水栓および水栓の製造方法
【課題】外力の印加した場合にも、意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓を提供する。
【解決手段】本発明では、表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする水栓を提供する。
【解決手段】本発明では、表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする水栓を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外力を印加した場合にも、意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓に関する。
【背景技術】
【０００２】
水道の蛇口に代表される水栓は、生活用品として利用されるため外観美が求められる。 そのため、通常、銅合金等の金属やプラスチックの表面に、めっき層が形成されている。
【０００３】
しかしながら、水栓表面には、長期間の使用により、手垢、水垢、石鹸かすなどの汚れが付着し、外観を損ねるという問題があった。
これら汚れを除去するために、スポンジやたわしで洗浄することで、汚れは除去されるが、同時に水栓表面にスポンジやたわしで擦ったことによる傷が発生し、結果として外観美を損なうという問題があった。
【０００４】
このような課題を解決するために、表面に撥水撥油性防汚層を形成した水栓金具（例えば、特許文献１参照。）やシリコーン撥水被膜を形成した水栓（例えば、特許文献２参照。）、ＳｉＯ２系セラミック被膜を形成する方法（例えば、特許文献３参照。）などが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３０７０７
【特許文献２】特開２００１−２９５３３４
【特許文献３】特開平８−９９０６１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１記載の撥水撥油性防汚層を形成した水栓金具では、防汚層が汚れの付着に対してある程度の効果は発揮するものの、たわしなどで強固に擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００７】
また、特許文献２記載のシリコーン撥水被膜を形成した水栓であっても、被膜が汚れの付着に対してある程度の効果は発揮するものの、やはりたわしなどで強固に擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００８】
また、特許文献３記載のＳｉＯ２系セラミック被膜を形成する方法では、安価な方法で各種基材の表面にセラミック被膜を形成することができるものの、例えば焼成された金属酸化物からなる陶器などとの接触では、やはり傷が容易に発生し、耐傷性は十分ではなかったし、アルカリ洗剤などとの接触により被膜が剥離、劣化するなどするため、耐薬品性は十分ではなかった。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、外力を印加した場合にも、意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために本発明では、表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする水栓を提供する。
【００１１】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍとする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍとする。
【００１２】
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
【００１３】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部が略透明であるようにする。
【００１４】
本発明では、水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｄ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｄ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法を提供する。
【００１５】
本発明では、水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｆ）（Ｆ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｆ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｆ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ（ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｆ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｆ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、外力を印加した場合にも、意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明の最良の形態について説明する。
本発明の一形態は、表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする。そうすることで、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓の提供を可能とした。
【００１８】
ここで、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０.５重量部未満であると、耐薬品性が発揮されないし、２０重量部より大きいと、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持される効果が著しく低下する。
【００１９】
ここで、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、水栓上に三次元網目構造を構築するものであり、一部三次元網目構造を形成しない未反応残基が存在していてもよい。
また、シリカには微量の金属、窒素、水素が含まれていてもよく、所謂水ガラス等も含む。
【００２０】
ここで、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物は、（Ａ）とともに水栓上に三次元網目構造を構築し、かつ耐薬品性、特に耐アルカリ性を向上させる作用を発揮するものであり、一部三次元網目構造を形成しない未反応残基が存在していてもよい。
【００２１】
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にも水栓への追従性が向上し、水栓の意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、より水栓の意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
【００２２】
ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％未満であると、外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０重量％以上では、被覆部中の三次元網目構造が粗となるため、やはり外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２３】
ここで、被覆部中のふっ素樹脂粒子の含有量とは、被覆部の総重量に対するふっ素樹脂粒子の重量比であり、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の重量はＳｉＯ２換算重量であり、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物の重量はＺｒＯ２換算重量である。
【００２４】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであるようにするのが好ましい。
ここで、本発明において膜厚とは、三次元網目構造の膜厚であり、ふっ素樹脂粒子が一部露出している場合、露出部を含まない部分の厚みを意味し、走査型電子顕微鏡等による断面観察によって測定することができる。
０．３μｍより膜厚が小さいと、外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０μｍ以上になると被覆部にクラックが入るなどするため、やはり外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２５】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであるようにするのがより好ましい。
膜厚が８μｍ以下であると、種々の適用方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２６】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
