磁気的ホットスポットの形成の防止方法、垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法、ならびに垂直磁気記録ヘッド
【課題】シールド型の磁気記録ヘッドにおける遠方トラックの意図しない情報消去の問題を解決する。
【解決手段】垂直磁気記録ヘッドを製造するために、物理的な界面を有しない第１および第２トレーリングシールドの形成プロセス（およびそれにより生じる構造）を説明する。フォトレジストモールドを用いて上部ヨークを鍍金形成すると共に、そのフォトレジストモールドを剥離したのち、犠牲層を形成する。
【解決手段】垂直磁気記録ヘッドを製造するために、物理的な界面を有しない第１および第２トレーリングシールドの形成プロセス（およびそれにより生じる構造）を説明する。フォトレジストモールドを用いて上部ヨークを鍍金形成すると共に、そのフォトレジストモールドを剥離したのち、犠牲層を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録ヘッドの一般的分野に関し、特に、第１および第２トレーリングシールドの形成に関する。
【背景技術】
【０００２】
垂直磁気記録（ＰＭＲ：perpendicular magnetic recording）において、オントラックの磁界勾配を増大させることにより、高線形密度、高トラック密度におけるフリンジ磁界の減少、および良好なＳＮ（signal-noise）比を実現するために、サイドシールドおよびリーディングシールドと共にトレーリングシールドが用いられている。
【０００３】
図１は、従来の磁気記録ヘッドの構成を表している。図１に示したように、第１トレーリングシールド１２と第２トレーリングシールド１３との間に界面１１が存在している。この他、図１には、リーディングシールド１４、主磁極１５、上部ヨーク１６および磁界コイル１７が示されている。
【０００４】
図２ａ〜図２ｃは、３種類のシールドの構成を表しており、いずれも図１に示したエアベアリング面（ＡＢＳ：air bearing surface ）を見た図である。３つの図面において、対角線上に位置する２つの矢印１の間には物理的界面（図１に示した界面１１など）が存在しており、破線は異なる機能を有する２つの領域の境界（例えば、図２ａに示したサイドシールド２１と第１トレーリングシールド１３との間）を表している。３つの図面では、物理的界面の存在に注目すべきである。具体的な図面はないが、図２ａ〜図２ｃに示した構成と類似する構成を有しているがサイドシールドを備えていない他の磁気記録ヘッドも用いられる場合がある。
【０００５】
先行技術調査の結果、以下で説明する興味深い先行技術が発見された。Guthrie 等は、唯一のトレーリングシールドを示している（例えば、特許文献１参照。）。ただし、第１および第２トレーリングシールドを教示する先行技術は発見されず、トレーリングシールドの形成工程において犠牲材料を使用する先行技術も発見されなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第７４７７４８１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
残念ながら、図１および図２に示した構成を有するシールドを用いた場合には、そのシールドの形状および配置に大きく依存して、意図しない情報の消去がしばしば生じてしまう。そこで、本発明では、意図しない情報消去の原因を解明すると共に、その問題を如何にして克服したかについて説明する。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、シールド型の磁気記録ヘッドにおける遠方トラックの意図しない情報消去の問題を解決することである。
【０００９】
また、本発明の他の目的は、シールド間の界面における磁壁衝突を排除して、遠方トラックにおける情報消去の原因であるホットスポットの形成を防止することである。
【００１０】
また、本発明のさらに他の目的は、継ぎ目がない単一構造体であるトレーリングシールドを提供して、複数のシールド間における界面を排除することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の磁気的ホットスポットの形成の防止方法は、磁気的ホットスポットに起因する意図しない情報の消去を防止するために、垂直磁気記録ヘッドの第１および第２トレーリングシールドにおける磁気的ホットスポットの形成を防止する方法であって、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないことにより、磁気的ホットスポットの形成を防止するものである。
【００１２】
本発明の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法は、磁界コイルを備えた垂直磁気記録ヘッドにおける、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成する方法であって、水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極を形成し、下側部と傾斜部と上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層を形成し、記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない主磁極の全部分とに隣接されたシード層を形成し、フォトレジストモールドを用いてシード層の上に上部ヨークを電気鍍金により形成したのち、そのフォトレジストモールドを除去し、シード層の上に犠牲層を形成したのち、上部ヨークから第１距離における上側部の上方の位置まで延在するように犠牲層をパターニングすることにより、その犠牲層により第１トレーリングシールドの寸法および形状を規定し、犠牲層により被覆されていないシード層を除去し、少なくとも犠牲層と同じ厚さを有する第１絶縁層を形成したのち、上部ヨークおよび犠牲層の上に存在しなくなるまで第１絶縁層を平坦化し、上部ヨークおよび第１絶縁層に隣接された第２絶縁層を形成したのち、その第２絶縁層の一部を除去することにより、犠牲層から第２距離の範囲において第１絶縁層の上に傾斜端縁を形成し、上部ヨークの上方における第２絶縁層の上に磁界コイルの一部を形成したのち、シード層により記録ギャップ層を破損しないように保護しながら犠牲層を除去し、磁界コイルの一部および第２絶縁層を被覆する第３絶縁層を形成し、レンチキュラー形状となるように第３絶縁層を軟化し、レンチキュラー形状を保ちながら第３絶縁層を硬化し、シード層と第１、第２および第３絶縁層とに隣接された磁性層を形成することにより、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成するものである。
【００１３】
