説明

溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法、及びこれに用いる溶融金属測定用プローブ

【課題】溶融金属層への浸漬深さをより正確に制御することで、例えば溶鋼温度や凝固温度、サンプル性状などの測定をより確実に行うことができる溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法を提供せんとする。
【解決手段】プローブ先端部1aに溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層Lの表面Lsを検知する検知手段2を設け、当該プローブ1の浸漬過程で検知手段2から出力された溶融金属層表面Lsの検知信号に基づき、当該浸漬工程におけるその後の溶融金属層L内への該プローブ1の浸漬深さを制御する。これにより、当該チャージにおける溶融金属層L内への浸漬深さを溶融金属層表面Lsに達した時点でそれ以降の下降量(浸漬量)を演算してリアルタイムに制御・設定できる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、転炉等で好適に使用される溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法、及びこれに用いる溶融金属測定用プローブに関する。
【背景技術】
【0002】
転炉等の容器内の溶融金属の温度や凝固温度、サンプル性状などを測定するため、各種センサーやサンプル採取口を備えた溶融金属測定用プローブが使用される。このプローブによる各種測定やサンプル採取を確実に行うためには、溶融金属に当該プローブを浸漬させる深さを所定深さに制御する必要がある。このプローブ浸漬深さを制御するためには、溶融金属層の表面レベルを把握する必要がある。溶融金属測定用プローブを用いて前記溶融金属層表面レベルを測定する方法は、従来から様々な方法が提案されている(例えば、特許文献1〜4参照。)。
【0003】
しかし、従来の測定方法は、いずれも溶融金属測定用プローブを浸漬する過程を利用するものの、得られた表面レベルの情報を次のチャージ(精製処理)で利用するものであった。したがって、次のチャージで溶融金属の量が変動すると、その分だけ浸漬深さも変動してしまい、浸漬深さの精度にはいささかのズレが生じるのは否めなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2004−125566号公報
【特許文献2】特開2002−356709号公報
【特許文献3】特開平9−113333号公報
【特許文献4】特開平10−122934号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
そこで、本発明が前述の状況に鑑み、解決しようとするところは、溶融金属層への浸漬深さをより正確に制御することで、例えば溶鋼温度や凝固温度、サンプル性状などの測定をより確実に行うことができる溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法、及びこれに用いる溶融金属測定用プローブを提供する点にある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、前述の課題解決のために、溶融金属測定用プローブを浸漬する深さを制御する方法であって、溶融金属測定用プローブの先端部に、該プローブを溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層表面を検知する検知手段を設け、前記プローブ浸漬の過程で前記検知手段から出力された溶融金属層表面の検知信号に基づき、当該浸漬の工程におけるその後の溶融金属層内への該プローブの浸漬深さを制御することを特徴とする溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法を提供する(請求項1)。
【0007】
ここで、前記検知手段として前記溶融金属測定用プローブの先端部に電極を外部露出状態で設け、前記電極を通じた電気的特性の変化に基づき溶融金属層表面を検知することが好ましい(請求項2)。
【0008】
特に、前記溶融金属を収容して導電性を帯びた容器と前記電極との間の電気的特性を監視し、この電極−容器間の電気的特性が、前記電極が前記溶融金属層表面に接触した際の前記溶融金属層の介在による導電性に移行した時点を検知することが好ましい(請求項3)。
【0009】