平均粒径が０．１μｍより小さいと、外力を印加にした場合に、水栓の意匠性を維持する作用が低下し、２０μｍより大きくなると、水栓の意匠性を損なうこととなる。
【００２７】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
平均粒径が８μｍ以下であると、種々の適用方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２８】
本発明の水栓の好ましい製造方法としては、水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｄ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｄ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成する方法があげられる。
【００２９】
ここで、（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）は加熱によりシリカへの転化が生じ、硬化して水栓上に三次元網目構造を形成する。
シリカ転化を生じさせるためには１００℃以上で加熱することが望ましく、２００℃以上で加熱すると、より転化反応が促進され望ましい。
【００３０】
また、加熱温度が高くなると、水栓の表面が酸化されて変色が発生するため、水栓の意匠性を損ねることとなる。
また、ふっ素樹脂粒子の耐熱性から３５０℃以下であることがより好ましい。
【００３１】
以下、本発明の水栓と、水栓の製造方法について具体的に説明する。
本発明において、水栓としては、銅合金、プラスチック、これら表面にクロム、ニッケル等のめっき層が形成されたものなどが用いられる。
めっき層が形成されたものは、金属光沢があり、平滑な表面となっており、外観美に優れるが、めっき層が外力を印加したときに傷が発生しやすく、傷によって金属光沢が損なわれるため特に傷が目立ちやすく、著しく意匠性を損なうため、本発明の外力を印加した場合に、意匠性を維持する効果がより顕著に発揮される。
【００３２】
また本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、水栓表面に三次元網目構造を形成し、被覆部を形成するものである。
【００３３】
本発明において、ふっ素樹脂粒子とは、ふっ素樹脂の粒状物を意味し、ふっ素樹脂粒子が好ましく、被覆部中での分散性が良好で、外力が印加された時に粒子の脱落が起こりにくいことから、球形のものが好ましい。
【００３４】
次に、ふっ素樹脂粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル−フルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステル−フルオロオレフィンコポリマー、テトラフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、クロロトリフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、テトラフルオロエチレンウレタン架橋体、テトラフルオロエチレンエポキシ架橋体、テトラフルオロエチレンアクリル架橋体、テトラフルオロエチレンメラミン架橋体等フルオロ基を含有するポリマーが挙げられる。
【００３５】
本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなる被覆部は、三次元網目構造にふっ素樹脂粒子が分散していても良く、ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていても良い。
【００３６】
本発明において、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持されるとは、例えば固形物との接触による傷発生による意匠性の低下を抑制する作用を意味し、より具体的には、例えば、付着した汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦った場合に、傷が発生して意匠性が低下することを抑制する作用を意味する。
【００３７】
本発明において、略透明とは、水栓の質感が損なわれない程度の透明性を有し、外観上、水栓の意匠性を確認できる程度の透明性を意味する。
例えば銅合金のクロムめっきを施した水栓基材に被覆部を形成した場合では、クロムめっきの光沢、質感、色調を確認できることを意味し、クロムめっきに着色、絵柄などの模様が存在する場合に、その色、絵柄、模様が確認できる程度の透明性を意味する。
略透明で、外力を印加した場合にも意匠性が維持される水栓は、略透明であるため、水栓基材本来の意匠性が被覆部を形成しても維持されており、その意匠性が、外力を印加した場合にも維持されるため好ましい。
【００３８】
本発明において、（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）において、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル等が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブレニル、ペンテニル、ヘキセニル、ブチニル、オクテニル、デセニル等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げられる。
【００３９】
本発明において、（Ｆ）（Ｆ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｆ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｆ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ（ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物において、、一般式（１）で表される化合物の具体例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、トリフェノキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フルオロトリフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリフェノキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリフェノキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリフェノキシシラン、ｔ−ブチルトリメトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル−ジ−エトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビニルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００４０】
本発明において、一般式（２）で表される化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフェノキシシランなどが挙げられる。
【００４１】
本発明において、一般式（３）で表される化合物の具体例としては、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、ヘキサフェノキシジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキシジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−フェニルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−１−（トリメトキシシリル）メタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−１−（トリエトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−２−（トリメトキシシリル）エタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−２−（トリエトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジエトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジエトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ-t- ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼンなどを挙げることができる。
【００４２】
