洗浄用保持冶具、及び、洗浄方法
【課題】洗浄用保持冶具及び洗浄方法において、被洗浄体に傷がつくのを抑えると共に洗浄用保持冶具内の液残りを防ぐ。
【解決手段】洗浄用保持冶具は、被洗浄体（１００）の少なくとも一部を収容する収容部１１と、この収容部１１に開口する流路（１２）と、を備え、収容部１１は、この収容部１１の周方向に亘って被洗浄体（１００）に線接触又は面接触により接触し、流路（１２）は、収容部１１の被洗浄体（１００）との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する。
【解決手段】洗浄用保持冶具は、被洗浄体（１００）の少なくとも一部を収容する収容部１１と、この収容部１１に開口する流路（１２）と、を備え、収容部１１は、この収容部１１の周方向に亘って被洗浄体（１００）に線接触又は面接触により接触し、流路（１２）は、収容部１１の被洗浄体（１００）との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば光学素子などの被洗浄体を保持する洗浄用保持冶具、及び、被洗浄体を洗浄する洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、被洗浄体を水系洗浄剤により洗浄し、温風ブロアを用いて水切りを行う洗浄方法が一般に知られている（例えば、特許文献１参照。）。
また、被洗浄体を洗浄液へ浸漬する際に被洗浄体を保持する洗浄用保持冶具が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００３】
特許文献２記載の冶具には、厚み方向に貫通する２つの長穴が互いに直交するように形成されている。この冶具では、被洗浄体は、２つの長穴の交差部分である４つの角部によって点接触で支持された状態で回転する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１２４５２９号公報
【特許文献２】特開２００４−６６１１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献２記載の冶具は、被洗浄体を点接触により保持するため、この点接触部分において被洗浄体に傷がつきやすくなる。更には、上記特許文献２記載の冶具は、被洗浄体を回転させるため、点接触させると、より一層傷がつきやすくなる。そのため、上記特許文献２記載の冶具を光学素子などの被洗浄体に用いるのは困難である。
【０００６】
ところで、被洗浄体を洗浄した後、被洗浄体を保持した冶具を例えば回転させることで冶具内の水切りが行われる。しかし、冶具内で液残りすると、異物の再付着やシミ残りなどが発生する。
【０００７】
本発明の目的は、被洗浄体に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具内の液残りを防ぐことができる洗浄用保持冶具及び洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の洗浄用保持冶具は、被洗浄体の少なくとも一部を収容する収容部と、上記収容部に開口する流路と、を備え、上記収容部は、この収容部の周方向に亘って上記被洗浄体に線接触又は面接触により接触し、上記流路は、上記収容部の接触部分を挟んだ２つの空間を連結する。
【０００９】
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記収容部は、凹部と、この凹部の内部に形成され上記洗浄用保持冶具を厚み方向に貫通する貫通孔と、を含み、上記収容部は、上記貫通孔の上記凹部側の開口端において上記被洗浄体に接触する。
【００１０】
好ましくは、上記流路は、上記凹部よりも深く形成されている。
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記流路は、上記洗浄用保持冶具の少なくとも一端側まで延びる。
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記洗浄用保持冶具は、回転駆動装置に配置されて回転し、上記流路は、上記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に長く形成されている。
【００１１】
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記洗浄用保持冶具は、上記収容部及び上記流路が形成された第１の保持部材と、上記第１の保持部材に対向して配置され、この第１の保持部材と共に上記被洗浄体を保持する第２の保持部材と、を含む。
【００１２】
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記収容部及び上記流路は、上記第１の保持部材及び上記第２の保持部材の両方に形成され、上記第２の保持部材の上記収容部は、上記第１の保持部材の上記収容部に対向して配置されている。
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記被洗浄体は、光学素子である。
【００１３】
本発明の洗浄方法は、被洗浄体を洗浄する洗浄工程と、その後、上記被洗浄体に付着した液体を除去する脱水工程と、を含み、上記脱水工程では、洗浄用保持冶具によって上記被洗浄体を線接触又は面接触により保持した状態でこの被洗浄体を回転させ、上記洗浄用保持冶具の上記被洗浄体との接触部分を挟んだ２つの空間を連結する流路によって、上記液体を上記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に排水する。
【００１４】
好ましくは、上記洗浄方法において、上記洗浄工程では、上記洗浄用保持冶具で保持した状態の上記被洗浄体を洗浄する。
好ましくは、上記洗浄方法において、上記被洗浄体は、光学素子である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、被洗浄体に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具内の液残りを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施の形態に係る洗浄用保持冶具の第１の保持部材を示す平面図である。
【図２Ａ】図１のII−II断面図である。
【図２Ｂ】２つの保持部材が互いに対向するように配置された状態の図１のII−II断面図である。
【図３Ａ】図１のIII−III断面図である。
【図３Ｂ】２つの保持部材が互いに対向するように配置された状態の図１のIII−III断面図である。
【図４Ａ】本発明の一実施の形態に係る洗浄方法の脱水工程を説明するための脱水装置を示す斜視図である。
【図４Ｂ】本発明の一実施の形態に係る洗浄方法の脱水工程を説明するための脱水装置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態に係る洗浄用保持冶具及び洗浄方法について、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る洗浄用保持冶具の第１の保持部材１０を示す平面図である。
【００１８】
図２Ａは図１のII−II断面図であり、図２Ｂは２つの保持部材１０，２０が互いに対向するように配置された状態のII−II断面図である。
図３Ａは図１のIII−III断面図であり、図３Ｂは２つの保持部材１０，２０が互いに対向するように配置された状態のIII−III断面図である。
