摺動面構造及び軸受
【課題】摺動条件を変更することなく流体潤滑状態にある２面間の摩擦を低減することができる摺動面構造及び軸受を提供する。
【解決手段】相対面する第１摺動面１ａと第２摺動面とを有し、液体の動圧作用で第１摺動面１ａと第２摺動面とが非接触で摺動する摺動面構造である。摺動面の少なくとも一方に、摺動面間の相対的な摺動によって液体を所定方向に案内する液体案内溝３を有する案内部４を設ける。案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分の少なくとも一方に、液体に対するぬれ性が案内部４よりも小さい疎液性部分５が案内部４の下流側に設けられている。
【解決手段】相対面する第１摺動面１ａと第２摺動面とを有し、液体の動圧作用で第１摺動面１ａと第２摺動面とが非接触で摺動する摺動面構造である。摺動面の少なくとも一方に、摺動面間の相対的な摺動によって液体を所定方向に案内する液体案内溝３を有する案内部４を設ける。案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分の少なくとも一方に、液体に対するぬれ性が案内部４よりも小さい疎液性部分５が案内部４の下流側に設けられている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低摩擦下で摺動する摺動面構造及び軸受に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
低い摺動抵抗（摩擦）の下で２つの面が摺動するものとして、例えば、流体動圧発生溝を伴ったすべり軸受がある（特許文献１）。このような摺動面構造は、図９に示すような第１摺動面１０１ａを有する第１部材１０１と、第２摺動面１０２ａを有する第２部材１０２とを備えている。第１部材１０１の摺動面１０１ａには、図１０に示すように、外径側に周方向に沿ったスパイラル状の液体案内溝１０３が形成されている。そして、第１部材１０１及び／又は第２部材１０２が軸心を中心とする回転により、摺動面間の相対的な摺動によって液体案内溝１０３が外径側１０４から中心側１０５に向かって液体を流動させる。この流動に伴う動圧により、相対する２つの摺動面が流体を介することで直接接触せず平行運動する状態（流体潤滑状態）又はこれに近い状態を生じさせる。このように摺動する２面が離れていると、２面間の摩擦が小さくなる。この状態下での摩擦は、流体の粘度と、摺動面の表面形状に依存する。また、流体潤滑状態において、２面間の距離を大きくすることで摩擦を小さくすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−８４００９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記特許文献１のような滑り軸受において、摺動面間の摩擦をより小さくするために、流体を粘性の低いものとすると、低密度となって摺動面間の距離が小さくなり、摩擦低減効果が得られない。また、摺動面間の距離を大きくするために、流体の引き込み量を増大させようとすると、摺動速度を上げる必要があるが、摺動速度の設定の自由度は、対象物品によって異なっている。このように、摺動面間の摩擦を低減させるために、流体特性や摺動速度等の摺動条件を変更しても、その低減効果に限界があり、十分に摩擦低減効果が得られなかった。
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑みて、摺動条件を変更することなく流体潤滑状態にある２面間の摩擦を低減することができる摺動面構造及び軸受を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の摺動面構造は、相対面する第１摺動面と第２摺動面とを有し、液体の動圧作用で前記第１摺動面と第２摺動面とが非接触状態下で摺動する摺動面構造において、前記摺動面の少なくとも一方に、摺動面間の相対的な摺動によって液体を所定方向に案内する液体案内溝を有する案内部を設け、前記案内部によって案内された液体に接する摺動面部分の少なくとも一方に、液体に対するぬれ性が前記案内部よりも小さい疎液性部分が前記案内部の下流側に設けられたものである。「第１摺動面と第２摺動面とが非接触状態下で摺動する」とは、第１摺動面と第２摺動面との全面が非接触である場合だけではなく、問題となるような摺動抵抗を生じない程度に第１摺動面と第２摺動面との一部が接触する場合も含む。
【０００７】
本発明の摺動面構造によれば、第１摺動面と第２摺動面の少なくとも一方の、案内部によって案内された液体に接する摺動面部分の液体に対するぬれ性を、前記案内部の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。すなわち、案内部の親液性を、前記摺動面部分の親液性よりも高くする（前記摺動面部分の疎液性を、案内部の疎液性よりも高くする）。この場合、ぬれ性の小さい疎液性部分は、液体案内溝を有しない領域であることから、液体案内溝にて液体を引き込み案内する能力は維持しながら、疎液性部分では、摺動面と液体との間に摺動抵抗を生じさせるような相互作用を小さくすることができて、摺動面間の摩擦を小さくすることができる。
【０００８】
第１摺動面と第２摺動面の少なくとも一方に、疎液性の高い物質が被覆されることにより、液体に対するぬれ性を小さくしたり、親液性の高い物質が被覆されることにより、液体に対するぬれ性を大きくしたりできる。
【０００９】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１及び第２摺動面は円形平坦面からなり、周方向に沿って前記案内部を設け、案内部よりも下流側に前記疎液性部分を設けるものとできる。
【００１０】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１及び第２摺動面の少なくとも一方はリング状平坦面からなり、前記案内部は、内径側へ液体を案内する外径側のリング状の第１部と、外径側へ液体を案内する内径側のリング状の第２部とを有し、この第１部と第２部との間に前記疎液性部分を設けるものとできる。
【００１１】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１摺動面を円筒体の内周面とするとともに、前記第２摺動面を、前記円筒体に内嵌される円筒体乃至円柱体の外周面とし、摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることができる。
【００１２】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１摺動面と第２摺動面とが直線状に摺動するものであり、摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることができる。
