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Fターム[3K107GG31]の内容

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【課題】光学表示デバイスの生産システムに用いられる光学表示部品の吸着装置において、吸着パッドの発塵を抑えて生産システムの歩留まりの低下を抑える。
【解決手段】液晶パネルPを吸着するべく液晶パネルP側に延びるリップ(第三傾斜部26e)を有する吸着パッド26と、吸着パッド26内に保持されるPEEK製のアタッチメント27とを備え、アタッチメント27が、吸着パッド26のリップの先端と液晶パネルPとの間に介在するパッド接触制限部27bを有する。 (もっと読む)


【課題】有機EL材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とする転写用ドナー基板を提供すること。
【解決手段】支持体と、前記支持体上に光熱変換層を有する転写用ドナー基板であって、前記支持体の前記光熱変換層形成面側に溝を備えることを特徴とする転写用ドナー基板。 (もっと読む)


【課題】歩留まりや信頼性の低下を防止すると共に構成部材である有機EL素子の性能を向上させるための有機EL装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】下部電極21と、上部電極と、前記下部電極21と前記上部電極との間に配置される有機化合物層と、からなる有機EL素子を有する画素を複数備える有機EL装置の製造方法において、前記下部電極21が設けられた基板上に保護層を形成する工程と、少なくとも一部の画素に対応する領域に開口部31を有するマスク30を前記保護層に密着させた状態で、前記開口部31に対応する領域に設けられている保護層を選択的に除去する工程と、前記保護層が除去された領域において、前記下部電極21上に有機化合物層を形成する工程と、を有することを特徴とする、有機EL装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】表示素子の製造装置(100)は、可撓性の基板(FB)を第1方向に搬送する搬送部(RL)と、可撓性の基板に基準マークを形成するマーク形成部(10)と、可撓性の基板に隔壁を形成する隔壁形成部(10)と、基準マークに基づいて隔壁に対して所定の位置に導電部材を塗布する塗布部(20)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は転写法を利用して有機デバイスを歩留まりよく製造することができる有機デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本製造方法は、次のステップを含む;前記有機デバイス1の一部を構成する中間部材8を準備するステップ;離型層7を備える転写用部材9を準備するステップ;有機材料と、この有機材料が溶解すると共に前記離型層7に対して親和性を有する溶媒とを含有する塗布液を準備するステップ;及び前記塗布液を前記転写用部材9における前記離型層7上に塗布成膜することで前記離型層7上に有機層4を形成し、続いて前記有機層4を前記離型層7上から前記中間部材8上に転写するステップ。 (もっと読む)


【課題】高精細の発光層パターンを、高い生産性をもって製造することができる有機発光デバイスの製造装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光デバイスの製造装置10は、複数の処理ユニット11,12と、搬送ユニット13とを具備する。複数の処理ユニット11,12は、基板2上に発光層5R,5Gを形成するレーザ転写装置110,120を含む。搬送ユニット13は、レーザ転写装置110と120との間に設置された搬送室130と、基板2を搬送する搬送機構131とを含む。移載機構113,123は、熱転写体50R,50Gをそれぞれ配置している。第1の処理ユニット11、搬送ユニット13及び第2の処理ユニット12は、水平面においてX軸方向に配列されており、真空中で基板2を搬送しながら熱転写体50R,50Gにレーザを照射することで、発光層5R,5Gを順次形成するインライン式のレーザ転写装置を構成している。 (もっと読む)


【課題】高精細の発光層パターンを、高い生産性をもって製造することができるレーザ転写装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るレーザ転写装置110は、真空雰囲気を維持可能な真空室31と、ステージ32と、移載機構113と、レーザ光学系33とを具備する。ステージ32は、真空室31内に設置され、真空室31内に搬入された基板2を支持する。移載機構113は、ステージ32に支持された基板2上に、有機発光材料を支持する熱転写体50Rを配置するように構成される。レーザ光学系33は、ステージ32に対向して配置され、熱転写体50Rにレーザを照射することで、有機発光材料を基板2上に転写する。 (もっと読む)


