機能膜の製造方法
【課題】ラインバンクで規定された領域に複数回の走査で塗布すると、バンク内での濡れ広がりでの影響でムラが発生する。ラインバンクで規定された領域に複数回の走査で塗布する場合でも、ムラがない機能膜の製造方法を提供する。
【解決手段】互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布する方法において、インクを複数回に分割して塗布するに際し、ライン状のバンク内の塗布領域において各走査の端部の塗布量が中央部の塗布量より少なく塗布することで解決できる。
【解決手段】互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布する方法において、インクを複数回に分割して塗布するに際し、ライン状のバンク内の塗布領域において各走査の端部の塗布量が中央部の塗布量より少なく塗布することで解決できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能膜の製造方法に関し、例えば有機電界発光ディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」と略称）の製造方法に関するものであり、より具体的には、有機発光層等をインクジェット装置により形成する機能膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイは、有機発光層の形成方法によって、以下の２つに大別されうる。一つ目は、有機発光層を「蒸着」により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料からなる場合に用いられる。二つ目は、有機発光層をインクの「塗布」により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料の場合は勿論のこと、高分子有機材料からなる場合にも用いられることが多い。
【０００３】
例えば、有機発光層をインクの塗布により形成する方法（上記二つ目の形成方法）の代表的例としては、インクジェット装置を用いて、有機発光材料を含むインクの液滴を、ディスプレイ基板の画素領域に吐出して、有機発光層を形成する技術がある（特許文献１参照）。このとき、吐出される液滴には有機発光材料と溶媒とが含まれる。
【０００４】
インクジェット装置は、複数のノズルを有するインクジェットヘッドを有し、インクジェットヘッドのノズルとディスプレイ基板との位置関係を制御しながら、ノズルからインクを吐出させる。このとき、インクジェットヘッドが有するノズルから吐出される液滴の大きさにはばらつきがあることが知られている（特許文献２参照）。特許文献２には、１つのピクセル領域に複数の液滴を着弾させ、かつ各液滴の着弾位置を調整することで、画素領域内における膜均一性を高めるための技術が開示されている。
【０００５】
一方、液滴を吐出されるディスプレイ基板の画素領域は、バンクと称される隔壁で規定されていることが多い。吐出されたインクが画素領域に位置選択的に留まるようにするためである。バンクは、画素領域毎に、それぞれを区画しても良いが、列状に配列された同一色（例えばＲ：レッド，Ｇ：グリーン、Ｂ：ブルー）の複数の画素領域を規定してもよい（特許文献３を参照）。列状に配列された複数の画素領域を規定するバンクを、ライン状バンクと称することがある。つまり、ライン状バンクが規定する領域（以下、「ライン領域」とも言う）毎に、Ｒ、ＧまたはＢの有機発光層が形成されている。
【０００６】
ところで、ディスプレイが大画面化されるに従い、インクジェットヘッドの塗布領域が基板の寸法より小さいくなり、複数回に分けて塗布することが必要となる。塗布方法として、塗布領域を繋ぎ合わせて行く方法が行われている。すなわち、インクジェットヘッドの走査方向に１回走査することで、矩形状の塗布領域を形成し、次に走査方向に対して垂直な方向にインクジェットヘッド移動して隣の領域を塗布し、順次移動させながら塗布して行く方法が開示されている（特許文献４参照）。
【０００７】
しかしながら、１回の走査で繋ぎ合わせて行く方法では、塗布後の次の隣の領域に塗布するまでの時間経過があり、膜の不均一が発生するため、塗布の境界領域でムラが発生する。このむらを回避する方法として、塗布領域の境界の少なくとも一部を非直線状にすることにより、塗布領域の境界を挟んで隣り合う膜間の膜厚差による表示むらを目立たせない方法が開示されている（特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−３６２８１８号公報
【特許文献２】特開２００３−２６６６６９号公報
【特許文献３】米国特許第７０９１６６０号明細書
【特許文献４】特開２００４−３２７２４１号公報
【特許文献５】国際公開第２００８／０９６５１３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ここで上述の特許文献５の内容を図１４を用いて説明する。
【００１０】
図１４は、溶液の塗布パターンを示す平面模式図である。１０１は第ｎ塗布領域、１０２は第ｎ＋１塗布領域、１０３が塗布領域の境界、１０１ａ、１０２ａ、１０３ａ、１０４ａが画素を示す。１回の走査で１つの塗布領域を形成しているので、第ｎ塗布領域はｎ番目の走査で形成される。実施例では、図１４（ａ），図１４（ｂ），図１４（ｃ）に示すように、第ｎ塗布領域の画素に溶液を塗布した後、第ｎ塗布領域に隣接する第ｎ＋１塗布領域の画素に溶液を塗布する。
【００１１】
第ｎ塗布領域に属する機能膜配置領域は黒塗りで示され、第ｎ＋１塗布領域に属する機能膜配置領域は斜線で示されている。上記方法により、塗布することで膜厚の不均一による表示むらが改善されるとされる。
【００１２】
しかしながら、特許文献５に記載の方法は、画素領域の塗布に適用できるが、ライン状バンクに塗布を適用した場合、塗布後インクの流動性により塗布領域の境界付近では、膜厚の不均一が生じ、膜厚の不均一による表示むらが発生してしまう。すなわち、ライン状バンクにインクジェットで塗布する場合、ライン状バンクに対して、垂直な方向にインクジェットヘッドを走査するためである。図１５にライン状バンクとインクジェットヘッドの位置関係を示す。１０４は基板、１０５はライン状バンク、１０６はインクジェットヘッドである。インクジェットヘッド１０６の寸法が基板１０４より小さいため、複数回走査して塗布することになる。
【００１３】
このむら発生の要因は、すなわち膜厚の不均一は、インクの流動性にあることがわかった。以下、発生原因について記す。
【００１４】
１０７は、ライン状バンク１０５の抜き部である。抜き部とは、ライン状バンク１０５内のインクの塗布面のことである。すなわち、露光、現像工程で除去された部分である。ライン状バンク１０５の抜き部１０７、すなわちインクの塗布面の接触角は親水性を示し、５°以下である。そのため、インクが濡れ広がる。
【００１５】
ライン状バンク１０５の抜き部１０７を親水性にしているのは、インクが隣のバンクに入っているインクと混色を起こさないようにするためで、逆にライン状バンク１０５は、接触角が５０°で撥水性を示す。ここで接触角は、インクの主成分であるアニソールなどの溶媒とライン状バンク１０５の抜き部１０７やライン状バンク１０５との接触角である。このようにライン状バンク１０５の抜き部１０７が５°以下であるため、塗布後、同じライン状バンク１０５内の次の隣の領域を塗布するときには、すでにインクが隣の領域内に流動している。そのため、塗布領域の膜厚の不均一が発生し、膜厚の不均一による表示むらが発生してしまう。
【００１６】
本発明は、前述の従来技術を鑑みてなされたものであり、ライン状バンクを有するディスプレイ基板に、インクジェットで機能膜（有機発光層）のインクを塗布形成する場合に、インクを複数回に分けて塗布した場合でも塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらが低減された機能膜の製造方法を提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明に係る第１の観点の機能膜の製造方法は、互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布して機能膜を形成する方法において、前記塗布領域に対して前記ノズルを複数回走査して前記インクを塗布する際、前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記ノズルの中央部から塗布されるインク塗布量より少ないことを特徴とする製造方法である。
【００１８】
このように構成された第１の観点の機能膜の製造方法によれば、膜厚の不均一による輝度ムラを低減することが可能な表示装置が確実に実現できる。
【００１９】
また、本発明に係る第２の観点の機能膜の製造方法は、上記第１の観点の製造方法において、複数種のインクを別々の塗布領域に塗布する際、前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記インクの種類毎に異なった量であると好適になる。
【００２０】
本発明に係る第３の観点の機能膜の製造方法は上記第１又は第２の観点の製造方法において、前記インクは機能膜であり、有機電界発光ディスプレイにおける有機発光層であってもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の機能膜の製造方法によれば、基板に対してインクを複数回に分けて塗布した場合でも塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらが低減された機能膜の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係る実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法におけるインクを塗布すべき基板の平面図
【図２】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法における基板の拡大断面図であり、（ａ）が図１に示した基板のＡ−Ａ線による断面図、（ｂ）が図１に示した基板のＢ−Ｂ線による断面図
【図３】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置のインクジェットヘッドと基板の位置関係を示す図
【図４】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置におけるノズルの配置を示す図
【図５】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図６】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近の膜厚分布示す概念図
【図７】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において、インクジェット装置を用いて形成された有機発光層を有する有機ＥＬディスプレイの概略層構成を示す断面図
【図８】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法におけるプロセスを示すフローチャート
【図９Ａ】実施の形態２の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図９Ｂ】実施の形態２の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１０】実施の形態３の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１１】実施の形態４の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１２】実施の形態５の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１３】実施の形態６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１４】従来の有機電界発光ディスプレイの製造方法における溶液の塗布パターンを示す平面模式図
【図１５】ライン状バンクとインクジェトの位置関係を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明に係る好適な実施の形態の機能膜製造方法について説明する。
【００２４】
なお、以下の説明においては、機能膜の一例としての有機発光膜を有する有機電界発光ディスプレイの製造方法を、図面を参照しながら説明する。
【００２５】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法における、有機発光材料を含むインクを塗布すべき基板１を上方から見た平面図である。
【００２６】
図２は、図１に示した基板１の拡大断面図であり、図２（ａ）は、図１に示した基板１のＡ−Ａ線による断面図を示し、図２（ｂ）は、図１に示した基板１のＢ−Ｂ線による断面図を示すものである。
【００２７】
図１、図２に示すように、基板１はベース基板２上に画素領域４を規定するためのバンク３が形成されている。バンク３が形成されているベース基板２には、図示省略するが反射陽極、正孔注入層等の有機ＥＬディスプレイとして必要な要素が形成されている。バンク３の断面形状は、図２に示すように順テーパ型であってもよく、裾が狭くなった逆テーパ型であってもよい。実施の形態１におけるバンク３の材料としては絶縁性を有する材料であれば任意に用いることが可能であり、耐熱性、溶媒に対する耐性を持つ絶縁性樹脂（例えばポリイミド樹脂等）であることが好ましい。バンク３の形成方法としては、フォトリソグラフィ技術等が用いられており、パターニングにより形成される。例えば、バンク材料を塗布した後、ベーク処理→マスク露光処理→現像処理等により所望の形状がベース基板２上に形成される。
【００２８】
また、図２（ｂ）に示すように、基板１においてはベース基板２上に画素規制層１０が形成されており、画素規制層１０上にバンク３が形成される。画素規制層１０は無機材料で形成されており、例えばＳｉＯＮが用いられる。画素規制層１０はライン状のバンク３と直交する方向にライン状に延設形成されており、複数のライン状のバンク３と複数のライン状の画素規制層１０とにより、基板１の上から見たとき格子状となるよう形成されている。
