発光装置、電気光学装置、ならびに電子機器
【課題】発光素子を封止する場合、例えば応力による影響を考慮して複数の薄膜を重ねた構造を用いて封止することが一般的であるが、この場合、違う物質が重なるため、屈折率の異なる薄膜が重なることとなる。屈折率の異なる薄膜が重なると、薄膜界面で光反射が生じ、薄膜を通過する光の透過率が低下するという課題がある。
【解決手段】発光素子として例えば有機ＥＬ素子１５０を用い、有機ＥＬ素子１５０への水分や酸素の浸入を防ぐ第１層としてのバリア層１３７と、バリア層の応力を緩和するための第２層としての有機中間層１３９間との間に位置し、射出光の少なくとも一部の波長に対して、第３の層としての反射防止層１３８を挟んだ。反射防止層１３８は、第１層の屈折率と、第２層の屈折率と、の間の屈折率ｎを備え、発光素子波長をλとした場合λ／４ｎの厚さを備えることで、バリア層１３７と有機中間層１３９界面での反射損失低減を可能とした。
【解決手段】発光素子として例えば有機ＥＬ素子１５０を用い、有機ＥＬ素子１５０への水分や酸素の浸入を防ぐ第１層としてのバリア層１３７と、バリア層の応力を緩和するための第２層としての有機中間層１３９間との間に位置し、射出光の少なくとも一部の波長に対して、第３の層としての反射防止層１３８を挟んだ。反射防止層１３８は、第１層の屈折率と、第２層の屈折率と、の間の屈折率ｎを備え、発光素子波長をλとした場合λ／４ｎの厚さを備えることで、バリア層１３７と有機中間層１３９界面での反射損失低減を可能とした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置、電気光学装置、ならびに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
光源としての発光装置や、電気光学装置や、液晶表示装置のバックライトとして応用すべく、有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子を用いた発光装置の開発が進められている。このような発光装置は、高輝度、低消費電力で高速応答が可能であるという特徴を備えている。しかし、有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子は水分に弱いため、有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子への水分の侵入を防ぐよう封止されていることが望ましい。特に、ＡｌＧａＩｎＰ（緑や赤を発光する）系のＬＥＤ素子は、Ａｌが酸化し易いことから、水分の侵入を抑えることが必要となる。
【０００３】
そこで、発光素子を封止すべく、電極を覆う複数の薄膜を積層する構造が開発されている。これらの技術の例として、特許文献１、特許文献２、特許文献３を挙げることができる。以下の例では、有機ＥＬ素子を用いた場合について説明しているが、発光素子として有機ＥＬ素子に代えてＬＥＤ素子を用いることでＬＥＤ素子に対しても同様に対応することができる。また、他の発光素子を用いた場合（例えば無機ＥＬ素子）でも同様に対応することができる。
【０００４】
発光素子を封止する場合、例えば応力による影響を考慮して複数の薄膜を重ねた構造を用いて封止する場合がある。このように違う物質が重なった場合、屈折率の異なる薄膜が重なることとなる。屈折率の異なる薄膜が重なると、薄膜界面で光反射が生じ、薄膜を通過する光の透過率が低下する。図８は、異なる物質により形成された積層構造での反射損により光量が低下する事象を説明するための模式断面図である。なお、基本的には、光は発光層からガラスに向かってガラスの法線方向に向けて射出されるが、ここでは、反射損失を示すために、角度を付けた状態で図示している。
【０００５】
そこで、透明電極に重ねて反射防止層を設けることで透明電極による反射を抑える技術が特許文献２に開示されている。
図９は、特許文献２における反射防止層の構成を示す断面図である。特許文献２では、透明電極を覆うように配置された反射防止層を備えている。
また、特許文献３では、上部電極層から透明基板と反対側へ順次積層された封止層の屈折率が単調に小さくなるように封止層を構成することで反射を抑える技術が開示されている。
【０００６】
また、有機ＥＬ素子に対する封止性能を向上させるため保護層として、特許文献１では、例えばエポキシ樹脂層で有機ＥＬ素子を覆い、重ねてシリコン窒化酸化層で覆うことで、ダークスポットの発生を抑制する技術について開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２５７６５号公報
【特許文献２】特開２００３−３０３６８５号公報
【特許文献３】特開２００５−３１７３０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１では、光学的な特性については開示していない。そのため、屈折率が高いシリコン窒化酸化層と比べ、屈折率が低い例えばエポキシ樹脂層との界面で光の反射が生じ、光の透過率が低下するという課題がある。
【０００９】
また、有機ＥＬ素子を、例えば、酸素や水分の透過率が低い無機層としてのＳｉＯＮ層を用いて封止することで有機ＥＬ素子の信頼性を向上させることができるが、無機層（ＳｉＯＮ層）は内部応力が大きく、亀裂の発生を抑制するには、厚さに制限がある。そのため、図８に示すように、無機層（ＳｉＯＮ層）よりも柔らかい、例えばエポキシ樹脂層を挟んで無機層（ＳｉＯＮ層）を複数枚重ねることで有機ＥＬ素子の信頼性を向上させることができる。図８は、無機層（ＳｉＯＮ層）を、エポキシ樹脂層を介して複数層（この場合には２層）重ねた場合の断面図である。一般的に無機層としてのＳｉＯＮ層はエポキシ樹脂よりも屈折率が高い。そのため、屈折率は単調には減衰しなくなる。即ち、特許文献３の技術から逸脱するという課題がある。
【００１０】
また、特許文献２の技術では、上部電極層による反射は抑えられるものの、例えばシリコン窒化酸化層とエポキシ樹脂層との間の界面に起因する反射を抑えることが困難であるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【００１２】
［適用例１］本適用例にかかる発光装置は、 発光素子と、前記発光素子の射出光が通過する第１層と第２層と、前記第１層と前記第２層との間に位置し、前記発光素子からの前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、前記第１層の屈折率と、前記第２層の屈折率と、の間の屈折率を有する第３層を備えることを特徴とする。
【００１３】
これによれば、第１層と第２層を直接重ねた場合と比べ、第１層の屈折率と、第２層の屈折率との間の屈折率を持つ第３層を挟むことで、第３層は反射防止層として機能する。そのため、発光素子からの射出光に対して反射損失を抑えた、明るい発光装置を提供することが可能となる。
【００１４】
［適用例２］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層は、前記第１層と前記第２層と接するように挟まれていることを特徴とする。
【００１５】
上記した適用例によれば、第１層と第２層との間に介在する層に起因する反射損失を抑えることが可能となり、より明るい発光装置を提供することが可能となる。
【００１６】
［適用例３］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層の屈折率は、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との積の平方根の値をとることを特徴とする。
【００１７】
上記した適用例によれば、射出光の反射損失をより小さく抑えることが可能となる。
【００１８】
［適用例４］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとし、ｍを０以上の整数とした場合、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）−λ／８ｎ以上、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）＋λ／８ｎ以下の厚さを備えていることを特徴とする。
【００１９】
上記した適用例によれば、第３層での反射光は、互いに干渉により反射を打ち消しあう関係となるため、反射防止層としての機能が得られる。また、ｍとして１以上の値を用いる場合、干渉により反射を打ち消しあう関係を満たすと共に、厚く設定された第３層により、発光素子としての有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子への水分の浸入を抑制することが可能となる。
【００２０】
［適用例５］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとした場合、ｍを０以上の整数として（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）の厚さを備えていることを特徴とする。
【００２１】
上記した適用例によれば、反射防止層の両面で反射する光の位相が逆相になるため、互いに打ち消しあうことで反射損失を小さく抑えることが可能となる。特に、第１層の屈折率と第２層の屈折率との積の平方根の値を備える物質を第３層に用いた場合、理論的には、反射損失を零にすることが可能となる。また、ｍとして１以上の値を備える厚さを用いる場合、干渉により反射を打ち消しあう関係を満たすと共に、厚く設定された第３層により発光素子への水分の浸入を抑制することが可能となる。
【００２２】
［適用例６］上記適用例にかかる発光装置であって、前記一部の波長範囲として、４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする。
【００２３】
上記した適用例によれば、発光素子の発光効率が低い領域（４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下：青）で反射損失を減らすことができるため、輝度バランスに優れた発光装置を提供することが可能となる。
【００２４】
［適用例７］上記適用例にかかる発光装置であって、前記一部の波長範囲として、６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする。
【００２５】
上記した適用例によれば、発光素子の発光効率が低い領域（６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下：赤）で反射損失を減らすことができるため、輝度バランスに優れた発光装置を提供することが可能となる。また、第３層が複数層ある場合、発光素子の発光効率が低い領域として、第３層を赤用と青用に振り分けることで、輝度バランスを調整することが可能となる。そのため、さらに高い輝度バランスを備えた発光装置を提供することが可能となる。
【００２６】
［適用例８］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第１層は無機層であり、前記第２層は樹脂層であることを特徴とする。
上記した適用例によれば、上記した樹脂（プラスチック）はＪＩＳにも定義されているように、必須の構成要素として高重合体を含みかつ完成製品への加工のある段階で、流れによって形を与え得る材料である。即ち、流動性を用いて材料を塗布し、硬化させることで表面形状を平坦化できるため、第１層を覆う第２層、または第３層にかかる応力が平均化され、発光装置の信頼性を向上させることが可能となる。
【００２７】
［適用例９］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第２層は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂のうちの少なくとも１つを含む樹脂であることを特徴とする。
【００２８】
上記した適用例によれば、上記した樹脂（プラスチック）はＪＩＳにも定義されているように、必須の構成要素として高重合体を含みかつ完成製品への加工のある段階で、流れによって形を与え得る材料である。即ち、流動性を用いて材料を塗布し、硬化させることで表面形状を平坦化できるため、第２層を覆う第１層、または第３層にかかる応力が平均化され、発光装置の信頼性を向上させることが可能となる。加えて、上記した樹脂は柔らかく、印加された応力を吸収することで発光素子を保護することが可能となる。
【００２９】
［適用例１０］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第１層は、珪素窒化物（ＳｉＯＮ（酸素０％を含む））、酸化タンタル、酸化チタンうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする。
【００３０】
上記した適用例によれば、発光素子としての発光素子としての有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子内への外界からの水分の浸入を抑えることができる。また、機械的強度が強いため、機械的応力に対して信頼性が高い発光装置を提供することが可能となる。
【００３１】
［適用例１１］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第１層は窒化酸化珪素（酸素０％を含む）であり、前記第２層はエポキシ樹脂であり、前記第３層は前記第１層よりも窒素比率が小さい（窒素０％を含む）窒化酸化珪素であることを特徴とする。
