液晶組成物および液晶表示素子
【課題】 ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどの特性において、少なくとも１つの特性を充足する、または少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供する。短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命、少ない光漏れなどを有するＡＭ素子を提供する。
【解決手段】 第一成分として特定の光学活性化合物、および第二成分としてネマチック相の高い上限温度を有する特定の四環化合物を含有し、第三成分として大きな上限温度、または小さな粘度を有する特定の化合物、および第四成分として正に大きな誘電率異方性を有する特定の化合物をそれぞれ含有してもよい、ネマチック相を有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子である。
【解決手段】 第一成分として特定の光学活性化合物、および第二成分としてネマチック相の高い上限温度を有する特定の四環化合物を含有し、第三成分として大きな上限温度、または小さな粘度を有する特定の化合物、および第四成分として正に大きな誘電率異方性を有する特定の化合物をそれぞれ含有してもよい、ネマチック相を有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主としてＡＭ（active matrix）素子などに適する液晶組成物およびこの組成物を含有するＡＭ素子などに関する。特に、誘電率異方性が正の液晶組成物に関し、この組成物を含有するＴＮ（twisted nematic）モード、ＯＣＢ（optically compensated bend）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、またはＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードの素子などに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）、ＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードなどである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭは、スタティック（static）、マルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭは、ＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。ＴＦＴの分類は非晶質シリコン（amorphous silicon）および多結晶シリコン（polycrystal silicon）である。後者は製造工程によって高温型と低温型とに分類される。光源に基づいた分類は、自然光を利用する反射型、バックライトを利用する透過型、そして自然光とバックライトの両方を利用する半透過型である。
【０００３】
これらの素子は適切な特性を有する液晶組成物を含有する。この液晶組成物はネマチック相を有する。良好な一般的特性を有するＡＭ素子を得るには組成物の一般的特性を向上させる。２つの一般的特性における関連を下記の表１にまとめる。組成物の一般的特性を市販されているＡＭ素子に基づいてさらに説明する。ネマチック相の温度範囲は、素子の使用できる温度範囲に関連する。ネマチック相の好ましい上限温度は７０℃以上であり、そしてネマチック相の好ましい下限温度は−１０℃以下である。組成物の粘度は素子の応答時間に関連する。素子で動画を表示するためには短い応答時間が好ましい。したがって、組成物における小さな粘度が好ましい。低い温度における小さな粘度はより好ましい。
【０００４】
【０００５】
組成物の光学異方性は、素子のコントラスト比に関連する。組成物の光学異方性（Δｎ）と素子のセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ×ｄ）は、コントラスト比を最大にするように設計される。適切な積の値は動作モードの種類に依存する。ＴＮのようなモードの素子では、適切な値は約０．４５μｍである。この場合、小さなセルギャップの素子には大きな光学異方性を有する組成物が好ましい。組成物における大きな誘電率異方性は素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、大きな誘電率異方性が好ましい。組成物における大きな比抵抗は、素子における大きな電圧保持率と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、初期段階において室温だけでなく高い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。長時間使用したあと、室温だけでなく高い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。紫外線および熱に対する組成物の安定性は、液晶表示素子の寿命に関連する。これらの安定性が高いとき、この素子の寿命は長い。このような特性は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いるＡＭ素子に好ましい。
【０００６】
ＴＮモードを有するＡＭ素子においては正の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。一方、ＶＡモードを有するＡＭ素子においては負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＩＰＳモードを有するＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＰＳＡモードを有するＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。正の誘電率異方性を有する液晶組成物の例は次の特許文献に開示されている。光学活性化合物を含有した液晶組成物の例は、特許文献３に記載されているが、らせんピッチが充分に短くはなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平２−６７２３２号公報
【特許文献２】特開平５−２２９９７９号公報
【特許文献３】特開平６−２００２５１号公報
【０００８】
望ましいＡＭ素子は、使用できる温度範囲が広い、応答時間が短い、コントラスト比が大きい、しきい値電圧が低い、電圧保持率が大きい、寿命が長い、光漏れが少ないなどの特性を有する。１ミリ秒でもより短い応答時間が望ましい。したがって、組成物の望ましい特性は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の１つの目的は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物である。他の目的は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の目的は、このような組成物を含有する液晶表示素子である。別の目的は、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、紫外線に対する高い安定性などを有する組成物であり、そして短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命、少ない光漏れなどを有するＡＭ素子である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第一成分として式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および第二成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、そしてネマチック相を有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子である。
ここで、Ｒ１は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ２およびＲ３は互いに異なって、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシである。
式（１）で表される化合物を２つ以上組み合わせて使用する場合、組成物のらせんピッチを短くするため、および式（１）で表される化合物の添加量を少なくするために、同一のねじれ方向を持つ化合物を使用することが好ましい。ただ、組成物のらせんピッチの長さの温度依存性を調整するために、同一のねじれ方向を持つ、及び逆向きのねじれ化合物を組み合わせることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の長所は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物である。本発明の１つの側面は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の側面は、このような組成物を含有する液晶表示素子である。他の側面は、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、紫外線に対する高い安定性などを有する組成物であり、そして短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命、少ない光漏れなどを有するＡＭ素子である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。本発明の液晶組成物または本発明の液晶表示素子をそれぞれ「組成物」または「素子」と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物または液晶相を有さないが組成物の成分として有用な化合物を意味する。この有用な化合物は例えば１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンのような六員環を有し、その分子構造は棒状（rod like）である。光学活性な化合物または重合可能な化合物は組成物に添加されることがある。これらの化合物が液晶性化合物であったとしても、ここでは添加物として分類される。式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を「化合物（１）」と略すことがある。「化合物（１）」は、式（１）で表される１つの化合物または２つ以上の化合物を意味する。他の式で表される化合物についても同様である。「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを示すが、個数が０である場合を含まない。
【００１３】
ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。「比抵抗が大きい」は、組成物が初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有することを意味する。「電圧保持率が大きい」は、素子が初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。光学異方性などの特性を説明するときは、実施例に記載した測定方法で得られた値を用いる。第一成分は、１つの化合物または２つ以上の化合物である。「第一成分の割合」は、第一成分を除く液晶組成物の重量を１００としたときの第一成分の重量比率（重量部）を意味する。「第二成分の割合」は、第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいた第二成分の重量百分率（重量％）を意味する。「第三成分の割合」および「第四成分の割合」は、第二成分と同様である。組成物に混合される添加物の割合は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）または重量百万分率（ｐｐｍ）を意味する。
【００１４】
成分化合物の化学式において、Ｒ１の記号を複数の化合物に用いた。これらのうちの任意の２つの化合物において、選択されるＲ１は、同じであっても、異なってもよい。例えば、化合物（１−１）のＲ１がエチルであり、化合物（１−２）のＲ１がエチルであるケースがある。化合物（１−１）のＲ１がエチルであり、化合物（１−２）のＲ１がプロピルであるケースもある。このルールは、Ｒ４、Ｒ５などにも適用される。化学式において、「ＣＬ」は塩素を表す。
【００１５】
本発明は、下記の項などである。
１． 第一成分として式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの光学活性化合物、および第二成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、ネマチック相を有する液晶組成物。
ここで、Ｒ１は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ２およびＲ３は互いに異なって、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシである。
【００１６】
２． 式（１）において、Ｒ２およびＲ３の炭素数の和が３〜１０の範囲である、項１に記載の液晶組成物。
【００１７】
３． 第一成分が式（１−１）から式（１−３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ１は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００１８】
４． 第一成分を除く液晶組成物１００重量部に対して、第一成分の割合が０．０１重量部から５重量部の範囲である項１から３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００１９】
５． 第二成分が、式（２−１）から式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１から４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００２０】
６． 第二成分が式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項５に記載の液晶組成物。
【００２１】
７． 第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が５重量％から３０重量％の範囲である項１から６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００２２】
８． 第三成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｃおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシであり；ｐは１または２である。
【００２３】
９． 第三成分が、式（３―１）から式（３―７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項８に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００２４】
１０． 第三成分が式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２５】
１１． 第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２６】
１２． 第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２７】
１３． 第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２８】
１４． 第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第三成分の割合が５重量％から７５重量％の範囲である項８から項１３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００２９】
１５． 第四成分として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１から１４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ６は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｇは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；Ｚ４は独立して、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはジフルオロメチレンオキシであり；Ｘ１およびＸ２は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシであり；ｋは、１、２、３、または４である。
【００３０】
１６． 第四成分が、式（４−１）から式（４−３７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１５に記載の液晶組成物。
【００３１】
【００３２】
【００３３】
ここで、Ｒ６は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、およびＸ９は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシである。
【００３４】
１７． 第四成分が式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３５】
１８． 第四成分が式（４−８）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３６】
１９． 第四成分が式（４−９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３７】
２０． 第四成分が式（４−１０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３８】
２１． 第四成分が式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３９】
２２． 第四成分が式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４０】
２３． 第四成分が式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４１】
２４． 第四成分が式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４２】
２５． 第四成分が式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４３】
２６． 第四成分が、式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４４】
２７． 第四成分が、式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４５】
２８． 第四成分が、式（４−６）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４６】
２９． 第四成分が、式（４−１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４７】
３０． 第四成分が、式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４８】
３１． 第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第四成分の割合が２０重量％から９０重量％の範囲である項１６から３０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００４９】
３２． ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃）が２以上である項１から３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００５０】
３３． 項１から３２のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００５１】
３４． 液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＰＳＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である項３３に記載の液晶表示素子。
【００５２】
本発明は、次の項も含む。１）光学活性な化合物をさらに含有する上記の組成物、２）酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、重合可能な化合物、重合開始剤などの添加物をさらに含有する上記の組成物、３）上記の組成物を含有するＡＭ素子、４）上記の組成物を含有し、そしてＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、またはＰＳＡのモードを有する素子、５）上記の組成物を含有する透過型の素子、６）上記の組成物を、ネマチック相を有する組成物としての使用、７）上記の組成物を、光学活性な組成物としての使用。
【００５３】
本発明の組成物を次の順で説明する。第一に、組成物における成分化合物の構成を説明する。第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物に及ぼす主要な効果を説明する。第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分化合物の好ましい割合およびその根拠を説明する。第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。第五に、成分化合物の具体的な例を示す。第六に、組成物に混合してもよい添加物を説明する。第七に、成分化合物の合成法を説明する。最後に、組成物の用途を説明する。
【００５４】
第一に、組成物における成分化合物の構成を説明する。本発明の組成物は組成物Ａと組成物Ｂに分類される。組成物Ａはその他の液晶性化合物、添加物、不純物などをさらに含有してもよい。「その他の液晶性化合物」は、化合物（１）、化合物（２）、化合物（３）、および化合物（４）とは異なる液晶性化合物である。このような化合物は、特性をさらに調整する目的で組成物に混合される。その他の液晶性化合物の中で、シアノ化合物は熱または紫外線に対する安定性の観点から少ない方が好ましい。シアノ化合物のさらに好ましい割合は０重量％である。添加物は、第一成分以外の光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合可能な化合物、重合開始剤などである。不純物は成分化合物の合成などの工程において混入した化合物などである。この化合物が液晶性化合物であったとしても、ここでは不純物として分類される。
【００５５】
組成物Ｂは、実質的に、化合物（１）、化合物（２）、化合物（３）、および化合物（４）から選択された化合物のみからなる。「実質的に」は、組成物が添加物および不純物を含有してもよいが、これらの化合物と異なる液晶性化合物を含有しないことを意味する。組成物Ｂは組成物Ａに比較して成分の数が少ない。コストを下げるという観点から、組成物Ｂは組成物Ａよりも好ましい。その他の液晶性化合物を混合することによって物性をさらに調整できるという観点から、組成物Ａは組成物Ｂよりも好ましい。
【００５６】
第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果を説明する。成分化合物の主要な特性を本発明の効果に基づいて表２にまとめる。表２の記号において、Ｌは大きいまたは高い、Ｍは中程度の、Ｓは小さいまたは低い、を意味する。記号Ｌ、Ｍ、Ｓは、成分化合物のあいだの定性的な比較に基づいた分類であり、０（ゼロ）は値がほぼゼロであることを意味する。
【００５７】
【００５８】
成分化合物を組成物に混合したとき、成分化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果は次のとおりである。化合物（１）はピッチを短くする。化合物（２）は上限温度を上げる。化合物（３）は上限温度を上げる、または粘度を下げる。化合物（４）は下限温度を下げ、そして誘電率異方性を上げる。
【００５９】
第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分化合物の好ましい割合およびその根拠を説明する。組成物における成分の組み合わせは、第一成分＋第二成分、第一成分＋第二成分＋第三成分、第一成分＋第二成分＋第四成分、および第一成分＋第二成分＋第三成分＋第四成分である。組成物における成分の好ましい組み合わせは、第一成分＋第二成分＋第三成分＋第四成分である。
