【課題】従来の描画装置では、描画品位を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークを第１方向に搬送する搬送装置と、列状に設けられた複数のノズルの少なくとも一つから、紫外光で硬化する液状体を吐出する吐出ヘッドと、吐出ヘッドを保持するキャリッジと、キャリッジを第２方向にガイドする複数のガイド部と、キャリッジに設けられた接続部に接続された動力伝達部と、を有する描画装置で、ワークに液状体で描画を行うときに、接続部に近いガイド部から第１方向に遠ざかる向きに、複数のノズルを少なくとも２つのグループに配属し、キャリッジを第２方向に駆動しながら、第１方向で接続部に近い側のグループの第１ノズルで複数のドット１６３間に露呈領域１６５を残して形成したドットパターン１６１に紫外光を照射してから、他のグループの第２ノズルでドット１６７を露呈領域１６５に重ねて形成する、描画方法。 （もっと読む）

【課題】混色が低減されたパターン膜形成部材の製造方法を提供する。
【解決手段】パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら前記基材上に前記液滴を吐出するパスを所定回数行い、前記基材上に前記パターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、前記基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域に前記液滴の着弾を許可する着弾許可領域を設定する着弾許可領域設定工程と、設定された前記着弾許可領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、前記着弾許可領域設定工程では、前記パスの回数に応じて前記着弾許可領域の位置を設定する。 （もっと読む）

【課題】大面積基板におけるロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に対して、精度良く着弾させることができるインクジェット装置を提供すること。
【解決手段】画素領域外にもインクを着弾させ、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置を認識カメラで認識して、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置からズレ量を算出し、吐出するノズルを切り替えて基板に塗布する。これより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】基材を設置するステージと液柱状のインクを吐出するノズルとを相対的に往復移動させながら基板上に連続的に塗膜を形成する塗布装置において、高速動作を行っても材料利用効率が高くかつ画素形成領域の塗膜を均一にする。
【解決手段】塗布装置は、基材を設置するステージと、前記基材上に液柱状のインクを連続吐出するノズルと、前記ステージと前記ノズルとを、少なくとも一方を前記基材の面方向に移動させることによって、相対的に移動可能とする移動機構とを備え、前記ノズルに対する前記基材の相対移動速度の情報に基づいて、前記ノズルから吐出するインクの吐出流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の乾燥状態を均一化して画素形状の違いによって発生する濃度ムラ、かつ視覚的品質低下がなく、高品質な有機機能性素子及びカラーフィルタを製造することができる塗工装置を提供する。
【解決手段】塗工装置は、ノズルヘッドユニットに搭載されているノズルヘッド数とノズルヘッドの配置距離情報及び基板上の隔壁位置情報とに基づき、ノズルヘッドの走査回数と塗工位置情報とを関数を用いて決定することにより、機能層を形成する際の塗工動作パターンを決定する手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】有機機能層を印刷する際に、画素の輝度ムラや、ショート、非点灯の原因となる異物を除去する手段を備えた印刷装置及びその印刷装置を使用して有機機能素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷装置であって、印刷用凸版を備えた第一の回転式版胴２０１と、第一の回転式版胴２０１上に設けられ、被印刷基板表面２０７の異物を除去するための第一の異物除去版３０２と、印刷用凸版２０２を備えた第一の回転式版胴２０１と対向して設けられ、印刷用凸版２０２表面の異物を除去するための第二の異物除去版４０２を備えた第二の回転式版胴４０１と、印刷用凸版２０２と第一の異物除去版３０２を洗浄するための第一の洗浄チャンバー３０３と、第二の異物除去版４０２を洗浄する第二の洗浄チャンバー３０４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一性の高い高分子有機ＥＬパネルを安価に生産できる印刷装置を提供する。
【解決手段】支持基台上に、凸版と、凸版を設置する回転式の版シリンダと、凸版にインキを供給するインキ供給部と、被印刷基板を載置して前記凸版上のインキを被印刷基板に転写する凸版印刷部とを具備する凸版印刷装置であって、
予備転写の際に前記印刷基板に代えて凸版上のインキを転写する予備転写部を備えており、かつ、この予備転写部の被転写表面の材質が前記披印刷基板表面と同一の材質であることを特徴とする凸版印刷装置。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、コストを軽減することが困難である。
【解決手段】ワークに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドに対する前記ワークの相対位置を変位させる変位装置と、前記相対位置の変位方向に沿って並ぶ複数の目盛り７５が設けられたリニアスケール７１と、前記相対位置の変位にともなって目盛り７５を検出し、目盛り７５を検出するごとに検出信号を出力するエンコーダー７３と、リニアスケール７１の一端７８ａ側を支持するビス８２と、リニアスケール７１の他端７８ｂ側からリニアスケール７１に張力を付与する引張りばね８３と、リニアスケール７１から独立した状態で、ビス８２から距離Ｄを隔てた位置に設けられ、他端７８ｂ側において、複数の目盛り７５のうちの一部の目盛り７５をエンコーダー７３から隠す隠し部材９１と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 （もっと読む）