【００３２】
上記した適用例によれば、発光素子としての有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子内への外界からの水分の浸入を窒化酸化珪素で防ぎ、柔らかいエポキシ樹脂層で応力を緩和することができる。
【００３３】
［適用例１２］
本適用例にかかる電気光学装置は、上記適用例にかかる発光装置と、表表示パネルと、を備え、前記発光装置は、射出面から光を射出し、前記表示パネルは、前記表示パネルの第１面から入射された光を前記第１面での平面視で強度変調して出力し、前記発光装置の前記射出面と、前記表示パネルの前記第１面とが互いに向い合うよう、前記表示パネルと前記発光装置とを重ねて配置したことを特徴とする。
【００３４】
これによれば、反射損失の少ない発光装置を用いて、表示パネルを使用して光を空間的に変調するため、反射損失を軽減していない発光装置を用いた場合と比べ、明るい表示を行うことが可能となる。
【００３５】
［適用例１３］本適用例にかかる電子機器は、上記適用例にかかる発光装置を備えたことを特徴とする。
【００３６】
これによれば、電力変換効率が高く、かつ高い輝度に対応可能な発光装置を備える電子機器を提供することが可能となる。
【００３７】
［適用例１４］本適用例にかかる電子機器は、上記適用例にかかる電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００３８】
これによれば、電力変換効率が高く、かつ高い輝度に対応可能な電気光学装置を備える電子機器を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】発光装置としての有機ＥＬ装置の斜視図。
【図２】（ａ）は、図１に示す発光装置としての有機ＥＬ装置の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ’線断面図。
【図３】（ａ）はＰＰＶ−Ｒ、（ｂ）はＰＰＶ−Ｇ、（ｃ）はＰＰＶ−Ｂの構造式。
【図４】反応性スパッタリング装置の模式断面図。
【図５】（ａ）は、反射防止層の厚さを１／４波長に合わせた場合の反射波の合成状況を示すグラフ、（ｂ）は、反射防止層の厚さが１／４波長よりも若干ずれた場合の反射波の合成状況を示すグラフ。
【図６】電気光学装置の斜視図。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態にかかる電子機器の模式図。
【図８】背景技術を説明するための断面図。
【図９】背景技術を説明するための断面図。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、本発明を具体化した各実施形態を図面に基づいて説明する。
【００４１】
（第１の実施形態：発光装置の構成）
図１は、本実施形態の構成を示す発光装置としての有機ＥＬ装置の斜視図である。なお、本明細書では、「上」とは基板１３０から保護ガラス１４５に向かう方向を示すものとして記載している。そして、「下」とは、「上」と反対の方向を示すものとして記載している。また、図１においては、斜視図が煩雑となるため、発光層１３５の記載は省略している。
そして、図２（ａ）は、図１に示す、発光装置としての有機ＥＬ装置の平面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ’線における断面図である。なお、図２（ｂ）に示す断面図では、光学的に寄与しない層間絶縁層１３２よりも下側にある領域は省略して記載している。
有機ＥＬ装置３００は、基板１３０の上に、例えばＴＦＴ１２２、ＴＦＴ１２３、ＴＦＴ１２２とＴＦＴ１２３と光反射性陽極１３３とを電気的に分離する層間絶縁層１３２、金属とＩＴＯを重ねた光反射性陽極１３３、隔壁１３４、発光層１３５、光透過性陰極１３６、バリア層１３７、反射防止層１３８、有機中間層１３９、反射防止層１４０、バリア層１４１、反射防止層１４２、接着層１４３、カラーフィルター１４４、保護ガラス１４５を備えている。
そして、走査線１０１、信号線１０２、共通給電線１０３、ＴＦＴ１２２、ＴＦＴ１２３、保持容量ｃａｐを備えている。
ここで、隔壁１３４により平面的に囲われ、光反射性陽極１３３と、発光層１３５と、光透過性陰極１３６を合わせた領域を発光素子としての有機ＥＬ素子１５０と呼ぶ。なお、図２（ｂ）では、層間絶縁層１３２とバリア層１３７の一部が含まれるよう記載しているが、これは作図上、境界と枠線が重なることで視認性が低下するため、ずらして記載したもので、層間絶縁層１３２とバリア層１３７は、有機ＥＬ素子１５０には含まれてはいない。
【００４２】
基板１３０の上には、複数のドット領域Ａがマトリックス状に配列されている。それぞれのドット領域Ａには光反射性陽極１３３が配置されており、その近傍には信号線１０２、共通給電線１０３、走査線１０１及び図示しない他の構成要素が配置されている。ドット領域Ａの平面形状は、図に示す矩形の他に、円形、角Ｒを有する長方形など任意の形状が適用可能である。また、ドット領域Ａはマトリックス状の配列以外の配置構成を備えていても良く、例えばデルタ配列、モザイク配列を用いることが可能である。
【００４３】
ドット領域Ａには、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるＴＦＴ１２２と、ＴＦＴ１２２を介して信号線１０２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるＴＦＴ１２３を備える。そして、ＴＦＴ１２３を介して共通給電線１０３に電気的に接続した場合に共通給電線１０３から駆動電流が流れ込む光反射性陽極１３３と、光反射性陽極１３３と光透過性陰極１３６との間に挟み込まれる発光層１３５とが設けられ、有機ＥＬ素子１５０が構成されている。
そして、有機ＥＬ素子１５０が備える発光層１３５は光反射性陽極１３３上に配置され、光反射性陽極１３３からは発光層１３５にホールが注入される。そして、光透過性陰極１３６からは発光層１３５に電子が注入される。このホールと電子により、発光層１３５は光透過性陰極１３６側（上側）に光を射出する。
【００４４】
光反射性陽極１３３は、反射層としてＡｌ層とＩＴＯ層との積層構造を用いることができる。また、Ａｌ層とＩＴＯ層との間に透明な絶縁層を挟んでいても良い。
【００４５】
発光層１３５には、白色の蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の低分子材料を用いることができ、例えばアントラセンやピレン、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム、ビススチリルアントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体を用いても良い。また、これら低分子材料に、ルブレン、キナクリドン誘導体、フェノキサゾン誘導体、ＤＣＭ、ＤＣＪ、ペリノン、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ジアザインダセン誘導体をドープして用いることができる。
【００４６】
また、高分子材料としては、赤色の画素群にはＰＰＶ−Ｒ、緑色の画素群にＰＰＶ−Ｇ、青色の画素群にはＰＰＶ−Ｂ、を用いることができる。なお、この名称は上記した高分子材料を示す仮称である。図３（ａ）はＰＰＶ−Ｒ、（ｂ）はＰＰＶ−Ｇ、（ｃ）はＰＰＶ−Ｂの構造式である。また、これらの層を重ねることでも白色光を射出することが可能となる。
【００４７】
さらに、高分子材料としては、例えば、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、（ポリ）フェニレン誘導体（ＰＰ）、（ポリ）パラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、（ポリ）ビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、（ポリ）チオフェン誘導体、（ポリ）メチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系を含む物質が好適に使用することができる。また、これらの高分子材料に、例えば、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンを含む低分子材料をドープして使用することができるが、これに限られる物ではない。
【００４８】
また、発光層１３５は多層構造を備えていても良く、例えば、正孔を注入・輸送するポリスチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸の混合物を用いた薄膜を備えることも好適である。
【００４９】
また、正孔注入・輸送層の形成材料としては、例えば、（ポリ）スチレンジオキシチオフェンの（ポリ）チオフェン誘導体と、（ポリ）スチレンスルホン酸の混合物を用いることができる。この場合正孔を発光層に注入する機能を有するとともに、正孔を輸送する機能を有する。
【００５０】
また、電子注入層として、透明材料であるＢＣＰ（ｂａｔｈｏｃｕｐｒｏｉｎｅ）にアルカリ金属を含有させた薄膜を備えることも好適である。
【００５１】
光透過性陰極１３６は、その他の例として、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）を含む材料を含んでいても良い。一例として、ＭｇＡｇ（ＭｇとＡｇを重量比でＭｇ：Ａｇ＝１０：１に混合した材料）を含む薄層の透光性電極が、電子注入障壁が低く、かつ耐腐蝕性を持つことから好適に用いられ、この場合には光透過性陰極１３６は電極と電子注入層を兼ねたものとなる。光透過性陰極１３６としてＭｇＡｇを用いる場合、厚さとしては、例えば１０ｎｍが電気抵抗、光透過率のバランスを考慮した場合、好ましい。この他にも、例えばＭｇＡｇＡｌ、ＬｉＡｌ、ＬｉＦＡｌ、Ｃａ単体を用いても同様の効果をもって光透過性陰極１３６を形成することが可能となる。また、これらの金属薄層と例えばＩＴＯや酸化錫、酸化亜鉛の透明導電材料を積層した層を光透過性陰極１３６として用いても良い。
【００５２】
ドット領域Ａでは、走査線１０１が駆動されてＴＦＴ１２２がオンなると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、この保持容量ｃａｐの状態に応じて、ＴＦＴ１２３の導通状態が決まる。また、ＴＦＴ１２３のチャネルを介して共通給電線１０３から光反射性陽極１３３に電流が流れ、さらに発光層１３５を通じて光透過性陰極１３６に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて、発光層１３５が発光する。
【００５３】
カラーフィルター１４４は、例えば光の３原色、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色を備えており、カラー表示を行わせている。なお、カラーフィルター１４４は、ドット領域ＡがＲＧＢ各色に対応して作り分けられており、かつ発光層１３５から射出される光の色純度が高い場合には省略可能である。ドット領域ＡをＲＧＢ各色に対応して作り分ける方法としては、蒸着用マスクを用い、ＲＧＢ各色に対応する領域毎に分離して形成する方法や、例えば溶媒中に材料を分散させた後、インクジェット法で吐出描画し、塗り分けて形成する方法を例示することができる。
【００５４】
光透過性陰極１３６とカラーフィルター１４４の間には、大気からの水分や酸素の浸入を防ぐことで、有機ＥＬ素子１５０の信頼性を確保すべく、封止層１５１が配置されている。
封止層１５１は、第１層としてのバリア層１３７、第３層としての反射防止層１３８、第２層としての、樹脂を用いた有機中間層１３９、第３層としての反射防止層１４０、第１層としてのバリア層１４１、第３層としての反射防止層１４２、第２層としての接着層１４３を備える。そして、封止層１５１の上には、カラーフィルター１４４、保護ガラス１４５をさらに備えている。
【００５５】
バリア層１３７、バリア層１４１としては、水分や酸素に対するバリア性を有する無機質のシリコン窒化酸化層（ＳｉＯＮ：酸素０％を含む）を用いることができる。バリア層１３７、バリア層１４１として典型的には、屈折率１．８のＳｉＯＮを用い、厚さは０．１μｍ以上０．５μｍ以下の範囲で構成することで、内部応力を抑えて膜質を良好に保ち、かつ水分や酸素に対するバリア性を確保することが可能となる。屈折率１．８のＳｉＯＮは、ＳｉＯ2に比べて硬く（脆い）ため、膜厚が厚い場合、内部応力により例えば亀裂が生じる場合がある。そこで、有機中間層１３９を介して応力緩和を行うことが好適となる。
【００５６】
また、有機中間層１３９として広く用いられているエポキシ樹脂により表面を平坦化することができ、応力緩和を効果的に行うことが可能となる。しかしながら、エポキシ樹脂は、水分によりエポキシ樹脂そのものが劣化する場合があり、水蒸気耐性や水蒸気阻止性は屈折率１．８のＳｉＯＮと比べ低い。そこで、バリア層１３７、バリア層１４１の構成材としてこのＳｉＯＮを用い、第２層としての有機中間層１３９、接着層１４３を用いることが好適となる。
【００５７】
ここで、バリア性をさらに向上させるために、より屈折率が高い（窒素比率が高い）ＳｉＯＮを用いることも可能である。この場合には後述する、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２の屈折率も高い値にすることで、より精密に界面での反射損失を低減することが可能となる。
【００５８】