【００６０】
第一成分の好ましい割合は、０．０１重量部以上であり、５重量部以下である。さらに好ましい割合は０．０５重量部から３重量部の範囲である。特に好ましい割合は０．１重量部から２重量部の範囲である。
【００６１】
第二成分の好ましい割合は、上限温度を上げるため、５重量％以上であり、誘電率異方性を上げるために３０重量％以下である。さらに好ましい割合は５重量％から２５重量％の範囲である。特に好ましい割合は５重量％から２０重量％の範囲である。
【００６２】
第三成分の好ましい割合は、上限温度を上げるため、または粘度を下げるために５重量％以上であり、誘電率異方性を上げるために７５重量％以下である。さらに好ましい割合は５重量％から７０重量％の範囲である。特に好ましい割合は５重量％から６５重量％の範囲である。
【００６３】
第四成分の好ましい割合は、誘電率異方性を上げるために２０重量％以上であり、粘度を下げるために９０重量％以下である。さらに好ましい割合は２５重量％から８５重量％の範囲である。特に好ましい割合は３０重量％から８０重量％の範囲である。
【００６４】
第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。好ましいＲ１、Ｒ５またはＲ６は、紫外線または熱に対する安定性を上げるために、炭素数１から１２のアルキルである。好ましいＲ４は下限温度を下げるため、または粘度を下げるために、炭素数２から１２のアルケニルである。Ｒ２およびＲ３は独立して、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルである。好ましいＲ２またはＲ３は、紫外線または熱に対する安定性を上げるために、炭素数１から１２のアルキルである。
【００６５】
好ましいアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、またはオクチルである。さらに好ましいアルキルは、粘度を下げるためにエチル、プロピル、ブチル、ペンチル、またはヘプチルである。
【００６６】
好ましいアルコキシは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、またはヘプチルオキシである。粘度を下げるために、さらに好ましいアルコキシは、メトキシまたはエトキシである。
【００６７】
好ましいアルケニルは、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、または５−ヘキセニルである。さらに好ましいアルケニルは、粘度を下げるためにビニル、１−プロペニル、３−ブテニル、または３−ペンテニルである。これらのアルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。粘度を下げるためから、１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ペンテニル、３−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはトランスが好ましい。２−ブテニル、２−ペンテニル、２−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはシスが好ましい。これらのアルケニルにおいては、分岐よりも直鎖のアルケニルが好ましい。
【００６８】
任意の水素がフッ素で置き換えられたアルケニルの好ましい例は、２，２−ジフルオロビニル、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル、５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル、および６，６−ジフルオロ−５−ヘキセニルである。さらに好ましい例は、粘度を下げるために、２，２−ジフルオロビニルおよび４，４−ジフルオロ−３−ブテニルである。
【００６９】
環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンである。好ましい環Ａまたは環Ｂは、下限温度を下げるために、１，４−シクロへキシレンである。
環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２、５−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。ｐが２である時の２つの環Ｃは同じであっても、異なっていてもよい。好ましい環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、または環Ｆは、上限温度を上げ、粘度を下げるために、１，４−シクロヘキシレンであり、光学異方性を上げるために、１，４−フェニレンである。環Ｇは、１，４−シクロへキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または２，５−ピリミジンであり、ｋが２または３である時、そのうちの任意の２つの環Ｇは同じであっても、異なっていてもよい。好ましい環Ｇは、光学異方性を上げるために１，４−フェニレンである。
【００７０】
Ｚ１は、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシであり、ｐが２である時の２つのＺ１は同じであっても、異なっていてもよい。好ましいＺ１は粘度を下げるために単結合である。Ｚ２は、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはジフルオロメチレンオキシであり、ｋが２または３である時、そのうちの任意の２つのＺ２は同じであっても、異なってもよい。好ましいＺ２は誘電率異方性を上げるためにジフルオロメチレンオキシである。
【００７１】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、およびＸ９は独立して、水素またはフッ素である。好ましいＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、またはＸ９は、誘電率異方性を上げるためにフッ素である。
【００７２】
Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシである。好ましいＹ１は、下限温度を下げるためにフッ素である。
【００７３】
ｐは独立して、１または２である。好ましいｐは粘度を下げるために１である。ｋは独立して、１、２、３、または４である。好ましいｋは下限温度を下げるために２である。
【００７４】
第五に、成分化合物の具体的な例を示す。下記の好ましい化合物において、Ｒ７およびＲ１１は独立して、炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルである。Ｒ８は炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルまたは炭素数１から１２を有する直鎖のアルコキシである。Ｒ９およびＲ１０は独立して、炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルまたは炭素数２から１２を有する直鎖のアルケニルである。これらの化合物において１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。
【００７５】
好ましい化合物（１）は、化合物（１−１−１）から化合物（１−３−１）である。さらに好ましい化合物（１）は、化合物（１−１−１）および化合物（１−２−１）である。特に好ましい化合物（１）は、化合物（１−１−１）である。好ましい化合物（２）は、化合物（２−１−１）から化合物（２−４−１）である。さらに好ましい化合物（２）は、化合物（２−１−１）および化合物（２−４−１）である。特に好ましい化合物（２）は、化合物（２−４−１）である。好ましい化合物（３）は、化合物（３−１−１）から化合物（３−７−１）である。さらに好ましい化合物（３）は、化合物（３−１−１）、化合物（３−５−１）、および化合物（３−７−１）である。好ましい化合物（４）は、化合物（４−１−１）から化合物（４−２７−１）、化合物（４−２８−１）から化合物（４−２８−２）、化合物（４−２９−１）から化合物（４−２９−３）、化合物（４−３０−１）から化合物（４−３０−２）、化合物（４−３１−１）、化合物（４−３２−１）から化合物（４−３２−２）、化合物（４−３３−１）から化合物（４−３７−１）、化合物（４−３８）から化合物（４−４５）である。さらに好ましい化合物（４）は、化合物（４−６−１）、化合物（４−１５−１）、化合物（４−２０−１）、化合物（４−２４−１）、および化合物（４−２７−１）である。特に好ましい化合物（４）は、化合物（４−２０−１）、化合物（４−２４−１）、および化合物（４−２７−１）である。
【００７６】
【００７７】
【００７８】
【００７９】
【００８０】
【００８１】
【００８２】
【００８３】
【００８４】
第六に、組成物に混合してもよい添加物を説明する。このような添加物は、第一成分以外の光学活性な化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合可能な化合物、重合開始剤などである。光学活性な化合物の例は、化合物（５−１）から化合物（５−４）である。光学活性な化合物の好ましい割合は５重量％以下である。さらに好ましい割合は０．０１重量％から２重量％の範囲である。
【００８５】
第一成分以外の光学活性な化合物を添加する場合、組成物のらせんピッチを短くするために、第一成分すなわち化合物（１）と同一のねじれ方向を持つ光学活性な化合物を使用することが好ましい。ただし、組成物のらせんピッチの長さの温度依存性を調整するために、同一のねじれ方向を持つ、及び逆向きのねじれ化合物を組み合わせることができる。
【００８６】
大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するために、または素子を長時間使用したあと、室温だけではなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するために、酸化防止剤が組成物に混合される。
【００８７】
酸化防止剤の好ましい例は、ｎが１から９の整数である化合物（６）などである。化合物（６）において、好ましいｎは、１、３、５、７、または９である。さらに好ましいｎは１または７である。ｎが１である化合物（６）は、揮発性が大きいので、大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するときに有効である。ｎが７である化合物（６）は、揮発性が小さいので、素子を長時間使用したあと、室温だけではなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するのに有効である。酸化防止剤の好ましい割合は、その効果を得るために５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように６００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、１００ｐｐｍから３００ｐｐｍの範囲である。
【００８８】
紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。立体障害のあるアミンのような光安定剤もまた好ましい。これらの吸収剤や安定剤における好ましい割合は、その効果を得るために５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように１００００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は１００ｐｐｍから１００００ｐｐｍの範囲である。
【００８９】
ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるためにアゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に混合される。色素の好ましい割合は、０．０１重量％から１０重量％の範囲である。泡立ちを防ぐために、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどの消泡剤が組成物に混合される。消泡剤の好ましい割合は、その効果を得るために１ｐｐｍ以上であり、表示の不良を防ぐために１０００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、１ｐｐｍから５００ｐｐｍの範囲である。
【００９０】
ＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードの素子に適合させるために重合可能な化合物が組成物に混合される。重合可能な化合物の好ましい例はアクリレート、メタクリレート、ビニル、ビニルオキシ、プロペニルエーテル、エポキシ（オキシラン、オキセタン）、ビニルケトンなどの重合可能な基を有する化合物である。特に好ましい例は、アクリレート、またはメタクリレートの誘導体である。重合可能な化合物の好ましい割合は、その効果を得るために、０．０５重量％以上であり、表示不良を防ぐために１０重量％以下である。さらに好ましい割合は、０．１重量％から２重量％の範囲である。重合可能な化合物は、好ましくは光重合開始剤などの適切な開始剤存在下でＵＶ照射などにより重合する。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。例えば光開始剤であるＩｒｇａｕｒｅ６５１（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（登録商標）、またはＤａｒｏｃｕｒｅ１１７３（登録商標）（Ｃｉｂａ Ｊａｐａｎ Ｋ．Ｋ．）がラジカル重合に対して適切である。好ましい光重合開始剤の割合は、重合可能な化合物の０．１重量％から５重量％の範囲であり、特に好ましい割合は１重量％から３重量％の範囲である。
【００９１】
第七に、成分化合物の合成法を説明する。これらの化合物は既知の方法によって合成できる。合成法を例示する。化合物（１−１−１）は特開平６−２００２５１号公報に記載された方法で合成する。化合物（３−１−１）および化合物（３−５−１）は、特公平４−３０３８２号公報に記載された方法で合成する。化合物（４−１３−１）および化合物（４−１５−１）は、特開平２−２３３６２６号公報に記載された方法で合成する。化合物（４−２０−１）および化合物（４−２７−１）は、特開平１０−２５１１８６号公報に記載された方法で合成する。酸化防止剤は市販されている。式（６）のｎが１である化合物は、アルドリッチ（Sigma-Aldrich Corporation）から入手できる。ｎが７である化合物（６）などは、米国特許３６６０５０５号明細書に記載された方法によって合成する。
【００９２】
合成法を記載しなかった化合物は、オーガニック・シンセシス（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載された方法によって合成できる。組成物は、このようにして得た化合物から公知の方法によって調整される。例えば、成分化合物を混合し、そして加熱によって互いに溶解させる。
【００９３】
最後に、組成物の用途を説明する。本発明の組成物は主として、−１０℃以下の下限温度、７０℃以上の上限温度、そして０．０７から０．２０の範囲の光学異方性を有する。この組成物を含有する素子は大きな電圧保持率を有する。この組成物はＡＭ素子に適する。この組成物は透過型のＡＭ素子に特に適する。成分化合物の割合を制御することによって、またはその他の液晶性化合物を混合することによって、０．０８から０．２５の範囲の光学異方性を有する組成物、さらには０．１０から０．３０の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。この組成物は、光学活性化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用が可能である。
【００９４】
この組成物はＡＭ素子への使用が可能である。さらにＰＭ素子への使用も可能である。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモードを有するＡＭ素子およびＰＭ素子への使用が可能である。ＴＮ、ＯＣＢまたはＩＰＳモードを有するＡＭ素子への使用は特に好ましい。これらの素子が反射型、透過型または半透過型であってもよい。透過型の素子への使用は好ましい。非結晶シリコン−ＴＦＴ素子または多結晶シリコン−ＴＦＴ素子への使用も可能である。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）型の素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）型の素子にも使用できる。
【実施例】
【００９５】
組成物および組成物に含有させる化合物の評価をするために、組成物およびこの化合物を測定目的物とする。測定目的物が組成物のときはそのままを試料として測定し、得られた値を記載した。測定目的物が化合物のときは、この化合物（１５重量％）を母液晶（８５重量％）に混合することによって測定用試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法によって化合物の特性値を算出した。（外挿値）＝｛（測定用試料の測定値）−０．８５×（母液晶の測定値）｝／０．１５。この割合でスメクチック相（または結晶）が２５℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更した。この外挿法によって化合物に関する上限温度、光学異方性、粘度および誘電率異方性の値を求めた。
【００９６】
母液晶の成分は下記のとおりである。各成分の割合は、重量％である。
【００９７】
特性値の測定は下記の方法にしたがった。それらの多くは、日本電子機械工業会規格（Standard of Electric Industries Association of Japan）ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。
【００９８】
らせんのねじれ方向：母液晶１００重量部に試料を１重量部添加した組成物のらせんピッチ（Ｐ１）を測定した。次に、母液晶に、右ねじれである標準光学活性化合物を添加した組成物のらせんピッチがＰ１と同程度となる標準光学活性化合物の添加量を計算しておき、母液晶に標準光学活性化合物をこの計算した量添加した組成物のらせんピッチ（Ｐ２）を測定した。さらに、これらの組成物を同量ずつ混ぜた混合物のらせんピッチ（Ｐｍｉｘ）を測定した。Ｐｍｉｘが、Ｐ１とＰ２の中間ならば、右ねじれと判定し、ＰｍｉｘがＰ１とＰ２よりも明らかに大きくなったら、左ねじれと判定した。
【００９９】
標準光学活性化合物は下記のとおりである。
【０１００】
ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
【０１０１】
ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料をガラス瓶に入れ、０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣを≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【０１０２】
粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定にはＥ型回転粘度計を用いた。
【０１０３】
粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995)に記載された方法に従った。ツイスト角が０°であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。この素子に１６Ｖから１９．５Ｖの範囲で０．５Ｖ毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文中の４０頁記載の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度を測定した素子を用い、下に記載した方法で求めた。
【０１０４】
光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。
【０１０５】
誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、そしてツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（１０Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。
【０１０６】
しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が約０．４５ / Δｎ (μｍ)であり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に印加する電圧（３２Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから１０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が９０％になったときの電圧である。
【０１０７】
電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。
【０１０８】
電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。
【０１０９】
電圧保持率（ＶＨＲ−３；２５℃；％）：紫外線を照射したあと、電圧保持率を測定し、紫外線に対する安定性を評価した。測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは５μｍである。この素子に試料を注入し、光を２０分間照射した。光源は超高圧水銀ランプＵＳＨ−５００Ｄ（ウシオ電機製）であり、素子と光源の間隔は２０ｃｍである。ＶＨＲ−３の測定では、減衰する電圧を１６．７ミリ秒のあいだ測定した。大きなＶＨＲ−３を有する組成物は紫外線に対して大きな安定性を有する。ＶＨＲ−３は９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。
【０１１０】
電圧保持率（ＶＨＲ−４；２５℃；％）：試料を注入したＴＮ素子を８０℃の恒温槽内で５００時間加熱したあと、電圧保持率を測定し、熱に対する安定性を評価した。ＶＨＲ−４の測定では、減衰する電圧を１６．７ミリ秒のあいだ測定した。大きなＶＨＲ−４を有する組成物は熱に対して大きな安定性を有する。
【０１１１】
応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５．０μｍであり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、５Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である。立ち上がり時間（τｒ：rise time；ミリ秒）は、透過率が９０％から１０％に変化するのに要した時間である。立ち下がり時間（τｆ：fall time；ミリ秒）は透過率１０％から９０％に変化するのに要した時間である。応答時間は、このようにして求めた立ち上がり時間と立ち下がり時間との和である。
【０１１２】
比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）：電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。
【０１１３】
らせんピッチ（Ｐ；室温で測定；μｍ）：らせんピッチはくさび法にて測定した（液晶便覧１９６頁（２０００年発行、丸善））。試料をくさび形セルに注入し、室温で２時間静置した後、ディスクリネーションラインの間隔（ｄ２−ｄ１）を偏光顕微鏡（ニコン（株）、商品名ＭＭ４０／６０シリーズ）にて観察した。らせんピッチ（Ｐ）は、くさびセルの角度をθとあらわした次の式から算出した。
Ｐ＝２×（ｄ２−ｄ１）×ｔａｎθ
【０１１４】
ガスクロマト分析：測定には島津製作所製のＧＣ−１４Ｂ型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム（２ｍＬ／分）である。試料気化室を２８０℃に、検出器（ＦＩＤ）を３００℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ；固定液相はジメチルポリシロキサン；無極性）を用いた。このカラムは、２００℃で２分間保持したあと、５℃／分の割合で２８０℃まで昇温した。試料はアセトン溶液（０．１重量％）に調製したあと、その１μＬを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のＣ−Ｒ５Ａ型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。