【００２９】
バンク３により規制され区画される領域にはインク９が吐出され塗布される。塗布されたインク９と接触する表面は、酸素系ガスプラズマやフッ素系ガスプラズマ等によりフッ素化処理することにより、撥水性を有するように処理されている。このようにバンク３に対して撥水処理が行われているため、後述するようにインク９が画素領域４に塗布されたときバンク３間で盛り上がってもバンク３により確実に保持され、バンク３間に確実に収納される。
【００３０】
図１の平面図に示すように、ベース基板２上に形成されたバンク３は直線的に延設（図１の左右方向に延設）された複数のライン状バンク３Ａを有しており、これらのライン状バンク３Ａは、互いに平行に形成されている。各ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域が、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）用のそれぞれの複数の画素領域４を含むよう構成されている。また、Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各列領域において、各画素領域４を区画するように前述の画素規制層１０が形成されている。画素規制層１０は、ベース基板２からの高さがバンク３より低く形成されている。
【００３１】
実施の形態１における基板１においては、バンク３のベース基板２からの高さが、例えば約１μｍである。画素規制層１０の層厚は、例えば約１００ｎｍである。従って、バンク３により囲まれた列領域内に吐出された液状のインク９は、画素領域４を越えて列領域内を自由に移動できる構成である。すなわち、各列領域内に吐出されるインク９の塗布量は画素規制層１０の層厚を超える量であるため、インク吐出時において、同じ列領域では互いの画素領域４を液状のインクが行き来できる状態にある。
【００３２】
なお、実施の形態１における複数の隣り合うライン状バンク３Ａ間の幅は、６０μｍで形成されている。上記のように形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用のバンク３が基板１において繰り返して形成されている。
【００３３】
図３は、実施の形態１のインクジェット装置におけるＲ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂと、図１に示した基板１との位置関係を示す図である。
【００３４】
各インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂには、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれのインクを塗布するための複数のノズル６（図４参照）が設けられており、後述する走査動作において、バンク３により囲まれた列領域内がインク９の着滴位置（所謂、着弾地点）となるよう配置されている。Ｒ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂはそれぞれ同じ構成であるため以下の説明においてはインクジェットヘッド５として説明する。図３において、符号Ｘで示す矢印がインクジェットヘッド５の走査方向である。また、インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの長手方向の寸法は、基板１の寸法より小さい。
【００３５】
なお、実施の形態１においては、インクジェットヘッド５をＲ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂとして説明したが、１つのインクジェットヘッドにＲ，Ｇ，Ｂ用のノズルを設けた構成でも対応可能である。
【００３６】
図４は、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）における複数のノズル６を有する基板対向面を示す図である。
【００３７】
図４に示すように、インクジェットヘッド５において、複数のノズル６が基板１に対向する面に形成されている。インクジェットヘッド５においては、基板１への走査方向（図４における矢印Ｘ方向）に対して、複数のノズル６がライン状に配置された列が斜めに配置されており、複数のノズル６を有する列が複数列で互いに平行に配置されている。インクジェットヘッド５において、複数のノズル６がライン状に配置された列が、走査方向に対して斜めに配置しているのは、バンク３により囲まれた列領域内にインク９を塗布するとき、ノズル６から吐出されたインク９が着滴位置で互いに連結するように、ノズル６間のピッチを短く、例えば、約２０μｍとするためである。
【００３８】
このように、複数のノズル６の列を走査方向に対して斜めに配置することにより、ノズルピッチの間隔を所望の距離に短く設定することが可能となる。
【００３９】
図５は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、具体的には、インクを数回に分けて基板１を塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示した図である。
【００４０】
黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。破線の丸は、着弾させない位置４３である。着弾させない位置４３とは、本来インクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布させた場合に着弾する位置であるが、各ノズル６を停止させ吐出させないようにしている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。
【００４１】
液滴を減少させる方法は、インクジェットヘッド５の走査方向に対して、２列連続で塗布を停止させ、停止する位置は、端に着弾した塗布位置から１行飛ばした２箇所に対して塗布を停止するものである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布を停止する位置は、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界に対して左右対称となっている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域での液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。
【００４２】
図６（ａ）はｎ回目の塗布直後のインク塗布状態を示すものであり、図６（ｂ）はｎ回目塗布後ｎ＋１回目のインク塗布直後の状態を示すものである。更に、図６（ｃ）はｎ＋１回目塗布後から一定時間経過後における、ｎ回目とｎ＋１回目の境界近傍のインク塗布領域の膜厚分布を示す概念図である。
【００４３】
図６（ａ）の符号８はｎ回目のインク塗布領域を指し、同図の符号９は着弾数を減らしたインク塗布領域を示すものである。また、符号１０はｎ回目塗布直後のｎ回目のインク塗布領域８のインクの膜厚分布を表す。また、図６（ｂ）における符号１１は、ｎ＋１回目のインク塗布領域で、符号１２は着弾数を減らしたインク塗布領域を示す。更に符号１３は、ｎ＋１回目塗布直後のｎ回目の塗布領域８のインクの膜厚分布を示し、符号１４は、ｎ＋１回目のインク塗布領域１１でのインクの膜厚分布を表す。図６（ｃ）の符号１５は、ｎ＋１回目塗布後、一定時間経過後のｎ回目の塗布領域に塗布したインクの膜厚分布を示すものであり、符号１６はｎ＋１回目の塗布領域に塗布したインクの膜厚分布を示す。
【００４４】
以下、実施の形態１における有機ＥＬディスプレイの製造方法において実行される具体的な塗布方法について説明する。
【００４５】
ガラス基板１に対してインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク９を塗布して形成される。
【００４６】
インクジェットヘッド５によるガラス基板１に対するインク塗布方法は、インクジェットヘッド５をガラス基板１に対して走査しつつ、ノズル６からインクを吐出する。このときの走査方向は、図３に示したように、ガラス基板１におけるライン状バンク３Ａに直交する方向と同じ方向である。Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各列領域にノズル６から所定のインク９が吐出されるように想定されて、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）がガラス基板１に対して塗布動作を行う。
【００４７】
前述の通り、ノズル６からインク９がバンク３により規定された複数の列領域を有する基板１に対して吐出されるが、ノズル６からインク９が吐出される吐出周波数が、実施の形態１では１０ｋＨｚに設定して行っている。なお、本実施の形態においてノズル６から塗布されるインクの液適量は同じであり、その液滴量は液滴数として換算することが可能である。なお、本実施の形態においては、各ノズル６から吐出するインクの液適量は、５ｐｌ（ピコリットル）である。
【００４８】
インク塗布は、インクジェットヘッド５の長手方向の長さが、ガラス基板１の大きさより小さいため、複数回に分けて塗布する。具体的には、図３〜５に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。すなわち、各塗布の境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させてインク塗布を行っている。
【００４９】
図６は、ｎ回目塗布直後、ｎ＋１回目塗布直後、ｎ＋１回目塗布後、一定期間経過後のインク膜厚分布を示すものである。それぞれ図６（ａ）、図６（ｂ）、図６（ｃ）として示している。図６のように、ｎ回目塗布領域とｎ＋１回目塗布領域の境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布しているため、均一な膜厚が得られる。ｎ回目塗布領域とｎ＋１回目塗布領域の境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布しているのは、以下の理由による。
【００５０】
１回目にインク塗布した後、２回目にインク塗布する際、１回目塗布したインク９がライン状バンク３Ａ内で、インク塗布した後３０秒経過後、約２００μｍ〜５００μｍだけ流動するという実験結果が得られたことによる。そのため、流動することを考慮して、重なる領域の液滴数を減少させることで、膜厚の均一性を保つことが可能となる。すなわち、１回目の塗布後はインクの液滴数を減少させた端の領域は、若干薄くなるが、２回目の塗布後、インク同士が重なり合うので一定時間経過するとインクの膜厚は均一になる。他方、インクの液滴数を減少させず、そのままインク塗布した場合には、１回目のインク塗布領域においてインクの上に、さらに重ねて塗布することになり、膜厚が全体の膜厚に比べて局所的に厚くなるためである。
【００５１】
以上のように、本発明に係る実施の形態１のインクジェット装置においては、各走査の端部の塗布量が中央部の塗布量より少なく塗布することにより、インクの膜厚の不均一による輝度ムラのない高品質のディスプレイを有する電子機器を提供することができる。
【００５２】
本実施の形態のインクジェット装置において、走査方向のドット密度が４８００ｄｐｉ（ドットパーインチ）であるため、走査方向に最小塗布ピッチ５．２９１６６７μｍでの塗布が可能である。インクジェット装置によるガラス基板１に対する塗布処理は、複数回の走査動作において行う構成でとなっている。塗布方法としては、以下の二通りの方法がある。
【００５３】
１つ目の方法は、Ｒインクを１回目、２回目、３回目と各塗布領域に順番に塗布してから、次に、Ｇインクを１回目、２回目、３回目と順番に各塗布領域に塗布して、更にＢインクを１回目、２回目、３回目と順番に各塗布領域に塗布する方法である。
【００５４】
２つ目の方法は、連続して、Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布する方法である。すなわち、Ｒインクを１回目塗布領域に塗布にした後、Ｇインクを１回目塗布領域に塗布し、更にＢインクを１回目塗布領域に塗布する。次に同じように、Ｒインクを２回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを２回目塗布領域に塗布し、更にＢインクを２回目塗布領域に塗布する。続いてＲインクを３回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを３回目塗布領域に塗布し、さらにＢインクを３回目塗布領域に塗布する。この方法は、塗布領域ごとに連続してインクを順番に塗布する方法である。
【００５５】
ＲＧＢのインク９の塗布順序は、特に限定されないが、本実施の形態においてはＲインク、Ｇインク、Ｂインクの順番で塗布する形態を例示した。なお、塗布後に形成されるＲＧＢの各有機発光層の厚みは、約５０〜１００ｎｍ（例えば７０ｎｍ）であることが好ましい。
【００５６】
実施の形態１のインクジェット装置において、インク９に含まれる有機発光材料は高分子系発光材料であることが好ましく、高分子系発光材料の例としては、ポリフェニレンビニレン（Ｐｏｌｙ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｖｉｎｙｌｅｎｅ（ＰＰＶ））及びその誘導体、ポリアセチレン（Ｐｏｌｙ ａｃｅｔｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリフェニレン（Ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Ｐｏｌｙ ｐａｒａ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｅｔｈｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Ｐｏｌｙ ３−ｈｅｘｙｌ ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ （Ｐ３ＨＴ））及びその誘導体、ポリフルオレン（Ｐｏｌｙ ｆｌｕｏｒｅｎｅ （ＰＦ））及びその誘導体等が含まれる。なお、インクの粘度は、約１０ｍＰａ・ｓを採用した。Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクの粘度はほぼ同じとした。
