説明

水電解装置の運転方法

【課題】簡単な工程で、水電解により高圧水素を安定して生成することを可能にする。
【解決手段】水電解装置12を構成する単位セル14は、電解質膜・電極構造体32をアノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36により挟持する。各単位セル14内には、水を供給するとともに、反応により酸素が生成される第1流路54と、反応により高圧水素が生成される第2流路58とが形成される。この運転方法は、水電解装置12に電解電圧を印加して水電解処理を行う工程と、前記水電解処理中の前記電解電圧の変動を検出する工程と、前記電解電圧の変動に応じて第1流路54に供給される水の圧力を調整する工程とを有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電解質膜の両側に給電体が設けられ、前記給電体にセパレータが積層されるとともに、一方の給電体と一方のセパレータとの間には、水を供給する第1流路が形成され、他方の給電体と他方のセパレータとの間には、前記水が電気分解されて得られる水素を、前記第1流路よりも高圧な高圧水素として流動させる第2流路が形成される水電解装置の運転方法に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、固体高分子型燃料電池は、アノード側電極に燃料ガス(主に水素を含有するガス、例えば、水素ガス)が供給される一方、カソード側電極に酸化剤ガス(主に酸素を含有するガス、例えば、空気)が供給されることにより、直流の電気エネルギを得ている。
【0003】
一般的に、燃料ガスである水素ガスを製造するために、水電解装置が採用されている。この水電解装置は、水を分解して水素(及び酸素)を発生させるため、固体高分子電解質膜(イオン交換膜)を用いている。固体高分子電解質膜の両面には、電極触媒層が設けられて電解質膜・電極構造体が構成されるとともに、前記電解質膜・電極構造体の両側には、給電体を配設してユニットが構成されている。すなわち、ユニットは、実質的には、上記の燃料電池と同様に構成されている。
【0004】
そこで、複数のユニットが積層された状態で、積層方向両端に電圧(電解電圧)が付与されるとともに、アノード側給電体に水が供給される。このため、電解質膜・電極構造体のアノード側では、水が分解されて水素イオン(プロトン)が生成され、この水素イオンが固体高分子電解質膜を透過してカソード側に移動し、電子と結合して水素が製造される。一方、アノード側では、水素と共に生成された酸素が、余剰の水を伴ってユニットから排出される。
【0005】
この種の設備として、例えば、特許文献1に開示されている電気化学電池が知られている。この電気化学電池は、図5に示すように、膜1の両面に陽極2及び陰極3が設けられたMEAを備え、このMEAが低圧力フローフィールド4と高圧力フローフィールド5とに挟持されている。高圧力フローフィールド5側には、高圧力分離板6を介して圧力パッド7が配設されている。
【0006】
そして、低圧力フローフィールド4に水が供給されると、水素イオンが膜1を透過して陰極3側に移動し、高圧力フローフィールド5に高圧力水素が生成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特表2003−523599号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
上記の特許文献1では、低圧力フローフィールド4と高圧力フローフィールド5との圧力差により、膜1が前記低圧力フローフィールド4側に押圧され、該膜1に破損が生じるおそれがある。このため、特に、低圧力フローフィールド4では、膜1を良好に支持するための強度を有する必要があり、実際上、低空隙率の給電体が使用されている。
【0009】
しかしながら、低空隙率の給電体では、内部の多孔空間の割合が低くなっている。これにより、膜1上の陽極2に水を十分に供給することができず、電解性能が低下するという問題がある。
【0010】
本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な工程で、水電解により高圧水素を安定して生成することが可能な水電解装置の運転方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明は、電解質膜の両側に給電体が設けられ、前記給電体にセパレータが積層されるとともに、一方の給電体と一方のセパレータとの間には、水を供給する第1流路が形成され、他方の給電体と他方のセパレータとの間には、前記水が電気分解されて得られる水素を、前記第1流路よりも高圧な高圧水素として流動させる第2流路が形成される水電解装置の運転方法に関するものである。
【0012】