【００１３】
本発明の軸受は、前記本発明の摺動面構造を備えたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の摺動面構造及びこれを用いた軸受では、案内溝にて液体を引き込み案内する能力は維持するとともに、疎液性部分では、摺動面と液体との相互作用を小さくすることができるため、摺動速度や流体等の摺動条件を変更することなく、摺動面間の摩擦を低減することができる。
【００１５】
疎液性の高い物質を被覆したり、親液性の高い物質を被覆したりすると、簡単な方法で摺動面のぬれ性を大きくしたり小さくしたりできる。
【００１６】
本発明の摺動面構造は、平面状、円弧面等の種々のタイプの摺動面に適用することができて、様々な分野に応用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１実施形態を示す摺動面構造の第１部材及び第２部材の斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態を示す摺動面構造の第１部材の平面図である。
【図３】本発明の第２実施形態を示す摺動面構造の第１部材及び第２部材の斜視図である。
【図４】本発明の第２実施形態を示す摺動面構造の第１部材の平面図である。
【図５】本発明の第３実施形態を示す摺動面構造の簡略断面図である。
【図６】本発明の第４実施形態を示す摺動面構造の簡略斜視図である。
【図７】実施例に使用したリングオンディスク試験装置の簡略正面図である。
【図８】摺動トルクの摺動速度依存性を示すグラフ図である。
【図９】従来の摺動面構造の第１部材及び第２部材の斜視図である。
【図１０】従来の摺動面構造の第１部材の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下本発明の実施の形態を図１〜図６に基づいて説明する。
【００１９】
本発明の第１実施形態の摺動面構造は、第１部材１の第１摺動面１ａと第２部材２の第２摺動面２ａとが液体を介して相対的に摺動するものであって、例えば、ポンプやオイルシール、撹拌装置、電動機等の摺動部に使用することができる。この場合、図１に示すように、第１部材１及び第２部材２は炭化珪素（ＳｉＣ）からなるディスク（円盤体）としており、第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとを円形平坦面としている。第１及び第２部材１、２は、ディスクの他、リング体や円筒体、円柱体とすることもでき、摺動面１ａ、２ａは円形以外の形状とすることができる。ここで、液体とは、水、油、液体金属等の種々の液体を選択でき、この摺動面構造が用いられる用途に応じて種々変更することができる。本実施形態では、液体として水（蒸留水）を用いている。
【００２０】
第１部材１の摺動面１ａには、図２に示すように、外径側に周方向に沿ってスパイラル状の液体案内溝３（溝ピッチ７００ｎｍ、溝の深さ２００ｎｍ）が形成されている。本実施形態では、液体案内溝３は、フェムト秒レーザを照射することにより形成している。
【００２１】
第１部材１及び／又は第２部材２が軸心を中心とする回転により、摺動面間の相対的な摺動によって液体案内溝３が液体を外方側から中心側に向かって案内する場合、摺動面の中心側に液体を流動させる。この流動に伴う動圧により、第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとの間に隙間が形成されて第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとが非接触で摺動する。第１摺動面１ａにおいて、液体案内溝３が形成されて、液体を外方側から中心側に供給する部位、すなわち、図２のドット部よりも外径側の領域を案内部４としている。
【００２２】
第１摺動面１ａにおいて、案内部４よりも内径側で、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分（図２のドット部に対応する部位）の液体に対するぬれ性を、案内部４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分５としている。すなわち、第１摺動面１ａの案内部４に親液性を高くする処理を施すとともに、疎液性部分５に疎液性を高くする処理を施している。
【００２３】
親液性を高くする処理は、大気雰囲気で低圧水銀ランプを第１摺動面１ａの案内部４に照射するＵＶオゾン処理とした。この場合、第２摺動面２ａにおいて、第１摺動面１ａの案内部４と対面する部位にも親液性を高くする処理を施すのが望ましい。これにより、案内部４への液体の流入が促進され、安定した動圧効果を得ることができる。
【００２４】
疎液性を高くする処理は、例えば、疎液性の高い物質を第１摺動面１ａの摺動面部分５に被覆するものである。本実施形態では、ＵＶオゾン処理を施した後、トリメチルシリル基の自己組織化単分子膜コーティングを行っている。これにより、表面が水に対して疎液性の高いトリメチルシリル基で被覆される。この場合、第２摺動面２ａにおいて、第１摺動面１ａの疎液性部分５と対面する部位にも疎液性を高くする処理を施してもよい。
【００２５】
これにより、第１摺動面１ａは、案内部４で親水性が高くなり、疎液性部分５で疎水性が高くなる。このような摺動面構造において、第１部材１が軸心を中心として第２部材に対して相対的に回転すると、前記したように、液体の動圧作用で第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとが非接触で摺動する。この場合、ぬれ性の小さい疎液性部分５は、液体案内溝３を有しない領域であることから、液体案内溝３にて液体を引き込む能力はそのまま維持しながら、疎液性部分５では、摺動面と液体との相互作用を小さくすることができて、摺動面間の摩擦を小さくすることができる。
【００２６】
摺動面間の摩擦を効果的に小さくするためには、液体案内溝３は、溝ピッチ（隣接する溝底間の寸法）を１００ｎｍ〜１ｍｍ、深さを１ｎｍ〜１００μｍの範囲とするのが望ましい。
【００２７】
このように、本発明の摺動面構造は、液体案内溝３にて液体を引き込み案内する能力は維持するとともに、疎液性部分５では、摺動面１ａ、２ａと液体との相互作用を小さくすることができるため、摺動速度や流体等の摺動条件を変更することなく、負荷容量を維持したまま摺動面間の摩擦を低減することができる。
【００２８】
疎液性の高い物質が被覆されることにより液体に対するぬれ性を小さくすることができるため、簡単な方法で摺動面１ａの疎液性を高くすることができる。
【００２９】