【００５７】
図５に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布することにより、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１２％以下に向上した。実際にインク膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。インク膜厚は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定した。また、輝度ムラは実際に発光させて、目視で確認する方法とした。
【００５８】
なお、上記の膜厚の均一性を示すばらつきは、「（最大膜厚値−最小膜厚値）／平均膜厚値×１００［％］」を用いて算出したものである。
【００５９】
図７は、実施の形態１のインクジェット装置を用いて形成された有機発光層等を有する有機ＥＬディスプレイの一例を示すものであり、有機ＥＬディスプレイにおける層構成の概略を示す断面図である。なお、図７に示す各層の相対的な膜厚及び形状は、実際の膜厚及び形状を示すものではなく、説明上わかりやすく記載したものである。
【００６０】
図７に示す有機ＥＬディスプレイは、ベース基板にある平坦化膜２２上に反射陽極２３、正孔注入層２４が形成されており、正孔注入層２４上に前述の図２（ｂ）の画素規制層１０（図示せず）及びバンク３が形成されている。前述のようにバンク３により区画される列領域にインターレイヤー層（ＩＬ層）２５及び有機発光層２６が形成されている。反射陽極２３は図１に示した画素領域４に対応して分離して作成されており、ディスプレイの発光部となる。
【００６１】
なお、画素規制層１０を成膜後に、正孔注入層２４を全面成膜し、その後にバンク３を形成してもよい。画素規制層１０は、通常のフォトリソグラフィ技術により形成される。即ち、画素規制層１０は、レジスト塗布処理、マスク露光処理、現像処理、ドライエッチング処理、レジスト除去処理の順により形成される。
【００６２】
なお、実施の形態１のインクジェット装置は、有機発光層２６の形成における塗布処理において用いると共に、インターレイヤー層（ＩＬ層）２５の形成における塗布処理においても同様の構成のインクジェット装置が用いられる。
【００６３】
図７に示すように、有機ＥＬディスプレイにおいては有機発光層２６及びバンク３を覆うように電子輸送層２７、陰極２８、封止層２９及び樹脂層３０が形成されている。そして、樹脂層３０の上部にはガラス基板３１及び偏光板３２等が設けられて有機ＥＬディスプレイが構成されている。
【００６４】
上記のように構成された有機ＥＬディスプレイは、図８のプロセスフローチャートに示すように製造されている。即ち、平坦化膜形成、反射陽極形成、正孔注入層形成、バンク形成、ＩＬ層形成、有機発光層形成、電子輸送層形成、陰極形成、封止層形成、樹脂層形成の順に製造される。この製造プロセスにおいて、ＩＬ層及び有機発光層が実施の形態１において説明したインクジェット装置を用いて所定の材料が塗布されて生成される。
【００６５】
以上のように、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００６６】
（実施の形態２）
以下、本発明に係る実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００６７】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数のそれぞれ減少させる個数を変えたことと着弾させる位置を変化させたことにある。したがって、実施の形態２の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態２においては省略する。
【００６８】
図９Ａおよび図９Ｂにおける（ａ）乃至（ｅ）は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図である。
【００６９】
図９Ａ及び図９Ｂは、数回に分けてガラス基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示した図であり、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。また、破線の丸は、インクを着弾させない位置４３を示す。着弾させない位置４３とは、本来インクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布させた場合に着弾する位置であるが、各ノズル６を停止させ吐出させないようにしている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。
【００７０】
以下、インク液滴の減少のさせ方について説明する。
【００７１】
図９Ａ（ａ）は、図５のインク液滴を減少させる方法から更に、端に塗布する２列の内１列の液滴を減少させて塗布するやり方である。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域での液滴個数は、２個、０個、２個、０個、１個、１個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７２】
図９Ａ（ｂ）は、図９Ａ（ａ）のインク液滴を減少させる方法に対して、端を減少させる液滴の位置をｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界に対して左右対称ではなく、点対称となる位置を塗布させない方法である。すなわち、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、１個、１個、０個、２個、０個、２個と並んでおり図９Ａ（ａ）と同じ個数である。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７３】
図９Ａ（ｃ）は、図９Ａ（ａ）のインク液滴を減少させる方法に対して、端のみならず、端から１行飛ばした塗布位置でインクを塗布する様子を示す図であり、２列の内１列の液滴を減少させて塗布する方法になる。具体的には、ｎ回目とｎ＋１回目のインク塗布の境界領域での液滴個数は、２個、０個、１個、０個、１個、１個、０個、１個、０個、２個と並んでいる。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７４】
図９Ｂ（ｄ）は、図９Ａ（ｃ）に対して、ｎ回目とｎ＋１回目のインク塗布の境界に対して点対称となる位置の液滴数を減少させる方法を示す図である。すなわち、ｎ回目とｎ＋１回目のインク塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、１個、０個、１個、１個、０個、１個、０個、２個と並んでおり、図９Ａ（ｃ）と同じ個数である。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７５】
図９Ｂ（ｅ）は、図９Ｂ（ｄ）に対して、端に塗布した位置から１行飛ばした位置にインク塗布する液滴の着弾位置を塗布する側を停止し、停止する側を塗布する方法である。具体的には、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、１個、０個、１個、１個、０個、１個、０個、２個と並んでおり、図９Ｂ（ｅ）と同じ個数である。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７６】
実施の形態２における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同様である。従って、以下、前述の実施の形態１の説明に用いた図１、図３及び図４を参照して説明し、共通する内容については説明を省略する。ガラス基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６との位置関係及び走査方向は、実施の形態１と同様である。
【００７７】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、図９Ａ及び図９Ｂに示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。図９Ａ及び図９Ｂにおける（ａ）乃至（ｅ）の夫々の場合について塗布して膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、（ａ）乃至（ｅ）それぞれの場合の各インクそれぞれに対して膜厚差が１２％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。特に、図９Ｂ（ｅ）が塗布の分散効果により、均一性が良化傾向にあり、膜厚差が１０％以下となった。
【００７８】
膜厚は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定した。また、輝度ムラは実際に発光させて、目視で確認する方法とした。なお、上記の膜厚の均一性を示すばらつきは、「（最大膜厚値−最小膜厚値）／平均膜厚値×１００［％］」を用いて算出したものである。
【００７９】
インクジェット装置は、実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００８０】
（実施の形態３）
以下、本発明に係る実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００８１】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、実施の形態１及び２の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域が重なる点にある。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させる方法は同じである。
【００８２】
従って、実施の形態３の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態３においては省略する。
【００８３】
図１０は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、数回に分けてインクをガラス基板１に塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａとｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示すものである。
【００８４】
同図において、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。破線の丸は、着弾させない位置４３を示す。着弾させない位置４３とは、本来インクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布させた場合に着弾する位置であるが、各ノズル６を停止させ吐出させないようにしている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。また、ｎ回目とｎ＋１回目の着弾位置が重ならないようにインク塗布している。
【００８５】
インク液滴を減少させる方法は、図５と同様である。両者の違いは、ｎ回目とｎ＋１回目の境界の端にインクが着弾するタイミングが違うことである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでおり、図５と同じ個数としている。
【００８６】
本実施の形態における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同様である。従って、以下の実施の形態２においては、前述の実施の形態１の説明に用いた図１、図３及び図４を参照して説明する。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６との位置関係及び走査方向は、前述の実施の形態１と同様である。
【００８７】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、図１０に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときの着弾する個数について、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。実施の形態３の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させない時の最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１２％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【００８８】
なお、膜厚の測定方法や膜厚のばらつきに関する知見は前述の実施の形態１や２と同様である。
【００８９】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割してインクを塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００９０】
（実施の形態４）
以下、本発明に係る実施の形態４の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００９１】
実施の形態４の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１乃至３の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域間に吐出しない領域を設けたことにある。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させる方法は同じである。
【００９２】