本発明の垂直磁気記録ヘッドは、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを備えた垂直磁気記録ヘッドであって、水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極と、下側部と傾斜部と上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層と、記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない主磁極の全部分とに隣接されたシード層と、シード層の上において、記録ギャップ層から第１の距離に位置すると共に第１厚さを有する上部ヨークと、第１厚さと同じ厚さを有すると共に、上部ヨークに隣接する第１垂直側壁および記録ギャップ層に隣接する第２垂直側壁を有し、上側部の一部と記録ギャップ層の一部とに隣接された第１絶縁層と、上部ヨークおよび第１絶縁層に隣接されると共に、第２垂直側壁から第２距離の範囲における第１絶縁層の上に傾斜端縁を有する第２絶縁層と、上部ヨークの上方における第２絶縁層の上の磁界コイルの一部と、磁界コイルの一部を被覆する第３レンチキュラー絶縁層と、シード層と傾斜端縁と第１および第２絶縁層と第３レンチキュラー絶縁層とを被覆する単一の磁性層とを備えたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の磁気的ホットスポットの形成の防止方法によれば、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないようしたので、シールド間の界面における磁壁衝突が排除される。よって、遠方トラックにおける情報消去の原因であるホットスポットの形成を防止することができる。
【００１５】
本発明の垂直磁気記録ヘッドまたはそれにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法によれば、単一の磁性層を形成することにより、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成しているので、継ぎ目がない単一構造体であるトレーリングシールドを提供して、複数のシールド間における界面を排除することができる。また、シールド型の磁気記録ヘッドに関する遠方トラックの意図しない情報消去の問題を解決することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来の垂直磁気記録ヘッドの構成を表す図である。
【図２ａ】３種類のシールドの構成のうちの第１構成をＡＢＳから見た図である。
【図２ｂ】３種類のシールドの構成のうちの第２構成をＡＢＳから見た図である。
【図２ｃ】３種類のシールドの構成のうちの第３構成をＡＢＳから見た図である。
【図３】垂直磁気記録ヘッドの製造方法に関する開始時の初期構造を説明する図である。
【図４】第１および第２トレーリングシールドの形状および寸法を規定する犠牲層の導入を説明する図である。
【図５】主磁極からシールドを分離する絶縁層の形成を説明する図である。
【図６】犠牲層の除去および磁界コイルの形成を説明する図である。
【図７】犠牲層の除去および磁界コイルの形成を説明する他の図である。
【図８】コイルハウジングの形成および単一工程における第１および第２トレーリングシールドの形成を説明する図である。
【図９】垂直磁気記録ヘッドの製造方法に関する最終構造を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１８】
本発明の一実施形態における垂直磁気記録ヘッドの製造方法は、磁気的ホットスポットに起因する意図しない情報の消去を防止するために、垂直磁気記録ヘッドの第１および第２トレーリングシールドにおける磁気的ホットスポットの形成を防止することを実現可能な方法である。より具体的には、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないことにより、磁気的ホットスポットの形成を防止している。
【００１９】
この垂直磁気記録ヘッドの製造方法は、図３に示したように、上面を有する主磁極１５の形成から開始する。この主磁極１５の上面は、水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなり、その上側部および下側部は傾斜部に連結されている。なお、傾斜部のおおよそ中心を通る破線は、ＡＢＳとなる位置を示している。
【００２０】
続いて、主磁極１５における下側部と傾斜部と上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層３１を形成したのち、記録ギャップ層３１とその記録ギャップ層３１により被覆されていない主磁極１５の全部分とに隣接されたシード層３２を形成する。このシード層３２は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅおよびＣｏＮｉＦｅからなる群から選択される磁性合金である。
【００２１】
続いて、一般的なフォトリソグラフィ技術を用いてシード層３２の上にフォトレジストモールド３３を形成したのち、そのフォトレジストモールド３３を用いてシード層３２の上に上部ヨーク１６を電気鍍金により形成する。こののち、一般的な方法を用いてフォトレジストモールド３３を剥離除去する。
【００２２】
続いて、シード層３２の上に犠牲層４３を形成したのち、図４に示したように、上部ヨーク１６から第１距離における上側部の上方の位置まで延在するように犠牲層４３をパターニングする。この場合には、犠牲層４３が傾斜部を約２μｍ越えて終端すると共に、記録ギャップ層３１が上部ヨーク１６と犠牲層４３とを分離するスペース４１の中間まで延在するようにする。上部ヨーク１６から犠牲層４３までの第１距離は、０．５μｍよりも大きいと共に３μｍ以下の範囲、または０．５μｍよりも大きいと共に３μｍよりも小さい範囲である。この犠牲層４３により、後工程において形成される第１トレーリングシールドの寸法および形状が規定される。
【００２３】
犠牲層４３は、フォトレジストでもよいし、後工程において選択的に除去可能であれば他の材料でもよい。このような他の材料は、ＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、ＳｉＮ、ＳｉＯ2 およびＣｕを含むが、これらに限定されない。犠牲層４３がフォトレジストである場合には、酸素ベースの反応性イオンエッチング（ＲＩＥ：reactive ion etching）法を用いて犠牲層４３をパターニングする。一方、犠牲層４３がＮｉＦｅ等である場合には、ウェット化学エッチング法または反応性イオンエッチング法を用いて犠牲層４３をパターニングする。犠牲層４３をパターニングする場合には、その犠牲層４３の一部が除去されると共に、イオンビームエッチング法を用いて犠牲層４３および上部ヨーク１６により被覆されていないシード層３２の一部（露光部分）を除去する。
【００２４】
上記したように、犠牲層４３としては、後工程において除去するためにダミーのフォトレジストを用いるが、他の材料、例えばＡｌ2 Ｏ3 および磁性金属に対して選択的に除去されるＳｉＮなどを用いてもよい。この場合における犠牲層４３のパターニング方法は、フォトレジストである場合とは異なり、例えばＲＩＥ法である。この他、犠牲層４３は金属材料でもよく、その場合における犠牲層４３のパターニング方法はウェット化学エッチング法である。
【００２５】
続いて、図５に示したように、スペース４１に、少なくとも犠牲層４３と同じ厚さ、例えば犠牲層４３の厚さを上回る初期厚さを有する第１絶縁層５１を形成する。この第１絶縁層５１は、上部ヨーク１６に隣接する第１垂直側壁および犠牲層４３に隣接する第２垂直側壁を有する。続いて、上部ヨーク１６および犠牲層４３の上に第１絶縁層５１が存在しなくなるまで、その第１絶縁層５１を含む全体を平坦化する。第１絶縁層５１は、アルミナを含むが、これに限定されず、その厚さは、０．３μｍよりも大きいと共に１．５μｍよりも小さい範囲である。
【００２６】