図３及び図４は、本発明の第２実施形態の摺動面構造である。この場合、図３に示すように、第１部材１１はリング体、第２部材１２はディスク（円盤体）として第１摺動面１１ａと第２摺動面１２ａとを円形平坦面としている。
【００３０】
第１部材１１の摺動面１１ａには、図４に示すように、内径側へ液体を案内する液体案内溝１３ａを設けるとともに、液体案内溝１３ａよりも内径側に、外径側へ液体を案内する液体案内溝１３ｂが設けられている。このように、案内部１４は、外径側のリング状の第１部１４ａ（図４のドット部よりも外径側）と、内径側のリング状の第２部１４ｂ（図４のドット部よりも内径側）とからなる。この案内部１４には、親液性を高くする処理が施されている。
【００３１】
第１部材１１ａが軸心を中心として第２部材１２ａに対して相対的に回転し、液体案内溝１３が、摺動面間の案内部１４ａ、１４ｂに挟まれた部位（図４のドット部に対応する部位）に向かって、負荷容量を低下させることなく液体を流動させることができる。第１摺動面１１ａにおいて、案内部１４によって案内された液体に接する摺動面部分（図４のドット部）には疎液性を高くする処理が施されており、この摺動面部分の液体に対するぬれ性を、案内部１４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分１５としている。
【００３２】
図５は、本発明の第３実施形態の摺動面構造である。この場合、図５に示すように、第１摺動面２１ａを円筒体（第１部材２１）の内周面とするとともに、第２摺動面２２ａを、円筒体に内嵌される円筒体乃至円柱体（第２部材２２）の外周面としている。
【００３３】
第２部材２２の摺動面２２ａには、図５に示すように、軸方向両端部側に周方向に沿って、液体案内溝２３を有する案内部２４ａ、２４ｂを設けている。案内部２４ａ、２４ｂには、親液性を高くする処理が施されている。第２部材２２が軸心を中心として第１部材２１に対して相対的に回転し、液体案内溝２３が、摺動面間の案内部２４ａ、２４ｂに挟まれた部位、すなわち第２摺動面２２ａの軸方向中間部に対応する部位（図５のドット部に対応する部位）に向かって液体を流動させることができる。第２摺動面２２ａにおいて、案内部２４によって案内された液体に接する摺動面部分（図５のドット部）には疎液性を高くする処理が施されており、この摺動面部分の液体に対するぬれ性を、案内部２４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分２５としている。
【００３４】
図６は、本発明の第４実施形態の摺動面構造である。この場合、図６に示すように、第１摺動面３１ａを立方体（第１部材３１）の端面とするとともに、第２摺動面３２ａを長尺部材（第２部材３２）の端面としている。第１摺動面３１ａと第２摺動面３２ａとは、相対的に平行に摺動するものである。
【００３５】
第２部材３２の第２摺動面３２ａには、図６に示すように、摺動方向と直交する方向の両端部側に、液体案内溝３３を有する案内部３４ａ、３４ｂを摺動方向に沿って設けている。案内部３４ａ、３４ｂには、親液性を高くする処理が施されている。第１部材３１が第２部材３２に対して相対的に直線状に移動し、液体案内溝３３が、摺動面間の案内部３４ａ、３４ｂに挟まれた部位、すなわち第２摺動面３２ａの摺動方向と直交する方向の中央部（図６のドット部に対応する部位）に向かって液体を流動させることができる。第２摺動面３２ａにおいて、案内部３４によって案内された液体に接する摺動面部分（図６のドット部）には疎液性を高くする処理が施されており、この摺動面部分の液体に対するぬれ性を、案内部３４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分３５としている。
【００３６】
このように、本発明の摺動面構造は、平面状、円弧面等の種々のタイプ、またはそれらが組み合わされた摺動面に適用することができて、様々な分野に応用することが可能である。
【００３７】
以上、本発明の実施形態につき説明したが、本発明は前記実施形態に限定されることなく種々の変形が可能であって、例えば、第１部材１と第２部材２とでどちらを移動させてもよく、相対的な移動が生じていれば両方を移動させてもよい。また、案内部４が設けられる摺動面において、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分のぬれ性を、案内部４のぬれ性よりも小さくしたが、案内部４が同一平面上に設けられていない、あるいは、同一部材上に設けられていない摺動面において、前記摺動面部分のぬれ性を小さくしてもよい。案内部４は移動側、固定側のいずれに設けてもよく、移動側と固定側との両方に設けてもよい。案内部４は摺動方向に連続する必要はなく、摺動方向に間隔をおいて案内部４としてもよいし、その間の部分を疎液性部分５としてもよい。実施形態では、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分の全面を疎液性部分５としたが、前記摺動面部分の一部を疎液性部分５としてもよい。
【００３８】
第１部材１及び第２部材２は、共にリング体としてもよい。液体案内溝３の断面形状は、四角形、多角形、半円形等種々の形状とすることができ、平面視で直線状であっても曲線状であってもよい。液体案内溝３の深さ・ピッチ等サイズ、液体案内溝３の形成方法、第１部材１や第２部材２の材質は種々のものとできる。親液性を高くする処理や疎液性を高くする処理は、実施形態の方法、材料に限られない。例えば、親液性を高める処理として、親液性の高い物質を被覆してもよい。また、親液性あるいは疎液性を高くする処理として、プラズマや電子線、電磁波を照射してもよい。
【００３９】
また、実施形態では、案内部４に親液性を高くする処理を行い、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分に疎液性を高くする処理を行ったが、案内部４と前記摺動面部分との間でぬれ性に差が生じれば、いずれか一方の処理を行うだけでもよい。
【実施例】
【００４０】
試料は、第１部材としてリング４２、第２部材としてディスク４３を用いた。リング４２及びディスク４３はＳｉＣ焼結体であり、摺動面は研磨している。試料表面の２０μｍ角を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定した表面粗さはＲａ９．６ｎｍであった。回転側の試料であるリング４２のサイズは、外径１６ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚さ５ｍｍである。固定側の試料であるディスク４３は、平面視で２箇所の端面を有する円形状となっており、サイズは直径２０ｍｍ、厚さ３ｍｍである。
【００４１】