【００１９】
洗浄用保持冶具１は、図１等に示す第１の保持部材１０と、図２Ｂ及び図３Ｂに示すように第１の保持部材１０に対向するように配置された第２の保持部材２０と、を備える。本実施の形態では、第１の保持部材１０と第２の保持部材２０とは、同一部材であり、収容部１１，２１が互いに対向するように配置されている。
【００２０】
図１、図２Ｂ、図３Ｂ等に示すように、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０は、収容部１１，２１と、平行に複数並設された第１の溝１２，２２と、これら第１の溝１２，２２に直交し平行に複数並設された第２の溝１３，２３と、を備え、平面視矩形の板状を呈する。なお、本実施の形態では、第１の溝１２，２２のみが「流路」として機能する。
【００２１】
図１に示すように、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０には、中央において厚み方向に貫通するように中央貫通孔１４（第２の保持部材２０のものは図示せず）が形成されている。第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０は、上記の中央貫通孔１４において、図示しない機構によって、例えば搬送されたり、位置決めされたりすることが可能となる。
【００２２】
また、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０には、保持部材１０，２０を互いに位置決めするためのピン（位置決め部材）が挿入される２つの位置決め用孔１５，１５（第２の保持部材２０のものは図示せず）が形成されている。
【００２３】
図１〜図３Ｂに示すように、収容部１１，２１は、凹部１１ａ，２１ａと、この凹部１１ａ，２１ａの内部に形成され保持部材１０，２０を厚み方向に貫通する貫通孔１１ｂ，１２ｂと、を含む。また、収容部１１，２１は、被洗浄体としての１つの光学素子１００の一部（少なくとも一部）を収容する。なお、光学素子１００は、例えば、ガラスレンズである。
【００２４】
凹部１１ａ，２１ａは、例えば断面円形状を呈し、洗浄用保持冶具１（保持部材１０，２０）の厚み方向に深さＤ０で形成されている。貫通孔１１ｂ，２１ｂは、例えば、凹部１１ａ，２１ａと同軸の断面円形状を呈し、凹部１１ａ，２１ａよりも断面形状が小さい。
【００２５】
収容部１１，２１は、その周方向に亘って光学素子１００に線接触（又は面接触）により接触する。具体的には、収容部１１，２１は、貫通孔１１ｂ，１２ｂの凹部１１ａ，１２ａ側の開口端において光学素子１００に接触する。
【００２６】
第１の溝１２，２２及び第２の溝１３，２３は、保持部材１０，２０（洗浄用保持冶具１）の両端側（少なくとも一端側）まで延び、両端に開口している。
なお、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、７つ形成され、そのうち両端の２つを除く５つは収容部１１，２１の凹部１１ａ，２１ａ及び貫通孔１１ｂ，２１ｂを貫通することで収容部１１，２１に開口する。
【００２７】
一方、第２の溝１３，２３は、５つ形成され、その全てが収容部１１，２１の凹部１１ａ，２１ａのみを貫通することで収容部１１，２１に開口する。
なお、本実施の形態では、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の中央貫通孔１４は、中央の第１の溝１２，２２上で且つ中央の第２の溝１３，２３上に位置し、位置決め用孔１５，１５は、いずれも中央の第２の溝１３，２３上に位置するが、中央貫通孔１４及び位置決め用孔１５，１５は、溝１２，２２，１３，２３上に形成しなくともよく、また、省略することも可能である。
【００２８】
図２Ａ〜図３Ｂに示すように、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１（保持部材１０，２０）の厚み方向に深さＤ１で形成されている。この深さＤ１は、凹部１１ａ，２１ａの深さＤ０よりも深い。そのため、第１の溝１２，２２は、凹部１１ａ，２１ａのみならず貫通孔１１ｂ，２１ｂにも開口する。したがって、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、第１の溝１２，２２は、収容部１１，２１の光学素子１００との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２、即ち本実施の形態では凹部１１ａ，２１ａ内の空間Ｓ１及び貫通孔１１ｂ，２１ｂ内の空間Ｓ２を互いに連結する。
【００２９】
第２の溝１３，２３は、洗浄用保持冶具１（保持部材１０，２０）の厚み方向に深さＤ２で形成されている。この深さＤ２は、凹部１１ａ，２１ａの深さＤ０よりも深くない。そのため、第２の溝１３，２３は、貫通孔１１ｂ，２１ｂには開口せず、凹部１１ａ，２１ａのみに開口する。したがって、第２の溝１３，２３は、第１の溝１２，２２とは異なり、２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結しない。
【００３０】
上述のように、収容部１１，２１は、その周方向に亘って、貫通孔１１ｂ，１２ｂの凹部１１ａ，１２ａ側の開口端において光学素子１００に線接触（又は面接触）により接触する。但し、第１の溝１２，２２が凹部１１ａ，２１ａよりも深く形成されていることで（深さＤ１＞深さＤ０）、収容部１１は、貫通孔１１ｂ，１２ｂの凹部１１ａ，１２ａ側の開口端のうち第１の溝１２，２２以外の部分において、収容部１１，２１の周方向に亘って光学素子１００に接触する。
【００３１】
なお、第１の溝１２，２２の幅を大きくしすぎると収容部１１，２１が光学素子１００に線接触する領域が相対的に小さくなる。本実施の形態では、図１に示すように、収容部１１，２１がその周方向の半分以上の領域に亘って光学素子１００に線接触している。
【００３２】
図４Ａ及び図４Ｂは、本実施の形態に係る洗浄方法の脱水工程を説明するための脱水装置２００を示す斜視図及び平面図である。
図４Ａ及び図４Ｂに示す回転駆動装置としての脱水装置２００は、回転テーブル２１０と、この回転テーブル２１０上に配置されて回転移動する冶具収納部２２０と、を備える。なお、回転テーブル２１０上には、図４Ｂに二点鎖線で示す領域に、錘或いは他の冶具収納部２２０などが配置される。また、回転テーブル２１０は、例えば、図示しない脱水槽の内部に配置される。
【００３３】
冶具収納部２２０は、平面視円形枠状の上端部２２１及び下端部２２２と、これらを連結する互いに平行に３本設けられた柱部２２３，２２４，２２５と、そのうちの中央の柱部２２４ｂに固定された冶具支持部２２６と、を含む。この冶具支持部２２６には、洗浄用保持冶具１が挿入される。
【００３４】
以下、本実施の形態に係る洗浄方法について説明する。
まず、図示しない洗浄装置は、洗浄用保持冶具１により保持された状態の光学素子１００を洗浄する（洗浄工程）。このとき、洗浄用保持冶具１は、既に図４Ａ及び図４Ｂに示す冶具収納部２２０の冶具支持具２２６内に斜め上方から縦向きに収納されている。
【００３５】
洗浄工程では、アルカリ又は酸の水系洗浄剤を含む洗浄液中で超音波により光学素子１００が洗浄された後、洗浄液が排水される。その後、純水（すすぎ液）中で超音波洗浄が再度行われる。そして、純水が排水される。この純水の排水時には、例えば純水の掛け流しなどが行われる。なお、この洗浄工程は、一例にすぎず、超音波洗浄以外の洗浄などが行われるものでもよく、光学素子１００その他の被洗浄体を液体で洗浄するものであればよい。