続いて、図６に示したように、上部ヨーク１６および第１絶縁層５１に隣接された第２絶縁層６１を形成する。第２絶縁層６１は、アルミナを含むが、これに限定されず、その厚さは、０．０５μｍよりも大きいと共に０．５μｍよりも小さい範囲である。
【００２７】
続いて、イオンビームミリング法またはリフトオフプロセスを用いて、第２絶縁層６１の一部を除去することにより、犠牲層４３（第２垂直側壁）から第２距離の範囲において第１絶縁層５１の上に傾斜端縁（ベベルエッジ）６２を形成する。犠牲層４３から傾斜端縁６２までの第２距離は、０．２μｍより大きいと共に２μｍより小さい範囲である。
【００２８】
続いて、上部ヨーク１６の上方における第２絶縁層６１の上に、磁界コイル１７の一部を形成したのち、図７に示したように、シード層３２により記録ギャップ層３１を破損しないように保護しながら犠牲層４３を除去する。
【００２９】
続いて、図８に示したように、磁界コイル１７の一部および第２絶縁層６１を被覆するように第３絶縁層８２を形成する。続いて、レンチキュラー形状（レンズ状）となるように第３絶縁層８２を十分に軟化させたのち、そのレンチキュラー形状を保ちながら第３絶縁層８２を硬化させる。
【００３０】
この場合には、第３絶縁層８２の形成材料の融点（または軟化点）が約２００℃よりも低い場合には、レンチキュラー形状となるように軟化する（または化学的手段により軟化される）まで第３絶縁層８２を加熱する。また、必要に応じて冷却方法または他の方法を用いて、第３絶縁層段８２を硬化させる。
【００３１】
最後に、シード層３２、第１絶縁層５１、第２絶縁層６１および第３絶縁層８２に隣接された磁性層８１を形成する。これにより、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドが形成されるため、図９に示した垂直磁気記録ヘッドが完成する。図９に示した垂直磁気記録ヘッドは、第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面が存在しないことを除き、図１に示した垂直磁気記録ヘッドと同様の構成を有している。
【００３２】
なお、第１および第２トレーリングシールドである磁性層８１の他に、追加シールドとしてリーディングシールドと２つのサイドシールド（いずれも図示せず）とを追加してもよい。この場合には、第１および第２トレーリングシールドとリーディングシールドと２つのサイドシールドとを継ぎ目がない単一の構造体となるように形成することが好ましい。
【００３３】
この垂直磁気記録ヘッドの製造方法では、上部ヨーク１６を電気鍍金により形成すると共にフォトレジストモールド３３を除去したのち、直ちに犠牲層４３を形成している。この犠牲層４３により、磁性層８１の一部（第１トレーリングシールド）の形状および寸法が規定されるため、その犠牲層４３を除去したのち、単一工程において磁性層８１（第１および第２トレーリングシールド）を容易に形成できる。
【００３４】
この場合には、シード層３２が上部ヨーク１６を電気鍍金により形成可能とする初期の目的を果たしたのち、イオンミリング法またはリフトオフ法を用いてシード層３２の一部を除去している。よって、犠牲層４３を除去する際に、記録ギャップ層３１に破損などのダメージが及ばないように、その記録ギャップ層３１をシード層３２の残存部分により保護することができる。
【００３５】
この製造方法では、リーディングシールドおよびサイドシールド、サイドシールドおよび第１トレーリングシールド、またはリーディングシールド、サイドシールドおよび第１トレーリングシールドを単一工程において形成してもよい。しかしながら、従来のいずれの製造方法においても、共通して、第１および第２トレーリングシールドを分離形成していた。具体的には、第１トレーリングシールドを形成してから平坦化したのち、その第１トレーリングシールドの上に第２トレーリングシールドを形成していた。このため、必然的に、第１および第２のトレーリングシールドの間に物理的な界面が形成されてしまう。
【００３６】
シールド間の物理的界面と、そのシールドに起因する意図しない情報消去との関係については、ＡＢＳにおける２つの磁気記録ヘッドに関する磁気力顕微鏡（ＭＦＭ：magnet force microscope ）の観察画像を用いて既に研究されている。２つの磁気記録ヘッドは、サイドシールドだけでなく、第１および第２トレーリングシールドを備えている。２つの磁気記録ヘッドにおいて、主磁極の近くで配向された磁壁は、第１および第２トレーリングシールドの間の界面において、それらが衝突するまで水平な磁壁を生じさせる。
【００３７】
さらなる研究により、遠方トラックにおける意図しない情報消去の原因が磁壁衝突であることを解明した。このため、遠方トラックの情報消去を誘発する上記原因を排除できれば、シールド間に生じる磁壁衝突の可能性も除去できることが明らかになった。これを実現する最良の方法は、第１および第２トレーリングシールドの間の物理的不連続により生じる水平な磁壁の形成を回避することである。
【００３８】
上記したように、トレーリングシールドを継ぎ目がない単一の構造体として、第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面が形成する可能性を排除することは、本発明において、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成することにより達成される。
【００３９】
なお、追加シールドを用いる場合には、リーディングシールドとサイドシールドとの界面、およびサイドシールドと第１トレーリングシールドとの界面を排除するために、それらを単一工程において継ぎ目がない単一の構造体となるように形成することが好ましい。もちろん、全てのシールド、すなわちリーディングシールド、第１トレーリングおよび第２トレーリングを単一工程において継ぎ目がない単一の構造体となるように形成してもよい。
【符号の説明】
【００４０】
１５…主磁極、１６…上部ヨーク、１７…磁界コイル、３１…記録ギャップ層、３２…シード層、３３…フォトレジストモールド、４３…犠牲層、５１…第１絶縁層、６１…第２絶縁層、６２…ベベルエッジ、８１…磁性層、８２…第３絶縁層。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録ヘッドの一般的分野に関し、特に、第１および第２トレーリングシールドの形成に関する。
【背景技術】
【０００２】
垂直磁気記録（ＰＭＲ：perpendicular magnetic recording）において、オントラックの磁界勾配を増大させることにより、高線形密度、高トラック密度におけるフリンジ磁界の減少、および良好なＳＮ（signal-noise）比を実現するために、サイドシールドおよびリーディングシールドと共にトレーリングシールドが用いられている。
【０００３】
図１は、従来の磁気記録ヘッドの構成を表している。図１に示したように、第１トレーリングシールド１２と第２トレーリングシールド１３との間に界面１１が存在している。この他、図１には、リーディングシールド１４、主磁極１５、上部ヨーク１６および磁界コイル１７が示されている。
【０００４】
図２ａ〜図２ｃは、３種類のシールドの構成を表しており、いずれも図１に示したエアベアリング面（ＡＢＳ：air bearing surface ）を見た図である。３つの図面において、対角線上に位置する２つの矢印１の間には物理的界面（図１に示した界面１１など）が存在しており、破線は異なる機能を有する２つの領域の境界（例えば、図２ａに示したサイドシールド２１と第１トレーリングシールド１３との間）を表している。３つの図面では、物理的界面の存在に注目すべきである。具体的な図面はないが、図２ａ〜図２ｃに示した構成と類似する構成を有しているがサイドシールドを備えていない他の磁気記録ヘッドも用いられる場合がある。