【課題】ガラスペーストの塗布高さを所定の誤差範囲に好適に維持できるペースト塗布装置およびペースト塗布方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル５５ａの始点Ｐｓから始端部１０１Ｓを形成する部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより低くしてノズル５５ａが移動し、ノズル５５ａの終点Ｐｅまでの終端部１０１Ｅを形成する部分では、ノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより高くしてノズル５５ａが移動し、始端部１０１Ｓが形成される部分および終端部１０１Ｅが形成される部分以外の部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨとしてノズル５５ａが移動し、さらに、始端部１０１Ｓと終端部１０１Ｅの少なくとも一部でガラスペーストＧｐが重なって塗布されるようにノズル５５ａが移動することを特徴とするペースト塗布装置およびペースト塗布方法とする。 （もっと読む）

【課題】速い塗布速度で膜の形成を行うことのできる成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】本実施形態の成膜方法は、基板をステージに載置する工程と、前記ステージに対して一定の間隙を維持して配置され前記ステージに対して相対的に水平に移動可能でかつ表面に膜形成材料を含むインクが供給されるアプリケータと、前記基板との間に前記インクによるメニスカスを形成する工程と、前記メニスカスを形成した状態で前記基板と前記アプリケータとの間に電圧を印加する工程と、前記メニスカスが形成されかつ前記電圧が印加された状態で前記アプリケータを前記ステージに対して相対的に移動させて前記基板上に前記インクの膜を形成する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の側面に処理液が付着することを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置２０は、基板Ｓを略水平に保持する基板保持部３０と、基板Ｓに対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部４２に沿って移動しつつ基板Ｓに塗布液を吐出する吐出部５０とを備える。一対の側壁部６０ａ，６０ｂが基板Ｓの存在域ＥＲを挟むように設置されており、それらの上端は基板Ｓの主面Ｓｍよりも上方に位置している。吐出部５０が基板Ｓの存在域ＥＲの外方から基板Ｓの側面付近に近づいたときに吐出部５０から吐出した塗布液は側壁部６０ａ，６０ｂで遮られ、基板Ｓの両側面Ｓｓ１，Ｓｓ２には付着しない。 （もっと読む）

【課題】印刷ムラ、異物混入が無く、微細な薄膜パターンを製造可能な印刷装置を提供し、特に、この印刷装置を用いることで、非表示画素の無い有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する凸版印刷装置であって、少なくとも、凸版を装備して回転する版胴と、前記被印刷基板を載置する基板定盤と、前記凸版の版上にインキを塗布するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのインキ供給手段を備えた凸版印刷装置において、前記アニロックスロールはその円筒部表面に多数の微細な凹部が並列に彫刻され、且つ、前記円筒部表面に前記インキに対して撥液性の表面処理層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便な方法でスループットの高い発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】減圧下で発光性材料を含む溶液を陽極もしくは陰極に向けて噴射し、前記溶
液が前記陽極もしくは陰極に到達するまでの間、該溶液中の溶媒を揮発させると共に、残
存した前記発光性材料を前記陽極もしくは陰極上に堆積させて発光層を形成する発光装置
の作製方法である。当該構成により溶液を塗布した後に薄膜化のための焼成工程を必要と
しないため、低コストかつ簡便な方法でありながら、スループットの高い作製方法を提供
することができる。 （もっと読む）

【課題】ノズルプリンティング法によって表示装置を作製する場合に、有機ＥＬ素子の発光特性の低下を抑制することが可能な発光装置およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】支持基板と、当該支持基板上において、第１の方向および当該第１の方向と交差する第２の方向にそれぞれ所定の間隔をあけてマトリクス状に配置される複数の有機ＥＬ素子と、前記支持基板上に設けられ、前記複数の有機ＥＬ素子に対応する位置に開口が形成され、当該開口により前記各有機ＥＬ素子を個別に規定する絶縁膜と、前記絶縁膜上において前記第２の方向に隣り合う有機ＥＬ素子間に配置され、第１の方向に延在する複数本の隔壁部材からなる隔壁とを備える表示装置であって、前記各隔壁部材は、当該隔壁部材の第２の方向の中心位置を、前記第２の方向に隣り合う開口間の中心とは第２の方向の一方にずらして配置されている、表示装置。 （もっと読む）