【００３６】
その後、洗浄用保持冶具１は、冶具収納部２２０ごと図４Ａ及び図４Ｂに示す脱水装置２００に搬送される。脱水装置２００は、回転テーブル２１０が冶具収納部２２０を回転させることで光学素子１００を回転させる。これにより、光学素子１００に付着した液体（本実施の形態では、すすぎ液）が除去される（脱水工程）。なお、脱水工程では、洗浄用保持冶具１に温風を吹き付けるなどして脱水を促進させてもよい。
【００３７】
上述のように、光学素子１００は、洗浄用保持冶具１によって線接触（又は面接触）により保持された状態で回転する。図４Ｂに示すように、洗浄用保持冶具１の第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転テーブル２１０の回転軸Ａに交差する方向として本実施の形態では遠心力方向ＣＦに延びるように、洗浄用保持冶具１は冶具支持部２２６に挿入されている。
【００３８】
そのため、回転テーブル２１０上で冶具収納部２２０が回転すると、図２Ｂに示すように、収容部１１，２１の光学素子１００との線接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する第１の溝１２，２２によって、図４Ｂに示す遠心力方向ＣＦ（図２Ｂでは左方向）に光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着した液体を排水することができる。
【００３９】
以上説明した本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、光学素子（被洗浄体）１００の一部（少なくとも一部）を収容する収容部１１，２１と、この収容部１１，２１に開口する第１の溝（流路）１２，２２と、を備える。また、収容部１１，２１は、この収容部１１，２１の周方向に亘って光学素子１００に線接触（又は面接触）により接触し、第１の溝１２，２２は、収容部１１，２１の光学素子１００との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する。
【００４０】
そのため、収容部１１，２１がその周方向に亘って光学素子１００に線接触することで、収容部１１，２１が光学素子１００に点接触する場合に比較して、光学素子１００に傷がつくのを抑えることができる。また、収容部１１，２１がその周方向に亘って光学素子１００に線接触しても、第１の溝１２，２２が線接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結するため、光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着したすすぎ液（液体）が線接触部分又はその近傍において液残りするのを防ぐことができる。
【００４１】
よって、本実施の形態の洗浄用保持冶具１によれば、被洗浄体（光学素子１００）に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具１内の液残りを防ぐことができる。
また、本実施の形態では、収容部１１，２１は、凹部１１ａ，２１ａと、この凹部１１ａ，２１ａの内部に形成され洗浄用保持冶具１を厚み方向に貫通する貫通孔１１ｂ，２１ｂと、を含む。また、収容部１１，２１は、貫通孔１１ｂ，２１ｂの凹部１１ａ，２１ａ側の開口端において光学素子１００に接触する。そのため、第１の溝１２，２２に加えて貫通孔１１ｂ，２１ｂからも排水することができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４２】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２（深さＤ１）は、凹部１１ａ（深さＤ０）よりも深く形成されている（Ｄ１＞Ｄ０）。そのため、光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着したすすぎ液が線接触部分又はその近傍において液残りするのをより一層防ぐことができる。
【００４３】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１の両端側（少なくとも一端側）まで延び、両端に開口している。そのため、洗浄用保持冶具１の端部から排水することができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４４】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、脱水装置（回転駆動装置）２００に配置されて回転し、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転軸Ａに直交する遠心力方向ＣＦ（回転軸Ａに交差する方向）に長く形成されている。そのため、洗浄用保持冶具１の回転時に、遠心力によって、第１の溝１２，２２を介して排水することができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４５】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、収容部１１及び第１の溝１２が形成された第１の保持部材１０と、この第１の保持部材１０に対向して配置され、この第１の保持部材１０と共に光学素子１００を保持する第２の保持部材２０と、を含む。そのため、光学素子１００を確実に保持することができ、したがって、回転時における脱水装置２００からの光学素子１００の飛び出し及び紛失を防ぐことができる。
【００４６】
また、本実施の形態では、収容部１１，２１及び第１の溝１２，２２は、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の両方に形成され、第２の保持部材２０の収容部２１は、第１の保持部材１０の収容部１１に対向して配置されている。そのため、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の両方から排水を行うことができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４７】
また、本実施の形態の洗浄方法は、光学素子１００を洗浄する洗浄工程と、その後、光学素子１００に付着した液体を除去する脱水工程と、を含む。また、脱水工程では、脱水装置２００は、洗浄用保持冶具１によって光学素子１００を線接触により保持した状態で光学素子１００を回転させる。また、洗浄用保持冶具１の光学素子１００との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する第１の溝１２，２２は、液体を洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転軸Ａに直交する遠心力方向ＣＦ（回転軸Ａに交差する方向）に排水する。
【００４８】
そのため、洗浄用保持冶具１が光学素子１００に線接触することで、洗浄用保持冶具１が光学素子１００に点接触する場合に比較して、光学素子１００に傷がつくのを抑えることができる。また、２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する第１の溝１２，２２が、液体を洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転軸Ａに直交する遠心力方向ＣＦ（回転軸Ａに交差する方向）に排水するため、光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着した液体が線接触部分又はその近傍において液残りするのを防ぐことができる。
