説明

有機カルボン酸をN−アシル化剤とするアミド類の製造方法

【課題】特殊な装置を必要とせず、特別の脱水縮合剤を使用することなく、副生するHOを系外へ除去することなく、一段反応で、有機カルボン酸をアミン類の共存下、無溶媒又は適当な非プロトン性溶媒中加熱することでアシル化反応を行い、高収率でアミド化合物を製造する簡便な、環境に害を与えない製造法の開発。
【解決手段】本発明によれば、特殊な装置を必要とせず、特別の脱水縮合剤を使用することなく、副生するHOを系外へ除去することなく、一段反応で、有機カルボン酸をアミン類の共存下、無溶媒又は適当な非プロトン性溶媒中加熱することでアシル化反応を行い、高収率でアミド化合物を製造することができる

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アミド類を製造する方法に関する。より詳しくは、有機カルボン酸をアミン類の共存下、無溶媒又はトルエンやキシレンなど非プロトン性溶媒中加熱し、アミド類を製造する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
アミド類はアミン類の保護として又それ自体の有用性のため広範に利用されている極めて有用な化合物である。これらアミド類の合成方法としては、種々のアシル化剤及び脱水縮合剤が発明され、それらを用いる方法が汎用されている(非特許文献1及び2参照)。しかしながら、それらアシル化剤は、有機カルボン酸より誘導された化合物であり、該当するカルボン酸と比較すると高価であったり、入手が限られたり、取り扱いや保存に問題が生ずる場合がある。さらに、有機カルボン酸と脱水縮合剤から得られる活性な中間体とアミン類よりアミド類を得る方法も大量生産において廃棄などの問題が発生する場合がある。
【0003】
これまでに、有機カルボン酸とアミン類からアミド類を得る方法として、次の報告がある。即ち、有機カルボン酸とアミン類を混合するとカルボン酸のアミン塩が形成され、その加熱によってアミド類を得るには片方を過剰に用いて生成する水を系外に除去することが必要である(非特許文献3参照)。更にアニリンを酢酸溶媒中加熱し、途中生成する水を反応系外へ除去しながらアセトアニリドを製造している例がある(非特許文献4参照)が、これも平衡反応により生成する水を系外に除去することが必須であり、反応操作や装置の点で問題がある。
【0004】
【非特許文献1】Greene,T.W.;Wuts,P.G.M.Protective Groups in Organic Synthesis, 4rd ed.;Wiley−Interscience:New York,2007,pp 773.
【非特許文献2】Funasaka,S.;Kato,K.;Mukaiyama,T.Chem.Lett.2007,36,1456.
【非特許文献3】Wagner,R.B.;Zook,H.D.Synthetic Organic Chemistry,John Wiley & Sons,Inc.:New York,1961,p 567.
【非特許文献4】M▲u▼ller,P.Chemiker−Zeitung 1912,36,1049.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明はこれらの課題に鑑みてなされたものである。即ち、通常、有機カルボン酸だけではアミン類をアシル化することが困難であるので、種々の試薬および脱水縮合剤の開発が行われてきた。その結果、それらが高価であったり、入手が限られたり、取り扱いや保存及び反応後の廃棄などに問題が発生する場合がある。更に、カルボン酸のアミン塩を加熱する方法においても、生成する水を系外に除去することが必要とされている。
本発明は有機カルボン酸のみをアシル化剤とし、生成する水を系外に除去するなど特別な操作をすることなく、アミド類を高収率で製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
前記課題に鑑み本発明者らは鋭意検討した結果、特殊な装置を必要とせず、特別の脱水縮合剤を使用することなく、副生するHOを系外へ除去することなく、一段反応で、有機カルボン酸をアミン類の共存下、無溶媒又は適当な非プロトン性溶媒中加熱することでN−アシル化反応を行い、高収率でアミド類が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は下記要旨に関わるものである。
【0007】
1 アミン類を有機カルボン酸と反応させることを特徴とするアミド類の製造方法。
【0008】
2 アミン類が、下記一般式(1)
NHR (1)
(式中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜30の直鎖若しくは分岐のアルキル基、または置換基を有していてもよい炭素数4〜30のアリール基を示す。なお、R及びRは末端で、ヘテロ原子の介在あるいは非介在下で、互いに結合し環状構造をなしていてもよい。)で表されるアミン類と、有機カルボン酸が下記一般式(2)