また、バリア層１３７、バリア層１４１を構成する物質としては、ＳｉＯＮ（酸素０％を含む）に限定されることなく、例えば酸化タンタルや、酸化チタンを含んでいても良く、水分の浸入を効果的に防止することができる。
【００５９】
有機中間層１３９としては、例えばエポキシ樹脂を用いることができ、隔壁１３４により生ずる段差を埋めてその上に形成されるバリア層１４１に欠陥（例えば亀裂）を生じさせないよう、上部の形状を平坦化している。有機中間層１３９は、例えば５μｍの厚みを備えている。
【００６０】
また、接着層１４３としては、例えばエポキシ樹脂を用いることができ、カラーフィルター１４４と、保護ガラス１４５とを固定する機能を備えている。
【００６１】
ここで、有機中間層１３９や接着層１４３は、エポキシ樹脂に限定されるものではなく、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂を含んでいても良く、応力の緩和を効果的に行うことが可能となる。また、上記した樹脂の屈折率はエポキシ樹脂と同じく約１．５であるため、反射防止層１３８や、反射防止層１４０、反射防止層１４２の厚みや屈折率を変えずに切り替えて用いることが可能である。
【００６２】
そして、封止層１５１の上には、カラーフィルター１４４、保護ガラス１４５が配置されており、水分の浸入防止と、カラー表示が行えるよう構成されている。ここで、カラーフィルター１４４は典型的にはアクリル樹脂が用いられ、その屈折率は保護ガラス１４５と同様に、約１．５である。
【００６３】
そして、バリア層１３７と有機中間層１３９との間には反射防止層１３８が、有機中間層１３９とバリア層１４１との間には反射防止層１４０が、バリア層１４１と接着層１４３との間には反射防止層１４２が、配置されている。有機中間層１３９や、接着層１４３として用いられるエポキシ樹脂の屈折率は約１．５である。そして、保護ガラス１４５、カラーフィルター１４４の屈折率も上述したように約１．５である。
【００６４】
上記した構成を用いた場合、屈折率が大きく異なる界面は、バリア層１３７と有機中間層１３９との間、有機中間層１３９とバリア層１４１との間、バリア層１４１と接着層１４３との間であり、主に、これらの界面で反射が生じる。そして、上記した界面は、屈折率が約１．８と、約１．５の物質が接しており、屈折率が約０．３異なっている。そして、このような界面が複数（本実施形態では３つ）存在している。
【００６５】
そこで、バリア層１３７と有機中間層１３９との間に反射防止層１３８、有機中間層１３９とバリア層１４１との間に反射防止層１４０、バリア層１４１と接着層１４３との間に反射防止層１４２を挟むことによって、反射を抑制することが可能となる。この場合、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２の屈折率としては、１．５と１．８の間の値を取ることが好ましい。そのような物質としては、例えば、バリア層１３７やバリア層１４１を構成するＳｉＯＮよりも酸素リッチ（窒素０％を含む）なＳｉＯＮを用いることができる。また、バリア層１３７の窒素含有比を増やした場合には、ＳｉＯＮに代えて、酸化アルミニウムを用いることも好適である。
【００６６】
これら反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２は、例えば反応性スパッタリング法で成膜するＳｉＯＮを用いることができる。反応性スパッタリング法は、例えばＣＶＤ法のように基板を高温にすることなく成膜できるため、この場合好適な製造方法となる。
そして、以下に示す反応性スパッタリング装置を用いて、雰囲気ガスやターゲットを代えることで、バリア層１３７、バリア層１４１に好適な酸化タンタルや、酸化チタンも積層することが可能となる。
【００６７】
図４は、反応性スパッタリング装置の模式断面図である。以下、図４を用いて反応性スパッタリング装置２００の構成について説明する。反応性スパッタリング装置２００は、プラズマ生成室２０１、排気系２０２、磁場発生コイル２０３、マイクロ波導入窓２０４、プラズマ発生ガス供給部２０５、成長室２０６、珪素ターゲット２０７、ＲＦ−ＤＣ電源２０８、反応ガス供給部２１０、を含む。以下、反応性スパッタリング装置２００を用いた層形成方法について説明する。
【００６８】
プラズマ生成室２０１内には、マイクロ波導入窓２０４からマイクロ波が導入される。そして、プラズマ発生ガス供給部２０５からは例えばアルゴンのプラズマ発生ガスが供給される。そしてプラズマ発生ガスは、マイクロ波からエネルギーを受け、磁場発生コイル２０３が発生する磁場と共鳴することでプラズマ化する。
【００６９】
発生したプラズマは、ＲＦ−ＤＣ電源２０８から珪素ターゲット２０７に与えられたバイアスや磁場発生コイル２０３が発生する磁場強度勾配により、成長室２０６にドリフトして流れ込む。そして、珪素ターゲット２０７と接触することで珪素がスパッタされ、同時にプラズマからエネルギーを受けてイオン化、ラジカル化する。このプラズマは、光透過性陰極１３６が形成された基板１３０（図１参照）側にドリフトしていく。そして、プラズマが基板１３０に届く前に、反応ガス供給部２１０から、窒素や酸素が供給される。供給された窒素や酸素は、イオン化、ラジカル化し、珪素イオン、珪素ラジカルと反応して窒化酸化珪素（酸素または窒素の片方が０％の場合を含む）となる。そして、基板１３０上に位置する構造体の露出した面上に窒化酸化珪素（酸素または窒素の片方が０％の場合を含む）が形成される。窒化酸化珪素（酸素または窒素の片方が０％の場合を含む）を形成した後、プラズマはエネルギーを失いガス化する。そして、排気系２０２により成長室２０６から排気される。
【００７０】
ここで、成膜を行う際に供給される窒素流量を下げることで酸素リッチな層を得ることができ、屈折率を１．６５程度に制御することができる。これは、バリア層１３７、バリア層１４１に用いられたＳｉＯＮの屈折率１．８と、有機中間層１３９や、接着層１４３として用いられたエポキシ樹脂の屈折率１．５の積の平方根の値である。本実施形態では、有機ＥＬ素子１５０の発光強度が低い波長として、青に対応する波長（４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下：例えば４７０ｎｍ）で１／４波長となる７１ｎｍに設定しているが、これは、赤に対応する波長（６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下：例えば６８０ｎｍ）で１／４波長となる１０３ｎｍに合わせるよう構成しても良い。また、青と赤の双方に対応すべく、例えば、第３層としての反射防止層１３８の厚みを青に対応する波長に合わせ、第３層としての反射防止層１４０の厚みを赤に対応する波長に合わせるように構成しても良い。
【００７１】
また、スパッタ用マスクを用いて複数回の反応性スパッタリング法を用いることで、各色に対応した波長に対して厚みを制御しても良い。また、例えば３板式のプロジェクターへ適用する場合には、各色に合わせて１／４波長となるよう設定しても良い。
【００７２】
第３層としての反射防止層１３８、第３層としての反射防止層１４０、第３層としての反射防止層１４２の膜厚の最適値は、屈折率をｎ（例えば１．６５）、ｍを０以上の整数、λを波長とした場合、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）で表せる。
また、屈折率１．６５換算で１／２波長（光路長にして１波長）の自然数倍分の厚みを加えても良く（ｍ≧１に対応する）、厚い層を用いることで反射防止層に水分の浸入を抑える機能を持たせることが可能となる。
【００７３】
また、屈折率１．６５換算で１／４波長から多少ずれた厚さであっても差し支えはなく、例えば、ずれが１／８波長以下であれば、干渉により反射を打ち消しあう関係となるため、反射防止層としての十分な機能が得られる。また、反射防止層を入れることで、反射損失が減る場合には、上記した範囲を逸脱した厚みを用いても良い。
【００７４】
また、屈折率１．６５換算で１／２波長の、自然数倍分の厚み（ｍ≧１に対応する）を加えても良く、厚い層を用いることで反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２に水分の浸入を抑える機能を持たせることが可能となる。この場合、第３層としての反射防止層１３８、第３層としての反射防止層１４０、第３層としての反射防止層１４２の膜厚の好適値は、上記したλとｎ，ｍを用いて、以下の範囲で示される。
（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）−λ／８ｎ以上、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）＋λ／８ｎ以下が好適値となる。
図５（ａ）は、反射防止層（例えば反射防止層１３８）の厚さを１／４波長に合わせた場合の反射波の合成状況を示すグラフである。この場合、光の反射を物理的には０に抑えることができる（例えば光吸収により、若干の反射光は生じる）。
そして、図５（ｂ）は、反射防止層（例えば反射防止層１３８）の厚さが１／４波長よりも若干ずれた場合（この場合では、約１／１６波長分ずれた場合）の反射波の合成状況を示すグラフである。この場合においても、干渉による反射光の打ち消しが行われるため、反射光強度を減少させることが可能となる。
【００７５】
また、例えば反射防止層１３８は、バリア層１３７と、有機中間層１３９と直接接触していなくとも良く、例えばバッファー層を介して反射防止層１３８を介在させても良い。
【００７６】
また、可撓性を備える発光装置としては、バリア層として３層のＳｉＯＮを用いることも好適である。可撓性を確保するためには有機ＥＬ装置３００全体の厚さを抑える必要があり、基板１３０ 保護ガラス１４５による水分や酸素に対してのバリア性が低下する。そのため、低い透湿性を備えた３層バリアを用いることが好適となっている。
【００７７】
ここでは、発光装置として有機ＥＬ装置３００を用いた表示装置について説明したが、これは、例えば、無機ＥＬ装置を用いて表示装置を構成しても良い。無機ＥＬ装置に用いる無機ＥＬ素子としては、例えば赤色の発光を、蛍光顔料を用いて増強することで、白色（ＲＧＢ混合型）発光を行うものが知られている。ここで、カラーフィルターを併用することで、カラー表示に対応可能である。また、無機ＥＬ素子として、基本的な骨格にペロブスカイト型酸化物を用い、各色に対応した不純物を添加することでＲＧＢに対応した光源としても良い。
また、ＲＧＢに対応したＬＥＤをマトリックス状に用いることで、カラー表示を行う（この場合には、ＬＥＤを実装する都合上）大型の表示装置に対応させることも可能である。この場合、Ｒ（赤）にはＧａＡｌＡｓ（６６０ｎｍ）、Ｇ（緑）にはＩｎＧａＮやＡｌＧａＩｎＰ（５２０ｎｍ）、Ｂ（青）にはＩｎＧａＮ（４６０ｎｍ：Ｇ用とは組成比が異なる）を用いたＬＥＤ素子を用いることが好適となる。
また、発光装置としての応用として、一般の照明器具として、例えば電球や蛍光灯に代えて上記した発光装置を適用しても良い。特に、有機ＥＬ装置３００や、無機ＥＬ装置は、面で発光するため、ぎらつきを抑えた照明器具を得ることが可能となる。そして、上記したように封止することで、耐湿性が向上するため、例えば浴室や屋外のように、湿度が高い状態での照明として使用することが可能となる。ここで、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を用いる場合、隔壁１３４は必須ではなく省略可能であり、この場合有機ＥＬ装置３００は均一性高く発光するため、ぎらつきを抑えた照明装置が得られる。
【００７８】
そして、上記した発光装置は、例えば、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２を備えている。そのため、発光素子としての有機ＥＬ素子１５０や、発光素子としての無機ＥＬ素子、ＬＥＤ素子からの射出光は、封止層１５１内の界面で生じる反射損失が抑制される。そのため、高い効率で発光させることが可能となる。
【００７９】
（第２の実施形態：電気光学装置）
第１の実施形態では、直接画像情報を直接表示する発光装置について説明したが、これは別の分野に対しても応用可能である。図６は、表示パネルとしての液晶装置と、発光装置としての有機ＥＬ装置を備えた電気光学装置の斜視図である。ここでは、有機ＥＬ装置３００を基板２２１に搭載し、液晶装置２３０のバックライト２２２として用いた電気光学装置２４０について説明を続ける。なお、本実施形態の説明の主眼とは外れている構成（例えばカラーフィルター）については図示、説明を省略する。
【００８０】
ここでは、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を基板２２１と重ねてタイル状に貼り合わせたものを例示しているが、これは有機ＥＬ装置３００を大型化し、貼り合わせで生じる継ぎ目が無い状態で液晶装置２３０のバックライト２２２として用いることも好適である。また、有機ＥＬ装置３００が占める面積を小さくし、例えば拡散板を用いて発光装置を構成しても良い。本実施形態では、タイル状の有機ＥＬ装置３００を基板２２１に貼り付けた場合について説明を続ける。この場合、一つの有機ＥＬ装置３００は、複数の液晶画素２２４に光を射出することとなる。
【００８１】