【０１１５】
試料を希釈するための溶媒は、クロロホルム、ヘキサンなどを用いてもよい。成分化合物を分離するために、次のキャピラリカラムを用いてもよい。Agilent Technologies Inc.製のＨＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、Restek Corporation製のＲｔｘ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、SGE International Pty. Ltd製のＢＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）。化合物ピークの重なりを防ぐ目的で島津製作所製のキャピラリカラムＣＢＰ１−Ｍ５０−０２５（長さ５０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いてもよい。
【０１１６】
組成物に含有される液晶性化合物の割合は、次のような方法で算出してよい。液晶性化合物はガスクロマトグラフで検出することができる。ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は液晶性化合物の割合（モル数）に相当する。上に記載したキャピラリカラムを用いたときは、各々の液晶性化合物の補正係数を１とみなしてよい。したがって、液晶性化合物の割合（重量％）は、ピークの面積比から算出する。
【０１１７】
実施例により本発明を詳細に説明する。本発明は下記の実施例によって限定されない。比較例および実施例における化合物は、下記の表３の定義に基づいて記号により表した。
表３において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）であり、液晶組成物にはこの他に不純物が含まれている。最後に、組成物の特性値をまとめた。
【０１１８】
【０１１９】
［比較例１］
特開平６−２００２５１号公報に開示された組成物の中から実施例４を選んだ。根拠は、この組成物が化合物（１−１−１）、化合物（４）、化合物（４−９−１）、化合物（４−１０−１）および化合物（４−１１−１）を含有しているからである。応答時間（τ）についての記載がなかったため、本組成物を調合し、上述した方法により測定した。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。
５−ＨＢ−ＯＣＦ３ （４） ９％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １６．７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １６．７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １６．６％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） １０％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ８．４％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ４．２％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ８．４％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．３重量部添加した。
ＮＩ=８６．０℃；Δｎ＝０．０８８；τ＝２６．９ｍｓ；Ｐ＝８２．０μｍ．
【０１２０】
［比較例２］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ９％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ３％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−３ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） １０％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ５％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３９） ６％
上記組成物１００重量部に本発明の第一成分とは異なる下記化合物（右ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２５；Δε＝７．３；Ｖｔｈ＝１．２９Ｖ；η＝３１．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５０．７ｍＰａ・ｓ；τ＝２７．３ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．７％；Ｐ＝１４２．３μｍ
【０１２１】
［実施例１］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ９％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ３％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−３ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） １０％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ５％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３９） ６％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．４℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２５；Δε＝７．２；Ｖｔｈ＝１．３５Ｖ；η＝３１．２ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５１．２ｍＰａ・ｓ；τ＝２５．６ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝２３．４μｍ
【０１２２】
［実施例２］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） １５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２−１） ４％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ３％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．７℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１８；Δε＝５．５；Ｖｔｈ＝１．７４Ｖ；η＝２５．６ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２８．５ｍＰａ・ｓ；τ＝２２．８ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝２３．２μｍ．
【０１２３】
［実施例３］
Ｖ２−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （２−４） ５％
２−ＨＨ−５ （３−１−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ９％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ２％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ２％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ （４−８−１） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２６％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１９−１） ５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．５重量部添加した。
ＮＩ=１００．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝３．９；Ｖｔｈ＝２．１２Ｖ；η＝２４．７ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２２．７ｍＰａ・ｓ；τ＝２１．０ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９９．０％；Ｐ＝４７．０μｍ．
【０１２４】
［実施例４］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） １０％
３−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
７−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ５％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１）３．２５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１）３．２５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ６．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２８％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−３８） ２％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−２−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９９．８℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１４３；Δε＝６．０；Ｖｔｈ＝１．６２Ｖ；η＝３１．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５２．７ｍＰａ・ｓ；τ＝２５．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝２２．５μｍ．
【０１２５】
［実施例５］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ２％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ２％
３−ＨＨＥＢＨ−５ （２−１−１） ２％
２−ＨＨ−５ （３−１−１） ７％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ８％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ６．６７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ６．６６％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ６．６７％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ９％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ７％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
４−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ３％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．４重量部添加した。
ＮＩ=９７．２℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．０７８；Δε＝５．４；Ｖｔｈ＝１．６５Ｖ；η＝３０．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝１４４．８ｍＰａ・ｓ；τ＝２４．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；Ｐ＝５７．５μｍ．
【０１２６】
［実施例６］
５−ＨＢＢＨ−３ （２−２−１） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ５％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１−１） ４％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２−１） ４％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １７％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １６％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ５％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１８−１） ７％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１８−１） ７％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （−） ４％ 上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．５重量部添加した。
ＮＩ=９６．９℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１１；Δε＝５．０；Ｖｔｈ＝１．７５Ｖ；η＝３１．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５０．１ｍＰａ・ｓ；τ＝２５．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．７％；Ｐ＝４７．６μｍ．
【０１２７】
［実施例７］
５−ＨＢＢＨ−３ （２−２−１） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ３％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） １２％
３−ＨＨ−５ （３−１−１） ４％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） １６％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ （４−８−１） ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １０％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ８．６７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ８．６６％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ８．６７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４２） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−２−１；左ねじれ）を０．５重量部添加した。
ＮＩ=１１１．２℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．０９６；Δε＝２．５；Ｖｔｈ＝２．８２Ｖ；η＝２０．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝１０１．８ｍＰａ・ｓ；τ＝１７．２ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝４５．１μｍ．
【０１２８】
［実施例８］
Ｖ−ＨＢＢＨ−５ （２−２−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ４％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ２％
３−ＨＨＢ−Ｆ （４−８−１） ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １２％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １３％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−３−１；左ねじれ）を０．８重量部添加した。
ＮＩ=９７．４℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝５．０；Ｖｔｈ＝２．１３Ｖ；η＝２７．４ｍＰａ・ｓ；γ１＝１３４．０ｍＰａ・ｓ；τ＝２２．８ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９９．０％；Ｐ＝１９．３μｍ．
【０１２９】
［実施例９］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ６％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４２％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ５％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ７％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．４重量部添加した。
ＮＩ=１０２．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１６；Δε＝５．８；Ｖｔｈ＝１．５６Ｖ；η＝１５．８ｍＰａ・ｓ；γ１＝７８．１ｍＰａ・ｓ；τ＝１４．０ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．０％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝５７．８μｍ．
【０１３０】
［実施例１０］
Ｖ２−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４７％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ８％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ６％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ７％
４−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ３％
５−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ７％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=９９．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２０；Δε＝５．１；Ｖｔｈ＝２．０８Ｖ；η＝１０．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝５０．２ｍＰａ・ｓ；τ＝９．１ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝３３．９μｍ．
【０１３１】
［実施例１１］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ４％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ７％
３−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） １０％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） １０％
１Ｖ２−ＢＢ−Ｆ （４−２） ８％
１Ｖ２−ＢＢ−ＣＬ （４−３） ８％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ６％
３−ＨＢＢ−Ｆ （４−７−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ７％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ５％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２６−１） ５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−２−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=１０７．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１５２；Δε＝６．７；Ｖｔｈ＝１．４０Ｖ；η＝２４．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２２．１ｍＰａ・ｓ；τ＝２２，９ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝３２．４μｍ．
【０１３２】
［実施例１２］
５−ＨＢＢＨ−３ （２−２−１） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ３０％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ５％
Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ５％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
３−ＨＢＢ−２ （３−６−１） ６％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３−７−１） ３％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−５ （３−７−１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５−１） ８％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２３−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ５％
３−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３６−１） ３％
３−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−３−１；左ねじれ）を０．６重量部添加した。
ＮＩ=１０３．１℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２３；Δε＝４．８；Ｖｔｈ＝１．９０Ｖ；η＝１４．９ｍＰａ・ｓ；γ１＝８３．５ｍＰａ・ｓ；τ＝１５．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．８％；Ｐ＝３５．９μｍ．
【０１３３】
［実施例１３］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ７％
Ｖ−ＨＨ−４ （３−１−１） １３％
Ｖ−ＨＨ−５ （３−１−１） ２０％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