COOH (2)
(式中、Rはアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。)で表される化合物を、無溶媒又は非プロトン性溶媒中において加熱することでアシル化反応を行い、下記一般式(3)
CONR (3)
(式中、R,R及びRは上記と同じ。)で表されるアミド化合物を製造する前記1のアミド類の製造方法。
【0009】
3 非プロトン性溶媒がトルエン又はキシレンであることを特徴とする前記1又は2に記載のアミド類の製造方法。
【0010】
4 反応中生成する水を系外へ除去することなく、100〜180℃で反応させることを特徴とする前記1〜3の何れかに記載のアミド類の製造方法。
【0011】
本発明によれば、特殊な装置を必要とせず、特別の脱水縮合剤を使用することなく、副生するHOを系外へ除去することなく、一段反応で、有機カルボン酸をアミン類の共存下、無溶媒又は適当な非プロトン性溶媒中加熱することでアシル化反応を行い、高収率でアミド化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
本発明では、前記1に記載の有機カルボン酸をアシル化剤として用いる。
【0013】
また、式中、R及びRは、同一または非同一であり、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜30の直鎖若しくは分岐のアルキル基、または置換基を有していてもよい炭素数4〜30のアリール基を表す。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基及びエイコサン基等を挙げることができる。アルキル基の置換基としては、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、エステル基、アルキルチオ基、チオール基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子等を挙げることができる。炭素数4〜30のアリール基としては、例えば、フラン基、ピロール基、フェニル基、1−ナフチル基及び2−ナフチル基等を挙げることができる。アリール基の置換基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ケトン基、エステル基、カルボン酸基、アルキルチオ基、チオール基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子等を挙げることができる。また、RとRは、ヘテロ原子の介在または非介在下、互いに結合し環状構造をなしていてもよい。
【0014】
本発明に関する反応は、Scheme1に示されるように、平衡により生成するfreeの有機カルボン酸は再びアミンと反応して塩を形成するか、アミドを形成するかの二つの経路が存在する。例えばアニリン誘導体のアセチル化は酢酸溶媒中で生成する水を系外へ除去することなく可能であるが、より塩基性の強い脂肪族アミンのアセチル化の場合、酢酸を溶媒として使用するとより塩を形成しやすいため、平衡でfreeのカルボン酸を生成しにくくなる。その分アミドの生成は不利となり収率が低下する。そのような場合アミン類に対し、モル比で2〜5倍の酢酸を用い非プロトン性溶媒中反応させると好収率にアミド類を得ることができる。酢酸以外の有機カルボン酸で溶媒として使用できない場合も本法の利用又は無溶媒での反応が有利である。本反応はScheme1に示される平衡反応であると考えられるが、反応系中に生成する水の存在は、本反応、即ちアミドの製造を妨げるものではなく、例えば反応前に故意に水を反応系に加えてもほとんど反応収率に影響しないことからも理解できる(実施例8参照)。本発明では水や湿気を気にすることなく反応が行えるので、装置及び操作が簡単でよい特徴がある。
【0015】
【化1】

【0016】
また、反応を行う際、通常、非プロトン性溶媒と混合して使用する。非プロトン性溶媒としては特に限定されるものではないが、例えば、ヘキサン等のアルカン類、トルエン等の芳香族化合物類、ジメトキシエタン等のエーテル類等を挙げることができる。アミン類に対するカルボン酸化合物の使用量は、どちらが高価であるかにもよるが、通常アミン類に対し、モル比で0.5〜4倍である。
【0017】
また、反応を行う際の反応温度(外温)は、100℃〜180℃、好ましくは130℃〜150℃である。反応時間は、通常、1時間から10時間である。
【0018】
反応後、公知の抽出法、蒸留法、晶析法またはクロマトグラフ等によりトリフルオロアセタミド化合物を単離することができる。
【実施例】
【0019】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0020】
実施例1 アセトアニリドの合成(無溶媒)