【００４９】
よって、本実施の形態の洗浄方法によれば、被洗浄体（光学素子１００）に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具１内の液残りを防ぐことができる。
【００５０】
また、本実施の形態の洗浄工程では、光学素子１００は、洗浄用保持冶具１で保持された状態で洗浄される。そのため、洗浄工程及び脱水工程の両方の工程において単一の洗浄用保持冶具１を用いることができ、したがって、光学素子１００の洗浄方法を簡易化することができる。
【００５１】
なお、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１が第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の両方を備えるが、一方のみ備えるようにしてもよい。その場合、洗浄用保持冶具１を回転させる際に、光学素子１００が飛び出さないように収容部１１，２１が光学素子１００を収容する部分を多くするなどの対策をとるとよい。
【００５２】
また、本実施の形態では、収容部１１，２１が１つの光学素子１００を収容するため、光学素子１００が互いに接触することなく、擦れ傷や微小欠けの発生を防止することができるが、仕切りを設けることなどによって収容部１１，２１に複数の光学素子１００を収容するようにしてもよい。また、収容部１１，２１が１つ又は複数の光学素子１００の全体を収容するようにしてもよい。
【００５３】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、流路としての第１の溝１２，２２のみならず第２の溝１３，２３をも備えるが、第２の溝１３，２３を省略しても第１の溝１３，２３から排水することができるため、第２の溝１３，２３は省略してもよい。また、第２の溝１３，２３を第１の溝１２，２２と同様の深さに形成し、これらの溝を互いに交差させることで、位置決めを行わなくとも、少なくとも一方の溝を回転軸Ａと交差する方向に向けることができる。
【００５４】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、複数の収容部１１，２１に開口するが、単一の収容部１１，２１のみに開口するようにしてもよい。その場合、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００５５】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１（第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０）は、平面視矩形の板状を呈するため、第１の溝１２，２２を遠心力方向ＣＦ等に向けることが容易になるが、平面視円形の板状その他の形状としてもよく、形状は特に制限されない。
【００５６】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１（回転テーブル２１０）の回転軸Ａに交差する方向として遠心力方向ＣＦに延びるが、回転軸Ａに交差する方向であれば遠心力によって円滑に排水することは可能であるため、必ずしも遠心力方向ＣＦに完全に一致する方向に延びる必要はない。
【００５７】
また、本実施の形態では、脱水装置２００は、回転テーブル２１０の回転軸Ａを中心に洗浄用保持冶具１を回転させるが、この回転軸が洗浄用保持冶具１上に位置するように回転させてもよい。また、洗浄用保持冶具１の厚み方向が鉛直方向に一致するように洗浄用保持冶具１を寝かせた状態で回転させるようにしてもよい。
また、本実施の形態では、被洗浄体が光学素子１００である場合について説明したが、被洗浄体は、例えば、光学素子成形用型や光学素子の鏡枠などであってもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１ 洗浄用保持冶具
１０ 第１の保持部材
２０ 第２の保持部材
１１，２１ 収容部
１１ａ，２１ａ 凹部
１１ｂ，１２ｂ 貫通孔
１２，２２ 第１の溝
１３，２３ 第２の溝
１４ 中央貫通孔
１５ 位置決め用孔
１００ 光学素子
２００ 脱水装置
２１０ 回転テーブル
２２０ 冶具収納部
２２１ 上端部
２２２ 下端部
２２３，２２４，２２５ 柱部
２２６ 冶具支持部
Ａ 回転軸
ＣＦ 遠心力
Ｄ０，Ｄ１，Ｄ２ 深さ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば光学素子などの被洗浄体を保持する洗浄用保持冶具、及び、被洗浄体を洗浄する洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、被洗浄体を水系洗浄剤により洗浄し、温風ブロアを用いて水切りを行う洗浄方法が一般に知られている（例えば、特許文献１参照。）。
また、被洗浄体を洗浄液へ浸漬する際に被洗浄体を保持する洗浄用保持冶具が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００３】
特許文献２記載の冶具には、厚み方向に貫通する２つの長穴が互いに直交するように形成されている。この冶具では、被洗浄体は、２つの長穴の交差部分である４つの角部によって点接触で支持された状態で回転する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１２４５２９号公報
【特許文献２】特開２００４−６６１１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献２記載の冶具は、被洗浄体を点接触により保持するため、この点接触部分において被洗浄体に傷がつきやすくなる。更には、上記特許文献２記載の冶具は、被洗浄体を回転させるため、点接触させると、より一層傷がつきやすくなる。そのため、上記特許文献２記載の冶具を光学素子などの被洗浄体に用いるのは困難である。
【０００６】
ところで、被洗浄体を洗浄した後、被洗浄体を保持した冶具を例えば回転させることで冶具内の水切りが行われる。しかし、冶具内で液残りすると、異物の再付着やシミ残りなどが発生する。
【０００７】
本発明の目的は、被洗浄体に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具内の液残りを防ぐことができる洗浄用保持冶具及び洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の洗浄用保持冶具は、被洗浄体の少なくとも一部を収容する収容部と、上記収容部に開口する流路と、を備え、上記収容部は、この収容部の周方向に亘って上記被洗浄体に線接触又は面接触により接触し、上記流路は、上記収容部の接触部分を挟んだ２つの空間を連結する。
【０００９】
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記収容部は、凹部と、この凹部の内部に形成され上記洗浄用保持冶具を厚み方向に貫通する貫通孔と、を含み、上記収容部は、上記貫通孔の上記凹部側の開口端において上記被洗浄体に接触する。
【００１０】
好ましくは、上記流路は、上記凹部よりも深く形成されている。