従って、本実施の形態の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態４においては省略する。
【００９３】
図１１は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、数回に分けてガラス基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示すものである。
【００９４】
同図において、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。破線の丸は、着弾させない位置４３を示す。インク液滴の減少の方法は、図５の液滴の減少の方法に、更に１列分減少させて塗布するものである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。
【００９５】
実施の形態４における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同じである。したがって、以下の実施の形態２においては、前述の実施の形態１の説明に用いた図１、図３及び図４を参照して説明する。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６との位置関係及び走査方向は、前述の実施の形態１と同様である。
【００９６】
実施の形態４の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、図１１に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数について、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。実施の形態４の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１０％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【００９７】
本実施の形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００９８】
（実施の形態５）
以下、本発明に係る実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００９９】
実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１乃至４の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域と、ｎ＋１回目の塗布領域間に吐出しない領域を設けた実施の形態４から、更に境界領域の液滴数を減らしたことにある。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍のインク液滴数をそれぞれ減少させる方法は同じである。
【０１００】
従って、実施の形態５の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態５においては省略する。
【０１０１】
図１２は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示した図で、数回に分けて基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示した図である。
【０１０２】
黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示す。破線の丸は、着弾させない位置４３を示すものである。液滴の減少の方法は、図９Ａ（ｂ）のインク液滴の減少の方法に、更に１列分減少させて塗布する方法である。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、１個、０個、１個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。実施の形態５における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同じである。
【０１０３】
本実施の形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、図１２に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数について、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。実施の形態５の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１０％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【０１０４】
インクジェット装置は、実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。
【０１０５】
すなわち、実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【０１０６】
（実施の形態６）
以下、本発明に係る実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【０１０７】
実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１乃至５の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域と、ｎ＋１回目の塗布領域が重なるように塗布する点にある。すなわち、前述の実施形態３において、更に実施形態４及び５と同様、吐出しない領域を設けた点にある。
【０１０８】
ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させる方法は同様である。従って、実施の形態６の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態５においては省略する。
【０１０９】
図１３は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、数回に分けてガラス基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示すものである。
【０１１０】
同図において、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示す。また、破線の丸は、着弾させない位置４３を示している。
【０１１１】
液滴の減少のさせ方は、図１１と同様である。両者の相違点は、ｎ回目とｎ＋１回目の境界の端の着弾するタイミングが違うことである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでおり、図１１と同じ個数である。実施の形態６における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同様である。
【０１１２】
実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、図１３に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内に、インクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する方法である。
【０１１３】
本実施の形態の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１０％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【０１１４】
実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。すなわち、実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【０１１５】
以上、本発明に係る好適な実施形態１乃至実施形態６について説明したが、実施形態１乃至実施形態６において、よりインク９の粘度が低い場合や画素領域４の塗布面のインク９に対する接触角がより小さい場合、インク９の流動性が高くなる。そのため、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界の液滴数をより減少させて塗布するようにすることが好ましい。
【０１１６】
具体的には、よりインク９の粘度が低い場合や画素領域４の塗布面のインク９に対する接触角がより小さい場合、実施形態１よりも実施形態２を採用する方が膜厚の均一化の効果がある。更には実施形の態２では、図９Ａ（ａ）、（ｂ）よりも図９Ａ（ｃ）、図９Ｂ（ｄ）、（ｅ）を採用する方がより膜厚均一化の効果がある。これは、液滴数を減らし、分散させたことにより、より均一化が図れるためである。
【０１１７】
また、実施形態３よりも実施形態４乃至実施形態６を採用する方が膜厚均一化の効果がある。これも、液滴数を減らし、分散させたことにより、より均一化が図れるためである。粘度や接触角の値に応じて、塗布の形態を選択することが好ましい。
【０１１８】
また、本発明は上記の実施の形態１乃至実施の形態６の構成や製造工程を示す内容に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく様々な変更が可能である。
【０１１９】
例えば、実施の形態１、実施の形態３及び実施の形態６においては、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを２列で塗布する例としたが、１列でも３列以上でも同様の効果を奏する。
【０１２０】
実施の形態２、実施の形態４、実施の形態５においては、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを２列で塗布する例としたが、３列以上でも同様の効果を奏する。
【０１２１】
実施の形態１乃至実施の形態６においては、ノズルから吐出するインクの通常の吐出周波数を１０ｋＨｚとして説明したが、特にこの周波数に限定されるものではなく、製造される有機ＥＬディスプレイの仕様等に応じて適宜設定される。また、実施の形態１乃至実施の形態６においては、走査方向のドット密度を４８００ｄｐｉ（ドットパーインチ）としたが、特に限定されるものではなく、製造される有機ＥＬディスプレイの仕様等に応じて適宜設定される。
【０１２２】
また、実施の形態１乃至実施の形態６においては、インクジェットヘッドにおいて複数のノズルがライン状に配置された列を走査方向に対して斜めに配置して、走査方向に直交する方向のノズル間のピッチを約２０μｍ（例えば、２１．１６６６６μｍ）として設計した。これは、ノズルから吐出されたインクが着滴位置において互いに連結するようにするためである。したがって、走査方向に直交する方向のノズル間のピッチは、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましいが、特に限定する必要はない。
【０１２３】
また、実施の形態１乃至実施の形態６において、ノズルから吐出されるインクの１滴当たりの量は、５ｐｌとしたが、１ｐｌ〜１５ｐｌの範囲内であることが好ましく、特に限定されるものではない。
【０１２４】
また、実施の形態１乃至実施の形態６においては、インクの粘度が１０ｍＰａ・ｓのものを用いたが、本発明においてはインクの粘度をこの数値に限定するものではなく、約５〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内が好ましく、特に限定されるものではい。
【０１２５】
更に、実施の形態１乃至実施の形態６においては、各形態において液滴数を減らしているが、塗布しない個数に特に限定されることなく、塗布しない個数はバンク３により囲まれた列領域内の下地の親水度に依存し、最適な個数にすることにより同様の効果があり、所望の高品質の有機ＥＬディスプレイを製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明は、基板上に均一な塗布膜を形成することを可能とし、輝度ムラを低減させると共に基板に対して高い電圧を供給することもないため、例えば長寿命で高画質の有機ＥＬディスプレイに適用できる。また、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、携帯電話、カーナビゲーションなどの他、有機半導体等、構造の均一性を要求される電子デバイスにも適用が期待できる。
【符号の説明】
【０１２７】
４０Ａ ｎ回目の塗布領域
４０Ｂ ｎ＋１回目の塗布領域
４１ ｎ回目の着弾位置
４２ ｎ＋１回目の着弾位置
４３ 着弾させない位置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能膜の製造方法に関し、例えば有機電界発光ディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」と略称）の製造方法に関するものであり、より具体的には、有機発光層等をインクジェット装置により形成する機能膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイは、有機発光層の形成方法によって、以下の２つに大別されうる。一つ目は、有機発光層を「蒸着」により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料からなる場合に用いられる。二つ目は、有機発光層をインクの「塗布」により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料の場合は勿論のこと、高分子有機材料からなる場合にも用いられることが多い。
【０００３】
例えば、有機発光層をインクの塗布により形成する方法（上記二つ目の形成方法）の代表的例としては、インクジェット装置を用いて、有機発光材料を含むインクの液滴を、ディスプレイ基板の画素領域に吐出して、有機発光層を形成する技術がある（特許文献１参照）。このとき、吐出される液滴には有機発光材料と溶媒とが含まれる。
