磁気記録媒体
【課題】１ＴＢ以上の記録容量に対応しうる高記録密度特性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性支持体の一方の面に、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性塗料を塗布することにより形成された非磁性層と、この非磁性層上に磁性粉末と結合剤とを含む磁性塗料を塗布することにより形成された磁性層とを有する磁気記録媒体において、前記磁性粉末は略粒状で、平均粒子径が１０〜４０nmであり、前記磁性塗料が予めメディア型分散機で分散処理された後、高圧湿式噴射衝突型分散機にて分散処理されることを特徴とする磁気記録媒体とする。
【解決手段】非磁性支持体の一方の面に、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性塗料を塗布することにより形成された非磁性層と、この非磁性層上に磁性粉末と結合剤とを含む磁性塗料を塗布することにより形成された磁性層とを有する磁気記録媒体において、前記磁性粉末は略粒状で、平均粒子径が１０〜４０nmであり、前記磁性塗料が予めメディア型分散機で分散処理された後、高圧湿式噴射衝突型分散機にて分散処理されることを特徴とする磁気記録媒体とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気抵抗型の再生ヘッド（ＭＲヘッド）を用いる磁気記録再生システムに好適な高記録密度特性に優れた塗布型の磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気テープは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュータ用テープなど種々の用途があるが、特にデータバックアップ用テープの分野では、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、１巻当たり数１０〜２００ＧＢの記録容量のものが商品化されている。また、今後１ＴＢを超える大容量バックアップテープが提案されており、その高記録密度化は不可欠である。
【０００３】
高記録容量化のための手段として、記録再生装置からのアプローチでは，記録信号の短波長化やトラックピッチの狭幅化が用いられるが、これにより磁気テープからの漏れ磁束が小さくなるため、再生ヘッドに微小磁束でも高い出力が得られるＭＲヘッドを使用することが主流となってきている。
【０００４】
媒体からのアプローチでは、磁性粉末の微粒子化とともに、磁気特性の改善がはかられており、従来は、オーディオ用や家庭用のビデオテープに使用されていた強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、酸化クロムなどの磁性粉末が主流であったが、現在では、コンピュータ用テープとして、粒子サイズが２５〜６５ｎｍ程度の針状の強磁性鉄系金属粉が提案されている。（特許文献１）
【０００５】
また、短波長記録時の減磁による出力低下を防止するために、磁性粉末の高保磁力化がはかられ、鉄−コバルトの合金化により、１９８．９ｋＡ／ｍ程度の保磁力が実現されている（特許文献２〜４）。
【０００６】
また低ノイズ化を実現するための磁性粉末として、粒子形状が板状で、粒子サイズ（粒子径）が１０〜４０ｎｍ程度の微粒子のバリウムフェライト磁性粉末や（特許文献５）、結晶磁気異方性を有することで、微粒子化と高保磁力化を両立できる磁性粉末として、形状が球状乃至粒状で、粒子サイズが５〜２００ｎｍ程度のホウ素含有強磁性鉄系金属磁性粉（特許文献６）や、５〜５０ｎｍ程度の窒化鉄磁性粉（特許文献７）が提案されている。
【０００７】
一方、媒体製造技術側からのアプローチでは、微粒子磁性粉末を含む磁性層成分に対する混練・分散処理（特許文献９）、塗布直前の再分散処理（特許文献１０、１１）、磁性層の下に非磁性の下塗り層を設ける同時重層塗布（特許文献１２）、さらには塗布工程後に行われる高圧カレンダ処理（特許文献１３）などの技術の改善により、磁性層の充填性、配向性、表面平滑性が向上し、媒体のＳ/Ｎが向上することが知られている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−７９００４号公報
【特許文献２】特開平３−４９０２６号公報
【特許文献３】特開平５−２３４０６４号公報
【特許文献４】特開平６−２５７０２号公報
【特許文献５】特開２００４-３０８２８号公報
【特許文献６】特開２００１−１８１７５４号公報
【特許文献７】ＷＯ０３/０７９３３Ａ１パンフレット
【特許文献８】特開平３−１７８２７号公報
【特許文献９】特開２００４−２２１５８号公報
【特許文献１０】特開２００１−６１７１号公報
【特許文献１１】特開２００３−１１５１０７号公報
【特許文献１２】特開昭６３−１８７４１８号公報
【特許文献１３】特公平７−６０５０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、高密度磁気記録媒体（例えば１ＴＢ以上の容量に対応）を作製するにあたり、上記のような従来公知の技術では、微粒子磁性粉末を高いレベルで充填し、十分分散するのは、ほぼ限界に達している。
【００１０】
磁性粉末の改良に関しては、針状の磁性粉末を使用する限り、粒子サイズは実用上４０ｎｍ程度が限度である。なぜなら、これよりも微粒子化すると、飽和磁化、保磁力が低下するのみならず、比表面積が著しく大きくなり、磁性塗料中で磁性粉末の粒子一個一個を独立した状態にまで解しきることができず、結果として大きな磁性粒子として振る舞い、高いレベルの平滑性、充填性、磁気特性、を得ることができないためである。
【００１１】
一方、特許文献５等に開示されているバリウムフェライト磁性粉末の形状、粒子サイズ（粒子径）は、針状の磁性粉末に比べて微粒子化が可能で、高Ｈｃのものが得られるが、形状が六方晶の板状粉末であるため、板状の面と面とで密着し、極めて強い凝集体を形成するため、微細分散することができず、また、所望のテープ特性を得ることが困難であった。
【００１２】
また、特許文献６、７に開示されているホウ素含有強磁性鉄系金属磁性粉末や窒化鉄磁性粉末は高Ｈｃ、高飽和磁化量のものが得られ、粒子形状が本質的に球状ないし楕円状であるため、比表面積が最小となる球形に近い形状をとり、従来の磁性粉末と比べて、バインダ樹脂との相互作用を小さくすることでき、分散には有利に働き、磁性粉末としては、最も好ましい。しかしながら、この文献に記載の磁性塗料の製造方法では磁性粉末の粒子一個一個を独立した状態にまでには解すことが困難で、分散安定性についても未だ不十分であり、所望のテープ特性を得るには至っていない。
【００１３】
このように、たとえ磁気特性が優れ微粒子化した磁性粉末を使用しても、従来技術では高いレベルでの分散性や分散安定性を確保することが困難であるため、所望の平滑性、充填性、磁気特性を有する磁性層を形成することができず、高記録密度特性を満足させるまでには至っていなかった。
【００１４】
本発明は、上記課題を解決すべくなされたものであり、高密度磁気記録媒体において、１ＴＢ容量以上に対応するための高記録密度特性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、上記の目的を達成するため、ＭＲヘッドを用いる磁気記録再生システムに好適な磁気記録媒体として、非磁性支持体の一方の面に、無機粉体を含む下塗塗料を塗布することにより形成された下塗層と、この下塗層の上に、強磁性粉末を含む磁性塗料を塗布することにより形成された磁性層とを有し、次のような構成としたことを特徴とする。
【００１６】
前記磁性粉末として、形状が略粒状で、粒子径が１０〜４０nmである強磁性粉末を使用し、この磁性粉末を含む磁性層を形成するに当たっては、前記磁性塗料が、予めメディア型分散機にて分散処理された後、高圧噴射衝突型分散機により再分散処理を経て製造されたものを用いることを特徴とする。（請求項１）
【００１７】
前記高圧噴射衝突型分散機には加圧手段を有し、磁性塗料への加圧条件が５０〜２５０ＭＰaとして分散処理されることを特徴とする。
前記磁性層の厚さが０．１μｍ未満とすることを特徴とする。（請求項３）
【００１８】
このような構成によれば、磁性層の平滑性、充填性、磁気特性（高残留密度化）を高いレベルに向上させることができ、結果として優れた高記録密度特性を有する磁気記録媒体が得られる。
【００１９】
なお、略粒状磁性粉末とは、球状磁性粉末、および針状磁性粉末の場合は軸比（長軸長/短軸長）が３未満の、板状磁性粉末の場合は板状比(板径/板厚さ)が３未満の磁性粉末を称する。
【発明の効果】
【００２０】
微粒子で、略粒状の磁性粉末を用い、予めメディア型分散機にて分散処理後、高圧噴射衝突型分散機により再分散処理を経て製造した磁性塗料を使用して磁性塗膜を形成するので、高充填で平滑な磁性塗膜が形成でき、高記録密度特性に優れた磁気記録媒体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明に用いられるＭＲヘッド型記録再生装置においては、従来の電磁誘導ヘッド型記録再生装置に比べて再生感度が高い反面、これまで注意が払われなかった微小なノイズも同時に読み出されやすくなる。特に、短波長記録領域ほど、媒体ノイズの影響が大きく、ノイズを低下させることが大きな課題となっていた。
【００２２】
そのためには磁性層の塗膜の単位体積中に含まれる磁性粉末粒子の数をできるだけ多くすることが必要で磁性粉末の粒子径（粒子体積）を小さくし、充填性を大きくすることが好ましい。
このような観点から本発明者らは磁性粉末の形状にまず着目した。
【００２３】
磁性粉末の形状は、従来、針状、板状が一般的であったが、最近では先述したように球状（粒状）のものも提案されている（特許文献６、特許文献７）。磁気記録媒体の磁性塗膜を形成する際に、一般に磁性粉末を配向させる工程が設けられ、これにより再生出力を大きくしている。針状、板状など形状異方性のある磁性粉末を使用した場合、この工程で配向方向にこれらの磁性粉末が配列するが、完全に配列することはなく、ある割合の磁性粉末は、形状的に配列を乱す形になって磁性粉末の充填性を低下させるので、前述したノイズの低減には障害となる場合がある。ところが球状の磁性粉末の場合は、形状異方性がないために配向の乱れによるによる充填構造の乱れは生じないので高い充填度の塗膜が得られる。本発明者らの検討によれば、前述の観点から針状磁性粉末や板状磁性粉末であっても針状比（長軸長／短軸長）や板状比（板径／板厚さ）が１に近づくと粒状粉と同様の効果が得られ、針状比や板状比は３未満が好ましく、２以下がさらに好ましいことが分かった。
【００２４】
磁性層中に含ませる磁性粉末の平均粒子径としては、１０〜４０ｎｍの範囲にあるのが好ましく、１５〜３０ｎｍの範囲がより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が１０ｎｍ未満では、粒子の表面エネルギーが大きくなって分散が困難になり、平均粒子径が４０ｎｍを越えるとノイズが大きくなるためである。磁性粉末としては、強磁性鉄系金属磁性粉末や窒化鉄磁性粉末、板状の六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉末等が好ましい。
【００２５】
強磁性鉄系金属磁性粉末には、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏなどの遷移金属を合金として含ませてもよい。その中でも、Ｃｏ、Ｎｉが好ましく、とくにＣｏは飽和磁化を最も向上できるので、好ましい。上記の遷移金属元素の量としては、鉄に対して、５〜５０原子％とするのが好ましく、１０〜３０原子％とするのがより好ましい。また、イツトリウム、セリウム、イツテルビウム、セシウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、ユ―ロピウム、ネオジム、テルビウムなどから選ばれる少なくとも１種の希土類元素を含ませても良い。その中でも、セリウム、ネオジムとサマリウム、テルビウム、イツトリウムを用いたときに、高い保磁力が得られ好ましい。希土類元素の量は鉄に対して０．２〜２０原子％、好ましくは０．３〜１５原子％、より好ましくは０．５〜１０原子％である。
【００２６】
強磁性鉄系金属磁性粉末にホウ素を含ませてもよい。ホウ素を含ませることにより、平均粒子径が４０ｎｍ以下の粒状ないし楕円状の超微粒子が得られる。また同ホウ素の量は、磁性粉末全体中、鉄に対して０．５〜３０原子％、好ましくは１〜２５原子％、より好ましくは２〜２０原子％である。上記両原子％は、蛍光Ｘ線分析により測定される値である（特許文献６）。
【００２７】
窒化鉄磁性粉末は，公知のものを用いることができ，形状は針状の他に球状や立方体形状などの不定形のものを用いることができる。粒子径や比表面積については磁気記録用の磁性粉末としての要求特性をクリアするためには，限定した磁性粉末の製造条件とすることが必要である(特許文献７)。
【００２８】
強磁性鉄系金属磁性粉末および窒化鉄磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍがより好ましい。飽和磁化量は、６０〜２００Ａ・ｍ２／kg（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）が好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ２／kg（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）がより好ましい。
【００２９】
強磁性鉄系金属磁性粉末および窒化鉄磁性粉末の平均粒子径としては、１０〜４０ｎｍが好ましく、１３〜２０ｎｍがより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が１０ｎｍ未満となると、保磁力が低下したり、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中での分散が困難になったり、平均粒子径が４０ｎｍより大きいと、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるためである。また、この強磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ２／ｇ以上が好ましく、４０ｍ２／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ２／ｇ以上が最も好ましい。通常１００ｍ２／ｇ以下である。
【００３０】
また、前記強磁性鉄系金属磁性粉、窒化鉄磁性粉末をＡｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｙ，Ｚｒまたは、これらの酸化物で表面処理して使用してもかまわない。
【００３１】
六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化量は、４０〜６０Ａ・ｍ２／ｋｇ（４０〜６０ｅｍｕ／ｇ）が好ましい。また，粒径（板面方向の大きさ）は１０〜３０ｎｍが好ましく、１０〜２５ｎｍがより好ましく、１０〜２０ｎｍがさらに好ましい。粒径が１０ｎｍ未満となると、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中への分散が困難になり、３０ｎｍを越えると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなる。また、板状比（板径／板厚）は３未満が好ましく、２以下がより好ましい。また、六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ2／ｇが好ましく用いられる。
【００３２】
なお、これらの強磁性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動形磁束計で外部磁場1２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうものである。
【００３３】
また、上記の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて撮影した磁性層断面の写真から各粒子の最大径（針状粉では長軸径、板状粉では板径）を実測し、１００個の平均値により求めたものである。
【００３４】
ところで長手記録の本質的な課題である、記録および再生減磁による出力低下の影響を低減するには、上層磁性層の厚さを薄くすることが有効であるが、長軸方向の粒子サイズが４０〜１００ｎｍ程度の針状の磁性粉未を使用する限り、上層磁性層の厚さにも限界が生じる。なぜなら、磁界配向により、針状粒子は、平均的に針状方向が媒体の面内方向に並行になるように並ぶが、この配向には分布があるため、針状方向が媒体面に垂直になるように分布した粒子も存在する。このような粒子が存在すると、針状の磁性粉未が上層磁性層表面から突き出て、媒体の表面平滑性を損ない、ノイズを著しく増大させる原因となる。この問題は、上層磁性層の厚さが薄くなるほど顕著になるため、針状の磁性粉未を使用する限り、上層磁性層の厚さが0．０９μm程度以下で表面の平滑な塗膜を作製することは難しいのが現状である。
【００３５】
