロールの他の実施形態を示す図。
【図１９】図１９は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す平面図。
【図２０】図２０は、図１９に示す有機発光デバイスにおいて、発光層と絶縁層の開口部との関係を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、図１乃至図９を参照して、本発明の実施の形態について説明する。はじめに図１を参照して、印刷機１０全体について説明する。
【００３６】
〔印刷機〕
図１に示すように、印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に配置され、その上面にグラビア版部１４とアニックス版部１とを有する平板状のインキ版２０と、インキ版２０のグラビア版部１４およびアニックス版部１にインキ３０を供給するインキ供給部７と、インキ供給部７から供給されたインキ３０をグラビア版部１４のセル１５（後述）内およびアニックス版部１のセル２（後述）内に充填させるドクターシステム８と、インキ版２０に当接してインキ３０を受理する転写ロール２４と、転写ロール２４との間で基材５２を挟持して、転写ロール２４上のインキ３０を基材５２上に転移させるバックアップ体と、を備えている。ここで、図１に示すように、バックアップ体は、フレーム５上に配置され、平板状の基材５２を載置する基材定盤６からなっている。また、転写ロール２４は、フレーム５上を矢印Ｐで示す印刷方向に沿って走行可能となるようフレーム５に設けられている。またドクターシステム８は、インキ版２０上のインキ３０を図１における右方向に向かって掻く第１ドクター８ａと、インキ３０を図１における左方向に向かって掻く第２ドクター８ｂとを有している。
【００３７】
このうち転写ロール２４は、図１に示すように、矢印Ｒで示す方向に回転する中心ロール２５と、中心ロール２５の周面に設けられたブランケット部２７およびフレキソ部２３とを有している。このうちブランケット部２７は、インキ版２０のグラビア版部１４からインキ３０を受理するとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このブランケット部２７は弾性材料からなっている。またフレキソ部２３は、インキ版２０のアニックス版部１からインキ３０を受けるとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させるものであり、このフレキソ部２３も弾性材料からなっている。
後述するように、このような印刷機１０により有機発光デバイス５１（後述）の透明基材５２上に発光層５８を形成する場合、ブランケット部２７から透明基材５２上に転移されるインキ３０により、有機発光デバイス５１の固定パターン領域６１の発光層５８が形成される。一方、フレキソ部２３から透明基材５２上に転移されるインキ３０により、有機発光デバイス５１の可変パターン領域６２の発光層５８が形成される。
【００３８】
〔インキ版〕
次に図２および図３を参照して、インキ版２０について詳細に説明する。図２は、本発明のインキ版２０の一実施形態を説明するための平面図である。上述のように、インキ版２０は、その上面にグラビア版部１４とアニックス版部１とを有している。以下、グラビア版部１４およびアニックス版部１についてそれぞれ詳細に説明する。
【００３９】
グラビア版部
はじめにグラビア版部１４について説明する。図２に示すように、グラビア版部１４は、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル１５を有している。また各セル１５は、ストライプ状の形状を有しており、各セル１５の間には非セル部１６が存在する。そして、各セル１５（斜線を付した部位）の幅（セル部長Ｌ１）と、非セル部１６の幅（非セル部長Ｓ１）との比Ｌ１／Ｓ１が０．８〜１００、好ましくは１〜６０の範囲内となっている。また、セル１５の幅（セル部長Ｌ１）が１０〜５００μｍ、好ましくは３０〜３００μｍの範囲内となっており、非セル部１６の幅（非セル部長Ｓ１）が２〜５００μｍ、好ましくは５〜２００μｍの範囲内となっており、セル１５の深さ（版深）が２０〜２００μｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲内となっている。これらセル１５および非セル部１６は、成膜部位全体の面積（セル１５および非セル部１６全体の面積）に占めるセル１５全体の面積の比率が５５〜９５％、好ましくは６０〜９０％の範囲内となるよう構成されている。
【００４０】
また、本発明のグラビア版部１４は、図３（ａ）に示すように、各セル１５（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり上限には特に制限はない。尚、本発明において印刷方向とは、転写ロール２４の回転方向と同義である。
また図２および図３（ａ）において、ストライプ状の形状を有する各セル１５が印刷方向Ｐと平行に延びている例を示したが、これに限られることはない。例えば図３（ｂ）（ｃ）に示すように、各セル１５が延びている方向と印刷方向Ｐとが平行となっていなくてもよい。この場合も、図３（ｂ）（ｃ）に示すように、各セル１５（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上となっている。
【００４１】
なお、グラビア版部１４におけるセル部長Ｌ１と非セル部長Ｓ１との比Ｌ１／Ｓ１が０．８未満であると、厚膜形成が困難となり、１００を超えると、グラビア版部１４のセル形成が困難となり、また膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、セル１５の幅（セル部長Ｌ１）が１０μｍ未満であると、厚膜形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部１６の幅（非セル部長Ｓ１）が２μｍ未満であると、グラビア版部１４のセル形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きく、また厚膜形成が困難となり好ましくない。
【００４２】
また、セル１５の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。さらに、比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、後述する発光層の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層の形成が困難となり好ましくない。
【００４３】
アニロックス版部
次にアニロックス版部１について説明する。図２に示すように、アニロックス版部１は、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル２を有している。また各セル２は、ストライプ状の形状を有しており、各セル２の間には非セル部３が存在する。これらセル２および非セル部３は、成膜部位全体の面積（セル２および非セル部３全体の面積）に占めるセル２全体の面積の比率が５５〜９５％、好ましくは７０〜９５％となるよう構成されている。成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率を上述のように設定することにより、転写ロール２４のフレキソ部２３に対して十分な量のインキ３０を渡すことができる。
セル２の幅（セル部長Ｌ２）は、例えば１０〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは３０〜３００μｍの範囲内となっている。また、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ２）は、例えば２〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは５〜２００μｍの範囲内となっている。
【００４４】
また、グラビア版部１４のセル１５の場合と同様に、各セル２における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａは、０．６以上となっている（図３（ａ）参照）。比ｂ／ａの上限には特に制限はない。また、グラビア版部１４のセル１５の場合と同様に、各セル２が延びている方向と印刷方向Ｐとが平行となっていなくてもよい（図３（ｂ）（ｃ）参照）。
【００４５】
また、各セル２の深さ（版深）は、好ましくは２０〜２００μｍの範囲内、さらに好ましくは３０〜１００μｍの範囲内となっている。また、好ましくは、アニロックス版部１の各セル２の深さは、グラビア版部１４の各セル１５の深さと同一になっている。このように、セル２とセル１５の深さを同一とすることにより、グラビア版部１４とアニロックス版部１とを有するインキ版２０をより容易に作製することができる。
【００４６】
〔転写ロール〕
次に図４および図５（ａ）（ｂ）を参照して、転写ロールについて詳細に説明する。ここで図４は、図１の印刷機１０の転写ロール２４のIV−IV線での断面図であり、図５（ａ）は、図４の転写ロール２４をＶａ方向から見た場合を示す図であり、図５（ｂ）は、図４の転写ロール２４をＶｂ方向から見た場合を示す図である。
上述のように、転写ロール２４は、矢印Ｒで示す方向に回転する中心ロール２５と、中心ロール２５の周面に設けられたブランケット部２７およびフレキソ部２３とを有している。以下、ブランケット部２７およびフレキソ部２３についてそれぞれ詳細に説明する。
【００４７】
ブランケット部
はじめにブランケット部２７について説明する。上述のように、ブランケット部２７は弾性材料からなっている。とりわけ好ましくは、ブランケット部２７は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルム２７ａからなっている。また図４および図５（ａ）に示すように、ブランケット部２７を構成する樹脂フィルム２７ａは、転写ロール２４の中心ロール２５の周面に一体的に設けられている。また図４および図５（ａ）に示すように、ブランケット部２７の外面２７ｂは、ブランケット部２７全域にわたって平坦になっている。この外面２７ｂが、インキ版２０のグラビア版部１４からのインキ３０を受理するインキ受理面となっており、外面２７ｂには、グラビア版部１４のセル１５のパターンに応じた絵柄でインキ３０が受理される。外面２７ｂに受理されたインキ３０は、その後、基材５２上に転移される。
このように本実施の形態によれば、インキ版２０のグラビア版部１４と転写ロール２４のブランケット部２７との組合せにより、いわゆるグラビアオフセット印刷が行われる。
【００４８】
ブランケット部２７を構成する樹脂フィルム２７ａの表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、グラビア版部１４からのインキ受理性が低下する。このため、基材５２に均一な厚みでインキ３０を転移させることが困難となる。なお、樹脂フィルム２７ａの表面張力（固体の表面張力［γｓ］）は、例えば、自動接触角計（協和界面科学（株）製 DropMaster 700型）を用いることにより算出される。この場合、はじめに、２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計にて接触角θを測定し、次に、γｓ（固体の表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（固体の液体の表面張力）の式に基づいて樹脂フィルム２７ａの表面張力が算出される。