５−ＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４−１） ２％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （４−２１−１） ６％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ （４−３３−１） ２％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３４−１） ３％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （４−４０） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−Ｆ （４−４１） ４％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．６℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１９；Δε＝５．９；Ｖｔｈ＝１．６１Ｖ；η＝２１．４ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２０．１ｍＰａ・ｓ；τ＝２２．６ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝２１．９μｍ．
【０１３４】
［実施例１４］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） １５％
３−ＨＨ−ＶＦＦ （３−１） ２０％
１Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ５％
３−ＨＨＥＨ−５ （３−４−１） ３％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） ３％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１２−１） ７％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ （４−１６−１） ３％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ （４−１６−１） ３％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ （４−１６−１） ３％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１８−１） ７％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ４％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＰｙＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４５） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=９７．７℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１９；Δε＝６．９；Ｖｔｈ＝１．２５Ｖ；η＝１５．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝８５．５ｍＰａ・ｓ；τ＝１６．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；Ｐ＝３３．１μｍ．
【０１３５】
［実施例１５］
Ｖ−ＨＢＢＨ−５ （２−２−１） ５％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ２５％
Ｖ−ＨＨ−５ （３−１−１） １４％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ７％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ３％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ５％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ５％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） ８％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ６％
４−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２９−２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−Ｆ （４−３０−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．３重量部添加した。
ＮＩ=１１４．６℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１５；Δε＝３．５；Ｖｔｈ＝２．２６Ｖ；η＝１５．２ｍＰａ・ｓ；γ１＝８７．４ｍＰａ・ｓ；τ＝１７．０ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．８％；Ｐ＝７４．２μｍ．
【０１３６】
［実施例１６］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ５％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１−１） １６％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） １５％
７−ＨＢ−１ （３−２−１） ５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２−１） ３％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ３％
３−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ６％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ７％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ６％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２８−１） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２９−３） ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４２） ６％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．６重量部添加した。
ＮＩ=１０４．１℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝６．０；Ｖｔｈ＝１．４４Ｖ；η＝２２．３ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２９．５ｍＰａ・ｓ；τ＝２３．９ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．３％；Ｐ＝３９．４μｍ．
【０１３７】
［実施例１７］
Ｖ２−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （２−４） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４０％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ８％
Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ５％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ５％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ６％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２６−１） ３％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３６−１） ５％
３−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ４％
５−ｄｈＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４３） ３％
５−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４４） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１；左ねじれ）を２重量部添加した。
ＮＩ=９７．４℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１２；Δε＝４．４；Ｖｔｈ＝１．９８Ｖ；η＝６．５ｍＰａ・ｓ；γ１＝４２．０ｍＰａ・ｓ；τ＝７．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．０％；ＶＨＲ−２＝９８．４％；Ｐ＝４９．４μｍ．
【０１３８】
［実施例１８］
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ６％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ３０％
Ｖ−ＨＨ−５ （３−１−１） １０％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１−１） ３％
１Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ４％
３−ＨＨＥＨ−５ （３−４−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｘ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２８−２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３２−２） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．８重量部添加した。
ＮＩ=１０８．３℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２０；Δε＝５．２；Ｖｔｈ＝１．７８Ｖ；η＝１８．９ｍＰａ・ｓ；γ１＝１１３．４ｍＰａ・ｓ；τ＝２１．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；Ｐ＝３０．１μｍ．
【０１３９】
［実施例１９］
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４４％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ７％
３−ＨＢＢ−２ （３−６−１） ３％
５−ＨＢＢ−２ （３−６−１） ３％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３−７−１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （４−２１−１） ３％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ４％
５−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ５％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ６％
５−ＨＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２９−１） ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３（４−３２−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．４重量部添加した。
ＮＩ=１０８．６℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２０；Δε＝４．８；Ｖｔｈ＝１．８９Ｖ；η＝１４．９ｍＰａ・ｓ；γ１＝９０．３ｍＰａ・ｓ；τ＝１７．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝６３．８μｍ．
【０１４０】
［実施例２０］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ３７％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ７％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ６％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ７％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ２％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３０−２） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３１−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=９７．０℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２７；Δε＝６．５；Ｖｔｈ＝１．４６Ｖ；η＝１４．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝８６．４ｍＰａ・ｓ；τ＝１６．９ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．０％；ＶＨＲ−２＝９８．２％；Ｐ＝３７．２μｍ．
【０１４１】
実施例１から実施例２０の組成物は、比較例１および比較例２のそれと比べて短いらせんピッチ、および短い応答時間を有する。よって、本発明による液晶組成物は、比較例１および比較例２に示された液晶組成物よりも、さらに優れた特性を有する。
【産業上の利用可能性】
【０１４２】
本発明は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどの特性において、少なくとも１つの特性を充足する、または少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。このような組成物を用いた液晶表示素子は、短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命、少ない光漏れなどを有するので、ＡＭ素子などに適する。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主としてＡＭ（active matrix）素子などに適する液晶組成物およびこの組成物を含有するＡＭ素子などに関する。特に、誘電率異方性が正の液晶組成物に関し、この組成物を含有するＴＮ（twisted nematic）モード、ＯＣＢ（optically compensated bend）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、またはＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードの素子などに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）、ＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードなどである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭは、スタティック（static）、マルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭは、ＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。ＴＦＴの分類は非晶質シリコン（amorphous silicon）および多結晶シリコン（polycrystal silicon）である。後者は製造工程によって高温型と低温型とに分類される。光源に基づいた分類は、自然光を利用する反射型、バックライトを利用する透過型、そして自然光とバックライトの両方を利用する半透過型である。
【０００３】
これらの素子は適切な特性を有する液晶組成物を含有する。この液晶組成物はネマチック相を有する。良好な一般的特性を有するＡＭ素子を得るには組成物の一般的特性を向上させる。２つの一般的特性における関連を下記の表１にまとめる。組成物の一般的特性を市販されているＡＭ素子に基づいてさらに説明する。ネマチック相の温度範囲は、素子の使用できる温度範囲に関連する。ネマチック相の好ましい上限温度は７０℃以上であり、そしてネマチック相の好ましい下限温度は−１０℃以下である。組成物の粘度は素子の応答時間に関連する。素子で動画を表示するためには短い応答時間が好ましい。したがって、組成物における小さな粘度が好ましい。低い温度における小さな粘度はより好ましい。
【０００４】
【０００５】
組成物の光学異方性は、素子のコントラスト比に関連する。組成物の光学異方性（Δｎ）と素子のセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ×ｄ）は、コントラスト比を最大にするように設計される。適切な積の値は動作モードの種類に依存する。ＴＮのようなモードの素子では、適切な値は約０．４５μｍである。この場合、小さなセルギャップの素子には大きな光学異方性を有する組成物が好ましい。組成物における大きな誘電率異方性は素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、大きな誘電率異方性が好ましい。組成物における大きな比抵抗は、素子における大きな電圧保持率と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、初期段階において室温だけでなく高い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。長時間使用したあと、室温だけでなく高い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。紫外線および熱に対する組成物の安定性は、液晶表示素子の寿命に関連する。これらの安定性が高いとき、この素子の寿命は長い。このような特性は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いるＡＭ素子に好ましい。
【０００６】
ＴＮモードを有するＡＭ素子においては正の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。一方、ＶＡモードを有するＡＭ素子においては負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＩＰＳモードを有するＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＰＳＡモードを有するＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。正の誘電率異方性を有する液晶組成物の例は次の特許文献に開示されている。光学活性化合物を含有した液晶組成物の例は、特許文献３に記載されているが、らせんピッチが充分に短くはなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平２−６７２３２号公報
【特許文献２】特開平５−２２９９７９号公報
【特許文献３】特開平６−２００２５１号公報
【０００８】
望ましいＡＭ素子は、使用できる温度範囲が広い、応答時間が短い、コントラスト比が大きい、しきい値電圧が低い、電圧保持率が大きい、寿命が長い、光漏れが少ないなどの特性を有する。１ミリ秒でもより短い応答時間が望ましい。したがって、組成物の望ましい特性は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の１つの目的は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物である。他の目的は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の目的は、このような組成物を含有する液晶表示素子である。別の目的は、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、紫外線に対する高い安定性などを有する組成物であり、そして短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命、少ない光漏れなどを有するＡＭ素子である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第一成分として式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および第二成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、そしてネマチック相を有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子である。
ここで、Ｒ１は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ２およびＲ３は互いに異なって、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシである。
式（１）で表される化合物を２つ以上組み合わせて使用する場合、組成物のらせんピッチを短くするため、および式（１）で表される化合物の添加量を少なくするために、同一のねじれ方向を持つ化合物を使用することが好ましい。ただ、組成物のらせんピッチの長さの温度依存性を調整するために、同一のねじれ方向を持つ、及び逆向きのねじれ化合物を組み合わせることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の長所は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物である。本発明の１つの側面は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の側面は、このような組成物を含有する液晶表示素子である。他の側面は、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、紫外線に対する高い安定性などを有する組成物であり、そして短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命、少ない光漏れなどを有するＡＭ素子である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。本発明の液晶組成物または本発明の液晶表示素子をそれぞれ「組成物」または「素子」と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物または液晶相を有さないが組成物の成分として有用な化合物を意味する。この有用な化合物は例えば１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンのような六員環を有し、その分子構造は棒状（rod like）である。光学活性な化合物または重合可能な化合物は組成物に添加されることがある。これらの化合物が液晶性化合物であったとしても、ここでは添加物として分類される。式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を「化合物（１）」と略すことがある。「化合物（１）」は、式（１）で表される１つの化合物または２つ以上の化合物を意味する。他の式で表される化合物についても同様である。「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを示すが、個数が０である場合を含まない。
【００１３】
ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。「比抵抗が大きい」は、組成物が初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有することを意味する。「電圧保持率が大きい」は、素子が初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。光学異方性などの特性を説明するときは、実施例に記載した測定方法で得られた値を用いる。第一成分は、１つの化合物または２つ以上の化合物である。「第一成分の割合」は、第一成分を除く液晶組成物の重量を１００としたときの第一成分の重量比率（重量部）を意味する。「第二成分の割合」は、第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいた第二成分の重量百分率（重量％）を意味する。「第三成分の割合」および「第四成分の割合」は、第二成分と同様である。組成物に混合される添加物の割合は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）または重量百万分率（ｐｐｍ）を意味する。
【００１４】
成分化合物の化学式において、Ｒ１の記号を複数の化合物に用いた。これらのうちの任意の２つの化合物において、選択されるＲ１は、同じであっても、異なってもよい。例えば、化合物（１−１）のＲ１がエチルであり、化合物（１−２）のＲ１がエチルであるケースがある。化合物（１−１）のＲ１がエチルであり、化合物（１−２）のＲ１がプロピルであるケースもある。このルールは、Ｒ４、Ｒ５などにも適用される。化学式において、「ＣＬ」は塩素を表す。
【００１５】
本発明は、下記の項などである。
１． 第一成分として式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの光学活性化合物、および第二成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、ネマチック相を有する液晶組成物。
ここで、Ｒ１は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ２およびＲ３は互いに異なって、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシである。
【００１６】
２． 式（１）において、Ｒ２およびＲ３の炭素数の和が３〜１０の範囲である、項１に記載の液晶組成物。
【００１７】
３． 第一成分が式（１−１）から式（１−３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ１は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００１８】
４． 第一成分を除く液晶組成物１００重量部に対して、第一成分の割合が０．０１重量部から５重量部の範囲である項１から３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００１９】
５． 第二成分が、式（２−１）から式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１から４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００２０】
６． 第二成分が式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項５に記載の液晶組成物。
【００２１】
７． 第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が５重量％から３０重量％の範囲である項１から６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００２２】
８． 第三成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｃおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシであり；ｐは１または２である。
【００２３】
９． 第三成分が、式（３―１）から式（３―７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項８に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００２４】
１０． 第三成分が式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２５】
１１． 第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２６】
１２． 第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２７】
１３． 第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項９に記載の液晶組成物。
【００２８】
１４． 第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第三成分の割合が５重量％から７５重量％の範囲である項８から項１３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００２９】
１５． 第四成分として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１から１４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ６は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｇは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；Ｚ４は独立して、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはジフルオロメチレンオキシであり；Ｘ１およびＸ２は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシであり；ｋは、１、２、３、または４である。
【００３０】
１６． 第四成分が、式（４−１）から式（４−３７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１５に記載の液晶組成物。
【００３１】
【００３２】
【００３３】
ここで、Ｒ６は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、およびＸ９は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシである。
【００３４】
１７． 第四成分が式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３５】
１８． 第四成分が式（４−８）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３６】
１９． 第四成分が式（４−９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３７】
２０． 第四成分が式（４−１０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３８】
２１． 第四成分が式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００３９】
２２． 第四成分が式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４０】
２３． 第四成分が式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４１】
２４． 第四成分が式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４２】
２５． 第四成分が式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４３】
２６． 第四成分が、式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４４】
２７． 第四成分が、式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４５】
２８． 第四成分が、式（４−６）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４６】
２９． 第四成分が、式（４−１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４７】
３０． 第四成分が、式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である項１６に記載の液晶組成物。
【００４８】
３１． 第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第四成分の割合が２０重量％から９０重量％の範囲である項１６から３０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００４９】
３２． ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃）が２以上である項１から３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００５０】
３３． 項１から３２のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００５１】
３４． 液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＰＳＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である項３３に記載の液晶表示素子。
【００５２】
本発明は、次の項も含む。１）光学活性な化合物をさらに含有する上記の組成物、２）酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、重合可能な化合物、重合開始剤などの添加物をさらに含有する上記の組成物、３）上記の組成物を含有するＡＭ素子、４）上記の組成物を含有し、そしてＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、またはＰＳＡのモードを有する素子、５）上記の組成物を含有する透過型の素子、６）上記の組成物を、ネマチック相を有する組成物としての使用、７）上記の組成物を、光学活性な組成物としての使用。
【００５３】
本発明の組成物を次の順で説明する。第一に、組成物における成分化合物の構成を説明する。第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物に及ぼす主要な効果を説明する。第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分化合物の好ましい割合およびその根拠を説明する。第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。第五に、成分化合物の具体的な例を示す。第六に、組成物に混合してもよい添加物を説明する。第七に、成分化合物の合成法を説明する。最後に、組成物の用途を説明する。
【００５４】
第一に、組成物における成分化合物の構成を説明する。本発明の組成物は組成物Ａと組成物Ｂに分類される。組成物Ａはその他の液晶性化合物、添加物、不純物などをさらに含有してもよい。「その他の液晶性化合物」は、化合物（１）、化合物（２）、化合物（３）、および化合物（４）とは異なる液晶性化合物である。このような化合物は、特性をさらに調整する目的で組成物に混合される。その他の液晶性化合物の中で、シアノ化合物は熱または紫外線に対する安定性の観点から少ない方が好ましい。シアノ化合物のさらに好ましい割合は０重量％である。添加物は、第一成分以外の光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合可能な化合物、重合開始剤などである。不純物は成分化合物の合成などの工程において混入した化合物などである。この化合物が液晶性化合物であったとしても、ここでは不純物として分類される。
【００５５】
組成物Ｂは、実質的に、化合物（１）、化合物（２）、化合物（３）、および化合物（４）から選択された化合物のみからなる。「実質的に」は、組成物が添加物および不純物を含有してもよいが、これらの化合物と異なる液晶性化合物を含有しないことを意味する。組成物Ｂは組成物Ａに比較して成分の数が少ない。コストを下げるという観点から、組成物Ｂは組成物Ａよりも好ましい。その他の液晶性化合物を混合することによって物性をさらに調整できるという観点から、組成物Ａは組成物Ｂよりも好ましい。
【００５６】
第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果を説明する。成分化合物の主要な特性を本発明の効果に基づいて表２にまとめる。表２の記号において、Ｌは大きいまたは高い、Ｍは中程度の、Ｓは小さいまたは低い、を意味する。記号Ｌ、Ｍ、Ｓは、成分化合物のあいだの定性的な比較に基づいた分類であり、０（ゼロ）は値がほぼゼロであることを意味する。
【００５７】
【００５８】
成分化合物を組成物に混合したとき、成分化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果は次のとおりである。化合物（１）はピッチを短くする。化合物（２）は上限温度を上げる。化合物（３）は上限温度を上げる、または粘度を下げる。化合物（４）は下限温度を下げ、そして誘電率異方性を上げる。
【００５９】
第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分化合物の好ましい割合およびその根拠を説明する。組成物における成分の組み合わせは、第一成分＋第二成分、第一成分＋第二成分＋第三成分、第一成分＋第二成分＋第四成分、および第一成分＋第二成分＋第三成分＋第四成分である。組成物における成分の好ましい組み合わせは、第一成分＋第二成分＋第三成分＋第四成分である。
【００６０】
第一成分の好ましい割合は、０．０１重量部以上であり、５重量部以下である。さらに好ましい割合は０．０５重量部から３重量部の範囲である。特に好ましい割合は０．１重量部から２重量部の範囲である。
【００６１】
第二成分の好ましい割合は、上限温度を上げるため、５重量％以上であり、誘電率異方性を上げるために３０重量％以下である。さらに好ましい割合は５重量％から２５重量％の範囲である。特に好ましい割合は５重量％から２０重量％の範囲である。
【００６２】
第三成分の好ましい割合は、上限温度を上げるため、または粘度を下げるために５重量％以上であり、誘電率異方性を上げるために７５重量％以下である。さらに好ましい割合は５重量％から７０重量％の範囲である。特に好ましい割合は５重量％から６５重量％の範囲である。
【００６３】
第四成分の好ましい割合は、誘電率異方性を上げるために２０重量％以上であり、粘度を下げるために９０重量％以下である。さらに好ましい割合は２５重量％から８５重量％の範囲である。特に好ましい割合は３０重量％から８０重量％の範囲である。
【００６４】
第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。好ましいＲ１、Ｒ５またはＲ６は、紫外線または熱に対する安定性を上げるために、炭素数１から１２のアルキルである。好ましいＲ４は下限温度を下げるため、または粘度を下げるために、炭素数２から１２のアルケニルである。Ｒ２およびＲ３は独立して、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルである。好ましいＲ２またはＲ３は、紫外線または熱に対する安定性を上げるために、炭素数１から１２のアルキルである。
【００６５】
好ましいアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、またはオクチルである。さらに好ましいアルキルは、粘度を下げるためにエチル、プロピル、ブチル、ペンチル、またはヘプチルである。
【００６６】
好ましいアルコキシは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、またはヘプチルオキシである。粘度を下げるために、さらに好ましいアルコキシは、メトキシまたはエトキシである。
【００６７】
好ましいアルケニルは、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、または５−ヘキセニルである。さらに好ましいアルケニルは、粘度を下げるためにビニル、１−プロペニル、３−ブテニル、または３−ペンテニルである。これらのアルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。粘度を下げるためから、１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ペンテニル、３−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはトランスが好ましい。２−ブテニル、２−ペンテニル、２−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはシスが好ましい。これらのアルケニルにおいては、分岐よりも直鎖のアルケニルが好ましい。
【００６８】
任意の水素がフッ素で置き換えられたアルケニルの好ましい例は、２，２−ジフルオロビニル、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル、５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル、および６，６−ジフルオロ−５−ヘキセニルである。さらに好ましい例は、粘度を下げるために、２，２−ジフルオロビニルおよび４，４−ジフルオロ−３−ブテニルである。
【００６９】
環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンである。好ましい環Ａまたは環Ｂは、下限温度を下げるために、１，４−シクロへキシレンである。
環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２、５−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。ｐが２である時の２つの環Ｃは同じであっても、異なっていてもよい。好ましい環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、または環Ｆは、上限温度を上げ、粘度を下げるために、１，４−シクロヘキシレンであり、光学異方性を上げるために、１，４−フェニレンである。環Ｇは、１，４−シクロへキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または２，５−ピリミジンであり、ｋが２または３である時、そのうちの任意の２つの環Ｇは同じであっても、異なっていてもよい。好ましい環Ｇは、光学異方性を上げるために１，４−フェニレンである。
【００７０】
Ｚ１は、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシであり、ｐが２である時の２つのＺ１は同じであっても、異なっていてもよい。好ましいＺ１は粘度を下げるために単結合である。Ｚ２は、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはジフルオロメチレンオキシであり、ｋが２または３である時、そのうちの任意の２つのＺ２は同じであっても、異なってもよい。好ましいＺ２は誘電率異方性を上げるためにジフルオロメチレンオキシである。
【００７１】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、およびＸ９は独立して、水素またはフッ素である。好ましいＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、またはＸ９は、誘電率異方性を上げるためにフッ素である。
【００７２】
Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシである。好ましいＹ１は、下限温度を下げるためにフッ素である。
【００７３】
ｐは独立して、１または２である。好ましいｐは粘度を下げるために１である。ｋは独立して、１、２、３、または４である。好ましいｋは下限温度を下げるために２である。
【００７４】
第五に、成分化合物の具体的な例を示す。下記の好ましい化合物において、Ｒ７およびＲ１１は独立して、炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルである。Ｒ８は炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルまたは炭素数１から１２を有する直鎖のアルコキシである。Ｒ９およびＲ１０は独立して、炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルまたは炭素数２から１２を有する直鎖のアルケニルである。これらの化合物において１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。
【００７５】
好ましい化合物（１）は、化合物（１−１−１）から化合物（１−３−１）である。さらに好ましい化合物（１）は、化合物（１−１−１）および化合物（１−２−１）である。特に好ましい化合物（１）は、化合物（１−１−１）である。好ましい化合物（２）は、化合物（２−１−１）から化合物（２−４−１）である。さらに好ましい化合物（２）は、化合物（２−１−１）および化合物（２−４−１）である。特に好ましい化合物（２）は、化合物（２−４−１）である。好ましい化合物（３）は、化合物（３−１−１）から化合物（３−７−１）である。さらに好ましい化合物（３）は、化合物（３−１−１）、化合物（３−５−１）、および化合物（３−７−１）である。好ましい化合物（４）は、化合物（４−１−１）から化合物（４−２７−１）、化合物（４−２８−１）から化合物（４−２８−２）、化合物（４−２９−１）から化合物（４−２９−３）、化合物（４−３０−１）から化合物（４−３０−２）、化合物（４−３１−１）、化合物（４−３２−１）から化合物（４−３２−２）、化合物（４−３３−１）から化合物（４−３７−１）、化合物（４−３８）から化合物（４−４５）である。さらに好ましい化合物（４）は、化合物（４−６−１）、化合物（４−１５−１）、化合物（４−２０−１）、化合物（４−２４−１）、および化合物（４−２７−１）である。特に好ましい化合物（４）は、化合物（４−２０−１）、化合物（４−２４−１）、および化合物（４−２７−１）である。
【００７６】
【００７７】
【００７８】
【００７９】
【００８０】
【００８１】
【００８２】
【００８３】
【００８４】
第六に、組成物に混合してもよい添加物を説明する。このような添加物は、第一成分以外の光学活性な化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合可能な化合物、重合開始剤などである。光学活性な化合物の例は、化合物（５−１）から化合物（５−４）である。光学活性な化合物の好ましい割合は５重量％以下である。さらに好ましい割合は０．０１重量％から２重量％の範囲である。
【００８５】
第一成分以外の光学活性な化合物を添加する場合、組成物のらせんピッチを短くするために、第一成分すなわち化合物（１）と同一のねじれ方向を持つ光学活性な化合物を使用することが好ましい。ただし、組成物のらせんピッチの長さの温度依存性を調整するために、同一のねじれ方向を持つ、及び逆向きのねじれ化合物を組み合わせることができる。
【００８６】
大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するために、または素子を長時間使用したあと、室温だけではなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するために、酸化防止剤が組成物に混合される。
【００８７】
酸化防止剤の好ましい例は、ｎが１から９の整数である化合物（６）などである。化合物（６）において、好ましいｎは、１、３、５、７、または９である。さらに好ましいｎは１または７である。ｎが１である化合物（６）は、揮発性が大きいので、大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するときに有効である。ｎが７である化合物（６）は、揮発性が小さいので、素子を長時間使用したあと、室温だけではなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するのに有効である。酸化防止剤の好ましい割合は、その効果を得るために５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように６００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、１００ｐｐｍから３００ｐｐｍの範囲である。