【０００５】
先行技術調査の結果、以下で説明する興味深い先行技術が発見された。Guthrie 等は、唯一のトレーリングシールドを示している（例えば、特許文献１参照。）。ただし、第１および第２トレーリングシールドを教示する先行技術は発見されず、トレーリングシールドの形成工程において犠牲材料を使用する先行技術も発見されなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第７４７７４８１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
残念ながら、図１および図２に示した構成を有するシールドを用いた場合には、そのシールドの形状および配置に大きく依存して、意図しない情報の消去がしばしば生じてしまう。そこで、本発明では、意図しない情報消去の原因を解明すると共に、その問題を如何にして克服したかについて説明する。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、シールド型の磁気記録ヘッドにおける遠方トラックの意図しない情報消去の問題を解決することである。
【０００９】
また、本発明の他の目的は、シールド間の界面における磁壁衝突を排除して、遠方トラックにおける情報消去の原因であるホットスポットの形成を防止することである。
【００１０】
また、本発明のさらに他の目的は、継ぎ目がない単一構造体であるトレーリングシールドを提供して、複数のシールド間における界面を排除することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の磁気的ホットスポットの形成の防止方法は、磁気的ホットスポットに起因する意図しない情報の消去を防止するために、垂直磁気記録ヘッドの第１および第２トレーリングシールドにおける磁気的ホットスポットの形成を防止する方法であって、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないことにより、磁気的ホットスポットの形成を防止するものである。
【００１２】
本発明の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法は、磁界コイルを備えた垂直磁気記録ヘッドにおける、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成する方法であって、水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極を形成し、下側部と傾斜部と上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層を形成し、記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない主磁極の全部分とに隣接されたシード層を形成し、フォトレジストモールドを用いてシード層の上に上部ヨークを電気鍍金により形成したのち、そのフォトレジストモールドを除去し、シード層の上に犠牲層を形成したのち、上部ヨークから第１距離における上側部の上方の位置まで延在するように犠牲層をパターニングすることにより、その犠牲層により第１トレーリングシールドの寸法および形状を規定し、犠牲層により被覆されていないシード層を除去し、少なくとも犠牲層と同じ厚さを有する第１絶縁層を形成したのち、上部ヨークおよび犠牲層の上に存在しなくなるまで第１絶縁層を平坦化し、上部ヨークおよび第１絶縁層に隣接された第２絶縁層を形成したのち、その第２絶縁層の一部を除去することにより、犠牲層から第２距離の範囲において第１絶縁層の上に傾斜端縁を形成し、上部ヨークの上方における第２絶縁層の上に磁界コイルの一部を形成したのち、シード層により記録ギャップ層を破損しないように保護しながら犠牲層を除去し、磁界コイルの一部および第２絶縁層を被覆する第３絶縁層を形成し、レンチキュラー形状となるように第３絶縁層を軟化し、レンチキュラー形状を保ちながら第３絶縁層を硬化し、シード層と第１、第２および第３絶縁層とに隣接された磁性層を形成することにより、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成するものである。
【００１３】
本発明の垂直磁気記録ヘッドは、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを備えた垂直磁気記録ヘッドであって、水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極と、下側部と傾斜部と上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層と、記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない主磁極の全部分とに隣接されたシード層と、シード層の上において、記録ギャップ層から第１の距離に位置すると共に第１厚さを有する上部ヨークと、第１厚さと同じ厚さを有すると共に、上部ヨークに隣接する第１垂直側壁および記録ギャップ層に隣接する第２垂直側壁を有し、上側部の一部と記録ギャップ層の一部とに隣接された第１絶縁層と、上部ヨークおよび第１絶縁層に隣接されると共に、第２垂直側壁から第２距離の範囲における第１絶縁層の上に傾斜端縁を有する第２絶縁層と、上部ヨークの上方における第２絶縁層の上の磁界コイルの一部と、磁界コイルの一部を被覆する第３レンチキュラー絶縁層と、シード層と傾斜端縁と第１および第２絶縁層と第３レンチキュラー絶縁層とを被覆する単一の磁性層とを備えたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の磁気的ホットスポットの形成の防止方法によれば、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないようしたので、シールド間の界面における磁壁衝突が排除される。よって、遠方トラックにおける情報消去の原因であるホットスポットの形成を防止することができる。
【００１５】
本発明の垂直磁気記録ヘッドまたはそれにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法によれば、単一の磁性層を形成することにより、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成しているので、継ぎ目がない単一構造体であるトレーリングシールドを提供して、複数のシールド間における界面を排除することができる。また、シールド型の磁気記録ヘッドに関する遠方トラックの意図しない情報消去の問題を解決することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来の垂直磁気記録ヘッドの構成を表す図である。
【図２ａ】３種類のシールドの構成のうちの第１構成をＡＢＳから見た図である。
【図２ｂ】３種類のシールドの構成のうちの第２構成をＡＢＳから見た図である。
【図２ｃ】３種類のシールドの構成のうちの第３構成をＡＢＳから見た図である。
【図３】垂直磁気記録ヘッドの製造方法に関する開始時の初期構造を説明する図である。