【００４９】
使用する樹脂フィルム２７ａとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンテレフタレートフィルム、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、コロナ処理を施したポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンナフタレートフィルム、ポリノルボルネンフィルム、メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルム２７ａの厚みは、例えば、５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲とすることができる。樹脂フィルム２７ａの厚みが５μｍ未満であると、フィルム加工性、中心ロール２５への装着性が低下して好ましくない。また、樹脂フィルム２７ａの厚みが２００μｍを超えると、硬度が高くなりすぎ、柔軟性が低下して好ましくない。
【００５０】
なお、中心ロール２５とブランケット部２７の樹脂フィルム２７ａとの間にクッション層（図示せず）が介在されていてもよい。この場合、クッション層の硬度は、例えば、２０〜８０の範囲とすることができ、クッション層の厚みは、例えば、０．１〜３０ｍｍの範囲とすることができる。尚、上記の硬度は、ＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００５１】
フレキソ部
次にフレキソ部２３について説明する。上述のように、フレキソ部２３は、転写ロール２４の中心ロール２５の周面に設けられている。この場合、フレキソ部２３は、中心ロール２５の周面に粘着材により固定されている。また上述のように、フレキソ版２３は弾性材料から形成されており、また図４および図５（ｂ）に示すように、フレキソ版２３は、それぞれが転写ロール２４の回転方向に沿って延びるとともに、ストライプ状に配置された複数の凸部２３ａと、各凸部２３ａ間に形成された凹部２３ｂとを有している。図４および図５（ｂ）に示すように、凸部２３ａの上面２３ｃが、インキ版２０のアニックス版部１からのインキ３０を受ける面となっている。このため、転写ロール２４上のインキ３０を基材５２上に転移させる際、フレキソ部２３からのインキ３０は、フレキソ部２３の凸部２３ａのパターンに応じた絵柄で転移される。
このように本実施の形態によれば、インキ版２０のアニックス版部１と転写ロール２４のフレキソ部２３との組合せにより、いわゆるフレキソ印刷が行われる。
【００５２】
弾性材料からなるフレキソ部２３の作製方法が特に限られることはなく、例えば、水現像可能な樹脂材料を露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングすることにより作製することができる。水現像可能な樹脂材料としては、例えば、ポリビニルアルコールを用いることができる。
【００５３】
また、中心ロール２５周面上に粘着材により樹脂材料を設け、この樹脂材料をレーザ光で彫刻することによりフレキソ部２３を作製してもよい。レーザ光による彫刻が可能な樹脂材料としては、例えば、無機多孔質体微粒子を含有する感光性樹脂を用いることができる。感光性樹脂の例としては、例えばエラストマー樹脂を挙げることができる。
【００５４】
上述のように、転写ロール２４は、ブランケット部２７とフレキソ部２３とをともに有している。この場合、上述のように、ブランケット部２７によりグラビアオフセット印刷が行われ、フレキソ部２３によりフレキソ印刷が行われる。
グラビアオフセット印刷においては、ブランケット部２７の平坦な外面２７ｂが全面にわたって基材５２にインキ３０を押しつける。このため、一般にグラビアオフセット印刷は、大面積の層を均一な厚みで形成する用途に適している。
一方、フレキソ印刷においては、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃのみが基材５２にインキ３０を押しつける。このため、一般にフレキソ印刷は、微細な層を均一な厚みで形成する用途に適している。
本実施の形態によれば、転写ロール２４が、ブランケット部２７とフレキソ部２３とをともに有しており、このため、基材５２上に、大面積かつ均一な厚みの層と、微細かつ均一な厚みの層と、を同時に形成することができる。
【００５５】
上述のように、フレキソ部２３は、微細な層を形成するために用いられる。ここで、微細な層を形成するためには、フレキソ部２３を、大きなゴム硬度を有する弾性材料から構成することが好ましい。なぜなら、フレキソ部２３を構成する弾性材料のゴム硬度が小さすぎると、フレキソ部２３の凸部２３ａのインキ３０を基材５２に転移させる際、凸部２３ａが大きく弾性変形し、これによって、基材５２に形成される層の面積が想定よりも広がることが考えられるからである。このため、好ましくは、フレキソ部２３は、ブランケット部２７の樹脂フィルム２７ａよりもゴム硬度が高い弾性材料から構成されている。
【００５６】
上述のように、フレキソ部２３のゴム硬度は、ブランケット部２７のゴム硬度よりも高くなっている。例えば、フレキソ部のゴム硬度は８３（ＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度）となっており、ブランケット部２７のゴム硬度は５０〜８０の範囲内となっている。この場合、フレキソ部２３によるフレキソ印刷によって均一な厚みの層を形成するためには、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量を、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくすることが好ましい。なぜなら、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量がブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量と等しい場合、フレキソ部２３が、押し込み量に対応するよう十分に弾性変形できないことが考えられるからである。フレキソ部２３が、押し込み量に対応するよう十分に弾性変形できない場合、インキ版２０または基材５２に生じた振動がフレキソ部２３の凸部２３ａにおいて十分に吸収されず、このことにより、形成される層の厚みにムラが生じることが考えられる。このため、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量を、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくすることが好ましい。
【００５７】
図４に示すように、転写ロール２４において、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃは、ブランケット部２７の外面２７ｂからなるインキ受理面よりも転写ロール２４内方（中心ロール２５の方）にΔｈだけ引っ込んでいる。このため、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量を、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくすることができる。
また、Δｈの引っ込みを設けることにより、転写ロール２４上のインキ３０を基材５２上に転移させる際、ブランケット部２７が基材５２にインキ３０を押し付ける力（グラビアオフセット印刷の印圧）が、フレキソ部２３が基材５２にインキ３０を押し付ける力（フレキソ印刷の印圧）よりも大きくなっている。すなわち、ブランケット部２７によって、大きな印圧で基材５２上にインキ３０を転移させることができ、同時に、フレキソ部２３によって、ブランケット部２７よりも小さな印圧で基材５２上にインキ３０を転移させることができる。
【００５８】
Δｈの範囲は、ブランケット部２７またはフレキソ部２３からのインキ３０により基材５２上に形成される各層の面積、厚み、厚みのばらつきの許容値、またはインキ３０の特性などに応じて適宜選択されるが、好ましくは、上記Δｈが０．１〜０．５ｍｍの範囲内となっている。Δｈをこのような範囲内で選択することにより、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷によって大面積かつ均一な厚みの層を形成し、同時に、フレキソ部２３によるフレキソ印刷によって微細かつ均一な厚みの層を形成することができる。
【００５９】
〔インキ〕
次に、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０について詳細に説明する。インキ３０は、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなっている。インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっているインキ３０が用いられる。このように、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０は、一般的なインキよりも粘度が小さくなっており、このため、一般的なインキを用いる場合に比べて、インキにより形成される層の高さにばらつきが生じやすい。この課題に対応するため、本実施の形態においては、上述のように、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃが、ブランケット部２７の外面２７ｂからなるインキ受理面よりも転写ロール２４内方にΔｈだけ引っ込むよう転写ロール２４を構成している。このことにより、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷における印圧と、フレキソ部２３によるフレキソ印刷における印圧とが、インキ３０の粘度に応じて最適に設定される。
【００６０】
なお、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの層の形成が困難となる。一方、２００ｃＰを超えると、インキ版２０のグラビア版部１４またはアニロックス版部１のセル目による凹凸が大きくなり、均一な厚みの層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により、測定温度２３℃で定常流測定モードにより行うものとする。また、インキ３０において、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となっていることが好ましい。比（Ｖ１／Ｖ２）を上記の範囲内とすることにより、インキ３０がニュートン流動を示すようになる。
【００６１】