【００８８】
紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。立体障害のあるアミンのような光安定剤もまた好ましい。これらの吸収剤や安定剤における好ましい割合は、その効果を得るために５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように１００００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は１００ｐｐｍから１００００ｐｐｍの範囲である。
【００８９】
ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるためにアゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に混合される。色素の好ましい割合は、０．０１重量％から１０重量％の範囲である。泡立ちを防ぐために、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどの消泡剤が組成物に混合される。消泡剤の好ましい割合は、その効果を得るために１ｐｐｍ以上であり、表示の不良を防ぐために１０００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、１ｐｐｍから５００ｐｐｍの範囲である。
【００９０】
ＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードの素子に適合させるために重合可能な化合物が組成物に混合される。重合可能な化合物の好ましい例はアクリレート、メタクリレート、ビニル、ビニルオキシ、プロペニルエーテル、エポキシ（オキシラン、オキセタン）、ビニルケトンなどの重合可能な基を有する化合物である。特に好ましい例は、アクリレート、またはメタクリレートの誘導体である。重合可能な化合物の好ましい割合は、その効果を得るために、０．０５重量％以上であり、表示不良を防ぐために１０重量％以下である。さらに好ましい割合は、０．１重量％から２重量％の範囲である。重合可能な化合物は、好ましくは光重合開始剤などの適切な開始剤存在下でＵＶ照射などにより重合する。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。例えば光開始剤であるＩｒｇａｕｒｅ６５１（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（登録商標）、またはＤａｒｏｃｕｒｅ１１７３（登録商標）（Ｃｉｂａ Ｊａｐａｎ Ｋ．Ｋ．）がラジカル重合に対して適切である。好ましい光重合開始剤の割合は、重合可能な化合物の０．１重量％から５重量％の範囲であり、特に好ましい割合は１重量％から３重量％の範囲である。
【００９１】
第七に、成分化合物の合成法を説明する。これらの化合物は既知の方法によって合成できる。合成法を例示する。化合物（１−１−１）は特開平６−２００２５１号公報に記載された方法で合成する。化合物（３−１−１）および化合物（３−５−１）は、特公平４−３０３８２号公報に記載された方法で合成する。化合物（４−１３−１）および化合物（４−１５−１）は、特開平２−２３３６２６号公報に記載された方法で合成する。化合物（４−２０−１）および化合物（４−２７−１）は、特開平１０−２５１１８６号公報に記載された方法で合成する。酸化防止剤は市販されている。式（６）のｎが１である化合物は、アルドリッチ（Sigma-Aldrich Corporation）から入手できる。ｎが７である化合物（６）などは、米国特許３６６０５０５号明細書に記載された方法によって合成する。
【００９２】
合成法を記載しなかった化合物は、オーガニック・シンセシス（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載された方法によって合成できる。組成物は、このようにして得た化合物から公知の方法によって調整される。例えば、成分化合物を混合し、そして加熱によって互いに溶解させる。
【００９３】
最後に、組成物の用途を説明する。本発明の組成物は主として、−１０℃以下の下限温度、７０℃以上の上限温度、そして０．０７から０．２０の範囲の光学異方性を有する。この組成物を含有する素子は大きな電圧保持率を有する。この組成物はＡＭ素子に適する。この組成物は透過型のＡＭ素子に特に適する。成分化合物の割合を制御することによって、またはその他の液晶性化合物を混合することによって、０．０８から０．２５の範囲の光学異方性を有する組成物、さらには０．１０から０．３０の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。この組成物は、光学活性化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用が可能である。
【００９４】
この組成物はＡＭ素子への使用が可能である。さらにＰＭ素子への使用も可能である。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモードを有するＡＭ素子およびＰＭ素子への使用が可能である。ＴＮ、ＯＣＢまたはＩＰＳモードを有するＡＭ素子への使用は特に好ましい。これらの素子が反射型、透過型または半透過型であってもよい。透過型の素子への使用は好ましい。非結晶シリコン−ＴＦＴ素子または多結晶シリコン−ＴＦＴ素子への使用も可能である。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）型の素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）型の素子にも使用できる。
【実施例】
【００９５】
組成物および組成物に含有させる化合物の評価をするために、組成物およびこの化合物を測定目的物とする。測定目的物が組成物のときはそのままを試料として測定し、得られた値を記載した。測定目的物が化合物のときは、この化合物（１５重量％）を母液晶（８５重量％）に混合することによって測定用試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法によって化合物の特性値を算出した。（外挿値）＝｛（測定用試料の測定値）−０．８５×（母液晶の測定値）｝／０．１５。この割合でスメクチック相（または結晶）が２５℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更した。この外挿法によって化合物に関する上限温度、光学異方性、粘度および誘電率異方性の値を求めた。
【００９６】
母液晶の成分は下記のとおりである。各成分の割合は、重量％である。
【００９７】
特性値の測定は下記の方法にしたがった。それらの多くは、日本電子機械工業会規格（Standard of Electric Industries Association of Japan）ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。
【００９８】
らせんのねじれ方向：母液晶１００重量部に試料を１重量部添加した組成物のらせんピッチ（Ｐ１）を測定した。次に、母液晶に、右ねじれである標準光学活性化合物を添加した組成物のらせんピッチがＰ１と同程度となる標準光学活性化合物の添加量を計算しておき、母液晶に標準光学活性化合物をこの計算した量添加した組成物のらせんピッチ（Ｐ２）を測定した。さらに、これらの組成物を同量ずつ混ぜた混合物のらせんピッチ（Ｐｍｉｘ）を測定した。Ｐｍｉｘが、Ｐ１とＰ２の中間ならば、右ねじれと判定し、ＰｍｉｘがＰ１とＰ２よりも明らかに大きくなったら、左ねじれと判定した。
【００９９】
標準光学活性化合物は下記のとおりである。
【０１００】
ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
【０１０１】
ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料をガラス瓶に入れ、０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣを≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【０１０２】
粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定にはＥ型回転粘度計を用いた。
【０１０３】
粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995)に記載された方法に従った。ツイスト角が０°であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。この素子に１６Ｖから１９．５Ｖの範囲で０．５Ｖ毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文中の４０頁記載の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度を測定した素子を用い、下に記載した方法で求めた。
【０１０４】
光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。
【０１０５】
誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、そしてツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（１０Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。
【０１０６】
しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が約０．４５ / Δｎ (μｍ)であり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に印加する電圧（３２Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから１０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が９０％になったときの電圧である。
【０１０７】
電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。
【０１０８】
電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。
【０１０９】
電圧保持率（ＶＨＲ−３；２５℃；％）：紫外線を照射したあと、電圧保持率を測定し、紫外線に対する安定性を評価した。測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは５μｍである。この素子に試料を注入し、光を２０分間照射した。光源は超高圧水銀ランプＵＳＨ−５００Ｄ（ウシオ電機製）であり、素子と光源の間隔は２０ｃｍである。ＶＨＲ−３の測定では、減衰する電圧を１６．７ミリ秒のあいだ測定した。大きなＶＨＲ−３を有する組成物は紫外線に対して大きな安定性を有する。ＶＨＲ−３は９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。
【０１１０】
電圧保持率（ＶＨＲ−４；２５℃；％）：試料を注入したＴＮ素子を８０℃の恒温槽内で５００時間加熱したあと、電圧保持率を測定し、熱に対する安定性を評価した。ＶＨＲ−４の測定では、減衰する電圧を１６．７ミリ秒のあいだ測定した。大きなＶＨＲ−４を有する組成物は熱に対して大きな安定性を有する。
【０１１１】
応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５．０μｍであり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、５Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である。立ち上がり時間（τｒ：rise time；ミリ秒）は、透過率が９０％から１０％に変化するのに要した時間である。立ち下がり時間（τｆ：fall time；ミリ秒）は透過率１０％から９０％に変化するのに要した時間である。応答時間は、このようにして求めた立ち上がり時間と立ち下がり時間との和である。
【０１１２】
比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）：電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。
【０１１３】
らせんピッチ（Ｐ；室温で測定；μｍ）：らせんピッチはくさび法にて測定した（液晶便覧１９６頁（２０００年発行、丸善））。試料をくさび形セルに注入し、室温で２時間静置した後、ディスクリネーションラインの間隔（ｄ２−ｄ１）を偏光顕微鏡（ニコン（株）、商品名ＭＭ４０／６０シリーズ）にて観察した。らせんピッチ（Ｐ）は、くさびセルの角度をθとあらわした次の式から算出した。
Ｐ＝２×（ｄ２−ｄ１）×ｔａｎθ
【０１１４】
ガスクロマト分析：測定には島津製作所製のＧＣ−１４Ｂ型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム（２ｍＬ／分）である。試料気化室を２８０℃に、検出器（ＦＩＤ）を３００℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ；固定液相はジメチルポリシロキサン；無極性）を用いた。このカラムは、２００℃で２分間保持したあと、５℃／分の割合で２８０℃まで昇温した。試料はアセトン溶液（０．１重量％）に調製したあと、その１μＬを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のＣ−Ｒ５Ａ型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。
【０１１５】
試料を希釈するための溶媒は、クロロホルム、ヘキサンなどを用いてもよい。成分化合物を分離するために、次のキャピラリカラムを用いてもよい。Agilent Technologies Inc.製のＨＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、Restek Corporation製のＲｔｘ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、SGE International Pty. Ltd製のＢＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）。化合物ピークの重なりを防ぐ目的で島津製作所製のキャピラリカラムＣＢＰ１−Ｍ５０−０２５（長さ５０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いてもよい。
【０１１６】
組成物に含有される液晶性化合物の割合は、次のような方法で算出してよい。液晶性化合物はガスクロマトグラフで検出することができる。ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は液晶性化合物の割合（モル数）に相当する。上に記載したキャピラリカラムを用いたときは、各々の液晶性化合物の補正係数を１とみなしてよい。したがって、液晶性化合物の割合（重量％）は、ピークの面積比から算出する。
【０１１７】
実施例により本発明を詳細に説明する。本発明は下記の実施例によって限定されない。比較例および実施例における化合物は、下記の表３の定義に基づいて記号により表した。
表３において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）であり、液晶組成物にはこの他に不純物が含まれている。最後に、組成物の特性値をまとめた。
【０１１８】
【０１１９】
［比較例１］
特開平６−２００２５１号公報に開示された組成物の中から実施例４を選んだ。根拠は、この組成物が化合物（１−１−１）、化合物（４）、化合物（４−９−１）、化合物（４−１０−１）および化合物（４−１１−１）を含有しているからである。応答時間（τ）についての記載がなかったため、本組成物を調合し、上述した方法により測定した。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。
５−ＨＢ−ＯＣＦ３ （４） ９％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １６．７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １６．７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １６．６％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） １０％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ８．４％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ４．２％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ８．４％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．３重量部添加した。
ＮＩ=８６．０℃；Δｎ＝０．０８８；τ＝２６．９ｍｓ；Ｐ＝８２．０μｍ．
【０１２０】
［比較例２］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ９％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ３％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−３ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） １０％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ５％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３９） ６％
上記組成物１００重量部に本発明の第一成分とは異なる下記化合物（右ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２５；Δε＝７．３；Ｖｔｈ＝１．２９Ｖ；η＝３１．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５０．７ｍＰａ・ｓ；τ＝２７．３ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．７％；Ｐ＝１４２．３μｍ
【０１２１】
［実施例１］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ９％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ３％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−３ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） １０％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ５％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３９） ６％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．４℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２５；Δε＝７．２；Ｖｔｈ＝１．３５Ｖ；η＝３１．２ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５１．２ｍＰａ・ｓ；τ＝２５．６ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝２３．４μｍ
【０１２２】
［実施例２］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） １５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２−１） ４％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ３％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．７℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１８；Δε＝５．５；Ｖｔｈ＝１．７４Ｖ；η＝２５．６ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２８．５ｍＰａ・ｓ；τ＝２２．８ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝２３．２μｍ．
【０１２３】
［実施例３］
Ｖ２−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （２−４） ５％
２−ＨＨ−５ （３−１−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ９％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ２％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ２％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ （４−８−１） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２６％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１９−１） ５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．５重量部添加した。
ＮＩ=１００．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝３．９；Ｖｔｈ＝２．１２Ｖ；η＝２４．７ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２２．７ｍＰａ・ｓ；τ＝２１．０ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９９．０％；Ｐ＝４７．０μｍ．
【０１２４】
［実施例４］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） １０％
３−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
７−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ５％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ５％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１）３．２５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１）３．２５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ６．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ２８％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３５−１） ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−３８） ２％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−２−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９９．８℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１４３；Δε＝６．０；Ｖｔｈ＝１．６２Ｖ；η＝３１．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５２．７ｍＰａ・ｓ；τ＝２５．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝２２．５μｍ．
【０１２５】
［実施例５］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ２％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ２％