リング４２表面の外径側及び内径側には、フェムト秒レーザを照射することにより液体案内溝を形成した。すなわち、チタンサファイアレーザ（中心波長λ＝８００ｎｍ、パルス幅τ＝１２０ｆｓ、パルス繰り返し周波数Ｆ＝１ｋＨｚ、最大照射エネルギＥ＝４００μＪ／ｐｕｌｓｅ）を半波長板（ＨＷＰ）と偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）により出力調整し、レーザの光点がオーバーラップするようにリング４２を載せたステージを回転させ走査照射した。液体案内溝は、幅３ｍｍのリング４２に対し、外径及び内径から５００μｍの領域に形成した。また、液体案内溝の方向は、接線方向に対してそれぞれ４５°及び−４５°となるように形成し、リング４２の回転によって水がリング中央の液体案内溝未形成部に引き込まれるようにしている。
【００４２】
本実施例では、リング４２の液体案内溝未形成部のみのぬれ性を相違させた。具体的には、大気雰囲気で低圧水銀ランプを照射するＵＶオゾン処理を３０ｍｉｎ行い、試料表面の親水性を高くする処理を行った（ＵＶオゾン処理）。その後、５ｍｉｎ以内にビーカ内にリングを固定し、リング下方に設置した容器にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を滴下後ふたをし、室温で気化させ１ｈｒリングと反応させた。その後、内径１１ｍｍ、外径１５ｍｍのステンレス製リングを撥水性膜を保護するマスクとしてリング４２の液体案内溝未形成部に置き、再度ＵＶオゾン処理を３０ｍｉｎ施すことで、液体案内溝形成部のみ親水性が高くなるようにした。これにより、液体案内溝未形成部の撥水性を高くした（ＨＭＤＳ処理）。ＵＶオゾン処理及びＨＭＤＳ処理した基板の蒸留水に対する接触角はそれぞれ７．１°、７８．７°であった。これにより、液体案内溝未形成部のぬれ性に差を持たせることができた。
【００４３】
前記ＵＶオゾン処理、ＨＭＤＳ処理を行った試料において、図７に示すようなリングオンディスク試験を行った。リングオンディスク試験とは、平面ディスク上にリング状の試験片を負荷をかけ接触させ、同軸で回転摺動させた場合の摩擦特性を調べる試験法である。本実施例では、回転式粘弾性測定装置（レオメータ）を使用した。リング４２とディスク４３との２面間に印加する垂直荷重は、回転機構を支えるＺ軸ステージ４０を上下させ印加し、試料容器４５の下にあるロードセル４６の値を参照しフィードバック制御されて一定に保持される。回転機構には、エンコーダが付属したエアベアリング式モータが使用されており、摺動速度を指定値に保つために必要なモータ電流値から摺動トルクを算出した。なお、潤滑剤４４としては、蒸留水を用いた。
【００４４】
リング４２の裏面には十字の溝が形成されており、上部モータ４１に連結させた治具にある十字状の凸部を嵌合させることによりトルクを伝達した。ディスク４３は、内径２５ｍｍのステンレス製の試料容器４５の中に設置した。この容器４５には、ディスク４３と同形のやや大きな溝を形成しており、その溝にディスクをはめ込むことでリング回転時に受けるトルクにより固定される機構とした。
【００４５】
本実施例では、荷重を５Ｎ、１０Ｎと変化させ、それぞれの荷重において回転速度を３００ｒａｄ／ｓ（１．８６ｍ／ｓ）から１００ｒａｄ／ｓ（０．６２０ｍ／ｓ）まで変化させた。
【００４６】
図８に、リングオンディスク試験の摺動トルクを示す。摺動トルクは、一定荷重下で摺動速度の低下とともに減少しており、いずれの場合も流体潤滑状態にあると考えられる。従って、リング−ディスク２面間は接触することなく摺動していると考えられる。一方、各荷重においてＨＭＤＳ処理を行った場合の方が、ＵＶオゾン処理を行った場合よりも摺動トルクが小さいことが確認された。ＵＶオゾン処理を行った場合の摺動トルクをＴuvとし、ＨＭＤＳ処理を行った場合の摺動トルクをＴHMDSとすると、例えば荷重５Ｎの場合では、摺動速度１．８６ｍ／ｓにおいて、摩擦低減率Ｒ＝（Ｔuv−ＴHMDS）／Ｔuvは約４％となり、本実施例の中で最も高く、摺動速度０．６２０ｍ／ｓで約３％である。このように、液体案内溝未形成部のぬれ性を液体案内溝形成部のぬれ性よりも小さくすると、摺動面間の摩擦を効果的に低減できることがわかった。
【符号の説明】
【００４７】
１ａ、１１ａ、２１ａ、３１ａ 第１摺動面
２ａ、１２ａ、２２ａ、３２ａ 第２摺動面
３、１３、２３、３３ 液体案内溝
４、１４、２４、３４ 案内部
５、１５、２５、３５ 疎液性部分
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低摩擦下で摺動する摺動面構造及び軸受に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
低い摺動抵抗（摩擦）の下で２つの面が摺動するものとして、例えば、流体動圧発生溝を伴ったすべり軸受がある（特許文献１）。このような摺動面構造は、図９に示すような第１摺動面１０１ａを有する第１部材１０１と、第２摺動面１０２ａを有する第２部材１０２とを備えている。第１部材１０１の摺動面１０１ａには、図１０に示すように、外径側に周方向に沿ったスパイラル状の液体案内溝１０３が形成されている。そして、第１部材１０１及び／又は第２部材１０２が軸心を中心とする回転により、摺動面間の相対的な摺動によって液体案内溝１０３が外径側１０４から中心側１０５に向かって液体を流動させる。この流動に伴う動圧により、相対する２つの摺動面が流体を介することで直接接触せず平行運動する状態（流体潤滑状態）又はこれに近い状態を生じさせる。このように摺動する２面が離れていると、２面間の摩擦が小さくなる。この状態下での摩擦は、流体の粘度と、摺動面の表面形状に依存する。また、流体潤滑状態において、２面間の距離を大きくすることで摩擦を小さくすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−８４００９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記特許文献１のような滑り軸受において、摺動面間の摩擦をより小さくするために、流体を粘性の低いものとすると、低密度となって摺動面間の距離が小さくなり、摩擦低減効果が得られない。また、摺動面間の距離を大きくするために、流体の引き込み量を増大させようとすると、摺動速度を上げる必要があるが、摺動速度の設定の自由度は、対象物品によって異なっている。このように、摺動面間の摩擦を低減させるために、流体特性や摺動速度等の摺動条件を変更しても、その低減効果に限界があり、十分に摩擦低減効果が得られなかった。