また、印刷機１０で用いられるインキ３０において、使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつ、沸点が１６５〜２５０℃の範囲内であることが好ましい。
なお、インキ３０に使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、インキ版２０から転写ロール２４へのインキ３０の受理性が低下することが考えられ、好ましくない。さらに、インキ３０の溶媒の沸点が１６５℃未満であると、転写ロール２４から基材５２に転移されたインキ３０が直ちに乾燥し、これによって、インキ３０により形成される層にスジが発生しやすくなることが考えられる。また、インキ３０の溶媒の沸点が２５０℃を超えると、インキ３０の乾燥が困難となり、乾燥ゾーンでの乾燥による基材５２等への影響が生じること、溶剤の残留を生じることなどが考えられ、好ましくない。尚、溶媒の表面張力の測定は、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で行うものとする。
【００６２】
（インキの固形分）
インキ３０に用いる溶媒および固形分は、印刷機１０によって基材５２上に形成する層に応じて適宜選択される。例えば、後述するように印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、発光層５８用のインキ３０の固形分として、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００６３】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００６４】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
発光層用インキ３０における上述の固形分の含有量は、好ましくは、１．５〜３．５重量％の範囲で設定される。
【００６５】
（インキの溶媒）
また、印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、インキ３０の溶媒として、表面張力が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、沸点が上記の範囲（１６５〜２５０℃）を満足するもの、例えば、クメン、アニソール、ｎ−プロピルベンゼン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、リモネン、ｐ−シメン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン、安息香酸メチル、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、アミルベンゼン、テトラリン、安息香酸エチル、フェニルヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸ブチル等を単独で使用することができる。また、混合溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した表面張力と沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、表面張力がＡｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＢ℃の溶媒１と、表面張力がＣｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＤ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した表面張力［（Ａ×３／１０）＋（Ｃ×７／１０）］が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ｂ×３／１０）＋（Ｄ×７／１０）］が上記の範囲（１６５〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々の溶媒は、表面張力と沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００６６】
〔有機発光デバイス〕
次に図６乃至図８を参照して、本実施の形態における印刷機１０により形成される発光層５８を含む有機発光デバイス５１について説明する。はじめに図６および図７（ａ）（ｂ）を参照して、有機発光デバイス５１を有機発光デバイス５１の法線方向から見た場合の構造について説明する。図６は、本発明の実施の形態における有機発光デバイス５１を示す平面図であり、図７（ａ）（ｂ）は、本発明の実施の形態において、有機発光デバイス５１が発光する様子を示す図である。
【００６７】
図６および図７（ａ）（ｂ）に示すように、有機発光デバイス５１は、固定パターンが発光表示される固定パターン領域６１と、可変パターンが発光表示される可変パターン領域６２とを有している。このうち固定パターン領域６１は、図６および図７（ａ）（ｂ）に示すように、「Ａ」、「Ｂ」、「Ｃ」という文字を表示するよう発光している３つの第１発光領域６３を含んでいる。一方、可変パターン領域６２は、ドット状に縦横に配列された多数の第２発光領域６４を含んでいる。なお図６および図７（ａ）（ｂ）において、黒塗りにされている第１発光領域６３または第２発光領域６４は、当該第１発光領域６３または第２発光領域６４が発光状態であることを示している。一方、白塗りにされている第１発光領域６３または第２発光領域６４は、当該第１発光領域６３または第２発光領域６４が非発光状態であることを示している。
【００６８】
図６および図７（ａ）（ｂ）からわかるように、第１発光領域６３の面積は、第２発光領域６４の面積よりも大きくなっている。例えば、第１発光領域６３の面積は少なくとも１ｍｍ２以上となっており、第２発光領域６４の面積は１ｍｍ２よりも小さくなっている。
このように、固定パターン領域６１における第１発光領域６３の面積を１ｍｍ２以上とすることにより、有機発光デバイス５１が広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果を大きくすることができる。
また、可変パターン領域６２における第２発光領域６４の面積を１ｍｍ２よりも小さくすることにより、可変パターン領域６２において任意の文字、図形などを精密に表示することができる。このことにより、有機発光デバイス５１が広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果を大きくすることができる。
すなわち、面積の異なる二種類の発光領域６３，６４を設けることにより、有機発光デバイスが広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果や誘引性を向上させることができる。
また、後述するように、第１発光領域６３および第２発光領域６４における発光層５８は、それぞれ本実施の形態による印刷機１０から形成されている。このため、第１発光領域６３と第２発光領域６４の双方において、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高い、高品質な表示を実現することができる。このことにより、有機発光デバイスが広告用ディスプレイとして用いられる場合の訴求効果や誘引性をさらに向上させることができる。
【００６９】
なお本実施の形態において、第１発光領域６３の発光層５８は、インキ版２０のグラビア版部１４と転写ロール２４のブランケット部２７との組合せによるグラビアオフセット印刷によって形成される。また、第２発光領域６４における発光層５８は、インキ版２０のアニックス版部１と転写ロール２４のフレキソ部２３との組合せによるフレキソ印刷によって形成される。
上述のように、フレキソ部２３のゴム硬度はブランケット部２７のゴム硬度よりも高くなっており、かつ、フレキソ部２３によるフレキソ印刷時の押し込み量はブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷時の押し込み量よりも小さくなっている。このため、第２発光領域６４の面積を１ｍｍ２よりも小さくすることが可能となっている。
一方、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷においては、上述のように、フレキソ印刷の場合よりも押し込み量が大きくなっている。このため、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷は、１ｍｍ２以上の面積を有する第１発光領域６３を形成するのに適している。
【００７０】
次に図７（ａ）（ｂ）を参照して、有機発光デバイス５１が発光する様子について説明する。
図７（ａ）に示す有機発光デバイス５１において、固定パターン領域６１の３つの第１発光領域６３は全て発光状態となっており、これによって「ＡＢＣ」という文字が大きく表示されている。一方、可変パターン領域６２においては、所定の第２発光領域６４のみが発光状態となっており、これによって「１２３」という数字が表示されている。
図７（ｂ）に示す有機発光デバイス５１においても、固定パターン領域６１の３つの第１発光領域６３は全て発光状態となっており、これによって「ＡＢＣ」という文字が大きく表示されている。一方、可変パターン領域６２においては、図７（ａ）の場合とは異なる所定の第２発光領域６４のみが発光状態となっており、これによって「２３４」という数字が表示されている。
このように、可変パターン領域６２においては、発光状態とする第２発光領域６４を任意に選択することにより、任意の文字、記号、図形などが表示される。また表示の内容を時間に応じて変化させることもできる。
【００７１】
次に、有機発光デバイス５１の層構成について説明する。なお有機発光デバイス５１の固定パターン領域６１と可変パターン領域６２とは、後述する透明電極層５３、絶縁層５４または発光層５８のパターンが異なるのみであり、層構成は略同一である。ここでは、可変パターン領域６２における層構成について説明する。
【００７２】
図８は、図６の有機発光デバイス５１の可変パターン領域６２におけるVIII−VIII線での断面図である。図８に示すように、有機発光デバイス５１は、透明基材５２と、この透明基材５２上に矢印ｃ方向に延設さられた帯状パターンの複数の透明電極層（第１電極層）５３と、ストライプ形状の開口部５５を有する絶縁層５４と、開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように矢印ｄ方向に延設された帯状パターンの複数の電極層６０（第２電極層）とを備えている。
上記の絶縁層５４の開口部５５は、矢印ｃ方向に沿ったストライプ形状の開口部であり、各透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させるよう、各透明電極層５３上に位置している。なお図６および図８から分かるように、各開口部５５は、印刷方向Ｐと直交する方向に延びている。
【００７３】