【０００４】
インクジェット装置は、複数のノズルを有するインクジェットヘッドを有し、インクジェットヘッドのノズルとディスプレイ基板との位置関係を制御しながら、ノズルからインクを吐出させる。このとき、インクジェットヘッドが有するノズルから吐出される液滴の大きさにはばらつきがあることが知られている（特許文献２参照）。特許文献２には、１つのピクセル領域に複数の液滴を着弾させ、かつ各液滴の着弾位置を調整することで、画素領域内における膜均一性を高めるための技術が開示されている。
【０００５】
一方、液滴を吐出されるディスプレイ基板の画素領域は、バンクと称される隔壁で規定されていることが多い。吐出されたインクが画素領域に位置選択的に留まるようにするためである。バンクは、画素領域毎に、それぞれを区画しても良いが、列状に配列された同一色（例えばＲ：レッド，Ｇ：グリーン、Ｂ：ブルー）の複数の画素領域を規定してもよい（特許文献３を参照）。列状に配列された複数の画素領域を規定するバンクを、ライン状バンクと称することがある。つまり、ライン状バンクが規定する領域（以下、「ライン領域」とも言う）毎に、Ｒ、ＧまたはＢの有機発光層が形成されている。
【０００６】
ところで、ディスプレイが大画面化されるに従い、インクジェットヘッドの塗布領域が基板の寸法より小さいくなり、複数回に分けて塗布することが必要となる。塗布方法として、塗布領域を繋ぎ合わせて行く方法が行われている。すなわち、インクジェットヘッドの走査方向に１回走査することで、矩形状の塗布領域を形成し、次に走査方向に対して垂直な方向にインクジェットヘッド移動して隣の領域を塗布し、順次移動させながら塗布して行く方法が開示されている（特許文献４参照）。
【０００７】
しかしながら、１回の走査で繋ぎ合わせて行く方法では、塗布後の次の隣の領域に塗布するまでの時間経過があり、膜の不均一が発生するため、塗布の境界領域でムラが発生する。このむらを回避する方法として、塗布領域の境界の少なくとも一部を非直線状にすることにより、塗布領域の境界を挟んで隣り合う膜間の膜厚差による表示むらを目立たせない方法が開示されている（特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−３６２８１８号公報
【特許文献２】特開２００３−２６６６６９号公報
【特許文献３】米国特許第７０９１６６０号明細書
【特許文献４】特開２００４−３２７２４１号公報
【特許文献５】国際公開第２００８／０９６５１３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ここで上述の特許文献５の内容を図１４を用いて説明する。
【００１０】
図１４は、溶液の塗布パターンを示す平面模式図である。１０１は第ｎ塗布領域、１０２は第ｎ＋１塗布領域、１０３が塗布領域の境界、１０１ａ、１０２ａ、１０３ａ、１０４ａが画素を示す。１回の走査で１つの塗布領域を形成しているので、第ｎ塗布領域はｎ番目の走査で形成される。実施例では、図１４（ａ），図１４（ｂ），図１４（ｃ）に示すように、第ｎ塗布領域の画素に溶液を塗布した後、第ｎ塗布領域に隣接する第ｎ＋１塗布領域の画素に溶液を塗布する。
【００１１】
第ｎ塗布領域に属する機能膜配置領域は黒塗りで示され、第ｎ＋１塗布領域に属する機能膜配置領域は斜線で示されている。上記方法により、塗布することで膜厚の不均一による表示むらが改善されるとされる。
【００１２】
しかしながら、特許文献５に記載の方法は、画素領域の塗布に適用できるが、ライン状バンクに塗布を適用した場合、塗布後インクの流動性により塗布領域の境界付近では、膜厚の不均一が生じ、膜厚の不均一による表示むらが発生してしまう。すなわち、ライン状バンクにインクジェットで塗布する場合、ライン状バンクに対して、垂直な方向にインクジェットヘッドを走査するためである。図１５にライン状バンクとインクジェットヘッドの位置関係を示す。１０４は基板、１０５はライン状バンク、１０６はインクジェットヘッドである。インクジェットヘッド１０６の寸法が基板１０４より小さいため、複数回走査して塗布することになる。
【００１３】
このむら発生の要因は、すなわち膜厚の不均一は、インクの流動性にあることがわかった。以下、発生原因について記す。
【００１４】
１０７は、ライン状バンク１０５の抜き部である。抜き部とは、ライン状バンク１０５内のインクの塗布面のことである。すなわち、露光、現像工程で除去された部分である。ライン状バンク１０５の抜き部１０７、すなわちインクの塗布面の接触角は親水性を示し、５°以下である。そのため、インクが濡れ広がる。
【００１５】
ライン状バンク１０５の抜き部１０７を親水性にしているのは、インクが隣のバンクに入っているインクと混色を起こさないようにするためで、逆にライン状バンク１０５は、接触角が５０°で撥水性を示す。ここで接触角は、インクの主成分であるアニソールなどの溶媒とライン状バンク１０５の抜き部１０７やライン状バンク１０５との接触角である。このようにライン状バンク１０５の抜き部１０７が５°以下であるため、塗布後、同じライン状バンク１０５内の次の隣の領域を塗布するときには、すでにインクが隣の領域内に流動している。そのため、塗布領域の膜厚の不均一が発生し、膜厚の不均一による表示むらが発生してしまう。
【００１６】
本発明は、前述の従来技術を鑑みてなされたものであり、ライン状バンクを有するディスプレイ基板に、インクジェットで機能膜（有機発光層）のインクを塗布形成する場合に、インクを複数回に分けて塗布した場合でも塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらが低減された機能膜の製造方法を提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明に係る第１の観点の機能膜の製造方法は、互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布して機能膜を形成する方法において、前記塗布領域に対して前記ノズルを複数回走査して前記インクを塗布する際、前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記ノズルの中央部から塗布されるインク塗布量より少ないことを特徴とする製造方法である。
【００１８】
このように構成された第１の観点の機能膜の製造方法によれば、膜厚の不均一による輝度ムラを低減することが可能な表示装置が確実に実現できる。
【００１９】
また、本発明に係る第２の観点の機能膜の製造方法は、上記第１の観点の製造方法において、複数種のインクを別々の塗布領域に塗布する際、前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記インクの種類毎に異なった量であると好適になる。
【００２０】
本発明に係る第３の観点の機能膜の製造方法は上記第１又は第２の観点の製造方法において、前記インクは機能膜であり、有機電界発光ディスプレイにおける有機発光層であってもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の機能膜の製造方法によれば、基板に対してインクを複数回に分けて塗布した場合でも塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらが低減された機能膜の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係る実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法におけるインクを塗布すべき基板の平面図
【図２】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法における基板の拡大断面図であり、（ａ）が図１に示した基板のＡ−Ａ線による断面図、（ｂ）が図１に示した基板のＢ−Ｂ線による断面図
【図３】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置のインクジェットヘッドと基板の位置関係を示す図
【図４】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置におけるノズルの配置を示す図
【図５】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図６】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近の膜厚分布示す概念図
【図７】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において、インクジェット装置を用いて形成された有機発光層を有する有機ＥＬディスプレイの概略層構成を示す断面図
【図８】実施の形態１乃至６の有機電界発光ディスプレイの製造方法におけるプロセスを示すフローチャート
【図９Ａ】実施の形態２の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図９Ｂ】実施の形態２の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１０】実施の形態３の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１１】実施の形態４の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１２】実施の形態５の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１３】実施の形態６の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェット装置で基板を複数回に分けて塗布する場合のｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域の境界領域付近のインクの着弾位置を示す図
【図１４】従来の有機電界発光ディスプレイの製造方法における溶液の塗布パターンを示す平面模式図
【図１５】ライン状バンクとインクジェトの位置関係を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明に係る好適な実施の形態の機能膜製造方法について説明する。
【００２４】
なお、以下の説明においては、機能膜の一例としての有機発光膜を有する有機電界発光ディスプレイの製造方法を、図面を参照しながら説明する。
【００２５】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法における、有機発光材料を含むインクを塗布すべき基板１を上方から見た平面図である。
【００２６】
図２は、図１に示した基板１の拡大断面図であり、図２（ａ）は、図１に示した基板１のＡ−Ａ線による断面図を示し、図２（ｂ）は、図１に示した基板１のＢ−Ｂ線による断面図を示すものである。
【００２７】
図１、図２に示すように、基板１はベース基板２上に画素領域４を規定するためのバンク３が形成されている。バンク３が形成されているベース基板２には、図示省略するが反射陽極、正孔注入層等の有機ＥＬディスプレイとして必要な要素が形成されている。バンク３の断面形状は、図２に示すように順テーパ型であってもよく、裾が狭くなった逆テーパ型であってもよい。実施の形態１におけるバンク３の材料としては絶縁性を有する材料であれば任意に用いることが可能であり、耐熱性、溶媒に対する耐性を持つ絶縁性樹脂（例えばポリイミド樹脂等）であることが好ましい。バンク３の形成方法としては、フォトリソグラフィ技術等が用いられており、パターニングにより形成される。例えば、バンク材料を塗布した後、ベーク処理→マスク露光処理→現像処理等により所望の形状がベース基板２上に形成される。
【００２８】
また、図２（ｂ）に示すように、基板１においてはベース基板２上に画素規制層１０が形成されており、画素規制層１０上にバンク３が形成される。画素規制層１０は無機材料で形成されており、例えばＳｉＯＮが用いられる。画素規制層１０はライン状のバンク３と直交する方向にライン状に延設形成されており、複数のライン状のバンク３と複数のライン状の画素規制層１０とにより、基板１の上から見たとき格子状となるよう形成されている。
【００２９】
バンク３により規制され区画される領域にはインク９が吐出され塗布される。塗布されたインク９と接触する表面は、酸素系ガスプラズマやフッ素系ガスプラズマ等によりフッ素化処理することにより、撥水性を有するように処理されている。このようにバンク３に対して撥水処理が行われているため、後述するようにインク９が画素領域４に塗布されたときバンク３間で盛り上がってもバンク３により確実に保持され、バンク３間に確実に収納される。
【００３０】
図１の平面図に示すように、ベース基板２上に形成されたバンク３は直線的に延設（図１の左右方向に延設）された複数のライン状バンク３Ａを有しており、これらのライン状バンク３Ａは、互いに平行に形成されている。各ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域が、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）用のそれぞれの複数の画素領域４を含むよう構成されている。また、Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各列領域において、各画素領域４を区画するように前述の画素規制層１０が形成されている。画素規制層１０は、ベース基板２からの高さがバンク３より低く形成されている。
【００３１】
実施の形態１における基板１においては、バンク３のベース基板２からの高さが、例えば約１μｍである。画素規制層１０の層厚は、例えば約１００ｎｍである。従って、バンク３により囲まれた列領域内に吐出された液状のインク９は、画素領域４を越えて列領域内を自由に移動できる構成である。すなわち、各列領域内に吐出されるインク９の塗布量は画素規制層１０の層厚を超える量であるため、インク吐出時において、同じ列領域では互いの画素領域４を液状のインクが行き来できる状態にある。
【００３２】