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑みて、摺動条件を変更することなく流体潤滑状態にある２面間の摩擦を低減することができる摺動面構造及び軸受を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の摺動面構造は、相対面する第１摺動面と第２摺動面とを有し、液体の動圧作用で前記第１摺動面と第２摺動面とが非接触状態下で摺動する摺動面構造において、前記摺動面の少なくとも一方に、摺動面間の相対的な摺動によって液体を所定方向に案内する液体案内溝を有する案内部を設け、前記案内部によって案内された液体に接する摺動面部分の少なくとも一方に、液体に対するぬれ性が前記案内部よりも小さい疎液性部分が前記案内部の下流側に設けられたものである。「第１摺動面と第２摺動面とが非接触状態下で摺動する」とは、第１摺動面と第２摺動面との全面が非接触である場合だけではなく、問題となるような摺動抵抗を生じない程度に第１摺動面と第２摺動面との一部が接触する場合も含む。
【０００７】
本発明の摺動面構造によれば、第１摺動面と第２摺動面の少なくとも一方の、案内部によって案内された液体に接する摺動面部分の液体に対するぬれ性を、前記案内部の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。すなわち、案内部の親液性を、前記摺動面部分の親液性よりも高くする（前記摺動面部分の疎液性を、案内部の疎液性よりも高くする）。この場合、ぬれ性の小さい疎液性部分は、液体案内溝を有しない領域であることから、液体案内溝にて液体を引き込み案内する能力は維持しながら、疎液性部分では、摺動面と液体との間に摺動抵抗を生じさせるような相互作用を小さくすることができて、摺動面間の摩擦を小さくすることができる。
【０００８】
第１摺動面と第２摺動面の少なくとも一方に、疎液性の高い物質が被覆されることにより、液体に対するぬれ性を小さくしたり、親液性の高い物質が被覆されることにより、液体に対するぬれ性を大きくしたりできる。
【０００９】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１及び第２摺動面は円形平坦面からなり、周方向に沿って前記案内部を設け、案内部よりも下流側に前記疎液性部分を設けるものとできる。
【００１０】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１及び第２摺動面の少なくとも一方はリング状平坦面からなり、前記案内部は、内径側へ液体を案内する外径側のリング状の第１部と、外径側へ液体を案内する内径側のリング状の第２部とを有し、この第１部と第２部との間に前記疎液性部分を設けるものとできる。
【００１１】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１摺動面を円筒体の内周面とするとともに、前記第２摺動面を、前記円筒体に内嵌される円筒体乃至円柱体の外周面とし、摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることができる。
【００１２】
前記本発明の摺動面構造において、前記第１摺動面と第２摺動面とが直線状に摺動するものであり、摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることができる。
【００１３】
本発明の軸受は、前記本発明の摺動面構造を備えたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の摺動面構造及びこれを用いた軸受では、案内溝にて液体を引き込み案内する能力は維持するとともに、疎液性部分では、摺動面と液体との相互作用を小さくすることができるため、摺動速度や流体等の摺動条件を変更することなく、摺動面間の摩擦を低減することができる。
【００１５】
疎液性の高い物質を被覆したり、親液性の高い物質を被覆したりすると、簡単な方法で摺動面のぬれ性を大きくしたり小さくしたりできる。
【００１６】
本発明の摺動面構造は、平面状、円弧面等の種々のタイプの摺動面に適用することができて、様々な分野に応用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１実施形態を示す摺動面構造の第１部材及び第２部材の斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態を示す摺動面構造の第１部材の平面図である。
【図３】本発明の第２実施形態を示す摺動面構造の第１部材及び第２部材の斜視図である。
【図４】本発明の第２実施形態を示す摺動面構造の第１部材の平面図である。
【図５】本発明の第３実施形態を示す摺動面構造の簡略断面図である。
【図６】本発明の第４実施形態を示す摺動面構造の簡略斜視図である。
【図７】実施例に使用したリングオンディスク試験装置の簡略正面図である。
【図８】摺動トルクの摺動速度依存性を示すグラフ図である。
【図９】従来の摺動面構造の第１部材及び第２部材の斜視図である。
【図１０】従来の摺動面構造の第１部材の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下本発明の実施の形態を図１〜図６に基づいて説明する。
【００１９】
本発明の第１実施形態の摺動面構造は、第１部材１の第１摺動面１ａと第２部材２の第２摺動面２ａとが液体を介して相対的に摺動するものであって、例えば、ポンプやオイルシール、撹拌装置、電動機等の摺動部に使用することができる。この場合、図１に示すように、第１部材１及び第２部材２は炭化珪素（ＳｉＣ）からなるディスク（円盤体）としており、第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとを円形平坦面としている。第１及び第２部材１、２は、ディスクの他、リング体や円筒体、円柱体とすることもでき、摺動面１ａ、２ａは円形以外の形状とすることができる。ここで、液体とは、水、油、液体金属等の種々の液体を選択でき、この摺動面構造が用いられる用途に応じて種々変更することができる。本実施形態では、液体として水（蒸留水）を用いている。
【００２０】
第１部材１の摺動面１ａには、図２に示すように、外径側に周方向に沿ってスパイラル状の液体案内溝３（溝ピッチ７００ｎｍ、溝の深さ２００ｎｍ）が形成されている。本実施形態では、液体案内溝３は、フェムト秒レーザを照射することにより形成している。
【００２１】
第１部材１及び／又は第２部材２が軸心を中心とする回転により、摺動面間の相対的な摺動によって液体案内溝３が液体を外方側から中心側に向かって案内する場合、摺動面の中心側に液体を流動させる。この流動に伴う動圧により、第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとの間に隙間が形成されて第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとが非接触で摺動する。第１摺動面１ａにおいて、液体案内溝３が形成されて、液体を外方側から中心側に供給する部位、すなわち、図２のドット部よりも外径側の領域を案内部４としている。
