吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜、発光素子、画像表示装置、および、電子機器
【課題】色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置を、環境への負荷を小さく提供すること、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を環境への負荷を小さく提供すること、前記画像表示装置を備えた電子機器を提供すること、また、上記画像表示装置、発光素子等に好適に適用することができる吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜を提供すること。
【解決手段】本発明の吐出液は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられるものであって、微粒子状の量子ドットと、量子ドットを分散させる分散媒とを含み、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
【解決手段】本発明の吐出液は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられるものであって、微粒子状の量子ドットと、量子ドットを分散させる分散媒とを含み、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜、発光素子、画像表示装置、および、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に比べて、視野角特性等に優れるため、近年、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）のような、発光（自発光）材料を用いた表示装置が、注目を集めている。
しかしながら、無機エレクトロルミネッセンスでは、材料的な制約から、発光輝度、発光効率、色純度等に問題があり、十分に広い色再現域を確保するのが困難であるという問題がある。このような問題を解決する目的で、着色フィルターを付加したり、発光材料の探索が試みられている（例えば、特許文献１参照）が、着色フィルターを用いた場合には、製造工程が複雑になるばかりか、表示される画像の輝度が著しく低下する。また、各種文献で提案されている物質も、上記のような問題を十分に解決していなかったり、化学的安定性が乏しい等の問題点がある。例えば、特許文献１では、青色発光層をＢａＳ：Ｅｕ材料とＡｌＳ材料の共蒸着により作製することを開示しているが、得られた膜に対してかなりの高温（８００℃以上）で熱処理を施さないと十分な発光特性が得られず、また、共蒸着を行う上で、ＡｌＳ材料の化学的な安定性が非常に乏しいことから、成膜プロセスでの生産性に問題がある。
【０００３】
また、有機エレクトロルミネッセンスでは、発光材料に有機化合物を用いるため、耐久性等に問題がある。また、有機エレクトロルミネッセンスでは、無機エレクトロルミネッセンスに比べると色再現域を広くすることができるが、それでもなお、十分な色再現域を確保しているとは言えない。
また、発光素子を形成する方法としては、気相成膜法や、発光材料を含む液体を塗布する方法等が挙げられる。しかしながら、このような方法では、画像表示装置のように、多数個の微小な成膜領域を配置させるためには、成膜に先立ち、形成すべきパターンに対応するマスクで被覆する必要がある。このようなマスクは、最終的には、完全に除去されるものであり、また、発光材料やマスクの再利用も困難である。したがって、省資源の観点からも好ましくなく、環境への負荷も大きい。また、形成すべきパターン（薄膜パターン）が大型（大面積）のものである場合（表示領域の大きな画像表示装置に適用する場合）、マスクの位置精度を十分に高いものとするのが困難となるという問題点もある。
【０００４】
また、発光材料を含む液体を塗布する方法を用いた場合には、以下のような問題点もある。すなわち、無機発光材料は、一般に、溶解性に劣るため、このような方法を適用する場合、均質に分散された分散液を用いる必要があるが、発光素子の形成に分散液を用いると、分散安定性の変動などにより各画素間や画素内の各部位での発光材料の濃度のばらつきを生じやすい。このような濃度のばらつきが発生すると、表示される画像に色むら等の問題が発生する。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１８００３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置を、環境への負荷を小さく提供すること、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を環境への負荷を小さく提供すること、前記画像表示装置を備えた電子機器を提供すること、また、上記画像表示装置、発光素子等に好適に適用することができる吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の吐出液は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液であって、
微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含み、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等を環境への負荷を小さく作製するのに好適に適用することができる吐出液を提供することができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことを確実に防止することができる。
【０００８】
本発明の吐出液では、吐出液中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、５．０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
これにより、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【０００９】
本発明の吐出液では、吐出液中における前記量子ドットの含有率が、０．００５〜６．０ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができる。また、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることできるとともに、吐出液の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を好適に表示することができる。
【００１０】
本発明の吐出液では、前記分散媒が、デカリン、テトラリン、ブトキシエタノール、オクタン酸エチル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ドデカン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、および、１，３−ブチレングリコールジアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものであることが好ましい。
これにより、量子ドット中、吐出液中に、比較的高い濃度で、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが含まれる場合（ただし、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は１００ｐｐｍ以下）であっても、吐出液の吐出時に発生するミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）の比率を、特に少ないものとすることができる。その結果、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷を特に小さいものとすることができるとともに、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。また、吐出液中における量子ドットの分散性を非常に優れたものとすることができ、ノズル孔から吐出される各液滴中に含まれる量子ドットの含有率のばらつきを防止することができる。また、ノズル孔から吐出液を吐出する際に、微粒子としての量子ドットと分散媒との界面付近での分離が好適に起こり、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、液滴の飛行曲がりをより確実に防止することができ、液滴の受け面への付着位置精度を特に優れたものとすることができる。このようなことから、例えば、吐出液を発光素子、画像表示装置に適用した場合に、各画素間や画素内の各部位での量子ドットの濃度の不本意なばらつきが防止され、表示される画像に色むら等の問題が発生するのをより効果的に防止することができる。また、上記のような優れた分散状態を長期間にわたって保持することができるため、工業用途（産業用）に求められる長期安定吐出性を、非常に優れたものとすることができ、上記のような優れた効果を長期間にわたって、安定的に発揮することができる。また、分散媒が上記のような材料で構成されたものであると、分散媒の揮発性（蒸気圧）を比較的低いものとすることができる。このため、液滴の吐出を長時間にわたって繰り返し行った場合等においても、ノズル孔付近に、吐出液の固形成分（量子ドット等）が付着してしまうのを効果的に防止することができる。
【００１１】
本発明の吐出液では、吐出液中における前記分散媒の含有率は、７０〜９８ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることができるとともに、吐出液の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を表示することができる画像表示装置等を効率よく製造することができる。
【００１２】
本発明の吐出液では、前記量子ドットは、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、Ｉｎ、Ａｇまたはこれらの混合物で構成されたものであることが好ましい。
これにより、環境に対する負荷を特に小さいものとすることができるとともに、作業者等の安全性を確保する上で、特に有利である。また、可視光領域で純粋なスペクトルを安定して得ることができるので、発光素子の形成に有利である。
【００１３】
本発明の吐出液セットは、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液を複数種備えた吐出液セットであって、
前記吐出液は、微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含むものであり、
前記量子ドットの粒径が、前記吐出液間で異なるものであり、かつ、
複数種の前記吐出液のそれぞれにおいて、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等を環境への負荷を小さく作製するのに好適に適用することができる吐出液セットを提供することができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことを確実に防止することができる。
【００１４】
本発明の薄膜パターン形成方法は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる吐出液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる吐出工程と、
前記受け面に付着した前記吐出液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する分散媒除去工程とを有し、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等を環境への負荷を小さく作製するのに好適に適用することができる薄膜パターン形成方法を提供することができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことを確実に防止することができる。
【００１５】
また、ノズル孔から吐出液（分散液）の液滴を吐出する際に、低濃度で互いに干渉しあうことなく均一に分散した微粒子としての量子ドットの分散液は粘弾性を低く抑えることが可能であり、量子ドットと分散媒との界面付近での分離が好適に起こるため、ノズル孔からの液切れがよく、吐出される液滴量のばらつきを防止することができ、また、液滴の飛行曲がりを確実に防止することができ、ノズル孔から液切れした液滴が速やかに球形状となる。このため、受け面の所望の部位に、所望の量の吐出液を付着させることができる。その結果、形成される薄膜の各部位での量子ドットの付着量の不本意なばらつきを防止することができる。したがって、薄膜パターン形成方法を発光素子、画像表示装置に適用した場合に、発光時における各部位での不本意な輝度のばらつきが発生してしまうのを好適に防止することができる。
【００１６】
本発明の薄膜パターンの形成方法では、前記液滴吐出法は、インクジェット法であることが好ましい。
これにより、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、飛行曲がりの発生をより確実に防止することができる。その結果、受け面への吐出液（分散液）の付着量、付着位置の制御をより精確に行うことができる。また、いわゆるバブルジェット法（「バブルジェット」は登録商標）等に比べて、吐出液の吐出時に発生するミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）の比率を、特に少ないものとすることができる。その結果、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷を特に小さいものとすることができるとともに、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【００１７】
本発明の薄膜パターンの形成方法では、異なる粒径の前記量子ドットを含む複数種の前記吐出液を用いることが好ましい。
これにより、例えば、色再現域が特に広く、耐久性に優れる発光素子、画像表示装置を好適に製造することができる。
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記吐出液を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出することが好ましい。
このように、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、１滴あたりの吐出液の吐出量を十分に小さくする必要があり、ミストがより発生しやすくなるが、発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものであるため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。また、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、一般には、複数個の微小単位が結合し、比較的大きな液溜りを形成してしまったり、吐出した液滴が、目的とする微小単位を形成すべき部位ではなく、隣接する微小単位を形成すべき部位に付着してしまう等の問題を生じやすく、目的のパターンを形成するのが困難であるが、上述したような量子ドットを含む分散液では、このような問題を生じにくい。すなわち、分散液を複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する方法に、本発明を適用した場合、本発明による効果がより顕著に発揮される。
【００１８】
本発明の薄膜は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られたことを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等に好適に適用することができる吐出液を提供することができる。
【００１９】
本発明の発光素子は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られた発光層を有することを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供することができる。
【００２０】
本発明の画像表示装置は、本発明の発光素子を備えたことを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の画像表示装置を備えたことを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を、長期間にわたって安定的に表示することができる電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
《吐出液（分散液）》
まず、薄膜パターンの形成に用いられる吐出液（分散液）について説明する。
本発明において、吐出液（分散液）は、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、量子ドットが分散媒中に分散してなるものであり、特に、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に供されるものである。
【００２２】
＜量子ドット（微粒子）＞
量子ドットは、半導体材料の結晶で構成され、その粒径が数ｎｍ〜数十ｎｍ程度（より具体的には、２〜２０ｎｍ）の微粒子である。
このような微粒子のエネルギー準位Ｅは、一般に、プランク定数をｈ、電子の有効質量をｍ、微粒子の半径をＲとしたとき、下記式（Ｉ）で表現することができる。
【００２３】
Ｅ∝ｈ２／ｍＲ２・・・（Ｉ）
上記式で示されるように、微粒子のバンドギャップは、Ｒ−２に比例して大きくなる（いわゆる、量子ドット効果）。このように、微粒子（量子ドット）の粒径を制御、規定することによって、微粒子（量子ドット）のバンドギャップの値を制御することができる。すなわち、微粒子の粒径を制御、規定することにより、微粒子を擬似的な半導体原子（人工原子、デザイナー原子）として機能させることができるとともに、通常の原子には無い多様性を持たせることができる。このようなことから、量子ドット（微粒子）に対して、電気的なエネルギーを付与することにより所望の波長で発光させたり、入射した光（例えば、紫外線）を、所望の波長の光に変調して出射させたりすることができる。また、量子ドット（微粒子）に所定の波長の光を入射することにより、電気エネルギーを取り出すこともできる。したがって、量子ドットを含む吐出液（分散液）を用いて形成されるパターン（薄膜パターン）は、例えば、画像表示装置の発光素子や、太陽電池等の用途に好適に適用することができる。
【００２４】
上記のように、量子ドットは、一般に、その粒径が数ｎｍ〜数十ｎｍ程度（より具体的には、２〜２０ｎｍ）の微粒子であるが、本発明者は、このような微粒子を含む分散液（特に、後述するような分散媒に、量子ドットが分散した分散液）を、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に適用した場合に、低濃度で互いに干渉しあうことなく均一に分散した微粒子としての量子ドットの分散液は粘弾性を低く抑えることが可能であり、量子ドットと分散媒と界面付近での分離が好適に起こることを見出した。そして、さらに、液滴吐出時におけるノズル孔からの液切れがよくなり、吐出される液滴量のばらつきを防止することができ、また、液滴の飛行曲がりを確実に防止することができることができ、ノズル孔から液切れした液滴が速やかに球形状となるため、液滴が付着する受け面への付着位置精度が優れたものになることを見出した。このような効果は、上記のような量子ドットを含まない液体を用いた場合には得られない。すなわち、液滴吐出法に供される液体が、分散質を含まない溶液である場合には、ノズル孔から吐出される液滴の液切れが不均一になりやすいため、各液滴での重量のばらつきが大きくなりやすく、また、液滴の付着位置精度も低いものとなる。一方、液滴吐出法に供される液体（吐出液）が上記以上の大きさの分散質が分散した分散液である場合には、ノズル孔から吐出される各液滴での重量のばらつきが特に大きくなりやすい。
【００２５】
量子ドットの粒径は、上述したように、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度であるが、吐出液（分散液）を、後述するような発光素子、表示部を有する画像表示装置に用いる場合、目的とする表示色に対応する粒径とする。例えば、吐出液（分散液）を赤色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、３〜２０ｎｍであるのが好ましく、吐出液（分散液）を緑色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、１〜１０ｎｍであるのが好ましく、吐出液（分散液）を青色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、１〜３ｎｍであるのが好ましい。なお、量子ドットを、例えば、後述するような方法により製造した場合、得られる量子ドットの粒度分布を非常にシャープなものとすることができる。これにより、例えば、吐出液を、画像表示装置等に適用した場合、鮮明な画像を好適に表示することができる。
【００２６】
上述したように、本発明において、吐出液（分散液）は、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、量子ドットが分散媒中に分散してなるものであり、特に、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に供されるものである。このような液滴吐出法においては、吐出液のミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）が不可避的に発生する。一方、従来、量子ドットとしては、発光の効率や粒子の安定性を考慮すると、構成成分として、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを含むものが用いられてきたり、不純物として、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが含まれるものが用いられてきた（従来の量子ドットでは、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを実質的に完全に除去することが極めて困難（実質的に不可能）であった）。そして、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが量子ドット中に含まれると、吐出液のミストが発生した際に、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが雰囲気中に滞留、拡散してしまうことになる。Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒは、環境に対して大きな負荷を与えるとともに、人体に対する悪影響（特に、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを吸い込んだ際における呼吸器官等への悪影響）が懸念される元素である。
【００２７】
そして、本発明者は、鋭意研究を行った結果、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下であると、液滴吐出に伴って発生するミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量は、十分低いものであるのに対し、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍを超えると、液滴吐出に伴って発生するミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量が、急激に増大することを見出した。すなわち、本発明者は、液滴吐出に伴って発生するミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量が急激に増大する際の、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量についての臨界性（臨界点）を見出した。したがって、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量を１００ｐｐｍ以下とすることにより、上記のような環境への負荷を小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等を確実に防止することができる。
このような臨界性が認められるのは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００２８】
すなわち、特殊な粒子径の量子ドットを含む分散液（吐出液）においては、一般的な分散液、溶液とは異なり、液滴吐出の際に、上述したような量子ドット（分散質）と分散媒と界面付近での分離が好適に起こるが、量子ドット中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率によって、分散媒中に溶出するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量およびそれに起因する平均粒径バラツキや分散を安定化させるために添加する分散剤の量が異なり、これが、液滴吐出時における吐出液の液切れの挙動等にも影響を及ぼしているものと考えられる。そして、分散媒中に溶出するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量や粒径のバラツキ、分散剤の量によって、液滴吐出時に不可避的に発生するミストの大きさ、総量、ミスト中に含まれる量子ドットの比率等が変化するものであると考えられる。すなわち、大型のミストは大気中で比較的早く沈降し大気を浮遊する時間が短いのに対して、あるサイズ以下のミストでは長時間浮遊することが可能となり、微少なミストが大量に発生する。
【００２９】
このように、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が高いと、含有率が低い場合に比べて、分散媒中に溶出するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量が増えるとともに、液滴吐出時に不可避的に発生するミストの大きさ、総量、ミスト中に含まれる量子ドットの比率等も変化するため、上記のような臨界性が発現するものと思われる。
上記のように、本発明においては、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は、１００ｐｐｍ以下であればよいが、７０ｐｐｍ以下であるのが好ましく、５０ｐｐｍ以下であるのがより好ましい。これにより、上述したような効果はより顕著に発揮される。
【００３０】
量子ドットの構成材料としては、例えば、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、錫等の周期表第１４族元素の単体、リン（黒リン）等の周期表第１５族元素の単体、セレン、テルル等の周期表第１６族元素の単体、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等の複数の周期表第１４族元素からなる化合物、酸化錫（IV）（ＳｎＯ２）、硫化錫（II，IV）（Ｓｎ（II）Ｓｎ（IV）Ｓ３）、硫化錫（IV）（ＳｎＳ２）、硫化錫（II）（ＳｎＳ）、セレン化錫（II）（ＳｎＳｅ）、テルル化錫（II）（ＳｎＴｅ）等の周期表第１４族元素と周期表第１６族元素との化合物、窒化ホウ素（ＢＮ）、リン化ホウ素（ＢＰ）、砒化ホウ素（ＢＡｓ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、リン化アルミニウム（ＡｌＰ）、砒化アルミニウム（ＡｌＡｓ）、アンチモン化アルミニウム（ＡｌＳｂ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、リン化ガリウム（ＧａＰ）、砒化ガリウム（ＧａＡｓ）、アンチモン化ガリウム（ＧａＳｂ）、窒化インジウム（ＩｎＮ）、リン化インジウム（ＩｎＰ）、砒化インジウム（ＩｎＡｓ）、アンチモン化インジウム（ＩｎＳｂ）等の周期表第１３族元素と周期表第１５族元素との化合物（あるいはIII−Ｖ族化合物半導体）、硫化アルミニウム（Ａｌ２Ｓ３）、セレン化アルミニウム（Ａｌ２Ｓｅ３）、硫化ガリウム（Ｇａ２Ｓ３）、セレン化ガリウム（Ｇａ２Ｓｅ３）、テルル化ガリウム（Ｇａ２Ｔｅ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、硫化インジウム（Ｉｎ２Ｓ３）、セレン化インジウム（Ｉｎ２Ｓｅ３）、テルル化インジウム（Ｉｎ２Ｔｅ３）等の周期表第１３族元素と周期表第１６族元素との化合物、塩化タリウム（Ｉ）（ＴｌＣｌ）、臭化タリウム（Ｉ）（ＴｌＢｒ）、ヨウ化タリウム（Ｉ）（ＴｌＩ）等の周期表第１３族元素と周期表第１７族元素との化合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、テルル化亜鉛（ＺｎＴｅ）、硫化水銀（ＨｇＳ）、セレン化水銀（ＨｇＳｅ）、テルル化水銀（ＨｇＴｅ）等の周期表第１２族元素と周期表第１６族元素との化合物（あるいはII−VI族化合物半導体）、硫化砒素（III）（Ａｓ２Ｓ３）、セレン化砒素（III）（Ａｓ２Ｓｅ３）、テルル化砒素（III）（Ａｓ２Ｔｅ３）、硫化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｓ３）、セレン化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｓｅ３）、テルル化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｔｅ３）、硫化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｓ３）、セレン化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｓｅ３）、テルル化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｔｅ３）等の周期表第１５族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｏ）、セレン化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｓｅ）等の周期表第１１族元素と周期表第１６族元素との化合物、塩化銅（Ｉ）（ＣｕＣｌ）、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）、塩化銀（ＡｇＣｌ）、臭化銀（ＡｇＢｒ）等の周期表第１１族元素と周期表第１７族元素との化合物、硫化銀（ＡｇＳ）等の周期表第１１族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化ニッケル（II）（ＮｉＯ）等の周期表第１０族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化コバルト（II）（ＣｏＯ）、硫化コバルト（II）（ＣｏＳ）等の周期表第９族元素と周期表第１６族元素との化合物、四酸化三鉄（Ｆｅ３Ｏ４）、硫化鉄（II）（ＦｅＳ）等の周期表第８族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化マンガン（II）（ＭｎＯ）等の周期表第７族元素と周期表第１６族元素との化合物、硫化モリブデン（IV）（ＭｏＳ２）、酸化タングステン（IV）（ＷＯ２）等の周期表第６族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化バナジウム（II）（ＶＯ）、酸化バナジウム（IV）（ＶＯ２）、酸化タンタル（Ｖ）（Ｔａ２Ｏ５）等の周期表第５族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化チタン（ＴｉＯ２、Ｔｉ２Ｏ５、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ５Ｏ９等）等の周期表第４族元素と周期表第１６族元素との化合物、硫化マグネシウム（ＭｇＳ）、セレン化マグネシウム（ＭｇＳｅ）等の周期表第２族元素と周期表第１６族元素との化合物、バリウムチタネート（ＢａＴｉＯ３）等が挙げられるが、ＳｎＳ２、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ等の周期表第１４族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ等のIII−Ｖ族化合物半導体、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｇａ２Ｓｅ３、Ｇａ２Ｔｅ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｓｅ３、Ｉｎ２Ｔｅ３等の周期表第１３族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＨｇＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ等のII−VI族化合物半導体、Ａｓ２Ｏ３、Ａｓ２Ｓ３、Ａｓ２Ｓｅ３、Ａｓ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｓｂ２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｓｅ３、Ｂｉ２Ｔｅ３等の周期表第１５族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ等の周期表第２族元素と周期表第１６族元素との化合物が好ましく、中でも、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、Ｉｎ、Ａｇがより好ましい。このような物質で構成された量子ドットを用いることにより、環境に対する負荷を特に小さいものとすることができるとともに、作業者等の安全性を確実により確保することができる。また、可視光領域で純粋なスペクトルを安定して得ることができるので、発光素子の形成に有利である。また、量子ドットが上記のような構成材料で構成されたものであると、後述するような方法で、量子ドットを製造した際におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率を、容易かつ確実に低いものとすることができる。また、中でも、環境に対する負荷の小ささ、人体への安全性等の観点からは、ＩｎＰ、ＺｎＯ、ＺｎＳがさらに好ましく、さらに、高屈折率、安全性、原料の経済性等の点で優れていることから、ＺｎＳが最も好ましい。また、ＺｎＳｅは、発光の安定性の点で好ましい。また、上述した材料は、１種で用いるものであってもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
吐出液（分散液）中における量子ドットの含有率は、特に限定されないが、０．００５〜６．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましい。量子ドットの含有率が前記範囲内の値であると、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができる。また、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることできるとともに、吐出液（分散液）の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を好適に表示することができる。特に、量子ドットが上述したような材料で構成されたものである場合において、吐出液（分散液）中における量子ドットの含有率が前記範囲内の値であると、吐出液（分散液）中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率を特に低いものとすることができるため、上記のような環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等をより確実に防止することができる。
【００３２】
また、量子ドットは、粒子全体が均一な組成を有するものであってもよいし、各部位で組成の異なるものであってもよい。例えば、量子ドットは、コア領域と、当該コア領域の外周を被覆し、前記コア領域とは異なる組成のシェル領域とを有するもの（コア−シェル構造を有するもの）であってもよい。これにより、例えば、量子ドットの発光効率を優れたものとしつつ、吐出液中における量子ドットの分散安定性を特に優れたものとすることができたり、発光の安定性を向上させたりすることができる。
【００３３】
＜被膜＞
吐出液（分散液）中において、量子ドットの表面は、不活性な無機物の被覆層または有機配位子で構成された被膜で被覆されたものであってもよい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの凝集を効果的に防止することができ、量子ドットの分散性を向上させることができるとともに、液滴吐出時における液切れが特に優れたものとなる。また、被覆層の存在により安定的に光吸収や発光特性が得られる。また、量子ドットが被膜で被覆されていることにより、量子ドットが比較的高い濃度で、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを含むもの（ただし、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は１００ｐｐｍ以下）であっても、量子ドットからのＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの溶出、拡散等を防止することができる。これにより、例えば、量子ドットが人体内に取り込まれた場合であっても、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒによる人体への悪影響の発現をより確実に防止することができる。
【００３４】
また、量子ドットの表面が被膜で被覆されていると、後述するような分散剤を量子ドットの表面付近に確実に担持させることができる。これに対し、量子ドットが被膜で被覆されていないと、分散剤を量子ドットの表面に確実に付着させるのが困難となる。