Ｚｒ元素含有化合物としては、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラｔ−ブトキシド、ジルコニウムテトラオクチネート、ジルコニウムテトラアセテート、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムブトキシモノアセチルアセトナート、ジルコニウムブトキシモノアセチルアセトナートビスエチルアセテート、ジルコニウムイソプロポキシドモノアセチルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドビスアセチルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドトリアセチルアセトナート、ジルコニウムｔ−ブトキシモノアセチルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドモノベンゾイルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドビスベンゾイルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドトリベンゾイルアセトナート、ジルコニウムアセテート等のジルコニウムアルコシド、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアシレート化合物およびそれらの部分加水分解物、部分加水分解縮重合物をあげることができる。
【００４３】
本発明において、コーティング液の適用方法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ロールコート法ならびにこれらの併用等、既知の適用手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、コーティング液の濃度や粘度を変えることにより制御することができる。
【実施例】
【００４４】
以下に実施例をあげて、本発明をより具体的に説明する。
【００４５】
図１、図２、図３は、本発明の様々なパターンの水栓の断面図である。
【００４６】
水栓基材１上に被覆部２が設けられており、該被覆部２は、三次元網目構造３とふっ素樹脂粒子４からなり、該被覆部２はふっ素樹脂粒子が被覆部にある程度の柔軟性を付与するため、外力を印加された場合にも、水栓の意匠性を維持する作用を発揮する。
また、三次元網目構造にはＺｒ元素含有化合物が含まれており、耐アルカリ性を発揮する。
【００４７】
このような水栓は、例えば、汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦るような外力の印加があった場合でも、水栓の意匠性を維持することができるとともに、例えば、漂白剤などのアルカリ洗剤との接触があった場合にも、耐アルカリ性を発揮することができる。
【００４８】
被覆部２に含有されるふっ素樹脂粒子４は、図１のようにふっ素樹脂粒子４が三次元網目構造３中に分散していても良く、図２のようにふっ素樹脂粒子４の一部が露出していても良く、図３のようにふっ素樹脂粒子４の自形により形成される凸部を三次元網目構造３が覆った状態であっても良い。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、ふっ素樹脂粒子の可塑性がより顕著に発揮されるとともに、外力の印加があった場合に、ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部が三次元網目構造への外力の伝播を抑制するため、外力の印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が顕著に発揮される。
【００４９】
次いで、外表面側に被覆部が形成された水栓の好ましい製造方法について、実験結果をもとに説明する。ここで外表面側とは、日常人目に曝されることがあり、スポンジやたわしで洗浄されることがある、外側の面側のことであり、通水される水栓内部側のことではない。
【００５０】
本発明の水栓の被覆部の観察には、日立製作所（株）製の走査型電子顕微鏡Ｓ４１００を用いた。
被覆部の膜厚は、断面観察により調べられる。また、被覆部の膜厚とは、三次元網目構造３の厚み（図中Δｔで示す）であり、ふっ素樹脂粒子による凸部の厚みは含まない。
被覆部中のふっ素樹脂粒子の分散状態については、表面から観察を行った。
また、被覆部の凹凸構造については、表面、斜めからの観察を行い、ふっ素樹脂が凸部を形成していることを確認した。
【００５１】
本発明のふっ素樹脂粒子の粒径は、（株）島津製作所製のレーザー回折式粒度分布計ＳＡＬＤ７０００を用いて測定し、平均粒径とは体積分布の５０％中心粒径を意味する。
【００５２】
（実施例１）
水栓の表面と同一の材料となるように基材を作成する。銅合金の平板にニッケルめっき層を約１０μｍの厚みで形成した後、クロムめっき層を約０．５μｍの厚みで形成して、水栓の表面と同一の材料からなる平板を得た。
得られた平板を基材として用いた。
表１の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。本実施例では適用方法として塗布方法を用いた。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は０．８６重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５３】
【表１】
【００５４】
（実施例２）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表２の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５５】
【表２】
【００５６】
（実施例３）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表３の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．４重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は８．６重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５７】
【表３】
【００５８】
（実施例４）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表４の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５９】
【表４】
【００６０】
（実施例５）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表５の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は１２．８重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６１】
【表５】
【００６２】
（実施例６）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表６の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は２２μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６３】
【表６】
【００６４】
（比較例１）
銅合金の平板にニッケルめっき層を約１０μｍの厚みで形成した後、クロムめっき層を約０．５μｍの厚みで形成して、水栓の表面と同一の材料からなる平板を得た。
得られた平板を比較例１として用いた。
【００６５】
（比較例２）
実施例１のコーティング液から、ふっ素樹脂粒子を除いた以外は、実施例１と同様にして、被覆部を被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６６】
（比較例３）
実施例１のコーティング液から、オクチル酸ジルコニル液を除いた以外は、実施例１と同様にして、被覆部を被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６７】
（比較例４）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表７の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は０．１重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６８】
【表７】
【００６９】
（比較例５）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表８の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２１重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００７０】
【表８】
【００７１】
（比較例６）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表９の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は２２．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は１．０μｍであった。
【００７２】
【表９】
【００７３】
（評価方法）
（１）外観
目視にて水栓の外観を評価した。
判定基準 ○：水栓の意匠性を完全に維持している △：水栓の意匠性がやや低下しているが、水栓の意匠は確認できる ×：水栓の意匠性を著しく損なっており、水栓の意匠が確認できない
（２）外力を印加したときの意匠性の維持性の評価