基板２２１に貼り付けられた有機ＥＬ装置３００や、無機ＥＬ装置をバックライトに用いる場合、ＣＣＦＬ（冷陰極蛍光ランプ）と比べ、薄型化が可能となる。そのため、厚みに対する仕様が厳しい携帯電話や、モバイルパソコンに好適に用いることができる。また、発光装置としてのＬＥＤ装置は、有機ＥＬ装置３００と同様に、分光特性が急峻であり単色性に優れることから、カラーフィルター（図示せず）によるロスが少なく、高い効率を持つ光源として用いることが可能となる。
また、例えばマイクロミラー型表示装置や、反射型液晶装置に対しても、同様に対応することができる。この場合、光は有機ＥＬ装置３００の光を射出する領域から射出された光が、また有機ＥＬ装置３００側に帰ってくることとなる。
【００８２】
また、本実施形態で用いた電気光学装置が備える発光装置は、例えば、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２を備えている（図２（ｂ）参照）。そのため、発光素子としての有機ＥＬ素子１５０や、発光素子としての無機ＥＬ素子、ＬＥＤ素子からの射出光は、積層構造（封止層１５１内）での界面での反射が抑制されることとなる。そのため、高い効率で発光させることができ、より明るい電気光学装置を得ることが可能となる。
【００８３】
（第３の実施形態：電子機器）
以下、本実施形態で説明した発光装置や、電気光学装置を備える電子機器について説明する。図７（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態にかかる電子機器の模式図である。以下、図７を参照して、上述した発光装置を含む電子機器について説明する。
【００８４】
図７（ａ）に、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機２６０は、複数の操作ボタン２６１及びスクロールボタン２６２、ならびに有機ＥＬ装置３００を含む。スクロールボタン２６２を操作することによって、発光装置としての有機ＥＬ装置３００に表示される画面がスクロールされる。
携帯電話機２６０は、その性質上、消費電力が重視される。この有機ＥＬ装置３００は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、携帯電話機の通話時間を延ばす（バッテリーの消耗が抑えられる）ことが可能となる。
【００８５】
そして、図７（ｂ）に、電気光学装置を含むモバイル型のパーソナルコンピューターの構成を示す。パーソナルコンピューター２７０は、表示用の電気光学装置２２０を備えている。そして、電気光学装置２２０は、有機ＥＬ装置３００をバックライトとした液晶装置３１０を備えている。そして、電源スイッチ２７１及びキーボード２７２が設けられた本体部２７３を備える。
モバイル型のパーソナルコンピューター２７０は、その性質上、バッテリー駆動される場合が多い。そのため、消費電力の低減が大きな課題となる。この電気光学装置２２０は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、バッテリー駆動が行える時間を延ばすことが可能となる。
【００８６】
そして、図７（ｃ）に、有機ＥＬ装置を照明装置に用いた場合の構成を示す。照明装置２８０は、電源スイッチ２８１、台部２８２、脚部２８３、有機ＥＬ装置３００を備えている。電源スイッチ２８１は有機ＥＬ装置３００への電力供給／遮断を切り替える機能を備えている。そして、台部２８２、脚部２８３は有機ＥＬ装置３００を支えている。有機ＥＬ装置３００は、面発光型デバイスであるため、ぎらつきを抑えた照明装置２８０を提供することが可能となる。また、照明装置２８０に用いられている有機ＥＬ装置３００は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、消費電力を抑えることが可能となる。加えて、面発光型でかつ消費電力を抑えられることから、ジュール熱の総量が下がると共に、熱が広い領域に渡って発生するため効率的に放熱することが可能となる。加えて、有機ＥＬ装置３００の局部的な温度上昇が抑えられることから、有機ＥＬ装置３００の寿命を延ばすことが可能となる。
【００８７】
以下に、本発明の効果についてまとめる。ここでは、主に、バリア層１３７、有機中間層１３９、反射防止層１３８を用いて説明しているが、これは一例を示しているものであり、他の多層構造を用いている場合、例えば別のバリア層や、別の有機中間層１３９（必ずしも有機物に限られることは無く、別のバリア層の応力緩和を行うものや、光学的に密着させる機能を備える物質を用いることも好適である）を用いた場合にも対応可能である。
【００８８】
バリア層１３７、バリア層１４１（図２（ｂ）参照）を構成する物質として、ＳｉＯＮ（酸素０％を含む）酸化タンタルや、酸化チタンを用いることで、水分の浸入を効果的に防止することができる。
【００８９】
有機中間層１３９や接着層１４３（図２（ｂ）参照）に、エポキシ樹脂やアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂を用いることで、応力の緩和を効果的に行える。また、上記した樹脂の屈折率は約１．５であるため、反射防止層１３８や、反射防止層１４０、反射防止層１４２の厚みや屈折率を変えずに切り替えて用いることができる。
【００９０】
バリア層１３７、バリア層１４１（図２（ｂ）参照）のように、バリア層が複数ある場合には、屈折率が大きく異なる界面が複数（この場合には３層）発生し、反射損失が大きくなるが、バリア層１３７と例えば有機中間層１３９との間に反射防止層１３８を設けることで反射損失を低減することが可能となる。特に、反射防止層１３８の屈折率を、バリア層１３７の屈折率と有機中間層１３９の屈折率の両者の屈折率の積の平方根とし、反射防止層１３８の厚さを光路長として波長の１／４にすることで、理論的には反射損失を０に抑えることが可能となる。
【００９１】
反応性スパッタリング法を用いてＳｉＯＮ層を形成することで、例えばＣＶＤ法のように基板を高温にすることなく成膜できるため、有機ＥＬ素子１５０（図２（ｂ）参照：無機ＥＬやＬＥＤを含む）に熱ストレスを掛けずに製造することが可能となる。
【００９２】
例えば反射防止層１３８（図２（ｂ）参照）の厚みを、反射防止層１３８の屈折率を考慮して青に対応する波長（４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下：例えば４７０ｎｍ）で１／４波長となる７１ｎｍや、赤に対応する波長（６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下：例えば６８０ｎｍ）で１／４波長となる１０３ｎｍに合わせることで、相対的に輝度が低い波長域での反射損失が抑えられるため、色バランスに優れた状態とすることが可能となる。
【００９３】
色毎に光を分光して扱う、プロジェクターへ適用する場合には、例えば、反射防止層１３８の屈折率を考慮して、各色に対して１／４波長となるよう設定することで、より反射損失を低減することが可能となる。
【００９４】
発光装置への応用として、例えば電球や蛍光灯に代えて上記した発光装置を適用しても良い。特に、有機ＥＬ装置３００（図２（ｂ）参照）や、無機ＥＬ装置は、面で発光するため、ぎらつきを抑えた照明器具を得ることが可能となる。そして、上記したように封止することで、耐湿性が向上するため、例えば浴室や屋外のように、湿度が高い状態での照明としても高い発光効率を備える発光装置としての有機ＥＬ装置３００や、無機ＥＬ装置、ＬＥＤ装置を使用することが可能となる。そして、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を用いる場合、隔壁１３４は必須ではなく省略可能であり、この場合有機ＥＬ装置３００は平面的に均一性高く発光するため、ぎらつきを抑えた照明装置が得られる。
【００９５】
モバイル型のパーソナルコンピューター２７０（図７（ｂ）参照）は、その性質上、バッテリー駆動される場合が多い。そのため、消費電力の低減が大きな課題となる。この電気光学装置２２０は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、バッテリー駆動が行える時間を延ばすことが可能となる。
【００９６】
以下、本発明にかかる技術的な思想について説明する。
上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層を複数備え、前記一部の波長範囲は、前記第３層の一層以上の層に対して４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下であり、前記第３層の、別の一層以上の層に対しての波長範囲は、６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下であることを特徴とする発光装置。
上記した適用例によれば、第３層が複数層ある場合、発光素子の発光効率が低い領域として、第３層を赤用と青用に振り分けることで、輝度バランスを調整することが可能となる。そのため、さらに高い輝度バランスを備えた発光装置を提供することが可能となる。
【符号の説明】
【００９７】
１０１…走査線、１０２…信号線、１０３…共通給電線、１２２…ＴＦＴ、１２３…ＴＦＴ、１３０…基板、１３２…層間絶縁層、１３３…光反射性陽極、１３４…隔壁、１３５…発光層、１３６…光透過性陰極、１３７…バリア層、１３８…反射防止層、１３９…有機中間層、１４０…反射防止層、１４１…バリア層、１４２…反射防止層、１４３…接着層、１４４…カラーフィルター、１４５…保護ガラス、１５０…有機ＥＬ素子、１５１…封止層、２００…反応性スパッタリング装置、２０１…プラズマ生成室、２０２…排気系、２０３…磁場発生コイル、２０４…マイクロ波導入窓、２０５…プラズマ発生ガス供給部、２０６…成長室、２０７…珪素ターゲット、２０８…ＲＦ−ＤＣ電源、２１０…反応ガス供給部、２２０…電気光学装置、２２１…基板、２２２…バックライト、２２４…複数の液晶画素、２３０…液晶装置、２４０…電気光学装置、２６０…携帯電話機、２６１…複数の操作ボタン、２６２…スクロールボタン、２７０…パーソナルコンピューター、２７１…電源スイッチ、２７２…キーボード、２７３…本体部、２８０…照明装置、２８１…電源スイッチ、２８２…台部、２８３…脚部、３００…有機ＥＬ装置、３１０…液晶装置。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置、電気光学装置、ならびに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
光源としての発光装置や、電気光学装置や、液晶表示装置のバックライトとして応用すべく、有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子を用いた発光装置の開発が進められている。このような発光装置は、高輝度、低消費電力で高速応答が可能であるという特徴を備えている。しかし、有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子は水分に弱いため、有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子への水分の侵入を防ぐよう封止されていることが望ましい。特に、ＡｌＧａＩｎＰ（緑や赤を発光する）系のＬＥＤ素子は、Ａｌが酸化し易いことから、水分の侵入を抑えることが必要となる。
【０００３】
そこで、発光素子を封止すべく、電極を覆う複数の薄膜を積層する構造が開発されている。これらの技術の例として、特許文献１、特許文献２、特許文献３を挙げることができる。以下の例では、有機ＥＬ素子を用いた場合について説明しているが、発光素子として有機ＥＬ素子に代えてＬＥＤ素子を用いることでＬＥＤ素子に対しても同様に対応することができる。また、他の発光素子を用いた場合（例えば無機ＥＬ素子）でも同様に対応することができる。
【０００４】
発光素子を封止する場合、例えば応力による影響を考慮して複数の薄膜を重ねた構造を用いて封止する場合がある。このように違う物質が重なった場合、屈折率の異なる薄膜が重なることとなる。屈折率の異なる薄膜が重なると、薄膜界面で光反射が生じ、薄膜を通過する光の透過率が低下する。図８は、異なる物質により形成された積層構造での反射損により光量が低下する事象を説明するための模式断面図である。なお、基本的には、光は発光層からガラスに向かってガラスの法線方向に向けて射出されるが、ここでは、反射損失を示すために、角度を付けた状態で図示している。
【０００５】
そこで、透明電極に重ねて反射防止層を設けることで透明電極による反射を抑える技術が特許文献２に開示されている。
図９は、特許文献２における反射防止層の構成を示す断面図である。特許文献２では、透明電極を覆うように配置された反射防止層を備えている。
また、特許文献３では、上部電極層から透明基板と反対側へ順次積層された封止層の屈折率が単調に小さくなるように封止層を構成することで反射を抑える技術が開示されている。
【０００６】
また、有機ＥＬ素子に対する封止性能を向上させるため保護層として、特許文献１では、例えばエポキシ樹脂層で有機ＥＬ素子を覆い、重ねてシリコン窒化酸化層で覆うことで、ダークスポットの発生を抑制する技術について開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２５７６５号公報
【特許文献２】特開２００３−３０３６８５号公報
【特許文献３】特開２００５−３１７３０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１では、光学的な特性については開示していない。そのため、屈折率が高いシリコン窒化酸化層と比べ、屈折率が低い例えばエポキシ樹脂層との界面で光の反射が生じ、光の透過率が低下するという課題がある。