被膜の厚さは、特に限定されないが、０．１〜１０ｎｍであるのが好ましく、０．１〜５ｎｍであるのがより好ましい。一般に、量子ドットのサイズにより発光色が制御でき、被膜の厚さが前記範囲内の値であると、被膜の厚みが量子ドット１個分程度であり、薄膜パターン形成時における欠陥（抜け等）を防ぎつつ十分な発光量が得られる。また、被膜の厚さが前記範囲内の値であると、量子ドットからのＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの溶出、拡散等を防止することができ、上述したような問題の発生をより確実に防止することができる。また、被膜の存在によりお互いの粒子の粒子表面に存在するフリーの電子による非発光の電子エネルギーの転移を抑制でき、量子効率の低下を抑えることができる。
【００３５】
＜分散剤＞
吐出液（分散液）中において、量子ドットの表面付近には、分散剤が付着しているのが好ましい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散性を特に優れたものとすることができるとともに、液滴吐出時における液切れが特に優れたものとなる。また、量子ドット（微粒子）の製造時において量子ドットの表面に分散剤を付着させることにより、形成される量子ドットの形状を真球度の高いものとし、また、量子ドットの粒度分布をシャープなものとすることができるため、例えば、吐出液（分散液）を画像表示装置の発光素子、表示素子の形成に適用した場合において、画像表示装置に表示される画像の画質を特に優れたものとすることができる。
分散剤は、量子ドットの表面に直接付着したものであってもよいし、被膜を介して付着したもの（分散剤が直接付着するのは被膜で、量子ドットには接触していないもの）であってもよい。
【００３６】
分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；トリフェニルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）等のトリアルキルホスフィン類；ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類；トリ（ｎ−ヘキシル）アミン、トリ（ｎ−オクチル）アミン、トリ（ｎ−デシル）アミン等の第３級アミン類；トリプロピルホスフィンオキシド、トリブチルホスフィンオキシド、トリヘキシルホスフィンオキシド、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、トリデシルホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンオキシド、ジフェニルホスフィンオキシド等の有機リン化合物；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ピリジン、ルチジン、コリジン、キノリン類の含窒素芳香族化合物等の有機窒素化合物；ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン等のアミノアルカン類；ジブチルスルフィド等のジアルキルスルフィド類；ジメチルスルホキシドやジブチルスルホキシド等のジアルキルスルホキシド類；チオフェン等の含硫黄芳香族化合物等の有機硫黄化合物；パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸；アルコール類；ソルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；３級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミン類等が挙げられるが、量子ドットが後述するような方法で調製されるものである場合、分散剤は、高温液相において微粒子に配位して安定化する物質であるのが好ましく、具体的には、トリアルキルホスフィン類、有機リン化合物、アミノアルカン類、第３級アミン類、有機窒素化合物、ジアルキルスルフィド類、ジアルキルスルホキシド類、有機硫黄化合物、高級脂肪酸、アルコール類が好ましい。このような分散剤を用いることにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散性を特に優れたものとしたり、吐出液（分散液）の吐出安定性を特に優れたものとすることができたり、量子ドットの製造時において形成される量子ドットの形状をより真球度の高いものとし、量子ドットの粒度分布をよりシャープなものとすることができる。
【００３７】
＜分散媒＞
上述したように、吐出液（分散液）中において、量子ドット（より好適には、分散剤が付着した量子ドット）は、分散媒中に分散している。
通常、分散媒は、後述するような薄膜を製造する過程において、その大部分が除去されるものである。
【００３８】
分散媒としては、例えば、エステル化合物、エーテル化合物、ヒドロキシケトン、炭酸ジエステル、環状アミド化合物等を用いることができ、中でも、（１）多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン等）の縮合物としてのエーテル（多価アルコールエーテル）や、多価アルコールまたは多価アルコールエーテルのアルキルエーテル（例えば、メチルエーテル、エチルエーテル、ブチルエーテル、ヘキシルエーテル等）、エステル（例えば、ホルメート、アセテート、プロピオネート等）、（２）多価カルボン酸（例えば、こはく酸、グルタル酸等）のエステル（例えば、メチルエステル等）、（３）分子内に少なくとも１つの水酸基と少なくとも１つのカルボキシル基とを有する化合物（ヒドロキシ酸）のエーテル、エステル等、（４）多価アルコールとホスゲンとの反応で得られるような化学構造を有する炭酸ジエステル、（５）炭素数が１２以上の炭化水素が好ましい。分散媒として用いることのできる具体的な化合物としては、例えば、２−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−１−メチルエチルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、グルタル酸ジメチル、エチレングリコールジｎ−ブチレート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，６−ジアセトキシヘキサン、メチルプロピレントリグリコール、ブトキシプロパノール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、オクタン酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、酢酸シクロヘキシル、こはく酸ジエチル、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、こはく酸ジメチル、１−ブトキシ−２−プロパノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシ−ｎ−ブチルアセテート、ジアセチン、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ブチルグリコレート、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ドデカン、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラデカン、シクロヘキシルベンゼン、デカリン（デカヒドロナフタレン）、テトラリン、ブトキシエタノール等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、分散媒としては、テトラデカン、シクロヘキシルベンゼン、デカリン、テトラリン、ブトキシエタノール、オクタン酸エチル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ドデカン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、および、１，３−ブチレングリコールジアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものであるのが好ましい。分散媒がこのような材料で構成されたものであると、分散液（吐出液）中における量子ドット（特に、分散剤が付着した量子ドット）の分散性を非常に優れたものとすることができ、ノズル孔から吐出される各液滴中に含まれる量子ドットの含有率のばらつきを防止することができる。また、ノズル孔から吐出液（分散液）を吐出する際に、微粒子としての量子ドットと分散媒との界面付近での分離が好適に起こり、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、液滴の飛行曲がりをより確実に防止することができ、液滴の受け面への付着位置精度を特に優れたものとすることができる。このようなことから、例えば、吐出液を発光素子、画像表示装置に適用した場合に、各画素間や画素内の各部位での量子ドットの濃度の不本意なばらつきが防止され、表示される画像に色むら等の問題が発生するのを効果的に防止することができる。また、上記のような優れた分散状態を長期間にわたって保持することができるため、工業用途（産業用）に求められる長期安定吐出性を、非常に優れたものとすることができ、上記のような優れた効果を長期間にわたって、安定的に発揮することができる。また、分散媒が上記のような材料で構成されたものであると、分散媒の揮発性（蒸気圧）を比較的低いもの（分散媒の沸点を比較的高いもの）のとすることができる。このため、液滴の吐出を長時間にわたって繰り返し行った場合等においても、ノズル孔付近に、吐出液の固形成分（量子ドット等）が付着してしまうのを効果的に防止することができる。また、分散媒が上記のような材料で構成されたものであると、液滴吐出時におけるミストの発生そのものが抑制され、また、ミストが発生した場合であっても、ミストの乾燥が緩やかに進行するため比較的速やかに落下し、雰囲気中に長時間滞留しにくい。このため、上記のような環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等をより確実に防止することができる。また、量子ドットが、比較的高い濃度で、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを含む場合（ただし、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は１００ｐｐｍ以下）であっても、上記のような問題の発生を確実に防止することができる。
【００３９】
分散媒の大気圧（１気圧）下における沸点は、１５０〜２８０℃であるのが好ましく、１７０〜２７０℃であるのがより好ましく、１８０〜２６０℃であるのがさらに好ましい。分散媒の大気圧下における沸点が前記範囲内の値であると、吐出液（分散液）を吐出する液滴吐出ヘッドにおける目詰まり等をより効果的に防止することができ、薄膜パターンの形成の効率を特に優れたものとすることができる。
また、分散媒の２５℃における蒸気圧は、０．１ｍｍＨｇ以下であるのが好ましく、０．０５ｍｍＨｇ以下であるのがより好ましい。分散媒の蒸気圧が前記範囲内と値であると、吐出液（分散液）を吐出する液滴吐出ヘッドにおける目詰まり等をより効果的に防止することができ、薄膜パターンの形成の効率を特に優れたものとすることができる。
【００４０】
吐出液（分散液）中における分散媒の含有率は、特に限定されないが、７０〜９８ｗｔ％であるのが好ましく、８０〜９５ｗｔ％であるのがより好ましい。分散媒の含有率が前記範囲内の値であると、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることできるとともに、吐出液の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を表示することができる画像表示装置等を効率よく製造することができる。また、分散媒が、上述したような材料で構成されたものである場合において、分散媒の含有率が前記範囲内の値であると、液滴吐出時において、ミストの発生をより効果的に抑制することができ、また、ミストが長時間にわたって雰囲気中に滞留するのを効果的に防止することができるため、上記のような環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等をより確実に防止することができる。
【００４１】
＜酸化防止剤＞
吐出液（分散液）は、非常に粒径が小さな量子ドットの酸化と、それによる分散性の崩壊・凝集を防ぐために酸化防止剤を成分として含むのが好ましい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散安定性を特に優れたものとすることができるとともに、液滴吐出時における液切れが安定する。酸化防止剤としては、フェノール系、イオウ系、リン酸系、ヒンダードアミン化合物があげられ、単独または2種類以上を組み合わせて使用できる。
【００４２】
フェノール系酸化防止剤としては、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ｄｌ−α−トコフェロール、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリス−（３，５，−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、４，４’−チオビス−（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、２−（１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、６−（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ）−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ（ｄ，ｆ）（１，３，２）ジオキサホスフェピン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
【００４３】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類およびペンタエリスリトールテトラ（竈−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオールの竈−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
【００４４】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−オクタデシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト、トリス（２−〔（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、２−エチル−２−ブチルプロピレングリコールと２，４，６−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
【００４５】
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン等のヒンダードアミン化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
前記酸化防止剤の分散液１００重量部に対する含有量は、１０〜２００００ｐｐｍであるのが好ましく、２０〜１５０００ｐｐｍであるのがより好ましく、３０〜１００００ｐｐｍであるのがさらに好ましく、５０〜６０００ｐｐｍであるのがもっとも好ましい。
【００４６】
＜その他の成分＞
吐出液（分散液）は、必要に応じて、種々の他の成分を含むものであってもよい。このような成分（他の添加剤）としては、例えば、各種架橋剤；各種重合開始剤；銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤；ガラス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレート等の高分子化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤；メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、グリセリン等の吐出性能安定化剤；以下商品名で、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７８Ｋ（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５、同Ｎｏ．９５（以上、共栄社油脂化学工業（株）製）等の界面活性剤等が挙げられる。
【００４７】
上記のような吐出液（分散液）中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は、５．０ｐｐｍ以下であるのが好ましく、３．０ｐｐｍであるのがより好ましく、２．０ｐｐｍ以下であるのがさらに好ましい。これにより、上述したような問題の発生をより確実に防止することができる。すなわち、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【００４８】
また、上記のような吐出液（分散液）の２５℃における粘度（振動式粘度計を用いて測定される粘度）は、特に限定されないが、３〜１５ｍＰａ・ｓであるのが好ましく、５〜１０ｍＰａ・ｓであるのがより好ましい。吐出液（分散液）の粘度が前記範囲内の値であると、後述するような液滴吐出において、吐出される吐出液（分散液）の液滴量のばらつきを特に小さいものとしつつ、液滴吐出ヘッドにおける目詰まりの発生等をより確実に防止することができる。なお、吐出液（分散液）の粘度の測定は、例えば、振動式粘度計を用いて行うことができ、特に、ＪＩＳ Ｚ８８０９に準拠して行うことができる。
【００４９】
上記のような吐出液（分散液）は、例えば、以下のようにして調製することができる。
上述したような本発明の吐出液（分散液）は、量子ドットが大気中の酸素や水分により劣化することを避けるために、酸素や水分を除去した環境で保存されるものであるのがこのましい。
すなわち、ＸＹ型の化合物（ただし、Ｘは金属原子、Ｙは非金属原子）で構成された量子ドットを含む吐出液（分散液）は、例えば、以下のようにして調製することができる。
【００５０】
まず、酸素および水分が系内に混入するのが防止された条件で、金属原子Ｘを構成原子として含有する化合物（原料化合物）と、非金属原子Ｙを構成原子として含有する化合物（原料化合物）とを含む溶液（第１の液体）を用意するとともに、上述したような分散剤（表面修飾剤）を含む液体（第２の液体）を用意する。このように、金属原子Ｘを構成原子として含有する化合物（原料化合物）と、非金属原子Ｙを構成原子として含有する化合物（原料化合物）とを用いることにより、化合物ＸＹの合成に先立って、原料化合物の精製を好適に行うことができ、調製される吐出液（分散液）にＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒが混入することが確実に防止される。
ＩｎＰで構成された量子ドットを調製する場合（ＸがＩｎであり、ＹがＰである場合）、原料化合物としては、例えば、塩化インジウム（ＩｎＣｌ３）および、トリスジメチルアミノホスフィン（Ｐ（ＮＭｅ２）３）を好適に用いることができる。また、分散剤（表面修飾剤）としては、トリオクチルホスフィン、トリオクチルホスフィンオキシド、トリデシルホスフィンオキシド、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン等を好適に用いることができる。特に、これらから選択される２種以上を組み合わせて用いるのが好ましい。これにより、量子ドットの粒径を容易かつ確実に所望の大きさに調整することができ、量子ドットからの出射光の波長を、容易かつ確実に、所望の値とすることができる。また、吐出液中における量子ドットの安定性を特に優れたものとすることができる。
【００５１】
次に、第１の液体と第２の液体とを、加熱しつつ混合することにより、反応を進行させる。
このときの加熱温度は、特に限定されないが、１００〜４００℃であるのが好ましく、１５０〜３５０℃であるのがより好ましい。
次に、上記の反応液を冷却し、有機溶媒（有機溶剤）を添加することにより、化合物ＸＹを不溶物（量子ドット）として析出させる。
【００５２】
このときに用いる有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒（溶剤）や、メタノール、エタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒（溶剤）等が挙げられるが、炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒とを組み合わせて用いるのが好ましく、キシレンとメタノールと１−ブタノールとを組み合わせて用いるのが好ましい。これにより、粒度分布が非常にシャープな量子ドットを、容易かつ確実に得ることができる。
【００５３】
次に、遠心分離し、デカンテーション、真空乾燥等を行うことにより、化合物ＸＹで構成された量子ドットが得られる。
なお、必要に応じて、量子ドットの洗浄を行ってもよい。
その後、得られた量子ドットを分散媒中に分散させることにより、目的の吐出液（分散液）を得ることができる。
【００５４】
また、量子ドットをコア−シェル構造を有するものとして調製する場合、上記のようにして得られた粒子（上記の説明では量子ドットとして説明している粒子）が核（芯部、コア領域）となるようにして、その表面に外殻（シェル領域）を形成すればよい。より具体的な例として、ＺｎＳで構成されたシェル領域を形成する方法について以下に説明する。
まず、酸素および水分が系内に混入するのが防止された条件で、上記のようにして調製された粒子（コア領域となるべき粒子）と分散剤（表面修飾剤）とを含む液体（第３の液体）、および、ジエチル亜鉛とビス（トリメチルシリル）スルフィドと分散剤（表面修飾剤）とを含む液体（第４の液体）を、それぞれ用意する。
【００５５】
次に、第３の液体と第４の液体とを加熱しつつ混合し、その後冷却し、さらに有機溶媒（有機溶剤）を添加する。このときの加熱温度は、特に限定されないが、８０〜３００℃であるのが好ましく、９０〜２２０℃であるのがより好ましい。また、有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒（溶剤）や、メタノール、エタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒（溶剤）等が挙げられるが、メタノールを用いるのが好ましい。これにより、粒度分布が非常にシャープで、シェル領域の厚さのばらつきの小さい量子ドットを、容易かつ確実に得ることができる。
その後、遠心分離し、デカンテーション、真空乾燥等を行うことにより、コア−シェル構造を有する量子ドットが得られる。
なお、必要に応じて、コア−シェル構造の量子ドットの洗浄を行ってもよい。
【００５６】
《吐出液セット》
次に、上述したような吐出液を、複数種備える吐出液セット（分散液セット）について説明する。吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）に含まれる量子ドットは、互いに異なる粒径を有するものである。より具体的には、吐出液セットとしては、例えば、所定の粒径の第１の量子ドットを含む第１の吐出液（第１の分散液）と、第１の量子ドットよりも大きい粒径の第２の量子ドットを含む第２の吐出液（第２の分散液）と、第１の量子ドットよりも大きく、第２の量子ドットよりも小さい粒径の第３の量子ドットを含む第３の吐出液（第３の分散液）とを備えるものとすることができる。このような場合、例えば、第１の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により青色に発光するものであり、第２の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により赤色に発光するものであり、第３の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により緑色に発光するものである。
【００５７】
このような吐出液セットを用いることにより、色再現域が特に広く、高輝度な画像を表示することができる画像表示装置等に好適に適用することができる。
なお、吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）は、量子ドットの粒径以外の条件は、互いに、同一であってもよいし、異なるものであってもよい。より具体的には、吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）は、量子ドットの含有率や、分散媒の含有率、組成等が同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
【００５８】
《薄膜パターン形成方法》
次に、上述したような吐出液（吐出液セット）を用いた薄膜パターン形成方法について説明する。
本発明の薄膜パターン形成方法は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、上記のような吐出液（分散液）を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる工程（吐出工程）と、受け面に付着した吐出液（分散液）から分散媒の少なくとも一部を除去する工程（分散媒除去工程）とを有する。
【００５９】
本発明の薄膜パターン形成方法は、量子ドットが大気中の酸素や水分により劣化することを避けるために、酸素や水分を除去した環境において行うことが望ましい。このとき、吐出液（分散液）が晒される雰囲気中における酸素濃度は５００ｐｐｍ以下であるのが好ましく、２００ｐｐｍ以下であるのがより好ましく、５０ｐｐｍ以下であるのがさらに好ましい。このように、雰囲気中の酸素濃度が十分に低いものであると、量子ドットの劣化をより効果的に防止することができる。
【００６０】
＜吐出工程＞
本工程では、上述したような吐出液（分散液）を、液滴吐出法により吐出する。上記のように、本発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものである。このため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。
【００６１】
液滴吐出法としては、ノズル孔から吐出液（分散液）の液滴を間欠的に吐出することができる方法であれば、特に限定されないが、例えば、「圧電パルスによりヘッド部のノズル孔から分散液を間欠的に吐出する方法（いわゆる「インクジェット法」）」や、「気体の体積変化によりヘッド部のノズル孔から分散液を間欠的に吐出する方法（いわゆる「バブルジェット法」）」等が挙げられる。中でも、液滴吐出法としては、インクジェット法が好ましい。液滴吐出法としてインクジェット法を用いることにより、吐出液が上述するような成分で構成された分散媒を含むものであることによる効果が顕著に発揮され、液滴吐出時におけるノズル孔からの吐出液（分散液）の液切れを特に優れたものとすることができるとともに、飛行曲がりの発生をより確実に防止することができる。その結果、受け面への分散液の付着量、付着位置の制御をより精確に行うことができる。また、いわゆるバブルジェット法等に比べて、吐出液の吐出時に発生するミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）の比率を、特に少ないものとすることができる。その結果、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷を特に小さいものとすることができるとともに、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【００６２】
吐出液（分散液）の液滴吐出は、シリコン材料で構成された液滴吐出ヘッドを用いて行うのが好ましい。これにより、量子ドットのヘッド内部への付着を低く抑えることが可能である。
また、本工程では、嫌気性環境下、より具体的には、乾燥した不活性ガス（例えば、Ｎ２、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ等）雰囲気下で、吐出液（分散液）の液滴吐出を行うのが好ましい。これにより、量子ドットが酸素や水分により劣化することが確実に防止され、形成される薄膜の信頼性を特に優れたものとすることができる。
本工程においては、吐出液（分散液）を、形成すべき薄膜に対応するパターンで吐出するが、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出するのが好ましい。
【００６３】
このように、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、１滴あたりの吐出液の吐出量を十分に小さくする必要があり、ミストがより発生しやすくなるが、上記のように、本発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものであるため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。また、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、一般には、複数個の微小単位が結合し、比較的大きな液溜りを形成してしまったり、吐出した液滴が、目的とする微小単位を形成すべき部位ではなく、隣接する微小単位を形成すべき部位に付着してしまう等の問題を生じやすく、目的のパターンを形成するのが困難であるが、上述したような量子ドットを含む分散液では、このような問題を生じにくい。すなわち、分散液を複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する方法に、本発明を適用した場合、本発明による効果がより顕著に発揮される。
【００６４】
＜分散媒除去工程＞
受け面に付着した吐出液（分散媒）から、分散媒の少なくとも一部を除去する方法は、特に限定されないが、例えば、吐出液（分散液）が付着したワークを加熱する方法、吐出液（分散液）が付着したワークを減圧雰囲気下に置く方法、これらを組み合わせた方法（例えば、第１の温度で、減圧雰囲気下に吐出液（分散液）が付着したワークを減圧雰囲気下に置いた後、雰囲気を大気圧に戻し、大気圧下で加熱する方法等）等が挙げられる。このとき、非常に粒径の小さな量子ドットが大気中の酸素や水分により劣化することを避けるために、酸素や水分を除去しながら減圧雰囲気下で分散媒を除去することがさらに効果的である。
【００６５】
本工程での処理温度（加熱温度）は、分散媒の組成等にもよるが、５０〜３００℃であるのが好ましく、１００〜２００℃であるのがより好ましい。
本工程での雰囲気中における酸素濃度は、５００ｐｐｍ以下であるのが好ましく、２００ｐｐｍ以下であるのがより好ましく、５０ｐｐｍ以下であるのがさらに好ましい。このように、雰囲気中の酸素濃度が十分に低いものであると、量子ドットの劣化をより効果的に防止することができる。
分散媒除去工程を行うことにより、目的とする薄膜パターンが得られる。すなわち、本発明では、上記のように液滴吐出を行うため、分散媒除去工程後に、形成された薄膜に対するパターニング等の後処理を行う必要がない。
【００６６】
《薄膜》
上記のような工程を経て、本発明の薄膜が得られる。このようにして得られる薄膜は、液滴の吐出パターンに対応する形状を有するものである。
本発明の薄膜は、その用途により異なるが、一般に、その厚さが、１０〜７００ｎｍであるのが好ましく、２０〜５００ｎｍであるのがより好ましい。
本発明の薄膜は、いかなる用途のものであってもよく、例えば、発光素子、画像表示装置を構成する発光層や、太陽電池、照明装置等に好適に適用することができる。
以下、本発明の薄膜、薄膜パターン形成方法を、発光素子、画像表示装置を構成する発光層に適用した場合の一例について、より詳細に説明する。
【００６７】
《画像表示装置》
以下では、本発明の画像表示装置の一例として、アクティブマトリックス型表示装置について説明する。
図１は、本発明の画像表示装置としてのアクティブマトリックス型表示装置の一例を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図２中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００６８】
図１に示すアクティブマトリックス型表示装置（以下、単に「表示装置」と言う。）１０は、ＴＦＴ回路基板（対向基板）２０と、このＴＦＴ回路基板２０上に設けられた発光素子１と、ＴＦＴ回路基板２０に対向する上基板９とを有している。
ＴＦＴ回路基板２０は、基板２１と、この基板２１上に形成された回路部２２とを有している。
【００６９】
基板２１は、表示装置１０を構成する各部の支持体となるものであり、上基板９は、例えば、発光素子１を保護する保護膜等として機能するものである。
また、本実施形態の表示装置１０は、上基板９（後述する陽極８）側から光を取り出す構成（トップエミッション型）であるため、上基板９は、実質的に透明（無色透明、着色透明、半透明）とされ、一方、基板２１は、特に、透明性は要求されない。
このような基板２１には、各種ガラス材料基板および各種樹脂基板のうち比較的硬度の高いものが好適に用いられる。
【００７０】
一方、上基板９には、各種ガラス材料基板および各種樹脂基板のうち透明なものが選択され、例えば、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料等を主材料として構成される基板を用いることができる。
【００７１】
基板２１の平均厚さは、特に限定されないが、１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、５〜２０ｍｍ程度であるのがより好ましい。一方、上基板９の平均厚さも、特に限定されないが、０．１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜１０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
回路部２２は、基板２１上に形成された下地保護層２３と、下地保護層２３上に形成された駆動用ＴＦＴ（スイッチング素子）２４と、第１層間絶縁層２５と、第２層間絶縁層２６とを有している。
【００７２】
駆動用ＴＦＴ２４は、半導体層２４１と、半導体層２４１上に形成されたゲート絶縁層２４２と、ゲート絶縁層２４２上に形成されたゲート電極２４３と、ソース電極２４４と、ドレイン電極２４５とを有している。
このような回路部２２上に、各駆動用ＴＦＴ２４に対応して、それぞれ、発光素子１が設けられている。また、隣接する発光素子１同士は、第１隔壁部３１および第２隔壁部３２により構成される隔壁部（バンク）３５により区画されている。
【００７３】
本実施形態では、各発光素子１の陰極３は、画素電極を構成し、各駆動用ＴＦＴ２４のドレイン電極２４５に配線２７により電気的に接続されている。また、電子輸送層５と、発光層６と、正孔輸送層７とは、各発光素子１に対して個別に形成されており、陽極８は、共通電極とされている。
表示装置１０は、単色表示でも、カラー表示でもよい。表示装置１０が、互いに異なる粒子径の量子ドットを含む複数種の発光素子１を有するものとすることにより、カラー表示を実現することができる。特に、粒径が制御された量子ドットを用いることにより、各発光素子１を、確実に所望の色調を呈するものとすることができるため、所望の画質の画像を表示することができ、また、色再現域を広いものとすることができる。
【００７４】
以下、この発光素子１について詳述する。
図１に示すように、発光素子１は、陰極３と、陽極８とを有し、さらに、陰極３と陽極８との間に、陰極３側から順に、電子輸送層５と、発光層６と、正孔輸送層７とを有している。
陰極３は、電子輸送層５に電子を注入する電極である。
【００７５】
陰極３の構成材料としては、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。
特に、陰極３の構成材料として合金を用いる場合には、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極３の構成材料として用いることにより、陰極３の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
【００７６】
このような陰極３の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１００００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜５００ｎｍ程度であるのがより好ましい。陰極３の厚さが前記下限値未満であると、陰極３の機能が十分に発揮されなくなる可能性があり、一方、陰極３の厚さが前記上限値を超えると、発光素子１の発光効率等の特性が低下するおそれがある。
また、陰極３の表面抵抗は低い程好ましく、具体的には、５０Ω／□以下であるのが好ましく、２０Ω／□以下であるのがより好ましい。表面抵抗の下限値は、特に限定されないが、通常０．１Ω／□程度であるのが好ましい。
【００７７】
一方、陽極８は、正孔輸送層７に正孔を注入する電極である。
この陽極８の構成材料（陽極材料）としては、表示装置１０が陽極８側から光を取り出すトップエミッション構造であるため透光性を有する導電性材料が選択され、特に、仕事関数が大きく（陰極３の構成材料よりも仕事関数が大きく）、優れた導電性を有するものが好適に用いられる。
【００７８】
このような陽極８の構成材料としては、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、フッ素含有インジウムティンオキサイド（ＦＩＴＯ）、アンチモンティンオキサイド（ＡＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）、アルミニウムジンクオキサイド（ＡＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、フッ素含有酸化スズ（ＦＴＯ）、フッ素含有インジウムオキサイド（ＦＩＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、等の透明導電性材料が挙げられ、これらのうちの少なくとも１種を用いることができる。
【００７９】
陽極８の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜２０００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜１０００ｎｍ程度であるのがより好ましい。陽極８の厚さが前記下限値未満であると、陽極８としての機能が十分に発揮されなくなる可能性があり、一方、陽極８の厚さが前記上限値を超えると、陽極８の構成材料等によっては、光の透過率が低下して、トップエミッション型の構造を有する発光素子１として、実用に適さなくなるおそれがある。
【００８０】
また、陽極８の表面抵抗も低い程好ましく、具体的には、１００Ω／□以下であるのが好ましく、５０Ω／□以下であるのがより好ましい。表面抵抗の下限値は、特に限定されないが、通常０．１Ω／□程度であるのが好ましい。