研磨剤入りの硬質スポンジを２０×２０ｍｍに切り出したものを摺動子として用いた。荷重をさらに加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は５０ｇと２００ｇの場合それぞれについて評価し、摺動回数は１００回とした。荷重５０ｇでは女性が通常の洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定し、荷重２００ｇでは女性が、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定して設定した。
判定基準 ◎：傷の発生なく、意匠性変化なし ○：微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △：傷発生し、意匠性がやや低下 ×：顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
（３）耐洗剤性評価
市販の排水パイプ用洗浄剤（アルカリ性、ＮａＯＨ３．５％）に２４ｈｒ浸漬した後、外力を印加したときの水栓の意匠性の維持性を評価した。研磨剤入りの硬質スポンジを２０×２０ｍｍに切り出したものを摺動子として用いた。荷重をさらに加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は２００ｇとし、摺動回数は１００回とした。
判定基準 ◎：傷の発生なく、意匠性変化なし ○：微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △：傷発生し、意匠性がやや低下 ×：顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
（４）暴露評価
実施例１〜６と比較例１についてのみ評価を行った。
４人家族の洗面所の水栓金具の周辺に３ヶ月間暴露した後、研磨剤入りスポンジで通常の洗浄を行った後の外観を目視にて評価した。
判定基準 ○：ほとんど暴露前と同様の意匠性が維持されていた △：汚れがわずかに残ったり、洗浄による傷がわずかに入ったりしてやや意匠性が損なわれた ×：汚れが除去されない、または洗浄により顕著に傷が入ったりして著しく意匠性が損なわれている
【００７４】
（評価結果）
評価結果を表１０に示す。
【００７５】
【表１０】
【００７６】
図４は実施例２の被覆部の表面からの観察写真である。本発明の実施例１〜６は、走査型電子顕微鏡による表面、斜めからの観察の結果、被覆部中にふっ素樹脂粒子が分散しており、被覆部表面には、ふっ素樹脂粒子の自形により凸部が形成されていることが確認できた。
本発明の実施例１〜５は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。実施例６では実施例１〜５に比べるとやや透明性が劣るものの、基材の意匠性は確認できた。
本発明の実施例１〜６では通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されている。
実施例１、２、４、５では、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が完全に維持されていた。
また、耐洗剤性についても、本発明の実施例１〜６はいずれも洗剤との接触があっても、外力の印加があった場合に基材の意匠性を維持する作用は良好に発揮されており、特に実施例２〜６においては、洗剤との接触の後でも、接触前と全く変わらず、外力の印加があった場合に基材の意匠性を維持する作用が極めて良好に発揮されていた。
【００７７】
表１０から明らかなように、
比較例１では、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力の印加であっても顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子を含有しない比較例２、ふっ素樹脂粒子の含有量が０．１重量％の比較例４では、比較例１に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加でも意匠性の低下が見られ、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子の含有量が２２．７重量％の比較例６では、やや透明性が劣る外観であり、比較例１に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力の印加でも意匠性の低下が見られ、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
比較例３は、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が完全に維持されていたが、Ｚｒ元素含有化合物を含有しないため、その作用は洗剤との接触で著しく損なわれており、洗剤と接触した後に力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは、傷が発生し、基材の意匠性が低下した。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対して、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度を２１重量部含有する比較例５では、Ｚｒ元素含有化合物を過剰に含有するため、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力の印加でも意匠性の低下が見られ、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
【００７８】
また、暴露評価の結果、いずれにも白色の所謂水垢と思われる汚れが付着していた。本発明の実施例１〜６は比較例１と比べて汚れの付着が軽微であった。その後、洗浄を行うことで、容易にすべての汚れが完全に除去され、また洗浄による傷の発生もなく、暴露前と同様の意匠性が維持されていた。
比較例１では、洗浄を行っても、汚れが除去されず、汚れが除去される前に基材に傷が発生し、除去されなかった汚れと傷によって、著しく外観を損なう結果となった。
【００７９】
図５は、本発明の水栓の概略図である。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本発明の水栓の断面図である。
【図２】本発明の水栓の断面図である。
【図３】本発明の水栓の断面図である。
【図４】本発明実施例２の被覆部の表面観察写真である。
【図５】本発明の水栓の概略図である。
【符号の説明】
【００８１】
１ ：水栓基材
２ ：被覆部
３ ：三次元網目構造体
４ ：ふっ素樹脂粒子
５ ：水栓
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外力を印加した場合にも、意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓に関する。
【背景技術】
【０００２】
水道の蛇口に代表される水栓は、生活用品として利用されるため外観美が求められる。 そのため、通常、銅合金等の金属やプラスチックの表面に、めっき層が形成されている。
【０００３】
しかしながら、水栓表面には、長期間の使用により、手垢、水垢、石鹸かすなどの汚れが付着し、外観を損ねるという問題があった。
これら汚れを除去するために、スポンジやたわしで洗浄することで、汚れは除去されるが、同時に水栓表面にスポンジやたわしで擦ったことによる傷が発生し、結果として外観美を損なうという問題があった。
【０００４】
このような課題を解決するために、表面に撥水撥油性防汚層を形成した水栓金具（例えば、特許文献１参照。）やシリコーン撥水被膜を形成した水栓（例えば、特許文献２参照。）、ＳｉＯ２系セラミック被膜を形成する方法（例えば、特許文献３参照。）などが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３０７０７
【特許文献２】特開２００１−２９５３３４
【特許文献３】特開平８−９９０６１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１記載の撥水撥油性防汚層を形成した水栓金具では、防汚層が汚れの付着に対してある程度の効果は発揮するものの、たわしなどで強固に擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００７】
また、特許文献２記載のシリコーン撥水被膜を形成した水栓であっても、被膜が汚れの付着に対してある程度の効果は発揮するものの、やはりたわしなどで強固に擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００８】
また、特許文献３記載のＳｉＯ２系セラミック被膜を形成する方法では、安価な方法で各種基材の表面にセラミック被膜を形成することができるものの、例えば焼成された金属酸化物からなる陶器などとの接触では、やはり傷が容易に発生し、耐傷性は十分ではなかったし、アルカリ洗剤などとの接触により被膜が剥離、劣化するなどするため、耐薬品性は十分ではなかった。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、外力を印加した場合にも、意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために本発明では、表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする水栓を提供する。