この運転方法は、水電解装置に電解電圧を印加して水電解処理を行う工程と、前記水電解処理中の前記電解電圧の変動を検出する工程と、前記電解電圧の変動に応じて、第1流路に供給される水の圧力を調整する工程とを有している。
【0013】
また、この運転方法は、電解電圧が一定に維持されるように、第1流路に供給される水の圧力を調整することが好ましい。
【0014】
さらに、この運転方法は、電解電圧が上昇した際には、第1流路に供給される水の圧力を上昇させることが好ましい。
【0015】
さらにまた、この運転方法は、第1流路が水循環系に連通するとともに、前記水循環系に配設された弁又はポンプの少なくともいずれかを制御することにより、前記第1流路に供給される水の圧力を調整することが好ましい。
【0016】
また、この運転方法は、要求される水の増加圧力が規定値以下である際には、弁を制御する一方、要求される前記水の増加圧力が前記規定値を越える際には、ポンプを制御することが好ましい。
【発明の効果】
【0017】
本発明によれば、水電解処理中の電解電圧の変動に応じて、第1流路に供給される水の圧力を調整することにより、電解質膜への水の供給不足を良好に阻止することができる。従って、簡単な工程で、水電解により高圧水素を安定して生成することが可能になる。特に、高圧水素を得るために、低空隙率の給電体が使用される際にも、電解質膜に水を確実に供給することができ、前記高圧水素を効率的に得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明に係る運転方法を実施するための水電解システムの概略説明図である。
【図2】前記水電解システムを構成する単位セルの分解斜視説明図である。
【図3】電解電圧と水圧との説明図である。
【図4】前記電解電圧と電流との関係図である。
【図5】特許文献1に開示されている電気化学電池の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
図1に示すように、本発明に係る運転方法を実施するための水電解システム10は、水電解装置12を備える。水電解装置12は、高圧水素製造装置を構成しており、複数の単位セル14が水平方向(矢印A方向)又は鉛直方向(矢印B方向)に積層される。単位セル14の積層方向一端には、ターミナルプレート16a、絶縁プレート18a及びエンドプレート20aが外方に向かって、順次、配設される。単位セル14の積層方向他端には、同様にターミナルプレート16b、絶縁プレート18b及びエンドプレート20bが外方に向かって、順次、配設される。
【0020】
水電解装置12は、例えば、矢印A方向に延在する複数のタイロッド22を介して円盤形状のエンドプレート20a、20b間を一体的に締め付け保持する。なお、水電解装置12は、エンドプレート20a、20bを端板として含む箱状ケーシング(図示せず)により一体的に保持される構成を採用してもよい。また、水電解装置12は、全体として略円柱体形状を有しているが、立方体形状等の種々の形状に設定可能である。
【0021】
ターミナルプレート16a、16bの側部には、端子部24a、24bが外方に突出して設けられる。端子部24a、24bは、配線26a、26bを介して電源28に電気的に接続される。陽極(アノード)側である端子部24aは、電源28のプラス極に接続される一方、陰極(カソード)側である端子部24bは、前記電源28のマイナス極に接続される。
【0022】
図2に示すように、単位セル14は、円盤状の電解質膜・電極構造体32と、この電解質膜・電極構造体32を挟持するアノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36とを備える。アノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36は、円盤状を有するとともに、例えば、カーボン部材等で構成され、又は、鋼板、ステンレス鋼板、チタン板、アルミニウム板、めっき処理鋼板、あるいはその金属表面に防食用の表面処理を施した金属板をプレス成形して、あるいは切削加工した後に防食用の表面処理を施して構成される。
【0023】
電解質膜・電極構造体32は、例えば、パーフルオロスルホン酸の薄膜に水が含浸された固体高分子電解質膜38と、前記固体高分子電解質膜38の両面に設けられるアノード側給電体40及びカソード側給電体42とを備える。
【0024】
固体高分子電解質膜38の両面には、アノード電極触媒層40a及びカソード電極触媒層42aが形成される。アノード電極触媒層40aは、例えば、Ru(ルテニウム)系触媒を使用する一方、カソード電極触媒層42aは、例えば、白金触媒を使用する。
【0025】
アノード側給電体40及びカソード側給電体42は、例えば、球状ガストマイズチタン粉末の焼結体(多孔質導電体)により構成される。アノード側給電体40及びカソード側給電体42は、研削加工後にエッチング処理される平滑表面部を設けるとともに、空隙率が10%〜50%、より好ましくは、20%〜40%の範囲内に設定される。
