説明

流体の制御方法

【課題】少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスにおいて、流体の界面位置が限定されず、かつ安定した界面を形成することができる流体の制御方法を提供する。
【解決手段】少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスを用いて、該合流流路で多層流を形成する流体の制御方法であって、前記合流流路に第一の流体および第二の流体を導入し、互いが不連続とならない流量で第一と第二の流体の界面を有する多層流を形成する第一の工程と、第一の工程後に、前記第一および第二の流体の少なくともいずれかの流量を変更することで、前記合流流路における前記第一と第二の流体との断面積比を調整する第二の工程とを有する流体の制御方法。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、微細流路を用いた流体デバイス内の流体の制御方法に関する。
【背景技術】
【0002】
ガラスやプラスチック等の基板に微細流路を形成し、微量分析や診断、化学合成等をチップ上で行う方法がある。これらはμ−TASやLab−on−a−Chip等と呼ばれ、注目されている。
【0003】
本発明での微細流路とは層流が形成されるような条件を満たす流路である。
流体の状態を示す無次元数としてレイノルズ数というものが知られている。レイノルズ数はRe=UL/ν(U:特性速度[m/s]、L:特性長さ[m]、ν:動粘度[m/s])で表される。レイノルズ数がおおよそ2000より小さい時、流体は層流を形成することが知られている。
【0004】
そのようなチップ内において複数の流体を導入し多層流を形成し、その多層流を利用して分離や合成を行う方法が各種提案されている。例えば、特許文献1においては分子の特異的な挙動の差を利用して特定の分子種を分離している。
この多層流の界面形成は主として界面張力によるものであるが、界面を安定させるのは難しく流体が不連続となるなどの問題があった。
【0005】
そこで、多層流を安定化させる方法として多くの提案がされており、その方法を大別すると微細流路の構造によるものと、流路の表面処理によるものがあった。
特許文献2では、ガイド構造を有することにより界面を安定させる方法が考案されている。しかしながら、微細流路内にガイド構造を作成するのが困難であることや、ガイド位置近傍に界面が限定されてしまうという問題がある。
【0006】
また、特許文献3では微細流路の壁面全面を両親媒性表面処理する方法が考案されている。この方法では高い安定性を実現できるが、経時変化や個体差があるといった問題がある。
【特許文献1】特開2005−262199号公報
【特許文献2】特開2005−156500号公報(第5頁、図5)
【特許文献3】特開2005−331286号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスにおいて、流体の界面位置が限定されず、かつ安定した界面を形成することができる流体の制御方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記課題を解決するための流体の制御方法は、少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスを用いて、該合流流路で多層流を形成する流体の制御方法であって、前記合流流路に第一の流体および第二の流体を導入し、互いが不連続とならない流量で前記第一と第二の流体の界面を有する多層流を形成する第一の工程と、第一の工程後に、前記第一および第二の流体の少なくともいずれかの流量を変更することで、前記合流流路における前記第一と第二の流体との断面積比を調整する第二の工程とを有することを特徴とする。
【0009】
また、界面位置の計測を行ない、該界面位置に基づいて流量の変更を行う流体の制御方法にある。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスにおいて、流体同士の界面位置が限定されず、かつ安定した界面を形成することができる流体の制御方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
本発明に係る流体の制御方法は、少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスを用いて、該合流流路で多層流を形成する流体の制御方法であって、前記合流流路に第一の流体および第二の流体を導入し、互いが不連続とならない流量で第一と第二の流体の界面を有する多層流を形成する第一の工程と、第一の工程後に、前記第一および第二の流体の少なくともいずれかの流量を変更することで、前記合流流路における前記第一と第二の流体との断面積比を調整する第二の工程とを有することを特徴とする。