【００１１】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍとする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍとする。
【００１２】
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
【００１３】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部が略透明であるようにする。
【００１４】
本発明では、水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｄ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｄ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法を提供する。
【００１５】
本発明では、水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｆ）（Ｆ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｆ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｆ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ（ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｆ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｆ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、外力を印加した場合にも、意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明の最良の形態について説明する。
本発明の一形態は、表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする。そうすることで、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持され、耐薬品性にも優れた水栓の提供を可能とした。
【００１８】
ここで、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０.５重量部未満であると、耐薬品性が発揮されないし、２０重量部より大きいと、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持される効果が著しく低下する。
【００１９】
ここで、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、水栓上に三次元網目構造を構築するものであり、一部三次元網目構造を形成しない未反応残基が存在していてもよい。
また、シリカには微量の金属、窒素、水素が含まれていてもよく、所謂水ガラス等も含む。
【００２０】
ここで、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物は、（Ａ）とともに水栓上に三次元網目構造を構築し、かつ耐薬品性、特に耐アルカリ性を向上させる作用を発揮するものであり、一部三次元網目構造を形成しない未反応残基が存在していてもよい。
【００２１】
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にも水栓への追従性が向上し、水栓の意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、より水栓の意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
【００２２】
ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％未満であると、外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０重量％以上では、被覆部中の三次元網目構造が粗となるため、やはり外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２３】
ここで、被覆部中のふっ素樹脂粒子の含有量とは、被覆部の総重量に対するふっ素樹脂粒子の重量比であり、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の重量はＳｉＯ２換算重量であり、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物の重量はＺｒＯ２換算重量である。
【００２４】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであるようにするのが好ましい。
ここで、本発明において膜厚とは、三次元網目構造の膜厚であり、ふっ素樹脂粒子が一部露出している場合、露出部を含まない部分の厚みを意味し、走査型電子顕微鏡等による断面観察によって測定することができる。
０．３μｍより膜厚が小さいと、外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０μｍ以上になると被覆部にクラックが入るなどするため、やはり外力を印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２５】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであるようにするのがより好ましい。
膜厚が８μｍ以下であると、種々の適用方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２６】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
平均粒径が０．１μｍより小さいと、外力を印加にした場合に、水栓の意匠性を維持する作用が低下し、２０μｍより大きくなると、水栓の意匠性を損なうこととなる。
【００２７】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
平均粒径が８μｍ以下であると、種々の適用方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２８】
本発明の水栓の好ましい製造方法としては、水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｄ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｄ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成する方法があげられる。
【００２９】
ここで、（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）は加熱によりシリカへの転化が生じ、硬化して水栓上に三次元網目構造を形成する。
シリカ転化を生じさせるためには１００℃以上で加熱することが望ましく、２００℃以上で加熱すると、より転化反応が促進され望ましい。
【００３０】
また、加熱温度が高くなると、水栓の表面が酸化されて変色が発生するため、水栓の意匠性を損ねることとなる。
また、ふっ素樹脂粒子の耐熱性から３５０℃以下であることがより好ましい。
【００３１】
以下、本発明の水栓と、水栓の製造方法について具体的に説明する。
本発明において、水栓としては、銅合金、プラスチック、これら表面にクロム、ニッケル等のめっき層が形成されたものなどが用いられる。
めっき層が形成されたものは、金属光沢があり、平滑な表面となっており、外観美に優れるが、めっき層が外力を印加したときに傷が発生しやすく、傷によって金属光沢が損なわれるため特に傷が目立ちやすく、著しく意匠性を損なうため、本発明の外力を印加した場合に、意匠性を維持する効果がより顕著に発揮される。
【００３２】
また本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、水栓表面に三次元網目構造を形成し、被覆部を形成するものである。
【００３３】
本発明において、ふっ素樹脂粒子とは、ふっ素樹脂の粒状物を意味し、ふっ素樹脂粒子が好ましく、被覆部中での分散性が良好で、外力が印加された時に粒子の脱落が起こりにくいことから、球形のものが好ましい。
【００３４】
次に、ふっ素樹脂粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル−フルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステル−フルオロオレフィンコポリマー、テトラフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、クロロトリフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、テトラフルオロエチレンウレタン架橋体、テトラフルオロエチレンエポキシ架橋体、テトラフルオロエチレンアクリル架橋体、テトラフルオロエチレンメラミン架橋体等フルオロ基を含有するポリマーが挙げられる。
【００３５】
本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなる被覆部は、三次元網目構造にふっ素樹脂粒子が分散していても良く、ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていても良い。