これに対して、本発明に用いる磁性粉未は、粒子サイズが小さいだけでなく、粒子形状が球形に近い略粒状をとるため、針状の磁性粉未のように上層磁性層の表面から粒子が突き出るような現象は生じず、さらに本発明にある高圧噴射衝突型分散機による処理をすることにより微細分散ができ、表面平滑性が極めて良好な上層磁性層を形成できる。また、上層磁性層の厚さが薄くなると、上層磁性層からの磁束が小さくなり、その結果、出力が低下する問題を生じるが、本発明に使用する上記磁性粉未は、粒子形状が略粒状であるため、針状の磁性粉未に比べて、磁性粉未を上層磁性層中に高充填しやすく、その結果、高磁束密度が得られやすいという大きな利点も有している。
【００３６】
さらに、飽和磁化についていえば、金属または合金磁性粉未は、一般に、粒子サイズが小さくなると比表面積が大きくなって、飽和磁化に寄与しない表面酸化層の割合が大きくなり、飽和磁化に寄与する磁性体部分が小さくなる。つまり、粒子サイズが小さくなるにしたがい、飽和磁化も小さくなる。このような飽和磁化の減少も、使用可能な粒子サイズの限界を決める要因のひとつとなっている。これに対して、本発明に使用する上記磁性粉末は、粒子形状が略粒状であるため、同一体積で比較した場合、比表面積は最小となり、微粒子であるにもかかわらず、高い飽和磁化を維持することが可能となるのである。
【００３７】
以上のように、本発明に使用する上記略粒状磁性粉未は、飽和磁化、保磁力、粒子サイズ、粒子形状のすべてが薄層の上層磁性層を得るのに本質的に適しており、さらに高圧噴射衝突型分散機による処理が微細分散に極めて有効に働き、磁気記録媒体を作製したときに、すぐれた記録再生特性が得られる。
【００３８】
なお、上層磁性層（情報記録層）のテープ長手方向の残留磁束密度と磁性層厚さの積は、０．００１８〜０．０５μＴｍが好ましく、０．００３６〜０．０５μＴｍがより好ましく、０．００４〜０．０５μＴｍがさらに好ましい。残留磁束密度と磁性層厚さの積が、０．００１８μＴｍ未満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さく、０．０５μＴｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みやすくなる。このような磁性層を有する磁気記録媒体は、記録波長を短くでき、加えて、ＭＲヘッドで再生した時の再生出力を大きくでき、しかも再生出力の歪が小さく出力対ノイズ比を大きくできるので好ましい。
【００３９】
前述したように磁性粉末の配向工程での充填構造の乱れという観点では、磁性粉末の形状としては略粒状のものが好ましいが、本発明で用いられる磁性粉末は微粒子であり、強磁性であるため、磁性粉末の粒子一個一個を独立した状態にまで解しきることが困難であるばかりか、解された粒子の再凝集が極めて起こりやすいという問題に直面した。そのため従来技術では本発明にある略粒状磁性粉末の特性を活かす媒体を得ることはできなかった。
【００４０】
そこで本発明者らは、略粒状磁性粉末の一個一個を独立させるまで微細分散し、再凝集を抑制する手段について鋭意検討を行った結果、本磁性粉末を含む磁性塗料を予めメディア型分散機にて分散処理した後、高圧噴射衝突型分散機による再分散処理を施すことにより、達成できることを見出した。
【００４１】
すなわち、上記のようなプロセスを経ることで本発明にある略粒状磁性粉末の分散性や分散安定性を十分に確保できることが明らかとなった。そのため媒体の平滑性の向上を図れるだけではなく配向性や充填性にも好影響を与え、結果として出力の向上はもとより媒体ノイズの低減が可能となる。
【００４２】
ここでいうメデイア型分散機とは、分散容器内に微小メデイアを充填し塗料とともに、メディアを攪拌し塗料分散を行うもので、例えば、メディアとしてφ１．０ｍｍ以下とするジルコニアビーズを使用し、ビーズの充填率を５０〜９０vol％、攪拌羽根周速を６ｍ〜１５ｍ/secの条件下で稼動するサンドミルなどの分散機をいう。分散方法の例としては、上記サンドミルの条件下で、単独および複数用い、分散滞留時間を１０〜１８０分となるように、１回〜複数回ミルベッセルを通過させたり、攪拌機を付帯させた循環タンクを設け、循環させながら複数回ミルベッセル内を通過させる手法などが挙げられ、いずれの方法を用いてもよい。
【００４３】
なおミルベッセルを複数用いる場合、使用するビーズを各ミルベッセルごとに変えてもよく、径の大きいビーズ（φ０．５〜φ０．１ｍｍ）が最初に用いられ、径の小さい（φ０．１〜０．５ｍｍ）ビーズが最後に用いられることが好ましい。
【００４４】
先述した高圧湿式噴射衝突分散機とは、高圧加圧手段により磁性塗料を高圧に加圧し、被分散塗料を狭い隙間から噴射させ被分散塗料同士あるいは被分散塗料と装置内壁との衝突による、せん断、摩砕作用を利用して微細化する装置であり分散メデイアを使用しないことが特徴である（詳細は後述する）。本発明において、この分散処理により特に有効に微細分散が実現できる理由としては、本発明で用いられる磁性粉末の形状は略粒状であるために、針状や板状の磁性粉末のように磁性粉末同士の重なりがなく、被分散塗料同士および被分散塗料と装置内壁での衝突の際には、磁性粉末自体が微細な分散メディアとして機能すると推定されること、およびメディア型分散処理の欠点であるショートパスによる残留未分散物を分散させて、その残留をなくせること、などが挙げられる。さらに、メディア型分散処理の時間を従来より少なくして、メディアの磨耗粉の混入も低減できるため、媒体の磁束密度低下を抑制できるメリットがある。
【００４５】
また、本発明による再分散処理をすることで、磁性粉末同士の独立性を増すことが可能となり、微細分散とともに再凝集を抑制できる効果のあることがあらたに分かった。これは、メデイアを使わない、高せん断分散によるものである。その結果、塗料の流動性を大幅に改良することができ、磁界配向性の向上と後述する磁性層の薄層化にあたっての諸問題も解決できる。
【００４６】
上述した高圧湿式噴射衝突型分散機を使用する際には、予めメディア型分散機で処理された塗料を使用する。その理由としては、メディア型分散機で処理されない場合、粗大な凝集体が磁性塗料中に含まれるため、高圧プランジャーポンプのシール、ピストンなどを痛めやすく、微細な隙間構造（たとえば噴射ノズル）に詰りが生じたり、衝突チャンバー内壁の磨耗が促進しやすくなり、生産における連続稼動が困難となるためである。
【００４７】
本発明で用いる高圧湿式噴射衝突分散機の好ましい態様は、以下の通りである。
本発明者らは、高圧湿式噴射衝突分散機は通常、１０〜３５０ＭＰａの加圧条件で用いられるが、磁性塗料に適用するにあたって、加圧条件としては５０〜２５０ＭＰａの高圧条件で使用することにより、分散性と分散安定性について高度に両立できることを見出した。加圧条件としては１００〜２００ＭＰａの範囲がより好ましい。
【００４８】
５０ＭＰa以下では、せん断力、衝撃力が弱いため、十分な磁気特性、平滑性が得られず、２５０ＭＰａ以上では塗料の急激な発熱を招き、磁性粉末からのバインダの剥離、高分子の切断などにより、かえって分散性や分散安定性が悪化する。
【００４９】
高圧湿式噴射衝突分散機としては、上述の条件を満たすものであれば特に制限はなく、（株）スギノマシン製のアルティマイザ―、吉田機械興業（株）製のナノマイザー、三和機械（株）製のホモゲナイザー、マイクロフルイディックス社製のマイクロフルイダイザー等が本発明に利用できる。これらの、高圧湿式噴射衝突分散機は、衝突チャンバー自体には冷却手段を有していないが、塗料の発熱対策として、衝突チャンバーを経た塗料を配管中、および／または熱交換器プレートで冷却する構造になっている。
【００５０】
本発明で用いる高圧湿式噴射衝突分散機のさらに好ましい態様は、以下の通りである。
図１に本発明の磁気記録媒体を製造するにあたって使用する高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーの代表的な構成例を示す。図１-aは筒状のチャンバー内の片側に噴射ノズル、その反対側に衝突面が設けられたタイプ、図１-bは図１-aの筒状のチャンバーを短くし、噴射ノズルと衝突面が近接したタイプ、図１-cは筒状のチャンバーの両側から対向するよう噴射ノズルが設けられたタイプ、図１-dは噴射ノズルに一定の角度を設け対向衝突させるタイプ、図１−eは円筒状の隙間より放射状に噴射されチャンバー外壁に衝突させるタイプで、図１のa〜ｃではいずれのチャンバーにも冷却ジャケットが設けられ、高圧で塗料の衝突が行われる際の急激な発熱に対して、冷却が可能な機構となっている。また、配管内の塗液の押し出し、洗浄、ならびに後述する塗料循環自己冷却機能を持たせるため、チャンバー内に流入口を設けている。衝突のパターンとしては、代表的な５種を挙げたが、これらの組み合わせ、応用でもかわない。
【００５１】
なお、図１には狭い間隙として、噴射ノズルを例として挙げたが、これらは単なる例示にすぎず、狭い間隙を形成できるものであれば、形状は特に問わない。
【００５２】
間隙としては０．００１ｍｍ〜０．４ｍｍが好ましく、さらに好ましくは０．０１ｍｍ〜０．２ｍｍである。０．００１ｍｍより小さい場合には、塗料の供給量が確保できなかったり、ノズルで目詰りしたり、塗料の急激な発熱を招き、磁性粉末からのバインダの剥離、高分子の切断などにより分散性や分散安定性が悪化するなどの弊害があり、０．４ｍｍより大きい場合には、せん断力が低下するため所望の分散性が得られない場合がある。
【００５３】
なお、上記のような高い圧力で塗料を衝突させるためには、衝突チャンバーを経た塗料を配管中、および／または熱交換器プレートで冷却する構造とするだけではなく、分散機の衝突チャンバーに冷却手段を組み込むことがより好ましい。例えば、衝突チャンバーの外部に冷却ジャケットを設けたり、衝突チャンバーに冷却ジャケットを設けられない場合には、衝突チャンバーを冷却槽内に設置したり、衝突チャンバーに超低温空気発生装置を設置させ空冷させたりする方法などが挙げられる。
【００５４】
また衝突チャンバー内部に被分散塗料を大量に循環できる流路、すなわち狭い隙間を通らずにチャンバー内部に入る流入口を通って被分散塗料が循環できる流路の形成により、衝突による発熱を被分散塗料自身で冷却する（塗料循環自己冷却）方法も挙げられる。これらの冷却手段は、単独もしくは組み合わせて用いてもよく、冷却効率の観点からは組み合わせて用いることがなお好ましい。
【００５５】
加圧手段としては、プランジャーポンプを用いるのが一般的であるが、脈動を無くし吐出量を一定にする方が、より均一な分散ができるため複数のプランジャーポンプの位相をずらして使用することが好ましい。
【００５６】
平均粒子径が４０ｎｍ以下の超微粒子磁性粉末を塗膜中に高充填化し、かつ高分散させるためには、下記のような工程で塗料製造を行うことが好ましい。混練工程の前工程として、磁性粉末の顆粒を解砕機を用いて解砕し、その後、混合機でリン酸系の有機酸等やバインダ樹脂と混合し、磁性粉末の表面処理、バインダ樹脂との混合を行う工程を設ける。混練工程として、連続式2軸混練機により固形分濃度７５〜９０重量％、磁性粉末に対するバインダ樹脂の割合が12〜30重量％で混練を行う。混練工程の後工程としては、連続式２軸混練機かまたは他の希釈装置を用いて、少なくとも1回以上のバインダ樹脂溶液および／または溶媒を加えて混練希釈する工程、サンドミル等のメディア型分散機による分散工程などにより塗料分散を行う。その後溶媒、潤滑剤、結合剤、を加えて希釈・配合・ろ過を行う。さらに前述したように高圧噴射衝突型分散機により再分散処理する工程を行い、必要に応じて超音波分散機などを塗布直前に行うことにより磁性塗料とすることが好ましい。なお高圧衝突型分散機による再分散処理については、メディア型分散機による分散工程の後であれば、前述したタイミングに限らずどのタイミングで用いてもよい。
【００５７】
以下に、先行技術との相違について説明する。
電磁変換特性を向上させる先行技術として例えば既述した特許文献１、５が挙げられる。また磁性塗料の再分散処理による分散性の向上については特許文献１０〜１１があげられる。
【００５８】
特許文献１に記載の技術は磁気記録媒体において、粒子サイズが平均長軸長で２５〜６５ｎｍ、平均軸比が３．５〜６の磁性金属粉末を含ませたものであり、本発明で用いられる磁性粉末の軸比とは相違し、さらに分散手段も相違するため、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００５９】
特許文献５に記載の技術は、磁気記録媒体において、平均板径が１０〜４０ｎｍの六方晶系フェライト磁性粉末が使用され、有機酸、有機酸塩による湿式処理がなされることについて規定しているが、本発明の分散方法とは相違するため、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００６０】
特許文献１０の記載の技術では、磁性層を形成する直前に磁性塗料をホモジナイザーで処理し、塗料の温度を２０〜３５℃に保つことが開示されている。しかし、ホモジナイザーの詳細な記載がなく、加圧手段、噴射衝突の有無などが不明瞭であり、磁性粉末が、長軸長：0.15μm、針状比：６のものを使用しており、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００６１】
特許文献１１の記載の技術では、磁性塗料の再分散処理として超音波処理装置を使用し、塗布（乾燥固化）までの時間について規定されている。しかし、磁性粉末に関する形状の規定がないことや、分散手段が相違するため、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００６２】
次に、本発明の磁気テープの構成要素についてさらに詳述する。
〈非磁性支持体〉
磁性支持体の厚さは、用途によって異なるが、通常、２〜５μｍのものが使用される。より好ましくは２．５〜４．５μｍである。この範囲の厚さの非磁性支持体が使用されるのは、２μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さくなり、５μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、テープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。
【００６３】
非磁性支持体の長手方向のヤング率は９．８ＧＰａ（１０００ｋｇ／ｍｍ２）以上が好ましく、１０．８ＧＰａ（１１００ｋｇ／ｍｍ２）以上がより好ましい。非磁性支持体の長手方向のヤング率が９．８ＧＰａ（１０００ｋｇ／ｍｍ２）以上がよいのは、長手方向のヤング率９．８ＧＰａ（１０００ｋｇ／ｍｍ２）未満では、テープ走行が不安定になるためである。また、ヘリキャルスキャンタイプでは、長手方向のヤング率（ＭＤ）／幅方向のヤング率（ＴＤ）は、０．６０〜０．８０の特異的範囲が好ましい。長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が、０．６５〜０．７５の範囲がより好ましい。長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が、０．６０〜０．８０の特異的範囲がよいのは、０．６０未満または０．８０を越えると、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入り側から出側間の出力のばらつき（フラットネス）が大きくなるためである。このばらつきは長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が０．７０付近で最小になる。さらに、リニアレコーディングタイプでは、長手方向のヤング率／幅方向のヤング率は、理由は明らかではないが、０．７０〜１．３０のが好ましい。このような特性を満足する非磁性支持体には二軸延伸の芳香族ポリアミドベースフィルム、芳香族ポリイミドフィルム等がある。
【００６４】
〈下塗層〉
下塗層の厚さは０．２μｍ以上、１．０μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以下がさらにより好ましい。この範囲が好ましいのは、０．２μｍ未満では、磁性層の厚さむら低減効果、耐久性向上効果が小さいためである。１．０μｍを越えると磁気テープの全厚が厚くなり過ぎてテープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。
【００６５】
下塗層には、膜厚の均一性、表面平滑性の確保、剛性、寸法安定性の制御のために、粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍ（より好ましくは１０ｎｍ〜４９ｎｍ）の非磁性板状粒子を添加する。非磁性板状粒子の成分は、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で、既述した製法で作製した板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粒子を添加する。下塗層には、下塗層中の全無機粉体の重量を基準にして、板状ＩＴＯ粒子を、１５〜９５重量％となるように添加する。１０ｎｍ〜１００ｎｍの板状のグラファイトのようなカーボンを板状のＩＴＯの代わりに使用してもよい。必要に応じてカーボンブラックを添加してもよい。カーボンブラックは粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。また、さらに、従来公知の酸化鉄、酸化アルミニウムなどの酸化物粒子を添加してもよい。その場合、できるだけ微粒子（例えば１０ｎｍ〜１００ｎｍ）のものを用いるのが好ましい。なお、下塗層に使用するバインダ樹脂は、磁性層と同様のものが用いられる。