【００２２】
第１摺動面１ａにおいて、案内部４よりも内径側で、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分（図２のドット部に対応する部位）の液体に対するぬれ性を、案内部４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分５としている。すなわち、第１摺動面１ａの案内部４に親液性を高くする処理を施すとともに、疎液性部分５に疎液性を高くする処理を施している。
【００２３】
親液性を高くする処理は、大気雰囲気で低圧水銀ランプを第１摺動面１ａの案内部４に照射するＵＶオゾン処理とした。この場合、第２摺動面２ａにおいて、第１摺動面１ａの案内部４と対面する部位にも親液性を高くする処理を施すのが望ましい。これにより、案内部４への液体の流入が促進され、安定した動圧効果を得ることができる。
【００２４】
疎液性を高くする処理は、例えば、疎液性の高い物質を第１摺動面１ａの摺動面部分５に被覆するものである。本実施形態では、ＵＶオゾン処理を施した後、トリメチルシリル基の自己組織化単分子膜コーティングを行っている。これにより、表面が水に対して疎液性の高いトリメチルシリル基で被覆される。この場合、第２摺動面２ａにおいて、第１摺動面１ａの疎液性部分５と対面する部位にも疎液性を高くする処理を施してもよい。
【００２５】
これにより、第１摺動面１ａは、案内部４で親水性が高くなり、疎液性部分５で疎水性が高くなる。このような摺動面構造において、第１部材１が軸心を中心として第２部材に対して相対的に回転すると、前記したように、液体の動圧作用で第１摺動面１ａと第２摺動面２ａとが非接触で摺動する。この場合、ぬれ性の小さい疎液性部分５は、液体案内溝３を有しない領域であることから、液体案内溝３にて液体を引き込む能力はそのまま維持しながら、疎液性部分５では、摺動面と液体との相互作用を小さくすることができて、摺動面間の摩擦を小さくすることができる。
【００２６】
摺動面間の摩擦を効果的に小さくするためには、液体案内溝３は、溝ピッチ（隣接する溝底間の寸法）を１００ｎｍ〜１ｍｍ、深さを１ｎｍ〜１００μｍの範囲とするのが望ましい。
【００２７】
このように、本発明の摺動面構造は、液体案内溝３にて液体を引き込み案内する能力は維持するとともに、疎液性部分５では、摺動面１ａ、２ａと液体との相互作用を小さくすることができるため、摺動速度や流体等の摺動条件を変更することなく、負荷容量を維持したまま摺動面間の摩擦を低減することができる。
【００２８】
疎液性の高い物質が被覆されることにより液体に対するぬれ性を小さくすることができるため、簡単な方法で摺動面１ａの疎液性を高くすることができる。
【００２９】
図３及び図４は、本発明の第２実施形態の摺動面構造である。この場合、図３に示すように、第１部材１１はリング体、第２部材１２はディスク（円盤体）として第１摺動面１１ａと第２摺動面１２ａとを円形平坦面としている。
【００３０】
第１部材１１の摺動面１１ａには、図４に示すように、内径側へ液体を案内する液体案内溝１３ａを設けるとともに、液体案内溝１３ａよりも内径側に、外径側へ液体を案内する液体案内溝１３ｂが設けられている。このように、案内部１４は、外径側のリング状の第１部１４ａ（図４のドット部よりも外径側）と、内径側のリング状の第２部１４ｂ（図４のドット部よりも内径側）とからなる。この案内部１４には、親液性を高くする処理が施されている。
【００３１】
第１部材１１ａが軸心を中心として第２部材１２ａに対して相対的に回転し、液体案内溝１３が、摺動面間の案内部１４ａ、１４ｂに挟まれた部位（図４のドット部に対応する部位）に向かって、負荷容量を低下させることなく液体を流動させることができる。第１摺動面１１ａにおいて、案内部１４によって案内された液体に接する摺動面部分（図４のドット部）には疎液性を高くする処理が施されており、この摺動面部分の液体に対するぬれ性を、案内部１４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分１５としている。
【００３２】
図５は、本発明の第３実施形態の摺動面構造である。この場合、図５に示すように、第１摺動面２１ａを円筒体（第１部材２１）の内周面とするとともに、第２摺動面２２ａを、円筒体に内嵌される円筒体乃至円柱体（第２部材２２）の外周面としている。
【００３３】
第２部材２２の摺動面２２ａには、図５に示すように、軸方向両端部側に周方向に沿って、液体案内溝２３を有する案内部２４ａ、２４ｂを設けている。案内部２４ａ、２４ｂには、親液性を高くする処理が施されている。第２部材２２が軸心を中心として第１部材２１に対して相対的に回転し、液体案内溝２３が、摺動面間の案内部２４ａ、２４ｂに挟まれた部位、すなわち第２摺動面２２ａの軸方向中間部に対応する部位（図５のドット部に対応する部位）に向かって液体を流動させることができる。第２摺動面２２ａにおいて、案内部２４によって案内された液体に接する摺動面部分（図５のドット部）には疎液性を高くする処理が施されており、この摺動面部分の液体に対するぬれ性を、案内部２４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分２５としている。
【００３４】
図６は、本発明の第４実施形態の摺動面構造である。この場合、図６に示すように、第１摺動面３１ａを立方体（第１部材３１）の端面とするとともに、第２摺動面３２ａを長尺部材（第２部材３２）の端面としている。第１摺動面３１ａと第２摺動面３２ａとは、相対的に平行に摺動するものである。
【００３５】
第２部材３２の第２摺動面３２ａには、図６に示すように、摺動方向と直交する方向の両端部側に、液体案内溝３３を有する案内部３４ａ、３４ｂを摺動方向に沿って設けている。案内部３４ａ、３４ｂには、親液性を高くする処理が施されている。第１部材３１が第２部材３２に対して相対的に直線状に移動し、液体案内溝３３が、摺動面間の案内部３４ａ、３４ｂに挟まれた部位、すなわち第２摺動面３２ａの摺動方向と直交する方向の中央部（図６のドット部に対応する部位）に向かって液体を流動させることができる。第２摺動面３２ａにおいて、案内部３４によって案内された液体に接する摺動面部分（図６のドット部）には疎液性を高くする処理が施されており、この摺動面部分の液体に対するぬれ性を、案内部３４の液体に対するぬれ性よりも小さくしている。このぬれ性の小さい部分を疎液性部分３５としている。