更に、溶融金属層表面にスラグ層が浮遊しており、前記電極−容器間の電気的特性が、前記電極が前記スラグ層にて電解質として機能する該スラグ層の介在による発電性から、前記電極が前記溶融金属層表面に接触した際の前記溶融金属層の介在による導電性に移行した時点を検知することが好ましい(請求項4)。
【0010】
具体的には、前記電極を、プローブ先端部のセンサーを覆う紙キャップの外周面に沿って設けることが好ましい(請求項5)。
【0011】
また、前記プローブ浸漬の過程で前記検知手段から出力された溶融金属層表面の検知信号と、該プローブを下降させる速度情報とに基づき、当該浸漬の工程におけるその後の溶融金属層内への該プローブの浸漬深さを制御することが好ましい(請求項6)。
【0012】
また本発明は、上記浸漬深さ制御方法に用いる溶融金属測定用プローブであって、先端部に、該プローブを溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層表面を検知する検知手段を設けてなることを特徴とする溶融金属測定用プローブをも提供する(請求項7)。
【0013】
更に、前記検知手段として前記溶融金属測定用プローブの先端部に電極を外部露出状態で設け、前記電極を通じた電気的特性の変化に基づき溶融金属層表面を検知してなるものが好ましい(請求項8)。
【0014】
また、前記電極を、プローブ先端部のセンサーを覆う紙キャップの外周面に沿って設けてなるものが好ましい(請求項9)。
【発明の効果】
【0015】
請求項1に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法によれば、プローブ浸漬の過程で検知手段から出力された溶融金属層表面の検知信号に基づき、当該浸漬の工程におけるその後の溶融金属層内への該プローブの浸漬深さを制御するので、同一チャージの同一浸漬過程で、レベル測定とともにそれに基づいて浸漬深さがリアルタイムに制御され、従来のように溶融金属の量の変動による浸漬深さのズレが生じず、したがって浸漬深さをより正確に制御でき、溶鋼温度や凝固温度、サンプル性状などの測定をより確実に行うことができる。
【0016】
請求項2に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法によれば、前記検知手段として前記溶融金属測定用プローブの先端部に電極を外部露出状態で設け、前記電極を通じた電気的特性の変化に基づき溶融金属層表面を検知してなるので、電極が溶融金属層表面に達した時点で瞬時に検知でき、それに基づきその後の浸漬深さをリアルタイムに制御できる。
【0017】
請求項3に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法によれば、前記溶融金属を収容して導電性を帯びた容器と前記電極との間の電気的特性を監視し、この電極−容器間の電気的特性が、前記電極が前記溶融金属層表面に接触した際の前記溶融金属層の介在による導電性に移行した時点を検知してなるので、この検知により溶融金属層表面に達した時点を瞬時に検知でき、それに基づきその後の浸漬深さをリアルタイムに制御できる。
【0018】
請求項4に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法によれば、溶融金属層表面にスラグ層が浮遊しており、前記電極−容器間の電気的特性が、前記電極が前記スラグ層にて電解質として機能する該スラグ層の介在による発電性から、前記電極が前記溶融金属層表面に接触した際の前記溶融金属層の介在による導電性に移行した時点を検知してなるので、スラグ層が存在しても溶融金属層表面に達した時点を瞬時に検知でき、それに基づきその後の浸漬深さをリアルタイムに制御できる。
【0019】
請求項5に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法によれば、前記電極を、プローブ先端部のセンサーを覆う紙キャップの外周面に沿って設けてなるので、紙キャップが溶けるまでの時間差がなく、外周面の電極が溶融金属層表面に達した時点で瞬時に検知でき、それに基づきその後の浸漬深さをリアルタイムに制御できる。
【0020】
請求項6に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法によれば、前記プローブ浸漬の過程で前記検知手段から出力された溶融金属層表面の検知信号と、該プローブを下降させる速度情報とに基づき、当該浸漬の工程におけるその後の溶融金属層内への該プローブの浸漬深さを制御するので、表面検知後、そこからの浸漬量を速度との関係で演算し、更にどれだけの時間下降させるかをリアルタイムに把握し、下降量を時間で容易に制御できる。
【0021】