アニリン(482mg,5.18mmol)に酢酸(368mg,10.62mmol)を加え、160℃で4時間加熱した。反応後、過剰の酢酸を減圧蒸去し残渣に、10%NaCO(8mL)を加え、水層をAcOEt(20mL×2)で抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水(6mL)で洗浄し、NaSOで乾燥した。溶媒を減圧蒸去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(AcOEt−hexane=1:2)に付し、標記化合物(599mg,85.6%)を得た。
mp120℃
【0021】
実施例2 N−アセチルベンジルアミンの合成(無溶媒)
ベンジルアミン(215mg,2.01mmol)に酢酸(254mg,4.23mmol)を加え、110℃,130℃,150℃,160℃の順温度を上げていき、10時間加熱した。反応後、過剰の酢酸を減圧蒸去し,残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc)に付し、標記化合物(289mg,96.5%)を得た。
mp61−63℃
【0022】
実施例3 N−アセチルフェネチルアミンの合成(無溶媒)
フェネチルアミン(372mg,3.07mmol)に酢酸(380mg,6.33mmol)を加え、160℃で2時間加熱した。反応後、酢酸を減圧蒸去し,残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc)に付し、標記化合物(474mg,94.6%)を得た。
mp53℃
【0023】
実施例4 N−アセチルフェネチルアミンの合成(無溶媒、キシレン)
1)フェネチルアミン(438mg,3.61mmol)に酢酸(445mg,7.41mmol)を加え、130℃で6時間加熱した。反応後、過剰の酢酸を減圧蒸去し,残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc)に付し、標記化合物(548mg,93%)を得た。
mp53℃
2)フェネチルアミン(178mg,1.47mmol)のキシレン(1mL)溶液に酢酸(182mg,3.03mmol)を加え、160℃で2時間加熱した。反応後、過剰の酢酸、キシレンを減圧蒸去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc)に付し、標記化合物(228mg,95.1%)を得た。
【0024】
実施例5 N−アセチル−DL−1−フェニルエチルアミンの合成(無溶媒、キシレン)
1)DL−1−フェニルエチルアミン(243mg,2.01mmol)に酢酸(254mg,4.23mmol)を加え、160℃で7時間加熱した。反応後、過剰の酢酸を減圧蒸去し,残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc)に付し、標記化合物(317mg,96.9%)を得た。
mp77−78℃
2)DL−1−フェニルエチルアミン(170mg,1.40mmol)のキシレン(1mL)溶液に酢酸(171mg,2.85mmol)を加え、160℃で3時間加熱した。反応後、過剰の酢酸、キシレンを減圧蒸去し,残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc)に付し、標記化合物(217mg,95%)を得た。
【0025】
実施例6 N−アセチル−DL−1−フェニルエチルアミンの合成(無溶媒)
DL−1−フェニルエチルアミン(395mg,3.26mmol)に酢酸(394mg,6.56mmol)を加え、160℃で3時間加熱した。反応後、過剰の酢酸を減圧蒸去し,残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc)に付し、標記化合物(510mg,95.9%)を得た。
mp77−78℃
【0026】
実施例7 N−フェネチル−3−フェニルプロパンアミド(無溶媒、キシレン)
1)フェネチルアミン(262mg,2.16mmol)に3−フェニルプロピオン酸(399mg,2.66mmol)を加え、160℃で3時間加熱した。反応後、10%NaCO(10mL)を加え、水層をAcOEt(20mL×2)で抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水(6mL)で洗浄し、NaSOで乾燥した。溶媒を減圧蒸去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(AcOEt−hexane=1:1)に付し、標記化合物(448mg,81.9%)を得た。
mp96.5−97.5℃
2)フェネチルアミン(5.0g,41.3mmol)のキシレン溶液(50mL)に3−フェニルプロピオン酸(12.4g,82.6mmol)を加え、140℃で3.5時間加熱した。反応溶液を冷却後、AcOEt(70mL)を加え、有機層を10%NaCO(40mL×2)、次いで飽和食塩水(40mL×2)で洗浄し、NaSOで乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、残渣を再結晶(AcOEt−hexane)し、標記化合物(8.8g,84%)を得た。更に、母液を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(AcOEt−hexane=1:1)に付し、標記化合物(0.4g,4%)を得た。