【００６６】
〈潤滑剤〉
下塗層には磁性層と下塗層に含まれる全粉体に対して０．５〜５．０重量％の高級脂肪酸を含有させ、０．２〜３．０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、ヘッドとの摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲の高級脂肪酸添加が好ましいのは、０．５重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、５．０重量％を越えると下塗層が可塑化してしまい強靭性が失われるおそれがあるからである。また、この範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、０．２重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、３．０重量％を越えると磁性層への移入量が多すぎるため、テープとヘッドが貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるためである。脂肪酸としては、炭素数１０以上の脂肪酸を用いるのが好ましい。炭素数１０以上の脂肪酸としては、直鎖、分岐、シス・トランスなどの異性体のいずれでもよいが、潤滑性能にすぐれる直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられる。これらの中でも、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などが好ましい。磁性層における脂肪酸の添加量としては、下塗層と磁性層の間で脂肪酸が転移するので、特に限定されるものではなく、磁性層と下塗層を合わせた脂肪酸の添加量を上記の量とすればよい。下塗層に脂肪酸を添加すれば、必ずしも磁性層に脂肪酸を添加しなくてもよい。
【００６７】
磁性層には磁性粉末に対して０．５〜３．０重量％の脂肪酸アミドを含有させ、０．２〜３．０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、テープ走行時の摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲の脂肪酸アミドが好ましいのは、０．５重量％未満ではヘッド／磁性層界面での直接接触が起りやすく焼付き防止効果が小さく、３．０重量％を越えるとブリードアウトしてしまいドロップアウトなどの欠陥が発生するおそれがあるからである。脂肪酸アミドとしてはパルミチン酸、ステアリン酸等の炭素数が１０以上の脂肪酸アミドが使用可能である。また、上記範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、０．２重量％未満では摩擦係数低減効果が小さく、３．０重量％を越えるとヘッドに貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるためである。なお、磁性層の潤滑剤と下塗層の潤滑剤の相互移動を排除するものではない。
【００６８】
〈分散剤〉
下塗層や磁性層に含まれる非磁性粉末やカーボンブラック、磁性粉末は、分散剤としては、リン酸系分散剤、カルボン酸系分散剤、アミン系分散剤、キレ―ト剤、各種シランカップリング剤などが好適なものとして用いられる。これらの分散剤は、混練前処理工程、混練工程や初期分散工程の後に配合するのが好ましい。リン酸系分散剤としては、リン酸モノメチル、リン酸ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチルなどのアルキルリン酸エステル類、フエニルホスホン酸、モノオクチルフエニルホスホン酸などの芳香族リン酸類などが挙げられ、市販品として、東邦化学製の「ＧＡＲＦＡＣ ＲＳ４１０」、城北化学工業製の「ＪＰ−５０２」、「ＪＰ−５０４」、「ＪＰ−５０８」などを用いることができる。また、カルボン酸系分散剤としては、安息香酸、フタル酸、テトラカルボキシルナフタレン、ジカルボキシルナフタレン、炭素数１２〜２２の脂肪酸などが挙げられる。
【００６９】
アミン系分散剤としては炭素数８〜２２の脂肪族アミン、芳香族アミン、アルカノールアミン、アルコキシアルキルアミン等がある。さらに、キレ―ト剤としては、１，１０−フエナントロリン、ＥＤＴＡ、ジメチルグリオキシム、アセチルアセトン、グリシン、ジチアゾン、ニトリロ三酢酸などが挙げられる。これら分散剤の使用量としては、磁性粉末１００重量部あたり、０．５〜５重量部となる割合とするのが好ましい。
【００７０】
分散剤は、いずれの層においても結合剤１００重量部に対して通常、０．５〜２０重量部の範囲で添加される。
【００７１】
〈磁性層〉
磁性層の厚さは、０．０１μｍ以上、０．１μｍ未満が好ましく、０．０６μｍ以下がより好ましく、０．０４μｍ以下がさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、０．０１μｍ未満では得られる出力が小さいのと、均一な磁性層を塗布するのが困難であり、０．１μｍを超えると短波長記録に対する分解能が低下するためである。
【００７２】
磁性層（下塗層の場合も同様）に用いるバインダ樹脂としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂の中から選ばれる少なくとも１種と、ポリウレタン樹脂とを組み合わせものが挙げられる。中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体とポリウレタン樹脂を併用するのが好ましい。ポリウレタン樹脂には、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタンなどがある。
【００７３】
官能基として、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）３、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２［これらの式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩を示す］、−ＯＨ、−ＮＲ'Ｒ''、−Ｎ＋Ｒ'''Ｒ''''Ｒ'''''［これらの式中、Ｒ'、Ｒ''、Ｒ'''、Ｒ''''、Ｒ'''''は水素または炭化水素基を示す］、エポキシ基を有する高分子からなるウレタン樹脂等のバインダ樹脂が使用される。このようなバインダ樹脂を使用するのは、上述のように磁性粉末等の分散性が向上するためである。２種以上の樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ３Ｍ基どうしの組み合わせが好ましい。
【００７４】
これらのバインダ樹脂は、磁性粉末１００重量部に対して、７〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重量部の範囲で用いられる。特に、バインダ樹脂として、塩化ビニル系樹脂５〜３０重量部と、ポリウレタン樹脂２〜２０重量部とを、複合して用いるのが最も好ましい。
【００７５】
これらのバインダ樹脂とともに、バインダ樹脂中に含まれる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤を併用するのが望ましい。この架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどや、これらのイソシアネート類とトリメチロールプロパンなどの水酸基を複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネート類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネートが好ましい。これらの架橋剤は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常１〜３０重量部の割合で用いられる。より好ましくは５〜２０重量部である。しかし、下塗層の上にウエット・オン・ウエットで磁性層が塗布される場合には下塗塗料からある程度のポリイソシアネートが拡散供給されるので、ポリイソシアネートを併用しなくても磁性層はある程度架橋される。
【００７６】
また、磁性層には、粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍの非磁性板状粒子を添加してもよい。また、必要に応じて、従来公知の研磨材を添加することができるが、これらの研磨材としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上のものが単独または組み合せで使用される。研磨材の粒径としては、厚みが０．０１〜０．０９μｍと薄い磁性層では、通常粒子径（数平均粒子径）で１０ｎｍ〜１５０ｎｍとすることが好ましい。添加量は磁性粉末に対して５〜２０重量％が好ましい。より好ましくは８〜１８重量％である。
【００７７】
さらに、本発明の磁性層には導電性向上のために、既述した製法で作製した板状ＩＴＯ粒子、板状カーボンブラック、導電性向上と表面潤滑性向上を目的に従来公知のカーボンブラック（ＣＢ）を添加することができるが、これらのカーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。この範囲が好ましいのは、粒子径が１０ｎｍ以下になるとカーボンブラックの分散が難しく、１００ｎｍ以上では多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、出力低下の原因になるためである。添加量は磁性粉末に対して０．２〜５重量％が好ましい。より好ましくは０．５〜４重量％である。
【００７８】
〈バックコート層〉
本発明の磁気テープを構成する非磁性支持体の他方の面（磁性層が形成されている面とは反対側の面）には、走行性の向上等を目的としてバックコート層を設けることができる。バックコート層の厚さは０．２〜０．８μｍが好ましい。この範囲が良いのは、０．２μｍ未満では、走行性向上効果が不充分で、０．８μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、１巻当たりの記録容量が小さくなるためである。カーボンブラック（ＣＢ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。通常、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックを使用する。小粒径カーボンブラックには、粒子径（数平均粒子径）が５ｎｍ〜２００ｎｍのものが使用されるが、粒子径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものがより好ましい。この範囲がより好ましいのは、粒子径が１０ｎｍ以下になるとカーボンブラックの分散が難しく、粒子径が１００ｎｍ以上では多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）原因になるためである。大粒径カーボンブラックとして、小粒径カーボンブラックの５〜１５重量％、粒子径３００〜４００ｎｍの大粒径カーボンブラックを使用すると、表面も粗くならず、走行性向上効果も大きくなる。小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラック合計の添加量は無機粉体重量を基準にして６０〜９８重量％が好ましく、７０〜９５重量％がより好ましい。中心線平均表面粗さＲａは３〜８ｎｍが好ましく、４〜７ｎｍがより好ましい。バックコート層に磁性があると磁気記録層の磁気信号が乱れる場合があるので、通常、バックコート層は非磁性である。
【００７９】
また、バックコート層には、強度、温度・湿度寸法安定性向上等を目的に、先に述べたような粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍの非磁性板状粒子を添加することができる。非磁性板状粒子の成分は、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で、既述した製法で作製した板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粒子や板状カーボンブラックを添加してもよい。バックコート層には、バックコート層中の全無機粉体の重量を基準にして、板状ＩＴＯ粒子とカーボンブラックを、その合計量が６０〜９８重量％となるように添加する。カーボンブラックは粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。また、必要に応じて、粒子径が０．１μｍ〜０．６μｍの酸化鉄を添加してもよい。添加量はバックコート層中の全無機粉体の重量を基準にして２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。
【００８０】
バックコート層には、バインダ樹脂として、前述した磁性層や下塗層に用いる樹脂と同じものを使用できるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を向上させるため、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを複合して併用することが好ましい。バインダ樹脂の含有量は、通常、前記カーボンブラックと前記無機非磁性粉末との合計量１００重量部に対して４０〜１５０重量部、好ましくは５０〜１２０重量部、より好ましくは６０〜１１０重量部、さらに好ましくは７０〜１１０重量部である。前記範囲が好ましいのは、５０重量部未満では、バックコート層の強度が不十分であり、１２０重量部を越えると摩擦係数が高くなりやすいためである。セルロース系樹脂を３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂を２０〜５０重量部使用することが好ましい。また、さらにバインダ樹脂を硬化するために、ポリイソシアネート化合物などの架橋剤を用いることが好ましい。
【００８１】
バックコート層には、前述した磁性層や下塗層に用いる架橋剤と同様の架橋剤を使用する。架橋剤の量は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、１０〜５０重量部の割合で用いられ、好ましくは１０〜３５重量部、より好ましくは１０〜３０重量部である。前記範囲が好ましいのは、１０重量部未満ではバックコート層の塗膜強度が弱くなりやすく、３５重量部を越えるとＳＵＳに対する動摩擦係数が大きくなるためである。
【００８２】
〈有機溶剤〉
磁性塗料、下塗塗料、バックコート塗料に使用する有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で又は混合して使用され、さらにトルエンなどと混合して使用される。
【実施例】
【００８３】
以下に実施例によって本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の部は重量部を示す。また、実施例および比較例の平均粒子径は、数平均粒子径を示す。
【００８４】
実施例１：
《下塗塗料成分》
（１）
・非磁性板状酸化鉄粉末（平均粒子径：５０ｎｍ） ７６部
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ） ２４部
・ステアリン酸 ２．０部
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 ８．８部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：0.７×１０-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂 ４．４部
（Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ２５部
・メチルエチルケトン ４０部
・トルエン １０部
（２）
・ステアリン酸 １部
・ステアリン酸ブチル １部
・シクロヘキサノン ７０部
・メチルエチルケトン ５０部
・トルエン ２０部
（３）
・ポリイソシアネート １．４部
・シクロヘキサノン １０部
・メチルエチルケトン １５部
・トルエン １０部
【００８５】
《磁性塗料成分》
（１）混練工程
・磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ） １００部
（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、
Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％
σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、