【図４】第１および第２トレーリングシールドの形状および寸法を規定する犠牲層の導入を説明する図である。
【図５】主磁極からシールドを分離する絶縁層の形成を説明する図である。
【図６】犠牲層の除去および磁界コイルの形成を説明する図である。
【図７】犠牲層の除去および磁界コイルの形成を説明する他の図である。
【図８】コイルハウジングの形成および単一工程における第１および第２トレーリングシールドの形成を説明する図である。
【図９】垂直磁気記録ヘッドの製造方法に関する最終構造を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１８】
本発明の一実施形態における垂直磁気記録ヘッドの製造方法は、磁気的ホットスポットに起因する意図しない情報の消去を防止するために、垂直磁気記録ヘッドの第１および第２トレーリングシールドにおける磁気的ホットスポットの形成を防止することを実現可能な方法である。より具体的には、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないことにより、磁気的ホットスポットの形成を防止している。
【００１９】
この垂直磁気記録ヘッドの製造方法は、図３に示したように、上面を有する主磁極１５の形成から開始する。この主磁極１５の上面は、水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなり、その上側部および下側部は傾斜部に連結されている。なお、傾斜部のおおよそ中心を通る破線は、ＡＢＳとなる位置を示している。
【００２０】
続いて、主磁極１５における下側部と傾斜部と上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層３１を形成したのち、記録ギャップ層３１とその記録ギャップ層３１により被覆されていない主磁極１５の全部分とに隣接されたシード層３２を形成する。このシード層３２は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅおよびＣｏＮｉＦｅからなる群から選択される磁性合金である。
【００２１】
続いて、一般的なフォトリソグラフィ技術を用いてシード層３２の上にフォトレジストモールド３３を形成したのち、そのフォトレジストモールド３３を用いてシード層３２の上に上部ヨーク１６を電気鍍金により形成する。こののち、一般的な方法を用いてフォトレジストモールド３３を剥離除去する。
【００２２】
続いて、シード層３２の上に犠牲層４３を形成したのち、図４に示したように、上部ヨーク１６から第１距離における上側部の上方の位置まで延在するように犠牲層４３をパターニングする。この場合には、犠牲層４３が傾斜部を約２μｍ越えて終端すると共に、記録ギャップ層３１が上部ヨーク１６と犠牲層４３とを分離するスペース４１の中間まで延在するようにする。上部ヨーク１６から犠牲層４３までの第１距離は、０．５μｍよりも大きいと共に３μｍ以下の範囲、または０．５μｍよりも大きいと共に３μｍよりも小さい範囲である。この犠牲層４３により、後工程において形成される第１トレーリングシールドの寸法および形状が規定される。
【００２３】
犠牲層４３は、フォトレジストでもよいし、後工程において選択的に除去可能であれば他の材料でもよい。このような他の材料は、ＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、ＳｉＮ、ＳｉＯ2 およびＣｕを含むが、これらに限定されない。犠牲層４３がフォトレジストである場合には、酸素ベースの反応性イオンエッチング（ＲＩＥ：reactive ion etching）法を用いて犠牲層４３をパターニングする。一方、犠牲層４３がＮｉＦｅ等である場合には、ウェット化学エッチング法または反応性イオンエッチング法を用いて犠牲層４３をパターニングする。犠牲層４３をパターニングする場合には、その犠牲層４３の一部が除去されると共に、イオンビームエッチング法を用いて犠牲層４３および上部ヨーク１６により被覆されていないシード層３２の一部（露光部分）を除去する。
【００２４】
上記したように、犠牲層４３としては、後工程において除去するためにダミーのフォトレジストを用いるが、他の材料、例えばＡｌ2 Ｏ3 および磁性金属に対して選択的に除去されるＳｉＮなどを用いてもよい。この場合における犠牲層４３のパターニング方法は、フォトレジストである場合とは異なり、例えばＲＩＥ法である。この他、犠牲層４３は金属材料でもよく、その場合における犠牲層４３のパターニング方法はウェット化学エッチング法である。
【００２５】
続いて、図５に示したように、スペース４１に、少なくとも犠牲層４３と同じ厚さ、例えば犠牲層４３の厚さを上回る初期厚さを有する第１絶縁層５１を形成する。この第１絶縁層５１は、上部ヨーク１６に隣接する第１垂直側壁および犠牲層４３に隣接する第２垂直側壁を有する。続いて、上部ヨーク１６および犠牲層４３の上に第１絶縁層５１が存在しなくなるまで、その第１絶縁層５１を含む全体を平坦化する。第１絶縁層５１は、アルミナを含むが、これに限定されず、その厚さは、０．３μｍよりも大きいと共に１．５μｍよりも小さい範囲である。
【００２６】
続いて、図６に示したように、上部ヨーク１６および第１絶縁層５１に隣接された第２絶縁層６１を形成する。第２絶縁層６１は、アルミナを含むが、これに限定されず、その厚さは、０．０５μｍよりも大きいと共に０．５μｍよりも小さい範囲である。
【００２７】
続いて、イオンビームミリング法またはリフトオフプロセスを用いて、第２絶縁層６１の一部を除去することにより、犠牲層４３（第２垂直側壁）から第２距離の範囲において第１絶縁層５１の上に傾斜端縁（ベベルエッジ）６２を形成する。犠牲層４３から傾斜端縁６２までの第２距離は、０．２μｍより大きいと共に２μｍより小さい範囲である。
【００２８】
続いて、上部ヨーク１６の上方における第２絶縁層６１の上に、磁界コイル１７の一部を形成したのち、図７に示したように、シード層３２により記録ギャップ層３１を破損しないように保護しながら犠牲層４３を除去する。
【００２９】
続いて、図８に示したように、磁界コイル１７の一部および第２絶縁層６１を被覆するように第３絶縁層８２を形成する。続いて、レンチキュラー形状（レンズ状）となるように第３絶縁層８２を十分に軟化させたのち、そのレンチキュラー形状を保ちながら第３絶縁層８２を硬化させる。
【００３０】
この場合には、第３絶縁層８２の形成材料の融点（または軟化点）が約２００℃よりも低い場合には、レンチキュラー形状となるように軟化する（または化学的手段により軟化される）まで第３絶縁層８２を加熱する。また、必要に応じて冷却方法または他の方法を用いて、第３絶縁層段８２を硬化させる。
【００３１】
最後に、シード層３２、第１絶縁層５１、第２絶縁層６１および第３絶縁層８２に隣接された磁性層８１を形成する。これにより、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドが形成されるため、図９に示した垂直磁気記録ヘッドが完成する。図９に示した垂直磁気記録ヘッドは、第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面が存在しないことを除き、図１に示した垂直磁気記録ヘッドと同様の構成を有している。
【００３２】