【0012】
前記界面の位置を計測する工程を有することが好ましい。
前記界面の位置に基づいて第二の工程を行うことが好ましい。
前記界面の位置が所定の閾値を超えた場合は、前記第一の工程を行うことにより界面の位置を所定の閾値の範囲に戻すことが好ましい。
【0013】
前記多層流の一つの流体層に光を伝播させて検出を行うことが好ましい。
前記合流流路の壁面に設置された反応物と流体内の反応物を反応させる工程を有することが好ましい。
【0014】
前記第一および第二の流体の少なくとも一つの流体に含まれている少なくとも二つの粒子の一部を分離または抽出する工程を有することが好ましい。
【実施例】
【0015】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。
実施例1
図1から図9を用いて本発明における第一の実施例を説明する。
【0016】
図1は流体層に光を伝播させて検出を行うマイクロ流体デバイスの装置の構成図である。
図1において、1aは第一の流体、1bは第二の流体である。
【0017】
2aは第一の流体の流量調整手段で3a、4aから構成される。3aは第一のポンプで、不図示のリザーバに充填されている第一の流体1aを流す。4aは第一のバルブであり、第一の流体1aの流量を調整する。2bは第二の流体の流量調整手段で3b、4bから構成される。3bは第二のポンプで、不図示のリザーバに充填されている第二の流体1bを流す。4bは第二のバルブであり、第二の流体1bの流量を調整する。
【0018】
5aは第一の流体1aの導入流路、5bは第二の流体1bの導入流路であり、6は合流流路である。7は第一の流体1aと第二の流体1bの界面である。8は流路壁である。
9はレーザによる入射光を示しており、合流流路6内の流体1bの層を界面7および流路壁8で全反射しながら光が伝播していく。その際に流体1aで観測されるエバネッセント光を用いて、流体1a内の不図示の標的物を検出することが可能である。
【0019】
本実施例で流体の幅を狭くする理由は、波長が一定であれば導波路となる流体1bの屈折率および幅、検出路となる流体1aの屈折率および幅、流路基板の屈折率の諸条件で伝播モードが決定する。流体1bの幅以外の諸条件が一定であれば、流体1bの幅が狭いほど低次の伝播モードとなりやすく、検出路となる流体1aで観測されるエバネッセント光の入射光全体に占める割合がより大きくなるからである。
【0020】
よって、導波路となる流体1bにおいて基本モードがカットオフとなる幅近傍を除けば、流体1bの幅が狭いほうが流体1aで生じた屈折率の変化をより高感度に検出することが可能になる。
【0021】
図2は本実施例の処理手順のフローチャートである。
S1で少なくとも一つの流量調整手段を用いて少なくとも一つの流体が不連続とならないような流量比に調整して多層流を形成する第一の工程の後、S2で前記流量調整手段を用いて流量比を変化させ所望の流体幅の多層流を得る。すなわち、流体の進行方向に対して直角方向の流体の断面積比を調整する第二の工程を行う。次にS3で流体内の検体を検出する検出工程を行う。
【0022】
ここで不連続とは図3のように流体が千切れた状態を指す。図3では第二の流体1bが千切れ、球状で合流流路を流れている。
本実施例では、第二の工程後に入射光9を入射させ、流体1aで観測されるエバネッセント光を用いて、流体1a内の標的物を検出する。
【0023】
図4は、流体層に光を伝播させて検出を行うマイクロ流体デバイスの第一の工程図である。本実施例の第一の工程においては、第一の流体1aを第一の流体の導入流路5a、第二の流体1bを第二の流体の導入流路5bを通じて送液し、合流流路6において合流させ界面7を形成させながら流す。
【0024】
この時、第一の流体の流量調整手段2aと第二の流体の流量調整手段2bを用いて、第一の流体1aおよび第二の流体1bが合流流路6において不連続とならないような流量比に調整する。この流量比は流体の物性値によって異なる。本実施例では流量比1にしているがこれに限定されない。
【0025】
図5は、流体層に光を伝播させて検出を行うマイクロ流体デバイスの第二の工程図である。
本実施例の第二の工程においては、前記第一の工程の界面7の位置を変化させるため、第二の流体1bの流量を流体調整手段2bを用いて減少させ流量比を変化させる。
【0026】
図6は界面位置と断面積比の関係を示した合流流路6の断面図である。流量比を変化させると界面7の位置が変化し、第一の流体の断面10a、第二の流体の断面10bの断面積比も変化する。よって前記操作により、所望の断面比で安定な界面を築くことが出来る。
【0027】