このような陽極８は、その光（可視光領域）の透過率が好ましくは６０％以上、より好ましくは８０％以上となっている。これにより、光を効率よく陽極８側から取り出すことができる。
【００８１】
電子輸送層５は、陰極３から注入された電子を、発光層６まで輸送する機能を有するものである。
電子輸送層５は、各種ｎ型の無機半導体材料、各種ｎ型の有機半導体材料で構成されたものとすることができるが、無機半導体材料を主材料として構成するのが好ましい。無機半導体材料は、化学的に安定であることから、電子輸送層５が無機半導体材料を主材料として構成されたものであることにより、発光素子１の耐久性をより向上させることができる。
【００８２】
無機半導体材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ＳｃＶＯ４、ＹＶＯ４、ＬａＶＯ４、ＮｄＶＯ４、ＥｕＶＯ４、ＧｄＶＯ４、ＳｃＮｂＯ４、ＳｃＴａＯ４、ＹＮｂＯ４、ＹＴａＯ４、ＳｃＰＯ４、ＳｃＡｓＯ４、ＳｃＳｂＯ４、ＳｃＢｉＯ４、ＹＰＯ４、ＹＳｂＯ４、ＢＶＯ４、ＡｌＶＯ４、ＧａＶＯ４、ＩｎＶＯ４、ＴｌＶＯ４、ＩｎＮｂＯ４、ＩｎＴａＯ４のような金属酸化物、ＺｎＳのような金属硫化物、金属セレン化物、ＴｉＣ、ＳｉＣのような金属または半導体炭化物、ＢＮ、Ｂ４Ｎのような半導体窒化物等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、無機半導体材料としては、金属酸化物、特に、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムのうちの少なくとも一方を主成分とするものが好ましい。金属酸化物（特に、酸化チタンや酸化ジルコニウム）は、電子輸送能に特に優れることから好ましい。
【００８３】
なお、有機半導体材料としては、例えば、１，３，５−トリス［（３−フェニル−６−トリ−フルオロメチル）キノキサリン−２−イル］ベンゼン（ＴＰＱ１）、１，３，５−トリス［｛３−（４−ｔ−ブチルフェニル）−６−トリスフルオロメチル｝キノキサリン−２−イル］ベンゼン（ＴＰＱ２）のようなベンゼン系化合物、ナフタレン系化合物、フェナントレン系化合物、クリセン系化合物、ペリレン系化合物、アントラセン系化合物、ピレン系化合物、アクリジン系化合物、スチルベン系化合物、ＢＢＯＴのようなチオフェン系化合物、ブタジエン系化合物、クマリン系化合物、キノリン系化合物、ビスチリル系化合物、ジスチリルピラジンのようなピラジン系化合物、キノキサリン系化合物、２，５−ジフェニル−パラ−ベンゾキノンのようなベンゾキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）のようなオキサジアゾール系化合物、３，４，５−トリフェニル−１，２，４−トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、オキサゾール系化合物、アントロン系化合物、１，３，８−トリニトロ−フルオレノン（ＴＮＦ）のようなフルオレノン系化合物、ＭＢＤＱのようなジフェノキノン系化合物、ＭＢＳＱのようなスチルベンキノン系化合物、アントラキノジメタン系化合物、チオピランジオキシド系化合物、フルオレニリデンメタン系化合物、ジフェニルジシアノエチレン系化合物、フローレン系化合物、８−ヒドロキシキノリン アルミニウム（Ａｌｑ３）、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする錯体のような各種金属錯体、フタロシアニン、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、トリス（８−ヒドロキシキノリノレート）アルミニウム（Ａｌｑ３）のような低分子系のものや、オキサジアゾール系高分子、トリアゾール系高分子のような高分子系のものが挙げられる。
【００８４】
このような電子輸送層５の平均厚さは、特に限定されないが、１〜２００ｎｍであるのが好ましく、５〜１００ｎｍであるのがより好ましい。これにより、電子輸送層５の機械的強度（膜強度）が低下するのを防止しつつ、発光素子１の薄型化を図ることができる。
なお、陰極３と電子輸送層５との間には、例えば、陰極３からの電子注入効率を向上させる電子注入層を設けるようにしてもよい。
【００８５】
また、電子注入層の構成材料（電子注入材料）としては、例えば、８−ヒドロキシキノリン、オキサジアゾール、または、これらの誘導体（例えば、８−ヒドロキシキノリンを含む金属キレートオキシノイド化合物）等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
正孔輸送層７は、陽極８から注入された正孔を発光層６まで輸送する機能を有するものである。
【００８６】
この正孔輸送層７の構成材料（正孔輸送材料）としては、例えば、ポリアリールアミン、フルオレン−アリールアミン共重合体、フルオレン−ビチオフェン共重合体、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８７】
また、前記化合物は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等が挙げられる。
なお、正孔輸送材料としては、上述したような高分子材料や低分子材料のような有機系材料の他、例えば、ＭｏＯ３、Ｖ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｃｕ（II）Ｏ、Ｃｕ（Ｉ）２Ｏ、ＮｉＯ、ＣｏＯのような金属酸化物を用いることもできる。
【００８８】
このような正孔輸送層７の平均厚さは、特に限定されないが、１〜２００ｎｍであるのが好ましく、５〜１００ｎｍであるのがより好ましい。これにより、発光素子１が大型化（特に、厚膜化）するのを防止しつつ、十分な発光効率が得られる。
なお、陽極８と正孔輸送層７との間には、例えば、陽極８からの正孔注入効率を向上させる正孔注入層を設けるようにしてもよい。
【００８９】
この正孔注入層の構成材料（正孔注入材料）としては、例えば、銅フタロシアニンや、４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−フェニル−３−メチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
発光層６は、前述したような吐出液（分散液）を用いて形成されたものであり、主として量子ドットで構成されたものである。
【００９０】
陰極３と陽極８との間に通電（電圧を印加）すると、陽極８から正孔輸送層７を介して正孔が発光層６に注入され、また、陰極３から電子輸送層５を介して電子が発光層６に注入され、この発光層６において正孔と電子とが再結合する。そして、発光層６ではエキシトン（励起子）が生成し、このエキシトンが基底状態に戻る際にエネルギーを放出（発光）する。このようにして放出されるエネルギーは、発光層６を構成する量子ドットの種類に依存する、特定の波長を有する光である。
【００９１】
発光層６の平均厚さは、特に限定されないが、１〜１５０ｎｍ程度であるのが好ましく、２〜１００ｎｍ程度であるのがより好ましい。
表示装置１０を平面視した際の各発光層６の面積は、１０００〜２０００００μｍ２であるのが好ましく、１００００〜１０００００μｍ２であるのがより好ましい。
なお、上述したような表示装置１０においては、電子輸送層５、正孔輸送層７のうち、一方または両方を省略してもよい。言い換えると、発光素子１は、電子輸送層５および／または正孔輸送層７を有していないものであってもよい。
上述したような表示装置１０は、例えば、以下に述べるような製造方法（本発明の薄膜パターン形成方法を適用した方法）により製造することができる。
【００９２】
《画像表示装置の製造方法（発光層の形成方法）》
図２は、図１に示すアクティブマトリックス型表示装置の製造方法を説明するための図（縦断面図）、図３は、発光層（薄膜）の形成に用いる液滴吐出装置を示す斜視図、図４は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出手段をステージ側から観察した図、図５は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドの底面を示す図、図６は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は断面斜視図、（ｂ）は断面図である。
【００９３】
［１］まず、ＴＦＴ回路基板２０を用意する。
［１−Ａ］まず、基板２１を用意し、基板２１上に、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料ガスとして、プラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約２００〜５００ｎｍの酸化シリコンを主材料として構成される下地保護層２３を形成する。
【００９４】
［１−Ｂ］次に、下地保護層２３上に、駆動用ＴＦＴ２４を形成する。
［１−Ｂａ］まず、基板２１を約３５０℃に加熱した状態で、下地保護層２３上に、例えばプラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコンを主材料として構成される半導体膜を形成する。
［１−Ｂｂ］次いで、半導体膜に対して、レーザアニールまたは固相成長法等により結晶化処理を行い、アモルファスシリコンをポリシリコンに変化させる。
ここで、レーザアニール法では、例えば、エキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は、例えば２００ｍＪ／ｃｍ２程度に設定される。また、ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザー強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
【００９５】
［１−Ｂｃ］次いで、半導体膜をパターニングして島状とし、各島状の半導体膜２４１を覆うように、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料ガスとして、プラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約６０〜１５０ｎｍの酸化シリコンまたは窒化シリコン等を主材料として構成されるゲート絶縁層２４２を形成する。
［１−Ｂｄ］次いで、ゲート絶縁層２４２上に、例えば、スパッタ法等により、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属を主材料として構成される導電膜を形成した後、パターニングし、ゲート電極２４３を形成する。
［１−Ｂｅ］次いで、この状態で、高濃度のリンイオンを打ち込んで、ゲート電極２４３に対して自己整合的にソース・ドレイン領域を形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域となる。
【００９６】
［１−Ｃ］次に、駆動用ＴＦＴ２４に電気的に接続されるソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
［１−Ｃａ］まず、ゲート電極２４３を覆うように、第１層間絶縁層２５を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｃｂ］次いで、コンタクトホール内にソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
【００９７】
［１−Ｄ］次に、ドレイン電極２４５と陽極８とを電気的に接続する配線（中継電極）２７を形成する。
［１−Ｄａ］まず、第１層間絶縁層２５上に、第２層間絶縁層２６を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｄｂ］次いで、コンタクトホール内に配線２７を形成する。
以上のようにして、ＴＦＴ回路基板２０が得られる。
【００９８】
［２］次に、ＴＦＴ回路基板２０上に発光素子１を形成する
［２−Ａ］まず、図２（ａ）に示すように、ＴＦＴ回路基板２０が備える第２層間絶縁層２６上に、配線２７に接触するように、陰極（画素電極）３を形成する。
この陰極３は、第２層間絶縁層２６上に、例えば、真空蒸着法やスパッタ法のような気相成膜法等により、目的とする陰極３の構成材料からなる導電膜を形成した後、パターニングすることにより得ることができる。
【００９９】
［２−Ｂ］次に、図２（ｂ）に示すように、第２層間絶縁層２６上に、各陰極３を区画するように、隔壁部（バンク）３５を形成する。
隔壁部３５は、第２層間絶縁膜２６上に第１隔壁部３１を形成した後、この第１隔壁部３１上に、第２隔壁部３２を形成することにより得ることができる。
なお、第１隔壁部３１は、陰極３および第２層間絶縁膜２６を覆うように絶縁膜を形成した後、フォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすること等により形成することができる。
【０１００】
また、第２隔壁部３２は、陰極３および第１隔壁部３１を覆うように絶縁膜を形成した後、第１隔壁部３１を得たのと同様にして形成することができる。
ここで、第１隔壁部３１および第２隔壁部３２の構成材料は、耐熱性、撥液性、溶剤耐性、下地層との密着性等を考慮して選択される。
具体的には、第１隔壁部３１の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂のような有機材料や、ＳｉＯ２のような無機材料が挙げられる。
【０１０１】
また、第２隔壁部３２の構成材料としては、第１の隔壁部３１で挙げたものの他、例えば、フッ素系樹脂等を用いることができる。フッ素系樹脂を用いることにより、第２隔壁部３２の耐吸湿性の向上を図ることができる。
また、隔壁部３５の開口の形状は、例えば、円形、楕円形、四角形、六角形等の多角形等、いかなるものであってもよい。
なお、隔壁部３５の開口の形状を多角形とする場合には、角部は丸みを帯びているのが好ましい。これにより、電子輸送層５、発光層６、正孔輸送層７を形成する際に、電子輸送層５形成用の液状材料、前述した吐出液（分散液）、正孔輸送層７形成用の液状材料を、隔壁部３５の内側の空間の隅々にまで確実に供給することができる。
【０１０２】
［２−Ｃ］次に、図２（ｃ）に示すように、各陰極３上に、すなわち、各陰極３を覆うように、それぞれ、電子輸送層５、発光層６および正孔輸送層７をこの順で積層するように形成する（第２の工程）。
以下、電子輸送層５、発光層６および正孔輸送層７の形成方法について説明する。
［２−Ｃａ］まず、各陰極３上に、それぞれ、電子輸送層５を形成する。
この電子輸送層５は、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等を用いた気相プロセスや、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット法、バブルジェット法等の液滴吐出法等を用いた液相プロセスにより形成することができるが、中でも、液滴吐出法が好ましく、インクジェット法がより好ましい。このような方法を用いることにより、電子輸送層５の薄膜化、画素サイズの微小化を図ることができる。また、電子輸送層形成用の液状材料を、隔壁部３５の内側に選択的に供給することができるため、液状材料のムダを省くことができる。なお、液滴吐出法により電子輸送層５を形成する場合、液滴の吐出方法は、後述する発光層６の形成方法で、詳述するのと同様な方法を採用するのが好ましい。
【０１０３】
電子輸送層５の形成を液相プロセスにて行う場合、陰極３上に電子輸送層形成用の液状材料を付与した後、付与された電子輸送層形成用の液状材料に含まれる溶媒または分散媒を除去（脱溶媒または脱分散媒）する。
この脱溶媒または脱分散媒は、減圧雰囲気に放置する方法、熱処理による方法、窒素ガスのような不活性ガスのフローによる方法、これらを組み合わせた方法等が挙げられる。
用いる液状材料は、前述したような電子輸送材料を溶媒または分散媒に溶解または分散することにより調製される。
【０１０４】
また、液状材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、四塩化炭素、エチレンカーボネイト等の各種無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
なお、陰極３上に供給された液状材料は、流動性が高く（粘性が低く）、水平方向（面方向）に広がろうとするが、陰極３が隔壁部３５により囲まれているため、所定の領域以外に広がることが阻止され、電子輸送層５（発光素子１）の輪郭形状が正確に規定される。
【０１０５】
［２−Ｃｂ］次に、各電子輸送層５（受け面）上に、それぞれ、発光層６を形成する。
この発光層６は、前述した吐出液（分散液）を用いた液滴吐出法（ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法）により形成する。これにより、発光層６の薄膜化、画素サイズの微小化を図ることができる。また、吐出液（分散液）を、隔壁部３５の内側に選択的に供給することができるため、吐出液（分散液）のムダを省くことができる。また、本発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものであるため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。
以下、液滴吐出法による吐出液（分散液）の付与方法について、より詳細に説明する。
吐出液（分散液）の吐出（吐出工程）は、図３〜図６に示すような液滴吐出装置を用いて行う。
【０１０６】
図３に示すように、本工程で用いる液滴吐出装置１００は、吐出液（分散液）２を保持するタンク１０１と、タンク１０１内の吐出液（分散液）２を送液するチューブ（送液チューブ）１１０と、チューブ１１０を介してタンク１０１から吐出液（分散液）２が供給される吐出走査部１０２とを備える。吐出走査部１０２は、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１４をキャリッジ１０５に搭載してなる液滴吐出手段１０３と、液滴吐出手段１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４（移動手段）と、隔壁部３５、陰極３、電子輸送層５が形成されたＴＦＴ回路基板２０（以下、単に「ＴＦＴ回路基板２０」とも言う。）を保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８（移動手段）と、制御手段１１２とを備えている。タンク１０１と、液滴吐出手段１０３における複数の液滴吐出ヘッド１１４とは、チューブ（送液チューブ）１１０で連結されており、チューブ（送液チューブ）１１０を介して、タンク１０１から複数の液滴吐出ヘッド１１４のそれぞれに吐出液（分散液）２が圧縮空気によって供給される。そして、チューブ（送液チューブ）１１０と液滴吐出手段１０３（液滴吐出ヘッド１１４）とは、図示しない接続部材で接続されている。チューブ（送液チューブ）１１０と液滴吐出手段１０３（液滴吐出ヘッド１１４）との接続部には、送液に伴う振動のエネルギーが加わりやすく、また、搬送される吐出液（分散液）２中に、空気等が混入する可能性の高い箇所である。このため、接続部材の構成材料としては、伸縮性に富み、ガス透過率が低く、防振特性、耐水性、耐酸性、耐アルカリ性、耐候性等に優れるという特徴を有するブチルゴムが、一般に用いられている。接続部材を構成する材料として用いられるブチルゴムとしては、例えば、ブチル０６５，２６８,２６９，３６５（ＥＸＸＯＮ ＭＯＢＩＬＥ社）、１０１−３，３０１，４０２（ＬＡＮＸＥＳＳ社）、ＪＳＲブチル（ＪＳＲ社）等が挙げられる。
【０１０７】
第１位置制御装置１０４は、制御手段１１２からの信号に応じて、液滴吐出手段１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで液滴吐出手段１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御手段１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。
【０１０８】
ステージ１０６は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な平面を有する。また、ステージ１０６は、吐出液（分散液）２を付与すべきＴＦＴ回路基板２０をその平面上に固定、または保持できるように構成されている。
上述のように、液滴吐出手段１０３は、第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は、第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対する液滴吐出ヘッド１１４の相対位置が変わる（ステージ１０６に保持されたＴＦＴ回路基板２０と、液液滴吐出手段１０３とが相対的に移動する）。
制御手段１１２は、吐出液（分散液）２を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。
【０１０９】
図４に示すように、液滴吐出手段１０３は、それぞれほぼ同じ構造を有する複数の液滴吐出ヘッド１１４と、これらの液滴吐出ヘッド１１４を保持するキャリッジ１０５とを有している。本実施形態では、液滴吐出手段１０３に保持される液滴吐出ヘッド１１４の数は８個である。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、後述する複数のノズル１１８が設けられた底面を有している。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４のこの底面の形状は、２つの長辺と２つの短辺とを有する多角形である。液滴吐出手段１０３に保持された液滴吐出ヘッド１１４の底面はステージ１０６側を向いており、さらに、液滴吐出ヘッド１１４の長辺方向と短辺方向とは、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに平行である。
【０１１０】
図５に示すように、液滴吐出ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル（ノズル孔）１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが所定の値となるように配置されている。ノズルピッチＨＸＰの具体的な値は、特に限定されないが、例えば、５０〜９０μｍとすることができる。ここで、「液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、液滴吐出ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【０１１１】
本実施形態では、液滴吐出ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとをなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、間隔を空けて並行に配置されている。そして、本実施形態においては、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、９０個のノズル１１８が一定間隔ＬＮＰでＸ軸方向に一列に並んでいる。ＬＮＰの具体的な値は、特に限定されないが、１００〜１８０μｍとすることができる。
ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さだけＸ軸方向の正の方向（図５の右方向）にずれている。このため、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さである。
【０１１２】
したがって、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。もちろん、液滴吐出ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。液滴吐出ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。この場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。さらに、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。
【０１１３】
さて、本実施形態では、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズル１１８からなるため、１つの液滴吐出ヘッド１１４は１８０個のノズル１１８を有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは吐出液（分散液）２が吐出されない。このため、液滴吐出ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が吐出液（分散液）２を吐出するノズルとして機能する。
【０１１４】
図４に示すように、液滴吐出手段１０３においては、複数個の上記液滴吐出ヘッド１１４がＸ軸方向に沿って２列に配置されている。一方の列の液滴吐出ヘッド１１４と他方の列の液滴吐出ヘッド１１４とは、休止ノズル分を考慮して、Ｙ軸方向から見て一部重なるように配置されている。これにより、液滴吐出手段１０３においては、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さに渡り、吐出液（分散液）２を吐出するノズル１１８が前記ノズルピッチＨＸＰでＸ軸方向に連続するように構成されている。
【０１１５】
本実施形態の液滴吐出手段１０３では、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さ全体をカバーするように液滴吐出ヘッド１１４を配置しているが、本発明における液滴吐出手段は、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さの一部をカバーするようなものでもよい。
ノズル（ノズル孔）１１８の孔径は、５〜１００μｍであるのが好ましく、１０〜５０μｍであるのがより好ましい。
【０１１６】
図６（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８とを備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、タンク１０１から孔１３１を介して供給される吐出液（分散液）２が常に充填される液たまり１２９が位置している。
【０１１７】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２とによって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル（ノズル孔）１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から吐出液（分散液）２が供給される。
【０１１８】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとを含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から吐出液（分散液）２が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に吐出液（分散液）２が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【０１１９】
液滴吐出ヘッド１１４（特に、ノズルプレート１２８の近傍）においては、一般に、吐出液供給部（分散液供給部）とヘッド駆動部分とは、弾性材料としての接続材料で構成されている。吐出液（分散液）供給部とヘッド駆動部分との接続が不十分であると、吐出液（分散液）の液漏れが生じたり、キャビティ１２０内の吐出液（分散液）２に適正な圧力が加わらなくなったり、外部からキャビティ１２０内にガスが混入してしまうなどの問題が発生する可能性がある。このような問題の発生を防止するために、接続材料としては、通常、フロロシリコーンゴムが用いられる。このようなフロロシリコーンゴムとしては、例えば、Ｓｉｌａｓｔｉｃ ＬＳ（ダウコーニング社）、ＦＥ２５１-Ｕ，２６１-Ｕ，２７１-Ｕ，２７３-Ｕ,２８１-Ｕ（信越シリコーン社）、Ｆｌｕｏｒｓｉｌｉｃｏｎｅ ６１４００２（ＥＲＩＫＳ社）等が挙げられる。
【０１２０】
制御手段１１２（図３参照）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される吐出液（分散液）２の体積が、制御手段１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。また、制御手段１１２は、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８とを設定することでもできる。
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４とを含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つの液滴吐出ヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。
【０１２１】
上記のような液滴吐出装置１００を用いて、表示装置１０が有する複数色の発光素子１の発光層６に対応する吐出液（分散液）２を、電子輸送層５上（隔壁部３５で囲まれた領域（セル）内）に付与する。上記のような装置を用いることにより、電子輸送層５上（隔壁部３５で囲まれた領域（セル）内）に、効率よくかつ選択的に吐出液（分散液）２を付与することができる。なお、図示の構成では、液滴吐出装置１００は、吐出液（分散液）２を保持するタンク１０１、チューブ１１０等を１色分しか有していないが、これらの部材を、表示装置１０が有する複数色の発光素子１の発光層６に対応する複数種の吐出液（分散液）分有するものであってもよい。また、表示装置１０の製造においては、複数色の吐出液（分散液）２に対応する複数の液滴吐出装置１００を用いてもよい。
【０１２２】
本工程においてノズル１１８から吐出される吐出液２の温度は、２０〜４０℃であるのが好ましく、２５〜３０℃であるのがより好ましい。
また、本工程においてノズル１１８から吐出される吐出液２の液滴量（１滴あたりの体積）は、０．５〜１００ｐＬであるのが好ましく、１〜２０ｐＬであるのがより好ましい。
なお、本発明では、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として、ピエゾ素子の代わりに静電アクチュエータを用いるものでもよい。また、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として電気熱変換素子を用い、この電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して吐出液（分散液）を吐出する構成（バブルジェット法）であってもよい。
【０１２３】
電子輸送層５上（受け面）に吐出液（分散液）２を付与した後、付与された吐出液（分散液）２に含まれる分散媒の少なくとも一部を除去（脱分散媒）する（分散媒除去工程）。
この脱分散媒の方法は、特に限定されないが、例えば、吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を加熱する方法、吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を減圧雰囲気下に置く方法、これらを組み合わせた方法（例えば、第１の温度で、減圧雰囲気下に吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を減圧雰囲気下に置いた後、雰囲気を大気圧に戻し、大気圧下で加熱する方法等）等が挙げられる。
【０１２４】
本工程での処理温度（加熱温度）は、６０〜２８０℃であるのが好ましく、１１０〜１９０℃であるのがより好ましい。
上記のように、本発明では、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、量子ドットと上記のような分散媒とを含む分散液（吐出液）を所定パターンで吐出する点に特徴を有するものである。これにより、欠陥のない薄膜パターンを容易かつ確実に形成することができる。特に、発光素子においては、その厚さのばらつきが発光色（輝度等）に大きな影響を与えるため、均一な厚さの薄膜パターンを形成することが求められるが、本発明によれば、微細なパターン、特に、微細でかつ大面積に設けられたパターンであっても、精密に形成することができる。また、発光素子においては、均一な膜厚を有しておらず、例えば、いわゆる抜け等の欠陥が存在すると、電流や電圧の集中により発光素子の寿命が著しく低下するという問題が発生するが、本発明によれば、抜け等の欠陥も確実に防止することができる。上記のようなことから、本発明によれば、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供すること、色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。
また、本発明では、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下であるため、液滴吐出時におけるミストの発生による環境への負荷、人体等への悪影響等を確実に防止することができる。
【０１２５】
また、本発明によれば、成膜時にマスク等を用いたり、成膜後に膜の一部を除去することなく、目的とするパターンを、直接形成することができるため、薄膜の生産性に優れており、この点からも環境への負荷を小さくすることができる。また、薄膜パターンを形成すべきワーク（受け面）に対して、非接触で、パターンを形成することができるため、曲面状のワークに対しても、好適に薄膜パターンを形成することができる。また、ワーク（受け面）が凹凸を有する場合であっても、好適に薄膜パターンを形成することができる。また、複数種の液体（分散液）を用いた薄膜パターンの形成を好適に行うことができるため、カラー画像を表示に用いられる発光素子の形成に好適に適用することができる。また、薄膜パターンの形成に用いる液体（分散液）を、無駄なく利用することができる（成膜後にその一部を除去する必要がない）ため、高価な分散液を用いた場合であっても、薄膜パターンの生産コストの上昇を抑制することができる。また、分散媒除去工程における分散媒の除去速度の調整により、形成される膜の形状（厚さの分布）の制御が容易である。また、本発明においては、薄膜パターンを形成する際に、不純物が混入してしまうのを確実に防止することができる。
【０１２６】
また、本発明においては、分散媒除去工程において、受け面に付着させた分散液（吐出液）の頂部付近と底部（受け面との接触面）付近とで温度差を生じさせることにより、分散液中において、対流を生じさせることができる。これにより、形成される薄膜パターンの厚さの制御をより好適に行うことができる。また、本発明においては、例えば、所定量の前記分散液の液滴を受け面上に吐出し、その後、この液滴から分散媒を除去することにより、受け面上の液滴が付与された部位において、縁部付近の膜厚が中央部付近の膜厚よりも大きい薄膜を形成し、さらにその後、前記縁部で囲まれた領域（凹部）に、前記分散液の液滴を吐出し、その後、この液滴から分散媒を除去してもよい。これにより、形成される薄膜パターンの厚さの制御をさらに好適に行うことができる。
これに対し、量子ドットを含む分散液を用いたとしても液滴吐出法を適用しない場合や、従来の有機ＥＬ材料を液滴吐出法に適用した場合等には、本発明のような優れた効果は得られない。
【０１２７】
すなわち、量子ドットを含む分散液を用いたとしても液滴吐出法を適用しない場合には、一般に、所定のパターンを形成する際には、それに対応するマスクが必要となり、パターン形成の効率が著しく低下するとともに、省資源の観点からも好ましくない。また、形成すべきパターンが大型のものである場合、マスクの位置精度を十分に高いものとするのが困難となるという問題点もある。また、真空蒸着等の気相成膜法によりパターン形成を行う場合、大型のパターン形成には、大型の装置が必要となり、パターンの大型に伴う生産コストの上昇が著しく、近年の画像表示装置の大型化の流れに対応するのも困難である。また、一般的な印刷法を用いた場合、形成されるパターンの形状を精確に制御するのが困難である。特に、画像表示装置が有する発光素子等のように、多数の微小領域が、規則正しく配置し、さらに、各部位での厚さのばらつきが十分に小さいことが求められるようなパターンの形成においては、従来の印刷法を適用するのは極めて困難である。
【０１２８】
また、従来の有機ＥＬ材料を用いた場合には、形成される薄膜パターン（発光素子）の耐久性に問題がある。また、従来の有機ＥＬ材料等を液滴吐出法に適用した場合には、本発明で得られる、上述したような効果（例えば、優れた液切れ、液滴吐出量の安定性等）は得られない。
また、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が多すぎると、液滴吐出時に発生するミストにより、環境や人体等に悪影響を及ぼす危険性が高い。
【０１２９】
［２−Ｃｃ］次に、各発光層６上（発光層６の電子輸送層５に対向する側の面とは反対の面側）に、正孔輸送層７を形成する。
この正孔輸送層７も、上述したような電子輸送層５の形成方法で述べたような気相プロセスや液相プロセスにより形成することができるが、前述したのと同様の理由から、液滴吐出法が好ましく、インクジェット法がより好ましい。
このような方法により正孔輸送層７を形成する場合、液状材料の組成を変更する以外は、前述したような電子輸送層５、発光層６の形成と同様な条件とすることができる。
【０１３０】
［２−Ｄ］次に、図２（ｄ）に示すように、各正孔輸送層７上および各隔壁部３５上に、共通電極としての陽極８を形成する（第３の工程）。
この陽極８は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等を用いた気相プロセスや、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット法、バブルジェット法等の液滴吐出法等を用いた液相プロセス等で形成することができる。
【０１３１】
なお、これらの方法は、陽極８の構成材料の熱安定性や、溶媒への溶解性等の物理的特性および／または化学的特性を考慮して選択される。
なお、本実施形態では、正孔輸送層７および隔壁部３５の全面に、陽極８を形成することから、マスクを用いる必要がないため、これらの形成には、スパッタ法、真空蒸着法を用いた気相プロセス等が好適に用いられる。
このような工程を経て、発光素子１を製造することができる。
【０１３２】
［３］ 次に、図２（ｅ）に示すように、上基板９を用意し、この上基板９により陽極８を覆うようにして、陽極８と上基板９とを接合する。
この陽極８と上基板９との接合は、陽極８と上基板９との間に、エポキシ系の接着剤を介在させた状態で、この接着剤を乾燥させること等により行うことができる。
この上基板９は、発光素子１を保護する保護基板としての機能を有する。
以上のような工程を経て、表示装置１０を製造することができる。