【００３６】
このように、本発明の摺動面構造は、平面状、円弧面等の種々のタイプ、またはそれらが組み合わされた摺動面に適用することができて、様々な分野に応用することが可能である。
【００３７】
以上、本発明の実施形態につき説明したが、本発明は前記実施形態に限定されることなく種々の変形が可能であって、例えば、第１部材１と第２部材２とでどちらを移動させてもよく、相対的な移動が生じていれば両方を移動させてもよい。また、案内部４が設けられる摺動面において、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分のぬれ性を、案内部４のぬれ性よりも小さくしたが、案内部４が同一平面上に設けられていない、あるいは、同一部材上に設けられていない摺動面において、前記摺動面部分のぬれ性を小さくしてもよい。案内部４は移動側、固定側のいずれに設けてもよく、移動側と固定側との両方に設けてもよい。案内部４は摺動方向に連続する必要はなく、摺動方向に間隔をおいて案内部４としてもよいし、その間の部分を疎液性部分５としてもよい。実施形態では、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分の全面を疎液性部分５としたが、前記摺動面部分の一部を疎液性部分５としてもよい。
【００３８】
第１部材１及び第２部材２は、共にリング体としてもよい。液体案内溝３の断面形状は、四角形、多角形、半円形等種々の形状とすることができ、平面視で直線状であっても曲線状であってもよい。液体案内溝３の深さ・ピッチ等サイズ、液体案内溝３の形成方法、第１部材１や第２部材２の材質は種々のものとできる。親液性を高くする処理や疎液性を高くする処理は、実施形態の方法、材料に限られない。例えば、親液性を高める処理として、親液性の高い物質を被覆してもよい。また、親液性あるいは疎液性を高くする処理として、プラズマや電子線、電磁波を照射してもよい。
【００３９】
また、実施形態では、案内部４に親液性を高くする処理を行い、案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分に疎液性を高くする処理を行ったが、案内部４と前記摺動面部分との間でぬれ性に差が生じれば、いずれか一方の処理を行うだけでもよい。
【実施例】
【００４０】
試料は、第１部材としてリング４２、第２部材としてディスク４３を用いた。リング４２及びディスク４３はＳｉＣ焼結体であり、摺動面は研磨している。試料表面の２０μｍ角を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定した表面粗さはＲａ９．６ｎｍであった。回転側の試料であるリング４２のサイズは、外径１６ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚さ５ｍｍである。固定側の試料であるディスク４３は、平面視で２箇所の端面を有する円形状となっており、サイズは直径２０ｍｍ、厚さ３ｍｍである。
【００４１】
リング４２表面の外径側及び内径側には、フェムト秒レーザを照射することにより液体案内溝を形成した。すなわち、チタンサファイアレーザ（中心波長λ＝８００ｎｍ、パルス幅τ＝１２０ｆｓ、パルス繰り返し周波数Ｆ＝１ｋＨｚ、最大照射エネルギＥ＝４００μＪ／ｐｕｌｓｅ）を半波長板（ＨＷＰ）と偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）により出力調整し、レーザの光点がオーバーラップするようにリング４２を載せたステージを回転させ走査照射した。液体案内溝は、幅３ｍｍのリング４２に対し、外径及び内径から５００μｍの領域に形成した。また、液体案内溝の方向は、接線方向に対してそれぞれ４５°及び−４５°となるように形成し、リング４２の回転によって水がリング中央の液体案内溝未形成部に引き込まれるようにしている。
【００４２】
本実施例では、リング４２の液体案内溝未形成部のみのぬれ性を相違させた。具体的には、大気雰囲気で低圧水銀ランプを照射するＵＶオゾン処理を３０ｍｉｎ行い、試料表面の親水性を高くする処理を行った（ＵＶオゾン処理）。その後、５ｍｉｎ以内にビーカ内にリングを固定し、リング下方に設置した容器にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を滴下後ふたをし、室温で気化させ１ｈｒリングと反応させた。その後、内径１１ｍｍ、外径１５ｍｍのステンレス製リングを撥水性膜を保護するマスクとしてリング４２の液体案内溝未形成部に置き、再度ＵＶオゾン処理を３０ｍｉｎ施すことで、液体案内溝形成部のみ親水性が高くなるようにした。これにより、液体案内溝未形成部の撥水性を高くした（ＨＭＤＳ処理）。ＵＶオゾン処理及びＨＭＤＳ処理した基板の蒸留水に対する接触角はそれぞれ７．１°、７８．７°であった。これにより、液体案内溝未形成部のぬれ性に差を持たせることができた。
【００４３】
前記ＵＶオゾン処理、ＨＭＤＳ処理を行った試料において、図７に示すようなリングオンディスク試験を行った。リングオンディスク試験とは、平面ディスク上にリング状の試験片を負荷をかけ接触させ、同軸で回転摺動させた場合の摩擦特性を調べる試験法である。本実施例では、回転式粘弾性測定装置（レオメータ）を使用した。リング４２とディスク４３との２面間に印加する垂直荷重は、回転機構を支えるＺ軸ステージ４０を上下させ印加し、試料容器４５の下にあるロードセル４６の値を参照しフィードバック制御されて一定に保持される。回転機構には、エンコーダが付属したエアベアリング式モータが使用されており、摺動速度を指定値に保つために必要なモータ電流値から摺動トルクを算出した。なお、潤滑剤４４としては、蒸留水を用いた。
【００４４】
リング４２の裏面には十字の溝が形成されており、上部モータ４１に連結させた治具にある十字状の凸部を嵌合させることによりトルクを伝達した。ディスク４３は、内径２５ｍｍのステンレス製の試料容器４５の中に設置した。この容器４５には、ディスク４３と同形のやや大きな溝を形成しており、その溝にディスクをはめ込むことでリング回転時に受けるトルクにより固定される機構とした。
【００４５】
本実施例では、荷重を５Ｎ、１０Ｎと変化させ、それぞれの荷重において回転速度を３００ｒａｄ／ｓ（１．８６ｍ／ｓ）から１００ｒａｄ／ｓ（０．６２０ｍ／ｓ）まで変化させた。
【００４６】