【００３６】
本発明において、外力を印加した場合にも、水栓の意匠性が維持されるとは、例えば固形物との接触による傷発生による意匠性の低下を抑制する作用を意味し、より具体的には、例えば、付着した汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦った場合に、傷が発生して意匠性が低下することを抑制する作用を意味する。
【００３７】
本発明において、略透明とは、水栓の質感が損なわれない程度の透明性を有し、外観上、水栓の意匠性を確認できる程度の透明性を意味する。
例えば銅合金のクロムめっきを施した水栓基材に被覆部を形成した場合では、クロムめっきの光沢、質感、色調を確認できることを意味し、クロムめっきに着色、絵柄などの模様が存在する場合に、その色、絵柄、模様が確認できる程度の透明性を意味する。
略透明で、外力を印加した場合にも意匠性が維持される水栓は、略透明であるため、水栓基材本来の意匠性が被覆部を形成しても維持されており、その意匠性が、外力を印加した場合にも維持されるため好ましい。
【００３８】
本発明において、（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）において、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル等が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブレニル、ペンテニル、ヘキセニル、ブチニル、オクテニル、デセニル等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げられる。
【００３９】
本発明において、（Ｆ）（Ｆ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｆ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｆ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ（ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物において、、一般式（１）で表される化合物の具体例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、トリフェノキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フルオロトリフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリフェノキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリフェノキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリフェノキシシラン、ｔ−ブチルトリメトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル−ジ−エトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビニルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００４０】
本発明において、一般式（２）で表される化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフェノキシシランなどが挙げられる。
【００４１】
本発明において、一般式（３）で表される化合物の具体例としては、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、ヘキサフェノキシジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキシジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−フェニルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−１−（トリメトキシシリル）メタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−１−（トリエトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−２−（トリメトキシシリル）エタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−２−（トリエトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジエトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジエトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ-t- ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼンなどを挙げることができる。
【００４２】
Ｚｒ元素含有化合物としては、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラｔ−ブトキシド、ジルコニウムテトラオクチネート、ジルコニウムテトラアセテート、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムブトキシモノアセチルアセトナート、ジルコニウムブトキシモノアセチルアセトナートビスエチルアセテート、ジルコニウムイソプロポキシドモノアセチルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドビスアセチルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドトリアセチルアセトナート、ジルコニウムｔ−ブトキシモノアセチルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドモノベンゾイルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドビスベンゾイルアセトナート、ジルコニウムイソプロポキシドトリベンゾイルアセトナート、ジルコニウムアセテート等のジルコニウムアルコシド、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアシレート化合物およびそれらの部分加水分解物、部分加水分解縮重合物をあげることができる。
【００４３】
本発明において、コーティング液の適用方法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ロールコート法ならびにこれらの併用等、既知の適用手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、コーティング液の濃度や粘度を変えることにより制御することができる。
【実施例】
【００４４】
以下に実施例をあげて、本発明をより具体的に説明する。
【００４５】
図１、図２、図３は、本発明の様々なパターンの水栓の断面図である。
【００４６】
水栓基材１上に被覆部２が設けられており、該被覆部２は、三次元網目構造３とふっ素樹脂粒子４からなり、該被覆部２はふっ素樹脂粒子が被覆部にある程度の柔軟性を付与するため、外力を印加された場合にも、水栓の意匠性を維持する作用を発揮する。
また、三次元網目構造にはＺｒ元素含有化合物が含まれており、耐アルカリ性を発揮する。
【００４７】
このような水栓は、例えば、汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦るような外力の印加があった場合でも、水栓の意匠性を維持することができるとともに、例えば、漂白剤などのアルカリ洗剤との接触があった場合にも、耐アルカリ性を発揮することができる。
【００４８】
被覆部２に含有されるふっ素樹脂粒子４は、図１のようにふっ素樹脂粒子４が三次元網目構造３中に分散していても良く、図２のようにふっ素樹脂粒子４の一部が露出していても良く、図３のようにふっ素樹脂粒子４の自形により形成される凸部を三次元網目構造３が覆った状態であっても良い。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、ふっ素樹脂粒子の可塑性がより顕著に発揮されるとともに、外力の印加があった場合に、ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部が三次元網目構造への外力の伝播を抑制するため、外力の印加した場合に、水栓の意匠性が維持される作用が顕著に発揮される。
【００４９】
次いで、外表面側に被覆部が形成された水栓の好ましい製造方法について、実験結果をもとに説明する。ここで外表面側とは、日常人目に曝されることがあり、スポンジやたわしで洗浄されることがある、外側の面側のことであり、通水される水栓内部側のことではない。
【００５０】
本発明の水栓の被覆部の観察には、日立製作所（株）製の走査型電子顕微鏡Ｓ４１００を用いた。
被覆部の膜厚は、断面観察により調べられる。また、被覆部の膜厚とは、三次元網目構造３の厚み（図中Δｔで示す）であり、ふっ素樹脂粒子による凸部の厚みは含まない。