また、発光素子層５６は、絶縁層５４と各開口部５５内の透明電極層５３とを被覆するように配設された正孔注入層５７と、正孔注入層５７上に所定パターンで配設された発光層５８と、正孔注入層５７および発光層５８を被覆するように配設された電子注入層５９と、からなる。なお発光層５８は、図９（ｃ）を参照して後述するように、帯状パターンの赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂが、この順で矢印ｃ方向に繰り返し配列されているものであってもよい。この場合、印刷機１０において、各発光層５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂに対応するインキとして、赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂが用いられる。
尚、電子注入層５９は、絶縁層５４を覆うように形成されているが、電極層６０の下層となる領域のみに形成されたものであってもよい。
【００７４】
このような有機発光デバイス５１は、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する領域であって、かつ開口部５５内に発光素子層５６が形成されている領域が第１発光領域６３または第２発光領域６４となるパッシブマトリックス型である。また発光層５８（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）は、後述するように、印刷機１０により形成される。このため、発光層５８の厚みを均一に７０ｎｍ以上とすることができ、これによって、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高く、高品質な表示が可能となる。また上述のように、発光素子層５６の各層５７，５８，５９は、電極層６０の下層となる領域において、それぞれ絶縁層５４と各開口部５５内の透明電極層５３とを被覆するように配設されている。このため、発光素子層５６を挟持する位置に存在する透明電極層５３と電極層６０とが短絡するのをより確実に防ぐことができ、これによって信頼性を更に高くすることができる。
【００７５】
次に、有機発光デバイス５１の各構成部材について詳細に説明する。
【００７６】
（透明基材）
はじめに透明基材５２について詳述する。透明基材５２は、ボトムエミッション方式の場合、観察者側の表面に設けられ、発光層５８からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有する材料からなる。尚、発光層５８からの光を取り出す方向を反対方向とする場合（トップエミッション方式の場合）には、透明基板５２に替えて不透明な基板を使用してもよい。
透明基板５２（これに替わる不透明な基板も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００７７】
透明基板５２を構成する樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機発光デバイス用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基板５２の厚さは、通常、５０μｍ〜１．１ｍｍ程度である。
【００７８】
このような透明基板５２は、その用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基板５２に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものを用いることができる。
【００７９】
（透明電極層）
次に、透明電極層５３について詳述する。透明電極層５３は、図５に示す例では陽極であり、発光層５８に正電荷（正孔）を注入するために、正孔注入層５７に隣接して配設されている。尚、透明電極層５３は陰極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
【００８０】
透明電極層５３は、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。
透明電極層５３は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層５３の厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
この透明電極層５３は、周辺の端子部から中央の画素領域まで所望のパターン形状で配設されている。このようなパターン形状の透明電極層５３は、スパッタリング法や真空蒸着法等においてメタルマスクを用いることにより形成され、または、全面に透明電極層用の材料を成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることにより形成される。
【００８１】
絶縁層５４は、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５を有している。この絶縁層５４は、例えば、はじめに透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、次にパターン露光、現像を行うことにより形成される。または、熱硬化性樹脂材料を用いて絶縁層５４を形成してもよい。
後述するように、絶縁層５４が形成された部分は非発光領域となっている。絶縁層５４の厚みは、絶縁層５４を構成する樹脂固有の絶縁抵抗に応じて適宜設定できるが、例えば、０．０５〜５．０μｍ程度とすることができる。また、上述の樹脂材料にカーボンブラックや、チタン窒化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物等のチタン系黒色顔料の１種、あるいは２種以上の遮光性微粒子を混合することにより、ブラックマトリックスを形成して絶縁層５４としてもよい。
尚、このような絶縁層５４の形状は、上述の形状に限定されるものではない。
【００８２】
（発光素子層）
次に発光素子層５６について詳述する。発光素子層５６は、図８に示す例では、透明電極層５３側から正孔注入層５７、発光層５８、および電子注入層５９が積層された構造となっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、正孔注入層５７と発光層５８とからなる構造、発光層５８と電子注入層５９からなる構造、さらに、正孔注入層５７と発光層５８との間に正孔輸送層（図示せず）を介在させた構造、発光層５８と電子注入層５９との間に電子輸送層（図示せず）を介在させた構造等としてもよい。
また、発光波長を調整し、または発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
以下、発光素子層５６の各層について詳細に説明する。
【００８３】
発光層
発光素子層５６の発光層５８は、後に図９（ｃ）に示す例では、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂからなっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、有機発光デバイスの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で設けてもよく、または、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせなどを設けてもよい。
発光層５８に用いる有機発光材料としては、上述のインキ３０の固形分の説明で挙げた材料を用いることができる。
【００８４】
正孔注入層
発光素子層５６の正孔注入層５７は、上述のように、絶縁層５４と各開口部５５内の透明電極層５３とを被覆するように配設されている。正孔注入層５７を形成する正孔注入材料としては、例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００８５】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
【００８６】
上述の材料から形成される正孔注入層５７は、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により正孔注入層５７を形成することもできる。
【００８７】
正孔輸送層
正孔輸送層を形成する材料としては、例えば、オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等の材料が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
【００８８】
電子注入層
電子注入層５９を形成する材料としては、例えば、カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。このような材料から形成される電子注入層５９は、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により電子注入層５９を形成することもできる。
【００８９】
上述の発光素子層５６の各層において、その厚みが特に制限されることはなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。また、発光素子層５６の各層にドーピングされる材料の例として、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等の材料を挙げることができる。
【００９０】
（電極層）
次に電極層６０について詳述する。電極層６０は、図８に示す例では陰極であり、発光層５８に負電荷（電子）を注入するために、電子注入層５９に隣接して配設されている。尚、電極層６０は陽極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
このような電極層６０の材料としては、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、上述の透明電極層５３と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。中でも、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層６０はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層６０の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
上記の電極層６０は、上述の電極材料を用いてマスクを介したスパッタリング法や真空蒸着法等の方法によりパターン形状に成膜して形成することができる。
【００９１】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、発光層５８を含む有機発光デバイス５１の形成方法について、図１および図９を参照して説明する。
【００９２】