なお、実施の形態１における複数の隣り合うライン状バンク３Ａ間の幅は、６０μｍで形成されている。上記のように形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用のバンク３が基板１において繰り返して形成されている。
【００３３】
図３は、実施の形態１のインクジェット装置におけるＲ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂと、図１に示した基板１との位置関係を示す図である。
【００３４】
各インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂには、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれのインクを塗布するための複数のノズル６（図４参照）が設けられており、後述する走査動作において、バンク３により囲まれた列領域内がインク９の着滴位置（所謂、着弾地点）となるよう配置されている。Ｒ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂはそれぞれ同じ構成であるため以下の説明においてはインクジェットヘッド５として説明する。図３において、符号Ｘで示す矢印がインクジェットヘッド５の走査方向である。また、インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの長手方向の寸法は、基板１の寸法より小さい。
【００３５】
なお、実施の形態１においては、インクジェットヘッド５をＲ，Ｇ，Ｂ用の３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂとして説明したが、１つのインクジェットヘッドにＲ，Ｇ，Ｂ用のノズルを設けた構成でも対応可能である。
【００３６】
図４は、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）における複数のノズル６を有する基板対向面を示す図である。
【００３７】
図４に示すように、インクジェットヘッド５において、複数のノズル６が基板１に対向する面に形成されている。インクジェットヘッド５においては、基板１への走査方向（図４における矢印Ｘ方向）に対して、複数のノズル６がライン状に配置された列が斜めに配置されており、複数のノズル６を有する列が複数列で互いに平行に配置されている。インクジェットヘッド５において、複数のノズル６がライン状に配置された列が、走査方向に対して斜めに配置しているのは、バンク３により囲まれた列領域内にインク９を塗布するとき、ノズル６から吐出されたインク９が着滴位置で互いに連結するように、ノズル６間のピッチを短く、例えば、約２０μｍとするためである。
【００３８】
このように、複数のノズル６の列を走査方向に対して斜めに配置することにより、ノズルピッチの間隔を所望の距離に短く設定することが可能となる。
【００３９】
図５は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、具体的には、インクを数回に分けて基板１を塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示した図である。
【００４０】
黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。破線の丸は、着弾させない位置４３である。着弾させない位置４３とは、本来インクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布させた場合に着弾する位置であるが、各ノズル６を停止させ吐出させないようにしている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。
【００４１】
液滴を減少させる方法は、インクジェットヘッド５の走査方向に対して、２列連続で塗布を停止させ、停止する位置は、端に着弾した塗布位置から１行飛ばした２箇所に対して塗布を停止するものである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布を停止する位置は、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界に対して左右対称となっている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域での液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。
【００４２】
図６（ａ）はｎ回目の塗布直後のインク塗布状態を示すものであり、図６（ｂ）はｎ回目塗布後ｎ＋１回目のインク塗布直後の状態を示すものである。更に、図６（ｃ）はｎ＋１回目塗布後から一定時間経過後における、ｎ回目とｎ＋１回目の境界近傍のインク塗布領域の膜厚分布を示す概念図である。
【００４３】
図６（ａ）の符号８はｎ回目のインク塗布領域を指し、同図の符号９は着弾数を減らしたインク塗布領域を示すものである。また、符号１０はｎ回目塗布直後のｎ回目のインク塗布領域８のインクの膜厚分布を表す。また、図６（ｂ）における符号１１は、ｎ＋１回目のインク塗布領域で、符号１２は着弾数を減らしたインク塗布領域を示す。更に符号１３は、ｎ＋１回目塗布直後のｎ回目の塗布領域８のインクの膜厚分布を示し、符号１４は、ｎ＋１回目のインク塗布領域１１でのインクの膜厚分布を表す。図６（ｃ）の符号１５は、ｎ＋１回目塗布後、一定時間経過後のｎ回目の塗布領域に塗布したインクの膜厚分布を示すものであり、符号１６はｎ＋１回目の塗布領域に塗布したインクの膜厚分布を示す。
【００４４】
以下、実施の形態１における有機ＥＬディスプレイの製造方法において実行される具体的な塗布方法について説明する。
【００４５】
ガラス基板１に対してインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク９を塗布して形成される。
【００４６】
インクジェットヘッド５によるガラス基板１に対するインク塗布方法は、インクジェットヘッド５をガラス基板１に対して走査しつつ、ノズル６からインクを吐出する。このときの走査方向は、図３に示したように、ガラス基板１におけるライン状バンク３Ａに直交する方向と同じ方向である。Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各列領域にノズル６から所定のインク９が吐出されるように想定されて、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）がガラス基板１に対して塗布動作を行う。
【００４７】
前述の通り、ノズル６からインク９がバンク３により規定された複数の列領域を有する基板１に対して吐出されるが、ノズル６からインク９が吐出される吐出周波数が、実施の形態１では１０ｋＨｚに設定して行っている。なお、本実施の形態においてノズル６から塗布されるインクの液適量は同じであり、その液滴量は液滴数として換算することが可能である。なお、本実施の形態においては、各ノズル６から吐出するインクの液適量は、５ｐｌ（ピコリットル）である。
【００４８】
インク塗布は、インクジェットヘッド５の長手方向の長さが、ガラス基板１の大きさより小さいため、複数回に分けて塗布する。具体的には、図３〜５に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。すなわち、各塗布の境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させてインク塗布を行っている。
【００４９】
図６は、ｎ回目塗布直後、ｎ＋１回目塗布直後、ｎ＋１回目塗布後、一定期間経過後のインク膜厚分布を示すものである。それぞれ図６（ａ）、図６（ｂ）、図６（ｃ）として示している。図６のように、ｎ回目塗布領域とｎ＋１回目塗布領域の境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布しているため、均一な膜厚が得られる。ｎ回目塗布領域とｎ＋１回目塗布領域の境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布しているのは、以下の理由による。
【００５０】
１回目にインク塗布した後、２回目にインク塗布する際、１回目塗布したインク９がライン状バンク３Ａ内で、インク塗布した後３０秒経過後、約２００μｍ〜５００μｍだけ流動するという実験結果が得られたことによる。そのため、流動することを考慮して、重なる領域の液滴数を減少させることで、膜厚の均一性を保つことが可能となる。すなわち、１回目の塗布後はインクの液滴数を減少させた端の領域は、若干薄くなるが、２回目の塗布後、インク同士が重なり合うので一定時間経過するとインクの膜厚は均一になる。他方、インクの液滴数を減少させず、そのままインク塗布した場合には、１回目のインク塗布領域においてインクの上に、さらに重ねて塗布することになり、膜厚が全体の膜厚に比べて局所的に厚くなるためである。
【００５１】
以上のように、本発明に係る実施の形態１のインクジェット装置においては、各走査の端部の塗布量が中央部の塗布量より少なく塗布することにより、インクの膜厚の不均一による輝度ムラのない高品質のディスプレイを有する電子機器を提供することができる。
【００５２】
本実施の形態のインクジェット装置において、走査方向のドット密度が４８００ｄｐｉ（ドットパーインチ）であるため、走査方向に最小塗布ピッチ５．２９１６６７μｍでの塗布が可能である。インクジェット装置によるガラス基板１に対する塗布処理は、複数回の走査動作において行う構成でとなっている。塗布方法としては、以下の二通りの方法がある。
【００５３】
１つ目の方法は、Ｒインクを１回目、２回目、３回目と各塗布領域に順番に塗布してから、次に、Ｇインクを１回目、２回目、３回目と順番に各塗布領域に塗布して、更にＢインクを１回目、２回目、３回目と順番に各塗布領域に塗布する方法である。
【００５４】
２つ目の方法は、連続して、Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクを塗布する方法である。すなわち、Ｒインクを１回目塗布領域に塗布にした後、Ｇインクを１回目塗布領域に塗布し、更にＢインクを１回目塗布領域に塗布する。次に同じように、Ｒインクを２回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを２回目塗布領域に塗布し、更にＢインクを２回目塗布領域に塗布する。続いてＲインクを３回目塗布領域に塗布した後、Ｇインクを３回目塗布領域に塗布し、さらにＢインクを３回目塗布領域に塗布する。この方法は、塗布領域ごとに連続してインクを順番に塗布する方法である。
【００５５】
ＲＧＢのインク９の塗布順序は、特に限定されないが、本実施の形態においてはＲインク、Ｇインク、Ｂインクの順番で塗布する形態を例示した。なお、塗布後に形成されるＲＧＢの各有機発光層の厚みは、約５０〜１００ｎｍ（例えば７０ｎｍ）であることが好ましい。
【００５６】
実施の形態１のインクジェット装置において、インク９に含まれる有機発光材料は高分子系発光材料であることが好ましく、高分子系発光材料の例としては、ポリフェニレンビニレン（Ｐｏｌｙ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｖｉｎｙｌｅｎｅ（ＰＰＶ））及びその誘導体、ポリアセチレン（Ｐｏｌｙ ａｃｅｔｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリフェニレン（Ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Ｐｏｌｙ ｐａｒａ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｅｔｈｙｌｅｎｅ）及びその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Ｐｏｌｙ ３−ｈｅｘｙｌ ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ （Ｐ３ＨＴ））及びその誘導体、ポリフルオレン（Ｐｏｌｙ ｆｌｕｏｒｅｎｅ （ＰＦ））及びその誘導体等が含まれる。なお、インクの粘度は、約１０ｍＰａ・ｓを採用した。Ｒインク、Ｇインク、Ｂインクの粘度はほぼ同じとした。
【００５７】
図５に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布することにより、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１２％以下に向上した。実際にインク膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。インク膜厚は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定した。また、輝度ムラは実際に発光させて、目視で確認する方法とした。
【００５８】
なお、上記の膜厚の均一性を示すばらつきは、「（最大膜厚値−最小膜厚値）／平均膜厚値×１００［％］」を用いて算出したものである。
【００５９】
図７は、実施の形態１のインクジェット装置を用いて形成された有機発光層等を有する有機ＥＬディスプレイの一例を示すものであり、有機ＥＬディスプレイにおける層構成の概略を示す断面図である。なお、図７に示す各層の相対的な膜厚及び形状は、実際の膜厚及び形状を示すものではなく、説明上わかりやすく記載したものである。
【００６０】
図７に示す有機ＥＬディスプレイは、ベース基板にある平坦化膜２２上に反射陽極２３、正孔注入層２４が形成されており、正孔注入層２４上に前述の図２（ｂ）の画素規制層１０（図示せず）及びバンク３が形成されている。前述のようにバンク３により区画される列領域にインターレイヤー層（ＩＬ層）２５及び有機発光層２６が形成されている。反射陽極２３は図１に示した画素領域４に対応して分離して作成されており、ディスプレイの発光部となる。
【００６１】
なお、画素規制層１０を成膜後に、正孔注入層２４を全面成膜し、その後にバンク３を形成してもよい。画素規制層１０は、通常のフォトリソグラフィ技術により形成される。即ち、画素規制層１０は、レジスト塗布処理、マスク露光処理、現像処理、ドライエッチング処理、レジスト除去処理の順により形成される。