【０１３３】
＜電子機器＞
上記のような表示装置（本発明の画像表示装置）１０は、各種の電子機器に組み込むことができる。
図７は、本発明の画像表示装置を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
【０１３４】
このパーソナルコンピュータ１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部が前述の表示装置１０で構成されている。
図８は、本発明の画像表示装置を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）（電子機器）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、表示部を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部が前述の表示装置１０で構成されている。
【０１３５】
図９は、本発明の画像表示装置を適用したディジタルスチルカメラ（電子機器）の構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【０１３６】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部が前述の表示装置１０で構成されている。
【０１３７】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【０１３８】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【０１３９】
なお、本発明の電子機器は、上述したパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、携帯電話機（ＰＨＳも含む）、ディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。また、本発明の電子機器は、表示機能を有しない発光機能のみを有するものであってもよい。中でも、テレビは、近年の表示部の大型化の傾向が顕著であり、また、フルハイビジョン対応等の高解像度化も浸透しつつある。このような大型の表示部（例えば、対角線長８０ｃｍ以上の表示部）を有するテレビでは、多数配置された画素間での特性のばらつきが目立ちやすく、また、このような特性のばらつきを十分に抑制するのが困難であった。また、テレビの高解像度化に伴い、上記のような問題はより顕著なものとなっていた。また、近年、カラーフィルターを用いた液晶テレビが普及しつつあるが、自発光型ではなくカラーフィルターを用いたテレビにおいては、十分な輝度を得るためには、消費電力が大きくなる傾向が顕著であり、また、十分な視野角を確保するのが困難である等の問題があった。また、有機ＥＬや無機ＥＬを採用した自発光型の表示素子を有するテレビ等においては、耐久性や、発光効率、色純度、発光輝度等に問題があった。これに対し、本発明をテレビに適用した場合、上記のような問題の発生を確実に防止することができる。すなわち、上記のような大型の表示部を有するテレビに適用した場合に、本発明の効果は、より顕著に発揮される。また、上記のような大型の表示部を有するテレビでは、発光素子を形成するのに用いる吐出液量が多く、また、微細なパターンで液滴吐出を行う必要があるため、ミストの発生量も多くなる傾向が顕著であるが、このような用途に適用する場合であっても、ミストによる環境や人体等への悪影響を確実に防止することができる。この点からも、上記のような大型の表示部を有するテレビに適用した場合に、本発明の効果は、より顕著に発揮されると言える。
以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４０】
例えば、前述した実施形態では、トップエミッション型の発光素子について代表的に説明したが、本発明の発光素子は、ボトムエミッション構造を有するものであってもよい。
また、本発明の薄膜パターン形成方法は、任意の目的の工程が１または２以上追加されていてもよい。
また、本発明では、量子ドットによる発光は、前述したような電子と正孔との再結合（電圧の印加）によるものに限定されず、例えば、紫外線の照射によるものであってもよい。紫外線による発光を利用した発光素子、画像表示装置、電子機器としては、例えば、プラズマディスプレイパネルでの発光に用いられているような構成のもの等が挙げられる。
【０１４１】
また、本発明の吐出液セットは、互いに粒径の異なる量子ドットを含む吐出液を、少なくとも２種備えたものであればよく、例えば、量子ドットを含む複数種の吐出液に加え、量子ドットを含まない吐出液を備えたものであってもよい。
また、発光素子、画像表示装置、電子機器を構成する各部は、同様の機能を発揮する任意のものと置換、または、その他の構成を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、本発明の吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜を、発光素子、画像表示装置、および画像表示装置を備えた電子機器に適用する場合について、中心に説明したが、本発明は、太陽電池、照明装置等、いかなる用途に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１４２】
［１］吐出液セットの作製
（実施例１）
＜赤色発光層形成用吐出液（分散液）＞
以下に述べるような方法により、ＩｎＰで構成されたコア領域の外表面にＺｎＳで構成されたシェル領域（厚さ：０．１ｎｍ）が設けられた構造の量子ドットが、分散媒としてのデカリン中に分散した赤色発光層形成用の吐出液（分散液）を調製した。吐出液（分散液）中において、量子ドットは、その表面に、分散剤としてのトリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）およびトリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）が付着したものであった。また、量子ドットの粒径は、１０．２ｎｍであった。また、吐出液（分散液）中における量子ドットの含有率は４．７ｗｔ％、吐出液（分散液）中における分散媒の含有率は９４．９ｗｔ％であった。また、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は、３０ｐｐｍであった。
【０１４３】
まず、空冷式のリービッヒ還流管と反応温度調節のための熱電対とを装着した透明の３口フラスコに５ｇのＴＯＰＯ／ＴＯＰ（体積比にして１：１．５の混合物）を入れ、真空に２０分間引いた後、Ａｒで３回パージを行い、三口フラスコ内の酸素等の不純物を除いた。次に、この液体（第２の液体）を、マグネチックスターラーで攪拌しながら乾燥アルゴンガス雰囲気で３４５℃に加熱した。
一方、別途、０．８ｇのＩｎＣｌ３と、０．５ｇのＰ（ＮＭｅ２）３と５ｇのＴＯＰＯ／ＴＯＰ（体積比にして１：１の混合物）とを、アルミニウム箔ですき間なく包んで遮光したガラス瓶中で混合することにより、第１の液体を調製した。
【０１４４】
次に、この第１の液体（２．０ｍＬ）を、上記の第２の液体の入ったフラスコに注射器で一気に注入し、その後、温度を３００℃で１時間保った。
次に、加熱を停止し、液温が５０℃まで低下した時点で、精製トルエン（２ｍＬ）を注射器で加えて希釈し、さらに、１−ブタノールと脱水メタノールとの混合液（体積比にして１：１の混合物）：１０ｍｌを注入して不溶物を生じさせた。この不溶物を遠心分離（３０００ｒｐｍ）し、デカンテーションにより上澄み液を除去して分離し、室温にて１４時間真空乾燥することにより、ＩｎＰで構成された粒子（コア領域となるべき粒子）を得た。
【０１４５】
次に、空冷式のリービッヒ還流管と反応温度調節のための熱電対とを装着した褐色の３口フラスコに１５ｇのＴＯＰＯを入れ、マグネチックスターラーで攪拌しながら、１５０℃に加熱し、この状態で、減圧と乾燥Ａｒガスによる復圧とを繰り返し行った。
上記のような減圧・復圧を伴う加熱処理を２時間行った後、液温を１００℃にし、ここに、上記のようにして調製したＩｎＰで構成された粒子（０．０９４ｇ）とトリオクチルホスフィン（１．５ｇ）との混合物を添加した。
【０１４６】
次に、この液体（第３の液体）を、減圧下、１００℃に加熱した状態で、マグネチックスターラーで８０分間攪拌した。その後、液温を１８０℃にして、乾燥Ａｒガスで復圧した。
次に、この１８０℃に加熱された第３の液体の入ったフラスコに、別途調製した第４の液体を、注射器で２０分間かけて滴下し、その後、液温を９０℃まで低下させ１時間攪拌し、さらに室温で１４時間攪拌した後、９０℃で３時間攪拌した。ここで、第４の液体としては、乾燥窒素雰囲気のグローブボックス内で調製された、ジエチル亜鉛の１規定（１Ｎ）のｎ−ヘキサン溶液（１．３４ｍＬ）と、ビス（トリメチルシリル）スルフィド（０．２３９ｇ）と、トリオクチルホスフィン（９ｍＬ）との混合物を用いた。
【０１４７】
次に、加熱を停止し、ｎ−ブタノール（８ｍＬ）を反応液に加え、室温まで冷却した。
次に、乾燥窒素気流下、上記室温まで冷却した液体を１６ｍＬのメタノール中に滴下した。
その後、この液体中に含まれる不溶物を遠心分離し、デカンテーションにより上澄み液を除去して分離し、室温にて真空乾燥することにより、ＩｎＰで構成されたコア領域の外表面にＺｎＳで構成されたシェル領域が設けられた粉末状の量子ドットを得た。
その後、得られた量子ドットを、酸化防止剤としてのビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートを含むデカリンに分散させることにより、赤色発光層形成用の吐出液（分散液）を得た。
【０１４８】
＜緑色発光層形成用吐出液（分散液）＞
トリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）の代わりにトリデシルホスフィンオキシド（ＴＤＰ）を用い、ＴＯＰＯとＴＤＰとの使用比率比を体積比で１：０．８とし、量子ドットの粒径を４．１ｎｍとした以外は、上記赤色発光層形成用吐出液と同様にして、緑色発光層形成用の吐出液（分散液）を調製した。
【０１４９】
＜青色発光層形成用吐出液（分散液）＞
トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、トリデシルホスフィンオキシド（ＴＤＰ）に加えて、トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）を用い、ＴＯＰＯとＴＤＰとＴＰＰとの使用比率比を体積比で１：０．８：０．２とし、量子ドットの粒径を２．１ｎｍとした以外は、上記赤色発光層形成用吐出液と同様にして、青色発光層形成用の吐出液（分散液）を調製した。
このようにして、３種の吐出液（分散液）からなる吐出液セットを得た。
【０１５０】
（実施例２〜１０）
吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）の組成を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にして、３種の吐出液（分散液）からなる吐出液セットを作製した。なお、量子ドットがＺｎＳにＩｎとＡｇをドープした化合物であるＺｎＡｇＩｎＳで構成されたものについては、コア粒子（ＺｎＡｇＩｎＳ）の形成において、Ａｇ源としてＡｇＣｌを用い、Ｚｎ源としてジエチルジチオカルバミン酸亜鉛（（Ｃ２Ｈ５）２ＮＣＳ２Ｚｎ）を用い、Ｓ源としてトリオクチルホスフィンを用いて粒子を形成し、その後シェル領域の形成を行わず、得られた粒子をそのまま量子ドットした。
【０１５１】
（比較例１〜４）
吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）の組成を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にして、３種の吐出液（分散液）からなる吐出液セットを作製した。
（比較例５）
本比較例では、吐出液セットを構成する吐出液として、有機発光材料を含むものを用いた。以下、吐出液セットを構成する各吐出液について説明する。
【０１５２】
＜赤色発光層形成用吐出液＞
有機発光材料としてのナイルレッドと、デカリンとを混合することにより、赤色発光層形成用の吐出液を得た。得られた吐出液中におけるナイルレッドの含有率は５．０ｗｔ％、デカリンの含有率は９５．０ｗｔ％であった。
＜緑色発光層形成用吐出液＞
有機発光材料としてのクマリン６と、デカリンとを混合することにより、緑色発光層形成用の吐出液を得た。得られた吐出液中におけるクマリン６の含有率は５．０ｗｔ％、デカリンの含有率は９５．０ｗｔ％であった。
【０１５３】
＜青色発光層形成用吐出液＞
有機発光材料としてのＴＰＢ（１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン）と、デカリンとを混合することにより、青色発光層形成用の吐出液を得た。得られた吐出液中におけるＴＰＢの含有率は５．０ｗｔ％、デカリンの含有率は９５．０ｗｔ％であった。
このようにして、３種の吐出液からなる吐出液セットを得た。
前記各実施例および各比較例で得られた吐出液セットを構成する吐出液は、いずれも、後述する試験、評価に供するまでの間、温度：２５℃、酸素濃度：１０ｐｐｍ以下、湿度：１０％ＲＨ以下の環境下で保存した。
【０１５４】
前記各実施例および各比較例について、吐出液セットを構成する各吐出液の構成を、表１、表２、表３にまとめて示した。なお、表中、赤色発光層形成用吐出液を「Ｒ吐出液」、緑色発光層形成用吐出液を「Ｇ吐出液」、青色発光層形成用吐出液を「Ｂ吐出液」、トリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）を「ｃ」、トリデシルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）を「ｄ」、トリブチルホスフィン（ＴＢＰ）を「ｅ」、デカリンを「Ａ」、テトラリンを「Ｂ」、ブトキシエタノールを「Ｃ」、オクタン酸エチルを「Ｄ」、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを「Ｅ」、ビス（２−ブトキシエチル）エーテルを「Ｆ」、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートを「Ｇ」、１，３−ブチレングリコールジアセテートを「Ｈ」、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートを「Ｉ」、トリエチレングリコールジメチルエーテルを「Ｊ」、ナイルレッドを「ＮＲ」、クマリン６を「Ｃ６」、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートを「ｆ」、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートを「ｇ」、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノールを「ｈ」で示した。また、表中、「吐出液の粘度」の欄には、振動式粘度計を用いて、ＪＩＳ Ｚ８８０９に準拠して測定された２５℃における吐出液の粘度を示し、「沸点」の欄には、分散媒の常圧（１気圧）における沸点を示し、「蒸気圧」の欄には、分散媒の２５℃における蒸気圧を示した。
【０１５５】
【表１】
【０１５６】
【表２】
【０１５７】
【表３】
【０１５８】
［２］ミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、それぞれ、１０００００発（１０００００滴）の液滴の連続吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。
【０１５９】
上記のような液滴吐出時および液滴吐出終了後２時間経過するまで、以下のような方法により、チャンバー内の雰囲気中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒを回収し、これらの総量を求めた。
すなわち、１０×１０ｃｍの板ガラスをチャンバー内に設置された液滴吐出装置の吐出領域の外周から２０ｃｍの位置に水平に設置し、分散液の吐出時および吐出後２時間経過するまで、大気中に霧散した分散液のミストを補足した。補足された分散液を分散液と同じ溶剤で回収し、面積あたりのＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒ量を計測した。また、吐出直後のチャンバー内の雰囲気を回収し焼成・分析することで飛散しているＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒ総量を求めた。
以上のようにして得られた雰囲気中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒ量について、以下の５段階の基準に従い、評価した。
【０１６０】
Ａ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．００１μｇ未満。
Ｂ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．００１μｇ以上０．０１μｇ未満。
Ｃ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．０１μｇ以上０．０５μｇ未満。
Ｄ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．０５μｇ以上０．０８μｇ未満。
Ｅ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．０８μｇ以上。
【０１６１】
［３］液滴吐出の安定性評価（安定吐出性評価）
［３．１］着弾位置精度評価
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、１００００発（１００００滴）の液滴の連続吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。液滴吐出ヘッドの中央部付近の指定したノズルから吐出された１００００発の液滴について、着弾した各液滴の中心位置の中心狙い位置からのズレ量ｄの平均値を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。
Ａ：ズレ量ｄの平均値が０．０５μｍ未満。
Ｂ：ズレ量ｄの平均値が０．０５μｍ以上０．１０μｍ未満。
Ｃ：ズレ量ｄの平均値が０．１０μｍ以上。
【０１６２】
［３．２］液滴吐出量の安定性評価
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、１００００発（１００００滴）の液滴の連続吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。液滴吐出ヘッドの左右両端の指定の２つのノズルについて、吐出された液滴の総重量を求め、上記２つのノズルから吐出された液滴の平均吐出量の差の絶対値ΔＷ［ｎｇ］を求めた。このΔＷの、液滴の目標吐出量ＷＴ［ｎｇ］に対する比率（ΔＷ／ＷＴ）を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。ΔＷ／ＷＴの値が小さいほど、液滴吐出量の安定性に優れていると言える。
Ａ：ΔＷ／ＷＴの値が、０．０２５未満。
Ｂ：ΔＷ／ＷＴの値が、０．０２５以上０．６２５未満。
Ｃ：ΔＷ／ＷＴの値が、０．６２５以上。
【０１６３】
［３．３］間欠印字性能評価
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、１０００発（１０００滴）の液滴の連続吐出を行い、その後、３０秒間、液滴の吐出を中断した（１シーケンス目）。その後、同様に、液滴の連続吐出、および、滴々の吐出の中断の操作を繰り返し行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。液滴吐出ヘッドの中央部付近の指定したノズルについて、１シーケンス目に吐出された液滴の平均重量Ｗ１［ｎｇ］と、１０シーケンス目に吐出された液滴の平均重量Ｗ１０［ｎｇ］とを求めた。そして、Ｗ１とＷ１０との差の絶対値の、液滴の目標吐出量ＷＴ［ｎｇ］に対する比率（｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴ）を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が小さいほど、間欠印字性能（液滴吐出量の安定性）に優れていると言える。
Ａ：｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が、０．０２５未満。
Ｂ：｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が、０．０２５以上０．６２５未満。
Ｃ：｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が、０．６２５以上。
【０１６４】
［３．４］連続吐出試験
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置、前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用いて、５０％ＲＨの環境下で、液滴吐出装置を２４時間、連続で運転させることにより、吐出液セットを構成する各吐出液の吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。
連続運転後における、液滴吐出ヘッドを構成するノズルの目詰まりの発生率（［（目詰まりノズル数）／（全ノズル数）］×１００）を求め、ノズルの目詰まりが発生しているものについては、可塑材料で構成されたクリーニング部材により、目詰まりの解消が可能であるか否かを調べた。その結果を、以下の４段階の基準に従い、評価した。
【０１６５】
Ａ：ノズルの目詰まりの発生がない。
Ｂ：ノズルの目詰まりの発生率が０．５％未満（ただし、ゼロを除く）であり、かつ、クリーニングによる目詰まりの解消が可能。
Ｃ：ノズルの目詰まりの発生率が０．５％以上１．０％未満であり、かつ、クリーニングによる目詰まりの解消が可能。
Ｄ：ノズルの目詰まりの発生率が１．０％以上、または、クリーニングによる目詰まりの解消が不可能。
なお、上記の評価は、各実施例および各比較例について、同様の条件で行った。
【０１６６】
［４］画像表示装置の製造
前記各実施例および各比較例で作製した吐出液（吐出液セット）を用いて、上述したような方法により、図１、図２に示すような画像表示装置を製造した。このとき、各実施例、各比較例で吐出液を変更した以外は、同様の条件で、画像表示装置を製造した。
特に、発光層の形成は、以下のようにして行った。
【０１６７】
すなわち、上述したような方法により、隔壁部、電子輸送層が形成されたＴＦＴ回路基板を用意した。
次に、図３〜図６に示すような液滴吐出装置を用いて、３種の吐出液（赤色発光層形成用吐出液、緑色発光層形成用吐出液、青色発光層形成用吐出液）の吐出を行った。液滴吐出装置が有する液滴吐出ヘッドのノズル（ノズル孔）の孔径は、２０μｍであった。
【０１６８】
液滴吐出時における吐出液の液温は、２５℃となるように調整した。また、吐出液の液滴量（１滴あたりの体積）は、各色に対応する吐出液とも、１２ｐＬであった（吐出工程）。このとき、各セル内において、複数種の吐出液が混ざり合わないように、各セルについて、それぞれ、１種類の吐出液を付与した。
次に、室温（２０℃）下、５０Ｐａまで減圧した雰囲気下で１０分間静置し、その後、雰囲気圧を大気圧まで徐々に戻し、さらに、大気圧下、１５０℃で１０分間の熱処理を施すことにより、電子輸送層の表面に、発光層が形成された。形成された発光層は、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層のいずれも、２０ｎｍであった。この際の雰囲気中における酸素濃度は、１０ｐｐｍであった。
上記のような方法を用いて、各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて、それぞれ、１０００枚の画像表示装置を製造した。
なお、上記［２］〜［４］の試験、評価での薄膜パターン形成は、いずれも、酸素濃度：１０ｐｐｍ以下、湿度：１０％ＲＨ以下の環境下で行った。
【０１６９】
［５］画像表示装置の評価
上記のようにして得られた各画像表示装置を用いて、以下のような評価を行った。
［５．１］耐熱性の評価
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、１〜１０枚目に製造された画像表示装置について、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を、分光光度計（大塚電子社製、ＭＣＰＤ３０００）を用いて求めた。
【０１７０】
次に、これらの画像表示装置を、雰囲気温度：６０℃、相対湿度：９０％の環境下に５００時間放置した。
その後、徐冷した画像表示装置について、上記と同様の条件で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を求めた。そして、各画像表示装置について、上記のような熱処理の前後での色差（ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示系での色差ΔＥ＊ａｂ）を求めた。そして、前記各実施例および各比較例の各１０枚の画像表示装置についての色差の平均値について、以下の３段階の基準に従い、評価した。この色差の平均値が小さいほど、吐出液（吐出液セット）の耐熱性が優れていると言える。
Ａ：色差の平均値が３未満。
Ｂ：色差の平均値が３以上５未満。
Ｃ：色差の平均値が５以上。
【０１７１】
［５．２］耐光性の評価
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、１１〜２０枚目に製造された画像表示装置について、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を、分光光度計（大塚電子社製、ＭＣＰＤ３０００）を用いて求めた。
次に、これらの画像表示装置を、雰囲気温度：６０℃、相対湿度：５０％の環境下に置き、画像表示部に、波長：３４０ｎｍの紫外線を、放射度０．２５Ｗ／ｍ２、４５ｋＪ／ｍ２の条件で、２４０時間照射した。
【０１７２】
その後、上記と同様の条件で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を求めた。そして、各画像表示装置について、上記のような紫外線照射の前後での色差（ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示系での色差ΔＥ＊ａｂ）を求めた。そして、前記各実施例および各比較例の各１０枚の画像表示装置についての色差の平均値について、以下の３段階の基準に従い、評価した。この色差の平均値が小さいほど、吐出液（吐出液セット）の耐光性が優れていると言える。
Ａ：色差の平均値が３未満。
Ｂ：色差の平均値が３以上５未満。
Ｃ：色差の平均値が５以上。
【０１７３】
［５．３］色むら、濃度むら、光漏れ
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、１０００枚目に製造された画像表示装置を用いて、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った状態で目視による観察を行い、各部位での色むら、濃度むらの発生状況を、以下の５段階の基準に従い、評価した。
【０１７４】
Ａ：色むら、濃度むら、光漏れが全く認められない。
Ｂ：色むら、濃度むら、光漏れがほとんど認められない。
Ｃ：色むら、濃度むら、光漏れがわずかに認められる。
Ｄ：色むら、濃度むら、光漏れがはっきりと認められる。
Ｅ：色むら、濃度むら、光漏れが顕著に認められる。
なお、上記の評価においては、各画像表示装置について、同様の条件で表示を行い、同様の条件で観察、測定を行った。
【０１７５】
［５．４］個体間での特性差
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、９９０〜９９９枚目に製造された画像表示装置を用意し、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示、白色の単色表示を行い、分光光度計（大塚電子社製、ＭＣＰＤ３０００）を用いて測色した。その結果から、各実施例および各比較例について、それぞれ、９９０〜９９９枚目に製造された画像表示装置で最大となる色差（Ｌａｂ表示系での色差ΔＥ）を求め、以下の５段階の基準に従い、評価した。
【０１７６】
Ａ：色差（ΔＥ）が２未満。
Ｂ：色差（ΔＥ）が２以上３未満。
Ｃ：色差（ΔＥ）が３以上４未満。
Ｄ：色差（ΔＥ）が４以上５未満。
Ｅ：色差（ΔＥ）が５以上。
なお、上記の評価においては、各画像表示装置について、同様の条件で観察、測定を行った。
【０１７７】
［５．５］色再現範囲の評価
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、２１〜３０枚目に製造された画像表示装置について、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際のｘｙ表示系による色度（Ｒ（ｘｙ）、Ｇ（ｘｙ）、Ｂ（ｘｙ））を求め、ＮＴＳＣ比を算出した。前記各実施例および各比較例の各１０枚の画像表示装置についてＮＴＳＣ比の平均値を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。ＮＴＳＣ比が高いほど、色再現範囲が広いと言える。
【０１７８】
Ａ：ＮＴＳＣ比（平均値）が７８％以上。
Ｂ：ＮＴＳＣ比（平均値）が７０以上７８％未満。
Ｃ：ＮＴＳＣ比（平均値）が７０％未満。
これらの結果を表４、表５、表６に示す。表中、「ミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量」、「液滴吐出の安定性評価」に関しては、「赤色」の欄に、赤色発光層形成用吐出液についての評価を示し、「緑色」の欄に、緑色発光層形成用吐出液についての評価を示し、「青色」の欄に、青色発光層形成用吐出液についての評価を示した。また、「画像表示装置の評価」に関しては、「赤色」の欄に、赤色の単色表示時についての評価を示し、「緑色」の欄に、緑色の単色表示時についての評価を示し、「青色」の欄に、青色の単色表示時についての評価を示した。
【０１７９】
【表４】
【０１８０】
【表５】
【０１８１】
【表６】
【０１８２】
表４、表５、表６から明らかなように、本発明では、液滴吐出に伴い、雰囲気中に拡散（飛散）するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量が極めて少ないものであった。また、本発明では、耐久性（耐熱性、耐光性）に優れるとともに、色再現域の広い画像を表示することができた。また、本発明では、色むら、濃度むら、光漏れの発生が抑制されており、個体間での特性のばらつきも小さかった。これに対し、各比較例では、満足な結果が得られなかった。特に、量子ドット中のＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以上の比較例１〜４では、雰囲気中に拡散（飛散）するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量が本発明に比べて極端に多いものであった。また、比較例５では、液滴吐出の安定性が低く、また、得られた画像表示装置の耐久性が低く、個体間での特性差が大きかった。また、比較例５で得られた画像表示装置は、色むら等が顕著で、色再現範囲も狭かった。
【図面の簡単な説明】
【０１８３】
【図１】本発明の発光装置を適用したアクティブマトリックス型表示装置の一例を示す縦断面図である。
【図２】図１に示すアクティブマトリックス型表示装置の製造方法を説明するための図（縦断面図）である。
【図３】発光層（薄膜）の形成に用いる液滴吐出装置を示す斜視図である。
【図４】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出手段をステージ側から観察した図である。
【図５】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドの底面を示す図である。
【図６】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は断面斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図７】本発明の画像表示装置を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の画像表示装置を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【図９】本発明の画像表示装置を適用したディジタルスチルカメラ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１８４】
１…発光素子 ２…吐出液（分散液） ３…陰極 ５…電子輸送層 ６…発光層 ７…正孔輸送層 ８…陽極 ９…上基板 １０…表示装置 ２０…ＴＦＴ回路基板 ２１…基板 ２２…回路部 ２３…下地保護層 ２４…駆動用ＴＦＴ ２４１…半導体層 ２４２…ゲート絶縁層 ２４３…ゲート電極 ２４４…ソース電極 ２４５…ドレイン電極 ２５…第１層間絶縁層 ２６…第２層間絶縁層 ２７…配線 ３１…第１隔壁部 ３２…第２隔壁部 ３５…隔壁部 １００…液滴吐出装置 １０１…タンク １０２…吐出走査部 １０３…液滴吐出手段 １０４…第１位置制御装置 １０５…キャリッジ １０６…ステージ １０８…第２位置制御装置 １１０…チューブ（送液チューブ） １１２…制御手段 １１４…液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド） １１６Ａ、１１６Ｂ…ノズル列 １１８…ノズル（ノズル孔） １２０…キャビティ １２２…隔壁 １２４…振動子 １２４Ａ、１２４Ｂ…電極 １２４Ｃ…ピエゾ素子 １２６…振動板 １２７…吐出部 １２８…ノズルプレート １２９…液たまり １３０…供給口 １３１…孔 １１００…パーソナルコンピュータ １１０２…キーボード １１０４…本体部 １１０６…表示ユニット １２００…携帯電話機 １２０２…操作ボタン １２０４…受話口 １２０６…送話口 １３００…ディジタルスチルカメラ １３０２…ケース（ボディー） １３０４…受光ユニット １３０６…シャッタボタン １３０８…回路基板 １３１２…ビデオ信号出力端子 １３１４…データ通信用の入出力端子 １４３０…テレビモニタ １４４０…パーソナルコンピュータ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜、発光素子、画像表示装置、および、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に比べて、視野角特性等に優れるため、近年、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）のような、発光（自発光）材料を用いた表示装置が、注目を集めている。
しかしながら、無機エレクトロルミネッセンスでは、材料的な制約から、発光輝度、発光効率、色純度等に問題があり、十分に広い色再現域を確保するのが困難であるという問題がある。このような問題を解決する目的で、着色フィルターを付加したり、発光材料の探索が試みられている（例えば、特許文献１参照）が、着色フィルターを用いた場合には、製造工程が複雑になるばかりか、表示される画像の輝度が著しく低下する。また、各種文献で提案されている物質も、上記のような問題を十分に解決していなかったり、化学的安定性が乏しい等の問題点がある。例えば、特許文献１では、青色発光層をＢａＳ：Ｅｕ材料とＡｌＳ材料の共蒸着により作製することを開示しているが、得られた膜に対してかなりの高温（８００℃以上）で熱処理を施さないと十分な発光特性が得られず、また、共蒸着を行う上で、ＡｌＳ材料の化学的な安定性が非常に乏しいことから、成膜プロセスでの生産性に問題がある。
【０００３】
また、有機エレクトロルミネッセンスでは、発光材料に有機化合物を用いるため、耐久性等に問題がある。また、有機エレクトロルミネッセンスでは、無機エレクトロルミネッセンスに比べると色再現域を広くすることができるが、それでもなお、十分な色再現域を確保しているとは言えない。
また、発光素子を形成する方法としては、気相成膜法や、発光材料を含む液体を塗布する方法等が挙げられる。しかしながら、このような方法では、画像表示装置のように、多数個の微小な成膜領域を配置させるためには、成膜に先立ち、形成すべきパターンに対応するマスクで被覆する必要がある。このようなマスクは、最終的には、完全に除去されるものであり、また、発光材料やマスクの再利用も困難である。したがって、省資源の観点からも好ましくなく、環境への負荷も大きい。また、形成すべきパターン（薄膜パターン）が大型（大面積）のものである場合（表示領域の大きな画像表示装置に適用する場合）、マスクの位置精度を十分に高いものとするのが困難となるという問題点もある。
【０００４】
また、発光材料を含む液体を塗布する方法を用いた場合には、以下のような問題点もある。すなわち、無機発光材料は、一般に、溶解性に劣るため、このような方法を適用する場合、均質に分散された分散液を用いる必要があるが、発光素子の形成に分散液を用いると、分散安定性の変動などにより各画素間や画素内の各部位での発光材料の濃度のばらつきを生じやすい。このような濃度のばらつきが発生すると、表示される画像に色むら等の問題が発生する。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１８００３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置を、環境への負荷を小さく提供すること、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を環境への負荷を小さく提供すること、前記画像表示装置を備えた電子機器を提供すること、また、上記画像表示装置、発光素子等に好適に適用することができる吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の吐出液は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液であって、
微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含み、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等を環境への負荷を小さく作製するのに好適に適用することができる吐出液を提供することができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことを確実に防止することができる。
【０００８】