平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １３部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：0.７×１０-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂（ＰＵ） ４．５部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：1.０×１０-4当量／ｇ）
・粒状アルミナ粉末（平均粒子径：８０ｎｍ） １０部
・メチルアシッドホスフェート（ＭＡＰ） ３部
・テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ２０部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ９部
（２）希釈工程
・パルミチン酸アミド（ＰＡ） ２．５部
・ステアリン酸ｎ−ブチル（ＳＢ） １部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ３５０部
（３）配合工程
・ポリイソシアネート １．５部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ２９部
【００８６】
上記の下塗塗料成分において（１）を回分式ニーダで混練したのち、（２）を加えて攪拌の後サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに（３）を加え攪拌・濾過した後、下塗塗料（下塗層用塗料）とした。
【００８７】
これとは別に、上記の磁性塗料の成分において（１）混練工程成分を予め高速混合しておき、その混合粉末を連続式２軸混練機で混練し、さらに（２）希釈工程成分を加え連続式２軸混練機で少なくとも２段階以上に分けて希釈を行い、サンドミルで滞留時間を６０分（メディア：ジルコニア０．５φ、ビーズ充填率８０vol%、羽根周速１０ｍ／ｓ）として分散し、これに（３）配合工程成分を加え攪拌・ろ過後、高圧湿式噴射衝突型分散機（衝突チャンバーのパターン図１-a）にて、オリフィス径０．２ｍｍ,加圧条件を１５０ＭＰａとして、衝突チャンバーを2回通過させて、再分散処理を行い磁性塗料とした。なお衝突チャンバーのジャケットには５℃の冷却水を１０L/minで流すとともに、チャンバー通過後に設置させた熱交換プレート内へも同様の流量で冷却水を流した。
【００８８】
上記の下塗塗料を、芳香族ポリアミドフィルム（厚さ３．９μｍ、ＭＤ＝１１ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝０．７、商品名：ミクトロン、東レ社製）からなる非磁性支持体（ベースフィルム）上に、乾燥、カレンダ後の厚さが０．９μｍとなるように塗布し、この下塗層上に、さらに上記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダ処理後の磁性層の厚さが０．０９０μｍとなるようにエクストルージョン型コータにてウエット・オン・ウエットで塗布し、磁場配向処理後、ドライヤおよび遠赤外線を用いて乾燥し、磁気シートを得た。
【００８９】
《バックコート層用塗料成分》
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ） ８０部
・カーボンブラック（平均粒子径：３５０ｎｍ） １０部
・非磁性板状酸化鉄粉末（平均粒子径：５０ｎｍ） １０部
・ニトロセルロース ４５部
・ポリウレタン樹脂（−ＳＯ3Ｎａ基含有） ３０部
・シクロヘキサノン ２６０部
・トルエン ２６０部
・メチルエチルケトン ５２５部
【００９０】
上記バックコート層用塗料成分をサンドミルで滞留時間４５分として分散した後、ポリイソシアネート１５部を加えてバックコート層用塗料を調整しろ過後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ後の厚みが０．５μｍとなるように塗布し、乾燥した。
【００９１】
このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍの条件で鏡面化処理し、磁気シートをコアに巻いた状態で７０℃にて７２時間エージングし、バック層付き磁気シートを得た。
磁気シートをスリットマシンにより１／２インチ幅に裁断した。
【００９２】
スリットマシン（磁気テープ原反を所定幅の磁気テープに裁断する装置）は、構成している各種要素を下記のように改良したものを用いた。巻き出し原反からスリット刃物群に至るウェブ経路中にテンションカットローラを設け、このテンションカットローラをサクションタイプとし、吸引部は多孔質金属を埋め込んだメッシュサクションとした。刃物駆動部に動力を伝達する機構を持たないモータ直結のダイレクトドライブとした。
【００９３】
上記のようにして得られた磁気テープを、カートリッジに組み込み、コンピュータ用テープを作製した。
【００９４】
実施例２：
高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーの冷却機構を用いなかった以外は、実施例１と同様にして実施例２のコンピュータ用テープを作製した。
【００９５】
実施例３：
高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーを図１-ｃに変更し、衝突チャンバーの冷却機構をジャケット冷却方式から塗料循環自己冷却方式（分散塗料を４ｋｇ／ｍｉｎで自己循環）に変更し、オリフィス径を０．２ｍｍから０．１５ｍｍに変更した以外は実施例１と同様にして実施例３のコンピュータ用テープを作製した。
【００９６】
実施例４：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから２５０MPsに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例４のコンピュータ用テープを作製した。
【００９７】
実施例５：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（σｓ：７５Ａ・ｍ２／ｋｇ（７５ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１７０ｋＡ／ｍ（２１３５Ｏｅ）、平均粒子径：１４ｎｍ、軸比：１．１）に変更し、磁性層の厚みを０．０９０μmから０．０９５μｍに変更した以外は実施例１と同様にして実施例５のコンピュータ用テープを作製した。
【００９８】
実施例６：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ba−Ｆｅ）（σｓ：５１Ａ・ｍ２／ｋｇ（５１ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６３．２ｋＡ／ｍ（２０５１Ｏｅ）、平均粒子径：２４ｎｍ、板状比：２．８）に変更し、磁性層の厚みを０．０９０μmから０．０８５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例６のコンピュータ用テープを作製した。
【００９９】
実施例７：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１１０Ａ・ｍ２／ｋｇ（１１０ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６４ｋＡ／ｍ（２０６０Ｏｅ）、平均粒子径：４０ｎｍ、軸比：２．９）に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例７のコンピュータ用テープを作製した。
【０１００】
実施例８：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから４０MPsに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例８のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０１】
実施例９：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから２６０MPsに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例９のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０２】
実施例１０：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから２６０MPsに変更し、高圧噴射衝突型分散機のパス回数を２パスから１パスに変更し、磁性層を０．０９０μｍから０．１０８μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例１０のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０３】
比較例１：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１２５Ａ・ｍ２／ｋｇ（１２５ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１７９ｋＡ／ｍ（２２５０Ｏｅ）、平均粒子径：４５ｎｍ、軸比：３．５）に変更し、磁性層の厚さを０．０９０μｍから０．１１５μｍに変更し、高圧噴射衝突型分散機を使用しなかったこと以外は、実施例１と同様にして比較例１のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０４】
比較例２：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１２５Ａ・ｍ２／ｋｇ（１２５ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１７９ｋＡ／ｍ（２２５０Ｏｅ）、平均粒子径：４５ｎｍ、軸比：３．５）に変更した以外は、実施例１と同様にして比較例２のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０５】
比較例３：
磁性塗料のサンドミルによる分散工程を省き、高圧噴射衝突型分散機の分散パス回数を２パスから６パスに変更した以外は、実施例１と同様にして比較例３のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０６】
比較例４：
高圧噴射衝突型分散機を使用しなかったこと以外は、実施例１と同様にして比較例４のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０７】
比較例５：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ba−Ｆｅ）（σｓ：５０Ａ・ｍ２／ｋｇ（５０ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６４．８ｋＡ／ｍ（２０７０Ｏｅ）、平均粒子径：２４ｎｍ、軸比：３．２）に変更した以外は、実施例１と同様にして比較例５のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０８】
比較例６：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１０８Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０８ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６７．２ｋＡ／ｍ（２１００Ｏｅ）、平均粒子径：４０ｎｍ、軸比：３．５）に変更した以外は、実施例１と同様にして比較例７のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０９】
評価の方法は、以下のように行った。
〈磁性層厚さ〉
試料の磁気記録媒体を樹脂埋めし、それを集束イオンビーム加工装置で厚さ方向の断面を切り出し、その断面を走査型電子顕微鏡(ＳＥＭ)で１０万倍にて１０視野の写真撮影を行い、磁性層表面、磁性層−下塗層界面を縁取りする。つぎに、写真１視野当り、界面に非磁性粉末のかかっていない任意の５個所（計５０個所）を選び、それぞれ縁取りした線間の距離を磁性層の厚さとして計測し、それらを平均して磁性層厚さとした。
【０１１０】
〈磁性粉末の粒子径〉
上記と同様の方法で必要枚数の磁性層断面の写真撮影を行い、磁性層中の磁性粉末の外形を縁取りする。その外径の最大さしわたしを粒子径として計測する。１００個の磁性粉末を計測し、その平均値を平均粒子径とした。
【０１１１】
〈磁性層の表面粗さ〉
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００による走査型白色光干渉法にてＳｃａｎ Ｌｅｎｇｔｈを５μｍで測定した。測定視野は、３５０μｍ×２６０μｍである。磁性層の中心線平均表面粗さをＲａとして求めた
【０１１２】
〈Ｃ／Ｎ測定〉
テープの電磁変換特性測定には、ドラムテスターを用いた。ドラムテスターには電磁誘導型ヘッド（トラック幅２５μm、ギャップ０．２μm）とＭＲヘッド（トラック幅８μm）を装着し、誘導型ヘッドで記録、ＭＲヘッドで再生を行った。両ヘッドは回転ドラムに対して異なる場所に設置されており、両ヘッドを上下方向に操作することで、トラッキングを合わせることができる。磁気テープはカートリッジに巻き込んだ状態から適切な量を引き出して廃棄し、更に６０ｃｍを切り出し、更に４ｍｍ幅に加工して回転ドラムの外周に巻き付けた。
【０１１３】
出力及びノイズは、ファンクションジェネレータにより矩形波を記録電流電流発生器に入力制御し、波長０．２μmの信号を書き込み、ＭＲヘッドの出力をプリアンプで増幅後、スペクトラムアナライザーに読み込んだ。０．２μmのキャリア値を媒体出力Ｃとした。また０．２μmの矩形波を書き込んだときに、記録波長０．２μm以上に相当するスペクトルの成分から、出力及びシステムノイズを差し引いた値の積分値をノイズ値Ｎとして用いた。更に両者の比をとってＣ／Ｎとし、Ｃ、Ｃ／Ｎともに比較例１のテープの値との相対値を求めた。
【０１１４】
<分散安定性>
分散安定性の評価には、前述した重層塗布用として配合した磁性塗料と、6hrエージングした塗料の塗膜角形比（ＳＱ）の劣化率を尺度として用いた。なおここでの塗膜角形比の劣化率は、アプリケータによる簡易塗布直後に、５ｋＯｅの反発磁場中にて自然乾燥させ得られた塗膜を、試料振動形磁束計で外部磁場1２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定し、（ＳＱ(エージング前)−ＳＱ（6hrエージング後））/ＳＱ（エージング前）＊１００より求めた。
【０１１５】
表１および表２に各コンピュータ用テープの評価結果を示した。表から明らかなように、本発明に係る実施例１〜１０の各コンピュータ用テープは、磁性粉末の形状、粒子径、およびメディア型分散機による分散処理後に高圧噴射衝突型にて再分散処理を行っており、本発明の対象内の磁気記録媒体であり、請求項１を満たさない本発明の対象外の比較例１〜６の各コンピュータ用テープに比較してＣ／Ｎが高く、角形比の劣化率が小さい。
【０１１６】
【表１】
【０１１７】
【表２】
【０１１８】
次に、図２、図３を用いて、本発明の請求項２にある高圧噴射衝突型分散機の加圧条件の臨界的意義等を明らかにする。図２には、前記分散機の圧力と、テープのＣ／Ｎの関係を示す。実施例１を基本組成とし、圧力の範囲変化させて実験を行った。図から明らかなように、圧力の範囲が５０〜２５０Ｍｐａの範囲内では、Ｃ／Ｎが１．０（ｄＢ）を上回り、該範囲外に比べてより好ましいことが分かる。
【０１１９】
また図３には、前記分散機の圧力と、簡易塗膜の角形比劣化率の関係を示す。図から明らかなように、圧力の範囲が５０〜２５０Ｍｐａの範囲内では角形比劣化率が１．０（％）より小さくなり、該範囲外に比べてより好ましいことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造装置である高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーの諸代表例を示す概略図である。
【図２】高圧噴射衝突型分散機の加圧条件とテープＣ／Ｎとの関係を示す図である。
【図３】高圧噴射衝突型分散機の加圧条件と分散安定性との関係を示す図である。
【符号の説明】
【０１２１】
１ 噴射ノズル
２ 塗料流入口
３ 塗料排出口
４ 冷却水流入口
５ 冷却水排出口
６ 塗料循環冷却用の流入口
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気抵抗型の再生ヘッド（ＭＲヘッド）を用いる磁気記録再生システムに好適な高記録密度特性に優れた塗布型の磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気テープは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュータ用テープなど種々の用途があるが、特にデータバックアップ用テープの分野では、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、１巻当たり数１０〜２００ＧＢの記録容量のものが商品化されている。また、今後１ＴＢを超える大容量バックアップテープが提案されており、その高記録密度化は不可欠である。