３−ＨＨＥＢＨ−５ （２−１−１） ２％
２−ＨＨ−５ （３−１−１） ７％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ８％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ６．６７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ６．６６％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ６．６７％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ９％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ７％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
４−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ３％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．４重量部添加した。
ＮＩ=９７．２℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．０７８；Δε＝５．４；Ｖｔｈ＝１．６５Ｖ；η＝３０．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝１４４．８ｍＰａ・ｓ；τ＝２４．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；Ｐ＝５７．５μｍ．
【０１２６】
［実施例６］
５−ＨＢＢＨ−３ （２−２−１） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ５％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１−１） ４％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２−１） ４％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １７％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １６％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ５％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１８−１） ７％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１８−１） ７％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （−） ４％ 上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．５重量部添加した。
ＮＩ=９６．９℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１１；Δε＝５．０；Ｖｔｈ＝１．７５Ｖ；η＝３１．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝１５０．１ｍＰａ・ｓ；τ＝２５．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．７％；Ｐ＝４７．６μｍ．
【０１２７】
［実施例７］
５−ＨＢＢＨ−３ （２−２−１） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ３％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） １２％
３−ＨＨ−５ （３−１−１） ４％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） １６％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ （４−８−１） ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １０％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ８．６７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ８．６６％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） ８．６７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１０−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４２） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−２−１；左ねじれ）を０．５重量部添加した。
ＮＩ=１１１．２℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．０９６；Δε＝２．５；Ｖｔｈ＝２．８２Ｖ；η＝２０．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝１０１．８ｍＰａ・ｓ；τ＝１７．２ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝４５．１μｍ．
【０１２８】
［実施例８］
Ｖ−ＨＢＢＨ−５ （２−２−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） ４％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ２％
３−ＨＨＢ−Ｆ （４−８−１） ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−９−１） １２％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１１−１） ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１３−１） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １３％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１７−１） １５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−３−１；左ねじれ）を０．８重量部添加した。
ＮＩ=９７．４℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝５．０；Ｖｔｈ＝２．１３Ｖ；η＝２７．４ｍＰａ・ｓ；γ１＝１３４．０ｍＰａ・ｓ；τ＝２２．８ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９９．０％；Ｐ＝１９．３μｍ．
【０１２９】
［実施例９］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ６％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４２％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ５％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ７％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．４重量部添加した。
ＮＩ=１０２．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１６；Δε＝５．８；Ｖｔｈ＝１．５６Ｖ；η＝１５．８ｍＰａ・ｓ；γ１＝７８．１ｍＰａ・ｓ；τ＝１４．０ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．０％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝５７．８μｍ．
【０１３０】
［実施例１０］
Ｖ２−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４７％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ８％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ６％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ７％
４−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ３％
５−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ７％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=９９．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２０；Δε＝５．１；Ｖｔｈ＝２．０８Ｖ；η＝１０．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝５０．２ｍＰａ・ｓ；τ＝９．１ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝３３．９μｍ．
【０１３１】
［実施例１１］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ４％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ７％
３−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） １０％
５−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） １０％
１Ｖ２−ＢＢ−Ｆ （４−２） ８％
１Ｖ２−ＢＢ−ＣＬ （４−３） ８％
２−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ６％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ６％
３−ＨＢＢ−Ｆ （４−７−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ７％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ５％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２６−１） ５％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−２−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=１０７．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１５２；Δε＝６．７；Ｖｔｈ＝１．４０Ｖ；η＝２４．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２２．１ｍＰａ・ｓ；τ＝２２，９ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝３２．４μｍ．
【０１３２】
［実施例１２］
５−ＨＢＢＨ−３ （２−２−１） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ３０％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ５％
Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ５％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
３−ＨＢＢ−２ （３−６−１） ６％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３−７−１） ３％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−５ （３−７−１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５−１） ８％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２３−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ５％
３−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３６−１） ３％
３−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−３−１；左ねじれ）を０．６重量部添加した。
ＮＩ=１０３．１℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２３；Δε＝４．８；Ｖｔｈ＝１．９０Ｖ；η＝１４．９ｍＰａ・ｓ；γ１＝８３．５ｍＰａ・ｓ；τ＝１５．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．８％；Ｐ＝３５．９μｍ．
【０１３３】
［実施例１３］
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ７％
Ｖ−ＨＨ−４ （３−１−１） １３％
Ｖ−ＨＨ−５ （３−１−１） ２０％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
５−ＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４−１） ２％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） １５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （４−２１−１） ６％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ （４−３３−１） ２％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３４−１） ３％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （４−４０） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−Ｆ （４−４１） ４％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を１重量部添加した。
ＮＩ=９６．６℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１９；Δε＝５．９；Ｖｔｈ＝１．６１Ｖ；η＝２１．４ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２０．１ｍＰａ・ｓ；τ＝２２．６ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．９％；Ｐ＝２１．９μｍ．
【０１３４】
［実施例１４］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） １５％
３−ＨＨ−ＶＦＦ （３−１） ２０％
１Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ５％
３−ＨＨＥＨ−５ （３−４−１） ３％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ６％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） ３％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （４−１２−１） ７％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ （４−１６−１） ３％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ （４−１６−１） ３％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ （４−１６−１） ３％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１８−１） ７％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ４％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＰｙＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４５） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=９７．７℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１９；Δε＝６．９；Ｖｔｈ＝１．２５Ｖ；η＝１５．０ｍＰａ・ｓ；γ１＝８５．５ｍＰａ・ｓ；τ＝１６．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；Ｐ＝３３．１μｍ．
【０１３５】
［実施例１５］
Ｖ−ＨＢＢＨ−５ （２−２−１） ５％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ２５％
Ｖ−ＨＨ−５ （３−１−１） １４％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ７％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ３％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ５％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ５％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） ８％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ６％
４−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２９−２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−Ｆ （４−３０−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．３重量部添加した。
ＮＩ=１１４．６℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１５；Δε＝３．５；Ｖｔｈ＝２．２６Ｖ；η＝１５．２ｍＰａ・ｓ；γ１＝８７．４ｍＰａ・ｓ；τ＝１７．０ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．８％；Ｐ＝７４．２μｍ．
【０１３６】
［実施例１６］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ５％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１−１） １６％
３−ＨＨ−４ （３−１−１） １５％
７−ＨＢ−１ （３−２−１） ５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２−１） ３％
３−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ３％
３−ＨＢ−ＣＬ （４−１−１） ６％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （４−５−１） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ７％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ６％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２８−１） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２９−３） ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４２） ６％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．６重量部添加した。
ＮＩ=１０４．１℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝６．０；Ｖｔｈ＝１．４４Ｖ；η＝２２．３ｍＰａ・ｓ；γ１＝１２９．５ｍＰａ・ｓ；τ＝２３．９ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．３％；Ｐ＝３９．４μｍ．
【０１３７】
［実施例１７］
Ｖ２−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （２−４） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４０％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ８％
Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ５％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ５％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ４％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ４％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ６％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２６−１） ３％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３６−１） ５％
３−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３７−１） ４％
５−ｄｈＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４３） ３％
５−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−４４） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１；左ねじれ）を２重量部添加した。
ＮＩ=９７．４℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１１２；Δε＝４．４；Ｖｔｈ＝１．９８Ｖ；η＝６．５ｍＰａ・ｓ；γ１＝４２．０ｍＰａ・ｓ；τ＝７．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．０％；ＶＨＲ−２＝９８．４％；Ｐ＝４９．４μｍ．
【０１３８】
［実施例１８］
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ６％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ３０％
Ｖ−ＨＨ−５ （３−１−１） １０％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１−１） ３％
１Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３−１） ４％