本発明の吐出液では、吐出液中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、５．０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
これにより、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【０００９】
本発明の吐出液では、吐出液中における前記量子ドットの含有率が、０．００５〜６．０ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができる。また、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることできるとともに、吐出液の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を好適に表示することができる。
【００１０】
本発明の吐出液では、前記分散媒が、デカリン、テトラリン、ブトキシエタノール、オクタン酸エチル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ドデカン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、および、１，３−ブチレングリコールジアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものであることが好ましい。
これにより、量子ドット中、吐出液中に、比較的高い濃度で、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが含まれる場合（ただし、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は１００ｐｐｍ以下）であっても、吐出液の吐出時に発生するミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）の比率を、特に少ないものとすることができる。その結果、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷を特に小さいものとすることができるとともに、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。また、吐出液中における量子ドットの分散性を非常に優れたものとすることができ、ノズル孔から吐出される各液滴中に含まれる量子ドットの含有率のばらつきを防止することができる。また、ノズル孔から吐出液を吐出する際に、微粒子としての量子ドットと分散媒との界面付近での分離が好適に起こり、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、液滴の飛行曲がりをより確実に防止することができ、液滴の受け面への付着位置精度を特に優れたものとすることができる。このようなことから、例えば、吐出液を発光素子、画像表示装置に適用した場合に、各画素間や画素内の各部位での量子ドットの濃度の不本意なばらつきが防止され、表示される画像に色むら等の問題が発生するのをより効果的に防止することができる。また、上記のような優れた分散状態を長期間にわたって保持することができるため、工業用途（産業用）に求められる長期安定吐出性を、非常に優れたものとすることができ、上記のような優れた効果を長期間にわたって、安定的に発揮することができる。また、分散媒が上記のような材料で構成されたものであると、分散媒の揮発性（蒸気圧）を比較的低いものとすることができる。このため、液滴の吐出を長時間にわたって繰り返し行った場合等においても、ノズル孔付近に、吐出液の固形成分（量子ドット等）が付着してしまうのを効果的に防止することができる。
【００１１】
本発明の吐出液では、吐出液中における前記分散媒の含有率は、７０〜９８ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることができるとともに、吐出液の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を表示することができる画像表示装置等を効率よく製造することができる。
【００１２】
本発明の吐出液では、前記量子ドットは、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、Ｉｎ、Ａｇまたはこれらの混合物で構成されたものであることが好ましい。
これにより、環境に対する負荷を特に小さいものとすることができるとともに、作業者等の安全性を確保する上で、特に有利である。また、可視光領域で純粋なスペクトルを安定して得ることができるので、発光素子の形成に有利である。
【００１３】
本発明の吐出液セットは、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液を複数種備えた吐出液セットであって、
前記吐出液は、微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含むものであり、
前記量子ドットの粒径が、前記吐出液間で異なるものであり、かつ、
複数種の前記吐出液のそれぞれにおいて、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等を環境への負荷を小さく作製するのに好適に適用することができる吐出液セットを提供することができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことを確実に防止することができる。
【００１４】
本発明の薄膜パターン形成方法は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる吐出液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる吐出工程と、
前記受け面に付着した前記吐出液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する分散媒除去工程とを有し、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等を環境への負荷を小さく作製するのに好適に適用することができる薄膜パターン形成方法を提供することができる。また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことを確実に防止することができる。
【００１５】
また、ノズル孔から吐出液（分散液）の液滴を吐出する際に、低濃度で互いに干渉しあうことなく均一に分散した微粒子としての量子ドットの分散液は粘弾性を低く抑えることが可能であり、量子ドットと分散媒との界面付近での分離が好適に起こるため、ノズル孔からの液切れがよく、吐出される液滴量のばらつきを防止することができ、また、液滴の飛行曲がりを確実に防止することができ、ノズル孔から液切れした液滴が速やかに球形状となる。このため、受け面の所望の部位に、所望の量の吐出液を付着させることができる。その結果、形成される薄膜の各部位での量子ドットの付着量の不本意なばらつきを防止することができる。したがって、薄膜パターン形成方法を発光素子、画像表示装置に適用した場合に、発光時における各部位での不本意な輝度のばらつきが発生してしまうのを好適に防止することができる。
【００１６】
本発明の薄膜パターンの形成方法では、前記液滴吐出法は、インクジェット法であることが好ましい。
これにより、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、飛行曲がりの発生をより確実に防止することができる。その結果、受け面への吐出液（分散液）の付着量、付着位置の制御をより精確に行うことができる。また、いわゆるバブルジェット法（「バブルジェット」は登録商標）等に比べて、吐出液の吐出時に発生するミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）の比率を、特に少ないものとすることができる。その結果、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷を特に小さいものとすることができるとともに、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【００１７】
本発明の薄膜パターンの形成方法では、異なる粒径の前記量子ドットを含む複数種の前記吐出液を用いることが好ましい。
これにより、例えば、色再現域が特に広く、耐久性に優れる発光素子、画像表示装置を好適に製造することができる。
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記吐出液を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出することが好ましい。
このように、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、１滴あたりの吐出液の吐出量を十分に小さくする必要があり、ミストがより発生しやすくなるが、発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものであるため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。また、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、一般には、複数個の微小単位が結合し、比較的大きな液溜りを形成してしまったり、吐出した液滴が、目的とする微小単位を形成すべき部位ではなく、隣接する微小単位を形成すべき部位に付着してしまう等の問題を生じやすく、目的のパターンを形成するのが困難であるが、上述したような量子ドットを含む分散液では、このような問題を生じにくい。すなわち、分散液を複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する方法に、本発明を適用した場合、本発明による効果がより顕著に発揮される。
【００１８】
本発明の薄膜は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られたことを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等に好適に適用することができる吐出液を提供することができる。
【００１９】
本発明の発光素子は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られた発光層を有することを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供することができる。
【００２０】
本発明の画像表示装置は、本発明の発光素子を備えたことを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を表示することができ、かつ、耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の画像表示装置を備えたことを特徴とする。
これにより、色むらの発生が防止され、色再現域の広い、優れた画像を、長期間にわたって安定的に表示することができる電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
《吐出液（分散液）》
まず、薄膜パターンの形成に用いられる吐出液（分散液）について説明する。
本発明において、吐出液（分散液）は、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、量子ドットが分散媒中に分散してなるものであり、特に、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に供されるものである。
【００２２】
＜量子ドット（微粒子）＞
量子ドットは、半導体材料の結晶で構成され、その粒径が数ｎｍ〜数十ｎｍ程度（より具体的には、２〜２０ｎｍ）の微粒子である。
このような微粒子のエネルギー準位Ｅは、一般に、プランク定数をｈ、電子の有効質量をｍ、微粒子の半径をＲとしたとき、下記式（Ｉ）で表現することができる。
【００２３】
Ｅ∝ｈ２／ｍＲ２・・・（Ｉ）
上記式で示されるように、微粒子のバンドギャップは、Ｒ−２に比例して大きくなる（いわゆる、量子ドット効果）。このように、微粒子（量子ドット）の粒径を制御、規定することによって、微粒子（量子ドット）のバンドギャップの値を制御することができる。すなわち、微粒子の粒径を制御、規定することにより、微粒子を擬似的な半導体原子（人工原子、デザイナー原子）として機能させることができるとともに、通常の原子には無い多様性を持たせることができる。このようなことから、量子ドット（微粒子）に対して、電気的なエネルギーを付与することにより所望の波長で発光させたり、入射した光（例えば、紫外線）を、所望の波長の光に変調して出射させたりすることができる。また、量子ドット（微粒子）に所定の波長の光を入射することにより、電気エネルギーを取り出すこともできる。したがって、量子ドットを含む吐出液（分散液）を用いて形成されるパターン（薄膜パターン）は、例えば、画像表示装置の発光素子や、太陽電池等の用途に好適に適用することができる。
【００２４】
上記のように、量子ドットは、一般に、その粒径が数ｎｍ〜数十ｎｍ程度（より具体的には、２〜２０ｎｍ）の微粒子であるが、本発明者は、このような微粒子を含む分散液（特に、後述するような分散媒に、量子ドットが分散した分散液）を、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に適用した場合に、低濃度で互いに干渉しあうことなく均一に分散した微粒子としての量子ドットの分散液は粘弾性を低く抑えることが可能であり、量子ドットと分散媒と界面付近での分離が好適に起こることを見出した。そして、さらに、液滴吐出時におけるノズル孔からの液切れがよくなり、吐出される液滴量のばらつきを防止することができ、また、液滴の飛行曲がりを確実に防止することができることができ、ノズル孔から液切れした液滴が速やかに球形状となるため、液滴が付着する受け面への付着位置精度が優れたものになることを見出した。このような効果は、上記のような量子ドットを含まない液体を用いた場合には得られない。すなわち、液滴吐出法に供される液体が、分散質を含まない溶液である場合には、ノズル孔から吐出される液滴の液切れが不均一になりやすいため、各液滴での重量のばらつきが大きくなりやすく、また、液滴の付着位置精度も低いものとなる。一方、液滴吐出法に供される液体（吐出液）が上記以上の大きさの分散質が分散した分散液である場合には、ノズル孔から吐出される各液滴での重量のばらつきが特に大きくなりやすい。
【００２５】
量子ドットの粒径は、上述したように、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度であるが、吐出液（分散液）を、後述するような発光素子、表示部を有する画像表示装置に用いる場合、目的とする表示色に対応する粒径とする。例えば、吐出液（分散液）を赤色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、３〜２０ｎｍであるのが好ましく、吐出液（分散液）を緑色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、１〜１０ｎｍであるのが好ましく、吐出液（分散液）を青色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、１〜３ｎｍであるのが好ましい。なお、量子ドットを、例えば、後述するような方法により製造した場合、得られる量子ドットの粒度分布を非常にシャープなものとすることができる。これにより、例えば、吐出液を、画像表示装置等に適用した場合、鮮明な画像を好適に表示することができる。
【００２６】
上述したように、本発明において、吐出液（分散液）は、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、量子ドットが分散媒中に分散してなるものであり、特に、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に供されるものである。このような液滴吐出法においては、吐出液のミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）が不可避的に発生する。一方、従来、量子ドットとしては、発光の効率や粒子の安定性を考慮すると、構成成分として、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを含むものが用いられてきたり、不純物として、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが含まれるものが用いられてきた（従来の量子ドットでは、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを実質的に完全に除去することが極めて困難（実質的に不可能）であった）。そして、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが量子ドット中に含まれると、吐出液のミストが発生した際に、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒが雰囲気中に滞留、拡散してしまうことになる。Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒは、環境に対して大きな負荷を与えるとともに、人体に対する悪影響（特に、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを吸い込んだ際における呼吸器官等への悪影響）が懸念される元素である。
【００２７】
そして、本発明者は、鋭意研究を行った結果、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下であると、液滴吐出に伴って発生するミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量は、十分低いものであるのに対し、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍを超えると、液滴吐出に伴って発生するミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量が、急激に増大することを見出した。すなわち、本発明者は、液滴吐出に伴って発生するミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量が急激に増大する際の、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量についての臨界性（臨界点）を見出した。したがって、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量を１００ｐｐｍ以下とすることにより、上記のような環境への負荷を小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等を確実に防止することができる。
このような臨界性が認められるのは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００２８】
すなわち、特殊な粒子径の量子ドットを含む分散液（吐出液）においては、一般的な分散液、溶液とは異なり、液滴吐出の際に、上述したような量子ドット（分散質）と分散媒と界面付近での分離が好適に起こるが、量子ドット中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率によって、分散媒中に溶出するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量およびそれに起因する平均粒径バラツキや分散を安定化させるために添加する分散剤の量が異なり、これが、液滴吐出時における吐出液の液切れの挙動等にも影響を及ぼしているものと考えられる。そして、分散媒中に溶出するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量や粒径のバラツキ、分散剤の量によって、液滴吐出時に不可避的に発生するミストの大きさ、総量、ミスト中に含まれる量子ドットの比率等が変化するものであると考えられる。すなわち、大型のミストは大気中で比較的早く沈降し大気を浮遊する時間が短いのに対して、あるサイズ以下のミストでは長時間浮遊することが可能となり、微少なミストが大量に発生する。
【００２９】
このように、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が高いと、含有率が低い場合に比べて、分散媒中に溶出するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量が増えるとともに、液滴吐出時に不可避的に発生するミストの大きさ、総量、ミスト中に含まれる量子ドットの比率等も変化するため、上記のような臨界性が発現するものと思われる。
上記のように、本発明においては、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は、１００ｐｐｍ以下であればよいが、７０ｐｐｍ以下であるのが好ましく、５０ｐｐｍ以下であるのがより好ましい。これにより、上述したような効果はより顕著に発揮される。
【００３０】
量子ドットの構成材料としては、例えば、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、錫等の周期表第１４族元素の単体、リン（黒リン）等の周期表第１５族元素の単体、セレン、テルル等の周期表第１６族元素の単体、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等の複数の周期表第１４族元素からなる化合物、酸化錫（IV）（ＳｎＯ２）、硫化錫（II，IV）（Ｓｎ（II）Ｓｎ（IV）Ｓ３）、硫化錫（IV）（ＳｎＳ２）、硫化錫（II）（ＳｎＳ）、セレン化錫（II）（ＳｎＳｅ）、テルル化錫（II）（ＳｎＴｅ）等の周期表第１４族元素と周期表第１６族元素との化合物、窒化ホウ素（ＢＮ）、リン化ホウ素（ＢＰ）、砒化ホウ素（ＢＡｓ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、リン化アルミニウム（ＡｌＰ）、砒化アルミニウム（ＡｌＡｓ）、アンチモン化アルミニウム（ＡｌＳｂ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、リン化ガリウム（ＧａＰ）、砒化ガリウム（ＧａＡｓ）、アンチモン化ガリウム（ＧａＳｂ）、窒化インジウム（ＩｎＮ）、リン化インジウム（ＩｎＰ）、砒化インジウム（ＩｎＡｓ）、アンチモン化インジウム（ＩｎＳｂ）等の周期表第１３族元素と周期表第１５族元素との化合物（あるいはIII−Ｖ族化合物半導体）、硫化アルミニウム（Ａｌ２Ｓ３）、セレン化アルミニウム（Ａｌ２Ｓｅ３）、硫化ガリウム（Ｇａ２Ｓ３）、セレン化ガリウム（Ｇａ２Ｓｅ３）、テルル化ガリウム（Ｇａ２Ｔｅ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、硫化インジウム（Ｉｎ２Ｓ３）、セレン化インジウム（Ｉｎ２Ｓｅ３）、テルル化インジウム（Ｉｎ２Ｔｅ３）等の周期表第１３族元素と周期表第１６族元素との化合物、塩化タリウム（Ｉ）（ＴｌＣｌ）、臭化タリウム（Ｉ）（ＴｌＢｒ）、ヨウ化タリウム（Ｉ）（ＴｌＩ）等の周期表第１３族元素と周期表第１７族元素との化合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、テルル化亜鉛（ＺｎＴｅ）、硫化水銀（ＨｇＳ）、セレン化水銀（ＨｇＳｅ）、テルル化水銀（ＨｇＴｅ）等の周期表第１２族元素と周期表第１６族元素との化合物（あるいはII−VI族化合物半導体）、硫化砒素（III）（Ａｓ２Ｓ３）、セレン化砒素（III）（Ａｓ２Ｓｅ３）、テルル化砒素（III）（Ａｓ２Ｔｅ３）、硫化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｓ３）、セレン化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｓｅ３）、テルル化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｔｅ３）、硫化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｓ３）、セレン化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｓｅ３）、テルル化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｔｅ３）等の周期表第１５族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｏ）、セレン化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｓｅ）等の周期表第１１族元素と周期表第１６族元素との化合物、塩化銅（Ｉ）（ＣｕＣｌ）、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）、塩化銀（ＡｇＣｌ）、臭化銀（ＡｇＢｒ）等の周期表第１１族元素と周期表第１７族元素との化合物、硫化銀（ＡｇＳ）等の周期表第１１族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化ニッケル（II）（ＮｉＯ）等の周期表第１０族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化コバルト（II）（ＣｏＯ）、硫化コバルト（II）（ＣｏＳ）等の周期表第９族元素と周期表第１６族元素との化合物、四酸化三鉄（Ｆｅ３Ｏ４）、硫化鉄（II）（ＦｅＳ）等の周期表第８族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化マンガン（II）（ＭｎＯ）等の周期表第７族元素と周期表第１６族元素との化合物、硫化モリブデン（IV）（ＭｏＳ２）、酸化タングステン（IV）（ＷＯ２）等の周期表第６族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化バナジウム（II）（ＶＯ）、酸化バナジウム（IV）（ＶＯ２）、酸化タンタル（Ｖ）（Ｔａ２Ｏ５）等の周期表第５族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化チタン（ＴｉＯ２、Ｔｉ２Ｏ５、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ５Ｏ９等）等の周期表第４族元素と周期表第１６族元素との化合物、硫化マグネシウム（ＭｇＳ）、セレン化マグネシウム（ＭｇＳｅ）等の周期表第２族元素と周期表第１６族元素との化合物、バリウムチタネート（ＢａＴｉＯ３）等が挙げられるが、ＳｎＳ２、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ等の周期表第１４族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ等のIII−Ｖ族化合物半導体、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｇａ２Ｓｅ３、Ｇａ２Ｔｅ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｓｅ３、Ｉｎ２Ｔｅ３等の周期表第１３族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＨｇＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ等のII−VI族化合物半導体、Ａｓ２Ｏ３、Ａｓ２Ｓ３、Ａｓ２Ｓｅ３、Ａｓ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｓｂ２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｓｅ３、Ｂｉ２Ｔｅ３等の周期表第１５族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ等の周期表第２族元素と周期表第１６族元素との化合物が好ましく、中でも、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、Ｉｎ、Ａｇがより好ましい。このような物質で構成された量子ドットを用いることにより、環境に対する負荷を特に小さいものとすることができるとともに、作業者等の安全性を確実により確保することができる。また、可視光領域で純粋なスペクトルを安定して得ることができるので、発光素子の形成に有利である。また、量子ドットが上記のような構成材料で構成されたものであると、後述するような方法で、量子ドットを製造した際におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率を、容易かつ確実に低いものとすることができる。また、中でも、環境に対する負荷の小ささ、人体への安全性等の観点からは、ＩｎＰ、ＺｎＯ、ＺｎＳがさらに好ましく、さらに、高屈折率、安全性、原料の経済性等の点で優れていることから、ＺｎＳが最も好ましい。また、ＺｎＳｅは、発光の安定性の点で好ましい。また、上述した材料は、１種で用いるものであってもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
吐出液（分散液）中における量子ドットの含有率は、特に限定されないが、０．００５〜６．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましい。量子ドットの含有率が前記範囲内の値であると、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができる。また、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることできるとともに、吐出液（分散液）の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を好適に表示することができる。特に、量子ドットが上述したような材料で構成されたものである場合において、吐出液（分散液）中における量子ドットの含有率が前記範囲内の値であると、吐出液（分散液）中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率を特に低いものとすることができるため、上記のような環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等をより確実に防止することができる。
【００３２】
また、量子ドットは、粒子全体が均一な組成を有するものであってもよいし、各部位で組成の異なるものであってもよい。例えば、量子ドットは、コア領域と、当該コア領域の外周を被覆し、前記コア領域とは異なる組成のシェル領域とを有するもの（コア−シェル構造を有するもの）であってもよい。これにより、例えば、量子ドットの発光効率を優れたものとしつつ、吐出液中における量子ドットの分散安定性を特に優れたものとすることができたり、発光の安定性を向上させたりすることができる。
【００３３】
＜被膜＞
吐出液（分散液）中において、量子ドットの表面は、不活性な無機物の被覆層または有機配位子で構成された被膜で被覆されたものであってもよい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの凝集を効果的に防止することができ、量子ドットの分散性を向上させることができるとともに、液滴吐出時における液切れが特に優れたものとなる。また、被覆層の存在により安定的に光吸収や発光特性が得られる。また、量子ドットが被膜で被覆されていることにより、量子ドットが比較的高い濃度で、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを含むもの（ただし、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は１００ｐｐｍ以下）であっても、量子ドットからのＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの溶出、拡散等を防止することができる。これにより、例えば、量子ドットが人体内に取り込まれた場合であっても、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒによる人体への悪影響の発現をより確実に防止することができる。
【００３４】
また、量子ドットの表面が被膜で被覆されていると、後述するような分散剤を量子ドットの表面付近に確実に担持させることができる。これに対し、量子ドットが被膜で被覆されていないと、分散剤を量子ドットの表面に確実に付着させるのが困難となる。
被膜の厚さは、特に限定されないが、０．１〜１０ｎｍであるのが好ましく、０．１〜５ｎｍであるのがより好ましい。一般に、量子ドットのサイズにより発光色が制御でき、被膜の厚さが前記範囲内の値であると、被膜の厚みが量子ドット１個分程度であり、薄膜パターン形成時における欠陥（抜け等）を防ぎつつ十分な発光量が得られる。また、被膜の厚さが前記範囲内の値であると、量子ドットからのＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの溶出、拡散等を防止することができ、上述したような問題の発生をより確実に防止することができる。また、被膜の存在によりお互いの粒子の粒子表面に存在するフリーの電子による非発光の電子エネルギーの転移を抑制でき、量子効率の低下を抑えることができる。
【００３５】
＜分散剤＞
吐出液（分散液）中において、量子ドットの表面付近には、分散剤が付着しているのが好ましい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散性を特に優れたものとすることができるとともに、液滴吐出時における液切れが特に優れたものとなる。また、量子ドット（微粒子）の製造時において量子ドットの表面に分散剤を付着させることにより、形成される量子ドットの形状を真球度の高いものとし、また、量子ドットの粒度分布をシャープなものとすることができるため、例えば、吐出液（分散液）を画像表示装置の発光素子、表示素子の形成に適用した場合において、画像表示装置に表示される画像の画質を特に優れたものとすることができる。
分散剤は、量子ドットの表面に直接付着したものであってもよいし、被膜を介して付着したもの（分散剤が直接付着するのは被膜で、量子ドットには接触していないもの）であってもよい。
【００３６】
分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；トリフェニルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）等のトリアルキルホスフィン類；ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類；トリ（ｎ−ヘキシル）アミン、トリ（ｎ−オクチル）アミン、トリ（ｎ−デシル）アミン等の第３級アミン類；トリプロピルホスフィンオキシド、トリブチルホスフィンオキシド、トリヘキシルホスフィンオキシド、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、トリデシルホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンオキシド、ジフェニルホスフィンオキシド等の有機リン化合物；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ピリジン、ルチジン、コリジン、キノリン類の含窒素芳香族化合物等の有機窒素化合物；ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン等のアミノアルカン類；ジブチルスルフィド等のジアルキルスルフィド類；ジメチルスルホキシドやジブチルスルホキシド等のジアルキルスルホキシド類；チオフェン等の含硫黄芳香族化合物等の有機硫黄化合物；パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸；アルコール類；ソルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；３級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミン類等が挙げられるが、量子ドットが後述するような方法で調製されるものである場合、分散剤は、高温液相において微粒子に配位して安定化する物質であるのが好ましく、具体的には、トリアルキルホスフィン類、有機リン化合物、アミノアルカン類、第３級アミン類、有機窒素化合物、ジアルキルスルフィド類、ジアルキルスルホキシド類、有機硫黄化合物、高級脂肪酸、アルコール類が好ましい。このような分散剤を用いることにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散性を特に優れたものとしたり、吐出液（分散液）の吐出安定性を特に優れたものとすることができたり、量子ドットの製造時において形成される量子ドットの形状をより真球度の高いものとし、量子ドットの粒度分布をよりシャープなものとすることができる。
【００３７】
＜分散媒＞
上述したように、吐出液（分散液）中において、量子ドット（より好適には、分散剤が付着した量子ドット）は、分散媒中に分散している。
通常、分散媒は、後述するような薄膜を製造する過程において、その大部分が除去されるものである。
【００３８】