はじめに、図９（ａ）に示すように、透明基材５２上に、所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する。透明電極層５３を形成する方法が特に限られることはなく、メタルマスクを用いたスパッタリング法や真空蒸着法等によって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法、または、透明電極層用の材料を透明基材５２上の全面にわたって成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることによって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法などが適宜選択される。
【００９３】
次に、図９（ｂ）に示すように、透明基材５２上に、透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部５５を有する絶縁層５４を形成する。この場合、はじめに、透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、その後、塗布された感光性樹脂材料に対してパターン露光、現像を行う。このようにして、複数の開口部５５を有する絶縁層５４が形成される。
【００９４】
その後、図９（ｃ）に示すように、開口部５５内の透明電極層５３上および絶縁層５４を被覆するよう、正孔注入層５７を形成する。正孔注入層５７を形成する方法が特に限られることはなく、例えば、固定パターン領域６１および可変パターン領域６２に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
【００９５】
次に、図９（ｄ）に示すように、正孔注入層５７上に発光層５８を形成する。発光層５８は、上述の印刷機１０を用いて形成される。
【００９６】
以下、印刷機１０を用いて発光層５８を形成する方法について詳述する。はじめに、発光層５８の材料となる有機発光材料を含有するインキ３０を、ドクター８を用いて、インキ版２０の、グラビア版部１４のセル１５およびアニロックス版部１のセル２に充填させる。次に、インキ版２０上で転写ロール２４を走行させ、これによって、インキ版２０のグラビア版部１４のセル１５から転写ロール２４のブランケット部２７へインキ３０を受理させるとともに、インキ版２０のアニロックス版部１のセル２から転写ロール２４のフレキソ部２３へインキ３０を受けさせる。その後、転写ロール２４を基材定盤６に向って走行させる。
【００９７】
次に、基材定盤６上の透明基材５２上で転写ロール２４を走行させる。これによって、固定パターン領域６１において、ブランケット部２７により所定の印圧で、正孔注入層５７上にインキ３０がグラビアオフセット印刷される。同時に、可変パターン領域６２において、フレキソ部２３により所定の印圧で、正孔注入層５７上にインキ３０が図９（ｄ）に示す所定のパターンでフレキソ印刷される。なお、このとき、赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂが順に配列されるように印刷が行われてもよい。
その後、転移されたインキ３０を適宜乾燥させることにより正孔注入層５７上に発光層５８（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）が形成される。
【００９８】
その後、図９（ｅ）に示すように、正孔注入層５７および発光層５８を被覆するよう、電子注入層５９を形成する。電子注入層５９を形成する方法が特に限られることはなく、例えば、正孔注入層５７を形成する場合と同様に、固定パターン領域６１および可変パターン領域６２に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
【００９９】
最後に、発光素子層５６のうち所望の開口部５５内に位置する発光素子層５６に接続されるよう、電極層６０を所定のパターン形状で形成する。このようにして、図８に示す有機発光デバイス５１が形成される。
【０１００】
このようにして形成された有機発光デバイス５１において、開口部５５内に発光素子層５６が形成されている領域であって、かつ透明電極層５３と電極層６０との間に発光素子層５６が形成されている領域により、発光領域が画定される。このようにして画定される発光領域は、透明電極層５３と電極層６０との間に電圧を印加することによって光を放出する領域である。ここで、図９（ｆ）に示すように、有機発光デバイス５１の固定パターン領域６１における発光領域が第１発光領域６３となっており、可変パターン領域６３における発光領域が第２発光領域６４となっている。また上述のように、第１発光領域６３における発光層５８は、インキ版２０のグラビア版部１４と転写ロール２４のブランケット部２７との組合せによるグラビアオフセット印刷によって形成される。また、第２発光領域６４における発光層５８は、インキ版２０のアニックス版部１と転写ロール２４のフレキソ部２３との組合せによるフレキソ印刷によって形成される。
【０１０１】
ところで、本実施の形態によれば、上述のとおり、転写ロール２４において、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃは、ブランケット部２７の外面２７ｂからなるインキ受理面よりも転写ロール２４内方にΔｈだけ引っ込んでいる。このため、印刷機１０によって発光層５８を形成する際、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷における印圧が、フレキソ部２３によるフレキソ印圧の印圧よりも大きくなっている。このため、ブランケット部２７によるグラビアオフセット印刷によって大面積かつ均一な厚みの発光層５８を形成し、同時に、フレキソ部２３によるフレキソ印刷によって微細かつ均一な厚みの発光層５８を形成することができる。このことにより、第１発光領域６３と第２発光領域６４の双方において、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高い、高品質な表示を実現することができる。
【０１０２】
なお、本実施の形態において、開口部５５内に発光素子層５６が形成されている領域であって、かつ透明電極層５３と電極層６０との間に発光素子層５６が形成されている領域により発光領域が画定される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、絶縁層５４の開口部５５により発光領域が画定されていてもよい。
【０１０３】
例えば、図１０（ａ）に示すようなパターンの開口部５５を有する絶縁層５４が透明電極層５３上に形成される場合を考える。ここで、固定パターン領域６１が形成される部分における開口部が第１開口部５５Ａとなっており、可変パターン領域が形成される部分における開口部が第２開口部５５Ｂとなっている。この場合、絶縁層５４が形成された後、図１０（ｂ）に示すように、少なくとも開口部５５Ａ，５５Ｂを覆うように正孔注入層５７、発光層５８および電子注入層５９が順次形成される。次に、図１０（ｃ）に示すように、電子注入層５９上に電極層６０が形成される。
【０１０４】
ここで有機発光デバイス５１を上方から見た場合、絶縁層５４が形成されている領域においては、透明電極層５３と電極層６０との間の電流の流れが絶縁層５４により遮断される。このため、絶縁層５４が形成されている領域が非発光領域となり、絶縁層５４の開口部５５Ａ，５５Ｂが形成されている領域が発光領域となる。すなわち、図１０（ａ）（ｃ）に示すように、第１開口部５５Ａにより、固定パターン領域６１の第１発光領域６３が画定され、第２開口部５５Ｂにより、可変パターン領域６２の第２発光領域６４が画定される。
【０１０５】
このとき、第１開口部５５Ａの面積は、少なくとも１ｍｍ２以上となっており、第２開口部５５Ｂの面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっている。このため、固定パターン領域６１における第１発光領域６３の面積を少なくとも１ｍｍ２以上とし、可変パターン領域６２における第２発光領域６４の面積を１ｍｍ２よりも小さくすることができる。すなわち、各開口部５５Ａ，５５Ｂの面積を適宜設定することにより、各発光領域６３，６４の面積を任意に設定することができる。
【０１０６】
〔印刷機の変形例〕
印刷機の変形例１
なお印刷機１０において、インキ版２０におけるグラビア版部１４またはアニロックス版部１の配置が特に限られることはなく、同様に、転写ロール２４におけるブランケット部２７またはフレキソ部２３の配置が特に限られることもない。例えば、図１１に示すように、転写ロール２４において、ブランケット部２７とフレキソ部２３とが転写ロール２４の回転方向Ｒに沿って並ぶよう配置されていてもよい。この場合、転写ロール２４のブランケット部２７およびフレキソ部２３に対応するよう、インキ版２０において、グラビア版部１４とアニロックス版部１とが印刷方向Ｐに沿って並ぶよう配置される。
【０１０７】
印刷機の変形例２
また本実施の形態において、転写ロール２４との間で基材５２を挟持するバックアップ体が、平板状の印刷定盤６からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１２に示すように、バックアップ体が、転写ロール２４との間で基材５２を挟持するロール状の圧胴６ａからなっていてもよい。この場合、はじめに、インキ供給部７によりインキ版２０の上面にインキ３０が供給され、次にドクター８により、インキ版２０の上面における不要なインキ３０が掻き取られる。その後、インキ版２０の上面のインキ３０が転写ロール２４に受理される。次に、転写ロール２４のインキ３０が、圧胴６ａ上を搬送されている基材５２上に転移される。
【０１０８】
印刷機の変形例３
また本実施の形態において、インキ版が、平板状の形状を有するインキ版２０からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１３に示すように、インキ版が、ロール状の形状を有するインキ版胴２０ａからなっていてもよい。この場合、インキ版胴２０ａの外周面には、平板状のインキ版２０の場合と同様に、複数のセル１５を有するグラビア版部１４と、複数のセル２を有するアニロックス版部１とが形成されている。また平板状のインキ版２０の場合と同様に、インキ版胴２０ａのグラビア版部１４のインキ３０は転写ロール２４のブランケット部２７によって受理され、インキ版胴２０ａのアニロックス版部１のインキ３０は転写ロール２４のフレキソ部２３によって受けられる。
【０１０９】
ロール状のインキ版胴２０ａを備えた印刷機１０においては、図１３に示すように、はじめに、インキパン７ａ（インキ供給部）によりインキ版胴２０ａの外周面にインキ３０が供給され、次にドクター８により、インキ版胴２０ａの外周面における不要なインキ３０が掻き取られる。その後、インキ版２０の上面のインキ３０が転写ロール２４によって受理される。次に、転写ロール２４のインキ３０が、圧胴６ａ上を搬送されている基材５２上に転移される。
【０１１０】
印刷機の変形例４
また印刷機１０において、転写ロール２４のブランケット部２７を構成する樹脂フィルム２７ａが、転写ロール２４の中心ロール２５の周面に一体的に設けられている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１４に示すように、樹脂フィルム２７ａが、中心ロール２５に巻き付くように中心ロール２５の回転とともに搬送されるものであってもよい。この場合、インキ版胴２０ａからインキ３０を受理する位置（矢印ｅで示される位置）と、インキ３０を基材５２に転移させる位置（矢印ｆで示される位置）と、を少なくとも含む範囲において、中心ロール２５に樹脂フィルム２７ａが巻き付けられる。