【０００３】
高記録容量化のための手段として、記録再生装置からのアプローチでは，記録信号の短波長化やトラックピッチの狭幅化が用いられるが、これにより磁気テープからの漏れ磁束が小さくなるため、再生ヘッドに微小磁束でも高い出力が得られるＭＲヘッドを使用することが主流となってきている。
【０００４】
媒体からのアプローチでは、磁性粉末の微粒子化とともに、磁気特性の改善がはかられており、従来は、オーディオ用や家庭用のビデオテープに使用されていた強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、酸化クロムなどの磁性粉末が主流であったが、現在では、コンピュータ用テープとして、粒子サイズが２５〜６５ｎｍ程度の針状の強磁性鉄系金属粉が提案されている。（特許文献１）
【０００５】
また、短波長記録時の減磁による出力低下を防止するために、磁性粉末の高保磁力化がはかられ、鉄−コバルトの合金化により、１９８．９ｋＡ／ｍ程度の保磁力が実現されている（特許文献２〜４）。
【０００６】
また低ノイズ化を実現するための磁性粉末として、粒子形状が板状で、粒子サイズ（粒子径）が１０〜４０ｎｍ程度の微粒子のバリウムフェライト磁性粉末や（特許文献５）、結晶磁気異方性を有することで、微粒子化と高保磁力化を両立できる磁性粉末として、形状が球状乃至粒状で、粒子サイズが５〜２００ｎｍ程度のホウ素含有強磁性鉄系金属磁性粉（特許文献６）や、５〜５０ｎｍ程度の窒化鉄磁性粉（特許文献７）が提案されている。
【０００７】
一方、媒体製造技術側からのアプローチでは、微粒子磁性粉末を含む磁性層成分に対する混練・分散処理（特許文献９）、塗布直前の再分散処理（特許文献１０、１１）、磁性層の下に非磁性の下塗り層を設ける同時重層塗布（特許文献１２）、さらには塗布工程後に行われる高圧カレンダ処理（特許文献１３）などの技術の改善により、磁性層の充填性、配向性、表面平滑性が向上し、媒体のＳ/Ｎが向上することが知られている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−７９００４号公報
【特許文献２】特開平３−４９０２６号公報
【特許文献３】特開平５−２３４０６４号公報
【特許文献４】特開平６−２５７０２号公報
【特許文献５】特開２００４-３０８２８号公報
【特許文献６】特開２００１−１８１７５４号公報
【特許文献７】ＷＯ０３/０７９３３Ａ１パンフレット
【特許文献８】特開平３−１７８２７号公報
【特許文献９】特開２００４−２２１５８号公報
【特許文献１０】特開２００１−６１７１号公報
【特許文献１１】特開２００３−１１５１０７号公報
【特許文献１２】特開昭６３−１８７４１８号公報
【特許文献１３】特公平７−６０５０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、高密度磁気記録媒体（例えば１ＴＢ以上の容量に対応）を作製するにあたり、上記のような従来公知の技術では、微粒子磁性粉末を高いレベルで充填し、十分分散するのは、ほぼ限界に達している。
【００１０】
磁性粉末の改良に関しては、針状の磁性粉末を使用する限り、粒子サイズは実用上４０ｎｍ程度が限度である。なぜなら、これよりも微粒子化すると、飽和磁化、保磁力が低下するのみならず、比表面積が著しく大きくなり、磁性塗料中で磁性粉末の粒子一個一個を独立した状態にまで解しきることができず、結果として大きな磁性粒子として振る舞い、高いレベルの平滑性、充填性、磁気特性、を得ることができないためである。
【００１１】
一方、特許文献５等に開示されているバリウムフェライト磁性粉末の形状、粒子サイズ（粒子径）は、針状の磁性粉末に比べて微粒子化が可能で、高Ｈｃのものが得られるが、形状が六方晶の板状粉末であるため、板状の面と面とで密着し、極めて強い凝集体を形成するため、微細分散することができず、また、所望のテープ特性を得ることが困難であった。
【００１２】
また、特許文献６、７に開示されているホウ素含有強磁性鉄系金属磁性粉末や窒化鉄磁性粉末は高Ｈｃ、高飽和磁化量のものが得られ、粒子形状が本質的に球状ないし楕円状であるため、比表面積が最小となる球形に近い形状をとり、従来の磁性粉末と比べて、バインダ樹脂との相互作用を小さくすることでき、分散には有利に働き、磁性粉末としては、最も好ましい。しかしながら、この文献に記載の磁性塗料の製造方法では磁性粉末の粒子一個一個を独立した状態にまでには解すことが困難で、分散安定性についても未だ不十分であり、所望のテープ特性を得るには至っていない。
【００１３】
このように、たとえ磁気特性が優れ微粒子化した磁性粉末を使用しても、従来技術では高いレベルでの分散性や分散安定性を確保することが困難であるため、所望の平滑性、充填性、磁気特性を有する磁性層を形成することができず、高記録密度特性を満足させるまでには至っていなかった。
【００１４】
本発明は、上記課題を解決すべくなされたものであり、高密度磁気記録媒体において、１ＴＢ容量以上に対応するための高記録密度特性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、上記の目的を達成するため、ＭＲヘッドを用いる磁気記録再生システムに好適な磁気記録媒体として、非磁性支持体の一方の面に、無機粉体を含む下塗塗料を塗布することにより形成された下塗層と、この下塗層の上に、強磁性粉末を含む磁性塗料を塗布することにより形成された磁性層とを有し、次のような構成としたことを特徴とする。
【００１６】
前記磁性粉末として、形状が略粒状で、粒子径が１０〜４０nmである強磁性粉末を使用し、この磁性粉末を含む磁性層を形成するに当たっては、前記磁性塗料が、予めメディア型分散機にて分散処理された後、高圧噴射衝突型分散機により再分散処理を経て製造されたものを用いることを特徴とする。（請求項１）
【００１７】
前記高圧噴射衝突型分散機には加圧手段を有し、磁性塗料への加圧条件が５０〜２５０ＭＰaとして分散処理されることを特徴とする。
前記磁性層の厚さが０．１μｍ未満とすることを特徴とする。（請求項３）
【００１８】
このような構成によれば、磁性層の平滑性、充填性、磁気特性（高残留密度化）を高いレベルに向上させることができ、結果として優れた高記録密度特性を有する磁気記録媒体が得られる。
【００１９】
なお、略粒状磁性粉末とは、球状磁性粉末、および針状磁性粉末の場合は軸比（長軸長/短軸長）が３未満の、板状磁性粉末の場合は板状比(板径/板厚さ)が３未満の磁性粉末を称する。
【発明の効果】
【００２０】
微粒子で、略粒状の磁性粉末を用い、予めメディア型分散機にて分散処理後、高圧噴射衝突型分散機により再分散処理を経て製造した磁性塗料を使用して磁性塗膜を形成するので、高充填で平滑な磁性塗膜が形成でき、高記録密度特性に優れた磁気記録媒体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明に用いられるＭＲヘッド型記録再生装置においては、従来の電磁誘導ヘッド型記録再生装置に比べて再生感度が高い反面、これまで注意が払われなかった微小なノイズも同時に読み出されやすくなる。特に、短波長記録領域ほど、媒体ノイズの影響が大きく、ノイズを低下させることが大きな課題となっていた。
【００２２】
そのためには磁性層の塗膜の単位体積中に含まれる磁性粉末粒子の数をできるだけ多くすることが必要で磁性粉末の粒子径（粒子体積）を小さくし、充填性を大きくすることが好ましい。
このような観点から本発明者らは磁性粉末の形状にまず着目した。
【００２３】
磁性粉末の形状は、従来、針状、板状が一般的であったが、最近では先述したように球状（粒状）のものも提案されている（特許文献６、特許文献７）。磁気記録媒体の磁性塗膜を形成する際に、一般に磁性粉末を配向させる工程が設けられ、これにより再生出力を大きくしている。針状、板状など形状異方性のある磁性粉末を使用した場合、この工程で配向方向にこれらの磁性粉末が配列するが、完全に配列することはなく、ある割合の磁性粉末は、形状的に配列を乱す形になって磁性粉末の充填性を低下させるので、前述したノイズの低減には障害となる場合がある。ところが球状の磁性粉末の場合は、形状異方性がないために配向の乱れによるによる充填構造の乱れは生じないので高い充填度の塗膜が得られる。本発明者らの検討によれば、前述の観点から針状磁性粉末や板状磁性粉末であっても針状比（長軸長／短軸長）や板状比（板径／板厚さ）が１に近づくと粒状粉と同様の効果が得られ、針状比や板状比は３未満が好ましく、２以下がさらに好ましいことが分かった。
【００２４】
磁性層中に含ませる磁性粉末の平均粒子径としては、１０〜４０ｎｍの範囲にあるのが好ましく、１５〜３０ｎｍの範囲がより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が１０ｎｍ未満では、粒子の表面エネルギーが大きくなって分散が困難になり、平均粒子径が４０ｎｍを越えるとノイズが大きくなるためである。磁性粉末としては、強磁性鉄系金属磁性粉末や窒化鉄磁性粉末、板状の六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉末等が好ましい。
【００２５】
強磁性鉄系金属磁性粉末には、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏなどの遷移金属を合金として含ませてもよい。その中でも、Ｃｏ、Ｎｉが好ましく、とくにＣｏは飽和磁化を最も向上できるので、好ましい。上記の遷移金属元素の量としては、鉄に対して、５〜５０原子％とするのが好ましく、１０〜３０原子％とするのがより好ましい。また、イツトリウム、セリウム、イツテルビウム、セシウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、ユ―ロピウム、ネオジム、テルビウムなどから選ばれる少なくとも１種の希土類元素を含ませても良い。その中でも、セリウム、ネオジムとサマリウム、テルビウム、イツトリウムを用いたときに、高い保磁力が得られ好ましい。希土類元素の量は鉄に対して０．２〜２０原子％、好ましくは０．３〜１５原子％、より好ましくは０．５〜１０原子％である。
【００２６】
強磁性鉄系金属磁性粉末にホウ素を含ませてもよい。ホウ素を含ませることにより、平均粒子径が４０ｎｍ以下の粒状ないし楕円状の超微粒子が得られる。また同ホウ素の量は、磁性粉末全体中、鉄に対して０．５〜３０原子％、好ましくは１〜２５原子％、より好ましくは２〜２０原子％である。上記両原子％は、蛍光Ｘ線分析により測定される値である（特許文献６）。
【００２７】
窒化鉄磁性粉末は，公知のものを用いることができ，形状は針状の他に球状や立方体形状などの不定形のものを用いることができる。粒子径や比表面積については磁気記録用の磁性粉末としての要求特性をクリアするためには，限定した磁性粉末の製造条件とすることが必要である(特許文献７)。
【００２８】
強磁性鉄系金属磁性粉末および窒化鉄磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍがより好ましい。飽和磁化量は、６０〜２００Ａ・ｍ２／kg（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）が好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ２／kg（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）がより好ましい。
【００２９】
強磁性鉄系金属磁性粉末および窒化鉄磁性粉末の平均粒子径としては、１０〜４０ｎｍが好ましく、１３〜２０ｎｍがより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が１０ｎｍ未満となると、保磁力が低下したり、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中での分散が困難になったり、平均粒子径が４０ｎｍより大きいと、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるためである。また、この強磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ２／ｇ以上が好ましく、４０ｍ２／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ２／ｇ以上が最も好ましい。通常１００ｍ２／ｇ以下である。
【００３０】
また、前記強磁性鉄系金属磁性粉、窒化鉄磁性粉末をＡｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｙ，Ｚｒまたは、これらの酸化物で表面処理して使用してもかまわない。
【００３１】
六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化量は、４０〜６０Ａ・ｍ２／ｋｇ（４０〜６０ｅｍｕ／ｇ）が好ましい。また，粒径（板面方向の大きさ）は１０〜３０ｎｍが好ましく、１０〜２５ｎｍがより好ましく、１０〜２０ｎｍがさらに好ましい。粒径が１０ｎｍ未満となると、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中への分散が困難になり、３０ｎｍを越えると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなる。また、板状比（板径／板厚）は３未満が好ましく、２以下がより好ましい。また、六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ2／ｇが好ましく用いられる。
【００３２】
なお、これらの強磁性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動形磁束計で外部磁場1２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうものである。
【００３３】
また、上記の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて撮影した磁性層断面の写真から各粒子の最大径（針状粉では長軸径、板状粉では板径）を実測し、１００個の平均値により求めたものである。
【００３４】
ところで長手記録の本質的な課題である、記録および再生減磁による出力低下の影響を低減するには、上層磁性層の厚さを薄くすることが有効であるが、長軸方向の粒子サイズが４０〜１００ｎｍ程度の針状の磁性粉未を使用する限り、上層磁性層の厚さにも限界が生じる。なぜなら、磁界配向により、針状粒子は、平均的に針状方向が媒体の面内方向に並行になるように並ぶが、この配向には分布があるため、針状方向が媒体面に垂直になるように分布した粒子も存在する。このような粒子が存在すると、針状の磁性粉未が上層磁性層表面から突き出て、媒体の表面平滑性を損ない、ノイズを著しく増大させる原因となる。この問題は、上層磁性層の厚さが薄くなるほど顕著になるため、針状の磁性粉未を使用する限り、上層磁性層の厚さが0．０９μm程度以下で表面の平滑な塗膜を作製することは難しいのが現状である。
【００３５】
これに対して、本発明に用いる磁性粉未は、粒子サイズが小さいだけでなく、粒子形状が球形に近い略粒状をとるため、針状の磁性粉未のように上層磁性層の表面から粒子が突き出るような現象は生じず、さらに本発明にある高圧噴射衝突型分散機による処理をすることにより微細分散ができ、表面平滑性が極めて良好な上層磁性層を形成できる。また、上層磁性層の厚さが薄くなると、上層磁性層からの磁束が小さくなり、その結果、出力が低下する問題を生じるが、本発明に使用する上記磁性粉未は、粒子形状が略粒状であるため、針状の磁性粉未に比べて、磁性粉未を上層磁性層中に高充填しやすく、その結果、高磁束密度が得られやすいという大きな利点も有している。
【００３６】
さらに、飽和磁化についていえば、金属または合金磁性粉未は、一般に、粒子サイズが小さくなると比表面積が大きくなって、飽和磁化に寄与しない表面酸化層の割合が大きくなり、飽和磁化に寄与する磁性体部分が小さくなる。つまり、粒子サイズが小さくなるにしたがい、飽和磁化も小さくなる。このような飽和磁化の減少も、使用可能な粒子サイズの限界を決める要因のひとつとなっている。これに対して、本発明に使用する上記磁性粉末は、粒子形状が略粒状であるため、同一体積で比較した場合、比表面積は最小となり、微粒子であるにもかかわらず、高い飽和磁化を維持することが可能となるのである。
【００３７】
以上のように、本発明に使用する上記略粒状磁性粉未は、飽和磁化、保磁力、粒子サイズ、粒子形状のすべてが薄層の上層磁性層を得るのに本質的に適しており、さらに高圧噴射衝突型分散機による処理が微細分散に極めて有効に働き、磁気記録媒体を作製したときに、すぐれた記録再生特性が得られる。
【００３８】
なお、上層磁性層（情報記録層）のテープ長手方向の残留磁束密度と磁性層厚さの積は、０．００１８〜０．０５μＴｍが好ましく、０．００３６〜０．０５μＴｍがより好ましく、０．００４〜０．０５μＴｍがさらに好ましい。残留磁束密度と磁性層厚さの積が、０．００１８μＴｍ未満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さく、０．０５μＴｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みやすくなる。このような磁性層を有する磁気記録媒体は、記録波長を短くでき、加えて、ＭＲヘッドで再生した時の再生出力を大きくでき、しかも再生出力の歪が小さく出力対ノイズ比を大きくできるので好ましい。