なお、第１および第２トレーリングシールドである磁性層８１の他に、追加シールドとしてリーディングシールドと２つのサイドシールド（いずれも図示せず）とを追加してもよい。この場合には、第１および第２トレーリングシールドとリーディングシールドと２つのサイドシールドとを継ぎ目がない単一の構造体となるように形成することが好ましい。
【００３３】
この垂直磁気記録ヘッドの製造方法では、上部ヨーク１６を電気鍍金により形成すると共にフォトレジストモールド３３を除去したのち、直ちに犠牲層４３を形成している。この犠牲層４３により、磁性層８１の一部（第１トレーリングシールド）の形状および寸法が規定されるため、その犠牲層４３を除去したのち、単一工程において磁性層８１（第１および第２トレーリングシールド）を容易に形成できる。
【００３４】
この場合には、シード層３２が上部ヨーク１６を電気鍍金により形成可能とする初期の目的を果たしたのち、イオンミリング法またはリフトオフ法を用いてシード層３２の一部を除去している。よって、犠牲層４３を除去する際に、記録ギャップ層３１に破損などのダメージが及ばないように、その記録ギャップ層３１をシード層３２の残存部分により保護することができる。
【００３５】
この製造方法では、リーディングシールドおよびサイドシールド、サイドシールドおよび第１トレーリングシールド、またはリーディングシールド、サイドシールドおよび第１トレーリングシールドを単一工程において形成してもよい。しかしながら、従来のいずれの製造方法においても、共通して、第１および第２トレーリングシールドを分離形成していた。具体的には、第１トレーリングシールドを形成してから平坦化したのち、その第１トレーリングシールドの上に第２トレーリングシールドを形成していた。このため、必然的に、第１および第２のトレーリングシールドの間に物理的な界面が形成されてしまう。
【００３６】
シールド間の物理的界面と、そのシールドに起因する意図しない情報消去との関係については、ＡＢＳにおける２つの磁気記録ヘッドに関する磁気力顕微鏡（ＭＦＭ：magnet force microscope ）の観察画像を用いて既に研究されている。２つの磁気記録ヘッドは、サイドシールドだけでなく、第１および第２トレーリングシールドを備えている。２つの磁気記録ヘッドにおいて、主磁極の近くで配向された磁壁は、第１および第２トレーリングシールドの間の界面において、それらが衝突するまで水平な磁壁を生じさせる。
【００３７】
さらなる研究により、遠方トラックにおける意図しない情報消去の原因が磁壁衝突であることを解明した。このため、遠方トラックの情報消去を誘発する上記原因を排除できれば、シールド間に生じる磁壁衝突の可能性も除去できることが明らかになった。これを実現する最良の方法は、第１および第２トレーリングシールドの間の物理的不連続により生じる水平な磁壁の形成を回避することである。
【００３８】
上記したように、トレーリングシールドを継ぎ目がない単一の構造体として、第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面が形成する可能性を排除することは、本発明において、単一工程において第１および第２トレーリングシールドの双方を形成することにより達成される。
【００３９】
なお、追加シールドを用いる場合には、リーディングシールドとサイドシールドとの界面、およびサイドシールドと第１トレーリングシールドとの界面を排除するために、それらを単一工程において継ぎ目がない単一の構造体となるように形成することが好ましい。もちろん、全てのシールド、すなわちリーディングシールド、第１トレーリングおよび第２トレーリングを単一工程において継ぎ目がない単一の構造体となるように形成してもよい。
【符号の説明】
【００４０】
１５…主磁極、１６…上部ヨーク、１７…磁界コイル、３１…記録ギャップ層、３２…シード層、３３…フォトレジストモールド、４３…犠牲層、５１…第１絶縁層、６１…第２絶縁層、６２…ベベルエッジ、８１…磁性層、８２…第３絶縁層。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気的ホットスポットに起因する意図しない情報の消去を防止するために、垂直磁気記録ヘッドの第１および第２トレーリングシールドにおける磁気的ホットスポットの形成を防止する方法であって、
単一工程において前記第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないことにより、前記磁気的ホットスポットの形成を防止する、
磁気的ホットスポットの形成の防止方法。
【請求項２】
磁界コイルを備えた垂直磁気記録ヘッドにおける、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成する方法であって、
水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極を形成し、
前記下側部と前記傾斜部と前記上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層を形成し、
前記記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない前記主磁極の全部分とに隣接されたシード層を形成し、
フォトレジストモールドを用いて前記シード層の上に上部ヨークを電気鍍金により形成したのち、そのフォトレジストモールドを除去し、
前記シード層の上に犠牲層を形成したのち、前記上部ヨークから第１距離における前記上側部の上方の位置まで延在するように前記犠牲層をパターニングすることにより、その犠牲層により前記第１トレーリングシールドの寸法および形状を規定し、
前記犠牲層により被覆されていない前記シード層を除去し、
少なくとも前記犠牲層と同じ厚さを有する第１絶縁層を形成したのち、前記上部ヨークおよび前記犠牲層の上に存在しなくなるまで前記第１絶縁層を平坦化し、
前記上部ヨークおよび前記第１絶縁層に隣接された第２絶縁層を形成したのち、その第２絶縁層の一部を除去することにより、前記犠牲層から第２距離の範囲において前記第１絶縁層の上に傾斜端縁を形成し、
前記上部ヨークの上方における前記第２絶縁層の上に前記磁界コイルの一部を形成したのち、前記シード層により前記記録ギャップ層を破損しないように保護しながら前記犠牲層を除去し、
前記磁界コイルの一部および前記第２絶縁層を被覆する第３絶縁層を形成し、
レンチキュラー形状となるように前記第３絶縁層を軟化し、
レンチキュラー形状を保ちながら前記第３絶縁層を硬化し、
前記シード層と前記第１、第２および第３絶縁層とに隣接された磁性層を形成することにより、前記継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成する、
垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項３】
前記犠牲層はフォトレジストである、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項４】
前記シード層はＮｉＦｅ、ＣｏＦｅおよびＣｏＮｉＦｅからなる群から選択される磁性合金である、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項５】
前記犠牲層は酸素ベースの反応性イオンエッチングによりパターニングされる、請求項３記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項６】