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記流路は、上記洗浄用保持冶具の少なくとも一端側まで延びる。
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記洗浄用保持冶具は、回転駆動装置に配置されて回転し、上記流路は、上記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に長く形成されている。
【００１１】
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記洗浄用保持冶具は、上記収容部及び上記流路が形成された第１の保持部材と、上記第１の保持部材に対向して配置され、この第１の保持部材と共に上記被洗浄体を保持する第２の保持部材と、を含む。
【００１２】
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記収容部及び上記流路は、上記第１の保持部材及び上記第２の保持部材の両方に形成され、上記第２の保持部材の上記収容部は、上記第１の保持部材の上記収容部に対向して配置されている。
好ましくは、上記洗浄用保持冶具において、上記被洗浄体は、光学素子である。
【００１３】
本発明の洗浄方法は、被洗浄体を洗浄する洗浄工程と、その後、上記被洗浄体に付着した液体を除去する脱水工程と、を含み、上記脱水工程では、洗浄用保持冶具によって上記被洗浄体を線接触又は面接触により保持した状態でこの被洗浄体を回転させ、上記洗浄用保持冶具の上記被洗浄体との接触部分を挟んだ２つの空間を連結する流路によって、上記液体を上記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に排水する。
【００１４】
好ましくは、上記洗浄方法において、上記洗浄工程では、上記洗浄用保持冶具で保持した状態の上記被洗浄体を洗浄する。
好ましくは、上記洗浄方法において、上記被洗浄体は、光学素子である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、被洗浄体に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具内の液残りを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施の形態に係る洗浄用保持冶具の第１の保持部材を示す平面図である。
【図２Ａ】図１のII−II断面図である。
【図２Ｂ】２つの保持部材が互いに対向するように配置された状態の図１のII−II断面図である。
【図３Ａ】図１のIII−III断面図である。
【図３Ｂ】２つの保持部材が互いに対向するように配置された状態の図１のIII−III断面図である。
【図４Ａ】本発明の一実施の形態に係る洗浄方法の脱水工程を説明するための脱水装置を示す斜視図である。
【図４Ｂ】本発明の一実施の形態に係る洗浄方法の脱水工程を説明するための脱水装置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態に係る洗浄用保持冶具及び洗浄方法について、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る洗浄用保持冶具の第１の保持部材１０を示す平面図である。
【００１８】
図２Ａは図１のII−II断面図であり、図２Ｂは２つの保持部材１０，２０が互いに対向するように配置された状態のII−II断面図である。
図３Ａは図１のIII−III断面図であり、図３Ｂは２つの保持部材１０，２０が互いに対向するように配置された状態のIII−III断面図である。
【００１９】
洗浄用保持冶具１は、図１等に示す第１の保持部材１０と、図２Ｂ及び図３Ｂに示すように第１の保持部材１０に対向するように配置された第２の保持部材２０と、を備える。本実施の形態では、第１の保持部材１０と第２の保持部材２０とは、同一部材であり、収容部１１，２１が互いに対向するように配置されている。
【００２０】
図１、図２Ｂ、図３Ｂ等に示すように、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０は、収容部１１，２１と、平行に複数並設された第１の溝１２，２２と、これら第１の溝１２，２２に直交し平行に複数並設された第２の溝１３，２３と、を備え、平面視矩形の板状を呈する。なお、本実施の形態では、第１の溝１２，２２のみが「流路」として機能する。
【００２１】
図１に示すように、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０には、中央において厚み方向に貫通するように中央貫通孔１４（第２の保持部材２０のものは図示せず）が形成されている。第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０は、上記の中央貫通孔１４において、図示しない機構によって、例えば搬送されたり、位置決めされたりすることが可能となる。
【００２２】
また、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０には、保持部材１０，２０を互いに位置決めするためのピン（位置決め部材）が挿入される２つの位置決め用孔１５，１５（第２の保持部材２０のものは図示せず）が形成されている。
【００２３】
図１〜図３Ｂに示すように、収容部１１，２１は、凹部１１ａ，２１ａと、この凹部１１ａ，２１ａの内部に形成され保持部材１０，２０を厚み方向に貫通する貫通孔１１ｂ，１２ｂと、を含む。また、収容部１１，２１は、被洗浄体としての１つの光学素子１００の一部（少なくとも一部）を収容する。なお、光学素子１００は、例えば、ガラスレンズである。
【００２４】
凹部１１ａ，２１ａは、例えば断面円形状を呈し、洗浄用保持冶具１（保持部材１０，２０）の厚み方向に深さＤ０で形成されている。貫通孔１１ｂ，２１ｂは、例えば、凹部１１ａ，２１ａと同軸の断面円形状を呈し、凹部１１ａ，２１ａよりも断面形状が小さい。
【００２５】
収容部１１，２１は、その周方向に亘って光学素子１００に線接触（又は面接触）により接触する。具体的には、収容部１１，２１は、貫通孔１１ｂ，１２ｂの凹部１１ａ，１２ａ側の開口端において光学素子１００に接触する。
【００２６】
第１の溝１２，２２及び第２の溝１３，２３は、保持部材１０，２０（洗浄用保持冶具１）の両端側（少なくとも一端側）まで延び、両端に開口している。
なお、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、７つ形成され、そのうち両端の２つを除く５つは収容部１１，２１の凹部１１ａ，２１ａ及び貫通孔１１ｂ，２１ｂを貫通することで収容部１１，２１に開口する。
【００２７】
一方、第２の溝１３，２３は、５つ形成され、その全てが収容部１１，２１の凹部１１ａ，２１ａのみを貫通することで収容部１１，２１に開口する。
なお、本実施の形態では、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の中央貫通孔１４は、中央の第１の溝１２，２２上で且つ中央の第２の溝１３，２３上に位置し、位置決め用孔１５，１５は、いずれも中央の第２の溝１３，２３上に位置するが、中央貫通孔１４及び位置決め用孔１５，１５は、溝１２，２２，１３，２３上に形成しなくともよく、また、省略することも可能である。
【００２８】