【００３９】
前述したように磁性粉末の配向工程での充填構造の乱れという観点では、磁性粉末の形状としては略粒状のものが好ましいが、本発明で用いられる磁性粉末は微粒子であり、強磁性であるため、磁性粉末の粒子一個一個を独立した状態にまで解しきることが困難であるばかりか、解された粒子の再凝集が極めて起こりやすいという問題に直面した。そのため従来技術では本発明にある略粒状磁性粉末の特性を活かす媒体を得ることはできなかった。
【００４０】
そこで本発明者らは、略粒状磁性粉末の一個一個を独立させるまで微細分散し、再凝集を抑制する手段について鋭意検討を行った結果、本磁性粉末を含む磁性塗料を予めメディア型分散機にて分散処理した後、高圧噴射衝突型分散機による再分散処理を施すことにより、達成できることを見出した。
【００４１】
すなわち、上記のようなプロセスを経ることで本発明にある略粒状磁性粉末の分散性や分散安定性を十分に確保できることが明らかとなった。そのため媒体の平滑性の向上を図れるだけではなく配向性や充填性にも好影響を与え、結果として出力の向上はもとより媒体ノイズの低減が可能となる。
【００４２】
ここでいうメデイア型分散機とは、分散容器内に微小メデイアを充填し塗料とともに、メディアを攪拌し塗料分散を行うもので、例えば、メディアとしてφ１．０ｍｍ以下とするジルコニアビーズを使用し、ビーズの充填率を５０〜９０vol％、攪拌羽根周速を６ｍ〜１５ｍ/secの条件下で稼動するサンドミルなどの分散機をいう。分散方法の例としては、上記サンドミルの条件下で、単独および複数用い、分散滞留時間を１０〜１８０分となるように、１回〜複数回ミルベッセルを通過させたり、攪拌機を付帯させた循環タンクを設け、循環させながら複数回ミルベッセル内を通過させる手法などが挙げられ、いずれの方法を用いてもよい。
【００４３】
なおミルベッセルを複数用いる場合、使用するビーズを各ミルベッセルごとに変えてもよく、径の大きいビーズ（φ０．５〜φ０．１ｍｍ）が最初に用いられ、径の小さい（φ０．１〜０．５ｍｍ）ビーズが最後に用いられることが好ましい。
【００４４】
先述した高圧湿式噴射衝突分散機とは、高圧加圧手段により磁性塗料を高圧に加圧し、被分散塗料を狭い隙間から噴射させ被分散塗料同士あるいは被分散塗料と装置内壁との衝突による、せん断、摩砕作用を利用して微細化する装置であり分散メデイアを使用しないことが特徴である（詳細は後述する）。本発明において、この分散処理により特に有効に微細分散が実現できる理由としては、本発明で用いられる磁性粉末の形状は略粒状であるために、針状や板状の磁性粉末のように磁性粉末同士の重なりがなく、被分散塗料同士および被分散塗料と装置内壁での衝突の際には、磁性粉末自体が微細な分散メディアとして機能すると推定されること、およびメディア型分散処理の欠点であるショートパスによる残留未分散物を分散させて、その残留をなくせること、などが挙げられる。さらに、メディア型分散処理の時間を従来より少なくして、メディアの磨耗粉の混入も低減できるため、媒体の磁束密度低下を抑制できるメリットがある。
【００４５】
また、本発明による再分散処理をすることで、磁性粉末同士の独立性を増すことが可能となり、微細分散とともに再凝集を抑制できる効果のあることがあらたに分かった。これは、メデイアを使わない、高せん断分散によるものである。その結果、塗料の流動性を大幅に改良することができ、磁界配向性の向上と後述する磁性層の薄層化にあたっての諸問題も解決できる。
【００４６】
上述した高圧湿式噴射衝突型分散機を使用する際には、予めメディア型分散機で処理された塗料を使用する。その理由としては、メディア型分散機で処理されない場合、粗大な凝集体が磁性塗料中に含まれるため、高圧プランジャーポンプのシール、ピストンなどを痛めやすく、微細な隙間構造（たとえば噴射ノズル）に詰りが生じたり、衝突チャンバー内壁の磨耗が促進しやすくなり、生産における連続稼動が困難となるためである。
【００４７】
本発明で用いる高圧湿式噴射衝突分散機の好ましい態様は、以下の通りである。
本発明者らは、高圧湿式噴射衝突分散機は通常、１０〜３５０ＭＰａの加圧条件で用いられるが、磁性塗料に適用するにあたって、加圧条件としては５０〜２５０ＭＰａの高圧条件で使用することにより、分散性と分散安定性について高度に両立できることを見出した。加圧条件としては１００〜２００ＭＰａの範囲がより好ましい。
【００４８】
５０ＭＰa以下では、せん断力、衝撃力が弱いため、十分な磁気特性、平滑性が得られず、２５０ＭＰａ以上では塗料の急激な発熱を招き、磁性粉末からのバインダの剥離、高分子の切断などにより、かえって分散性や分散安定性が悪化する。
【００４９】
高圧湿式噴射衝突分散機としては、上述の条件を満たすものであれば特に制限はなく、（株）スギノマシン製のアルティマイザ―、吉田機械興業（株）製のナノマイザー、三和機械（株）製のホモゲナイザー、マイクロフルイディックス社製のマイクロフルイダイザー等が本発明に利用できる。これらの、高圧湿式噴射衝突分散機は、衝突チャンバー自体には冷却手段を有していないが、塗料の発熱対策として、衝突チャンバーを経た塗料を配管中、および／または熱交換器プレートで冷却する構造になっている。
【００５０】
本発明で用いる高圧湿式噴射衝突分散機のさらに好ましい態様は、以下の通りである。
図１に本発明の磁気記録媒体を製造するにあたって使用する高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーの代表的な構成例を示す。図１-aは筒状のチャンバー内の片側に噴射ノズル、その反対側に衝突面が設けられたタイプ、図１-bは図１-aの筒状のチャンバーを短くし、噴射ノズルと衝突面が近接したタイプ、図１-cは筒状のチャンバーの両側から対向するよう噴射ノズルが設けられたタイプ、図１-dは噴射ノズルに一定の角度を設け対向衝突させるタイプ、図１−eは円筒状の隙間より放射状に噴射されチャンバー外壁に衝突させるタイプで、図１のa〜ｃではいずれのチャンバーにも冷却ジャケットが設けられ、高圧で塗料の衝突が行われる際の急激な発熱に対して、冷却が可能な機構となっている。また、配管内の塗液の押し出し、洗浄、ならびに後述する塗料循環自己冷却機能を持たせるため、チャンバー内に流入口を設けている。衝突のパターンとしては、代表的な５種を挙げたが、これらの組み合わせ、応用でもかわない。
【００５１】
なお、図１には狭い間隙として、噴射ノズルを例として挙げたが、これらは単なる例示にすぎず、狭い間隙を形成できるものであれば、形状は特に問わない。
【００５２】
間隙としては０．００１ｍｍ〜０．４ｍｍが好ましく、さらに好ましくは０．０１ｍｍ〜０．２ｍｍである。０．００１ｍｍより小さい場合には、塗料の供給量が確保できなかったり、ノズルで目詰りしたり、塗料の急激な発熱を招き、磁性粉末からのバインダの剥離、高分子の切断などにより分散性や分散安定性が悪化するなどの弊害があり、０．４ｍｍより大きい場合には、せん断力が低下するため所望の分散性が得られない場合がある。
【００５３】
なお、上記のような高い圧力で塗料を衝突させるためには、衝突チャンバーを経た塗料を配管中、および／または熱交換器プレートで冷却する構造とするだけではなく、分散機の衝突チャンバーに冷却手段を組み込むことがより好ましい。例えば、衝突チャンバーの外部に冷却ジャケットを設けたり、衝突チャンバーに冷却ジャケットを設けられない場合には、衝突チャンバーを冷却槽内に設置したり、衝突チャンバーに超低温空気発生装置を設置させ空冷させたりする方法などが挙げられる。
【００５４】
また衝突チャンバー内部に被分散塗料を大量に循環できる流路、すなわち狭い隙間を通らずにチャンバー内部に入る流入口を通って被分散塗料が循環できる流路の形成により、衝突による発熱を被分散塗料自身で冷却する（塗料循環自己冷却）方法も挙げられる。これらの冷却手段は、単独もしくは組み合わせて用いてもよく、冷却効率の観点からは組み合わせて用いることがなお好ましい。
【００５５】
加圧手段としては、プランジャーポンプを用いるのが一般的であるが、脈動を無くし吐出量を一定にする方が、より均一な分散ができるため複数のプランジャーポンプの位相をずらして使用することが好ましい。
【００５６】
平均粒子径が４０ｎｍ以下の超微粒子磁性粉末を塗膜中に高充填化し、かつ高分散させるためには、下記のような工程で塗料製造を行うことが好ましい。混練工程の前工程として、磁性粉末の顆粒を解砕機を用いて解砕し、その後、混合機でリン酸系の有機酸等やバインダ樹脂と混合し、磁性粉末の表面処理、バインダ樹脂との混合を行う工程を設ける。混練工程として、連続式2軸混練機により固形分濃度７５〜９０重量％、磁性粉末に対するバインダ樹脂の割合が12〜30重量％で混練を行う。混練工程の後工程としては、連続式２軸混練機かまたは他の希釈装置を用いて、少なくとも1回以上のバインダ樹脂溶液および／または溶媒を加えて混練希釈する工程、サンドミル等のメディア型分散機による分散工程などにより塗料分散を行う。その後溶媒、潤滑剤、結合剤、を加えて希釈・配合・ろ過を行う。さらに前述したように高圧噴射衝突型分散機により再分散処理する工程を行い、必要に応じて超音波分散機などを塗布直前に行うことにより磁性塗料とすることが好ましい。なお高圧衝突型分散機による再分散処理については、メディア型分散機による分散工程の後であれば、前述したタイミングに限らずどのタイミングで用いてもよい。
【００５７】
以下に、先行技術との相違について説明する。
電磁変換特性を向上させる先行技術として例えば既述した特許文献１、５が挙げられる。また磁性塗料の再分散処理による分散性の向上については特許文献１０〜１１があげられる。
【００５８】
特許文献１に記載の技術は磁気記録媒体において、粒子サイズが平均長軸長で２５〜６５ｎｍ、平均軸比が３．５〜６の磁性金属粉末を含ませたものであり、本発明で用いられる磁性粉末の軸比とは相違し、さらに分散手段も相違するため、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００５９】
特許文献５に記載の技術は、磁気記録媒体において、平均板径が１０〜４０ｎｍの六方晶系フェライト磁性粉末が使用され、有機酸、有機酸塩による湿式処理がなされることについて規定しているが、本発明の分散方法とは相違するため、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００６０】
特許文献１０の記載の技術では、磁性層を形成する直前に磁性塗料をホモジナイザーで処理し、塗料の温度を２０〜３５℃に保つことが開示されている。しかし、ホモジナイザーの詳細な記載がなく、加圧手段、噴射衝突の有無などが不明瞭であり、磁性粉末が、長軸長：0.15μm、針状比：６のものを使用しており、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００６１】
特許文献１１の記載の技術では、磁性塗料の再分散処理として超音波処理装置を使用し、塗布（乾燥固化）までの時間について規定されている。しかし、磁性粉末に関する形状の規定がないことや、分散手段が相違するため、本発明とは異なっており所望の高記録密度特性は得られない。
【００６２】
次に、本発明の磁気テープの構成要素についてさらに詳述する。
〈非磁性支持体〉
磁性支持体の厚さは、用途によって異なるが、通常、２〜５μｍのものが使用される。より好ましくは２．５〜４．５μｍである。この範囲の厚さの非磁性支持体が使用されるのは、２μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さくなり、５μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、テープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。
【００６３】
非磁性支持体の長手方向のヤング率は９．８ＧＰａ（１０００ｋｇ／ｍｍ２）以上が好ましく、１０．８ＧＰａ（１１００ｋｇ／ｍｍ２）以上がより好ましい。非磁性支持体の長手方向のヤング率が９．８ＧＰａ（１０００ｋｇ／ｍｍ２）以上がよいのは、長手方向のヤング率９．８ＧＰａ（１０００ｋｇ／ｍｍ２）未満では、テープ走行が不安定になるためである。また、ヘリキャルスキャンタイプでは、長手方向のヤング率（ＭＤ）／幅方向のヤング率（ＴＤ）は、０．６０〜０．８０の特異的範囲が好ましい。長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が、０．６５〜０．７５の範囲がより好ましい。長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が、０．６０〜０．８０の特異的範囲がよいのは、０．６０未満または０．８０を越えると、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入り側から出側間の出力のばらつき（フラットネス）が大きくなるためである。このばらつきは長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が０．７０付近で最小になる。さらに、リニアレコーディングタイプでは、長手方向のヤング率／幅方向のヤング率は、理由は明らかではないが、０．７０〜１．３０のが好ましい。このような特性を満足する非磁性支持体には二軸延伸の芳香族ポリアミドベースフィルム、芳香族ポリイミドフィルム等がある。
【００６４】
〈下塗層〉
下塗層の厚さは０．２μｍ以上、１．０μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以下がさらにより好ましい。この範囲が好ましいのは、０．２μｍ未満では、磁性層の厚さむら低減効果、耐久性向上効果が小さいためである。１．０μｍを越えると磁気テープの全厚が厚くなり過ぎてテープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。
【００６５】
下塗層には、膜厚の均一性、表面平滑性の確保、剛性、寸法安定性の制御のために、粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍ（より好ましくは１０ｎｍ〜４９ｎｍ）の非磁性板状粒子を添加する。非磁性板状粒子の成分は、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で、既述した製法で作製した板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粒子を添加する。下塗層には、下塗層中の全無機粉体の重量を基準にして、板状ＩＴＯ粒子を、１５〜９５重量％となるように添加する。１０ｎｍ〜１００ｎｍの板状のグラファイトのようなカーボンを板状のＩＴＯの代わりに使用してもよい。必要に応じてカーボンブラックを添加してもよい。カーボンブラックは粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。また、さらに、従来公知の酸化鉄、酸化アルミニウムなどの酸化物粒子を添加してもよい。その場合、できるだけ微粒子（例えば１０ｎｍ〜１００ｎｍ）のものを用いるのが好ましい。なお、下塗層に使用するバインダ樹脂は、磁性層と同様のものが用いられる。
【００６６】
〈潤滑剤〉
下塗層には磁性層と下塗層に含まれる全粉体に対して０．５〜５．０重量％の高級脂肪酸を含有させ、０．２〜３．０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、ヘッドとの摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲の高級脂肪酸添加が好ましいのは、０．５重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、５．０重量％を越えると下塗層が可塑化してしまい強靭性が失われるおそれがあるからである。また、この範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、０．２重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、３．０重量％を越えると磁性層への移入量が多すぎるため、テープとヘッドが貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるためである。脂肪酸としては、炭素数１０以上の脂肪酸を用いるのが好ましい。炭素数１０以上の脂肪酸としては、直鎖、分岐、シス・トランスなどの異性体のいずれでもよいが、潤滑性能にすぐれる直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられる。これらの中でも、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などが好ましい。磁性層における脂肪酸の添加量としては、下塗層と磁性層の間で脂肪酸が転移するので、特に限定されるものではなく、磁性層と下塗層を合わせた脂肪酸の添加量を上記の量とすればよい。下塗層に脂肪酸を添加すれば、必ずしも磁性層に脂肪酸を添加しなくてもよい。