分散媒としては、例えば、エステル化合物、エーテル化合物、ヒドロキシケトン、炭酸ジエステル、環状アミド化合物等を用いることができ、中でも、（１）多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン等）の縮合物としてのエーテル（多価アルコールエーテル）や、多価アルコールまたは多価アルコールエーテルのアルキルエーテル（例えば、メチルエーテル、エチルエーテル、ブチルエーテル、ヘキシルエーテル等）、エステル（例えば、ホルメート、アセテート、プロピオネート等）、（２）多価カルボン酸（例えば、こはく酸、グルタル酸等）のエステル（例えば、メチルエステル等）、（３）分子内に少なくとも１つの水酸基と少なくとも１つのカルボキシル基とを有する化合物（ヒドロキシ酸）のエーテル、エステル等、（４）多価アルコールとホスゲンとの反応で得られるような化学構造を有する炭酸ジエステル、（５）炭素数が１２以上の炭化水素が好ましい。分散媒として用いることのできる具体的な化合物としては、例えば、２−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−１−メチルエチルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、グルタル酸ジメチル、エチレングリコールジｎ−ブチレート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，６−ジアセトキシヘキサン、メチルプロピレントリグリコール、ブトキシプロパノール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、オクタン酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、酢酸シクロヘキシル、こはく酸ジエチル、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、こはく酸ジメチル、１−ブトキシ−２−プロパノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシ−ｎ−ブチルアセテート、ジアセチン、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ブチルグリコレート、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ドデカン、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラデカン、シクロヘキシルベンゼン、デカリン（デカヒドロナフタレン）、テトラリン、ブトキシエタノール等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、分散媒としては、テトラデカン、シクロヘキシルベンゼン、デカリン、テトラリン、ブトキシエタノール、オクタン酸エチル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ドデカン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、および、１，３−ブチレングリコールジアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものであるのが好ましい。分散媒がこのような材料で構成されたものであると、分散液（吐出液）中における量子ドット（特に、分散剤が付着した量子ドット）の分散性を非常に優れたものとすることができ、ノズル孔から吐出される各液滴中に含まれる量子ドットの含有率のばらつきを防止することができる。また、ノズル孔から吐出液（分散液）を吐出する際に、微粒子としての量子ドットと分散媒との界面付近での分離が好適に起こり、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、液滴の飛行曲がりをより確実に防止することができ、液滴の受け面への付着位置精度を特に優れたものとすることができる。このようなことから、例えば、吐出液を発光素子、画像表示装置に適用した場合に、各画素間や画素内の各部位での量子ドットの濃度の不本意なばらつきが防止され、表示される画像に色むら等の問題が発生するのを効果的に防止することができる。また、上記のような優れた分散状態を長期間にわたって保持することができるため、工業用途（産業用）に求められる長期安定吐出性を、非常に優れたものとすることができ、上記のような優れた効果を長期間にわたって、安定的に発揮することができる。また、分散媒が上記のような材料で構成されたものであると、分散媒の揮発性（蒸気圧）を比較的低いもの（分散媒の沸点を比較的高いもの）のとすることができる。このため、液滴の吐出を長時間にわたって繰り返し行った場合等においても、ノズル孔付近に、吐出液の固形成分（量子ドット等）が付着してしまうのを効果的に防止することができる。また、分散媒が上記のような材料で構成されたものであると、液滴吐出時におけるミストの発生そのものが抑制され、また、ミストが発生した場合であっても、ミストの乾燥が緩やかに進行するため比較的速やかに落下し、雰囲気中に長時間滞留しにくい。このため、上記のような環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等をより確実に防止することができる。また、量子ドットが、比較的高い濃度で、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｃｒを含む場合（ただし、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は１００ｐｐｍ以下）であっても、上記のような問題の発生を確実に防止することができる。
【００３９】
分散媒の大気圧（１気圧）下における沸点は、１５０〜２８０℃であるのが好ましく、１７０〜２７０℃であるのがより好ましく、１８０〜２６０℃であるのがさらに好ましい。分散媒の大気圧下における沸点が前記範囲内の値であると、吐出液（分散液）を吐出する液滴吐出ヘッドにおける目詰まり等をより効果的に防止することができ、薄膜パターンの形成の効率を特に優れたものとすることができる。
また、分散媒の２５℃における蒸気圧は、０．１ｍｍＨｇ以下であるのが好ましく、０．０５ｍｍＨｇ以下であるのがより好ましい。分散媒の蒸気圧が前記範囲内と値であると、吐出液（分散液）を吐出する液滴吐出ヘッドにおける目詰まり等をより効果的に防止することができ、薄膜パターンの形成の効率を特に優れたものとすることができる。
【００４０】
吐出液（分散液）中における分散媒の含有率は、特に限定されないが、７０〜９８ｗｔ％であるのが好ましく、８０〜９５ｗｔ％であるのがより好ましい。分散媒の含有率が前記範囲内の値であると、吐出液中における量子ドットの分散性（分散の均一性）を十分に優れたものとすることできるとともに、吐出液の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとすることができ、また、薄膜パターンの形成効率を特に優れたものとすることができる。また、例えば、発光素子、画像表示装置等に適用した場合、色むらの発生をより効果的に防止しつつ、画像濃度が特に高い画像を表示することができる画像表示装置等を効率よく製造することができる。また、分散媒が、上述したような材料で構成されたものである場合において、分散媒の含有率が前記範囲内の値であると、液滴吐出時において、ミストの発生をより効果的に抑制することができ、また、ミストが長時間にわたって雰囲気中に滞留するのを効果的に防止することができるため、上記のような環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、人体等への悪影響の発生等をより確実に防止することができる。
【００４１】
＜酸化防止剤＞
吐出液（分散液）は、非常に粒径が小さな量子ドットの酸化と、それによる分散性の崩壊・凝集を防ぐために酸化防止剤を成分として含むのが好ましい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散安定性を特に優れたものとすることができるとともに、液滴吐出時における液切れが安定する。酸化防止剤としては、フェノール系、イオウ系、リン酸系、ヒンダードアミン化合物があげられ、単独または2種類以上を組み合わせて使用できる。
【００４２】
フェノール系酸化防止剤としては、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ｄｌ−α−トコフェロール、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリス−（３，５，−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、４，４’−チオビス−（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、２−（１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、６−（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ）−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ（ｄ，ｆ）（１，３，２）ジオキサホスフェピン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
【００４３】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類およびペンタエリスリトールテトラ（竈−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオールの竈−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
【００４４】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−オクタデシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト、トリス（２−〔（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、２−エチル−２−ブチルプロピレングリコールと２，４，６−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
【００４５】
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン等のヒンダードアミン化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２以上を混合して用いても良い。
前記酸化防止剤の分散液１００重量部に対する含有量は、１０〜２００００ｐｐｍであるのが好ましく、２０〜１５０００ｐｐｍであるのがより好ましく、３０〜１００００ｐｐｍであるのがさらに好ましく、５０〜６０００ｐｐｍであるのがもっとも好ましい。
【００４６】
＜その他の成分＞
吐出液（分散液）は、必要に応じて、種々の他の成分を含むものであってもよい。このような成分（他の添加剤）としては、例えば、各種架橋剤；各種重合開始剤；銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤；ガラス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレート等の高分子化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤；メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、グリセリン等の吐出性能安定化剤；以下商品名で、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７８Ｋ（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５、同Ｎｏ．９５（以上、共栄社油脂化学工業（株）製）等の界面活性剤等が挙げられる。
【００４７】
上記のような吐出液（分散液）中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は、５．０ｐｐｍ以下であるのが好ましく、３．０ｐｐｍであるのがより好ましく、２．０ｐｐｍ以下であるのがさらに好ましい。これにより、上述したような問題の発生をより確実に防止することができる。すなわち、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷をより小さいものとすることができ、また、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【００４８】
また、上記のような吐出液（分散液）の２５℃における粘度（振動式粘度計を用いて測定される粘度）は、特に限定されないが、３〜１５ｍＰａ・ｓであるのが好ましく、５〜１０ｍＰａ・ｓであるのがより好ましい。吐出液（分散液）の粘度が前記範囲内の値であると、後述するような液滴吐出において、吐出される吐出液（分散液）の液滴量のばらつきを特に小さいものとしつつ、液滴吐出ヘッドにおける目詰まりの発生等をより確実に防止することができる。なお、吐出液（分散液）の粘度の測定は、例えば、振動式粘度計を用いて行うことができ、特に、ＪＩＳ Ｚ８８０９に準拠して行うことができる。
【００４９】
上記のような吐出液（分散液）は、例えば、以下のようにして調製することができる。
上述したような本発明の吐出液（分散液）は、量子ドットが大気中の酸素や水分により劣化することを避けるために、酸素や水分を除去した環境で保存されるものであるのがこのましい。
すなわち、ＸＹ型の化合物（ただし、Ｘは金属原子、Ｙは非金属原子）で構成された量子ドットを含む吐出液（分散液）は、例えば、以下のようにして調製することができる。
【００５０】
まず、酸素および水分が系内に混入するのが防止された条件で、金属原子Ｘを構成原子として含有する化合物（原料化合物）と、非金属原子Ｙを構成原子として含有する化合物（原料化合物）とを含む溶液（第１の液体）を用意するとともに、上述したような分散剤（表面修飾剤）を含む液体（第２の液体）を用意する。このように、金属原子Ｘを構成原子として含有する化合物（原料化合物）と、非金属原子Ｙを構成原子として含有する化合物（原料化合物）とを用いることにより、化合物ＸＹの合成に先立って、原料化合物の精製を好適に行うことができ、調製される吐出液（分散液）にＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒが混入することが確実に防止される。
ＩｎＰで構成された量子ドットを調製する場合（ＸがＩｎであり、ＹがＰである場合）、原料化合物としては、例えば、塩化インジウム（ＩｎＣｌ３）および、トリスジメチルアミノホスフィン（Ｐ（ＮＭｅ２）３）を好適に用いることができる。また、分散剤（表面修飾剤）としては、トリオクチルホスフィン、トリオクチルホスフィンオキシド、トリデシルホスフィンオキシド、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン等を好適に用いることができる。特に、これらから選択される２種以上を組み合わせて用いるのが好ましい。これにより、量子ドットの粒径を容易かつ確実に所望の大きさに調整することができ、量子ドットからの出射光の波長を、容易かつ確実に、所望の値とすることができる。また、吐出液中における量子ドットの安定性を特に優れたものとすることができる。
【００５１】
次に、第１の液体と第２の液体とを、加熱しつつ混合することにより、反応を進行させる。
このときの加熱温度は、特に限定されないが、１００〜４００℃であるのが好ましく、１５０〜３５０℃であるのがより好ましい。
次に、上記の反応液を冷却し、有機溶媒（有機溶剤）を添加することにより、化合物ＸＹを不溶物（量子ドット）として析出させる。
【００５２】
このときに用いる有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒（溶剤）や、メタノール、エタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒（溶剤）等が挙げられるが、炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒とを組み合わせて用いるのが好ましく、キシレンとメタノールと１−ブタノールとを組み合わせて用いるのが好ましい。これにより、粒度分布が非常にシャープな量子ドットを、容易かつ確実に得ることができる。
【００５３】
次に、遠心分離し、デカンテーション、真空乾燥等を行うことにより、化合物ＸＹで構成された量子ドットが得られる。
なお、必要に応じて、量子ドットの洗浄を行ってもよい。
その後、得られた量子ドットを分散媒中に分散させることにより、目的の吐出液（分散液）を得ることができる。
【００５４】
また、量子ドットをコア−シェル構造を有するものとして調製する場合、上記のようにして得られた粒子（上記の説明では量子ドットとして説明している粒子）が核（芯部、コア領域）となるようにして、その表面に外殻（シェル領域）を形成すればよい。より具体的な例として、ＺｎＳで構成されたシェル領域を形成する方法について以下に説明する。
まず、酸素および水分が系内に混入するのが防止された条件で、上記のようにして調製された粒子（コア領域となるべき粒子）と分散剤（表面修飾剤）とを含む液体（第３の液体）、および、ジエチル亜鉛とビス（トリメチルシリル）スルフィドと分散剤（表面修飾剤）とを含む液体（第４の液体）を、それぞれ用意する。
【００５５】
次に、第３の液体と第４の液体とを加熱しつつ混合し、その後冷却し、さらに有機溶媒（有機溶剤）を添加する。このときの加熱温度は、特に限定されないが、８０〜３００℃であるのが好ましく、９０〜２２０℃であるのがより好ましい。また、有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒（溶剤）や、メタノール、エタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒（溶剤）等が挙げられるが、メタノールを用いるのが好ましい。これにより、粒度分布が非常にシャープで、シェル領域の厚さのばらつきの小さい量子ドットを、容易かつ確実に得ることができる。
その後、遠心分離し、デカンテーション、真空乾燥等を行うことにより、コア−シェル構造を有する量子ドットが得られる。
なお、必要に応じて、コア−シェル構造の量子ドットの洗浄を行ってもよい。
【００５６】
《吐出液セット》
次に、上述したような吐出液を、複数種備える吐出液セット（分散液セット）について説明する。吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）に含まれる量子ドットは、互いに異なる粒径を有するものである。より具体的には、吐出液セットとしては、例えば、所定の粒径の第１の量子ドットを含む第１の吐出液（第１の分散液）と、第１の量子ドットよりも大きい粒径の第２の量子ドットを含む第２の吐出液（第２の分散液）と、第１の量子ドットよりも大きく、第２の量子ドットよりも小さい粒径の第３の量子ドットを含む第３の吐出液（第３の分散液）とを備えるものとすることができる。このような場合、例えば、第１の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により青色に発光するものであり、第２の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により赤色に発光するものであり、第３の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により緑色に発光するものである。
【００５７】
このような吐出液セットを用いることにより、色再現域が特に広く、高輝度な画像を表示することができる画像表示装置等に好適に適用することができる。
なお、吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）は、量子ドットの粒径以外の条件は、互いに、同一であってもよいし、異なるものであってもよい。より具体的には、吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）は、量子ドットの含有率や、分散媒の含有率、組成等が同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
【００５８】
《薄膜パターン形成方法》
次に、上述したような吐出液（吐出液セット）を用いた薄膜パターン形成方法について説明する。
本発明の薄膜パターン形成方法は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、上記のような吐出液（分散液）を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる工程（吐出工程）と、受け面に付着した吐出液（分散液）から分散媒の少なくとも一部を除去する工程（分散媒除去工程）とを有する。
【００５９】
本発明の薄膜パターン形成方法は、量子ドットが大気中の酸素や水分により劣化することを避けるために、酸素や水分を除去した環境において行うことが望ましい。このとき、吐出液（分散液）が晒される雰囲気中における酸素濃度は５００ｐｐｍ以下であるのが好ましく、２００ｐｐｍ以下であるのがより好ましく、５０ｐｐｍ以下であるのがさらに好ましい。このように、雰囲気中の酸素濃度が十分に低いものであると、量子ドットの劣化をより効果的に防止することができる。
【００６０】
＜吐出工程＞
本工程では、上述したような吐出液（分散液）を、液滴吐出法により吐出する。上記のように、本発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものである。このため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。
【００６１】
液滴吐出法としては、ノズル孔から吐出液（分散液）の液滴を間欠的に吐出することができる方法であれば、特に限定されないが、例えば、「圧電パルスによりヘッド部のノズル孔から分散液を間欠的に吐出する方法（いわゆる「インクジェット法」）」や、「気体の体積変化によりヘッド部のノズル孔から分散液を間欠的に吐出する方法（いわゆる「バブルジェット法」）」等が挙げられる。中でも、液滴吐出法としては、インクジェット法が好ましい。液滴吐出法としてインクジェット法を用いることにより、吐出液が上述するような成分で構成された分散媒を含むものであることによる効果が顕著に発揮され、液滴吐出時におけるノズル孔からの吐出液（分散液）の液切れを特に優れたものとすることができるとともに、飛行曲がりの発生をより確実に防止することができる。その結果、受け面への分散液の付着量、付着位置の制御をより精確に行うことができる。また、いわゆるバブルジェット法等に比べて、吐出液の吐出時に発生するミスト（目的とする受け面に付着せずに、雰囲気中に滞留する吐出液）の比率を、特に少ないものとすることができる。その結果、発光素子、画像表示装置等を作製する際における、環境への負荷を特に小さいものとすることができるとともに、画像表示装置、発光素子等の作製時に、作業者等に対して、健康面での悪影響を与えてしまうことをより確実に防止することができる。
【００６２】
吐出液（分散液）の液滴吐出は、シリコン材料で構成された液滴吐出ヘッドを用いて行うのが好ましい。これにより、量子ドットのヘッド内部への付着を低く抑えることが可能である。
また、本工程では、嫌気性環境下、より具体的には、乾燥した不活性ガス（例えば、Ｎ２、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ等）雰囲気下で、吐出液（分散液）の液滴吐出を行うのが好ましい。これにより、量子ドットが酸素や水分により劣化することが確実に防止され、形成される薄膜の信頼性を特に優れたものとすることができる。
本工程においては、吐出液（分散液）を、形成すべき薄膜に対応するパターンで吐出するが、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出するのが好ましい。
【００６３】
このように、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、１滴あたりの吐出液の吐出量を十分に小さくする必要があり、ミストがより発生しやすくなるが、上記のように、本発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものであるため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。また、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、一般には、複数個の微小単位が結合し、比較的大きな液溜りを形成してしまったり、吐出した液滴が、目的とする微小単位を形成すべき部位ではなく、隣接する微小単位を形成すべき部位に付着してしまう等の問題を生じやすく、目的のパターンを形成するのが困難であるが、上述したような量子ドットを含む分散液では、このような問題を生じにくい。すなわち、分散液を複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する方法に、本発明を適用した場合、本発明による効果がより顕著に発揮される。
【００６４】
＜分散媒除去工程＞
受け面に付着した吐出液（分散媒）から、分散媒の少なくとも一部を除去する方法は、特に限定されないが、例えば、吐出液（分散液）が付着したワークを加熱する方法、吐出液（分散液）が付着したワークを減圧雰囲気下に置く方法、これらを組み合わせた方法（例えば、第１の温度で、減圧雰囲気下に吐出液（分散液）が付着したワークを減圧雰囲気下に置いた後、雰囲気を大気圧に戻し、大気圧下で加熱する方法等）等が挙げられる。このとき、非常に粒径の小さな量子ドットが大気中の酸素や水分により劣化することを避けるために、酸素や水分を除去しながら減圧雰囲気下で分散媒を除去することがさらに効果的である。
【００６５】
本工程での処理温度（加熱温度）は、分散媒の組成等にもよるが、５０〜３００℃であるのが好ましく、１００〜２００℃であるのがより好ましい。
本工程での雰囲気中における酸素濃度は、５００ｐｐｍ以下であるのが好ましく、２００ｐｐｍ以下であるのがより好ましく、５０ｐｐｍ以下であるのがさらに好ましい。このように、雰囲気中の酸素濃度が十分に低いものであると、量子ドットの劣化をより効果的に防止することができる。
分散媒除去工程を行うことにより、目的とする薄膜パターンが得られる。すなわち、本発明では、上記のように液滴吐出を行うため、分散媒除去工程後に、形成された薄膜に対するパターニング等の後処理を行う必要がない。
【００６６】
《薄膜》
上記のような工程を経て、本発明の薄膜が得られる。このようにして得られる薄膜は、液滴の吐出パターンに対応する形状を有するものである。
本発明の薄膜は、その用途により異なるが、一般に、その厚さが、１０〜７００ｎｍであるのが好ましく、２０〜５００ｎｍであるのがより好ましい。
本発明の薄膜は、いかなる用途のものであってもよく、例えば、発光素子、画像表示装置を構成する発光層や、太陽電池、照明装置等に好適に適用することができる。
以下、本発明の薄膜、薄膜パターン形成方法を、発光素子、画像表示装置を構成する発光層に適用した場合の一例について、より詳細に説明する。
【００６７】
《画像表示装置》
以下では、本発明の画像表示装置の一例として、アクティブマトリックス型表示装置について説明する。
図１は、本発明の画像表示装置としてのアクティブマトリックス型表示装置の一例を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図２中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００６８】
図１に示すアクティブマトリックス型表示装置（以下、単に「表示装置」と言う。）１０は、ＴＦＴ回路基板（対向基板）２０と、このＴＦＴ回路基板２０上に設けられた発光素子１と、ＴＦＴ回路基板２０に対向する上基板９とを有している。
ＴＦＴ回路基板２０は、基板２１と、この基板２１上に形成された回路部２２とを有している。
【００６９】
基板２１は、表示装置１０を構成する各部の支持体となるものであり、上基板９は、例えば、発光素子１を保護する保護膜等として機能するものである。
また、本実施形態の表示装置１０は、上基板９（後述する陽極８）側から光を取り出す構成（トップエミッション型）であるため、上基板９は、実質的に透明（無色透明、着色透明、半透明）とされ、一方、基板２１は、特に、透明性は要求されない。
このような基板２１には、各種ガラス材料基板および各種樹脂基板のうち比較的硬度の高いものが好適に用いられる。
【００７０】
一方、上基板９には、各種ガラス材料基板および各種樹脂基板のうち透明なものが選択され、例えば、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料等を主材料として構成される基板を用いることができる。
【００７１】
基板２１の平均厚さは、特に限定されないが、１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、５〜２０ｍｍ程度であるのがより好ましい。一方、上基板９の平均厚さも、特に限定されないが、０．１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜１０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
回路部２２は、基板２１上に形成された下地保護層２３と、下地保護層２３上に形成された駆動用ＴＦＴ（スイッチング素子）２４と、第１層間絶縁層２５と、第２層間絶縁層２６とを有している。
【００７２】
駆動用ＴＦＴ２４は、半導体層２４１と、半導体層２４１上に形成されたゲート絶縁層２４２と、ゲート絶縁層２４２上に形成されたゲート電極２４３と、ソース電極２４４と、ドレイン電極２４５とを有している。
このような回路部２２上に、各駆動用ＴＦＴ２４に対応して、それぞれ、発光素子１が設けられている。また、隣接する発光素子１同士は、第１隔壁部３１および第２隔壁部３２により構成される隔壁部（バンク）３５により区画されている。
【００７３】
本実施形態では、各発光素子１の陰極３は、画素電極を構成し、各駆動用ＴＦＴ２４のドレイン電極２４５に配線２７により電気的に接続されている。また、電子輸送層５と、発光層６と、正孔輸送層７とは、各発光素子１に対して個別に形成されており、陽極８は、共通電極とされている。
表示装置１０は、単色表示でも、カラー表示でもよい。表示装置１０が、互いに異なる粒子径の量子ドットを含む複数種の発光素子１を有するものとすることにより、カラー表示を実現することができる。特に、粒径が制御された量子ドットを用いることにより、各発光素子１を、確実に所望の色調を呈するものとすることができるため、所望の画質の画像を表示することができ、また、色再現域を広いものとすることができる。
【００７４】
以下、この発光素子１について詳述する。
図１に示すように、発光素子１は、陰極３と、陽極８とを有し、さらに、陰極３と陽極８との間に、陰極３側から順に、電子輸送層５と、発光層６と、正孔輸送層７とを有している。
陰極３は、電子輸送層５に電子を注入する電極である。
【００７５】
陰極３の構成材料としては、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。
特に、陰極３の構成材料として合金を用いる場合には、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極３の構成材料として用いることにより、陰極３の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
【００７６】
このような陰極３の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１００００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜５００ｎｍ程度であるのがより好ましい。陰極３の厚さが前記下限値未満であると、陰極３の機能が十分に発揮されなくなる可能性があり、一方、陰極３の厚さが前記上限値を超えると、発光素子１の発光効率等の特性が低下するおそれがある。
また、陰極３の表面抵抗は低い程好ましく、具体的には、５０Ω／□以下であるのが好ましく、２０Ω／□以下であるのがより好ましい。表面抵抗の下限値は、特に限定されないが、通常０．１Ω／□程度であるのが好ましい。
【００７７】
一方、陽極８は、正孔輸送層７に正孔を注入する電極である。
この陽極８の構成材料（陽極材料）としては、表示装置１０が陽極８側から光を取り出すトップエミッション構造であるため透光性を有する導電性材料が選択され、特に、仕事関数が大きく（陰極３の構成材料よりも仕事関数が大きく）、優れた導電性を有するものが好適に用いられる。
【００７８】
このような陽極８の構成材料としては、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、フッ素含有インジウムティンオキサイド（ＦＩＴＯ）、アンチモンティンオキサイド（ＡＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）、アルミニウムジンクオキサイド（ＡＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、フッ素含有酸化スズ（ＦＴＯ）、フッ素含有インジウムオキサイド（ＦＩＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、等の透明導電性材料が挙げられ、これらのうちの少なくとも１種を用いることができる。
【００７９】
陽極８の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜２０００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜１０００ｎｍ程度であるのがより好ましい。陽極８の厚さが前記下限値未満であると、陽極８としての機能が十分に発揮されなくなる可能性があり、一方、陽極８の厚さが前記上限値を超えると、陽極８の構成材料等によっては、光の透過率が低下して、トップエミッション型の構造を有する発光素子１として、実用に適さなくなるおそれがある。
【００８０】
また、陽極８の表面抵抗も低い程好ましく、具体的には、１００Ω／□以下であるのが好ましく、５０Ω／□以下であるのがより好ましい。表面抵抗の下限値は、特に限定されないが、通常０．１Ω／□程度であるのが好ましい。
このような陽極８は、その光（可視光領域）の透過率が好ましくは６０％以上、より好ましくは８０％以上となっている。これにより、光を効率よく陽極８側から取り出すことができる。
【００８１】
電子輸送層５は、陰極３から注入された電子を、発光層６まで輸送する機能を有するものである。
電子輸送層５は、各種ｎ型の無機半導体材料、各種ｎ型の有機半導体材料で構成されたものとすることができるが、無機半導体材料を主材料として構成するのが好ましい。無機半導体材料は、化学的に安定であることから、電子輸送層５が無機半導体材料を主材料として構成されたものであることにより、発光素子１の耐久性をより向上させることができる。
【００８２】
無機半導体材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ＳｃＶＯ４、ＹＶＯ４、ＬａＶＯ４、ＮｄＶＯ４、ＥｕＶＯ４、ＧｄＶＯ４、ＳｃＮｂＯ４、ＳｃＴａＯ４、ＹＮｂＯ４、ＹＴａＯ４、ＳｃＰＯ４、ＳｃＡｓＯ４、ＳｃＳｂＯ４、ＳｃＢｉＯ４、ＹＰＯ４、ＹＳｂＯ４、ＢＶＯ４、ＡｌＶＯ４、ＧａＶＯ４、ＩｎＶＯ４、ＴｌＶＯ４、ＩｎＮｂＯ４、ＩｎＴａＯ４のような金属酸化物、ＺｎＳのような金属硫化物、金属セレン化物、ＴｉＣ、ＳｉＣのような金属または半導体炭化物、ＢＮ、Ｂ４Ｎのような半導体窒化物等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、無機半導体材料としては、金属酸化物、特に、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムのうちの少なくとも一方を主成分とするものが好ましい。金属酸化物（特に、酸化チタンや酸化ジルコニウム）は、電子輸送能に特に優れることから好ましい。
【００８３】
なお、有機半導体材料としては、例えば、１，３，５−トリス［（３−フェニル−６−トリ−フルオロメチル）キノキサリン−２−イル］ベンゼン（ＴＰＱ１）、１，３，５−トリス［｛３−（４−ｔ−ブチルフェニル）−６−トリスフルオロメチル｝キノキサリン−２−イル］ベンゼン（ＴＰＱ２）のようなベンゼン系化合物、ナフタレン系化合物、フェナントレン系化合物、クリセン系化合物、ペリレン系化合物、アントラセン系化合物、ピレン系化合物、アクリジン系化合物、スチルベン系化合物、ＢＢＯＴのようなチオフェン系化合物、ブタジエン系化合物、クマリン系化合物、キノリン系化合物、ビスチリル系化合物、ジスチリルピラジンのようなピラジン系化合物、キノキサリン系化合物、２，５−ジフェニル−パラ−ベンゾキノンのようなベンゾキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）のようなオキサジアゾール系化合物、３，４，５−トリフェニル−１，２，４−トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、オキサゾール系化合物、アントロン系化合物、１，３，８−トリニトロ−フルオレノン（ＴＮＦ）のようなフルオレノン系化合物、ＭＢＤＱのようなジフェノキノン系化合物、ＭＢＳＱのようなスチルベンキノン系化合物、アントラキノジメタン系化合物、チオピランジオキシド系化合物、フルオレニリデンメタン系化合物、ジフェニルジシアノエチレン系化合物、フローレン系化合物、８−ヒドロキシキノリン アルミニウム（Ａｌｑ３）、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする錯体のような各種金属錯体、フタロシアニン、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、トリス（８−ヒドロキシキノリノレート）アルミニウム（Ａｌｑ３）のような低分子系のものや、オキサジアゾール系高分子、トリアゾール系高分子のような高分子系のものが挙げられる。
【００８４】
このような電子輸送層５の平均厚さは、特に限定されないが、１〜２００ｎｍであるのが好ましく、５〜１００ｎｍであるのがより好ましい。これにより、電子輸送層５の機械的強度（膜強度）が低下するのを防止しつつ、発光素子１の薄型化を図ることができる。
なお、陰極３と電子輸送層５との間には、例えば、陰極３からの電子注入効率を向上させる電子注入層を設けるようにしてもよい。
【００８５】
また、電子注入層の構成材料（電子注入材料）としては、例えば、８−ヒドロキシキノリン、オキサジアゾール、または、これらの誘導体（例えば、８−ヒドロキシキノリンを含む金属キレートオキシノイド化合物）等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
正孔輸送層７は、陽極８から注入された正孔を発光層６まで輸送する機能を有するものである。
【００８６】
この正孔輸送層７の構成材料（正孔輸送材料）としては、例えば、ポリアリールアミン、フルオレン−アリールアミン共重合体、フルオレン−ビチオフェン共重合体、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８７】
また、前記化合物は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等が挙げられる。
なお、正孔輸送材料としては、上述したような高分子材料や低分子材料のような有機系材料の他、例えば、ＭｏＯ３、Ｖ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｃｕ（II）Ｏ、Ｃｕ（Ｉ）２Ｏ、ＮｉＯ、ＣｏＯのような金属酸化物を用いることもできる。