【課題】有機EL材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするデバイスを提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された絶縁層と、少なくとも前記絶縁層の間に形成された薄膜層とを有し、前記薄膜層は転写により形成されたものであり、隣り合う絶縁層間の開口幅をA、該開口に対応する領域に存在する薄膜層の幅をE、絶縁層のピッチをPとしたとき、A+4(μm)≦E(μm)≦P−10(μm)であり、かつ、幅方向に隣り合う薄膜層が異なる材料を含むものであり、当該隣り合う薄膜層間の間隔がほぼ一定であるデバイス。 (もっと読む)


【課題】パターニング装置において、基板からインクを効率的に除去でき、基板の汚染を抑制すると共に、生産性を向上させる。
【解決手段】パターニング装置1は、基板20上の所定箇所のインク30を除去する拭取り機構4を備える。この拭取り機構4は、溶剤40を含有させたテープ41と、テープ41を巻き取る回転式のリール42と、テープ41を基板20上に当接させるテープヘッド43と、を有する。テープヘッド43でテープ41を基板20に当接させて、テープ41に基板20上のインク30を付着させる。この構成によれば、インク30をテープ41で拭取るとき、テープ41の拭取り面は常に新しい面となるので、効率的にインク30を除去でき、テープ41が劣化し難くなる。また、長時間の使用でも削り屑等が発生し難いので、基板20の汚染を抑制でき、生産性が向上する。 (もっと読む)


【課題】光学表示パネルを高歩留りかつ高速に連続生産することができる光学表示パネルの連続製造方法。
【解決手段】長手方向に吸収軸を有する帯状の第1偏光フィルムを幅方向に切断することで得られた前記第1偏光フィルムを第1光学フィルムロール101から供給し、前記光学セルを搬送しながら、前記第1偏光フィルムを前記光学セルの対向する一組の辺側から前記第1偏光フィルムの供給方向に沿って前記光学セルの背面側の面に貼り合わせる第1貼合工程と、幅方向に反射軸を有する帯状の直線偏光分離フィルムを幅方向に切断することで得られた前記直線偏光分離フィルムを第2光学フィルムロール102から供給し、前記光学セルを搬送しながら、前記直線偏光分離フィルムを前記光学セルの背面側の面に貼り合わされた前記第1偏光フィルム上に、前記光学セルの対向するもう一組の辺側から前記直線偏光分離フィルムの供給方向に沿って貼り合わせる第2貼合工程 (もっと読む)


【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクMに形成されたパターンPmを基板Sに転写する露光装置EXであって、マスクMを照明する照明装置IUと、基板Sに対してパターンPmの拡大像を投影する投影装置PUと、マスクMを保持する第一円筒面31を有し、第一円筒面31の周方向に回転するマスク保持部40と、基板を搬送する第二円筒面32を有し、マスク保持部40と同一の回転軸Cを中心として第二円筒面32の周方向に回転する基板搬送部50とを備える。 (もっと読む)


【課題】
伝導性異物による有機発光素子のピクセルの不良領域を再生して製品の信頼性を確保し、歩留まりを向上させるピクセルの再生方法及びこれを具現する再生装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板10上に有機発光層31,32,33を挟んで互いに交差するように形成された第1の電極20と第2の電極40とを含む有機発光素子をステージ上にアラインする第1のステップと、前記第1の電極20及び第2の電極40間の有機発光層31,32,33に存在する伝導性異物存在領域にピクセル再生装置Lを用いてレーザを照射する第2のステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製造プロセスにおける損傷を防止し、所望の駆動電圧を得ることのできる有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板101上に、陽極102と、発光層を有する複数の有機機能層103と、陰極104と、がこの順に形成された有機エレクトロルミネッセンス素子100において、複数の有機機能層103のうちの少なくとも1層が、鉛筆硬度がH以上3H以下の高硬度層である。 (もっと読む)


【課題】可撓性基板上に形成された電子回路等の損傷を防止し、歩留まりを向上させることが可能な電子デバイスおよび表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】固定層12を介して積層された支持体11を有する基板13の表面に電子回路層14,表示層15,保護膜16および光学膜17をこの順に成膜する。基板13から支持体11を剥離して積層体1Aを形成したのち、電子回路層14等による段差部13Aが設けられた面と、吸着ステージ21とを段差吸収層22を介して固定する。吸着ステージ21に固定された基板13の裏面に支持基板31を張り合わせたのち、吸着ステージ21および段差吸収層22を取り外すことで表示装置1を製造する。 (もっと読む)