【００６２】
なお、実施の形態１のインクジェット装置は、有機発光層２６の形成における塗布処理において用いると共に、インターレイヤー層（ＩＬ層）２５の形成における塗布処理においても同様の構成のインクジェット装置が用いられる。
【００６３】
図７に示すように、有機ＥＬディスプレイにおいては有機発光層２６及びバンク３を覆うように電子輸送層２７、陰極２８、封止層２９及び樹脂層３０が形成されている。そして、樹脂層３０の上部にはガラス基板３１及び偏光板３２等が設けられて有機ＥＬディスプレイが構成されている。
【００６４】
上記のように構成された有機ＥＬディスプレイは、図８のプロセスフローチャートに示すように製造されている。即ち、平坦化膜形成、反射陽極形成、正孔注入層形成、バンク形成、ＩＬ層形成、有機発光層形成、電子輸送層形成、陰極形成、封止層形成、樹脂層形成の順に製造される。この製造プロセスにおいて、ＩＬ層及び有機発光層が実施の形態１において説明したインクジェット装置を用いて所定の材料が塗布されて生成される。
【００６５】
以上のように、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００６６】
（実施の形態２）
以下、本発明に係る実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００６７】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数のそれぞれ減少させる個数を変えたことと着弾させる位置を変化させたことにある。したがって、実施の形態２の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態２においては省略する。
【００６８】
図９Ａおよび図９Ｂにおける（ａ）乃至（ｅ）は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図である。
【００６９】
図９Ａ及び図９Ｂは、数回に分けてガラス基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示した図であり、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。また、破線の丸は、インクを着弾させない位置４３を示す。着弾させない位置４３とは、本来インクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布させた場合に着弾する位置であるが、各ノズル６を停止させ吐出させないようにしている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。
【００７０】
以下、インク液滴の減少のさせ方について説明する。
【００７１】
図９Ａ（ａ）は、図５のインク液滴を減少させる方法から更に、端に塗布する２列の内１列の液滴を減少させて塗布するやり方である。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域での液滴個数は、２個、０個、２個、０個、１個、１個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７２】
図９Ａ（ｂ）は、図９Ａ（ａ）のインク液滴を減少させる方法に対して、端を減少させる液滴の位置をｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界に対して左右対称ではなく、点対称となる位置を塗布させない方法である。すなわち、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、１個、１個、０個、２個、０個、２個と並んでおり図９Ａ（ａ）と同じ個数である。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７３】
図９Ａ（ｃ）は、図９Ａ（ａ）のインク液滴を減少させる方法に対して、端のみならず、端から１行飛ばした塗布位置でインクを塗布する様子を示す図であり、２列の内１列の液滴を減少させて塗布する方法になる。具体的には、ｎ回目とｎ＋１回目のインク塗布の境界領域での液滴個数は、２個、０個、１個、０個、１個、１個、０個、１個、０個、２個と並んでいる。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７４】
図９Ｂ（ｄ）は、図９Ａ（ｃ）に対して、ｎ回目とｎ＋１回目のインク塗布の境界に対して点対称となる位置の液滴数を減少させる方法を示す図である。すなわち、ｎ回目とｎ＋１回目のインク塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、１個、０個、１個、１個、０個、１個、０個、２個と並んでおり、図９Ａ（ｃ）と同じ個数である。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７５】
図９Ｂ（ｅ）は、図９Ｂ（ｄ）に対して、端に塗布した位置から１行飛ばした位置にインク塗布する液滴の着弾位置を塗布する側を停止し、停止する側を塗布する方法である。具体的には、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、１個、０個、１個、１個、０個、１個、０個、２個と並んでおり、図９Ｂ（ｅ）と同じ個数である。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。
【００７６】
実施の形態２における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同様である。従って、以下、前述の実施の形態１の説明に用いた図１、図３及び図４を参照して説明し、共通する内容については説明を省略する。ガラス基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６との位置関係及び走査方向は、実施の形態１と同様である。
【００７７】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、図９Ａ及び図９Ｂに示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。図９Ａ及び図９Ｂにおける（ａ）乃至（ｅ）の夫々の場合について塗布して膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、（ａ）乃至（ｅ）それぞれの場合の各インクそれぞれに対して膜厚差が１２％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。特に、図９Ｂ（ｅ）が塗布の分散効果により、均一性が良化傾向にあり、膜厚差が１０％以下となった。
【００７８】
膜厚は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定した。また、輝度ムラは実際に発光させて、目視で確認する方法とした。なお、上記の膜厚の均一性を示すばらつきは、「（最大膜厚値−最小膜厚値）／平均膜厚値×１００［％］」を用いて算出したものである。
【００７９】
インクジェット装置は、実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００８０】
（実施の形態３）
以下、本発明に係る実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００８１】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、実施の形態１及び２の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域が重なる点にある。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させる方法は同じである。
【００８２】
従って、実施の形態３の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態３においては省略する。
【００８３】
図１０は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、数回に分けてインクをガラス基板１に塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａとｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示すものである。
【００８４】
同図において、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。破線の丸は、着弾させない位置４３を示す。着弾させない位置４３とは、本来インクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布させた場合に着弾する位置であるが、各ノズル６を停止させ吐出させないようにしている。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍では、着弾数を少なくして着弾させている。また、ｎ回目とｎ＋１回目の着弾位置が重ならないようにインク塗布している。
【００８５】
インク液滴を減少させる方法は、図５と同様である。両者の違いは、ｎ回目とｎ＋１回目の境界の端にインクが着弾するタイミングが違うことである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでおり、図５と同じ個数としている。
【００８６】
本実施の形態における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同様である。従って、以下の実施の形態２においては、前述の実施の形態１の説明に用いた図１、図３及び図４を参照して説明する。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６との位置関係及び走査方向は、前述の実施の形態１と同様である。
【００８７】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、図１０に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときの着弾する個数について、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。実施の形態３の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させない時の最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１２％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【００８８】
なお、膜厚の測定方法や膜厚のばらつきに関する知見は前述の実施の形態１や２と同様である。
【００８９】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割してインクを塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００９０】
（実施の形態４）
以下、本発明に係る実施の形態４の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００９１】
実施の形態４の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１乃至３の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域とｎ＋１回目の塗布領域間に吐出しない領域を設けたことにある。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させる方法は同じである。
【００９２】
従って、本実施の形態の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態４においては省略する。
【００９３】
図１１は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、数回に分けてガラス基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示すものである。
【００９４】
同図において、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示すものである。破線の丸は、着弾させない位置４３を示す。インク液滴の減少の方法は、図５の液滴の減少の方法に、更に１列分減少させて塗布するものである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。
【００９５】
実施の形態４における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同じである。したがって、以下の実施の形態２においては、前述の実施の形態１の説明に用いた図１、図３及び図４を参照して説明する。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６との位置関係及び走査方向は、前述の実施の形態１と同様である。
【００９６】
実施の形態４の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、図１１に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数について、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。実施の形態４の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１０％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【００９７】
本実施の形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００９８】
