説明

有機エレクトロルミネッセンス素子

【課題】 本発明は、電子注入効率に優れるとともに、さらに、発光素子の起動電圧が低く、輝度と効率が高い等のうちの少なくともいずれかの優れた性能を有する有機EL素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 陰極と有機層との間に、少なくとも電子注入層を備え、該電子注入層が式Axyz(但し、Aはアルカリ金属またはアルカリ土類金属元素のいずれか一種であり、Bは第VIII族金属元素のうちのいずれか一種であり、0<x≦2、0<y≦3、0<z≦6である)で示される材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子に関し、特に有機EL素子中の電子注入層に特徴を有する有機EL素子に関する。
【背景技術】
【0002】
有機EL素子において、駆動電圧の低下と、正孔と電子の注入能力をバランスさせるためには、電子の注入能力と輸送効率を高めることを必要とする。
【0003】
有機EL素子において、低仕事関数の金属を陰極とすれば、効率的に電子注入を行なえるようになる。しかし、低仕事関数の金属はあまりにも活性で、水や酸素と反応しやすい。また一方で、陰極と有機層との間に、無機化合物からなる電子注入層(例えば、LiF/Alは電子注入能力の優良な陰極構造の一種である)を設けることによって駆動電圧を改善することは、OLED製品に広く応用される。しかし、ハロゲン族元素に属する原子が存在するため、素子の発光につき消光がおきる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
そこで、本発明は、電子注入性能のより良い電子注入材料を備えた有機EL素子を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の有機EL素子は、陰極と有機層の間に少なくとも一つの電子注入層を備え、該電子注入層は式Axyzで示される材料を含有することを特徴とする。ここで、Aはアルカリ金属またはアルカリ土類金属元素のいずれか一種であり、Bは第VIII族金属元素のうちのいずれか一種であり、0<x≦2、0<y≦3、0<z≦6である。
【0006】
電子注入層の好ましい厚さは0.5〜20nmであり、アルカリ金属またはアルカリ土類金属元素としては、Li、Na、K、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、SrまたはBaの中の1種の材料を採用できる。また、第VIII族金属元素としては、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、IrまたはPtの中の1種の材料を採用できる。
【0007】
電子注入層材料としては、LiNiO2やLiCoO2が好ましい。
【0008】
電子注入層は、好ましくはアルミニウムおよび式Axyzの材料で構成できる。
【発明の効果】
【0009】
本発明の有機EL素子は、陰極から有機層への電子注入効率が高く、さらに低い起動電圧、発光素子の高輝度、高発光効率、長寿命のうち少なくともいずれかの優れた効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0010】
1.まず、本発明の好ましい実施態様の一つを示す図1を用いて、本発明の有機EL素子の好ましい態様における各層の構成と作用について説明する。
【0011】
有機EL素子の基板(101)は、他の各層を支持する。
【0012】
有機EL素子に電圧を印加すると、陽極(102)から正孔が発生する。
【0013】
正孔注入層(103)は、正孔を陽極から有機層へ注入する効率を高める作用を有する。
【0014】
正孔輸送層(104)は、正孔を陽極から発光層へ輸送する作用を有する。
【0015】
発光層(105)は、正孔と電子とが再結合する場を提供する。
【0016】
電子輸送層(106)は、電子を陰極から有機層に輸送する作用を有する。
【0017】
有機EL素子に電圧を印加すると、電子が陰極(108)から発生する。
【0018】
図1の実施態様では、電子注入層107は、電子輸送層(106)の上に形成され、電子を、陰極から有機層へ注入する効率を高める作用を有する。
【0019】
なお、有機EL素子の前記各層の機能、材料及び作製のプロセスについては、当業者に周知の事項であるため、それらの詳細は省略する。
【0020】
2.本発明において、電子注入層は式Axyzで示される材料を含有する。ここで、Aはアルカリ金属またはアルカリ土類金属元素のいずれか一種であり、Bは第VIII族金属元素のうちのいずれか一種であり、0<x≦2、0<y≦3、0<z≦6である。
【0021】
該電子注入層は、発光層(105)または電子輸送層(106)の上に前記材料を蒸着することで構成され、その好ましい厚みは0.5〜20nmである。電子注入層の形成し易さの観点から0.5nm以上であることが好ましく、電子を注ぎ込む効果の観点から20nm以下が好ましい。しかし、この範囲以外の厚みでも依然として用いることができることは理解すべきである。
【0022】
前記式Axyzで示される材料中のBは、第VIII族金属元素のうちのいずれか一種である。該第VIII族金属元素は、極めて重要な遷移金属元素であり、その電子配列は、最外殻s電子の数と内殻のd電子の数をあわせると8より大きいという特殊性がある。該第VIII族金属元素は、価数が変化するという特徴を持つことから、該第VIII族金属元素とアルカリ金属またはアルカリ土類金属元素との複合酸化物は、高い電子注入能力をもつことができる。
【0023】
また、図1に示したOLED積層構造は、好ましい実施態様の一例を示したものにすぎず、正孔注入層(103)、正孔輸送層(104)および電子輸送層(106)は用いなくても、有機発光素子を作製することができる。本発明で重要なのは、陰極と有機層の間に式Axyzで示される材料を含有する電子注入層を備えることである。
【0024】
ここで、有機層とは有機化合物からなる層をいい、好ましくは有機発光層をいい、これには発光層のみならず、正孔輸送層や電子輸送層等も含めた多層とすることができる(実施例1参照)。
【0025】
以下に、好ましい実施例を示して、本発明の内容をより詳細に説明する。
【0026】
もっとも、本発明はこれらの実施例や図に示される態様に限定されるものではなく、例えば、光を基板の上側に送る有機発光素子にも適用できる。
【0027】
本発明の技術分野における当業者に容易に行なうことのできる本発明の構成の各種改変も、本発明の請求項の範囲に含まれる。
【実施例】
【0028】
まず、以下の実施例、比較例で使用される材料(Alq3、NPB、CuPc、DNTPD、TADN、C545T)の構造を以下に示す。
【0029】
【表1−1】