【課題】高効率、高寿命かつ高精細な有機EL表示装置を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】一対の電極間に配置され、少なくとも発光層を含む有機化合物層が2次元に配列されてなる発光領域を備える有機EL表示装置の製造方法において、前記発光領域全体に水に不溶である有機化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層上に、水溶性材料を含む保護層を所定のパターン形状にて形成する工程と、前記保護層に覆われていない領域に形成されている有機化合物層を除去する工程と、前記保護層を除去する工程と、前記有機化合物層を乾燥する工程と、前記有機化合物層上に、少なくとも発光領域を含む領域に共通層を形成する工程と、を含み、前記有機化合物層を乾燥する工程から前記共通層を成膜する工程までの工程を真空中で行うことを特徴とする、有機EL表示素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】異物噛みこみ等による局所的な押し込み量過多によるアライメントパターンの崩壊や、発光材料の転位が不均一なことで生じる不明瞭なアライメントパターンの印刷物が生ずることや、印刷画像の凸部やアライメントマークが押し込まれ、印刷が均等に全面にかからなかったために明瞭な被印刷物が得られなかった欠点を解消することが求められていた。
【解決手段】印刷画像領域外にアライメントマークを有するとともに、印刷画像を形成する領域内凸部が形成されている凸版印刷版において、印刷画像領域外に領域外凸部を形成し、前記領域外凸部中に凹形状のアライメントマークが設けられていることを特徴とする印刷用凸版とその製造方法並びに有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】小型のレーザ照射装置で光干渉がなく、連続した結晶成長を実現することである。
【解決手段】メガヘルツレーザビームを用い、分割したレーザビームを半導体膜に照射して、半導体膜を結晶化する。その際に分割ビームに光路差を設けて光干渉を抑える。光路差はメガヘルツレーザビームのパルス幅に相当する長さ以上、パルス発振間隔に相当する長さ未満に設定され、非常に短い光路差で光干渉を抑えることができる。そのためレーザのエネルギー劣化がなく効率的に且つ連続的にレーザビームを照射することができる。 (もっと読む)


【課題】不良箇所が絶縁化された発光デバイスを作製する方法を提供することを課題の一とする。または、不良箇所が絶縁化された発光デバイスを作製する装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】半球状のレンズと発光素子を重なるように形成した後に、不良箇所を検出する。次いで、検出された不良箇所を含む発光素子に重なる半球状のレンズに低エネルギー密度のレーザビームを照射し、該半球状のレンズにより集光された光により不良箇所を絶縁すればよい。 (もっと読む)


【課題】
カラーフィルタ方式のOLEDパネルでも、単一波長で、かつ高い信頼性で検査・修正が可能であり、歩留まりを向上させることのできる薄膜表示素子の検査修正方法及び検査修正装置を提供する。
【解決手段】
発光層の上に形成された金属電極膜と発光層の金属電極膜と反対の側に形成された透明電極膜とを有する薄膜表示素子の発光の状態を検査して不良箇所を修正する方法及びその装置を、金属電極と透明電極とに電力を印加して発光層を発光させ、この発光層の発光の状態を金属電極に対して透明電極の側から観察して発光層で発光していない位置を検出し、この検出した発光層で発光していない位置の情報に基づいて金属電極に透明電極と反対の側からレーザを照射して発光層で発光していない位置の上方の金属電極膜を除去するように構成した。 (もっと読む)


【課題】表示基板の位置を検出する際に表示基板の反りや撓みを矯正して、位置合わせの精度を向上させることができるようにする。
【解決手段】FPDモジュールの組立装置20は、表示基板10を搬送する搬送台403と、表示基板10の縁辺に処理を行う処理ヘッド405と、位置検出部42と、位置検出補助部材43とを備えている。位置検出部42は、処理ヘッド405と搬送台403の間に配置されて表示基板10の位置を検出している。そして、位置検出補助部材43は、位置検出部42によって表示基板10の位置を検出する際に、処理ヘッド405の下刃44よりも鉛直方向の上方で表示基板10に当接し、且つ表示基板10を支持することで表示基板10の撓み及び/又は反りを矯正する。 (もっと読む)


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