【０１１１】
〔インキ版の変形例〕
また、本実施の形態のインキ版２０において、グラビア版部１４のセルが、ストライプ状の形状を有するセル１５からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、グラビア版部１４のセル１５が、グラビア版部１４に格子状に配置されたセル１５からなっていてもよい。同様に、アニロックス版部１のセル２が、アニロックス版部１に格子状に配置されたセル２からなっていてもよい。
【０１１２】
例えば、図１５に示すように、グラビア版部１４のセル１５が、複数に区画された形状（図１５に示す例では、各セル１５は正方形）を有していてもよい。この場合、各セル１５の間には非セル部１６が存在する。また、アニロックス版部１のセル２についても同様に、図１５に示すように、アニロックス版部１のセル２が、複数に区画された形状（図１５に示す例では、各セル２は正方形）を有していてもよい。また図１６に示すように、各セル２，１５が菱形の形状を有していてもよい。さらに図１７に示すように、各セル２，１５が楕円形の形状を有していてもよい。
【０１１３】
図１５〜図１７に示す各セル２，１５において、各セル２，１５（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが好ましくは０．６以上であり、上限には特に制限はない。また、成膜部位に占める総セル面積が好ましくは５５〜９５％の範囲内であり、非セル部３，１６の幅（非セル部長Ｓ３，Ｓ４）が２〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍの範囲内であり、各セル２，１５の深さ（版深）が１５〜１００μｍ、好ましくは１５〜８０μｍの範囲内である。
【０１１４】
上記の比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、発光層５８の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層５８の形成が困難となり好ましくない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５％未満であると、厚膜形成が困難となり、９５％を超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部３，１６の幅（非セル部長Ｓ３，Ｓ４）が２μｍ未満であると、各セル２，１５の形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり、かつ厚膜形成が困難となり好ましくない。また、各セル２，１５の深さ（版深）が１５μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、１００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。
尚、上述の各セル２，１５の形状は例示であり、上述の形態に限定されるものではない。
【０１１５】
〔転写ロールの変形例〕
また、本実施の形態において、転写ロール２４が、軸心となる中心ロール２５と、中心ロール２５の外周上に設けられたフレキソ部２３およびブランケット部２７とからなっている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１８に示すように、転写ロール２４が、中心ロール２５と、中心ロール２５を取り囲む円筒状のプラスチックスリーブ２６と、プラスチックスリーブ２６の外周上に設けられたフレキソ部２３およびブランケット部２７とからなっていてもよい。この場合、プラスチックスリーブ２６を中心ロール２５上に固定する方法が特に限られることはない。例えば、プラスチックスリーブ２６が、中心ロール２５内に配置されたエアークランプ機構（図示せず）によって中心ロール２５上に固定されていてもよく、または、プラスチックスリーブ２６が、中心ロール２５内に配置された吸着機構（図示せず）によって中心ロール２５上に固定されていてもよい。
【０１１６】
〔有機発光デバイスの変形例〕
また、本実施の形態において、有機発光デバイスが、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型の有機発光デバイス５１である例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、有機発光デバイスがアクティブマトリックス型であってもよい。
【０１１７】
図１９および図２０は、アクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスの一例を説明するための図である。図１９は電極配線パターンを示す図であり、透明基材（図示せず）上に形成された電極配線パターン７３は、信号線７３Ａ、走査線７３Ｂ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７３Ｃ、透明電極（画素電極）層７３Ｄからなる。また、これらの電極配線パターン７３を被覆するように絶縁層７４（図１９で斜線を付した部位）が形成されており、この絶縁層７４は、各透明電極層７３Ｄ上に位置する開口部７５を備えている。また、絶縁層７４には、各開口部７５内の透明電極層７３Ｄを被覆するように発光素子層（図示せず）が形成され、この発光素子層上に電極（共通電極）層（図示せず）が配設される。
【０１１８】
上記の発光素子層は、絶縁層７４と各開口部７５内の透明電極層７３Ｄとを被覆するように配設された正孔注入層と、開口部７５内の透明電極層７３Ｄ（正孔注入層）を被覆するように各開口部７５に配設された複数の発光層と、これらを被覆するように配設された電子注入層と、から構成することができる。図２０は、絶縁層７４の開口部７５と発光層との関係を示す図である。図２０では、発光層は、開口部７５よりも大きい所望のパターン形状の赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂからなっている。
【０１１９】
このようなアクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスも、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）は、本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、このため、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）の厚みのばらつきが小さくなっている。このことにより、発光素子層の発光時の輝度、効率の高い、高品質の表示が可能である。また、開口部７５の周縁の絶縁層７４に乗り上げるように発光素子層を形成した場合、発光素子層を挟持する位置に存在する透明電極層７３Ｄと電極層（図示せず）との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
尚、上記の発光素子層は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【実施例】
【０１２０】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【０１２１】
［実施例１］
本発明の印刷機１０を用いて、基材５２上にインキ３０を印刷した。
インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃｐであり、沸点が１８６℃であるインキを用いた。インキ３０の固形分の重量％を２．５重量％、インキ３０の溶媒の表面張力を３２ｄｙｎｅ／ｃｍとした。
転写ロール２４としては、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃの高さと、ブランケット部２７の外面２７ｂの高さとの差Δｈが−０．１〜＋０．８ｍｍまで０．１ｍｍ刻みで異なっている計１０種類の転写ロールを用いた。なお、Δｈの値が正の値であることは、フレキソ部２３の凸部２３ａの上面２３ｃがブランケット部２７の外面２７ｂよりも内方に引っ込んでいることを意味している。
【０１２２】
上述の１０種類の転写ロール２４を用いて、計１０通りの印刷を行った。各印刷において、転写ロール２４のフレキソ部２３およびブランケット部２７によってそれぞれ形成された印刷物について、その厚み（膜厚）を複数の点で測定した。次に、複数の点で測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、最大値（膜厚ｍａｘ）、最小値（膜厚ｍｉｎ）を算出した。その後、当該平均値、最大値および最小値に基づき、膜厚変動率（％）を算出した。なお膜厚変動率（％）は、具体的には以下の式により導かれる。
膜厚変動率（％）＝｛（膜厚ｍａｘ−膜厚ｍｉｎ）／平均膜厚｝×１００
【０１２３】
印刷機１０の転写ロール２４におけるΔｈを−０．１〜＋０．８ｍｍまで０．１ｍｍ刻みで変更して、印刷物３０ａの膜厚変動率を評価した結果を表１に示す。なお表１において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１】
【０１２４】
表１に示されているように、Δｈが０．１〜０．５ｍｍの範囲内となっている場合に、フレキソ部２３およびブランケット部２７によって基材５２上に形成された印刷物の膜厚変動率がそれぞれ５％以内となっていた。とりわけ、Δｈが０．２〜０．４ｍｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物の膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
【符号の説明】
【０１２５】
１…アニロックス版部
２…セル
３…非セル部
５…フレーム
６…基材定盤
６ａ…圧胴
７…インキ供給部
７ａ…インキパン
８…ドクターシステム
８ａ…第１ドクター
８ｂ…第２ドクター
１０…印刷機
１４…グラビア版部
１５…セル
１６…非セル部
２０…インキ版
２３…フレキソ部
２３ａ…凸部
２３ｂ…凹部
２３ｃ…上面
２４…転写ロール
２５…中心ロール
２６…プラスチックスリーブ
２７…ブランケット部
２７ａ…樹脂フィルム
２７ｂ…外面
３０…インキ
５１…有機発光デバイス
５２…透明基材
５３…透明電極層
５４，７４…絶縁層
５５，７５…開口部
５６…発光素子層
５７…正孔注入層
５７ａ…正孔輸送層
５８，５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂ，７８Ｒ，７８Ｇ，７８Ｇ…発光層
５９…電子注入層
６０…電極層
６１…固定パターン領域
６２…可変パターン領域
６３…第１発光領域
６４…第２発光領域
７３…電極配線パターン
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレームと、