被覆部中のふっ素樹脂粒子の分散状態については、表面から観察を行った。
また、被覆部の凹凸構造については、表面、斜めからの観察を行い、ふっ素樹脂が凸部を形成していることを確認した。
【００５１】
本発明のふっ素樹脂粒子の粒径は、（株）島津製作所製のレーザー回折式粒度分布計ＳＡＬＤ７０００を用いて測定し、平均粒径とは体積分布の５０％中心粒径を意味する。
【００５２】
（実施例１）
水栓の表面と同一の材料となるように基材を作成する。銅合金の平板にニッケルめっき層を約１０μｍの厚みで形成した後、クロムめっき層を約０．５μｍの厚みで形成して、水栓の表面と同一の材料からなる平板を得た。
得られた平板を基材として用いた。
表１の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。本実施例では適用方法として塗布方法を用いた。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は０．８６重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５３】
【表１】
【００５４】
（実施例２）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表２の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５５】
【表２】
【００５６】
（実施例３）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表３の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．４重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は８．６重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５７】
【表３】
【００５８】
（実施例４）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表４の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５９】
【表４】
【００６０】
（実施例５）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表５の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は１２．８重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６１】
【表５】
【００６２】
（実施例６）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表６の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は２２μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６３】
【表６】
【００６４】
（比較例１）
銅合金の平板にニッケルめっき層を約１０μｍの厚みで形成した後、クロムめっき層を約０．５μｍの厚みで形成して、水栓の表面と同一の材料からなる平板を得た。
得られた平板を比較例１として用いた。
【００６５】
（比較例２）
実施例１のコーティング液から、ふっ素樹脂粒子を除いた以外は、実施例１と同様にして、被覆部を被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６６】
（比較例３）
実施例１のコーティング液から、オクチル酸ジルコニル液を除いた以外は、実施例１と同様にして、被覆部を被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６７】
（比較例４）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表７の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は０．１重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６８】
【表７】
【００６９】
（比較例５）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表８の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は４．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２１重量部であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００７０】
【表８】
【００７１】
（比較例６）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表９の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分はＺｒＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は２２．７重量％であった。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対する、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度は２．２重量部であった。
被覆部の膜厚は１．０μｍであった。
【００７２】
【表９】
【００７３】
（評価方法）
（１）外観
目視にて水栓の外観を評価した。
判定基準 ○：水栓の意匠性を完全に維持している △：水栓の意匠性がやや低下しているが、水栓の意匠は確認できる ×：水栓の意匠性を著しく損なっており、水栓の意匠が確認できない
（２）外力を印加したときの意匠性の維持性の評価
研磨剤入りの硬質スポンジを２０×２０ｍｍに切り出したものを摺動子として用いた。荷重をさらに加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は５０ｇと２００ｇの場合それぞれについて評価し、摺動回数は１００回とした。荷重５０ｇでは女性が通常の洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定し、荷重２００ｇでは女性が、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定して設定した。
判定基準 ◎：傷の発生なく、意匠性変化なし ○：微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △：傷発生し、意匠性がやや低下 ×：顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
（３）耐洗剤性評価
市販の排水パイプ用洗浄剤（アルカリ性、ＮａＯＨ３．５％）に２４ｈｒ浸漬した後、外力を印加したときの水栓の意匠性の維持性を評価した。研磨剤入りの硬質スポンジを２０×２０ｍｍに切り出したものを摺動子として用いた。荷重をさらに加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は２００ｇとし、摺動回数は１００回とした。
判定基準 ◎：傷の発生なく、意匠性変化なし ○：微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △：傷発生し、意匠性がやや低下 ×：顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
（４）暴露評価
実施例１〜６と比較例１についてのみ評価を行った。
４人家族の洗面所の水栓金具の周辺に３ヶ月間暴露した後、研磨剤入りスポンジで通常の洗浄を行った後の外観を目視にて評価した。
判定基準 ○：ほとんど暴露前と同様の意匠性が維持されていた △：汚れがわずかに残ったり、洗浄による傷がわずかに入ったりしてやや意匠性が損なわれた ×：汚れが除去されない、または洗浄により顕著に傷が入ったりして著しく意匠性が損なわれている
【００７４】
（評価結果）
評価結果を表１０に示す。
【００７５】
【表１０】
【００７６】
図４は実施例２の被覆部の表面からの観察写真である。本発明の実施例１〜６は、走査型電子顕微鏡による表面、斜めからの観察の結果、被覆部中にふっ素樹脂粒子が分散しており、被覆部表面には、ふっ素樹脂粒子の自形により凸部が形成されていることが確認できた。
本発明の実施例１〜５は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。実施例６では実施例１〜５に比べるとやや透明性が劣るものの、基材の意匠性は確認できた。
本発明の実施例１〜６では通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されている。
実施例１、２、４、５では、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が完全に維持されていた。
また、耐洗剤性についても、本発明の実施例１〜６はいずれも洗剤との接触があっても、外力の印加があった場合に基材の意匠性を維持する作用は良好に発揮されており、特に実施例２〜６においては、洗剤との接触の後でも、接触前と全く変わらず、外力の印加があった場合に基材の意匠性を維持する作用が極めて良好に発揮されていた。