図7はシミュレーションに用いた流路の二次元モデルである。第一の導入流路5a、第二の導入流路5bおよび合流流路6の幅は100μmであり、導入流路5a、5b間の角度は22.6°、導入流路5a、5bの長さは550μm、合流流路6の長さは2250μmとなっている。
【0028】
図3、8、9は第一の流体として水、第二の流体としてシリコーンオイルを用いたシミュレーション結果であり、図3は不連続な状態を示すシミュレーション図、図8は第一の工程のシミュレーション図、図9は第二の工程のシミュレーション図である。
【0029】
図3は初期状態として、第一の流体(水)1aの単位深さ当たりの質量流量5.0×10−4kg/s・m、第二の流体(シリコーンオイル)の単位深さ当たりの質量流量1.0×10−4kg/s・mを与え、両流体を流し始めてから約0.95秒後の状態である。
【0030】
初期状態でこのような大きな流量比を与えてしまうと図3に見られるように、流体が不連続な状態となってしまう。
図8は初期状態として、水の単位深さ当たりの質量流量5.0×10−4kg/s・m、シリコーンオイルの単位深さ当たりの質量流量5.0×10−4kg/s・mを与えて両流体を流した時の状態であり、本発明の第一の工程に対応するものである。
【0031】
このように流量比が1に近い場合は、流体が不連続とならず層流を築くことが出来る。
図9は図8の状態から、水の単位深さ当たりの質量流量は5.0×10−4kg/s・mで固定し、シリコーンオイルの単位深さ当たりの質量流量を線形に0.1秒で1.0×10−4kg/s・mに変化させた時の、約0.95秒後の状態であり、本発明の第二の工程に対応するものである。
【0032】
同じ質量流量の図3に対し、図9では安定な界面を築いている。
このように、最初から大きな流量比を与えた場合に比べ第一の工程、第二の工程を経る本発明ではより安定な界面を築くことができる。
【0033】
本実施例で使用する第一の流体1a、第二の流体1bは、第一の流体1aおよび流路壁の材質の屈折率より第二の流体1bの屈折率が大きく、使用している検出光9の波長において吸収が少ない流体であればどのような流体でもよい。
より望ましくは不混和性流体であり、例えば第一の流体1aが水、第二の流体1bがシリコーンオイルである。
【0034】
本実施例の第二の工程では第二の流量調整手段2bのみを用いて流量比を調整しているが、第一の流量調整手段2aのみを用いてもよく、2a、2b両方を用いてもよい。
第二の工程の後、図1に示すようにレーザによる入射光9を第二の流体1bに入射させ、界面7および流路壁8で全反射しながら光が伝播する際に流体1aで観測されるエバネッセント光を用いて、流体1a内の不図示の標的物を検出する検出工程を行う。
【0035】
標的物は、例えば蛍光標識されたポリメラーゼ連鎖反応(Polymerase Chain Reaction:PCR)による産物であり、流体1aで観測されるエバネッセント光を用いて蛍光検出を行うが、標的物、検出方法はこれに限定されない。
【0036】
本実施例ではエバネッセント光を有効に利用するために、流体1bの幅を薄くする必要がある。幅は理論式により理論値を算出することができる。
例えば流体1a内を流れている検体の蛍光検出を行う場合には、流体1a内に侵入するエバネッセント光が全入射光に占める割合が増加し、エバネッセント領域内における光量が増加するほどより高感度に検出できる。
【0037】
実効屈折率を求めてマクスウェル方程式を解くと、導波路内を伝播する光の電界分布が算出でき、エバネッセント領域の入射光に占める割合を算出することができる。この割合が最大になる流体1aの幅が理論上の最適の幅となる。
ここで、実効屈折率は、各流体の屈折率、幅、流体デバイス基板の屈折率、波長および流路形状の各値を規格化し、波長の分散関係を利用して数値解析により求める方法が知られている。
【0038】
また、エバネッセント光を利用せず、第二の流体層を伝播する光を用いる検出方法であってもよい。
以上、本実施例によれば第一の工程において安定な界面を形成した後に、流量比を調整することにより、初期状態で大きな流量比を用いた時に見られる導入流体が不連続となる現象を抑制することができる。そのため、層流を利用し、第二の流体に伝播させた光を用いた検出ができる。
【0039】
実施例2
図10および図11を用いて本発明における第二の実施例を説明する。
図10は界面位置情報を利用し流量を調整するマイクロ流体デバイスの装置の構成図である。
【0040】
図10において、11は界面7の位置を測定する界面位置計測手段であり、図10においては合流流路6がある平面より上方に位置している。13は流量を制御する制御部で、界面位置計測手段11から界面位置情報12が入力され、第一の流体の流量情報14aと第二の流体の流量情報14bを出力する。
【0041】