前記フレーム上に配置され、その上面にグラビア版部とアニックス版部とを有する平板状のインキ版と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、
前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させるバックアップ体と、を備え、
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、
前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、
前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、
前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機。
【請求項２】
ロール状のインキ版であって、その外周面にグラビア版部とアニックス版部とを有するインキ版と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、
前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させる圧胴と、を備え、
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、
前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理する第１インキ受理面を含み、
前記フレキソ版部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、
前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機。
【請求項３】
前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも０．１〜０．５ｍｍだけ転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項４】
前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の印刷機。
【請求項５】
前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、
前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の印刷機。
【請求項６】
前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜３．５重量％の範囲内であることを特徴とする請求項５に記載の印刷機。
【請求項７】
前記転写ロールの前記ブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項８】
前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項７に記載の印刷機。
【請求項９】
前記転写ロールのブランケット部は、転写ロールの中心ロールの周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであることを特徴とする請求項７または８に記載の印刷機。
【請求項１０】
前記転写ロールのブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなり、
前記グラビア版部からインキを受理する位置と、インキを前記基材上に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転する中心ロールに巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであることを特徴とする請求項２に記載印刷機。
【請求項１１】
前記中心ロールと前記ブランケット部との間にクッション層が介在されていることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の印刷機。
【請求項１２】
前記転写ロールのフレキソ部は、水現像可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１３】
前記転写ロールのフレキソ部は、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１４】
前記転写ロールのフレキソ部は、転写ロールの中心ロールの周面に粘着材により固定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１５】
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたブランケット部およびフレキソ部とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記中心ロール内に配置されたエアークランプ機構によって中心ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１６】
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたブランケット部およびフレキソ部とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記中心ロール内に配置された吸着機構によって中心ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１７】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を請求項１乃至１６のいずれかに記載の印刷機により形成する方法において、
少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に充填させる工程と、
当該グラビア版部およびアニックス版部から前記転写ロールに前記インキを受理させる工程と、
前記転写ロール上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、
前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、
前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、
前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも内方に引っ込んでいることを特徴とする発光層の形成方法。
【請求項１８】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、
基材を準備する工程と、
前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、
前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、
前記開口部内に、少なくとも発光層を有する発光素子層を形成する工程と、
前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、
前記発光素子層の発光層は、請求項１７に記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法。
【請求項１９】
前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定され、
当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、
前記第１発光領域の面積は、前記第２発光領域の面積よりも大きく、
前記第１発光領域における発光素子層の発光層は、前記ブランケット部から転移されるインキから形成され、
前記第２発光領域における発光素子層の発光層は、前記フレキソ部から転移されるインキから形成されることを特徴とする請求項１８に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項２０】
前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、
前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする請求項１９に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項２１】
前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定され、
前記発光素子層を形成する工程において、発光素子層が、前記絶縁層および前記開口部を覆うよう形成されることを特徴とする請求項１９または２０に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項２２】
基材と、
当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、
前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、
各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層を有する発光素子層と、
前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、
前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定され、
当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、
前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、
前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項２３】
前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定され、
開口部は、前記第１発光領域に対応する第１開口部と、前記第２発光領域に対応する第２開口部とからなり、
前記第１開口部の面積は、１ｍｍ２以上となっており、
前記第２開口部の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項１】
フレームと、
前記フレーム上に配置され、その上面にグラビア版部とアニックス版部とを有する平板状のインキ版と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、
前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させるバックアップ体と、を備え、
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、
前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、