図２Ａ〜図３Ｂに示すように、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１（保持部材１０，２０）の厚み方向に深さＤ１で形成されている。この深さＤ１は、凹部１１ａ，２１ａの深さＤ０よりも深い。そのため、第１の溝１２，２２は、凹部１１ａ，２１ａのみならず貫通孔１１ｂ，２１ｂにも開口する。したがって、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、第１の溝１２，２２は、収容部１１，２１の光学素子１００との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２、即ち本実施の形態では凹部１１ａ，２１ａ内の空間Ｓ１及び貫通孔１１ｂ，２１ｂ内の空間Ｓ２を互いに連結する。
【００２９】
第２の溝１３，２３は、洗浄用保持冶具１（保持部材１０，２０）の厚み方向に深さＤ２で形成されている。この深さＤ２は、凹部１１ａ，２１ａの深さＤ０よりも深くない。そのため、第２の溝１３，２３は、貫通孔１１ｂ，２１ｂには開口せず、凹部１１ａ，２１ａのみに開口する。したがって、第２の溝１３，２３は、第１の溝１２，２２とは異なり、２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結しない。
【００３０】
上述のように、収容部１１，２１は、その周方向に亘って、貫通孔１１ｂ，１２ｂの凹部１１ａ，１２ａ側の開口端において光学素子１００に線接触（又は面接触）により接触する。但し、第１の溝１２，２２が凹部１１ａ，２１ａよりも深く形成されていることで（深さＤ１＞深さＤ０）、収容部１１は、貫通孔１１ｂ，１２ｂの凹部１１ａ，１２ａ側の開口端のうち第１の溝１２，２２以外の部分において、収容部１１，２１の周方向に亘って光学素子１００に接触する。
【００３１】
なお、第１の溝１２，２２の幅を大きくしすぎると収容部１１，２１が光学素子１００に線接触する領域が相対的に小さくなる。本実施の形態では、図１に示すように、収容部１１，２１がその周方向の半分以上の領域に亘って光学素子１００に線接触している。
【００３２】
図４Ａ及び図４Ｂは、本実施の形態に係る洗浄方法の脱水工程を説明するための脱水装置２００を示す斜視図及び平面図である。
図４Ａ及び図４Ｂに示す回転駆動装置としての脱水装置２００は、回転テーブル２１０と、この回転テーブル２１０上に配置されて回転移動する冶具収納部２２０と、を備える。なお、回転テーブル２１０上には、図４Ｂに二点鎖線で示す領域に、錘或いは他の冶具収納部２２０などが配置される。また、回転テーブル２１０は、例えば、図示しない脱水槽の内部に配置される。
【００３３】
冶具収納部２２０は、平面視円形枠状の上端部２２１及び下端部２２２と、これらを連結する互いに平行に３本設けられた柱部２２３，２２４，２２５と、そのうちの中央の柱部２２４ｂに固定された冶具支持部２２６と、を含む。この冶具支持部２２６には、洗浄用保持冶具１が挿入される。
【００３４】
以下、本実施の形態に係る洗浄方法について説明する。
まず、図示しない洗浄装置は、洗浄用保持冶具１により保持された状態の光学素子１００を洗浄する（洗浄工程）。このとき、洗浄用保持冶具１は、既に図４Ａ及び図４Ｂに示す冶具収納部２２０の冶具支持具２２６内に斜め上方から縦向きに収納されている。
【００３５】
洗浄工程では、アルカリ又は酸の水系洗浄剤を含む洗浄液中で超音波により光学素子１００が洗浄された後、洗浄液が排水される。その後、純水（すすぎ液）中で超音波洗浄が再度行われる。そして、純水が排水される。この純水の排水時には、例えば純水の掛け流しなどが行われる。なお、この洗浄工程は、一例にすぎず、超音波洗浄以外の洗浄などが行われるものでもよく、光学素子１００その他の被洗浄体を液体で洗浄するものであればよい。
【００３６】
その後、洗浄用保持冶具１は、冶具収納部２２０ごと図４Ａ及び図４Ｂに示す脱水装置２００に搬送される。脱水装置２００は、回転テーブル２１０が冶具収納部２２０を回転させることで光学素子１００を回転させる。これにより、光学素子１００に付着した液体（本実施の形態では、すすぎ液）が除去される（脱水工程）。なお、脱水工程では、洗浄用保持冶具１に温風を吹き付けるなどして脱水を促進させてもよい。
【００３７】
上述のように、光学素子１００は、洗浄用保持冶具１によって線接触（又は面接触）により保持された状態で回転する。図４Ｂに示すように、洗浄用保持冶具１の第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転テーブル２１０の回転軸Ａに交差する方向として本実施の形態では遠心力方向ＣＦに延びるように、洗浄用保持冶具１は冶具支持部２２６に挿入されている。
【００３８】
そのため、回転テーブル２１０上で冶具収納部２２０が回転すると、図２Ｂに示すように、収容部１１，２１の光学素子１００との線接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する第１の溝１２，２２によって、図４Ｂに示す遠心力方向ＣＦ（図２Ｂでは左方向）に光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着した液体を排水することができる。
【００３９】
以上説明した本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、光学素子（被洗浄体）１００の一部（少なくとも一部）を収容する収容部１１，２１と、この収容部１１，２１に開口する第１の溝（流路）１２，２２と、を備える。また、収容部１１，２１は、この収容部１１，２１の周方向に亘って光学素子１００に線接触（又は面接触）により接触し、第１の溝１２，２２は、収容部１１，２１の光学素子１００との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する。
【００４０】
そのため、収容部１１，２１がその周方向に亘って光学素子１００に線接触することで、収容部１１，２１が光学素子１００に点接触する場合に比較して、光学素子１００に傷がつくのを抑えることができる。また、収容部１１，２１がその周方向に亘って光学素子１００に線接触しても、第１の溝１２，２２が線接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結するため、光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着したすすぎ液（液体）が線接触部分又はその近傍において液残りするのを防ぐことができる。
【００４１】
よって、本実施の形態の洗浄用保持冶具１によれば、被洗浄体（光学素子１００）に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具１内の液残りを防ぐことができる。
また、本実施の形態では、収容部１１，２１は、凹部１１ａ，２１ａと、この凹部１１ａ，２１ａの内部に形成され洗浄用保持冶具１を厚み方向に貫通する貫通孔１１ｂ，２１ｂと、を含む。また、収容部１１，２１は、貫通孔１１ｂ，２１ｂの凹部１１ａ，２１ａ側の開口端において光学素子１００に接触する。そのため、第１の溝１２，２２に加えて貫通孔１１ｂ，２１ｂからも排水することができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４２】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２（深さＤ１）は、凹部１１ａ（深さＤ０）よりも深く形成されている（Ｄ１＞Ｄ０）。そのため、光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着したすすぎ液が線接触部分又はその近傍において液残りするのをより一層防ぐことができる。