【０００９】
また、有機ＥＬ素子を、例えば、酸素や水分の透過率が低い無機層としてのＳｉＯＮ層を用いて封止することで有機ＥＬ素子の信頼性を向上させることができるが、無機層（ＳｉＯＮ層）は内部応力が大きく、亀裂の発生を抑制するには、厚さに制限がある。そのため、図８に示すように、無機層（ＳｉＯＮ層）よりも柔らかい、例えばエポキシ樹脂層を挟んで無機層（ＳｉＯＮ層）を複数枚重ねることで有機ＥＬ素子の信頼性を向上させることができる。図８は、無機層（ＳｉＯＮ層）を、エポキシ樹脂層を介して複数層（この場合には２層）重ねた場合の断面図である。一般的に無機層としてのＳｉＯＮ層はエポキシ樹脂よりも屈折率が高い。そのため、屈折率は単調には減衰しなくなる。即ち、特許文献３の技術から逸脱するという課題がある。
【００１０】
また、特許文献２の技術では、上部電極層による反射は抑えられるものの、例えばシリコン窒化酸化層とエポキシ樹脂層との間の界面に起因する反射を抑えることが困難であるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【００１２】
［適用例１］本適用例にかかる発光装置は、 発光素子と、前記発光素子の射出光が通過する第１層と第２層と、前記第１層と前記第２層との間に位置し、前記発光素子からの前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、前記第１層の屈折率と、前記第２層の屈折率と、の間の屈折率を有する第３層を備えることを特徴とする。
【００１３】
これによれば、第１層と第２層を直接重ねた場合と比べ、第１層の屈折率と、第２層の屈折率との間の屈折率を持つ第３層を挟むことで、第３層は反射防止層として機能する。そのため、発光素子からの射出光に対して反射損失を抑えた、明るい発光装置を提供することが可能となる。
【００１４】
［適用例２］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層は、前記第１層と前記第２層と接するように挟まれていることを特徴とする。
【００１５】
上記した適用例によれば、第１層と第２層との間に介在する層に起因する反射損失を抑えることが可能となり、より明るい発光装置を提供することが可能となる。
【００１６】
［適用例３］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層の屈折率は、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との積の平方根の値をとることを特徴とする。
【００１７】
上記した適用例によれば、射出光の反射損失をより小さく抑えることが可能となる。
【００１８】
［適用例４］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとし、ｍを０以上の整数とした場合、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）−λ／８ｎ以上、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）＋λ／８ｎ以下の厚さを備えていることを特徴とする。
【００１９】
上記した適用例によれば、第３層での反射光は、互いに干渉により反射を打ち消しあう関係となるため、反射防止層としての機能が得られる。また、ｍとして１以上の値を用いる場合、干渉により反射を打ち消しあう関係を満たすと共に、厚く設定された第３層により、発光素子としての有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子への水分の浸入を抑制することが可能となる。
【００２０】
［適用例５］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとした場合、ｍを０以上の整数として（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）の厚さを備えていることを特徴とする。
【００２１】
上記した適用例によれば、反射防止層の両面で反射する光の位相が逆相になるため、互いに打ち消しあうことで反射損失を小さく抑えることが可能となる。特に、第１層の屈折率と第２層の屈折率との積の平方根の値を備える物質を第３層に用いた場合、理論的には、反射損失を零にすることが可能となる。また、ｍとして１以上の値を備える厚さを用いる場合、干渉により反射を打ち消しあう関係を満たすと共に、厚く設定された第３層により発光素子への水分の浸入を抑制することが可能となる。
【００２２】
［適用例６］上記適用例にかかる発光装置であって、前記一部の波長範囲として、４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする。
【００２３】
上記した適用例によれば、発光素子の発光効率が低い領域（４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下：青）で反射損失を減らすことができるため、輝度バランスに優れた発光装置を提供することが可能となる。
【００２４】
［適用例７］上記適用例にかかる発光装置であって、前記一部の波長範囲として、６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする。
【００２５】
上記した適用例によれば、発光素子の発光効率が低い領域（６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下：赤）で反射損失を減らすことができるため、輝度バランスに優れた発光装置を提供することが可能となる。また、第３層が複数層ある場合、発光素子の発光効率が低い領域として、第３層を赤用と青用に振り分けることで、輝度バランスを調整することが可能となる。そのため、さらに高い輝度バランスを備えた発光装置を提供することが可能となる。
【００２６】
［適用例８］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第１層は無機層であり、前記第２層は樹脂層であることを特徴とする。
上記した適用例によれば、上記した樹脂（プラスチック）はＪＩＳにも定義されているように、必須の構成要素として高重合体を含みかつ完成製品への加工のある段階で、流れによって形を与え得る材料である。即ち、流動性を用いて材料を塗布し、硬化させることで表面形状を平坦化できるため、第１層を覆う第２層、または第３層にかかる応力が平均化され、発光装置の信頼性を向上させることが可能となる。
【００２７】
［適用例９］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第２層は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂のうちの少なくとも１つを含む樹脂であることを特徴とする。
【００２８】
上記した適用例によれば、上記した樹脂（プラスチック）はＪＩＳにも定義されているように、必須の構成要素として高重合体を含みかつ完成製品への加工のある段階で、流れによって形を与え得る材料である。即ち、流動性を用いて材料を塗布し、硬化させることで表面形状を平坦化できるため、第２層を覆う第１層、または第３層にかかる応力が平均化され、発光装置の信頼性を向上させることが可能となる。加えて、上記した樹脂は柔らかく、印加された応力を吸収することで発光素子を保護することが可能となる。
【００２９】
［適用例１０］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第１層は、珪素窒化物（ＳｉＯＮ（酸素０％を含む））、酸化タンタル、酸化チタンうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする。
【００３０】
上記した適用例によれば、発光素子としての発光素子としての有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子内への外界からの水分の浸入を抑えることができる。また、機械的強度が強いため、機械的応力に対して信頼性が高い発光装置を提供することが可能となる。
【００３１】
［適用例１１］上記適用例にかかる発光装置であって、前記第１層は窒化酸化珪素（酸素０％を含む）であり、前記第２層はエポキシ樹脂であり、前記第３層は前記第１層よりも窒素比率が小さい（窒素０％を含む）窒化酸化珪素であることを特徴とする。
【００３２】
上記した適用例によれば、発光素子としての有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子内への外界からの水分の浸入を窒化酸化珪素で防ぎ、柔らかいエポキシ樹脂層で応力を緩和することができる。
【００３３】
［適用例１２］
本適用例にかかる電気光学装置は、上記適用例にかかる発光装置と、表表示パネルと、を備え、前記発光装置は、射出面から光を射出し、前記表示パネルは、前記表示パネルの第１面から入射された光を前記第１面での平面視で強度変調して出力し、前記発光装置の前記射出面と、前記表示パネルの前記第１面とが互いに向い合うよう、前記表示パネルと前記発光装置とを重ねて配置したことを特徴とする。
【００３４】
これによれば、反射損失の少ない発光装置を用いて、表示パネルを使用して光を空間的に変調するため、反射損失を軽減していない発光装置を用いた場合と比べ、明るい表示を行うことが可能となる。
【００３５】
［適用例１３］本適用例にかかる電子機器は、上記適用例にかかる発光装置を備えたことを特徴とする。
【００３６】
これによれば、電力変換効率が高く、かつ高い輝度に対応可能な発光装置を備える電子機器を提供することが可能となる。
【００３７】
［適用例１４］本適用例にかかる電子機器は、上記適用例にかかる電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００３８】
これによれば、電力変換効率が高く、かつ高い輝度に対応可能な電気光学装置を備える電子機器を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】発光装置としての有機ＥＬ装置の斜視図。
【図２】（ａ）は、図１に示す発光装置としての有機ＥＬ装置の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ’線断面図。
【図３】（ａ）はＰＰＶ−Ｒ、（ｂ）はＰＰＶ−Ｇ、（ｃ）はＰＰＶ−Ｂの構造式。
【図４】反応性スパッタリング装置の模式断面図。
【図５】（ａ）は、反射防止層の厚さを１／４波長に合わせた場合の反射波の合成状況を示すグラフ、（ｂ）は、反射防止層の厚さが１／４波長よりも若干ずれた場合の反射波の合成状況を示すグラフ。
【図６】電気光学装置の斜視図。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態にかかる電子機器の模式図。
【図８】背景技術を説明するための断面図。
【図９】背景技術を説明するための断面図。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、本発明を具体化した各実施形態を図面に基づいて説明する。
【００４１】
（第１の実施形態：発光装置の構成）
図１は、本実施形態の構成を示す発光装置としての有機ＥＬ装置の斜視図である。なお、本明細書では、「上」とは基板１３０から保護ガラス１４５に向かう方向を示すものとして記載している。そして、「下」とは、「上」と反対の方向を示すものとして記載している。また、図１においては、斜視図が煩雑となるため、発光層１３５の記載は省略している。
そして、図２（ａ）は、図１に示す、発光装置としての有機ＥＬ装置の平面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ’線における断面図である。なお、図２（ｂ）に示す断面図では、光学的に寄与しない層間絶縁層１３２よりも下側にある領域は省略して記載している。
有機ＥＬ装置３００は、基板１３０の上に、例えばＴＦＴ１２２、ＴＦＴ１２３、ＴＦＴ１２２とＴＦＴ１２３と光反射性陽極１３３とを電気的に分離する層間絶縁層１３２、金属とＩＴＯを重ねた光反射性陽極１３３、隔壁１３４、発光層１３５、光透過性陰極１３６、バリア層１３７、反射防止層１３８、有機中間層１３９、反射防止層１４０、バリア層１４１、反射防止層１４２、接着層１４３、カラーフィルター１４４、保護ガラス１４５を備えている。
そして、走査線１０１、信号線１０２、共通給電線１０３、ＴＦＴ１２２、ＴＦＴ１２３、保持容量ｃａｐを備えている。
ここで、隔壁１３４により平面的に囲われ、光反射性陽極１３３と、発光層１３５と、光透過性陰極１３６を合わせた領域を発光素子としての有機ＥＬ素子１５０と呼ぶ。なお、図２（ｂ）では、層間絶縁層１３２とバリア層１３７の一部が含まれるよう記載しているが、これは作図上、境界と枠線が重なることで視認性が低下するため、ずらして記載したもので、層間絶縁層１３２とバリア層１３７は、有機ＥＬ素子１５０には含まれてはいない。
【００４２】
基板１３０の上には、複数のドット領域Ａがマトリックス状に配列されている。それぞれのドット領域Ａには光反射性陽極１３３が配置されており、その近傍には信号線１０２、共通給電線１０３、走査線１０１及び図示しない他の構成要素が配置されている。ドット領域Ａの平面形状は、図に示す矩形の他に、円形、角Ｒを有する長方形など任意の形状が適用可能である。また、ドット領域Ａはマトリックス状の配列以外の配置構成を備えていても良く、例えばデルタ配列、モザイク配列を用いることが可能である。
