積層フィルムの製造方法
【課題】連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布する積層フィルムの塗布方法で、界面の乱れによる塗布ムラを抑える積層フィルムの製造方法を提供。
【解決手段】少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイ２２，３２によって連続的に走行する支持体Ｗに異なる組成の塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法で、前記それぞれの塗布液は、溶質の溶解性パラメータの差が０．１以上、下流側塗布液の粘度が上流側塗布液の粘度よりも低く、それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、上流側の塗布液の表面張力と下流側の塗布液の表面張力の差が＞０．５（ｍＮ／ｍ)であり、上層の塗布液の塗布厚みｈ(μｍ)と、該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)の比がｈ／Ｌ＜０．１４であり、前記単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下とする塗布方法。
【解決手段】少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイ２２，３２によって連続的に走行する支持体Ｗに異なる組成の塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法で、前記それぞれの塗布液は、溶質の溶解性パラメータの差が０．１以上、下流側塗布液の粘度が上流側塗布液の粘度よりも低く、それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、上流側の塗布液の表面張力と下流側の塗布液の表面張力の差が＞０．５（ｍＮ／ｍ)であり、上層の塗布液の塗布厚みｈ(μｍ)と、該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)の比がｈ／Ｌ＜０．１４であり、前記単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層フィルムの製造方法に係り、特に、少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイによって連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）など様々な画像表示装置に使用されている。
【０００３】
反射防止フィルムは塗布により形成する方法が提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、耐擦傷性防眩フィルムにおいて、耐擦傷性を確保する手法として、支持体上に塗布された塗膜を指触乾燥又はハーフキュアして半硬化状態にし、該半硬化塗膜の上にさらに塗膜を積層した後に２層の塗膜を同時に硬化させるフィルムが提案されている。
【０００５】
当該技術により耐擦傷性は、良化するものの未だ十分でなく、かつ指触乾燥又はハーフキュア状態の塗膜は膜硬度が柔らかく、ハンドリング中に傷が付きやすい。また、多層膜を形成するには、塗布工程を複数回行う必要があり、生産性が低下することがある。
【０００６】
ここで、特許文献２には、支持体に対して塗布を行う速度である塗布速度Ｕｃｍ／ｓｅｃと前記塗布液の粘度μＰと該塗布液の表面張力σｄｙｎｅ／ｃｍとによって定義される無次元数のキャピラリ数ＣａがＣａ＝μ・Ｕ／σ≦０．３を満たすようにすることで、高速で安定した薄膜塗布が可能となることが開示されている。
【０００７】
また、特許文献３には、塗布により形成される塗膜が少なくとも２層の多層同時塗布において、ウエブの走行方向における最上流側の先端リップ以外の少なくともひとつの先端リップの平坦部のウエブ走行方向における長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とすることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第３３１４９６５号公報
【特許文献２】特開平８−１６８７１９号公報
【特許文献３】特開２００３−２６０４００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記のように重層で塗布し積層を設けても、界面の乱れによる塗布ムラが発生する。界面の乱れによる塗布ムラとしては、分類すると、界面での塗布液の混合に起因する白化やスジムラや段ムラがある。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、前記目的を達成するために、少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイによって連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、前記それぞれの塗布液は、前記積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上であり、前記隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低く、前記それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、前記隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜が、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)であり、上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と、該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４とし、各隣り合う前記単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下にして塗布することを特徴とする積層フィルムの塗布方法を提供する。
【００１２】
本発明では、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設けるにあたり、同時重層するダイではなく、単層エクストルージョン型ダイでそれぞれの塗布液を塗布することとした（Ａ）。そして、それぞれの塗布液を塗布する単層エクストルージョン型ダイの間隔は、各隣り合う単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下にするようにした（Ｂ）。
【００１３】
さらに、それぞれの塗布液は、（Ｃ）積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上であり、（Ｄ）隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低く、（Ｅ）それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、（Ｆ）隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜が、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)であり、（Ｇ）上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４となるようにする。
【００１４】
本発明によれば、これらの条件を全て満たして積層を塗布することで、積層の界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる。
【００１５】
ここで、本発明では、（Ｆ）の表面張力差｜σ2−σ1｜が、０．５(ｍＮ／ｍ)＜｜σ2−σ1｜＜１５ (ｍＮ／ｍ)を満たすことがより好ましい。また、（Ｂ）の吐出口間距離Ｍが、２ｍｍ以上５００ｍｍ以下を満たすことがより好ましい。
【００１６】
本発明の積層フィルムの製造方法で製造された積層フィルムは、塗布ムラのない積層を得ることができるので、特に、光学フィルム又は反射防止フィルムに好適である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる積層フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係る積層フィルムを模式的に示す概略断面図
【図２】本発明に係る積層フィルムの製造方法を示す説明図
【図３】実施例の結果を示す表図
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の積層フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について説明する。
【００２０】
本発明に係る積層フィルムについては、公知の層構成を使用することができる。たとえば、代表的な例としては以下のようなものがある。