また、この制御部は界面位置情報を記憶する不図示の記憶部を備える。流量情報14a、14bは第一の流量調整手段2a、第二の流量調整手段2bにそれぞれフィードバックして所望の界面位置になるよう流量を調整する。
【0042】
図11は本実施例の処理手順のフローチャートである。
S11の第一の工程、S12の第二の工程の後、S13で界面位置計測手段11により界面位置の計測を行う。界面位置情報12は制御部に入力され、S14で界面7が所定の位置にあるかどうかを判断し、所望の位置にあればS13に戻ってそのまま送液を続けたまま界面位置の計測を繰り返す。所望の位置になければS15で記憶部にある以前の界面位置情報との変位量を計算して変位が所定の値(閾値)以下かどうかを判断する。
【0043】
変位量が閾値以下であれば、S12に戻り適切な流量比で所望の位置に界面を形成する第二の工程を行う。変位量が閾値以上であれば、流体が不連続になったと判断し流体が不連続とならないような流量比で界面を形成する第一の工程S11に戻る。
【0044】
界面位置計測手段11は、例えば画像を基に界面位置を計測する方法がある。
第一の流体、第二の流体のいずれかを着色、あるいはそれぞれを別の色に着色すれば判定が可能である。
【0045】
また、両方無色の場合でも流体および基板の屈折率の違いを利用して、流体内に光を伝播させることにより計測が可能である。但し、第一と第二の流体は異なる屈折率を有し、かつ少なくとも一つの流体の屈折率は基板の屈折率より高い値を有する。
例えば、第一の流体が水(n=1.33)、第二の流体が透明なシリコーンオイル(n=1.6)、流路壁の材質がガラス(n=1.52)を用いた場合である。
【0046】
その他の計測法として、光を照射し第一の流体と第二の流体の屈折率の違いを基に変位を測定する方法などがあるが、これに限定されない。制御部13は流量調整手段12a、12bと一体となっていてもよく、界面位置計測手段11と一体になっていてもよい。
閾値は例えば、流路の幅をdとすればd/2とすることができるが、この値に限定されない。
このとき、変位量が正常であるとは閾値をT、前記界面位置情報をL、前記記憶部の界面位置情報をLt−1とすれば以下の式を満たす。
【0047】
【数1】

【0048】
本実施例では、界面位置の変位量を用いて流体が連続であるかを判定しているが、例えば界面位置情報のみを用いて判定する方法などでもよく、これに限定されない。
また、本実施例によれば制御部は記憶部を有しているが、有していなくてもよい。
【0049】
本実施例によれば、界面が所望の位置からずれていても修正ができる。また、第二の工程で流体が不連続になった状態を検出し、界面の再形成ができる。
【0050】
実施例3
図12および図13を用いて本発明における第三の実施例を説明する。
【0051】
図12は壁面と流体内の反応物を反応させるマイクロ流体デバイスの第一の工程図である。
図12において、15は流路壁に設置された一本鎖DNAプローブであり、16は第二の流体1bに含まれる一本鎖DNAで、蛍光標識されている。15と16は相補的であり、ハイブリダイゼーションが起こると不図示の光学検出手段により反応物の検出ができる。
【0052】
本実施例の第一の工程においては、第一の流体1aを第一の流体の導入流路5a、第二の流体1bを第二の流体の導入流路5bを通じて送液し、合流流路6において合流させ界面7を形成させながら流す。
【0053】
この時、第一の流量調整手段2aと第二の流量調整手段2bを用いて、第一の流体1aおよび第二の流体1bが合流流路6において不連続とならないような流量比に調整する。この流量比は流体の物性値によって異なる。本実施例では流量比1に調整しているがこれに限定されない。
【0054】
図13は壁面と流体内の反応物を反応させるマイクロ流体デバイスの第二の工程図である。本実施例の第二の工程においては、前記第一の工程の界面7の位置を変化させるため、流量調整手段2a、2bを用いて流量を変化させる。
【0055】
第一の流体1a、第二の流体1bは不混和性流体が望ましく、また一本鎖DNA16が界面7を越えて拡散しないような流体が望ましい。例えば、1aがオイル、1bが水であるがこれに限定されない。
【0056】
本実施例の第二の工程では第一および第二の流量調整手段2a、2bを用いて流量比を調整しているが、2aのみまたは2bのみを用いてもよい。
第二の工程の後、一本鎖DNAプローブ15と流体1b内の一本鎖DNA16のハイブリダイゼーション工程を行う。
【0057】
本実施例で幅を薄くする理由は、プローブ15を設置した流路壁側の幅を薄くすると、16が15と接触しハイブリダイズする確率が高まるためである。
流体の幅は、プローブの大きさよりも厚ければより薄いほうがよい。チップでハイブリダイゼーションを行う際の幅は一般的に50から200μmであり、これより薄ければ効果がある。