【００４３】
ドット領域Ａには、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるＴＦＴ１２２と、ＴＦＴ１２２を介して信号線１０２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるＴＦＴ１２３を備える。そして、ＴＦＴ１２３を介して共通給電線１０３に電気的に接続した場合に共通給電線１０３から駆動電流が流れ込む光反射性陽極１３３と、光反射性陽極１３３と光透過性陰極１３６との間に挟み込まれる発光層１３５とが設けられ、有機ＥＬ素子１５０が構成されている。
そして、有機ＥＬ素子１５０が備える発光層１３５は光反射性陽極１３３上に配置され、光反射性陽極１３３からは発光層１３５にホールが注入される。そして、光透過性陰極１３６からは発光層１３５に電子が注入される。このホールと電子により、発光層１３５は光透過性陰極１３６側（上側）に光を射出する。
【００４４】
光反射性陽極１３３は、反射層としてＡｌ層とＩＴＯ層との積層構造を用いることができる。また、Ａｌ層とＩＴＯ層との間に透明な絶縁層を挟んでいても良い。
【００４５】
発光層１３５には、白色の蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の低分子材料を用いることができ、例えばアントラセンやピレン、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム、ビススチリルアントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体を用いても良い。また、これら低分子材料に、ルブレン、キナクリドン誘導体、フェノキサゾン誘導体、ＤＣＭ、ＤＣＪ、ペリノン、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ジアザインダセン誘導体をドープして用いることができる。
【００４６】
また、高分子材料としては、赤色の画素群にはＰＰＶ−Ｒ、緑色の画素群にＰＰＶ−Ｇ、青色の画素群にはＰＰＶ−Ｂ、を用いることができる。なお、この名称は上記した高分子材料を示す仮称である。図３（ａ）はＰＰＶ−Ｒ、（ｂ）はＰＰＶ−Ｇ、（ｃ）はＰＰＶ−Ｂの構造式である。また、これらの層を重ねることでも白色光を射出することが可能となる。
【００４７】
さらに、高分子材料としては、例えば、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、（ポリ）フェニレン誘導体（ＰＰ）、（ポリ）パラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、（ポリ）ビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、（ポリ）チオフェン誘導体、（ポリ）メチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系を含む物質が好適に使用することができる。また、これらの高分子材料に、例えば、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンを含む低分子材料をドープして使用することができるが、これに限られる物ではない。
【００４８】
また、発光層１３５は多層構造を備えていても良く、例えば、正孔を注入・輸送するポリスチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸の混合物を用いた薄膜を備えることも好適である。
【００４９】
また、正孔注入・輸送層の形成材料としては、例えば、（ポリ）スチレンジオキシチオフェンの（ポリ）チオフェン誘導体と、（ポリ）スチレンスルホン酸の混合物を用いることができる。この場合正孔を発光層に注入する機能を有するとともに、正孔を輸送する機能を有する。
【００５０】
また、電子注入層として、透明材料であるＢＣＰ（ｂａｔｈｏｃｕｐｒｏｉｎｅ）にアルカリ金属を含有させた薄膜を備えることも好適である。
【００５１】
光透過性陰極１３６は、その他の例として、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）を含む材料を含んでいても良い。一例として、ＭｇＡｇ（ＭｇとＡｇを重量比でＭｇ：Ａｇ＝１０：１に混合した材料）を含む薄層の透光性電極が、電子注入障壁が低く、かつ耐腐蝕性を持つことから好適に用いられ、この場合には光透過性陰極１３６は電極と電子注入層を兼ねたものとなる。光透過性陰極１３６としてＭｇＡｇを用いる場合、厚さとしては、例えば１０ｎｍが電気抵抗、光透過率のバランスを考慮した場合、好ましい。この他にも、例えばＭｇＡｇＡｌ、ＬｉＡｌ、ＬｉＦＡｌ、Ｃａ単体を用いても同様の効果をもって光透過性陰極１３６を形成することが可能となる。また、これらの金属薄層と例えばＩＴＯや酸化錫、酸化亜鉛の透明導電材料を積層した層を光透過性陰極１３６として用いても良い。
【００５２】
ドット領域Ａでは、走査線１０１が駆動されてＴＦＴ１２２がオンなると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、この保持容量ｃａｐの状態に応じて、ＴＦＴ１２３の導通状態が決まる。また、ＴＦＴ１２３のチャネルを介して共通給電線１０３から光反射性陽極１３３に電流が流れ、さらに発光層１３５を通じて光透過性陰極１３６に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて、発光層１３５が発光する。
【００５３】
カラーフィルター１４４は、例えば光の３原色、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色を備えており、カラー表示を行わせている。なお、カラーフィルター１４４は、ドット領域ＡがＲＧＢ各色に対応して作り分けられており、かつ発光層１３５から射出される光の色純度が高い場合には省略可能である。ドット領域ＡをＲＧＢ各色に対応して作り分ける方法としては、蒸着用マスクを用い、ＲＧＢ各色に対応する領域毎に分離して形成する方法や、例えば溶媒中に材料を分散させた後、インクジェット法で吐出描画し、塗り分けて形成する方法を例示することができる。
【００５４】
光透過性陰極１３６とカラーフィルター１４４の間には、大気からの水分や酸素の浸入を防ぐことで、有機ＥＬ素子１５０の信頼性を確保すべく、封止層１５１が配置されている。
封止層１５１は、第１層としてのバリア層１３７、第３層としての反射防止層１３８、第２層としての、樹脂を用いた有機中間層１３９、第３層としての反射防止層１４０、第１層としてのバリア層１４１、第３層としての反射防止層１４２、第２層としての接着層１４３を備える。そして、封止層１５１の上には、カラーフィルター１４４、保護ガラス１４５をさらに備えている。
【００５５】
バリア層１３７、バリア層１４１としては、水分や酸素に対するバリア性を有する無機質のシリコン窒化酸化層（ＳｉＯＮ：酸素０％を含む）を用いることができる。バリア層１３７、バリア層１４１として典型的には、屈折率１．８のＳｉＯＮを用い、厚さは０．１μｍ以上０．５μｍ以下の範囲で構成することで、内部応力を抑えて膜質を良好に保ち、かつ水分や酸素に対するバリア性を確保することが可能となる。屈折率１．８のＳｉＯＮは、ＳｉＯ2に比べて硬く（脆い）ため、膜厚が厚い場合、内部応力により例えば亀裂が生じる場合がある。そこで、有機中間層１３９を介して応力緩和を行うことが好適となる。
【００５６】
また、有機中間層１３９として広く用いられているエポキシ樹脂により表面を平坦化することができ、応力緩和を効果的に行うことが可能となる。しかしながら、エポキシ樹脂は、水分によりエポキシ樹脂そのものが劣化する場合があり、水蒸気耐性や水蒸気阻止性は屈折率１．８のＳｉＯＮと比べ低い。そこで、バリア層１３７、バリア層１４１の構成材としてこのＳｉＯＮを用い、第２層としての有機中間層１３９、接着層１４３を用いることが好適となる。
【００５７】
ここで、バリア性をさらに向上させるために、より屈折率が高い（窒素比率が高い）ＳｉＯＮを用いることも可能である。この場合には後述する、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２の屈折率も高い値にすることで、より精密に界面での反射損失を低減することが可能となる。
【００５８】
また、バリア層１３７、バリア層１４１を構成する物質としては、ＳｉＯＮ（酸素０％を含む）に限定されることなく、例えば酸化タンタルや、酸化チタンを含んでいても良く、水分の浸入を効果的に防止することができる。
【００５９】
有機中間層１３９としては、例えばエポキシ樹脂を用いることができ、隔壁１３４により生ずる段差を埋めてその上に形成されるバリア層１４１に欠陥（例えば亀裂）を生じさせないよう、上部の形状を平坦化している。有機中間層１３９は、例えば５μｍの厚みを備えている。
【００６０】
また、接着層１４３としては、例えばエポキシ樹脂を用いることができ、カラーフィルター１４４と、保護ガラス１４５とを固定する機能を備えている。
【００６１】
ここで、有機中間層１３９や接着層１４３は、エポキシ樹脂に限定されるものではなく、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂を含んでいても良く、応力の緩和を効果的に行うことが可能となる。また、上記した樹脂の屈折率はエポキシ樹脂と同じく約１．５であるため、反射防止層１３８や、反射防止層１４０、反射防止層１４２の厚みや屈折率を変えずに切り替えて用いることが可能である。
【００６２】
そして、封止層１５１の上には、カラーフィルター１４４、保護ガラス１４５が配置されており、水分の浸入防止と、カラー表示が行えるよう構成されている。ここで、カラーフィルター１４４は典型的にはアクリル樹脂が用いられ、その屈折率は保護ガラス１４５と同様に、約１．５である。
【００６３】
そして、バリア層１３７と有機中間層１３９との間には反射防止層１３８が、有機中間層１３９とバリア層１４１との間には反射防止層１４０が、バリア層１４１と接着層１４３との間には反射防止層１４２が、配置されている。有機中間層１３９や、接着層１４３として用いられるエポキシ樹脂の屈折率は約１．５である。そして、保護ガラス１４５、カラーフィルター１４４の屈折率も上述したように約１．５である。
【００６４】
上記した構成を用いた場合、屈折率が大きく異なる界面は、バリア層１３７と有機中間層１３９との間、有機中間層１３９とバリア層１４１との間、バリア層１４１と接着層１４３との間であり、主に、これらの界面で反射が生じる。そして、上記した界面は、屈折率が約１．８と、約１．５の物質が接しており、屈折率が約０．３異なっている。そして、このような界面が複数（本実施形態では３つ）存在している。
【００６５】
そこで、バリア層１３７と有機中間層１３９との間に反射防止層１３８、有機中間層１３９とバリア層１４１との間に反射防止層１４０、バリア層１４１と接着層１４３との間に反射防止層１４２を挟むことによって、反射を抑制することが可能となる。この場合、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２の屈折率としては、１．５と１．８の間の値を取ることが好ましい。そのような物質としては、例えば、バリア層１３７やバリア層１４１を構成するＳｉＯＮよりも酸素リッチ（窒素０％を含む）なＳｉＯＮを用いることができる。また、バリア層１３７の窒素含有比を増やした場合には、ＳｉＯＮに代えて、酸化アルミニウムを用いることも好適である。
【００６６】
これら反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２は、例えば反応性スパッタリング法で成膜するＳｉＯＮを用いることができる。反応性スパッタリング法は、例えばＣＶＤ法のように基板を高温にすることなく成膜できるため、この場合好適な製造方法となる。
そして、以下に示す反応性スパッタリング装置を用いて、雰囲気ガスやターゲットを代えることで、バリア層１３７、バリア層１４１に好適な酸化タンタルや、酸化チタンも積層することが可能となる。
【００６７】
図４は、反応性スパッタリング装置の模式断面図である。以下、図４を用いて反応性スパッタリング装置２００の構成について説明する。反応性スパッタリング装置２００は、プラズマ生成室２０１、排気系２０２、磁場発生コイル２０３、マイクロ波導入窓２０４、プラズマ発生ガス供給部２０５、成長室２０６、珪素ターゲット２０７、ＲＦ−ＤＣ電源２０８、反応ガス供給部２１０、を含む。以下、反応性スパッタリング装置２００を用いた層形成方法について説明する。
【００６８】
プラズマ生成室２０１内には、マイクロ波導入窓２０４からマイクロ波が導入される。そして、プラズマ発生ガス供給部２０５からは例えばアルゴンのプラズマ発生ガスが供給される。そしてプラズマ発生ガスは、マイクロ波からエネルギーを受け、磁場発生コイル２０３が発生する磁場と共鳴することでプラズマ化する。
【００６９】