請求項7に係る溶融金属測定用プローブによれば、先端部に、該プローブを溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層表面を検知する検知手段を設けてなるので、同じく同一チャージの同一浸漬過程で、レベル測定とともにそれに基づいて浸漬深さがリアルタイムに制御され、従来のように溶融金属の量の変動による浸漬深さのズレが生じず、したがって浸漬深さをより正確に制御でき、溶鋼温度や凝固温度、サンプル性状などの測定をより確実に行うことができる。
【0022】
請求項8に係る溶融金属測定用プローブによれば、前記検知手段として前記溶融金属測定用プローブの先端部に電極を外部露出状態で設け、前記電極を通じた電気的特性の変化に基づき溶融金属層表面を検知してなるので、電極が溶融金属層表面に達した時点で瞬時に検知でき、それに基づきその後の浸漬深さをリアルタイムに制御できる。
【0023】
請求項9に係る溶融金属測定用プローブによれば、前記電極を、プローブ先端部のセンサーを覆う紙キャップの外周面に沿って設けてなるので、紙キャップが溶けるまでの時間差がなく、外周面の電極が溶融金属層表面に達した時点で瞬時に検知でき、それに基づきその後の浸漬深さをリアルタイムに制御できる。
【図面の簡単な説明】
【0024】
【図1】本発明の代表的実施形態に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法を示す説明図。
【図2】同じく溶融金属測定用プローブの先端部分を示す説明図。
【図3】溶融金属測定用プローブの変形例を示す説明図。
【図4】溶融金属測定用プローブの他の変形例を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【0025】
次に、本発明の実施形態を添付図面に基づき詳細に説明する。
【0026】
本発明に係る溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法は、図1に示すように、溶融金属測定用プローブ1の先端部1aに該プローブを溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層Lの表面Lsを検知する検知手段2を設けたものであり、当該プローブ1の浸漬過程で検知手段2から出力された溶融金属層表面Lsの検知信号に基づき、当該浸漬工程におけるその後の溶融金属層L内への該プローブ1の浸漬深さを制御するものである。これにより、例えば溶融金属容器Cの上方から下方に向けて溶融金属測定用プローブ1を下降させてゆく際、リアルタイムに、すなわち当該チャージにおける溶融金属層L内への浸漬深さを溶融金属層表面Lsに達した時点でそれ以降の下降量(浸漬量)を演算してリアルタイムに制御・設定できるものである。
【0027】
従来の検知手段は、電極が紙キャップ等の内容に内装され、溶融金属層で溶けて露出した電極を用いて上昇時に溶融金属層表面の位置を記憶し、次のチャージ時の際におよそ同じ位置であると仮定して、その記憶された情報に基づき浸漬深さを設定するものであるが、本例では、同じチャージにおける浸漬工程の初期、すなわち溶融金属層Lの表面Lsに至った段階で該表面に至ったことを検知するとともにそこから溶融金属層L内部への浸漬量を演算し、プローブ1を更にどれだけ下降させるかをリアルタイムに把握して下降量を制御可能としたものである。したがって、まさにそのチャージにおける溶融金属の状態を正確に反映したプローブ浸漬量を設定でき、溶融金属測定用プローブ1による各種測定、サンプル採取を正確かつ確実に行なうことができるのである。
【0028】
溶融金属容器Cは、溶融金属として溶鋼を収容する転炉や取鍋などに適用できるが、その他の溶融金属用容器に適用することもできる。以下の実施形態では、転炉での吹錬工程に適用した例を示すがこれに限定されるものではない。符号3はプローブを支持するサブランス、4はサブランスを昇降させるサブランス昇降装置、5はサブランス動作制御部、6は先端部から下方の溶鋼へ酸素を吹き出すメインランスを示している。
【0029】
溶融金属測定用プローブ1は、基本的には従来から公知の種々のプローブと同じ基本構造を備えるとともに、更に上記溶融金属層表面を検知する検知手段2を設けたものである。本例のプローブ1は、基本構造として図2に示すように先端部1aに酸素センサ11、補正電極12、及び温度センサ13が耐熱セメントで固定され、これらは紙キャップ10に覆われている。また、プローブ1の胴部にはサンプル採取口14が設けられ、紙製の外装部材で塞がれている。このようなプローブ1は、溶融金属層Lの所定深さ位置まで浸漬されることで高温の溶融金属により上記紙キャップ10や外装部材が溶融消失し、センサーが露出して当該位置にて溶融金属の各種測定を行うとともにサンプル採取口14から溶融金属を取り込み、凝固温度等の測定に利用される。