【0058】
蛍光標識は一本鎖DNA16にされていたが、DNAプローブ15にされていてもよく、インターカレータ方式を用いてもよいがこれに限定されない。
DNAプローブ15、一本鎖DNA16にRNAを用いてもよいが、これに限定されない。
【0059】
ここまでハイブリダイゼーションについて説明してきたが、抗原抗体反応など他の反応を行ってもよく、これに限定されない。以上、蛍光標識を用いた検出方法について説明してきたが、化学発光を用いた検出方法であってもよく、また、光学検出に限定されない。
【0060】
以上の実施例1から実施例3では、Y字型の流路を使用しているが多層流を形成するための導入路があればよく、この形状に限定されない。また、導入路と合流流路の幅が同一であるが、例えば合流流路の幅が各導入流路の幅の総和であってもよく、これに限定されない。また、陽圧でポンプを使用しているが、合流流路の下流側にポンプを設置する場合は陰圧であってもよい。さらに、二つの導入流路を用いているが、三つ以上の導入流路があってもよい。また、流出口が一つであるが、複数あってもよい。
【0061】
合流流路の幅が各導入流路の幅の総和の場合、導入流路、流出口が複数ある場合については第四の実施例で後述する。
以上、実施例3によれば、幅が薄く安定な界面を築く事でマイクロデバイス内での反応をより効率的に行うことができる。
【0062】
実施例4
図14および図15を用いて本発明における第四の実施例を説明する。
図14は粒子を分離させるマイクロ流体デバイスの第一の工程図である。
図14において、17a、17bは流出流路である。
【0063】
18a、18bは第二の流体1bに含まれる粒子であり、それぞれ大きさが異なる。
本実施例の第一の工程においては、第一の流体1aを第一の流体の導入流路5a、第二の流体1bを第二の流体の導入流路5bを通じて送液し、合流流路6において合流し界面7を形成しながら流れる。
【0064】
この時、流量調整手段2a、2bを用いて、第一の流体1aおよび第二の流体1bが不連続とならないような流量比に調整する。この流量比は物体の物性値によって異なる。本実施例では、第二の流体1bとそれを挟むように流れる第一の流体1aの流量比は1:1:1に調整しているが、これに限定されない。
図15は粒子を分離させるマイクロ流体デバイスの第二の工程図である。本実施例の第二の工程においては、前記第一の工程の界面7の位置を変化させるため、流量調整手段2a、2bを用いて流量を変化させる。
【0065】
第一の流体1a、第二の流体1bは、例えば生理食塩水と血液であるが、これに限定されない。
本実施例の第二の工程では第一および第二の流量調整手段2a、2bを用いて流量比を調整しているが、2aのみまたは2bのみを用いてもよい。
【0066】
第二の工程の後に粒子の分離工程を行う。本実施例で幅を薄くする理由は、第二の流体1b中の粒子を分離するためである。
粒子18aの径より第二の流体1bの幅を小さくし、かつ粒子18bの径より大きくすれば、粒子18aは流体1a側に入り込んで流出口17aに流れ、粒子18bは流体1bに留まり流出口17bに流れ、粒子18aと18bを分離することができる。
【0067】
粒子18a、18bは例えば18aが白血球、18bが赤血球である。白血球は約7から25μm、赤血球は約7から8μmであり、第二の流体1bの幅を10μm程度にすれば粒子の分離ができる。ただし、検体によって血球のサイズがこの範囲から外れることがあり、完全な分離にならない場合もある。また、第二の流体1bの幅は前記幅に限定されない。
【0068】
本実施例では分離について説明してきたが、抽出であってもよい。また、粒子は18a、18bの二つであったが、三つ以上あってもよい。
また、第一の流体の導入流路5aは一つでも、三つ以上でもよく、複数の場合はそれぞれにおいて異なる流体を流してもよい。同様に第二の流体の導入流路5bは二つ以上でもよい。流出流路17aは一つでもよく、三つ以上でもよい。同様に17bは複数でもよい。
【0069】
本実施例における、第一の流体1aの流量調整手段2aは複数存在するが、それぞれが独立に動作してもよく、同一の構成でなくてもよい。例えば、一方がポンプとバルブ、もう一方がポンプのみである。
【0070】
また、実施例4にて示した流路形状においても実施例1から実施例3を行うことができる。
以上の実施例1から実施例4では流量調整手段2a、2bが流路内に組み込まれているが、流路の外側にあってもよい。流量調整手段はポンプとバルブが一体となっていてもよく、ポンプのみで構成されてもよい。さらに、ポンプやバルブが複数であってもよい。ポンプは、シリンジポンプ、ダイヤフラムポンプ、ローラーポンプ、真空ポンプなどを用いればよいが、これに限定されない。また、流体は二種類以上であってもよい。
【0071】