【0030】
【表1−2】

【0031】
(実施例1)
ITO/CuPc(15nm)/NPB(60nm)/TADN(40nm)/Alq3(10nm)/LiCoO2(0.7nm)/Al(150nm)の作製
a)ITO基板の洗浄
ITO(インジウム錫酸化物)被覆ガラス基板の光透過性陽極を、熱い洗浄剤または脱イオン水で超音波洗浄した後、それを赤外線で乾かす。該洗浄後、ITO表面の有機汚染物質を除去するために、UVオゾン及び低エネルギー酸素イオンビーム処理を行い、基板上のITO膜を陽極層とした。ITO膜の表面抵抗値は50(Ω/□)、膜の厚さが150nmである。
b)有機発光層の作製
前記の洗浄、乾燥及び前処理を施したITO基板を真空チャンバー内に置き、真空度を1×10-3Pa以下に設定した。基板の上に正孔注入層として銅フタロシアニン(CuPc)を15nmの厚みに蒸着し、蒸着速度は0.05nm/sであった。得られた薄膜の上にNPBを蒸着し正孔輸送層とした。該正孔輸送層の膜厚は60nm、蒸着速度は0.3nm/sであった。その後、該正孔輸送層の上に発光層としてTADNを40nmの膜厚に蒸着、続いて電子輸送層とするAlq3を10nmの厚みに蒸着した。
c)電子注入層の作製
電子輸送層を蒸着後、電子注入層とするLiCoO2を厚み0.7nmに蒸着した。蒸着速度は、0.04nm/sであった。
d)陰極の作製
本発明の有機発光素子の陰極は、150nm膜厚にAlを蒸着して構成し、Al層の蒸着速度は0.2nm/sであった。
e)封止
陰極作製後、常法により封止して、本実施例1の有機EL発光素子を作製した。
【0032】
(比較例1)
ITO/CuPc(15nm)/NPB(60nm)/TADN(40nm)/Alq3(10nm)/LiF(0.7nm)/Al(150nm)の作製
上記実施例1と同様の方法により、本比較例1の有機EL発光素子を作製した。
【0033】
もっとも、電子輸送層を蒸着後、LiCoO2ではなく、LiFを0.7nmの膜厚に蒸着させる点で異なる。
【0034】
(実施例2)
ITO/CuPc(15nm)/NPB(60nm)/Alq3(30nm):C545T[1%]/Alq3(20nm)/LiNiO2(0.5nm)/Al(150nm)の作製
上記実施例1と同様な方法で本実施例2の有機EL発光素子を作製した。
【0035】
もっとも、発光層の材料としてとしてAlq3(30nm):C545T[1%]を採用し、電子注入層の材料としてLiNiO2(0.5nm)を採用している点等が異なる。
【0036】
(比較例2)
ITO/CuPc(15nm)/NPB(60nm)/Alq3(30nm):C545T[1%]/Alq3(20nm)/LiF(0.5nm)/Al(150nm)の作製
上記実施例2と同様な方法で本比較例2の有機EL発光素子を作製した。
【0037】
もっとも、電子注入層の材料としてLiFを採用している点で異なる。
【0038】
(実施例3)
ITO/CuPc(15nm)/NPB(60nm)/Alq3(40nm)/Al(20nm):LiCoO2(10%)/Al(120nm)の作製
上記実施例1と同様な方法で本実施例3の有機EL発光素子を作製した。
【0039】
もっとも、作製方法としては、電子注入層としてのAl(20nm):LiCoO2(10%)につき、2つの蒸着源で蒸着され、膜厚が20nm、蒸着速度が0.1nm/s、LiCoO2のドーパント密度10%で作製した点で異なる。
【0040】
上記実施例1及び比較例1の有機EL素子を用いた評価結果は、図2〜5に示される。
【0041】
図2によれば、比較例1(LiF含有)と実施例1(LiCoO2含有)の有機EL素子では、発光輝度が1cd/m2のとき、それぞれの駆動電圧は2.67Vと2.55Vであり、本実施例1の方が駆動電圧が低い。
【0042】
図3によれば、同じ電圧を印加する際、実施例1(LiCoO2含有)の有機EL素子の輝度は、比較例1(LiF含有)の輝度より高い。
【0043】
図4によれば、実施例1(LiCoO2含有)の有機EL素子の発光効率は、比較例1(LiF含有)の発光効率より高い。
【0044】
図5によれば、実施例1(LiCoO2含有)の有機EL素子の寿命は、比較例1(LiF含有)の寿命より長い。
【0045】
上記実施例2,3及び比較例2の評価結果についても下記の表2に示す。
【0046】
【表2】