【００４３】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１の両端側（少なくとも一端側）まで延び、両端に開口している。そのため、洗浄用保持冶具１の端部から排水することができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４４】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、脱水装置（回転駆動装置）２００に配置されて回転し、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転軸Ａに直交する遠心力方向ＣＦ（回転軸Ａに交差する方向）に長く形成されている。そのため、洗浄用保持冶具１の回転時に、遠心力によって、第１の溝１２，２２を介して排水することができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４５】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、収容部１１及び第１の溝１２が形成された第１の保持部材１０と、この第１の保持部材１０に対向して配置され、この第１の保持部材１０と共に光学素子１００を保持する第２の保持部材２０と、を含む。そのため、光学素子１００を確実に保持することができ、したがって、回転時における脱水装置２００からの光学素子１００の飛び出し及び紛失を防ぐことができる。
【００４６】
また、本実施の形態では、収容部１１，２１及び第１の溝１２，２２は、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の両方に形成され、第２の保持部材２０の収容部２１は、第１の保持部材１０の収容部１１に対向して配置されている。そのため、第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の両方から排水を行うことができ、したがって、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００４７】
また、本実施の形態の洗浄方法は、光学素子１００を洗浄する洗浄工程と、その後、光学素子１００に付着した液体を除去する脱水工程と、を含む。また、脱水工程では、脱水装置２００は、洗浄用保持冶具１によって光学素子１００を線接触により保持した状態で光学素子１００を回転させる。また、洗浄用保持冶具１の光学素子１００との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する第１の溝１２，２２は、液体を洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転軸Ａに直交する遠心力方向ＣＦ（回転軸Ａに交差する方向）に排水する。
【００４８】
そのため、洗浄用保持冶具１が光学素子１００に線接触することで、洗浄用保持冶具１が光学素子１００に点接触する場合に比較して、光学素子１００に傷がつくのを抑えることができる。また、２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する第１の溝１２，２２が、液体を洗浄用保持冶具１の回転中心となる回転軸Ａに直交する遠心力方向ＣＦ（回転軸Ａに交差する方向）に排水するため、光学素子１００や洗浄用保持冶具１に付着した液体が線接触部分又はその近傍において液残りするのを防ぐことができる。
【００４９】
よって、本実施の形態の洗浄方法によれば、被洗浄体（光学素子１００）に傷がつくのを抑えることができると共に洗浄用保持冶具１内の液残りを防ぐことができる。
【００５０】
また、本実施の形態の洗浄工程では、光学素子１００は、洗浄用保持冶具１で保持された状態で洗浄される。そのため、洗浄工程及び脱水工程の両方の工程において単一の洗浄用保持冶具１を用いることができ、したがって、光学素子１００の洗浄方法を簡易化することができる。
【００５１】
なお、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１が第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０の両方を備えるが、一方のみ備えるようにしてもよい。その場合、洗浄用保持冶具１を回転させる際に、光学素子１００が飛び出さないように収容部１１，２１が光学素子１００を収容する部分を多くするなどの対策をとるとよい。
【００５２】
また、本実施の形態では、収容部１１，２１が１つの光学素子１００を収容するため、光学素子１００が互いに接触することなく、擦れ傷や微小欠けの発生を防止することができるが、仕切りを設けることなどによって収容部１１，２１に複数の光学素子１００を収容するようにしてもよい。また、収容部１１，２１が１つ又は複数の光学素子１００の全体を収容するようにしてもよい。
【００５３】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１は、流路としての第１の溝１２，２２のみならず第２の溝１３，２３をも備えるが、第２の溝１３，２３を省略しても第１の溝１３，２３から排水することができるため、第２の溝１３，２３は省略してもよい。また、第２の溝１３，２３を第１の溝１２，２２と同様の深さに形成し、これらの溝を互いに交差させることで、位置決めを行わなくとも、少なくとも一方の溝を回転軸Ａと交差する方向に向けることができる。
【００５４】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、複数の収容部１１，２１に開口するが、単一の収容部１１，２１のみに開口するようにしてもよい。その場合、洗浄用保持冶具１内の液残りをより一層防ぐことができる。
【００５５】
また、本実施の形態では、洗浄用保持冶具１（第１の保持部材１０及び第２の保持部材２０）は、平面視矩形の板状を呈するため、第１の溝１２，２２を遠心力方向ＣＦ等に向けることが容易になるが、平面視円形の板状その他の形状としてもよく、形状は特に制限されない。
【００５６】
また、本実施の形態では、第１の溝１２，２２は、洗浄用保持冶具１（回転テーブル２１０）の回転軸Ａに交差する方向として遠心力方向ＣＦに延びるが、回転軸Ａに交差する方向であれば遠心力によって円滑に排水することは可能であるため、必ずしも遠心力方向ＣＦに完全に一致する方向に延びる必要はない。
【００５７】
また、本実施の形態では、脱水装置２００は、回転テーブル２１０の回転軸Ａを中心に洗浄用保持冶具１を回転させるが、この回転軸が洗浄用保持冶具１上に位置するように回転させてもよい。また、洗浄用保持冶具１の厚み方向が鉛直方向に一致するように洗浄用保持冶具１を寝かせた状態で回転させるようにしてもよい。
また、本実施の形態では、被洗浄体が光学素子１００である場合について説明したが、被洗浄体は、例えば、光学素子成形用型や光学素子の鏡枠などであってもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１ 洗浄用保持冶具
１０ 第１の保持部材
２０ 第２の保持部材
１１，２１ 収容部