【0030】
溶融金属測定用プローブ1は、図1に示すようにサブランス3によって転炉C内部に浸漬される。具体的には、転炉Cの上側に縦方向に配設されたサブランス3の下端部に溶融金属測定用プローブ1を装着し、このサブランス3をプローブ1とともにサブランス昇降装置4で上下させることにより、転炉Cの内部にプローブ1を昇降させることができる。これによってプローブ1は、大気層Aから溶融金属表面に浮遊するスラグ層Bを通って溶融金属層Lに浸漬させ、所定深さの位置に数秒間停止して各種センサーによる測定やサンプル採取を行った後、溶融金属層Lからスラグ層Bを通って大気層Aへ引き上げられる。サブランス昇降装置4は、サーボモータやパルスモータ等を用いて構成され、サブランス動作制御部5により制御される。更に本例では、サブランス昇降装置4にはロータリーエンコーダが付設され、サブランス3の上下方向の移動距離を把握している。
【0031】
転炉Cは、金属製の容器の内側に耐火煉瓦を積み上げて形成されており、容器自体が大地にアースされている。転炉だけでは導電性を有しないが、転炉内に溶鋼を収容することによって、転炉の内面に金属が付着し、転炉の内面と大地との間が導電性を有するようになる。即ち、転炉が大地にアースされたのと等価となる。
【0032】
溶融金属測定用プローブ1の検知手段2は、プローブ先端部1aの上述したセンサー11、13等を覆っている紙キャップ10の外周面に沿って電極20が外部露出状態で設けられている。この電極20のリード線は、酸素センサ11、補正電極12、及び温度センサ13と同じようにプローブ1に沿って基端側に延ばされ、図示しないコネクタを介してサブランス3内の配線に接続され、該配線はサブランス動作制御部5に接続されている。
【0033】
以下、溶融金属測定用プローブ1の浸漬深さを制御方法を説明する。
【0034】
プローブ1をサブランス3とともに転炉C内部に浸漬してゆく。プローブ1は、まず大気層Aから溶融金属表面に浮遊するスラグ層Bに挿入される。転炉Cはアースに接続されており、プローブ先端の電極20と転炉Cとの間の電気的特性が、大気層Aの絶縁性からスラグ層Bの発電性に移行した時点を捉えて、スラグ層Bの表面位置を検知し、その位置を記憶する。さらにスラグ層Bを下降させて同じく電極20と転炉Cとの間の電気的特性が発電性から溶融金属層Lの導電性に移行した点を捉えて、溶融金属層の表面Lsを検知し、その位置を記憶する。
【0035】
この溶融金属層の表面位置と前記したスラグ層Bの表面位置から、スラグ層Bの厚みを算出できる。尚、スラグ層Bの表面位置の記憶、スラグ層Bの厚みの算出は、プローブ1の下降時に行う必要はなく、各種センサーによる測定やサンプル採取後、プローブを上昇させる際に行ってもよい。また、真空炉の場合のようにスラグ層がない場合は、大気層の絶縁性から溶融金属層の導電性に移行した点を捉えることになる。
【0036】
電気的特性の変化を捉える検知手法は、特開2002−356709号や特開平8−49024号を参考にすることができる。特開平8−49024号では、プローブ側に2個の電極を設けて導電性を判断している。本願でもこのように2個の電極を設けてその間の導電性を判断してもよい。しかし、この場合は溶融金属層表面に届く前にスプラッシュなどで導通し、誤検知してしまう虞がある。よって、本例のように電極−容器間の電気的特性をみることがより好ましい。
【0037】
溶融金属層の表面Lsを検知した情報に基づき、サブランス動作制御部5がサブランスの降下速度から浸漬深さを割り出し、サブランスのその後の降下動作を制御する。つまり、溶融金属表面からの浸漬量を速度との関係で演算し、更にどれだけの時間下降させるかをリアルタイムに把握し、下降量を時間で制御可能としたものである。尚、このように下降速度から下降量を制御する方法以外に、エンコーダの回転数でその後の下降距離(浸漬深さ)を制御することもできる。
【0038】
溶融金属層L内の所定深さまで浸漬されたプローブ1は、上述した通り、該深さ位置で停止し、各種センサー(符号11〜13)による酸素分圧や温度等の測定やサンプル採取口14からのサンプル採取を行った後、溶融金属層Lからスラグ層Bを通って大気層Aへ引き上げられる。
【0039】