【0026】
単位セル14の外周縁部には、積層方向である矢印A方向に互いに連通して、水(純水)を供給するための水供給連通孔46と、反応により生成された酸素及び使用済みの水を排出するための排出連通孔48と、反応により生成された水素を流すための水素連通孔50とが設けられる。
【0027】
アノード側セパレータ34の電解質膜・電極構造体32に向かう面34aには、水供給連通孔46に連通する供給通路52aと、排出連通孔48に連通する排出通路52bとが設けられる。面34aには、供給通路52a及び排出通路52bに連通する第1流路54が設けられる。この第1流路54は、アノード側給電体40の表面積に対応する範囲内に設けられるとともに、複数の流路溝や複数のエンボス等で構成される。
【0028】
カソード側セパレータ36の電解質膜・電極構造体32に向かう面36aには、水素連通孔50に連通する排出通路56が設けられる。面36aには、排出通路56に連通する第2流路58が形成される。この第2流路58は、カソード側給電体42の表面積に対応する範囲内に設けられるとともに、複数の流路溝や複数のエンボス等で構成される。
【0029】
アノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36の外周端部を周回して、シール部材60a、60bが一体化される。このシール部材60a、60bには、例えば、EPDM、NBR、フッ素ゴム、シリコーンゴム、フロロシリコーンゴム、ブチルゴム、天然ゴム、スチレンゴム、クロロプレーン又はアクリルゴム等のシール材、クッション材、あるいはパッキン材が用いられる。
【0030】
図1に示すように、エンドプレート20aには、水供給連通孔46、排出連通孔48及び水素連通孔50に連通する配管62a、62b及び62cが接続される。配管62cには、図示しないが、背圧弁(又は電磁弁)が設けられており、水素連通孔50に生成される水素の圧力を高圧に維持することができる。
【0031】
水電解システム10は、水電解装置12に純水を循環供給するための水循環系64を備える。この水循環系64は、排出連通孔48に配管62bを介して連通する排出配管66を有し、この排出配管66は、気液分離器68に接続されるとともに、該排出配管66の途上に絞り弁70が配設される。
【0032】
気液分離器68は、排出された混合物から酸素と水とを分離するとともに、分離されたこの水は、前記気液分離器68の下部側に接続される給水配管72を介して配管62aから水供給連通孔46に供給される。給水配管72には、循環用のポンプ74が配設される。
【0033】
水電解システム10は、制御部76を介して制御されるとともに、この制御部76は、電源28、絞り弁70及びポンプ74を制御する。
【0034】
このように構成される水電解システム10の動作について、本実施形態に係る運転方法との関連で、以下に説明する。
【0035】
先ず、水電解装置12に電解電圧を印加して水電解処理が行われる。具体的には、図1に示すように、水循環系64を構成するポンプ74が駆動され、給水配管72から配管62aを通って水電解装置12の水供給連通孔46に水が供給される。一方、ターミナルプレート16a、16bの端子部24a、24bには、電気的に接続されている電源28を介して電圧が付与される。
【0036】
このため、図2に示すように、各単位セル14では、水供給連通孔46からアノード側セパレータ34の第1流路54に水が供給され、この水がアノード側給電体40内に沿って移動する。
【0037】
従って、水は、アノード電極触媒層40aで電気により分解され、水素イオン、電子及び酸素が生成される。この陽極反応により生成された水素イオンは、固体高分子電解質膜38を透過してカソード電極触媒層42a側に移動し、電子と結合して水素が得られる。
【0038】
このため、カソード側セパレータ36とカソード側給電体42との間に形成される第2流路58に沿って水素が流動する。この水素は、水供給連通孔46よりも高圧に維持されており、水素連通孔50を流れて水電解装置12の外部に取り出し可能となる。
【0039】
一方、第1流路54には、反応により生成した酸素と、使用済みの水とが流動しており、これらが排出連通孔48に沿って水循環系64の排出配管66に排出される。この使用済みの水及び酸素は、気液分離器68に導入されて分離された後、水は、ポンプ74を介して給水配管72から水供給連通孔46に導入される。
【0040】
上記の水電解処理を行っている際、制御部76では、電源28の電圧変動を検出している。ここで、水電解装置12において、電解電圧と水循環系64を循環する水の圧力とは、図3に示す関係を有している。水圧が低くなって固体高分子電解質膜38のアノード電極触媒層40aに供給される水が不足すると、電解電圧が高くなって水電解性能が低下する。一方、水圧が高くなることによってアノード電極触媒層40aへの水供給量が十分になされると、電解電圧が低下して水電解性能が向上する。