【００７７】
表１０から明らかなように、
比較例１では、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力の印加であっても顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子を含有しない比較例２、ふっ素樹脂粒子の含有量が０．１重量％の比較例４では、比較例１に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加でも意匠性の低下が見られ、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子の含有量が２２．７重量％の比較例６では、やや透明性が劣る外観であり、比較例１に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力の印加でも意匠性の低下が見られ、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
比較例３は、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が完全に維持されていたが、Ｚｒ元素含有化合物を含有しないため、その作用は洗剤との接触で著しく損なわれており、洗剤と接触した後に力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは、傷が発生し、基材の意匠性が低下した。
ポリシラザン液の不揮発分のＳｉＯ２換算濃度１００重量部に対して、オクチル酸ジルコニル液の不揮発分のＺｒＯ２換算濃度を２１重量部含有する比較例５では、Ｚｒ元素含有化合物を過剰に含有するため、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力の印加でも意匠性の低下が見られ、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
【００７８】
また、暴露評価の結果、いずれにも白色の所謂水垢と思われる汚れが付着していた。本発明の実施例１〜６は比較例１と比べて汚れの付着が軽微であった。その後、洗浄を行うことで、容易にすべての汚れが完全に除去され、また洗浄による傷の発生もなく、暴露前と同様の意匠性が維持されていた。
比較例１では、洗浄を行っても、汚れが除去されず、汚れが除去される前に基材に傷が発生し、除去されなかった汚れと傷によって、著しく外観を損なう結果となった。
【００７９】
図５は、本発明の水栓の概略図である。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本発明の水栓の断面図である。
【図２】本発明の水栓の断面図である。
【図３】本発明の水栓の断面図である。
【図４】本発明実施例２の被覆部の表面観察写真である。
【図５】本発明の水栓の概略図である。
【符号の説明】
【００８１】
１ ：水栓基材
２ ：被覆部
３ ：三次元網目構造体
４ ：ふっ素樹脂粒子
５ ：水栓
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の前記被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする水栓。
【請求項２】
前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の水栓。
【請求項３】
前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであることを特徴とする請求項２に記載の水栓。
【請求項４】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項に記載の水栓。
【請求項５】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであることを特徴とする請求項４に記載の水栓。
【請求項６】
前記被覆部が略透明であることを特徴とする請求項１乃至５いずれか１項に記載の水栓。
【請求項７】
水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｄ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｄ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法。
【請求項８】
水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｆ）（Ｆ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｆ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｆ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ（ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｆ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｆ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法。
【請求項１】
表面に被覆部が形成された水栓であって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有してなり、前記ふっ素樹脂粒子の前記被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ａ）と前記（Ｃ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ａ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｃ）成分の重量部が０．５重量部以上２０重量部以下であることを特徴とする水栓。
【請求項２】
前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の水栓。
【請求項３】
前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであることを特徴とする請求項２に記載の水栓。
【請求項４】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項に記載の水栓。
【請求項５】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであることを特徴とする請求項４に記載の水栓。
【請求項６】
前記被覆部が略透明であることを特徴とする請求項１乃至５いずれか１項に記載の水栓。
【請求項７】
水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｄ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｄ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法。
【請求項８】
水栓基材へ、ふっ素樹脂粒子と（Ｆ）（Ｆ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｆ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｆ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ（ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物と、（Ｅ）Ｚｒ元素含有化合物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であり、前記（Ｆ）と前記（Ｅ）の重量比が、ＳｉＯ２換算の前記（Ｆ）成分の重量部１００に対して、ＺｒＯ２換算の前記（Ｅ）成分の重量比が０.５重量部以上２０重量部以下であるコーティング液を適用した後、水栓基材ごと加熱することで前記コーティング液を硬化させ、水栓基材上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子、（Ｃ）Ｚｒ元素含有化合物を含有する被覆部を形成することを特徴とする水栓の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００７−７７７０４（Ｐ２００７−７７７０４Ａ）
【公開日】平成１９年３月２９日（２００７．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２６８２３９（Ｐ２００５−２６８２３９）
【出願日】平成１７年９月１５日（２００５．９．１５）
【出願人】（００００１００８７）東陶機器株式会社 (3,889)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月２９日（２００７．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月１５日（２００５．９．１５）
【出願人】（００００１００８７）東陶機器株式会社 (3,889)
【Ｆターム（参考）】
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