前記犠牲層はＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、ＳｉＮ、ＳｉＯ2 およびＣｕからなる群から選択される、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項７】
前記犠牲層はウェット化学的エッチングまたは反応性イオンエッチングによりパターニングされる、請求項６記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項８】
前記上部ヨークから前記犠牲層までの前記第１距離は０．５μｍよりも大きいと共に３μｍよりも小さい範囲である、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項９】
前記犠牲層から前記傾斜端縁までの前記第２距離は０．２μｍよりも大きいと共に２μｍよりも小さい範囲である、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１０】
前記第１絶縁層はアルミナであると共に、０．３μｍよりも大きいと共に１．５μｍよりも小さい範囲の厚さとなるように形成されている、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１１】
前記第２絶縁層はアルミナであると共に、０．０５μｍよりも大きいと共に０．５μｍよりも小さい範囲の厚さとなるように形成されている、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１２】
前記第２絶縁層の一部の除去および前記傾斜端縁の形成はイオンビームミリングまたはリフトオフプロセスにより行われる、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１３】
前記第１および第２トレーリングシールドに追加シールドとしてリーディングシールドと２つのサイドシールドを追加し、前記第１および第２トレーリングシールドと前記リーディングシールドと前記２つのサイドシールドとを継ぎ目がない単一の構造体となるように形成する、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１４】
継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを備えた垂直磁気記録ヘッドであって、
水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極と、
前記下側部と前記傾斜部と前記上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層と、
前記記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない前記主磁極の全部分とに隣接されたシード層と、
前記シード層の上において、前記記録ギャップ層から第１の距離に位置すると共に第１厚さを有する上部ヨークと、
前記第１厚さと同じ厚さを有すると共に、前記上部ヨークに隣接する第１垂直側壁および前記記録ギャップ層に隣接する第２垂直側壁を有し、前記上側部の一部と前記記録ギャップ層の一部とに隣接された第１絶縁層と、
前記上部ヨークおよび前記第１絶縁層に隣接されると共に、前記第２垂直側壁から第２距離の範囲における前記第１絶縁層の上に傾斜端縁を有する第２絶縁層と、
前記上部ヨークの上方における前記第２絶縁層の上の磁界コイルの一部と、
前記磁界コイルの一部を被覆する第３レンチキュラー絶縁層と、
前記シード層と前記傾斜端縁と前記第１および第２絶縁層と前記第３レンチキュラー絶縁層とを被覆する単一の磁性層とを備えた、
垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１５】
前記上部ヨークから前記記録ギャップ層までの前記第１距離は３μｍ以下である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１６】
前記傾斜端縁から前記第２垂直側壁までの前記第２距離は０．２μｍよりも大きいと共に２μｍよりも小さい範囲である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１７】
前記第１絶縁層はアルミナであると共に、０．３μｍよりも大きいと共に１．５μｍよりも小さい範囲の厚さを有する、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１８】
前記第２絶縁層はアルミナであると共に、０．０５μｍよりも大きいと共に０．５μｍよりも小さい範囲の厚さを有する、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１９】
追加シールドとしてリーディングシールドおよび２つのサイドシールドを備え、前記第１および第２トレーリングシールドとリーディングシールドと２つのサイドシールドとは継ぎ目がない単一の構造体である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項２０】
前記シード層はＮｉＦｅ、ＣｏＦｅおよびＣｏＮｉＦｅからなる群から選択される磁性合金である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１】
磁気的ホットスポットに起因する意図しない情報の消去を防止するために、垂直磁気記録ヘッドの第１および第２トレーリングシールドにおける磁気的ホットスポットの形成を防止する方法であって、
単一工程において前記第１および第２トレーリングシールドの双方を形成して、その第１および第２トレーリングシールドの間に物理的界面を生じさせないことにより、前記磁気的ホットスポットの形成を防止する、
磁気的ホットスポットの形成の防止方法。
【請求項２】
磁界コイルを備えた垂直磁気記録ヘッドにおける、継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成する方法であって、
水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極を形成し、
前記下側部と前記傾斜部と前記上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層を形成し、
前記記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない前記主磁極の全部分とに隣接されたシード層を形成し、
フォトレジストモールドを用いて前記シード層の上に上部ヨークを電気鍍金により形成したのち、そのフォトレジストモールドを除去し、
前記シード層の上に犠牲層を形成したのち、前記上部ヨークから第１距離における前記上側部の上方の位置まで延在するように前記犠牲層をパターニングすることにより、その犠牲層により前記第１トレーリングシールドの寸法および形状を規定し、
前記犠牲層により被覆されていない前記シード層を除去し、
少なくとも前記犠牲層と同じ厚さを有する第１絶縁層を形成したのち、前記上部ヨークおよび前記犠牲層の上に存在しなくなるまで前記第１絶縁層を平坦化し、
前記上部ヨークおよび前記第１絶縁層に隣接された第２絶縁層を形成したのち、その第２絶縁層の一部を除去することにより、前記犠牲層から第２距離の範囲において前記第１絶縁層の上に傾斜端縁を形成し、
前記上部ヨークの上方における前記第２絶縁層の上に前記磁界コイルの一部を形成したのち、前記シード層により前記記録ギャップ層を破損しないように保護しながら前記犠牲層を除去し、