【0041】
そこで、制御部76は、図4に示すように、電解電圧の変動をモニタし、前記電解電圧が一定に維持されるように、第1流路54に供給される水の圧力を調整する。すなわち、電解電圧が上昇した際には、第1流路54に供給される水の圧力を絞り弁70又はポンプ74を制御することにより、第1流路54に供給される水の圧力を上昇させる。
【0042】
より具体的には、通常の圧力上昇処理(要求される水の増加圧力が規定値以下である際)では、制御部76は、絞り弁70の開度が小さくなるように調整することにより、排出連通孔48の圧力を上昇させ、水電解装置12内の水圧の上昇を行う。そして、さらに圧力が必要な場合(要求される水の増加圧力が規定値を超える際)には、ポンプ74の回転数を上げ、水電解装置12に供給される水の圧力を上昇させる。
【0043】
これにより、水電解装置12に供給される水の圧力が上昇し、アノード側給電体40からアノード電極触媒層40aに十分な水を供給することができる。従って、電解電圧が低下して水電解処理性能の向上を図ることが可能になる。
【0044】
なお、電解電圧が上昇する要因として、アノード側給電体40の水透過性の低下や、気液分離器68からの酸素の排出性が低下し、気泡として電極面に付着する場合や、水素発生量が変動した場合等がある。
【0045】
このように、本実施形態では、水電解システム10の水電解装置12の電解電圧が変動した際に、第1流路54に供給される水の圧力を調整することにより、固体高分子電解質膜38への水の供給不足を良好に阻止することができる。従って、簡単な工程で、水電解により高圧水素を安定して生成することが可能になる。
【0046】
特に、高圧水素を得る水電解装置12では、アノード側給電体40は、強度を維持するために、低空隙率に構成されているが、このアノード側給電体40内を通って固体高分子電解質膜38に水を確実に供給することができる。これにより、高圧水素を効率的に得ることが可能になるという効果が得られる。
【符号の説明】
【0047】
10…水電解システム 12…水電解装置
14…単位セル 16a、16b…ターミナルプレート
18a、18a…絶縁プレート 20a、20b…エンドプレート
24a、24b…端子部 28…電源
32…電解質膜・電極構造体 34…アノード側セパレータ
36…カソード側セパレータ 38…固体高分子電解質膜
40…アノード側給電体 42…カソード側給電体
46…水供給連通孔 48…排出連通孔
50…水素連通孔 54、58…流路

【特許請求の範囲】
【請求項1】
電解質膜の両側に給電体が設けられ、前記給電体にセパレータが積層されるとともに、一方の給電体と一方のセパレータとの間には、水を供給する第1流路が形成され、他方の給電体と他方のセパレータとの間には、前記水が電気分解されて得られる水素を、前記第1流路よりも高圧な高圧水素として流動させる第2流路が形成される水電解装置の運転方法であって、
前記水電解装置に電解電圧を印加して水電解処理を行う工程と、
前記水電解処理中の前記電解電圧の変動を検出する工程と、
前記電解電圧の変動に応じて、前記第1流路に供給される前記水の圧力を調整する工程と、
を有することを特徴とする水電解装置の運転方法。
【請求項2】
請求項1記載の運転方法において、前記電解電圧が一定に維持されるように、前記第1流路に供給される前記水の圧力を調整することを特徴とする水電解装置の運転方法。
【請求項3】
請求項1又は2記載の運転方法において、前記電解電圧が上昇した際には、前記第1流路に供給される前記水の圧力を上昇させることを特徴とする水電解装置の運転方法。
【請求項4】
請求項1〜3のいずれか1項に記載の運転方法において、前記第1流路は、水循環系に連通するとともに、
前記水循環系に配設された弁又はポンプの少なくともいずれかを制御することにより、前記第1流路に供給される前記水の圧力を調整することを特徴とする水電解装置の運転方法。
【請求項5】
請求4記載の運転方法において、要求される前記水の増加圧力が規定値以下である際には、前記弁を制御する一方、
要求される前記水の増加圧力が前記規定値を越える際には、前記ポンプを制御することを特徴とする水電解装置の運転方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2010−180451(P2010−180451A)
【公開日】平成22年8月19日(2010.8.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−24997(P2009−24997)
【出願日】平成21年2月5日(2009.2.5)
【出願人】(000005326)本田技研工業株式会社 (23,863)
【Fターム(参考)】