実施例4によれば、流体の導入流路が三つ以上であっても流量比を調整することにより、初期状態で大きな流量比を用いた時に見られる導入流体が不連続となる現象を抑制することができる。そのため層流を利用し、流体中の粒子を分離することができる。
【産業上の利用可能性】
【0072】
本発明の流体の制御方法は、少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスにおいて、流体同士の界面位置が限定されず、かつ安定した界面を形成することができるので、μ−TASやLab−on−a−Chipを用いた検出や分析に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【0073】
【図1】流体層に光を伝播させて検出を行うマイクロ流体デバイスの装置の構成図である。
【図2】処理手順のフローチャート図である。
【図3】不連続な状態を示すシミュレーション図である。
【図4】流体層に光を伝播させて検出を行うマイクロ流体デバイスの第一の工程図である。
【図5】流体層に光を伝播させて検出を行うマイクロ流体デバイスの第二の工程図である。
【図6】界面位置と断面比の関係図である。
【図7】シミュレーションに使用したモデル図である。
【図8】第一の工程のシミュレーション図である。
【図9】第二の工程のシミュレーション図である。
【図10】界面位置情報を利用し流量を調整するマイクロ流体デバイスの装置の構成図である。
【図11】処理手順のフローチャート図である。
【図12】壁面と流体内の反応物を反応させるマイクロ流体デバイスの第一の工程図である。
【図13】壁面と流体内の反応物を反応させるマイクロ流体デバイスの第二の工程図である。
【図14】粒子を分離させるマイクロ流体デバイスの第一の工程図である。
【図15】粒子を分離させるマイクロ流体デバイスの第二の工程図である。
【符号の説明】
【0074】
1a 第一の流体
1b 第二の流体
2a 第一の流体の流量調整手段
2b 第二の流体の流量調整手段
3a 第一のポンプ
3b 第二のポンプ
4a 第一のバルブ
4b 第二のバルブ
5a 第一の流体の導入流路
5b 第二の流体の導入流路
6 合流流路
7 界面
8 流路壁
9 入射光
10a 第一の流体の断面
10b 第二の流体の断面
11 界面位置計測手段
12 界面位置情報
13 制御部
14a 第一の流体の流量調整情報
14b 第二の流体の流量調整情報
15 一本鎖DNAプローブ
16 一本鎖DNA
17a、17b 流出流路
18a、18b 粒子

【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも二つの流体を合流させる合流流路を有する流体デバイスを用いて、該合流流路で多層流を形成する流体の制御方法であって、前記合流流路に第一の流体および第二の流体を導入し、互いが不連続とならない流量で前記第一と第二の流体の界面を有する多層流を形成する第一の工程と、第一の工程後に、前記第一および第二の流体の少なくともいずれかの流量を変更することで、前記合流流路における前記第一と第二の流体との断面積比を調整する第二の工程とを有することを特徴とする流体の制御方法。
【請求項2】
前記界面の位置を計測する工程を有する請求項1に記載の流体の制御方法。
【請求項3】
前記界面の位置に基づいて第二の工程を行う請求項2に記載の流体の制御方法。
【請求項4】
前記界面の位置が所定の閾値を超えた場合は、前記第一の工程を行うことにより界面の位置を所定の閾値の範囲に戻す請求項2または3に記載の流体の制御方法。
【請求項5】
前記多層流の一つの流体層に光を伝播させて検出を行う工程を有する請求項1に記載の流体の制御方法。
【請求項6】
前記合流流路の壁面に設置された反応物と流体内の反応物を反応させる工程を有する請求項1に記載の流体の制御方法。
【請求項7】
前記第一および第二の流体の少なくとも一つの流体に含まれている少なくとも二つの粒子の一部を分離または抽出する工程を有する請求項1に記載の流体の制御方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【図15】
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【公開番号】特開2009−180684(P2009−180684A)
【公開日】平成21年8月13日(2009.8.13)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−21933(P2008−21933)
【出願日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【出願人】(000001007)キヤノン株式会社 (59,756)
【Fターム(参考)】