１１ａ，２１ａ 凹部
１１ｂ，１２ｂ 貫通孔
１２，２２ 第１の溝
１３，２３ 第２の溝
１４ 中央貫通孔
１５ 位置決め用孔
１００ 光学素子
２００ 脱水装置
２１０ 回転テーブル
２２０ 冶具収納部
２２１ 上端部
２２２ 下端部
２２３，２２４，２２５ 柱部
２２６ 冶具支持部
Ａ 回転軸
ＣＦ 遠心力
Ｄ０，Ｄ１，Ｄ２ 深さ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄体の少なくとも一部を収容する収容部と、
前記収容部に開口する流路と、を備え、
前記収容部は、該収容部の周方向に亘って前記被洗浄体に線接触又は面接触により接触し、
前記流路は、前記収容部の前記被洗浄体との接触部分を挟んだ２つの空間を連結する、洗浄用保持冶具。
【請求項２】
請求項１記載の洗浄用保持冶具において、
前記収容部は、凹部と、この凹部の内部に形成され前記洗浄用保持冶具を厚み方向に貫通する貫通孔と、を含み、
前記収容部は、前記貫通孔の前記凹部側の開口端において前記被洗浄体に接触する、洗浄用保持冶具。
【請求項３】
請求項２記載の洗浄用保持冶具において、
前記流路は、前記凹部よりも深く形成されている、洗浄用保持冶具。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項記載の洗浄用保持冶具において、
前記流路は、前記洗浄用保持冶具の少なくとも一端側まで延びる、洗浄用保持冶具。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項記載の洗浄用保持冶具において、
前記洗浄用保持冶具は、回転駆動装置に配置されて回転し、
前記流路は、前記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に長く形成されている、洗浄用保持冶具。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１項記載の洗浄用保持冶具において、
前記収容部及び前記流路が形成された第１の保持部材と、
前記第１の保持部材に対向して配置され、該第１の保持部材と共に前記被洗浄体を保持する第２の保持部材と、を含む、洗浄用保持冶具。
【請求項７】
請求項６記載の洗浄用保持冶具において、
前記収容部及び前記流路は、前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材の両方に形成され、
前記第２の保持部材の前記収容部は、前記第１の保持部材の前記収容部に対向して配置されている、洗浄用保持冶具。
【請求項８】
請求項１から請求項７記載の洗浄用保持冶具において、
前記被洗浄体は、光学素子である、洗浄用保持冶具。
【請求項９】
被洗浄体を洗浄する洗浄工程と、
その後、前記被洗浄体に付着した液体を除去する脱水工程と、を含み、
前記脱水工程では、
洗浄用保持冶具によって前記被洗浄体を線接触又は面接触により保持した状態で該被洗浄体を回転させ、
前記洗浄用保持冶具の前記被洗浄体との接触部分を挟んだ２つの空間を連結する流路によって、前記液体を前記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に排水する、洗浄方法。
【請求項１０】
請求項９記載の洗浄方法において、
前記洗浄工程では、前記洗浄用保持冶具で保持した状態の前記被洗浄体を洗浄する、洗浄方法。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０記載の洗浄方法において、
前記被洗浄体は、光学素子である、洗浄方法。
【請求項１】
被洗浄体の少なくとも一部を収容する収容部と、
前記収容部に開口する流路と、を備え、
前記収容部は、該収容部の周方向に亘って前記被洗浄体に線接触又は面接触により接触し、
前記流路は、前記収容部の前記被洗浄体との接触部分を挟んだ２つの空間を連結する、洗浄用保持冶具。
【請求項２】
請求項１記載の洗浄用保持冶具において、
前記収容部は、凹部と、この凹部の内部に形成され前記洗浄用保持冶具を厚み方向に貫通する貫通孔と、を含み、
前記収容部は、前記貫通孔の前記凹部側の開口端において前記被洗浄体に接触する、洗浄用保持冶具。
【請求項３】
請求項２記載の洗浄用保持冶具において、
前記流路は、前記凹部よりも深く形成されている、洗浄用保持冶具。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項記載の洗浄用保持冶具において、
前記流路は、前記洗浄用保持冶具の少なくとも一端側まで延びる、洗浄用保持冶具。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項記載の洗浄用保持冶具において、
前記洗浄用保持冶具は、回転駆動装置に配置されて回転し、
前記流路は、前記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に長く形成されている、洗浄用保持冶具。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１項記載の洗浄用保持冶具において、
前記収容部及び前記流路が形成された第１の保持部材と、
前記第１の保持部材に対向して配置され、該第１の保持部材と共に前記被洗浄体を保持する第２の保持部材と、を含む、洗浄用保持冶具。
【請求項７】
請求項６記載の洗浄用保持冶具において、
前記収容部及び前記流路は、前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材の両方に形成され、
前記第２の保持部材の前記収容部は、前記第１の保持部材の前記収容部に対向して配置されている、洗浄用保持冶具。
【請求項８】
請求項１から請求項７記載の洗浄用保持冶具において、
前記被洗浄体は、光学素子である、洗浄用保持冶具。
【請求項９】
被洗浄体を洗浄する洗浄工程と、
その後、前記被洗浄体に付着した液体を除去する脱水工程と、を含み、
前記脱水工程では、
洗浄用保持冶具によって前記被洗浄体を線接触又は面接触により保持した状態で該被洗浄体を回転させ、
前記洗浄用保持冶具の前記被洗浄体との接触部分を挟んだ２つの空間を連結する流路によって、前記液体を前記洗浄用保持冶具の回転中心となる回転軸に交差する方向に排水する、洗浄方法。
【請求項１０】
請求項９記載の洗浄方法において、
前記洗浄工程では、前記洗浄用保持冶具で保持した状態の前記被洗浄体を洗浄する、洗浄方法。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０記載の洗浄方法において、
前記被洗浄体は、光学素子である、洗浄方法。
【図１】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【公開番号】特開２０１１−２４０２５８（Ｐ２０１１−２４０２５８Ａ）
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１１４７５８（Ｐ２０１０−１１４７５８）
【出願日】平成２２年５月１８日（２０１０．５．１８）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月１８日（２０１０．５．１８）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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