【0047】
上記表2によれば、比較例2(LiF含有)に対し、実施例2(LiNiO2含有)の有機EL素子の方が長い寿命と同等の高い効率を得ることができることがわかる。
【0048】
もっとも、実施例2(LiNiO2含有)に対し実施例3(LiCoO2:Al含有)の有機EL素子の方がより長い寿命とより高い効率を得ることができることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【0049】
本発明の有機EL素子は、電子注入性能のよい電子注入層を備えるため、低い起動電圧、輝度、発光効率、寿命等のうち少なくともいずれかの点でよりよい性能を要求される用途に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】一般的な発光素子の積層構造例を示す模式図である。
【図2】実施例1及び比較例1の発光素子起動電圧を示す図である。
【図3】実施例1及び比較例1の発光素子の発光輝度−印加電圧を示す図である。
【図4】実施例1及び比較例1の発光素子の効率−電流密度を示す図である。
【図5】実施例1及び比較例1の発光素子の寿命を比較する図である。
【符号の説明】
【0051】
100 有機EL素子
101 基板
102 陽極
103 正孔注入層
104 正孔輸送層
105 発光層
106 電子輸送層
107 電子注入層
108 陰極

【特許請求の範囲】
【請求項1】
陰極と有機層との間に、少なくとも電子注入層を備え、該電子注入層が式Axyz(但し、Aはアルカリ金属またはアルカリ土類金属元素のいずれか一種であり、Bは第VIII族金属元素のうちのいずれか一種であり、0<x≦2、0<y≦3、0<z≦6である)で示される材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項2】
電子注入層の厚さが、0.5〜20nmであることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項3】
前記のAが、Li、Na、K、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、SrまたはBaの中の1種の材料を採用することを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項4】
前記のBが、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、IrまたはPtの中の1種の材料を採用することを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項5】
前記の式Axyzが、LiNiO2であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項6】
前記の式Axyzが、LiCoO2であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項7】
前記電子注入層は、アルミニウムと式Axyzの材料で構成されることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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