【課題】スジムラの発生を抑制することが可能なノズルプリンティング装置を提供する。
【解決手段】所定の配列方向に所定の間隔をあけて配置される複数本のノズルを備えるノズルプリンティング装置であって、前記複数本のノズルは、溶媒と溶質とを含むインキを吐出する第１のノズルと、溶質を含まない液体を吐出する第２のノズルとから構成され、前記第１のノズルの本数と、第２のノズルの本数とが同じであるノズルプリンティング装置。 （もっと読む）

【課題】 往復移動するノズルに対して可撓性の塗布液供給管により塗布液貯留部から塗布液を送液した場合においても、塗布液の流量を一定に維持して塗布液を均一に塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 圧力変動吸収機構７０は、圧力吸収部７１と流量抵抗部７２とを備える。圧力吸収部７１は、塗布液供給管６４から送液される塗布液の圧力変動に伴って弾性変形することにより塗布液の収容部の体積を変化させるものであり、肉薄の樹脂製の軟質チューブ７３から構成される。また、流量抵抗部７２は、塗布液供給管６４や軟質チューブ７３よりも内径が小さい、すなわち、より小さなオリフィスを有する肉厚の樹脂製の硬質チューブ７４から構成される。 （もっと読む）

【課題】タクトの悪化及び印刷材料の表面状態の変化を抑えるとともに、被印刷体に塗布された後の印刷材料の膜厚を一定に近づけることのできる技術を提供する。
【解決手段】印刷装置１０は、表面上に隔壁６０の配列が形成された基板Ｗを保持するステージ２２と、所定のパターンが形成された印刷版１７を有し、有機ＥＬ材料のインク７０が塗布された印刷版１７から基板Ｗの隔壁６０間にインク７０のパターンを転写する版胴１４と、印刷版１７にインクを供給するインク供給ローラ１２と、インク供給スリットノズル１１がインク供給ローラ１２上に吐出したインク７０を非接触で加熱する赤外線ヒータ８０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】印刷不良を防ぎ、版表面に付着する異物を無くし、高精細パターンを高精度で印刷できる印刷用凸版およびそれを用いた有機ＥＬディスプレイ用素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材の一方の面上に接着層、耐溶剤層、凸パターン層及び保護層を順次積層してなる印刷用凸版であって、印刷実行時に前記保護層を剥離して用いることを特徴とする印刷用凸版である。すなわち、フォトリソ法で形成した凸パターン層に前記保護層を積層することにより、現像工程後から印刷で版を使用開始するまでの間に付着する異物や衝撃による凸パターンのダメージが保護できる効果をもたらす。 （もっと読む）

【課題】パターニング装置において、基板からインクを効率的に除去でき、基板の汚染を抑制すると共に、生産性を向上させる。
【解決手段】パターニング装置１は、基板２０上の所定箇所のインク３０を除去する拭取り機構４を備える。この拭取り機構４は、溶剤４０を含有させたテープ４１と、テープ４１を巻き取る回転式のリール４２と、テープ４１を基板２０上に当接させるテープヘッド４３と、を有する。テープヘッド４３でテープ４１を基板２０に当接させて、テープ４１に基板２０上のインク３０を付着させる。この構成によれば、インク３０をテープ４１で拭取るとき、テープ４１の拭取り面は常に新しい面となるので、効率的にインク３０を除去でき、テープ４１が劣化し難くなる。また、長時間の使用でも削り屑等が発生し難いので、基板２０の汚染を抑制でき、生産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】基板に対して、塗布液のパターンを良好に印刷することができる印刷装置を提供する。
【解決手段】版胴１０は、外周面１４に印刷版１２を装着可能とされており、同期して回転するインキングローラ２３から印刷版１２に塗布膜２５の転写を受ける。印刷版１２は、いわゆるストライプ版であり、複数の凸部と、複数の凹部と、を有している。インキングローラ２３は、スリットノズル２２から吐出された塗布液の供給を受けつつ回転することによって、外周面２４に塗布膜２５を形成する。そして、インキングローラ２３は、印刷版１２の各凸部と各凹部に、塗布膜２５を転写する。これにより、基板Ｗの主面を、パターン１３によって隙間なく完全に覆うことができる。また、転写直後に形成された基板Ｗ上の凹凸膜は、表面張力によって、速やかに平坦膜になる。 （もっと読む）