（実施の形態５）
以下、本発明に係る実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【００９９】
実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１乃至４の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域と、ｎ＋１回目の塗布領域間に吐出しない領域を設けた実施の形態４から、更に境界領域の液滴数を減らしたことにある。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍のインク液滴数をそれぞれ減少させる方法は同じである。
【０１００】
従って、実施の形態５の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態５においては省略する。
【０１０１】
図１２は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示した図で、数回に分けて基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示した図である。
【０１０２】
黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示す。破線の丸は、着弾させない位置４３を示すものである。液滴の減少の方法は、図９Ａ（ｂ）のインク液滴の減少の方法に、更に１列分減少させて塗布する方法である。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、１個、０個、１個、０個、２個、０個、２個と並んでいる。境界領域を他の領域に比べて塗布液滴数を減らしている。実施の形態５における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同じである。
【０１０３】
本実施の形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、図１２に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数について、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する。実施の形態５の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１０％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【０１０４】
インクジェット装置は、実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。
【０１０５】
すなわち、実施の形態５の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【０１０６】
（実施の形態６）
以下、本発明に係る実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。
【０１０７】
実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前述の実施の形態１乃至５の有機ＥＬディスプレイの製造方法と異なる点は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを塗布したときのｎ回目の塗布領域と、ｎ＋１回目の塗布領域が重なるように塗布する点にある。すなわち、前述の実施形態３において、更に実施形態４及び５と同様、吐出しない領域を設けた点にある。
【０１０８】
ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させる方法は同様である。従って、実施の形態６の説明においては、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付してその説明は実施の形態１の説明を援用して実施の形態５においては省略する。
【０１０９】
図１３は、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾位置を示す図であり、数回に分けてガラス基板１にインクを塗布した場合のｎ回目の塗布領域４０Ａと、ｎ＋１回目の塗布領域４０Ｂの境界領域付近を示すものである。
【０１１０】
同図において、黒丸がｎ回目の着弾位置４１を示し、白丸がｎ＋１回目の着弾位置４２を示す。また、破線の丸は、着弾させない位置４３を示している。
【０１１１】
液滴の減少のさせ方は、図１１と同様である。両者の相違点は、ｎ回目とｎ＋１回目の境界の端の着弾するタイミングが違うことである。ｎ回目とｎ＋１回目の塗布の境界領域では、液滴個数は、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個、０個、２個と並んでおり、図１１と同じ個数である。実施の形態６における有機ＥＬディスプレイ及びインクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１と同様である。
【０１１２】
実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、図１３に示すように、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内に、インクジェットヘッド５の各ノズル６からインク塗布したときの着弾する個数を、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界近傍の液滴数をそれぞれ減少させて塗布する方法である。
【０１１３】
本実施の形態の場合について膜厚均一性を評価した結果、液滴数を減少させないときの最大最小の膜厚差が平均膜厚に対して約２０％であるのに対して、各インクそれぞれに対して膜厚差が１０％以下に向上した。実際に膜厚の不均一による輝度ムラを低減することができた。
【０１１４】
実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、インクジェット装置は、有機発光層等の生成プロセスにおいて用いられ、多数回に分割して塗布した場合でも、各走査の端部の塗布量を中央部の塗布量より少なく塗布することにより、画素内の膜厚が均一な所定の機能膜を形成することができる。すなわち、実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜厚の均一性を確保することができるため、輝度ムラのない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【０１１５】
以上、本発明に係る好適な実施形態１乃至実施形態６について説明したが、実施形態１乃至実施形態６において、よりインク９の粘度が低い場合や画素領域４の塗布面のインク９に対する接触角がより小さい場合、インク９の流動性が高くなる。そのため、ｎ回目とｎ＋１回目の塗布領域境界の液滴数をより減少させて塗布するようにすることが好ましい。
【０１１６】
具体的には、よりインク９の粘度が低い場合や画素領域４の塗布面のインク９に対する接触角がより小さい場合、実施形態１よりも実施形態２を採用する方が膜厚の均一化の効果がある。更には実施形の態２では、図９Ａ（ａ）、（ｂ）よりも図９Ａ（ｃ）、図９Ｂ（ｄ）、（ｅ）を採用する方がより膜厚均一化の効果がある。これは、液滴数を減らし、分散させたことにより、より均一化が図れるためである。
【０１１７】
また、実施形態３よりも実施形態４乃至実施形態６を採用する方が膜厚均一化の効果がある。これも、液滴数を減らし、分散させたことにより、より均一化が図れるためである。粘度や接触角の値に応じて、塗布の形態を選択することが好ましい。
【０１１８】
また、本発明は上記の実施の形態１乃至実施の形態６の構成や製造工程を示す内容に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく様々な変更が可能である。
【０１１９】
例えば、実施の形態１、実施の形態３及び実施の形態６においては、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを２列で塗布する例としたが、１列でも３列以上でも同様の効果を奏する。
【０１２０】
実施の形態２、実施の形態４、実施の形態５においては、ライン状バンク３Ａにより挟まれた列領域内にインクジェットヘッド５の各ノズル６からインクを２列で塗布する例としたが、３列以上でも同様の効果を奏する。
【０１２１】
実施の形態１乃至実施の形態６においては、ノズルから吐出するインクの通常の吐出周波数を１０ｋＨｚとして説明したが、特にこの周波数に限定されるものではなく、製造される有機ＥＬディスプレイの仕様等に応じて適宜設定される。また、実施の形態１乃至実施の形態６においては、走査方向のドット密度を４８００ｄｐｉ（ドットパーインチ）としたが、特に限定されるものではなく、製造される有機ＥＬディスプレイの仕様等に応じて適宜設定される。
【０１２２】
また、実施の形態１乃至実施の形態６においては、インクジェットヘッドにおいて複数のノズルがライン状に配置された列を走査方向に対して斜めに配置して、走査方向に直交する方向のノズル間のピッチを約２０μｍ（例えば、２１．１６６６６μｍ）として設計した。これは、ノズルから吐出されたインクが着滴位置において互いに連結するようにするためである。したがって、走査方向に直交する方向のノズル間のピッチは、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましいが、特に限定する必要はない。
【０１２３】
また、実施の形態１乃至実施の形態６において、ノズルから吐出されるインクの１滴当たりの量は、５ｐｌとしたが、１ｐｌ〜１５ｐｌの範囲内であることが好ましく、特に限定されるものではない。
【０１２４】
また、実施の形態１乃至実施の形態６においては、インクの粘度が１０ｍＰａ・ｓのものを用いたが、本発明においてはインクの粘度をこの数値に限定するものではなく、約５〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内が好ましく、特に限定されるものではい。
【０１２５】
更に、実施の形態１乃至実施の形態６においては、各形態において液滴数を減らしているが、塗布しない個数に特に限定されることなく、塗布しない個数はバンク３により囲まれた列領域内の下地の親水度に依存し、最適な個数にすることにより同様の効果があり、所望の高品質の有機ＥＬディスプレイを製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明は、基板上に均一な塗布膜を形成することを可能とし、輝度ムラを低減させると共に基板に対して高い電圧を供給することもないため、例えば長寿命で高画質の有機ＥＬディスプレイに適用できる。また、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、携帯電話、カーナビゲーションなどの他、有機半導体等、構造の均一性を要求される電子デバイスにも適用が期待できる。
【符号の説明】
【０１２７】
４０Ａ ｎ回目の塗布領域
４０Ｂ ｎ＋１回目の塗布領域
４１ ｎ回目の着弾位置
４２ ｎ＋１回目の着弾位置
４３ 着弾させない位置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布して機能膜を形成する方法において、
前記塗布領域に対して前記ノズルを複数回走査して前記インクを塗布する際、
前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記ノズルの中央部から塗布されるインク塗布量より少ないこと
を特徴とする機能膜の製造方法。
【請求項２】
複数種のインクを別々の塗布領域に塗布する際、
前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記インクの種類毎に異なった量である、
請求項１記載の機能膜の製造方法。
【請求項３】
前記インクは機能膜であり、
有機電界発光ディスプレイにおける有機発光層である、請求項１又は２に記載の機能膜の製造方法。
【請求項１】
互いに平行な２以上のライン状のバンクのライン方向に対して、所定のピッチで列状に配列されたノズルを垂直方向に相対移動させながら、前記ノズルからインクを滴下することで、前記バンクで規定された塗布領域内に前記インクを塗布して機能膜を形成する方法において、
前記塗布領域に対して前記ノズルを複数回走査して前記インクを塗布する際、
前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記ノズルの中央部から塗布されるインク塗布量より少ないこと
を特徴とする機能膜の製造方法。
【請求項２】
複数種のインクを別々の塗布領域に塗布する際、
前記ノズルの端部のインク塗布量は、前記インクの種類毎に異なった量である、
請求項１記載の機能膜の製造方法。
【請求項３】
前記インクは機能膜であり、
有機電界発光ディスプレイにおける有機発光層である、請求項１又は２に記載の機能膜の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１１−１２９３３７（Ｐ２０１１−１２９３３７Ａ）
【公開日】平成２３年６月３０日（２０１１．６．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２８６１１６（Ｐ２００９−２８６１１６）
【出願日】平成２１年１２月１７日（２００９．１２．１７）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月３０日（２０１１．６．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月１７日（２００９．１２．１７）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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