前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、
前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機。
【請求項２】
ロール状のインキ版であって、その外周面にグラビア版部とアニックス版部とを有するインキ版と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部にインキを供給するインキ供給部と、
前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に当接して前記インキを受理する転写ロールと、
前記転写ロールとの間で基材を挟持して、転写ロール上のインキを基材上に転移させる圧胴と、を備え、
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、
前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理する第１インキ受理面を含み、
前記フレキソ版部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、
前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする印刷機。
【請求項３】
前記フレキソ版部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも０．１〜０．５ｍｍだけ転写ロール内方に引っ込んでいることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項４】
前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の印刷機。
【請求項５】
前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、
前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の印刷機。
【請求項６】
前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜３．５重量％の範囲内であることを特徴とする請求項５に記載の印刷機。
【請求項７】
前記転写ロールの前記ブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項８】
前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項７に記載の印刷機。
【請求項９】
前記転写ロールのブランケット部は、転写ロールの中心ロールの周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであることを特徴とする請求項７または８に記載の印刷機。
【請求項１０】
前記転写ロールのブランケット部は、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムからなり、
前記グラビア版部からインキを受理する位置と、インキを前記基材上に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転する中心ロールに巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであることを特徴とする請求項２に記載印刷機。
【請求項１１】
前記中心ロールと前記ブランケット部との間にクッション層が介在されていることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の印刷機。
【請求項１２】
前記転写ロールのフレキソ部は、水現像可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１３】
前記転写ロールのフレキソ部は、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１４】
前記転写ロールのフレキソ部は、転写ロールの中心ロールの周面に粘着材により固定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１５】
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたブランケット部およびフレキソ部とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記中心ロール内に配置されたエアークランプ機構によって中心ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１６】
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたブランケット部およびフレキソ部とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記中心ロール内に配置された吸着機構によって中心ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷機。
【請求項１７】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を請求項１乃至１６のいずれかに記載の印刷機により形成する方法において、
少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記インキ版のグラビア版部およびアニックス版部に充填させる工程と、
当該グラビア版部およびアニックス版部から前記転写ロールに前記インキを受理させる工程と、
前記転写ロール上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、
前記転写ロールは、中心ロールと、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるブランケット部と、中心ロール上に設けられ、前記インキ版のアニックス版部からインキを受けるとともに前記基材上に当該インキを転移させる弾性材料からなるフレキソ部と、を有し、
前記ブランケット部は、前記インキ版のグラビア版部からインキを受理するインキ受理面を含み、
前記フレキソ部は、前記インキ版のアニックス版部からインキを受ける凸部と、アニックス版部からのインキを受けない凹部と、を含み、
前記フレキソ部の凸部は、前記ブランケット部のインキ受理面よりも内方に引っ込んでいることを特徴とする発光層の形成方法。
【請求項１８】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、
基材を準備する工程と、
前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、
前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、
前記開口部内に、少なくとも発光層を有する発光素子層を形成する工程と、
前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、
前記発光素子層の発光層は、請求項１７に記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法。
【請求項１９】
前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定され、
当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、
前記第１発光領域の面積は、前記第２発光領域の面積よりも大きく、
前記第１発光領域における発光素子層の発光層は、前記ブランケット部から転移されるインキから形成され、
前記第２発光領域における発光素子層の発光層は、前記フレキソ部から転移されるインキから形成されることを特徴とする請求項１８に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項２０】
前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、
前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする請求項１９に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項２１】
前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定され、
前記発光素子層を形成する工程において、発光素子層が、前記絶縁層および前記開口部を覆うよう形成されることを特徴とする請求項１９または２０に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項２２】
基材と、
当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、
前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、
各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層を有する発光素子層と、
前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、
前記開口部内に前記発光素子層が形成されている領域であって、かつ前記第１電極層と前記第２電極層との間に発光素子層が形成されている領域により発光領域が画定され、
当該発光領域は、少なくとも１つの第１発光領域と、複数の第２発光領域と、からなり、
前記第１発光領域の面積は、１ｍｍ２以上となっており、
前記第２発光領域の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項２３】
前記絶縁層の開口部により、前記第１発光領域と前記第２発光領域とからなる前記発光領域が画定され、
開口部は、前記第１発光領域に対応する第１開口部と、前記第２発光領域に対応する第２開口部とからなり、
前記第１開口部の面積は、１ｍｍ２以上となっており、
前記第２開口部の面積は、１ｍｍ２よりも小さくなっていることを特徴とする有機発光デバイス。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【公開番号】特開２０１１−１４８２３３（Ｐ２０１１−１４８２３３Ａ）
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２３９１（Ｐ２０１０−１２３９１）
【出願日】平成２２年１月２２日（２０１０．１．２２）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１月２２日（２０１０．１．２２）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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