図８に、リングオンディスク試験の摺動トルクを示す。摺動トルクは、一定荷重下で摺動速度の低下とともに減少しており、いずれの場合も流体潤滑状態にあると考えられる。従って、リング−ディスク２面間は接触することなく摺動していると考えられる。一方、各荷重においてＨＭＤＳ処理を行った場合の方が、ＵＶオゾン処理を行った場合よりも摺動トルクが小さいことが確認された。ＵＶオゾン処理を行った場合の摺動トルクをＴuvとし、ＨＭＤＳ処理を行った場合の摺動トルクをＴHMDSとすると、例えば荷重５Ｎの場合では、摺動速度１．８６ｍ／ｓにおいて、摩擦低減率Ｒ＝（Ｔuv−ＴHMDS）／Ｔuvは約４％となり、本実施例の中で最も高く、摺動速度０．６２０ｍ／ｓで約３％である。このように、液体案内溝未形成部のぬれ性を液体案内溝形成部のぬれ性よりも小さくすると、摺動面間の摩擦を効果的に低減できることがわかった。
【符号の説明】
【００４７】
１ａ、１１ａ、２１ａ、３１ａ 第１摺動面
２ａ、１２ａ、２２ａ、３２ａ 第２摺動面
３、１３、２３、３３ 液体案内溝
４、１４、２４、３４ 案内部
５、１５、２５、３５ 疎液性部分
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対面する第１摺動面と第２摺動面とを有し、液体の動圧作用で前記第１摺動面と第２摺動面とが非接触状態下で摺動する摺動面構造において、
前記摺動面の少なくとも一方に、摺動面間の相対的な摺動によって液体を所定方向に案内する液体案内溝を有する案内部を設け、
前記案内部によって案内された液体に接する摺動面部分の少なくとも一方に、液体に対するぬれ性が前記案内部よりも小さい疎液性部分が前記案内部の下流側に設けられていることを特徴とする摺動面構造。
【請求項２】
疎液性の高い物質に被覆されることにより、液体に対するぬれ性を小さくしたことを特徴とする請求項１の摺動面構造。
【請求項３】
親液性の高い物質に被覆されることにより、液体に対するぬれ性を大きくしたことを特徴とする請求項１の摺動面構造。
【請求項４】
前記第１及び第２摺動面は円形平坦面からなり、
周方向に沿って前記案内部を設け、
案内部よりも下流側に前記疎液性部分が設けられることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項５】
前記第１及び第２摺動面の少なくとも一方はリング状平坦面からなり、
前記案内部は、内径側へ液体を案内する外径側のリング状の第１部と、外径側へ液体を案内する内径側のリング状の第２部とを有し、
この第１部と第２部との間に前記疎液性部分が設けられることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項６】
前記第１摺動面を円筒体の内周面とするとともに、前記第２摺動面を、前記円筒体に内嵌される円筒体乃至円柱体の外周面とし、
摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項７】
前記第１摺動面と第２摺動面とが直線状に摺動するものであり、
摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項８】
前記請求項１〜請求項７のいずれかの摺動面構造を備えたことを特徴とする軸受。
【請求項１】
相対面する第１摺動面と第２摺動面とを有し、液体の動圧作用で前記第１摺動面と第２摺動面とが非接触状態下で摺動する摺動面構造において、
前記摺動面の少なくとも一方に、摺動面間の相対的な摺動によって液体を所定方向に案内する液体案内溝を有する案内部を設け、
前記案内部によって案内された液体に接する摺動面部分の少なくとも一方に、液体に対するぬれ性が前記案内部よりも小さい疎液性部分が前記案内部の下流側に設けられていることを特徴とする摺動面構造。
【請求項２】
疎液性の高い物質に被覆されることにより、液体に対するぬれ性を小さくしたことを特徴とする請求項１の摺動面構造。
【請求項３】
親液性の高い物質に被覆されることにより、液体に対するぬれ性を大きくしたことを特徴とする請求項１の摺動面構造。
【請求項４】
前記第１及び第２摺動面は円形平坦面からなり、
周方向に沿って前記案内部を設け、
案内部よりも下流側に前記疎液性部分が設けられることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項５】
前記第１及び第２摺動面の少なくとも一方はリング状平坦面からなり、
前記案内部は、内径側へ液体を案内する外径側のリング状の第１部と、外径側へ液体を案内する内径側のリング状の第２部とを有し、
この第１部と第２部との間に前記疎液性部分が設けられることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項６】
前記第１摺動面を円筒体の内周面とするとともに、前記第２摺動面を、前記円筒体に内嵌される円筒体乃至円柱体の外周面とし、
摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項７】
前記第１摺動面と第２摺動面とが直線状に摺動するものであり、
摺動面の少なくとも一方に、摺動面間に液体を案内する前記案内部を設けることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項の摺動面構造。
【請求項８】
前記請求項１〜請求項７のいずれかの摺動面構造を備えたことを特徴とする軸受。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１１−２４７３８３（Ｐ２０１１−２４７３８３Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２３３９０（Ｐ２０１０−１２３３９０）
【出願日】平成２２年５月２８日（２０１０．５．２８）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 刊行物名 砥粒加工学会誌「Ａｂｒａｓｉｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」 第５４巻 第６号 発行所 社団法人砥粒加工学会 発行日 平成２２年６月１日（頒布開始日 平成２２年５月２８日）
【出願人】（０００１１０８５９）キヤノンマシナリー株式会社 (179)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月２８日（２０１０．５．２８）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 刊行物名 砥粒加工学会誌「Ａｂｒａｓｉｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」 第５４巻 第６号 発行所 社団法人砥粒加工学会 発行日 平成２２年６月１日（頒布開始日 平成２２年５月２８日）
【出願人】（０００１１０８５９）キヤノンマシナリー株式会社 (179)
【Ｆターム（参考）】
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