３−ＨＨＥＨ−５ （３−４−１） ３％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５−１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｘ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） １０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２２−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２８−２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３２−２） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．８重量部添加した。
ＮＩ=１０８．３℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２０；Δε＝５．２；Ｖｔｈ＝１．７８Ｖ；η＝１８．９ｍＰａ・ｓ；γ１＝１１３．４ｍＰａ・ｓ；τ＝２１．４ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；Ｐ＝３０．１μｍ．
【０１３９】
［実施例１９］
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （２−３−１） ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （２−４−１） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （２−４−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ４４％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５−１） ７％
３−ＨＢＢ−２ （３−６−１） ３％
５−ＨＢＢ−２ （３−６−１） ３％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３−７−１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２０−１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （４−２１−１） ３％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ４％
５−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２４−１） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２５−１） ５％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ６％
５−ＨＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２９−１） ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３（４−３２−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；右ねじれ）を０．４重量部添加した。
ＮＩ=１０８．６℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２０；Δε＝４．８；Ｖｔｈ＝１．８９Ｖ；η＝１４．９ｍＰａ・ｓ；γ１＝９０．３ｍＰａ・ｓ；τ＝１７．５ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９８．９％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；Ｐ＝６３．８μｍ．
【０１４０】
［実施例２０］
３−ＨＨＥＢＨ−３ （２−１−１） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （２−１−１） ３％
Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ３７％
１Ｖ−ＨＨ−３ （３−１−１） ７％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ６％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ７％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ （３−７−１） ２％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６−１） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１４−１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５−１） ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−２７−１） ８％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３０−２） ３％
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−３１−１） ３％
上記組成物１００重量部に下記化合物（１−１−１；左ねじれ）を０．７重量部添加した。
ＮＩ=９７．０℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２７；Δε＝６．５；Ｖｔｈ＝１．４６Ｖ；η＝１４．１ｍＰａ・ｓ；γ１＝８６．４ｍＰａ・ｓ；τ＝１６．９ｍｓ；ＶＨＲ−１＝９９．０％；ＶＨＲ−２＝９８．２％；Ｐ＝３７．２μｍ．
【０１４１】
実施例１から実施例２０の組成物は、比較例１および比較例２のそれと比べて短いらせんピッチ、および短い応答時間を有する。よって、本発明による液晶組成物は、比較例１および比較例２に示された液晶組成物よりも、さらに優れた特性を有する。
【産業上の利用可能性】
【０１４２】
本発明は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、大きな光学異方性、大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、短いらせんピッチなどの特性において、少なくとも１つの特性を充足する、または少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。このような組成物を用いた液晶表示素子は、短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命、少ない光漏れなどを有するので、ＡＭ素子などに適する。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一成分として式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの光学活性化合物、および第二成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、ネマチック相を有する液晶組成物。
ここで、Ｒ１は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ２およびＲ３は互いに異なって、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシである。
【請求項２】
式（１）において、Ｒ２およびＲ３の炭素数の和が３〜１０の範囲である、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
第一成分が、式（１−１）から式（１−３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ１は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項４】
第一成分を除く液晶組成物１００重量部に対して、第一成分の割合が０．０１重量部から５重量部の範囲である請求項１から３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項５】
第二成分が、式（２−１）から式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１から４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項６】
第二成分が式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項５に記載の液晶組成物。
【請求項７】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が５重量％から３０重量％の範囲である請求項１から６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項８】
第三成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｃおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシであり；ｐは１または２である。
【請求項９】
第三成分が、式（３―１）から式（３―７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項８に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項１０】
第三成分が式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１２】
第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１３】
第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１４】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第三成分の割合が５重量％から７５重量％の範囲である請求項８から１３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項１５】
第四成分として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１から１４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ６は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｇは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；Ｚ４は独立して、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはジフルオロメチレンオキシであり；Ｘ１およびＸ２は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシであり；ｋは、１、２、３、または４である。
【請求項１６】
第四成分が、式（４−１）から式（４−３７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１５に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ６は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、およびＸ９は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシである。
【請求項１７】
第四成分が式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項１８】
第四成分が式（４−８）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項１９】
第四成分が式（４−９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２０】
第四成分が式（４−１０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２１】
第四成分が式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２２】
第四成分が式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２３】
第四成分が式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２４】
第四成分が式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２５】
第四成分が式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２６】
第四成分が、式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２７】
第四成分が、式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２８】
第四成分が、式（４−６）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２９】
第四成分が、式（４−１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項３０】
第四成分が、式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項３１】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第四成分の割合が２０重量％から９０重量％の範囲である請求項１５から３０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３２】
ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃）が２以上である請求項１から３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３３】
請求項１から３２のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【請求項３４】
液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＰＳＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である請求項３３に記載の液晶表示素子。
【請求項１】
第一成分として式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの光学活性化合物、および第二成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、ネマチック相を有する液晶組成物。
ここで、Ｒ１は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ２およびＲ３は互いに異なって、炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ａおよび環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；環Ｃ、環Ｄ、環Ｅ、および環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシである。
【請求項２】
式（１）において、Ｒ２およびＲ３の炭素数の和が３〜１０の範囲である、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
第一成分が、式（１−１）から式（１−３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ１は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項４】
第一成分を除く液晶組成物１００重量部に対して、第一成分の割合が０．０１重量部から５重量部の範囲である請求項１から３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項５】
第二成分が、式（２−１）から式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１から４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項６】
第二成分が式（２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項５に記載の液晶組成物。
【請求項７】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が５重量％から３０重量％の範囲である請求項１から６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項８】
第三成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｃおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１は独立して、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシであり；ｐは１または２である。
【請求項９】
第三成分が、式（３―１）から式（３―７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項８に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ４およびＲ５は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項１０】
第三成分が式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１２】
第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１３】
第三成分が、式（３−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（３−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（３−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１４】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第三成分の割合が５重量％から７５重量％の範囲である請求項８から１３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項１５】
第四成分として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１から１４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ６は炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｇは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；Ｚ４は独立して、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはジフルオロメチレンオキシであり；Ｘ１およびＸ２は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシであり；ｋは、１、２、３、または４である。
【請求項１６】
第四成分が、式（４−１）から式（４−３７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１５に記載の液晶組成物。
ここで、Ｒ６は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、およびＸ９は独立して、水素またはフッ素であり；Ｙ１は、フッ素、塩素、またはトリフルオロメトキシである。
【請求項１７】
第四成分が式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項１８】
第四成分が式（４−８）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項１９】
第四成分が式（４−９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２０】
第四成分が式（４−１０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２１】
第四成分が式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２２】
第四成分が式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２３】
第四成分が式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２４】
第四成分が式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２５】
第四成分が式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２６】
第四成分が、式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２７】
第四成分が、式（４−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２８】
第四成分が、式（４−６）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項２９】
第四成分が、式（４−１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項３０】
第四成分が、式（４−２４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−２７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である請求項１６に記載の液晶組成物。
【請求項３１】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第四成分の割合が２０重量％から９０重量％の範囲である請求項１５から３０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３２】
ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃）が２以上である請求項１から３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３３】
請求項１から３２のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【請求項３４】
液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＰＳＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である請求項３３に記載の液晶表示素子。
【公開番号】特開２０１１−１６９８６（Ｐ２０１１−１６９８６Ａ）
【公開日】平成２３年１月２７日（２０１１．１．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２７４８４（Ｐ２０１０−１２７４８４）
【出願日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【出願人】（５９６０３２１００）チッソ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１月２７日（２０１１．１．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【出願人】（５９６０３２１００）チッソ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
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