【００６７】
磁性層には磁性粉末に対して０．５〜３．０重量％の脂肪酸アミドを含有させ、０．２〜３．０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、テープ走行時の摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲の脂肪酸アミドが好ましいのは、０．５重量％未満ではヘッド／磁性層界面での直接接触が起りやすく焼付き防止効果が小さく、３．０重量％を越えるとブリードアウトしてしまいドロップアウトなどの欠陥が発生するおそれがあるからである。脂肪酸アミドとしてはパルミチン酸、ステアリン酸等の炭素数が１０以上の脂肪酸アミドが使用可能である。また、上記範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、０．２重量％未満では摩擦係数低減効果が小さく、３．０重量％を越えるとヘッドに貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるためである。なお、磁性層の潤滑剤と下塗層の潤滑剤の相互移動を排除するものではない。
【００６８】
〈分散剤〉
下塗層や磁性層に含まれる非磁性粉末やカーボンブラック、磁性粉末は、分散剤としては、リン酸系分散剤、カルボン酸系分散剤、アミン系分散剤、キレ―ト剤、各種シランカップリング剤などが好適なものとして用いられる。これらの分散剤は、混練前処理工程、混練工程や初期分散工程の後に配合するのが好ましい。リン酸系分散剤としては、リン酸モノメチル、リン酸ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチルなどのアルキルリン酸エステル類、フエニルホスホン酸、モノオクチルフエニルホスホン酸などの芳香族リン酸類などが挙げられ、市販品として、東邦化学製の「ＧＡＲＦＡＣ ＲＳ４１０」、城北化学工業製の「ＪＰ−５０２」、「ＪＰ−５０４」、「ＪＰ−５０８」などを用いることができる。また、カルボン酸系分散剤としては、安息香酸、フタル酸、テトラカルボキシルナフタレン、ジカルボキシルナフタレン、炭素数１２〜２２の脂肪酸などが挙げられる。
【００６９】
アミン系分散剤としては炭素数８〜２２の脂肪族アミン、芳香族アミン、アルカノールアミン、アルコキシアルキルアミン等がある。さらに、キレ―ト剤としては、１，１０−フエナントロリン、ＥＤＴＡ、ジメチルグリオキシム、アセチルアセトン、グリシン、ジチアゾン、ニトリロ三酢酸などが挙げられる。これら分散剤の使用量としては、磁性粉末１００重量部あたり、０．５〜５重量部となる割合とするのが好ましい。
【００７０】
分散剤は、いずれの層においても結合剤１００重量部に対して通常、０．５〜２０重量部の範囲で添加される。
【００７１】
〈磁性層〉
磁性層の厚さは、０．０１μｍ以上、０．１μｍ未満が好ましく、０．０６μｍ以下がより好ましく、０．０４μｍ以下がさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、０．０１μｍ未満では得られる出力が小さいのと、均一な磁性層を塗布するのが困難であり、０．１μｍを超えると短波長記録に対する分解能が低下するためである。
【００７２】
磁性層（下塗層の場合も同様）に用いるバインダ樹脂としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂の中から選ばれる少なくとも１種と、ポリウレタン樹脂とを組み合わせものが挙げられる。中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体とポリウレタン樹脂を併用するのが好ましい。ポリウレタン樹脂には、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタンなどがある。
【００７３】
官能基として、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）３、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２［これらの式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩を示す］、−ＯＨ、−ＮＲ'Ｒ''、−Ｎ＋Ｒ'''Ｒ''''Ｒ'''''［これらの式中、Ｒ'、Ｒ''、Ｒ'''、Ｒ''''、Ｒ'''''は水素または炭化水素基を示す］、エポキシ基を有する高分子からなるウレタン樹脂等のバインダ樹脂が使用される。このようなバインダ樹脂を使用するのは、上述のように磁性粉末等の分散性が向上するためである。２種以上の樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ３Ｍ基どうしの組み合わせが好ましい。
【００７４】
これらのバインダ樹脂は、磁性粉末１００重量部に対して、７〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重量部の範囲で用いられる。特に、バインダ樹脂として、塩化ビニル系樹脂５〜３０重量部と、ポリウレタン樹脂２〜２０重量部とを、複合して用いるのが最も好ましい。
【００７５】
これらのバインダ樹脂とともに、バインダ樹脂中に含まれる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤を併用するのが望ましい。この架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどや、これらのイソシアネート類とトリメチロールプロパンなどの水酸基を複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネート類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネートが好ましい。これらの架橋剤は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常１〜３０重量部の割合で用いられる。より好ましくは５〜２０重量部である。しかし、下塗層の上にウエット・オン・ウエットで磁性層が塗布される場合には下塗塗料からある程度のポリイソシアネートが拡散供給されるので、ポリイソシアネートを併用しなくても磁性層はある程度架橋される。
【００７６】
また、磁性層には、粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍの非磁性板状粒子を添加してもよい。また、必要に応じて、従来公知の研磨材を添加することができるが、これらの研磨材としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上のものが単独または組み合せで使用される。研磨材の粒径としては、厚みが０．０１〜０．０９μｍと薄い磁性層では、通常粒子径（数平均粒子径）で１０ｎｍ〜１５０ｎｍとすることが好ましい。添加量は磁性粉末に対して５〜２０重量％が好ましい。より好ましくは８〜１８重量％である。
【００７７】
さらに、本発明の磁性層には導電性向上のために、既述した製法で作製した板状ＩＴＯ粒子、板状カーボンブラック、導電性向上と表面潤滑性向上を目的に従来公知のカーボンブラック（ＣＢ）を添加することができるが、これらのカーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。この範囲が好ましいのは、粒子径が１０ｎｍ以下になるとカーボンブラックの分散が難しく、１００ｎｍ以上では多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、出力低下の原因になるためである。添加量は磁性粉末に対して０．２〜５重量％が好ましい。より好ましくは０．５〜４重量％である。
【００７８】
〈バックコート層〉
本発明の磁気テープを構成する非磁性支持体の他方の面（磁性層が形成されている面とは反対側の面）には、走行性の向上等を目的としてバックコート層を設けることができる。バックコート層の厚さは０．２〜０．８μｍが好ましい。この範囲が良いのは、０．２μｍ未満では、走行性向上効果が不充分で、０．８μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、１巻当たりの記録容量が小さくなるためである。カーボンブラック（ＣＢ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。通常、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックを使用する。小粒径カーボンブラックには、粒子径（数平均粒子径）が５ｎｍ〜２００ｎｍのものが使用されるが、粒子径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものがより好ましい。この範囲がより好ましいのは、粒子径が１０ｎｍ以下になるとカーボンブラックの分散が難しく、粒子径が１００ｎｍ以上では多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）原因になるためである。大粒径カーボンブラックとして、小粒径カーボンブラックの５〜１５重量％、粒子径３００〜４００ｎｍの大粒径カーボンブラックを使用すると、表面も粗くならず、走行性向上効果も大きくなる。小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラック合計の添加量は無機粉体重量を基準にして６０〜９８重量％が好ましく、７０〜９５重量％がより好ましい。中心線平均表面粗さＲａは３〜８ｎｍが好ましく、４〜７ｎｍがより好ましい。バックコート層に磁性があると磁気記録層の磁気信号が乱れる場合があるので、通常、バックコート層は非磁性である。
【００７９】
また、バックコート層には、強度、温度・湿度寸法安定性向上等を目的に、先に述べたような粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍの非磁性板状粒子を添加することができる。非磁性板状粒子の成分は、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で、既述した製法で作製した板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粒子や板状カーボンブラックを添加してもよい。バックコート層には、バックコート層中の全無機粉体の重量を基準にして、板状ＩＴＯ粒子とカーボンブラックを、その合計量が６０〜９８重量％となるように添加する。カーボンブラックは粒子径（数平均粒子径）が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。また、必要に応じて、粒子径が０．１μｍ〜０．６μｍの酸化鉄を添加してもよい。添加量はバックコート層中の全無機粉体の重量を基準にして２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。
【００８０】
バックコート層には、バインダ樹脂として、前述した磁性層や下塗層に用いる樹脂と同じものを使用できるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を向上させるため、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを複合して併用することが好ましい。バインダ樹脂の含有量は、通常、前記カーボンブラックと前記無機非磁性粉末との合計量１００重量部に対して４０〜１５０重量部、好ましくは５０〜１２０重量部、より好ましくは６０〜１１０重量部、さらに好ましくは７０〜１１０重量部である。前記範囲が好ましいのは、５０重量部未満では、バックコート層の強度が不十分であり、１２０重量部を越えると摩擦係数が高くなりやすいためである。セルロース系樹脂を３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂を２０〜５０重量部使用することが好ましい。また、さらにバインダ樹脂を硬化するために、ポリイソシアネート化合物などの架橋剤を用いることが好ましい。
【００８１】
バックコート層には、前述した磁性層や下塗層に用いる架橋剤と同様の架橋剤を使用する。架橋剤の量は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、１０〜５０重量部の割合で用いられ、好ましくは１０〜３５重量部、より好ましくは１０〜３０重量部である。前記範囲が好ましいのは、１０重量部未満ではバックコート層の塗膜強度が弱くなりやすく、３５重量部を越えるとＳＵＳに対する動摩擦係数が大きくなるためである。
【００８２】
〈有機溶剤〉
磁性塗料、下塗塗料、バックコート塗料に使用する有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で又は混合して使用され、さらにトルエンなどと混合して使用される。
【実施例】
【００８３】
以下に実施例によって本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の部は重量部を示す。また、実施例および比較例の平均粒子径は、数平均粒子径を示す。
【００８４】
実施例１：
《下塗塗料成分》
（１）
・非磁性板状酸化鉄粉末（平均粒子径：５０ｎｍ） ７６部
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ） ２４部
・ステアリン酸 ２．０部
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 ８．８部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：0.７×１０-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂 ４．４部
（Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ２５部
・メチルエチルケトン ４０部
・トルエン １０部
（２）
・ステアリン酸 １部
・ステアリン酸ブチル １部
・シクロヘキサノン ７０部
・メチルエチルケトン ５０部
・トルエン ２０部
（３）
・ポリイソシアネート １．４部
・シクロヘキサノン １０部
・メチルエチルケトン １５部
・トルエン １０部
【００８５】
《磁性塗料成分》
（１）混練工程
・磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ） １００部
（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、
Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％
σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、
平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １３部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：0.７×１０-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂（ＰＵ） ４．５部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：1.０×１０-4当量／ｇ）
・粒状アルミナ粉末（平均粒子径：８０ｎｍ） １０部
・メチルアシッドホスフェート（ＭＡＰ） ３部
・テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ２０部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ９部
（２）希釈工程
・パルミチン酸アミド（ＰＡ） ２．５部
・ステアリン酸ｎ−ブチル（ＳＢ） １部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ３５０部
（３）配合工程
・ポリイソシアネート １．５部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ２９部
【００８６】
上記の下塗塗料成分において（１）を回分式ニーダで混練したのち、（２）を加えて攪拌の後サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに（３）を加え攪拌・濾過した後、下塗塗料（下塗層用塗料）とした。
【００８７】
これとは別に、上記の磁性塗料の成分において（１）混練工程成分を予め高速混合しておき、その混合粉末を連続式２軸混練機で混練し、さらに（２）希釈工程成分を加え連続式２軸混練機で少なくとも２段階以上に分けて希釈を行い、サンドミルで滞留時間を６０分（メディア：ジルコニア０．５φ、ビーズ充填率８０vol%、羽根周速１０ｍ／ｓ）として分散し、これに（３）配合工程成分を加え攪拌・ろ過後、高圧湿式噴射衝突型分散機（衝突チャンバーのパターン図１-a）にて、オリフィス径０．２ｍｍ,加圧条件を１５０ＭＰａとして、衝突チャンバーを2回通過させて、再分散処理を行い磁性塗料とした。なお衝突チャンバーのジャケットには５℃の冷却水を１０L/minで流すとともに、チャンバー通過後に設置させた熱交換プレート内へも同様の流量で冷却水を流した。