発生したプラズマは、ＲＦ−ＤＣ電源２０８から珪素ターゲット２０７に与えられたバイアスや磁場発生コイル２０３が発生する磁場強度勾配により、成長室２０６にドリフトして流れ込む。そして、珪素ターゲット２０７と接触することで珪素がスパッタされ、同時にプラズマからエネルギーを受けてイオン化、ラジカル化する。このプラズマは、光透過性陰極１３６が形成された基板１３０（図１参照）側にドリフトしていく。そして、プラズマが基板１３０に届く前に、反応ガス供給部２１０から、窒素や酸素が供給される。供給された窒素や酸素は、イオン化、ラジカル化し、珪素イオン、珪素ラジカルと反応して窒化酸化珪素（酸素または窒素の片方が０％の場合を含む）となる。そして、基板１３０上に位置する構造体の露出した面上に窒化酸化珪素（酸素または窒素の片方が０％の場合を含む）が形成される。窒化酸化珪素（酸素または窒素の片方が０％の場合を含む）を形成した後、プラズマはエネルギーを失いガス化する。そして、排気系２０２により成長室２０６から排気される。
【００７０】
ここで、成膜を行う際に供給される窒素流量を下げることで酸素リッチな層を得ることができ、屈折率を１．６５程度に制御することができる。これは、バリア層１３７、バリア層１４１に用いられたＳｉＯＮの屈折率１．８と、有機中間層１３９や、接着層１４３として用いられたエポキシ樹脂の屈折率１．５の積の平方根の値である。本実施形態では、有機ＥＬ素子１５０の発光強度が低い波長として、青に対応する波長（４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下：例えば４７０ｎｍ）で１／４波長となる７１ｎｍに設定しているが、これは、赤に対応する波長（６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下：例えば６８０ｎｍ）で１／４波長となる１０３ｎｍに合わせるよう構成しても良い。また、青と赤の双方に対応すべく、例えば、第３層としての反射防止層１３８の厚みを青に対応する波長に合わせ、第３層としての反射防止層１４０の厚みを赤に対応する波長に合わせるように構成しても良い。
【００７１】
また、スパッタ用マスクを用いて複数回の反応性スパッタリング法を用いることで、各色に対応した波長に対して厚みを制御しても良い。また、例えば３板式のプロジェクターへ適用する場合には、各色に合わせて１／４波長となるよう設定しても良い。
【００７２】
第３層としての反射防止層１３８、第３層としての反射防止層１４０、第３層としての反射防止層１４２の膜厚の最適値は、屈折率をｎ（例えば１．６５）、ｍを０以上の整数、λを波長とした場合、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）で表せる。
また、屈折率１．６５換算で１／２波長（光路長にして１波長）の自然数倍分の厚みを加えても良く（ｍ≧１に対応する）、厚い層を用いることで反射防止層に水分の浸入を抑える機能を持たせることが可能となる。
【００７３】
また、屈折率１．６５換算で１／４波長から多少ずれた厚さであっても差し支えはなく、例えば、ずれが１／８波長以下であれば、干渉により反射を打ち消しあう関係となるため、反射防止層としての十分な機能が得られる。また、反射防止層を入れることで、反射損失が減る場合には、上記した範囲を逸脱した厚みを用いても良い。
【００７４】
また、屈折率１．６５換算で１／２波長の、自然数倍分の厚み（ｍ≧１に対応する）を加えても良く、厚い層を用いることで反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２に水分の浸入を抑える機能を持たせることが可能となる。この場合、第３層としての反射防止層１３８、第３層としての反射防止層１４０、第３層としての反射防止層１４２の膜厚の好適値は、上記したλとｎ，ｍを用いて、以下の範囲で示される。
（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）−λ／８ｎ以上、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）＋λ／８ｎ以下が好適値となる。
図５（ａ）は、反射防止層（例えば反射防止層１３８）の厚さを１／４波長に合わせた場合の反射波の合成状況を示すグラフである。この場合、光の反射を物理的には０に抑えることができる（例えば光吸収により、若干の反射光は生じる）。
そして、図５（ｂ）は、反射防止層（例えば反射防止層１３８）の厚さが１／４波長よりも若干ずれた場合（この場合では、約１／１６波長分ずれた場合）の反射波の合成状況を示すグラフである。この場合においても、干渉による反射光の打ち消しが行われるため、反射光強度を減少させることが可能となる。
【００７５】
また、例えば反射防止層１３８は、バリア層１３７と、有機中間層１３９と直接接触していなくとも良く、例えばバッファー層を介して反射防止層１３８を介在させても良い。
【００７６】
また、可撓性を備える発光装置としては、バリア層として３層のＳｉＯＮを用いることも好適である。可撓性を確保するためには有機ＥＬ装置３００全体の厚さを抑える必要があり、基板１３０ 保護ガラス１４５による水分や酸素に対してのバリア性が低下する。そのため、低い透湿性を備えた３層バリアを用いることが好適となっている。
【００７７】
ここでは、発光装置として有機ＥＬ装置３００を用いた表示装置について説明したが、これは、例えば、無機ＥＬ装置を用いて表示装置を構成しても良い。無機ＥＬ装置に用いる無機ＥＬ素子としては、例えば赤色の発光を、蛍光顔料を用いて増強することで、白色（ＲＧＢ混合型）発光を行うものが知られている。ここで、カラーフィルターを併用することで、カラー表示に対応可能である。また、無機ＥＬ素子として、基本的な骨格にペロブスカイト型酸化物を用い、各色に対応した不純物を添加することでＲＧＢに対応した光源としても良い。
また、ＲＧＢに対応したＬＥＤをマトリックス状に用いることで、カラー表示を行う（この場合には、ＬＥＤを実装する都合上）大型の表示装置に対応させることも可能である。この場合、Ｒ（赤）にはＧａＡｌＡｓ（６６０ｎｍ）、Ｇ（緑）にはＩｎＧａＮやＡｌＧａＩｎＰ（５２０ｎｍ）、Ｂ（青）にはＩｎＧａＮ（４６０ｎｍ：Ｇ用とは組成比が異なる）を用いたＬＥＤ素子を用いることが好適となる。
また、発光装置としての応用として、一般の照明器具として、例えば電球や蛍光灯に代えて上記した発光装置を適用しても良い。特に、有機ＥＬ装置３００や、無機ＥＬ装置は、面で発光するため、ぎらつきを抑えた照明器具を得ることが可能となる。そして、上記したように封止することで、耐湿性が向上するため、例えば浴室や屋外のように、湿度が高い状態での照明として使用することが可能となる。ここで、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を用いる場合、隔壁１３４は必須ではなく省略可能であり、この場合有機ＥＬ装置３００は均一性高く発光するため、ぎらつきを抑えた照明装置が得られる。
【００７８】
そして、上記した発光装置は、例えば、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２を備えている。そのため、発光素子としての有機ＥＬ素子１５０や、発光素子としての無機ＥＬ素子、ＬＥＤ素子からの射出光は、封止層１５１内の界面で生じる反射損失が抑制される。そのため、高い効率で発光させることが可能となる。
【００７９】
（第２の実施形態：電気光学装置）
第１の実施形態では、直接画像情報を直接表示する発光装置について説明したが、これは別の分野に対しても応用可能である。図６は、表示パネルとしての液晶装置と、発光装置としての有機ＥＬ装置を備えた電気光学装置の斜視図である。ここでは、有機ＥＬ装置３００を基板２２１に搭載し、液晶装置２３０のバックライト２２２として用いた電気光学装置２４０について説明を続ける。なお、本実施形態の説明の主眼とは外れている構成（例えばカラーフィルター）については図示、説明を省略する。
【００８０】
ここでは、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を基板２２１と重ねてタイル状に貼り合わせたものを例示しているが、これは有機ＥＬ装置３００を大型化し、貼り合わせで生じる継ぎ目が無い状態で液晶装置２３０のバックライト２２２として用いることも好適である。また、有機ＥＬ装置３００が占める面積を小さくし、例えば拡散板を用いて発光装置を構成しても良い。本実施形態では、タイル状の有機ＥＬ装置３００を基板２２１に貼り付けた場合について説明を続ける。この場合、一つの有機ＥＬ装置３００は、複数の液晶画素２２４に光を射出することとなる。
【００８１】
基板２２１に貼り付けられた有機ＥＬ装置３００や、無機ＥＬ装置をバックライトに用いる場合、ＣＣＦＬ（冷陰極蛍光ランプ）と比べ、薄型化が可能となる。そのため、厚みに対する仕様が厳しい携帯電話や、モバイルパソコンに好適に用いることができる。また、発光装置としてのＬＥＤ装置は、有機ＥＬ装置３００と同様に、分光特性が急峻であり単色性に優れることから、カラーフィルター（図示せず）によるロスが少なく、高い効率を持つ光源として用いることが可能となる。
また、例えばマイクロミラー型表示装置や、反射型液晶装置に対しても、同様に対応することができる。この場合、光は有機ＥＬ装置３００の光を射出する領域から射出された光が、また有機ＥＬ装置３００側に帰ってくることとなる。
【００８２】
また、本実施形態で用いた電気光学装置が備える発光装置は、例えば、反射防止層１３８、反射防止層１４０、反射防止層１４２を備えている（図２（ｂ）参照）。そのため、発光素子としての有機ＥＬ素子１５０や、発光素子としての無機ＥＬ素子、ＬＥＤ素子からの射出光は、積層構造（封止層１５１内）での界面での反射が抑制されることとなる。そのため、高い効率で発光させることができ、より明るい電気光学装置を得ることが可能となる。
【００８３】
（第３の実施形態：電子機器）
以下、本実施形態で説明した発光装置や、電気光学装置を備える電子機器について説明する。図７（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態にかかる電子機器の模式図である。以下、図７を参照して、上述した発光装置を含む電子機器について説明する。
【００８４】
図７（ａ）に、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機２６０は、複数の操作ボタン２６１及びスクロールボタン２６２、ならびに有機ＥＬ装置３００を含む。スクロールボタン２６２を操作することによって、発光装置としての有機ＥＬ装置３００に表示される画面がスクロールされる。
携帯電話機２６０は、その性質上、消費電力が重視される。この有機ＥＬ装置３００は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、携帯電話機の通話時間を延ばす（バッテリーの消耗が抑えられる）ことが可能となる。
【００８５】
そして、図７（ｂ）に、電気光学装置を含むモバイル型のパーソナルコンピューターの構成を示す。パーソナルコンピューター２７０は、表示用の電気光学装置２２０を備えている。そして、電気光学装置２２０は、有機ＥＬ装置３００をバックライトとした液晶装置３１０を備えている。そして、電源スイッチ２７１及びキーボード２７２が設けられた本体部２７３を備える。
モバイル型のパーソナルコンピューター２７０は、その性質上、バッテリー駆動される場合が多い。そのため、消費電力の低減が大きな課題となる。この電気光学装置２２０は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、バッテリー駆動が行える時間を延ばすことが可能となる。
【００８６】
そして、図７（ｃ）に、有機ＥＬ装置を照明装置に用いた場合の構成を示す。照明装置２８０は、電源スイッチ２８１、台部２８２、脚部２８３、有機ＥＬ装置３００を備えている。電源スイッチ２８１は有機ＥＬ装置３００への電力供給／遮断を切り替える機能を備えている。そして、台部２８２、脚部２８３は有機ＥＬ装置３００を支えている。有機ＥＬ装置３００は、面発光型デバイスであるため、ぎらつきを抑えた照明装置２８０を提供することが可能となる。また、照明装置２８０に用いられている有機ＥＬ装置３００は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、消費電力を抑えることが可能となる。加えて、面発光型でかつ消費電力を抑えられることから、ジュール熱の総量が下がると共に、熱が広い領域に渡って発生するため効率的に放熱することが可能となる。加えて、有機ＥＬ装置３００の局部的な温度上昇が抑えられることから、有機ＥＬ装置３００の寿命を延ばすことが可能となる。
【００８７】
以下に、本発明の効果についてまとめる。ここでは、主に、バリア層１３７、有機中間層１３９、反射防止層１３８を用いて説明しているが、これは一例を示しているものであり、他の多層構造を用いている場合、例えば別のバリア層や、別の有機中間層１３９（必ずしも有機物に限られることは無く、別のバリア層の応力緩和を行うものや、光学的に密着させる機能を備える物質を用いることも好適である）を用いた場合にも対応可能である。
【００８８】
バリア層１３７、バリア層１４１（図２（ｂ）参照）を構成する物質として、ＳｉＯＮ（酸素０％を含む）酸化タンタルや、酸化チタンを用いることで、水分の浸入を効果的に防止することができる。
【００８９】
有機中間層１３９や接着層１４３（図２（ｂ）参照）に、エポキシ樹脂やアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂を用いることで、応力の緩和を効果的に行える。また、上記した樹脂の屈折率は約１．５であるため、反射防止層１３８や、反射防止層１４０、反射防止層１４２の厚みや屈折率を変えずに切り替えて用いることができる。