前記磁界コイルの一部および前記第２絶縁層を被覆する第３絶縁層を形成し、
レンチキュラー形状となるように前記第３絶縁層を軟化し、
レンチキュラー形状を保ちながら前記第３絶縁層を硬化し、
前記シード層と前記第１、第２および第３絶縁層とに隣接された磁性層を形成することにより、前記継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを形成する、
垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項３】
前記犠牲層はフォトレジストである、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項４】
前記シード層はＮｉＦｅ、ＣｏＦｅおよびＣｏＮｉＦｅからなる群から選択される磁性合金である、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項５】
前記犠牲層は酸素ベースの反応性イオンエッチングによりパターニングされる、請求項３記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項６】
前記犠牲層はＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、ＳｉＮ、ＳｉＯ2 およびＣｕからなる群から選択される、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項７】
前記犠牲層はウェット化学的エッチングまたは反応性イオンエッチングによりパターニングされる、請求項６記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項８】
前記上部ヨークから前記犠牲層までの前記第１距離は０．５μｍよりも大きいと共に３μｍよりも小さい範囲である、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項９】
前記犠牲層から前記傾斜端縁までの前記第２距離は０．２μｍよりも大きいと共に２μｍよりも小さい範囲である、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１０】
前記第１絶縁層はアルミナであると共に、０．３μｍよりも大きいと共に１．５μｍよりも小さい範囲の厚さとなるように形成されている、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１１】
前記第２絶縁層はアルミナであると共に、０．０５μｍよりも大きいと共に０．５μｍよりも小さい範囲の厚さとなるように形成されている、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１２】
前記第２絶縁層の一部の除去および前記傾斜端縁の形成はイオンビームミリングまたはリフトオフプロセスにより行われる、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１３】
前記第１および第２トレーリングシールドに追加シールドとしてリーディングシールドと２つのサイドシールドを追加し、前記第１および第２トレーリングシールドと前記リーディングシールドと前記２つのサイドシールドとを継ぎ目がない単一の構造体となるように形成する、請求項２記載の垂直磁気記録ヘッドにおける第１および第２トレーリングシールドの形成方法。
【請求項１４】
継ぎ目がないように連結された第１および第２トレーリングシールドを備えた垂直磁気記録ヘッドであって、
水平な上側部と、傾斜部と、その傾斜部から一端部において終端するまで延在する水平な下側部とからなる上面を有する主磁極と、
前記下側部と前記傾斜部と前記上側部の一部とに隣接された非磁性の記録ギャップ層と、
前記記録ギャップ層とその記録ギャップ層により被覆されていない前記主磁極の全部分とに隣接されたシード層と、
前記シード層の上において、前記記録ギャップ層から第１の距離に位置すると共に第１厚さを有する上部ヨークと、
前記第１厚さと同じ厚さを有すると共に、前記上部ヨークに隣接する第１垂直側壁および前記記録ギャップ層に隣接する第２垂直側壁を有し、前記上側部の一部と前記記録ギャップ層の一部とに隣接された第１絶縁層と、
前記上部ヨークおよび前記第１絶縁層に隣接されると共に、前記第２垂直側壁から第２距離の範囲における前記第１絶縁層の上に傾斜端縁を有する第２絶縁層と、
前記上部ヨークの上方における前記第２絶縁層の上の磁界コイルの一部と、
前記磁界コイルの一部を被覆する第３レンチキュラー絶縁層と、
前記シード層と前記傾斜端縁と前記第１および第２絶縁層と前記第３レンチキュラー絶縁層とを被覆する単一の磁性層とを備えた、
垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１５】
前記上部ヨークから前記記録ギャップ層までの前記第１距離は３μｍ以下である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１６】
前記傾斜端縁から前記第２垂直側壁までの前記第２距離は０．２μｍよりも大きいと共に２μｍよりも小さい範囲である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１７】
前記第１絶縁層はアルミナであると共に、０．３μｍよりも大きいと共に１．５μｍよりも小さい範囲の厚さを有する、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１８】
前記第２絶縁層はアルミナであると共に、０．０５μｍよりも大きいと共に０．５μｍよりも小さい範囲の厚さを有する、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１９】
追加シールドとしてリーディングシールドおよび２つのサイドシールドを備え、前記第１および第２トレーリングシールドとリーディングシールドと２つのサイドシールドとは継ぎ目がない単一の構造体である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項２０】
前記シード層はＮｉＦｅ、ＣｏＦｅおよびＣｏＮｉＦｅからなる群から選択される磁性合金である、請求項１４記載の垂直磁気記録ヘッド。
【図１】
【図２ａ】
【図２ｂ】
【図２ｃ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２ａ】
【図２ｂ】
【図２ｃ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−２２２１１１（Ｐ２０１１−２２２１１１Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願２０１１−８４６６３（Ｐ２０１１−８４６６３）
【出願日】平成２３年４月６日（２０１１．４．６）
【出願人】（５００４７５６４９）ヘッドウェイテクノロジーズ インコーポレイテッド (251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−８４６６３（Ｐ２０１１−８４６６３）
【出願日】平成２３年４月６日（２０１１．４．６）
【出願人】（５００４７５６４９）ヘッドウェイテクノロジーズ インコーポレイテッド (251)
【Ｆターム（参考）】
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