【0027】
実施例8 N−フェネチル−3−フェニルプロパンアミド(キシレン+水溶媒)
フェネチルアミン(150mg,1.24mmol)のキシレン溶液(1.5mL)に3−フェニルプロピオン酸(372mg,2.48mmol)及び水(0.45mL,27.7mmol)を加え、140℃で3時間加熱した。反応溶液を冷却後,AcOEt(50mL)を加え、有機層を5%NaHCO(20mL×2)、次いで飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、NaSOで乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(AcOEt−hexane=1:1)に付し、標記化合物(280mg,89%)を得た。
mp92−94℃
【0028】
実施例9 N−フェネチル桂皮酸アミド(無溶液)
フェネチルアミン(150mg,1.24mmol)に桂皮酸(367mg,2.48mmol)を加え、150℃で8.5時間加熱した。反応溶液を冷却後、AcOEt(50mL)を加え、有機層を10%HCl(10mL×2)、5%NaHCO(10mL×2)、次いで飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、NaSOで乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(AcOEt−hexane=1:1)に付し、標記化合物(215mg,69%)を得た。
mp126−127℃
【0029】
実施例10 パラーニトロアセタニリドの合成(酢酸)
パラーニトロアニリン(138mg,1.007mmol)の酢酸(6mL)溶液を140℃で8時間加熱還流した。反応後、酢酸を減圧蒸去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトガラフィー(EtOAc−hexane=1:1)に付し、標記化合物(154mg,85%)を得た。
mp218℃
【0030】
実施例11 N−アセチルインドリンの合成(酢酸)
インドリン(158mg,1.33mmol)の酢酸(1mL)溶液を、140℃で5時間加熱還流した。反応後、酢酸を減圧蒸去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc−hexane=1:1)に付し、標記化合物(207mg,96.8%)を得た。
mp106−108℃
【産業上の利用可能性】
【0031】
本発明により、特殊な装置を必要とせず、特別の脱水縮合剤を使用することなく、副生するHOを系外へ除去することなく、一段反応で、有機カルボン酸をアミン類の共存下、無溶媒又は適当な非プロトン性溶媒中加熱することでN−アシル化反応を行い、高収率でアミド類を製造することができる。そのため、より安価で、より簡単な操作でアミド類を提供できるようになる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
アミン類を有機カルボン酸と反応させることを特徴とするアミド類の製造方法。
【請求項2】
アミン類が一般式(1)
NHR (1)
(式中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜30の直鎖若しくは分岐のアルキル基、または置換基を有していてもよい炭素数4〜30のアリール基を示す。なお、R及びRは末端で、ヘテロ原子の介在あるいは非介在下で、互いに結合し環状構造をなしていてもよい。)で表される化合物であり、有機カルボン酸が下記一般式(2)
COOH (2)
(式中、Rはアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。)で示される化合物を、無溶媒又は非プロトン性溶媒中において加熱することでアシル化反応を行い、下記一般式(3)
CONR (3)
(式中、R,R及びRは上記と同じ。)で示されるアミド化合物を製造する請求項1記載のアミド類の製造方法。
【請求項3】
非プロトン性溶媒がトルエン又はキシレンであることを特徴とする請求項1又は2に記載のアミド類の製造方法。
【請求項4】
反応中生成する水を系外へ除去することなく、100〜180℃で反応させることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のアミド類の製造方法。

【公開番号】特開2009−298760(P2009−298760A)
【公開日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−178422(P2008−178422)
【出願日】平成20年6月11日(2008.6.11)
【出願人】(000159065)
【Fターム(参考)】