【００９０】
バリア層１３７、バリア層１４１（図２（ｂ）参照）のように、バリア層が複数ある場合には、屈折率が大きく異なる界面が複数（この場合には３層）発生し、反射損失が大きくなるが、バリア層１３７と例えば有機中間層１３９との間に反射防止層１３８を設けることで反射損失を低減することが可能となる。特に、反射防止層１３８の屈折率を、バリア層１３７の屈折率と有機中間層１３９の屈折率の両者の屈折率の積の平方根とし、反射防止層１３８の厚さを光路長として波長の１／４にすることで、理論的には反射損失を０に抑えることが可能となる。
【００９１】
反応性スパッタリング法を用いてＳｉＯＮ層を形成することで、例えばＣＶＤ法のように基板を高温にすることなく成膜できるため、有機ＥＬ素子１５０（図２（ｂ）参照：無機ＥＬやＬＥＤを含む）に熱ストレスを掛けずに製造することが可能となる。
【００９２】
例えば反射防止層１３８（図２（ｂ）参照）の厚みを、反射防止層１３８の屈折率を考慮して青に対応する波長（４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下：例えば４７０ｎｍ）で１／４波長となる７１ｎｍや、赤に対応する波長（６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下：例えば６８０ｎｍ）で１／４波長となる１０３ｎｍに合わせることで、相対的に輝度が低い波長域での反射損失が抑えられるため、色バランスに優れた状態とすることが可能となる。
【００９３】
色毎に光を分光して扱う、プロジェクターへ適用する場合には、例えば、反射防止層１３８の屈折率を考慮して、各色に対して１／４波長となるよう設定することで、より反射損失を低減することが可能となる。
【００９４】
発光装置への応用として、例えば電球や蛍光灯に代えて上記した発光装置を適用しても良い。特に、有機ＥＬ装置３００（図２（ｂ）参照）や、無機ＥＬ装置は、面で発光するため、ぎらつきを抑えた照明器具を得ることが可能となる。そして、上記したように封止することで、耐湿性が向上するため、例えば浴室や屋外のように、湿度が高い状態での照明としても高い発光効率を備える発光装置としての有機ＥＬ装置３００や、無機ＥＬ装置、ＬＥＤ装置を使用することが可能となる。そして、発光装置としての有機ＥＬ装置３００を用いる場合、隔壁１３４は必須ではなく省略可能であり、この場合有機ＥＬ装置３００は平面的に均一性高く発光するため、ぎらつきを抑えた照明装置が得られる。
【００９５】
モバイル型のパーソナルコンピューター２７０（図７（ｂ）参照）は、その性質上、バッテリー駆動される場合が多い。そのため、消費電力の低減が大きな課題となる。この電気光学装置２２０は、封止層１５１（図２参照）内の界面で生じる反射損失が抑制されているため、高い効率で発光させることが可能となる。そのため、バッテリー駆動が行える時間を延ばすことが可能となる。
【００９６】
以下、本発明にかかる技術的な思想について説明する。
上記適用例にかかる発光装置であって、前記第３層を複数備え、前記一部の波長範囲は、前記第３層の一層以上の層に対して４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下であり、前記第３層の、別の一層以上の層に対しての波長範囲は、６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下であることを特徴とする発光装置。
上記した適用例によれば、第３層が複数層ある場合、発光素子の発光効率が低い領域として、第３層を赤用と青用に振り分けることで、輝度バランスを調整することが可能となる。そのため、さらに高い輝度バランスを備えた発光装置を提供することが可能となる。
【符号の説明】
【００９７】
１０１…走査線、１０２…信号線、１０３…共通給電線、１２２…ＴＦＴ、１２３…ＴＦＴ、１３０…基板、１３２…層間絶縁層、１３３…光反射性陽極、１３４…隔壁、１３５…発光層、１３６…光透過性陰極、１３７…バリア層、１３８…反射防止層、１３９…有機中間層、１４０…反射防止層、１４１…バリア層、１４２…反射防止層、１４３…接着層、１４４…カラーフィルター、１４５…保護ガラス、１５０…有機ＥＬ素子、１５１…封止層、２００…反応性スパッタリング装置、２０１…プラズマ生成室、２０２…排気系、２０３…磁場発生コイル、２０４…マイクロ波導入窓、２０５…プラズマ発生ガス供給部、２０６…成長室、２０７…珪素ターゲット、２０８…ＲＦ−ＤＣ電源、２１０…反応ガス供給部、２２０…電気光学装置、２２１…基板、２２２…バックライト、２２４…複数の液晶画素、２３０…液晶装置、２４０…電気光学装置、２６０…携帯電話機、２６１…複数の操作ボタン、２６２…スクロールボタン、２７０…パーソナルコンピューター、２７１…電源スイッチ、２７２…キーボード、２７３…本体部、２８０…照明装置、２８１…電源スイッチ、２８２…台部、２８３…脚部、３００…有機ＥＬ装置、３１０…液晶装置。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、
前記発光素子の射出光が通過する第１層と第２層と、
前記第１層と前記第２層との間に位置し、
前記発光素子からの前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、
前記第１層の屈折率と、
前記第２層の屈折率と、
の間の屈折率を有する第３層を備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置であって、
前記第３層は、前記第１層と前記第２層と接するように挟まれていることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の発光装置であって、前記第３層の屈折率は、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との積の平方根の値をとることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとし、ｍを０以上の整数とした場合、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）−λ／８ｎ以上、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）＋λ／８ｎ以下の厚さを備えていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとした場合、ｍを０以上の整数として（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）の厚さを備えていることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記一部の波長範囲として、４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記一部の波長範囲として、６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第１層は無機層であり、前記第２層は樹脂層であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第２層は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂のうち少のなくとも１つを含む樹脂であることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第１層は、珪素窒化物（ＳｉＯＮ（酸素０％を含む））、酸化タンタル、酸化チタンのうち少なくとも一つを含むことを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第１層は窒化酸化珪素（酸素０％を含む）であり、前記第２層はエポキシ樹脂であり、前記第３層は前記第１層よりも窒素比率が小さい（窒素０％を含む）窒化酸化珪素であることを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の発光装置と、
表示パネルと、を備え、
前記発光装置は、射出面から光を射出し、
前記表示パネルは、前記表示パネルの第１面から入射された光を前記第１面での平面視で強度変調して出力し、
前記発光装置の前記射出面と、前記表示パネルの前記第１面とが互いに向い合うよう、前記表示パネルと前記発光装置とを重ねて配置したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の発光装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
請求項１２に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
発光素子と、
前記発光素子の射出光が通過する第１層と第２層と、
前記第１層と前記第２層との間に位置し、
前記発光素子からの前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、
前記第１層の屈折率と、
前記第２層の屈折率と、
の間の屈折率を有する第３層を備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置であって、
前記第３層は、前記第１層と前記第２層と接するように挟まれていることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の発光装置であって、前記第３層の屈折率は、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との積の平方根の値をとることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとし、ｍを０以上の整数とした場合、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）−λ／８ｎ以上、（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）＋λ／８ｎ以下の厚さを備えていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の発光装置であって、前記第３層の厚さは、前記射出光の少なくとも一部の波長に対して、波長をλとし、前記第３層の屈折率をｎとした場合、ｍを０以上の整数として（２ｍ＋１）×（λ／４ｎ）の厚さを備えていることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記一部の波長範囲として、４５０ｎｍ以上４８５ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記一部の波長範囲として、６２０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲にある光を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第１層は無機層であり、前記第２層は樹脂層であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第２層は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂のうち少のなくとも１つを含む樹脂であることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第１層は、珪素窒化物（ＳｉＯＮ（酸素０％を含む））、酸化タンタル、酸化チタンのうち少なくとも一つを含むことを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記第１層は窒化酸化珪素（酸素０％を含む）であり、前記第２層はエポキシ樹脂であり、前記第３層は前記第１層よりも窒素比率が小さい（窒素０％を含む）窒化酸化珪素であることを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の発光装置と、
表示パネルと、を備え、
前記発光装置は、射出面から光を射出し、
前記表示パネルは、前記表示パネルの第１面から入射された光を前記第１面での平面視で強度変調して出力し、
前記発光装置の前記射出面と、前記表示パネルの前記第１面とが互いに向い合うよう、前記表示パネルと前記発光装置とを重ねて配置したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の発光装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
請求項１２に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１２−４０６３（Ｐ２０１２−４０６３Ａ）
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１４０２３９（Ｐ２０１０−１４０２３９）
【出願日】平成２２年６月２１日（２０１０．６．２１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月２１日（２０１０．６．２１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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