図3は、溶融金属測定用プローブ1の先端部1aの紙キャップ10に、更に内部に非接触で溶融金属層表面レベルを測定できるコイル式レベル計21を設けた例である。これは溶融金属層表面が近づくことによる磁界変動を捉えることで該表面レベルを検知するものであり、非接触で検知できることから紙キャップ10内に装着でき、上記した露出電極20による検知が万が一ご検知であっても、このレベル計21と併用することで正常動作か否か検証することができ、誤検知を防止できる。図4は、図3で説明したコイル式レベル計21のみで検知手段2を構成した例であり、これも可能である。更に、他の従来から提案されている公知の検知手段2を利用することもできる。
【0040】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこうした実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる形態で実施し得ることは勿論である。
【符号の説明】
【0041】
1 溶融金属測定用プローブ
1a 先端部
2 検知手段
3 サブランス
4 サブランス昇降装置
5 サブランス動作制御部
6 メインランス
10 紙キャップ
11 酸素センサ
12 補正電極
13 温度センサ
14 サンプル採取口
20 電極
21 コイル式レベル計
A 大気層
B スラグ層
C 容器(転炉)
L 溶融金属層(溶鋼層)
Ls 表面

【特許請求の範囲】
【請求項1】
溶融金属測定用プローブを浸漬する深さを制御する方法であって、
溶融金属測定用プローブの先端部に、該プローブを溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層表面を検知する検知手段を設け、
前記プローブ浸漬の過程で前記検知手段から出力された溶融金属層表面の検知信号に基づき、当該浸漬の工程におけるその後の溶融金属層内への該プローブの浸漬深さを制御することを特徴とする溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法。
【請求項2】
前記検知手段として前記溶融金属測定用プローブの先端部に電極を外部露出状態で設け、前記電極を通じた電気的特性の変化に基づき溶融金属層表面を検知してなる請求項1記載の浸漬深さ制御方法。
【請求項3】
前記溶融金属を収容して導電性を帯びた容器と前記電極との間の電気的特性を監視し、この電極−容器間の電気的特性が、前記電極が前記溶融金属層表面に接触した際の前記溶融金属層の介在による導電性に移行した時点を検知してなる請求項2記載の浸漬深さ制御方法。
【請求項4】
溶融金属層表面にスラグ層が浮遊しており、前記電極−容器間の電気的特性が、前記電極が前記スラグ層にて電解質として機能する該スラグ層の介在による発電性から、前記電極が前記溶融金属層表面に接触した際の前記溶融金属層の介在による導電性に移行した時点を検知してなる請求項3記載の浸漬深さ制御方法。
【請求項5】
前記電極を、プローブ先端部のセンサーを覆う紙キャップの外周面に沿って設けてなる請求項2〜4の何れか1項に記載の浸漬深さ制御方法。
【請求項6】
前記プローブ浸漬の過程で前記検知手段から出力された溶融金属層表面の検知信号と、該プローブを下降させる速度情報とに基づき、当該浸漬の工程におけるその後の溶融金属層内への該プローブの浸漬深さを制御することを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の浸漬深さ制御方法。
【請求項7】
請求項1〜6の何れか1項に記載の浸漬深さ制御方法に用いる溶融金属測定用プローブであって、先端部に、該プローブを溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層表面を検知する検知手段を設けてなることを特徴とする溶融金属測定用プローブ。
【請求項8】
前記検知手段として前記溶融金属測定用プローブの先端部に電極を外部露出状態で設け、前記電極を通じた電気的特性の変化に基づき溶融金属層表面を検知してなる請求項7記載の溶融金属測定用プローブ。
【請求項9】
前記電極を、プローブ先端部のセンサーを覆う紙キャップの外周面に沿って設けてなる請求項8記載の溶融金属測定用プローブ。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2012−137309(P2012−137309A)
【公開日】平成24年7月19日(2012.7.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−287980(P2010−287980)
【出願日】平成22年12月24日(2010.12.24)
【出願人】(390007755)ヘレウス・エレクトロナイト株式会社 (11)
【Fターム(参考)】