【００８８】
このような正孔輸送層７の平均厚さは、特に限定されないが、１〜２００ｎｍであるのが好ましく、５〜１００ｎｍであるのがより好ましい。これにより、発光素子１が大型化（特に、厚膜化）するのを防止しつつ、十分な発光効率が得られる。
なお、陽極８と正孔輸送層７との間には、例えば、陽極８からの正孔注入効率を向上させる正孔注入層を設けるようにしてもよい。
【００８９】
この正孔注入層の構成材料（正孔注入材料）としては、例えば、銅フタロシアニンや、４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−フェニル−３−メチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
発光層６は、前述したような吐出液（分散液）を用いて形成されたものであり、主として量子ドットで構成されたものである。
【００９０】
陰極３と陽極８との間に通電（電圧を印加）すると、陽極８から正孔輸送層７を介して正孔が発光層６に注入され、また、陰極３から電子輸送層５を介して電子が発光層６に注入され、この発光層６において正孔と電子とが再結合する。そして、発光層６ではエキシトン（励起子）が生成し、このエキシトンが基底状態に戻る際にエネルギーを放出（発光）する。このようにして放出されるエネルギーは、発光層６を構成する量子ドットの種類に依存する、特定の波長を有する光である。
【００９１】
発光層６の平均厚さは、特に限定されないが、１〜１５０ｎｍ程度であるのが好ましく、２〜１００ｎｍ程度であるのがより好ましい。
表示装置１０を平面視した際の各発光層６の面積は、１０００〜２０００００μｍ２であるのが好ましく、１００００〜１０００００μｍ２であるのがより好ましい。
なお、上述したような表示装置１０においては、電子輸送層５、正孔輸送層７のうち、一方または両方を省略してもよい。言い換えると、発光素子１は、電子輸送層５および／または正孔輸送層７を有していないものであってもよい。
上述したような表示装置１０は、例えば、以下に述べるような製造方法（本発明の薄膜パターン形成方法を適用した方法）により製造することができる。
【００９２】
《画像表示装置の製造方法（発光層の形成方法）》
図２は、図１に示すアクティブマトリックス型表示装置の製造方法を説明するための図（縦断面図）、図３は、発光層（薄膜）の形成に用いる液滴吐出装置を示す斜視図、図４は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出手段をステージ側から観察した図、図５は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドの底面を示す図、図６は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は断面斜視図、（ｂ）は断面図である。
【００９３】
［１］まず、ＴＦＴ回路基板２０を用意する。
［１−Ａ］まず、基板２１を用意し、基板２１上に、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料ガスとして、プラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約２００〜５００ｎｍの酸化シリコンを主材料として構成される下地保護層２３を形成する。
【００９４】
［１−Ｂ］次に、下地保護層２３上に、駆動用ＴＦＴ２４を形成する。
［１−Ｂａ］まず、基板２１を約３５０℃に加熱した状態で、下地保護層２３上に、例えばプラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコンを主材料として構成される半導体膜を形成する。
［１−Ｂｂ］次いで、半導体膜に対して、レーザアニールまたは固相成長法等により結晶化処理を行い、アモルファスシリコンをポリシリコンに変化させる。
ここで、レーザアニール法では、例えば、エキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は、例えば２００ｍＪ／ｃｍ２程度に設定される。また、ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザー強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
【００９５】
［１−Ｂｃ］次いで、半導体膜をパターニングして島状とし、各島状の半導体膜２４１を覆うように、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料ガスとして、プラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約６０〜１５０ｎｍの酸化シリコンまたは窒化シリコン等を主材料として構成されるゲート絶縁層２４２を形成する。
［１−Ｂｄ］次いで、ゲート絶縁層２４２上に、例えば、スパッタ法等により、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属を主材料として構成される導電膜を形成した後、パターニングし、ゲート電極２４３を形成する。
［１−Ｂｅ］次いで、この状態で、高濃度のリンイオンを打ち込んで、ゲート電極２４３に対して自己整合的にソース・ドレイン領域を形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域となる。
【００９６】
［１−Ｃ］次に、駆動用ＴＦＴ２４に電気的に接続されるソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
［１−Ｃａ］まず、ゲート電極２４３を覆うように、第１層間絶縁層２５を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｃｂ］次いで、コンタクトホール内にソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
【００９７】
［１−Ｄ］次に、ドレイン電極２４５と陽極８とを電気的に接続する配線（中継電極）２７を形成する。
［１−Ｄａ］まず、第１層間絶縁層２５上に、第２層間絶縁層２６を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｄｂ］次いで、コンタクトホール内に配線２７を形成する。
以上のようにして、ＴＦＴ回路基板２０が得られる。
【００９８】
［２］次に、ＴＦＴ回路基板２０上に発光素子１を形成する
［２−Ａ］まず、図２（ａ）に示すように、ＴＦＴ回路基板２０が備える第２層間絶縁層２６上に、配線２７に接触するように、陰極（画素電極）３を形成する。
この陰極３は、第２層間絶縁層２６上に、例えば、真空蒸着法やスパッタ法のような気相成膜法等により、目的とする陰極３の構成材料からなる導電膜を形成した後、パターニングすることにより得ることができる。
【００９９】
［２−Ｂ］次に、図２（ｂ）に示すように、第２層間絶縁層２６上に、各陰極３を区画するように、隔壁部（バンク）３５を形成する。
隔壁部３５は、第２層間絶縁膜２６上に第１隔壁部３１を形成した後、この第１隔壁部３１上に、第２隔壁部３２を形成することにより得ることができる。
なお、第１隔壁部３１は、陰極３および第２層間絶縁膜２６を覆うように絶縁膜を形成した後、フォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすること等により形成することができる。
【０１００】
また、第２隔壁部３２は、陰極３および第１隔壁部３１を覆うように絶縁膜を形成した後、第１隔壁部３１を得たのと同様にして形成することができる。
ここで、第１隔壁部３１および第２隔壁部３２の構成材料は、耐熱性、撥液性、溶剤耐性、下地層との密着性等を考慮して選択される。
具体的には、第１隔壁部３１の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂のような有機材料や、ＳｉＯ２のような無機材料が挙げられる。
【０１０１】
また、第２隔壁部３２の構成材料としては、第１の隔壁部３１で挙げたものの他、例えば、フッ素系樹脂等を用いることができる。フッ素系樹脂を用いることにより、第２隔壁部３２の耐吸湿性の向上を図ることができる。
また、隔壁部３５の開口の形状は、例えば、円形、楕円形、四角形、六角形等の多角形等、いかなるものであってもよい。
なお、隔壁部３５の開口の形状を多角形とする場合には、角部は丸みを帯びているのが好ましい。これにより、電子輸送層５、発光層６、正孔輸送層７を形成する際に、電子輸送層５形成用の液状材料、前述した吐出液（分散液）、正孔輸送層７形成用の液状材料を、隔壁部３５の内側の空間の隅々にまで確実に供給することができる。
【０１０２】
［２−Ｃ］次に、図２（ｃ）に示すように、各陰極３上に、すなわち、各陰極３を覆うように、それぞれ、電子輸送層５、発光層６および正孔輸送層７をこの順で積層するように形成する（第２の工程）。
以下、電子輸送層５、発光層６および正孔輸送層７の形成方法について説明する。
［２−Ｃａ］まず、各陰極３上に、それぞれ、電子輸送層５を形成する。
この電子輸送層５は、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等を用いた気相プロセスや、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット法、バブルジェット法等の液滴吐出法等を用いた液相プロセスにより形成することができるが、中でも、液滴吐出法が好ましく、インクジェット法がより好ましい。このような方法を用いることにより、電子輸送層５の薄膜化、画素サイズの微小化を図ることができる。また、電子輸送層形成用の液状材料を、隔壁部３５の内側に選択的に供給することができるため、液状材料のムダを省くことができる。なお、液滴吐出法により電子輸送層５を形成する場合、液滴の吐出方法は、後述する発光層６の形成方法で、詳述するのと同様な方法を採用するのが好ましい。
【０１０３】
電子輸送層５の形成を液相プロセスにて行う場合、陰極３上に電子輸送層形成用の液状材料を付与した後、付与された電子輸送層形成用の液状材料に含まれる溶媒または分散媒を除去（脱溶媒または脱分散媒）する。
この脱溶媒または脱分散媒は、減圧雰囲気に放置する方法、熱処理による方法、窒素ガスのような不活性ガスのフローによる方法、これらを組み合わせた方法等が挙げられる。
用いる液状材料は、前述したような電子輸送材料を溶媒または分散媒に溶解または分散することにより調製される。
【０１０４】
また、液状材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、四塩化炭素、エチレンカーボネイト等の各種無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
なお、陰極３上に供給された液状材料は、流動性が高く（粘性が低く）、水平方向（面方向）に広がろうとするが、陰極３が隔壁部３５により囲まれているため、所定の領域以外に広がることが阻止され、電子輸送層５（発光素子１）の輪郭形状が正確に規定される。
【０１０５】
［２−Ｃｂ］次に、各電子輸送層５（受け面）上に、それぞれ、発光層６を形成する。
この発光層６は、前述した吐出液（分散液）を用いた液滴吐出法（ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法）により形成する。これにより、発光層６の薄膜化、画素サイズの微小化を図ることができる。また、吐出液（分散液）を、隔壁部３５の内側に選択的に供給することができるため、吐出液（分散液）のムダを省くことができる。また、本発明において、吐出液は、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下のものであるため、液滴吐出時において不可避的に発生するミストによる悪影響が効果的に防止される。
以下、液滴吐出法による吐出液（分散液）の付与方法について、より詳細に説明する。
吐出液（分散液）の吐出（吐出工程）は、図３〜図６に示すような液滴吐出装置を用いて行う。
【０１０６】
図３に示すように、本工程で用いる液滴吐出装置１００は、吐出液（分散液）２を保持するタンク１０１と、タンク１０１内の吐出液（分散液）２を送液するチューブ（送液チューブ）１１０と、チューブ１１０を介してタンク１０１から吐出液（分散液）２が供給される吐出走査部１０２とを備える。吐出走査部１０２は、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１４をキャリッジ１０５に搭載してなる液滴吐出手段１０３と、液滴吐出手段１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４（移動手段）と、隔壁部３５、陰極３、電子輸送層５が形成されたＴＦＴ回路基板２０（以下、単に「ＴＦＴ回路基板２０」とも言う。）を保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８（移動手段）と、制御手段１１２とを備えている。タンク１０１と、液滴吐出手段１０３における複数の液滴吐出ヘッド１１４とは、チューブ（送液チューブ）１１０で連結されており、チューブ（送液チューブ）１１０を介して、タンク１０１から複数の液滴吐出ヘッド１１４のそれぞれに吐出液（分散液）２が圧縮空気によって供給される。そして、チューブ（送液チューブ）１１０と液滴吐出手段１０３（液滴吐出ヘッド１１４）とは、図示しない接続部材で接続されている。チューブ（送液チューブ）１１０と液滴吐出手段１０３（液滴吐出ヘッド１１４）との接続部には、送液に伴う振動のエネルギーが加わりやすく、また、搬送される吐出液（分散液）２中に、空気等が混入する可能性の高い箇所である。このため、接続部材の構成材料としては、伸縮性に富み、ガス透過率が低く、防振特性、耐水性、耐酸性、耐アルカリ性、耐候性等に優れるという特徴を有するブチルゴムが、一般に用いられている。接続部材を構成する材料として用いられるブチルゴムとしては、例えば、ブチル０６５，２６８,２６９，３６５（ＥＸＸＯＮ ＭＯＢＩＬＥ社）、１０１−３，３０１，４０２（ＬＡＮＸＥＳＳ社）、ＪＳＲブチル（ＪＳＲ社）等が挙げられる。
【０１０７】
第１位置制御装置１０４は、制御手段１１２からの信号に応じて、液滴吐出手段１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで液滴吐出手段１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御手段１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。
【０１０８】
ステージ１０６は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な平面を有する。また、ステージ１０６は、吐出液（分散液）２を付与すべきＴＦＴ回路基板２０をその平面上に固定、または保持できるように構成されている。
上述のように、液滴吐出手段１０３は、第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は、第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対する液滴吐出ヘッド１１４の相対位置が変わる（ステージ１０６に保持されたＴＦＴ回路基板２０と、液液滴吐出手段１０３とが相対的に移動する）。
制御手段１１２は、吐出液（分散液）２を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。
【０１０９】
図４に示すように、液滴吐出手段１０３は、それぞれほぼ同じ構造を有する複数の液滴吐出ヘッド１１４と、これらの液滴吐出ヘッド１１４を保持するキャリッジ１０５とを有している。本実施形態では、液滴吐出手段１０３に保持される液滴吐出ヘッド１１４の数は８個である。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、後述する複数のノズル１１８が設けられた底面を有している。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４のこの底面の形状は、２つの長辺と２つの短辺とを有する多角形である。液滴吐出手段１０３に保持された液滴吐出ヘッド１１４の底面はステージ１０６側を向いており、さらに、液滴吐出ヘッド１１４の長辺方向と短辺方向とは、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに平行である。
【０１１０】
図５に示すように、液滴吐出ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル（ノズル孔）１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが所定の値となるように配置されている。ノズルピッチＨＸＰの具体的な値は、特に限定されないが、例えば、５０〜９０μｍとすることができる。ここで、「液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、液滴吐出ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【０１１１】
本実施形態では、液滴吐出ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとをなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、間隔を空けて並行に配置されている。そして、本実施形態においては、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、９０個のノズル１１８が一定間隔ＬＮＰでＸ軸方向に一列に並んでいる。ＬＮＰの具体的な値は、特に限定されないが、１００〜１８０μｍとすることができる。
ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さだけＸ軸方向の正の方向（図５の右方向）にずれている。このため、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さである。
【０１１２】
したがって、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。もちろん、液滴吐出ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。液滴吐出ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。この場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。さらに、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。
【０１１３】
さて、本実施形態では、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズル１１８からなるため、１つの液滴吐出ヘッド１１４は１８０個のノズル１１８を有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは吐出液（分散液）２が吐出されない。このため、液滴吐出ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が吐出液（分散液）２を吐出するノズルとして機能する。
【０１１４】
図４に示すように、液滴吐出手段１０３においては、複数個の上記液滴吐出ヘッド１１４がＸ軸方向に沿って２列に配置されている。一方の列の液滴吐出ヘッド１１４と他方の列の液滴吐出ヘッド１１４とは、休止ノズル分を考慮して、Ｙ軸方向から見て一部重なるように配置されている。これにより、液滴吐出手段１０３においては、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さに渡り、吐出液（分散液）２を吐出するノズル１１８が前記ノズルピッチＨＸＰでＸ軸方向に連続するように構成されている。
【０１１５】
本実施形態の液滴吐出手段１０３では、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さ全体をカバーするように液滴吐出ヘッド１１４を配置しているが、本発明における液滴吐出手段は、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さの一部をカバーするようなものでもよい。
ノズル（ノズル孔）１１８の孔径は、５〜１００μｍであるのが好ましく、１０〜５０μｍであるのがより好ましい。
【０１１６】
図６（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８とを備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、タンク１０１から孔１３１を介して供給される吐出液（分散液）２が常に充填される液たまり１２９が位置している。
【０１１７】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２とによって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル（ノズル孔）１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から吐出液（分散液）２が供給される。
【０１１８】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとを含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から吐出液（分散液）２が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に吐出液（分散液）２が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【０１１９】
液滴吐出ヘッド１１４（特に、ノズルプレート１２８の近傍）においては、一般に、吐出液供給部（分散液供給部）とヘッド駆動部分とは、弾性材料としての接続材料で構成されている。吐出液（分散液）供給部とヘッド駆動部分との接続が不十分であると、吐出液（分散液）の液漏れが生じたり、キャビティ１２０内の吐出液（分散液）２に適正な圧力が加わらなくなったり、外部からキャビティ１２０内にガスが混入してしまうなどの問題が発生する可能性がある。このような問題の発生を防止するために、接続材料としては、通常、フロロシリコーンゴムが用いられる。このようなフロロシリコーンゴムとしては、例えば、Ｓｉｌａｓｔｉｃ ＬＳ（ダウコーニング社）、ＦＥ２５１-Ｕ，２６１-Ｕ，２７１-Ｕ，２７３-Ｕ,２８１-Ｕ（信越シリコーン社）、Ｆｌｕｏｒｓｉｌｉｃｏｎｅ ６１４００２（ＥＲＩＫＳ社）等が挙げられる。
【０１２０】
制御手段１１２（図３参照）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される吐出液（分散液）２の体積が、制御手段１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。また、制御手段１１２は、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８とを設定することでもできる。
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４とを含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つの液滴吐出ヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。
【０１２１】
上記のような液滴吐出装置１００を用いて、表示装置１０が有する複数色の発光素子１の発光層６に対応する吐出液（分散液）２を、電子輸送層５上（隔壁部３５で囲まれた領域（セル）内）に付与する。上記のような装置を用いることにより、電子輸送層５上（隔壁部３５で囲まれた領域（セル）内）に、効率よくかつ選択的に吐出液（分散液）２を付与することができる。なお、図示の構成では、液滴吐出装置１００は、吐出液（分散液）２を保持するタンク１０１、チューブ１１０等を１色分しか有していないが、これらの部材を、表示装置１０が有する複数色の発光素子１の発光層６に対応する複数種の吐出液（分散液）分有するものであってもよい。また、表示装置１０の製造においては、複数色の吐出液（分散液）２に対応する複数の液滴吐出装置１００を用いてもよい。
【０１２２】
本工程においてノズル１１８から吐出される吐出液２の温度は、２０〜４０℃であるのが好ましく、２５〜３０℃であるのがより好ましい。
また、本工程においてノズル１１８から吐出される吐出液２の液滴量（１滴あたりの体積）は、０．５〜１００ｐＬであるのが好ましく、１〜２０ｐＬであるのがより好ましい。
なお、本発明では、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として、ピエゾ素子の代わりに静電アクチュエータを用いるものでもよい。また、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として電気熱変換素子を用い、この電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して吐出液（分散液）を吐出する構成（バブルジェット法）であってもよい。
【０１２３】
電子輸送層５上（受け面）に吐出液（分散液）２を付与した後、付与された吐出液（分散液）２に含まれる分散媒の少なくとも一部を除去（脱分散媒）する（分散媒除去工程）。
この脱分散媒の方法は、特に限定されないが、例えば、吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を加熱する方法、吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を減圧雰囲気下に置く方法、これらを組み合わせた方法（例えば、第１の温度で、減圧雰囲気下に吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を減圧雰囲気下に置いた後、雰囲気を大気圧に戻し、大気圧下で加熱する方法等）等が挙げられる。
【０１２４】
本工程での処理温度（加熱温度）は、６０〜２８０℃であるのが好ましく、１１０〜１９０℃であるのがより好ましい。
上記のように、本発明では、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、量子ドットと上記のような分散媒とを含む分散液（吐出液）を所定パターンで吐出する点に特徴を有するものである。これにより、欠陥のない薄膜パターンを容易かつ確実に形成することができる。特に、発光素子においては、その厚さのばらつきが発光色（輝度等）に大きな影響を与えるため、均一な厚さの薄膜パターンを形成することが求められるが、本発明によれば、微細なパターン、特に、微細でかつ大面積に設けられたパターンであっても、精密に形成することができる。また、発光素子においては、均一な膜厚を有しておらず、例えば、いわゆる抜け等の欠陥が存在すると、電流や電圧の集中により発光素子の寿命が著しく低下するという問題が発生するが、本発明によれば、抜け等の欠陥も確実に防止することができる。上記のようなことから、本発明によれば、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供すること、色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。
また、本発明では、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以下であるため、液滴吐出時におけるミストの発生による環境への負荷、人体等への悪影響等を確実に防止することができる。
【０１２５】
また、本発明によれば、成膜時にマスク等を用いたり、成膜後に膜の一部を除去することなく、目的とするパターンを、直接形成することができるため、薄膜の生産性に優れており、この点からも環境への負荷を小さくすることができる。また、薄膜パターンを形成すべきワーク（受け面）に対して、非接触で、パターンを形成することができるため、曲面状のワークに対しても、好適に薄膜パターンを形成することができる。また、ワーク（受け面）が凹凸を有する場合であっても、好適に薄膜パターンを形成することができる。また、複数種の液体（分散液）を用いた薄膜パターンの形成を好適に行うことができるため、カラー画像を表示に用いられる発光素子の形成に好適に適用することができる。また、薄膜パターンの形成に用いる液体（分散液）を、無駄なく利用することができる（成膜後にその一部を除去する必要がない）ため、高価な分散液を用いた場合であっても、薄膜パターンの生産コストの上昇を抑制することができる。また、分散媒除去工程における分散媒の除去速度の調整により、形成される膜の形状（厚さの分布）の制御が容易である。また、本発明においては、薄膜パターンを形成する際に、不純物が混入してしまうのを確実に防止することができる。
【０１２６】
また、本発明においては、分散媒除去工程において、受け面に付着させた分散液（吐出液）の頂部付近と底部（受け面との接触面）付近とで温度差を生じさせることにより、分散液中において、対流を生じさせることができる。これにより、形成される薄膜パターンの厚さの制御をより好適に行うことができる。また、本発明においては、例えば、所定量の前記分散液の液滴を受け面上に吐出し、その後、この液滴から分散媒を除去することにより、受け面上の液滴が付与された部位において、縁部付近の膜厚が中央部付近の膜厚よりも大きい薄膜を形成し、さらにその後、前記縁部で囲まれた領域（凹部）に、前記分散液の液滴を吐出し、その後、この液滴から分散媒を除去してもよい。これにより、形成される薄膜パターンの厚さの制御をさらに好適に行うことができる。
これに対し、量子ドットを含む分散液を用いたとしても液滴吐出法を適用しない場合や、従来の有機ＥＬ材料を液滴吐出法に適用した場合等には、本発明のような優れた効果は得られない。
【０１２７】
すなわち、量子ドットを含む分散液を用いたとしても液滴吐出法を適用しない場合には、一般に、所定のパターンを形成する際には、それに対応するマスクが必要となり、パターン形成の効率が著しく低下するとともに、省資源の観点からも好ましくない。また、形成すべきパターンが大型のものである場合、マスクの位置精度を十分に高いものとするのが困難となるという問題点もある。また、真空蒸着等の気相成膜法によりパターン形成を行う場合、大型のパターン形成には、大型の装置が必要となり、パターンの大型に伴う生産コストの上昇が著しく、近年の画像表示装置の大型化の流れに対応するのも困難である。また、一般的な印刷法を用いた場合、形成されるパターンの形状を精確に制御するのが困難である。特に、画像表示装置が有する発光素子等のように、多数の微小領域が、規則正しく配置し、さらに、各部位での厚さのばらつきが十分に小さいことが求められるようなパターンの形成においては、従来の印刷法を適用するのは極めて困難である。
【０１２８】
また、従来の有機ＥＬ材料を用いた場合には、形成される薄膜パターン（発光素子）の耐久性に問題がある。また、従来の有機ＥＬ材料等を液滴吐出法に適用した場合には、本発明で得られる、上述したような効果（例えば、優れた液切れ、液滴吐出量の安定性等）は得られない。
また、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が多すぎると、液滴吐出時に発生するミストにより、環境や人体等に悪影響を及ぼす危険性が高い。
【０１２９】
［２−Ｃｃ］次に、各発光層６上（発光層６の電子輸送層５に対向する側の面とは反対の面側）に、正孔輸送層７を形成する。
この正孔輸送層７も、上述したような電子輸送層５の形成方法で述べたような気相プロセスや液相プロセスにより形成することができるが、前述したのと同様の理由から、液滴吐出法が好ましく、インクジェット法がより好ましい。
このような方法により正孔輸送層７を形成する場合、液状材料の組成を変更する以外は、前述したような電子輸送層５、発光層６の形成と同様な条件とすることができる。
【０１３０】
［２−Ｄ］次に、図２（ｄ）に示すように、各正孔輸送層７上および各隔壁部３５上に、共通電極としての陽極８を形成する（第３の工程）。
この陽極８は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等を用いた気相プロセスや、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット法、バブルジェット法等の液滴吐出法等を用いた液相プロセス等で形成することができる。
【０１３１】
なお、これらの方法は、陽極８の構成材料の熱安定性や、溶媒への溶解性等の物理的特性および／または化学的特性を考慮して選択される。
なお、本実施形態では、正孔輸送層７および隔壁部３５の全面に、陽極８を形成することから、マスクを用いる必要がないため、これらの形成には、スパッタ法、真空蒸着法を用いた気相プロセス等が好適に用いられる。
このような工程を経て、発光素子１を製造することができる。
【０１３２】
［３］ 次に、図２（ｅ）に示すように、上基板９を用意し、この上基板９により陽極８を覆うようにして、陽極８と上基板９とを接合する。
この陽極８と上基板９との接合は、陽極８と上基板９との間に、エポキシ系の接着剤を介在させた状態で、この接着剤を乾燥させること等により行うことができる。
この上基板９は、発光素子１を保護する保護基板としての機能を有する。
以上のような工程を経て、表示装置１０を製造することができる。
【０１３３】
＜電子機器＞
上記のような表示装置（本発明の画像表示装置）１０は、各種の電子機器に組み込むことができる。
図７は、本発明の画像表示装置を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
【０１３４】
このパーソナルコンピュータ１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部が前述の表示装置１０で構成されている。
図８は、本発明の画像表示装置を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）（電子機器）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、表示部を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部が前述の表示装置１０で構成されている。
【０１３５】
図９は、本発明の画像表示装置を適用したディジタルスチルカメラ（電子機器）の構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【０１３６】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部が前述の表示装置１０で構成されている。
【０１３７】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【０１３８】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【０１３９】
なお、本発明の電子機器は、上述したパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、携帯電話機（ＰＨＳも含む）、ディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。また、本発明の電子機器は、表示機能を有しない発光機能のみを有するものであってもよい。中でも、テレビは、近年の表示部の大型化の傾向が顕著であり、また、フルハイビジョン対応等の高解像度化も浸透しつつある。このような大型の表示部（例えば、対角線長８０ｃｍ以上の表示部）を有するテレビでは、多数配置された画素間での特性のばらつきが目立ちやすく、また、このような特性のばらつきを十分に抑制するのが困難であった。また、テレビの高解像度化に伴い、上記のような問題はより顕著なものとなっていた。また、近年、カラーフィルターを用いた液晶テレビが普及しつつあるが、自発光型ではなくカラーフィルターを用いたテレビにおいては、十分な輝度を得るためには、消費電力が大きくなる傾向が顕著であり、また、十分な視野角を確保するのが困難である等の問題があった。また、有機ＥＬや無機ＥＬを採用した自発光型の表示素子を有するテレビ等においては、耐久性や、発光効率、色純度、発光輝度等に問題があった。これに対し、本発明をテレビに適用した場合、上記のような問題の発生を確実に防止することができる。すなわち、上記のような大型の表示部を有するテレビに適用した場合に、本発明の効果は、より顕著に発揮される。また、上記のような大型の表示部を有するテレビでは、発光素子を形成するのに用いる吐出液量が多く、また、微細なパターンで液滴吐出を行う必要があるため、ミストの発生量も多くなる傾向が顕著であるが、このような用途に適用する場合であっても、ミストによる環境や人体等への悪影響を確実に防止することができる。この点からも、上記のような大型の表示部を有するテレビに適用した場合に、本発明の効果は、より顕著に発揮されると言える。
以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４０】
例えば、前述した実施形態では、トップエミッション型の発光素子について代表的に説明したが、本発明の発光素子は、ボトムエミッション構造を有するものであってもよい。
また、本発明の薄膜パターン形成方法は、任意の目的の工程が１または２以上追加されていてもよい。
また、本発明では、量子ドットによる発光は、前述したような電子と正孔との再結合（電圧の印加）によるものに限定されず、例えば、紫外線の照射によるものであってもよい。紫外線による発光を利用した発光素子、画像表示装置、電子機器としては、例えば、プラズマディスプレイパネルでの発光に用いられているような構成のもの等が挙げられる。
【０１４１】
また、本発明の吐出液セットは、互いに粒径の異なる量子ドットを含む吐出液を、少なくとも２種備えたものであればよく、例えば、量子ドットを含む複数種の吐出液に加え、量子ドットを含まない吐出液を備えたものであってもよい。
また、発光素子、画像表示装置、電子機器を構成する各部は、同様の機能を発揮する任意のものと置換、または、その他の構成を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、本発明の吐出液、吐出液セット、薄膜パターン形成方法、薄膜を、発光素子、画像表示装置、および画像表示装置を備えた電子機器に適用する場合について、中心に説明したが、本発明は、太陽電池、照明装置等、いかなる用途に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１４２】
［１］吐出液セットの作製