【００８８】
上記の下塗塗料を、芳香族ポリアミドフィルム（厚さ３．９μｍ、ＭＤ＝１１ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝０．７、商品名：ミクトロン、東レ社製）からなる非磁性支持体（ベースフィルム）上に、乾燥、カレンダ後の厚さが０．９μｍとなるように塗布し、この下塗層上に、さらに上記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダ処理後の磁性層の厚さが０．０９０μｍとなるようにエクストルージョン型コータにてウエット・オン・ウエットで塗布し、磁場配向処理後、ドライヤおよび遠赤外線を用いて乾燥し、磁気シートを得た。
【００８９】
《バックコート層用塗料成分》
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ） ８０部
・カーボンブラック（平均粒子径：３５０ｎｍ） １０部
・非磁性板状酸化鉄粉末（平均粒子径：５０ｎｍ） １０部
・ニトロセルロース ４５部
・ポリウレタン樹脂（−ＳＯ3Ｎａ基含有） ３０部
・シクロヘキサノン ２６０部
・トルエン ２６０部
・メチルエチルケトン ５２５部
【００９０】
上記バックコート層用塗料成分をサンドミルで滞留時間４５分として分散した後、ポリイソシアネート１５部を加えてバックコート層用塗料を調整しろ過後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ後の厚みが０．５μｍとなるように塗布し、乾燥した。
【００９１】
このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍの条件で鏡面化処理し、磁気シートをコアに巻いた状態で７０℃にて７２時間エージングし、バック層付き磁気シートを得た。
磁気シートをスリットマシンにより１／２インチ幅に裁断した。
【００９２】
スリットマシン（磁気テープ原反を所定幅の磁気テープに裁断する装置）は、構成している各種要素を下記のように改良したものを用いた。巻き出し原反からスリット刃物群に至るウェブ経路中にテンションカットローラを設け、このテンションカットローラをサクションタイプとし、吸引部は多孔質金属を埋め込んだメッシュサクションとした。刃物駆動部に動力を伝達する機構を持たないモータ直結のダイレクトドライブとした。
【００９３】
上記のようにして得られた磁気テープを、カートリッジに組み込み、コンピュータ用テープを作製した。
【００９４】
実施例２：
高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーの冷却機構を用いなかった以外は、実施例１と同様にして実施例２のコンピュータ用テープを作製した。
【００９５】
実施例３：
高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーを図１-ｃに変更し、衝突チャンバーの冷却機構をジャケット冷却方式から塗料循環自己冷却方式（分散塗料を４ｋｇ／ｍｉｎで自己循環）に変更し、オリフィス径を０．２ｍｍから０．１５ｍｍに変更した以外は実施例１と同様にして実施例３のコンピュータ用テープを作製した。
【００９６】
実施例４：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから２５０MPsに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例４のコンピュータ用テープを作製した。
【００９７】
実施例５：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（σｓ：７５Ａ・ｍ２／ｋｇ（７５ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１７０ｋＡ／ｍ（２１３５Ｏｅ）、平均粒子径：１４ｎｍ、軸比：１．１）に変更し、磁性層の厚みを０．０９０μmから０．０９５μｍに変更した以外は実施例１と同様にして実施例５のコンピュータ用テープを作製した。
【００９８】
実施例６：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ba−Ｆｅ）（σｓ：５１Ａ・ｍ２／ｋｇ（５１ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６３．２ｋＡ／ｍ（２０５１Ｏｅ）、平均粒子径：２４ｎｍ、板状比：２．８）に変更し、磁性層の厚みを０．０９０μmから０．０８５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例６のコンピュータ用テープを作製した。
【００９９】
実施例７：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１１０Ａ・ｍ２／ｋｇ（１１０ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６４ｋＡ／ｍ（２０６０Ｏｅ）、平均粒子径：４０ｎｍ、軸比：２．９）に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例７のコンピュータ用テープを作製した。
【０１００】
実施例８：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから４０MPsに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例８のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０１】
実施例９：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから２６０MPsに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例９のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０２】
実施例１０：
高圧噴射衝突型分散機の加圧条件を１５０MPsから２６０MPsに変更し、高圧噴射衝突型分散機のパス回数を２パスから１パスに変更し、磁性層を０．０９０μｍから０．１０８μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例１０のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０３】
比較例１：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１２５Ａ・ｍ２／ｋｇ（１２５ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１７９ｋＡ／ｍ（２２５０Ｏｅ）、平均粒子径：４５ｎｍ、軸比：３．５）に変更し、磁性層の厚さを０．０９０μｍから０．１１５μｍに変更し、高圧噴射衝突型分散機を使用しなかったこと以外は、実施例１と同様にして比較例１のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０４】
比較例２：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１２５Ａ・ｍ２／ｋｇ（１２５ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１７９ｋＡ／ｍ（２２５０Ｏｅ）、平均粒子径：４５ｎｍ、軸比：３．５）に変更した以外は、実施例１と同様にして比較例２のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０５】
比較例３：
磁性塗料のサンドミルによる分散工程を省き、高圧噴射衝突型分散機の分散パス回数を２パスから６パスに変更した以外は、実施例１と同様にして比較例３のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０６】
比較例４：
高圧噴射衝突型分散機を使用しなかったこと以外は、実施例１と同様にして比較例４のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０７】
比較例５：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ba−Ｆｅ）（σｓ：５０Ａ・ｍ２／ｋｇ（５０ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６４．８ｋＡ／ｍ（２０７０Ｏｅ）、平均粒子径：２４ｎｍ、軸比：３．２）に変更した以外は、実施例１と同様にして比較例５のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０８】
比較例６：
磁性粉末を、磁性粉末 （Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）（Ｙ／Ｆｅ：５．５ａｔ％、Ｎ／Ｆｅ：１１．９ａｔ％、σｓ：１０３Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０３ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２１１．０ｋＡ／ｍ（２６５０Ｏｅ）、平均粒子径：１７ｎｍ、軸比：１．１）から、磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）（σｓ：１０８Ａ・ｍ２／ｋｇ（１０８ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１６７．２ｋＡ／ｍ（２１００Ｏｅ）、平均粒子径：４０ｎｍ、軸比：３．５）に変更した以外は、実施例１と同様にして比較例７のコンピュータ用テープを作製した。
【０１０９】
評価の方法は、以下のように行った。
〈磁性層厚さ〉
試料の磁気記録媒体を樹脂埋めし、それを集束イオンビーム加工装置で厚さ方向の断面を切り出し、その断面を走査型電子顕微鏡(ＳＥＭ)で１０万倍にて１０視野の写真撮影を行い、磁性層表面、磁性層−下塗層界面を縁取りする。つぎに、写真１視野当り、界面に非磁性粉末のかかっていない任意の５個所（計５０個所）を選び、それぞれ縁取りした線間の距離を磁性層の厚さとして計測し、それらを平均して磁性層厚さとした。
【０１１０】
〈磁性粉末の粒子径〉
上記と同様の方法で必要枚数の磁性層断面の写真撮影を行い、磁性層中の磁性粉末の外形を縁取りする。その外径の最大さしわたしを粒子径として計測する。１００個の磁性粉末を計測し、その平均値を平均粒子径とした。
【０１１１】
〈磁性層の表面粗さ〉
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００による走査型白色光干渉法にてＳｃａｎ Ｌｅｎｇｔｈを５μｍで測定した。測定視野は、３５０μｍ×２６０μｍである。磁性層の中心線平均表面粗さをＲａとして求めた
【０１１２】
〈Ｃ／Ｎ測定〉
テープの電磁変換特性測定には、ドラムテスターを用いた。ドラムテスターには電磁誘導型ヘッド（トラック幅２５μm、ギャップ０．２μm）とＭＲヘッド（トラック幅８μm）を装着し、誘導型ヘッドで記録、ＭＲヘッドで再生を行った。両ヘッドは回転ドラムに対して異なる場所に設置されており、両ヘッドを上下方向に操作することで、トラッキングを合わせることができる。磁気テープはカートリッジに巻き込んだ状態から適切な量を引き出して廃棄し、更に６０ｃｍを切り出し、更に４ｍｍ幅に加工して回転ドラムの外周に巻き付けた。
【０１１３】
出力及びノイズは、ファンクションジェネレータにより矩形波を記録電流電流発生器に入力制御し、波長０．２μmの信号を書き込み、ＭＲヘッドの出力をプリアンプで増幅後、スペクトラムアナライザーに読み込んだ。０．２μmのキャリア値を媒体出力Ｃとした。また０．２μmの矩形波を書き込んだときに、記録波長０．２μm以上に相当するスペクトルの成分から、出力及びシステムノイズを差し引いた値の積分値をノイズ値Ｎとして用いた。更に両者の比をとってＣ／Ｎとし、Ｃ、Ｃ／Ｎともに比較例１のテープの値との相対値を求めた。
【０１１４】
<分散安定性>
分散安定性の評価には、前述した重層塗布用として配合した磁性塗料と、6hrエージングした塗料の塗膜角形比（ＳＱ）の劣化率を尺度として用いた。なおここでの塗膜角形比の劣化率は、アプリケータによる簡易塗布直後に、５ｋＯｅの反発磁場中にて自然乾燥させ得られた塗膜を、試料振動形磁束計で外部磁場1２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定し、（ＳＱ(エージング前)−ＳＱ（6hrエージング後））/ＳＱ（エージング前）＊１００より求めた。
【０１１５】
表１および表２に各コンピュータ用テープの評価結果を示した。表から明らかなように、本発明に係る実施例１〜１０の各コンピュータ用テープは、磁性粉末の形状、粒子径、およびメディア型分散機による分散処理後に高圧噴射衝突型にて再分散処理を行っており、本発明の対象内の磁気記録媒体であり、請求項１を満たさない本発明の対象外の比較例１〜６の各コンピュータ用テープに比較してＣ／Ｎが高く、角形比の劣化率が小さい。
【０１１６】
【表１】
【０１１７】
【表２】
【０１１８】
次に、図２、図３を用いて、本発明の請求項２にある高圧噴射衝突型分散機の加圧条件の臨界的意義等を明らかにする。図２には、前記分散機の圧力と、テープのＣ／Ｎの関係を示す。実施例１を基本組成とし、圧力の範囲変化させて実験を行った。図から明らかなように、圧力の範囲が５０〜２５０Ｍｐａの範囲内では、Ｃ／Ｎが１．０（ｄＢ）を上回り、該範囲外に比べてより好ましいことが分かる。
【０１１９】
また図３には、前記分散機の圧力と、簡易塗膜の角形比劣化率の関係を示す。図から明らかなように、圧力の範囲が５０〜２５０Ｍｐａの範囲内では角形比劣化率が１．０（％）より小さくなり、該範囲外に比べてより好ましいことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造装置である高圧噴射衝突型分散機の衝突チャンバーの諸代表例を示す概略図である。
【図２】高圧噴射衝突型分散機の加圧条件とテープＣ／Ｎとの関係を示す図である。
【図３】高圧噴射衝突型分散機の加圧条件と分散安定性との関係を示す図である。
【符号の説明】
【０１２１】
１ 噴射ノズル
２ 塗料流入口
３ 塗料排出口
４ 冷却水流入口
５ 冷却水排出口
６ 塗料循環冷却用の流入口
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一方の面に非磁性層と、この非磁性層上に磁性粉末と結合剤とを含む磁性塗料を塗布することにより形成された磁性層とを有する磁気記録媒体において、前記磁性粉末は略粒状で、平均粒子径が１０〜４０nmであり、前記磁性塗料が予めメディア型分散機で分散処理された後、高圧湿式噴射衝突型分散機にて分散処理されることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記高圧湿式噴射衝突型分散機は、加圧手段を有し、磁性塗料への加圧条件が５０〜２５０ＭＰaとして分散処理されることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記磁性層の厚さが０．１μm未満である請求項１または２に記載の磁気記録媒体
【請求項１】
非磁性支持体の一方の面に非磁性層と、この非磁性層上に磁性粉末と結合剤とを含む磁性塗料を塗布することにより形成された磁性層とを有する磁気記録媒体において、前記磁性粉末は略粒状で、平均粒子径が１０〜４０nmであり、前記磁性塗料が予めメディア型分散機で分散処理された後、高圧湿式噴射衝突型分散機にて分散処理されることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記高圧湿式噴射衝突型分散機は、加圧手段を有し、磁性塗料への加圧条件が５０〜２５０ＭＰaとして分散処理されることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記磁性層の厚さが０．１μm未満である請求項１または２に記載の磁気記録媒体
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００６−１０７６２７（Ｐ２００６−１０７６２７Ａ）
【公開日】平成１８年４月２０日（２００６．４．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２９２９９８（Ｐ２００４−２９２９９８）
【出願日】平成１６年１０月５日（２００４．１０．５）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年４月２０日（２００６．４．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１０月５日（２００４．１０．５）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]