（実施例１）
＜赤色発光層形成用吐出液（分散液）＞
以下に述べるような方法により、ＩｎＰで構成されたコア領域の外表面にＺｎＳで構成されたシェル領域（厚さ：０．１ｎｍ）が設けられた構造の量子ドットが、分散媒としてのデカリン中に分散した赤色発光層形成用の吐出液（分散液）を調製した。吐出液（分散液）中において、量子ドットは、その表面に、分散剤としてのトリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）およびトリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）が付着したものであった。また、量子ドットの粒径は、１０．２ｎｍであった。また、吐出液（分散液）中における量子ドットの含有率は４．７ｗｔ％、吐出液（分散液）中における分散媒の含有率は９４．９ｗｔ％であった。また、量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量は、３０ｐｐｍであった。
【０１４３】
まず、空冷式のリービッヒ還流管と反応温度調節のための熱電対とを装着した透明の３口フラスコに５ｇのＴＯＰＯ／ＴＯＰ（体積比にして１：１．５の混合物）を入れ、真空に２０分間引いた後、Ａｒで３回パージを行い、三口フラスコ内の酸素等の不純物を除いた。次に、この液体（第２の液体）を、マグネチックスターラーで攪拌しながら乾燥アルゴンガス雰囲気で３４５℃に加熱した。
一方、別途、０．８ｇのＩｎＣｌ３と、０．５ｇのＰ（ＮＭｅ２）３と５ｇのＴＯＰＯ／ＴＯＰ（体積比にして１：１の混合物）とを、アルミニウム箔ですき間なく包んで遮光したガラス瓶中で混合することにより、第１の液体を調製した。
【０１４４】
次に、この第１の液体（２．０ｍＬ）を、上記の第２の液体の入ったフラスコに注射器で一気に注入し、その後、温度を３００℃で１時間保った。
次に、加熱を停止し、液温が５０℃まで低下した時点で、精製トルエン（２ｍＬ）を注射器で加えて希釈し、さらに、１−ブタノールと脱水メタノールとの混合液（体積比にして１：１の混合物）：１０ｍｌを注入して不溶物を生じさせた。この不溶物を遠心分離（３０００ｒｐｍ）し、デカンテーションにより上澄み液を除去して分離し、室温にて１４時間真空乾燥することにより、ＩｎＰで構成された粒子（コア領域となるべき粒子）を得た。
【０１４５】
次に、空冷式のリービッヒ還流管と反応温度調節のための熱電対とを装着した褐色の３口フラスコに１５ｇのＴＯＰＯを入れ、マグネチックスターラーで攪拌しながら、１５０℃に加熱し、この状態で、減圧と乾燥Ａｒガスによる復圧とを繰り返し行った。
上記のような減圧・復圧を伴う加熱処理を２時間行った後、液温を１００℃にし、ここに、上記のようにして調製したＩｎＰで構成された粒子（０．０９４ｇ）とトリオクチルホスフィン（１．５ｇ）との混合物を添加した。
【０１４６】
次に、この液体（第３の液体）を、減圧下、１００℃に加熱した状態で、マグネチックスターラーで８０分間攪拌した。その後、液温を１８０℃にして、乾燥Ａｒガスで復圧した。
次に、この１８０℃に加熱された第３の液体の入ったフラスコに、別途調製した第４の液体を、注射器で２０分間かけて滴下し、その後、液温を９０℃まで低下させ１時間攪拌し、さらに室温で１４時間攪拌した後、９０℃で３時間攪拌した。ここで、第４の液体としては、乾燥窒素雰囲気のグローブボックス内で調製された、ジエチル亜鉛の１規定（１Ｎ）のｎ−ヘキサン溶液（１．３４ｍＬ）と、ビス（トリメチルシリル）スルフィド（０．２３９ｇ）と、トリオクチルホスフィン（９ｍＬ）との混合物を用いた。
【０１４７】
次に、加熱を停止し、ｎ−ブタノール（８ｍＬ）を反応液に加え、室温まで冷却した。
次に、乾燥窒素気流下、上記室温まで冷却した液体を１６ｍＬのメタノール中に滴下した。
その後、この液体中に含まれる不溶物を遠心分離し、デカンテーションにより上澄み液を除去して分離し、室温にて真空乾燥することにより、ＩｎＰで構成されたコア領域の外表面にＺｎＳで構成されたシェル領域が設けられた粉末状の量子ドットを得た。
その後、得られた量子ドットを、酸化防止剤としてのビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートを含むデカリンに分散させることにより、赤色発光層形成用の吐出液（分散液）を得た。
【０１４８】
＜緑色発光層形成用吐出液（分散液）＞
トリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）の代わりにトリデシルホスフィンオキシド（ＴＤＰ）を用い、ＴＯＰＯとＴＤＰとの使用比率比を体積比で１：０．８とし、量子ドットの粒径を４．１ｎｍとした以外は、上記赤色発光層形成用吐出液と同様にして、緑色発光層形成用の吐出液（分散液）を調製した。
【０１４９】
＜青色発光層形成用吐出液（分散液）＞
トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、トリデシルホスフィンオキシド（ＴＤＰ）に加えて、トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）を用い、ＴＯＰＯとＴＤＰとＴＰＰとの使用比率比を体積比で１：０．８：０．２とし、量子ドットの粒径を２．１ｎｍとした以外は、上記赤色発光層形成用吐出液と同様にして、青色発光層形成用の吐出液（分散液）を調製した。
このようにして、３種の吐出液（分散液）からなる吐出液セットを得た。
【０１５０】
（実施例２〜１０）
吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）の組成を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にして、３種の吐出液（分散液）からなる吐出液セットを作製した。なお、量子ドットがＺｎＳにＩｎとＡｇをドープした化合物であるＺｎＡｇＩｎＳで構成されたものについては、コア粒子（ＺｎＡｇＩｎＳ）の形成において、Ａｇ源としてＡｇＣｌを用い、Ｚｎ源としてジエチルジチオカルバミン酸亜鉛（（Ｃ２Ｈ５）２ＮＣＳ２Ｚｎ）を用い、Ｓ源としてトリオクチルホスフィンを用いて粒子を形成し、その後シェル領域の形成を行わず、得られた粒子をそのまま量子ドットした。
【０１５１】
（比較例１〜４）
吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）の組成を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にして、３種の吐出液（分散液）からなる吐出液セットを作製した。
（比較例５）
本比較例では、吐出液セットを構成する吐出液として、有機発光材料を含むものを用いた。以下、吐出液セットを構成する各吐出液について説明する。
【０１５２】
＜赤色発光層形成用吐出液＞
有機発光材料としてのナイルレッドと、デカリンとを混合することにより、赤色発光層形成用の吐出液を得た。得られた吐出液中におけるナイルレッドの含有率は５．０ｗｔ％、デカリンの含有率は９５．０ｗｔ％であった。
＜緑色発光層形成用吐出液＞
有機発光材料としてのクマリン６と、デカリンとを混合することにより、緑色発光層形成用の吐出液を得た。得られた吐出液中におけるクマリン６の含有率は５．０ｗｔ％、デカリンの含有率は９５．０ｗｔ％であった。
【０１５３】
＜青色発光層形成用吐出液＞
有機発光材料としてのＴＰＢ（１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン）と、デカリンとを混合することにより、青色発光層形成用の吐出液を得た。得られた吐出液中におけるＴＰＢの含有率は５．０ｗｔ％、デカリンの含有率は９５．０ｗｔ％であった。
このようにして、３種の吐出液からなる吐出液セットを得た。
前記各実施例および各比較例で得られた吐出液セットを構成する吐出液は、いずれも、後述する試験、評価に供するまでの間、温度：２５℃、酸素濃度：１０ｐｐｍ以下、湿度：１０％ＲＨ以下の環境下で保存した。
【０１５４】
前記各実施例および各比較例について、吐出液セットを構成する各吐出液の構成を、表１、表２、表３にまとめて示した。なお、表中、赤色発光層形成用吐出液を「Ｒ吐出液」、緑色発光層形成用吐出液を「Ｇ吐出液」、青色発光層形成用吐出液を「Ｂ吐出液」、トリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）を「ｃ」、トリデシルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）を「ｄ」、トリブチルホスフィン（ＴＢＰ）を「ｅ」、デカリンを「Ａ」、テトラリンを「Ｂ」、ブトキシエタノールを「Ｃ」、オクタン酸エチルを「Ｄ」、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを「Ｅ」、ビス（２−ブトキシエチル）エーテルを「Ｆ」、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートを「Ｇ」、１，３−ブチレングリコールジアセテートを「Ｈ」、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートを「Ｉ」、トリエチレングリコールジメチルエーテルを「Ｊ」、ナイルレッドを「ＮＲ」、クマリン６を「Ｃ６」、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートを「ｆ」、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートを「ｇ」、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノールを「ｈ」で示した。また、表中、「吐出液の粘度」の欄には、振動式粘度計を用いて、ＪＩＳ Ｚ８８０９に準拠して測定された２５℃における吐出液の粘度を示し、「沸点」の欄には、分散媒の常圧（１気圧）における沸点を示し、「蒸気圧」の欄には、分散媒の２５℃における蒸気圧を示した。
【０１５５】
【表１】
【０１５６】
【表２】
【０１５７】
【表３】
【０１５８】
［２］ミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、それぞれ、１０００００発（１０００００滴）の液滴の連続吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。
【０１５９】
上記のような液滴吐出時および液滴吐出終了後２時間経過するまで、以下のような方法により、チャンバー内の雰囲気中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒを回収し、これらの総量を求めた。
すなわち、１０×１０ｃｍの板ガラスをチャンバー内に設置された液滴吐出装置の吐出領域の外周から２０ｃｍの位置に水平に設置し、分散液の吐出時および吐出後２時間経過するまで、大気中に霧散した分散液のミストを補足した。補足された分散液を分散液と同じ溶剤で回収し、面積あたりのＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒ量を計測した。また、吐出直後のチャンバー内の雰囲気を回収し焼成・分析することで飛散しているＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒ総量を求めた。
以上のようにして得られた雰囲気中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒ量について、以下の５段階の基準に従い、評価した。
【０１６０】
Ａ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．００１μｇ未満。
Ｂ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．００１μｇ以上０．０１μｇ未満。
Ｃ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．０１μｇ以上０．０５μｇ未満。
Ｄ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．０５μｇ以上０．０８μｇ未満。
Ｅ：雰囲気中に含まれていたＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量の総和が、０．０８μｇ以上。
【０１６１】
［３］液滴吐出の安定性評価（安定吐出性評価）
［３．１］着弾位置精度評価
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、１００００発（１００００滴）の液滴の連続吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。液滴吐出ヘッドの中央部付近の指定したノズルから吐出された１００００発の液滴について、着弾した各液滴の中心位置の中心狙い位置からのズレ量ｄの平均値を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。
Ａ：ズレ量ｄの平均値が０．０５μｍ未満。
Ｂ：ズレ量ｄの平均値が０．０５μｍ以上０．１０μｍ未満。
Ｃ：ズレ量ｄの平均値が０．１０μｍ以上。
【０１６２】
［３．２］液滴吐出量の安定性評価
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、１００００発（１００００滴）の液滴の連続吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。液滴吐出ヘッドの左右両端の指定の２つのノズルについて、吐出された液滴の総重量を求め、上記２つのノズルから吐出された液滴の平均吐出量の差の絶対値ΔＷ［ｎｇ］を求めた。このΔＷの、液滴の目標吐出量ＷＴ［ｎｇ］に対する比率（ΔＷ／ＷＴ）を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。ΔＷ／ＷＴの値が小さいほど、液滴吐出量の安定性に優れていると言える。
Ａ：ΔＷ／ＷＴの値が、０．０２５未満。
Ｂ：ΔＷ／ＷＴの値が、０．０２５以上０．６２５未満。
Ｃ：ΔＷ／ＷＴの値が、０．６２５以上。
【０１６３】
［３．３］間欠印字性能評価
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置および前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、各吐出液について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、１０００発（１０００滴）の液滴の連続吐出を行い、その後、３０秒間、液滴の吐出を中断した（１シーケンス目）。その後、同様に、液滴の連続吐出、および、滴々の吐出の中断の操作を繰り返し行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。液滴吐出ヘッドの中央部付近の指定したノズルについて、１シーケンス目に吐出された液滴の平均重量Ｗ１［ｎｇ］と、１０シーケンス目に吐出された液滴の平均重量Ｗ１０［ｎｇ］とを求めた。そして、Ｗ１とＷ１０との差の絶対値の、液滴の目標吐出量ＷＴ［ｎｇ］に対する比率（｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴ）を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が小さいほど、間欠印字性能（液滴吐出量の安定性）に優れていると言える。
Ａ：｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が、０．０２５未満。
Ｂ：｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が、０．０２５以上０．６２５未満。
Ｃ：｜Ｗ１−Ｗ１０｜／ＷＴの値が、０．６２５以上。
【０１６４】
［３．４］連続吐出試験
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した図３〜図６に示すような液滴吐出装置、前記各実施例および各比較例の吐出液セットを用いて、５０％ＲＨの環境下で、液滴吐出装置を２４時間、連続で運転させることにより、吐出液セットを構成する各吐出液の吐出を行った。この際のチャンバー内の設定温度は２５℃、レンジは０．５℃（２５±０．２５℃）とした。
連続運転後における、液滴吐出ヘッドを構成するノズルの目詰まりの発生率（［（目詰まりノズル数）／（全ノズル数）］×１００）を求め、ノズルの目詰まりが発生しているものについては、可塑材料で構成されたクリーニング部材により、目詰まりの解消が可能であるか否かを調べた。その結果を、以下の４段階の基準に従い、評価した。
【０１６５】
Ａ：ノズルの目詰まりの発生がない。
Ｂ：ノズルの目詰まりの発生率が０．５％未満（ただし、ゼロを除く）であり、かつ、クリーニングによる目詰まりの解消が可能。
Ｃ：ノズルの目詰まりの発生率が０．５％以上１．０％未満であり、かつ、クリーニングによる目詰まりの解消が可能。
Ｄ：ノズルの目詰まりの発生率が１．０％以上、または、クリーニングによる目詰まりの解消が不可能。
なお、上記の評価は、各実施例および各比較例について、同様の条件で行った。
【０１６６】
［４］画像表示装置の製造
前記各実施例および各比較例で作製した吐出液（吐出液セット）を用いて、上述したような方法により、図１、図２に示すような画像表示装置を製造した。このとき、各実施例、各比較例で吐出液を変更した以外は、同様の条件で、画像表示装置を製造した。
特に、発光層の形成は、以下のようにして行った。
【０１６７】
すなわち、上述したような方法により、隔壁部、電子輸送層が形成されたＴＦＴ回路基板を用意した。
次に、図３〜図６に示すような液滴吐出装置を用いて、３種の吐出液（赤色発光層形成用吐出液、緑色発光層形成用吐出液、青色発光層形成用吐出液）の吐出を行った。液滴吐出装置が有する液滴吐出ヘッドのノズル（ノズル孔）の孔径は、２０μｍであった。
【０１６８】
液滴吐出時における吐出液の液温は、２５℃となるように調整した。また、吐出液の液滴量（１滴あたりの体積）は、各色に対応する吐出液とも、１２ｐＬであった（吐出工程）。このとき、各セル内において、複数種の吐出液が混ざり合わないように、各セルについて、それぞれ、１種類の吐出液を付与した。
次に、室温（２０℃）下、５０Ｐａまで減圧した雰囲気下で１０分間静置し、その後、雰囲気圧を大気圧まで徐々に戻し、さらに、大気圧下、１５０℃で１０分間の熱処理を施すことにより、電子輸送層の表面に、発光層が形成された。形成された発光層は、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層のいずれも、２０ｎｍであった。この際の雰囲気中における酸素濃度は、１０ｐｐｍであった。
上記のような方法を用いて、各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて、それぞれ、１０００枚の画像表示装置を製造した。
なお、上記［２］〜［４］の試験、評価での薄膜パターン形成は、いずれも、酸素濃度：１０ｐｐｍ以下、湿度：１０％ＲＨ以下の環境下で行った。
【０１６９】
［５］画像表示装置の評価
上記のようにして得られた各画像表示装置を用いて、以下のような評価を行った。
［５．１］耐熱性の評価
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、１〜１０枚目に製造された画像表示装置について、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を、分光光度計（大塚電子社製、ＭＣＰＤ３０００）を用いて求めた。
【０１７０】
次に、これらの画像表示装置を、雰囲気温度：６０℃、相対湿度：９０％の環境下に５００時間放置した。
その後、徐冷した画像表示装置について、上記と同様の条件で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を求めた。そして、各画像表示装置について、上記のような熱処理の前後での色差（ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示系での色差ΔＥ＊ａｂ）を求めた。そして、前記各実施例および各比較例の各１０枚の画像表示装置についての色差の平均値について、以下の３段階の基準に従い、評価した。この色差の平均値が小さいほど、吐出液（吐出液セット）の耐熱性が優れていると言える。
Ａ：色差の平均値が３未満。
Ｂ：色差の平均値が３以上５未満。
Ｃ：色差の平均値が５以上。
【０１７１】
［５．２］耐光性の評価
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、１１〜２０枚目に製造された画像表示装置について、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を、分光光度計（大塚電子社製、ＭＣＰＤ３０００）を用いて求めた。
次に、これらの画像表示装置を、雰囲気温度：６０℃、相対湿度：５０％の環境下に置き、画像表示部に、波長：３４０ｎｍの紫外線を、放射度０．２５Ｗ／ｍ２、４５ｋＪ／ｍ２の条件で、２４０時間照射した。
【０１７２】
その後、上記と同様の条件で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際の色度を求めた。そして、各画像表示装置について、上記のような紫外線照射の前後での色差（ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示系での色差ΔＥ＊ａｂ）を求めた。そして、前記各実施例および各比較例の各１０枚の画像表示装置についての色差の平均値について、以下の３段階の基準に従い、評価した。この色差の平均値が小さいほど、吐出液（吐出液セット）の耐光性が優れていると言える。
Ａ：色差の平均値が３未満。
Ｂ：色差の平均値が３以上５未満。
Ｃ：色差の平均値が５以上。
【０１７３】
［５．３］色むら、濃度むら、光漏れ
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、１０００枚目に製造された画像表示装置を用いて、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った状態で目視による観察を行い、各部位での色むら、濃度むらの発生状況を、以下の５段階の基準に従い、評価した。
【０１７４】
Ａ：色むら、濃度むら、光漏れが全く認められない。
Ｂ：色むら、濃度むら、光漏れがほとんど認められない。
Ｃ：色むら、濃度むら、光漏れがわずかに認められる。
Ｄ：色むら、濃度むら、光漏れがはっきりと認められる。
Ｅ：色むら、濃度むら、光漏れが顕著に認められる。
なお、上記の評価においては、各画像表示装置について、同様の条件で表示を行い、同様の条件で観察、測定を行った。
【０１７５】
［５．４］個体間での特性差
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、９９０〜９９９枚目に製造された画像表示装置を用意し、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示、白色の単色表示を行い、分光光度計（大塚電子社製、ＭＣＰＤ３０００）を用いて測色した。その結果から、各実施例および各比較例について、それぞれ、９９０〜９９９枚目に製造された画像表示装置で最大となる色差（Ｌａｂ表示系での色差ΔＥ）を求め、以下の５段階の基準に従い、評価した。
【０１７６】
Ａ：色差（ΔＥ）が２未満。
Ｂ：色差（ΔＥ）が２以上３未満。
Ｃ：色差（ΔＥ）が３以上４未満。
Ｄ：色差（ΔＥ）が４以上５未満。
Ｅ：色差（ΔＥ）が５以上。
なお、上記の評価においては、各画像表示装置について、同様の条件で観察、測定を行った。
【０１７７】
［５．５］色再現範囲の評価
前記各実施例および各比較例の吐出液（吐出液セット）を用いて製造された画像表示装置のうち、それぞれ、２１〜３０枚目に製造された画像表示装置について、暗室で、赤色の単色表示、緑色の単色表示、青色の単色表示を行った際のｘｙ表示系による色度（Ｒ（ｘｙ）、Ｇ（ｘｙ）、Ｂ（ｘｙ））を求め、ＮＴＳＣ比を算出した。前記各実施例および各比較例の各１０枚の画像表示装置についてＮＴＳＣ比の平均値を求め、以下の３段階の基準に従い、評価した。ＮＴＳＣ比が高いほど、色再現範囲が広いと言える。
【０１７８】
Ａ：ＮＴＳＣ比（平均値）が７８％以上。
Ｂ：ＮＴＳＣ比（平均値）が７０以上７８％未満。
Ｃ：ＮＴＳＣ比（平均値）が７０％未満。
これらの結果を表４、表５、表６に示す。表中、「ミスト中に含まれるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの総量」、「液滴吐出の安定性評価」に関しては、「赤色」の欄に、赤色発光層形成用吐出液についての評価を示し、「緑色」の欄に、緑色発光層形成用吐出液についての評価を示し、「青色」の欄に、青色発光層形成用吐出液についての評価を示した。また、「画像表示装置の評価」に関しては、「赤色」の欄に、赤色の単色表示時についての評価を示し、「緑色」の欄に、緑色の単色表示時についての評価を示し、「青色」の欄に、青色の単色表示時についての評価を示した。
【０１７９】
【表４】
【０１８０】
【表５】
【０１８１】
【表６】
【０１８２】
表４、表５、表６から明らかなように、本発明では、液滴吐出に伴い、雰囲気中に拡散（飛散）するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量が極めて少ないものであった。また、本発明では、耐久性（耐熱性、耐光性）に優れるとともに、色再現域の広い画像を表示することができた。また、本発明では、色むら、濃度むら、光漏れの発生が抑制されており、個体間での特性のばらつきも小さかった。これに対し、各比較例では、満足な結果が得られなかった。特に、量子ドット中のＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が所定値以上の比較例１〜４では、雰囲気中に拡散（飛散）するＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの量が本発明に比べて極端に多いものであった。また、比較例５では、液滴吐出の安定性が低く、また、得られた画像表示装置の耐久性が低く、個体間での特性差が大きかった。また、比較例５で得られた画像表示装置は、色むら等が顕著で、色再現範囲も狭かった。
【図面の簡単な説明】
【０１８３】
【図１】本発明の発光装置を適用したアクティブマトリックス型表示装置の一例を示す縦断面図である。
【図２】図１に示すアクティブマトリックス型表示装置の製造方法を説明するための図（縦断面図）である。
【図３】発光層（薄膜）の形成に用いる液滴吐出装置を示す斜視図である。
【図４】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出手段をステージ側から観察した図である。
【図５】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドの底面を示す図である。
【図６】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は断面斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図７】本発明の画像表示装置を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の画像表示装置を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【図９】本発明の画像表示装置を適用したディジタルスチルカメラ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１８４】
１…発光素子 ２…吐出液（分散液） ３…陰極 ５…電子輸送層 ６…発光層 ７…正孔輸送層 ８…陽極 ９…上基板 １０…表示装置 ２０…ＴＦＴ回路基板 ２１…基板 ２２…回路部 ２３…下地保護層 ２４…駆動用ＴＦＴ ２４１…半導体層 ２４２…ゲート絶縁層 ２４３…ゲート電極 ２４４…ソース電極 ２４５…ドレイン電極 ２５…第１層間絶縁層 ２６…第２層間絶縁層 ２７…配線 ３１…第１隔壁部 ３２…第２隔壁部 ３５…隔壁部 １００…液滴吐出装置 １０１…タンク １０２…吐出走査部 １０３…液滴吐出手段 １０４…第１位置制御装置 １０５…キャリッジ １０６…ステージ １０８…第２位置制御装置 １１０…チューブ（送液チューブ） １１２…制御手段 １１４…液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド） １１６Ａ、１１６Ｂ…ノズル列 １１８…ノズル（ノズル孔） １２０…キャビティ １２２…隔壁 １２４…振動子 １２４Ａ、１２４Ｂ…電極 １２４Ｃ…ピエゾ素子 １２６…振動板 １２７…吐出部 １２８…ノズルプレート １２９…液たまり １３０…供給口 １３１…孔 １１００…パーソナルコンピュータ １１０２…キーボード １１０４…本体部 １１０６…表示ユニット １２００…携帯電話機 １２０２…操作ボタン １２０４…受話口 １２０６…送話口 １３００…ディジタルスチルカメラ １３０２…ケース（ボディー） １３０４…受光ユニット １３０６…シャッタボタン １３０８…回路基板 １３１２…ビデオ信号出力端子 １３１４…データ通信用の入出力端子 １４３０…テレビモニタ １４４０…パーソナルコンピュータ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液であって、
微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含み、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする吐出液。
【請求項２】
吐出液中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、５．０ｐｐｍ以下である請求項１に記載の吐出液。
【請求項３】
吐出液中における前記量子ドットの含有率が、０．００５〜６．０ｗｔ％である請求項１または２に記載の吐出液。
【請求項４】
前記分散媒が、デカリン、テトラリン、ブトキシエタノール、オクタン酸エチル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ドデカン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、および、１，３−ブチレングリコールジアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものである請求項１ないし３のいずれかに記載の吐出液。
【請求項５】
吐出液中における前記分散媒の含有率は、７０〜９８ｗｔ％である請求項１ないし４のいずれかに記載の吐出液。
【請求項６】
前記量子ドットは、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、Ｉｎ、Ａｇまたはこれらの混合物で構成されたものである請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出液。
【請求項７】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液を複数種備えた吐出液セットであって、
前記吐出液は、微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含むものであり、
前記量子ドットの粒径が、前記吐出液間で異なるものであり、かつ、
複数種の前記吐出液のそれぞれにおいて、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする吐出液セット。
【請求項８】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる吐出液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる吐出工程と、
前記受け面に付着した前記吐出液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する分散媒除去工程とを有し、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする薄膜パターン形成方法。
【請求項９】
前記液滴吐出法は、インクジェット法である請求項８に記載の薄膜パターンの形成方法。
【請求項１０】
異なる粒径の前記量子ドットを含む複数種の前記吐出液を用いる請求項８または９に記載の薄膜パターンの形成方法。
【請求項１１】
前記吐出液を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する請求項８ないし１０のいずれかに記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項１２】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られたことを特徴とする薄膜。
【請求項１３】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られた発光層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項１４】
請求項１３に記載の発光素子を備えたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の画像表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液であって、
微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含み、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする吐出液。
【請求項２】
吐出液中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、５．０ｐｐｍ以下である請求項１に記載の吐出液。
【請求項３】
吐出液中における前記量子ドットの含有率が、０．００５〜６．０ｗｔ％である請求項１または２に記載の吐出液。
【請求項４】
前記分散媒が、デカリン、テトラリン、ブトキシエタノール、オクタン酸エチル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ドデカン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、および、１，３−ブチレングリコールジアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものである請求項１ないし３のいずれかに記載の吐出液。
【請求項５】
吐出液中における前記分散媒の含有率は、７０〜９８ｗｔ％である請求項１ないし４のいずれかに記載の吐出液。
【請求項６】
前記量子ドットは、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、Ｉｎ、Ａｇまたはこれらの混合物で構成されたものである請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出液。
【請求項７】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に用いられる吐出液を複数種備えた吐出液セットであって、
前記吐出液は、微粒子状の量子ドットと、前記量子ドットを分散させる分散媒とを含むものであり、
前記量子ドットの粒径が、前記吐出液間で異なるものであり、かつ、
複数種の前記吐出液のそれぞれにおいて、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする吐出液セット。
【請求項８】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる吐出液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる吐出工程と、
前記受け面に付着した前記吐出液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する分散媒除去工程とを有し、
前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が、１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする薄膜パターン形成方法。
【請求項９】
前記液滴吐出法は、インクジェット法である請求項８に記載の薄膜パターンの形成方法。
【請求項１０】
異なる粒径の前記量子ドットを含む複数種の前記吐出液を用いる請求項８または９に記載の薄膜パターンの形成方法。
【請求項１１】
前記吐出液を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する請求項８ないし１０のいずれかに記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項１２】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られたことを特徴とする薄膜。
【請求項１３】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、前記量子ドット中におけるＣｄ、Ｐｂ、Ｃｒの含有率の総量が１００ｐｐｍ以下の量子ドットと、当該量子ドットを分散させる分散媒とを含む分散液を吐出して、吐出された前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られた発光層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項１４】
請求項１３に記載の発光素子を備えたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の画像表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１０−９９９５（Ｐ２０１０−９９９５Ａ）
【公開日】平成２２年１月１４日（２０１０．１．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１６９４１２（Ｐ２００８−１６９４１２）
【出願日】平成２０年６月２７日（２００８．６．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月１４日（２０１０．１．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月２７日（２００８．６．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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