【００２１】
ａ．支持体／ハードコート層／低屈折率層（図１（ａ））
ｂ．支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層（図１（ｂ））
ｃ．支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図1（ｃ））
本発明に係る積層フィルム１０は、図１（ａ）のように、支持体Ｗ上にハードコート層１２を塗布した上に、低屈折率層１４を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。低屈折率層１４はハードコート層１２の上に低屈折率層１４を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
【００２２】
また、図１（ｂ）のように支持体Ｗ上にハードコート層１２を塗布した上に、高屈折率層１４、低屈折率層１６を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
【００２３】
さらに、図１（ｃ）のように支持体Ｗ、ハードコート層１２、中屈折率層１４、高屈折率層１６、そして低屈折率層１８の順序の層構成を設置することにより、反射率を１％以下とすることができる。
【００２４】
図2は、本発明における塗布方法を適用する単層エクストルージョン型ダイの塗布装置の一例を示す全体構成図であり、２個の単層エクストルージョン型ダイでウエブ（支持体）Ｗに２種類の塗布液を多層塗布する例である。
【００２５】
図２に示すように、積層フィルムの塗布装置２０は、主として、連続走行するウエブＷと、ウエブＷに塗布液を塗布する２個の単層エクストルージョン型ダイ２２，３２とで構成される。
【００２６】
図１（ａ）の積層フィルムを製造する場合について説明する。単層エクストルージョン型ダイ２２，３２には、その内部にウエブＷの幅方向に平行なポケット部２４、３４が形成され、各ポケット部２４，３４と２種類の塗布液を貯留する各塗布液タンクとが定量送液ポンプを介して配管により接続される（不図示）。これにより、各塗布液タンクから塗布液１２，１４がそれぞれのポケット部２４，３４に供給されて塗布幅に対応する幅に拡流される。各ポケット部２４，３４で拡流された２つの塗布液１２，１４は、それぞれスリット２６，３６を介して、それぞれの吐出口２８、３８から吐出され、ウエブＷに塗布される。
【００２７】
なお、例えば、図１（ｃ）の積層フィルムを製造する場合には、２つの塗布液１２，１４は、中屈折率層１４及び高屈折率層１６の塗布液１４，１６であっても良いし、高屈折率層１６及び低屈折率層１８の塗布液１６，１８であっても良い。
【００２８】
すなわち、ウエブ走行方向の上流側の単層エクストルージョン型ダイ２２からは下層液（下層となる塗布液）が吐出され、下流側の単層エクストルージョン型ダイ３２からは上層液（上層となる塗布液）が吐出され、ウエブ１２の面に上層と下層の２層から成る積層を形成する。
【００２９】
そして、本発明では、それぞれの塗布液を塗布する単層エクストルージョン型ダイの間隔は、各隣り合う単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下になるようにする。吐出口間距離Ｍは、２ｍｍ以上５００ｍｍ以下を満たすことがより好ましい。
【００３０】
さらに、本発明では、それぞれの塗布液は、積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上のものを選択する。
【００３１】
そして、隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低いものを選択する。
【００３２】
また、次式（１）で計算されるそれぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７を満足するように調整して塗布するように構成したものである。
【００３３】
Ｃａ＝μ・Ｕ／σ ・・・（１）
ここで、μ：塗布液の平均ハイシェア粘度［Ｐａ・秒］、Ｕ：ウエブの走行速度［ｍ／秒］、σ：多層塗布された層のうちの最上層塗布液の表面張力［Ｎ／ｍ］である。
【００３４】
さらに、隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜を、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)となるよう塗布液を選択する。表面張力差｜σ2−σ1｜が、０．５(ｍＮ／ｍ)＜｜σ2−σ1｜＜１５ (ｍＮ／ｍ)を満たすことがより好ましい。
【００３５】
上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４となるように塗布する。
【００３６】
これらの条件を満たして図２の塗布装置２０で積層フィルムを製造することで、同時重層するときに発現しやすい積層の界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる。したがって、本発明の積層フィルムの製造方法で製造された積層フィルムは、塗布ムラのない積層を得ることができる。
【００３７】
以下、本発明に係る光学フィルム又は反射防止フィルムについて説明する。なお、本発明の積層フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
【００３８】
（１）塗布液の調整
＜処方＞
一例を挙げて説明する。
【００３９】
（上層(低屈折率層）)
平均粒子径２０ｎｍの中空シリカ粒子の表面を、3,3,3-トリフロロプロピルメチルジクロロシランによって処理して粒子の表面を疎水化した。また、下記組成物を８２質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。この系の臨界固形分濃度は７１％である。
・アクリル樹脂 １５質量部
・疎水性の粒子 ０．２質量部
上記を３．５〜５ｃｃ／ｍ2 で塗布した。
【００４０】
（下層(防眩層）)
［合成例１］｛オルガノシラン化合物（ＯＳ）溶液の調製｝
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物（ＯＳ）の溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィーによって分析したところ、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。
【００４１】
［防眩層塗布組成物（Ｈ−１）の調製］
攪拌機を備えた容器に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート変性多官能アクリレートモノマー「カヤラッドＤＰＣＡ−１２０」｛日本化薬（株）製｝３１．０質量部を充填し、これに重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝１．５質量部、下記フッ素系面状改良剤（Ｆ−１２）０．０４質量部、オルガノシラン化合物“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝６．２質量部、メチルイソブチルケトン ３１．０質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布したのち、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２であった。
フッ素系面状改良剤（Ｆ−１２）：
【００４２】
【化１】
さらにこの混合液に、平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５４０）をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散して３０質量％シクロヘキサノン分散液としたもの１０．０質量部を添加して撹拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層塗布組成物（Ｈ−１）を調製した。
【００４３】
上記を１４〜３０ｃｃ／ｍ2 で塗布した。
【００４４】
＜調製＞
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【００４５】
＜濾過＞
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルタは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜５０μｍのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜４０μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
【００４６】
濾過フィルタ部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物の濾過部材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【００４７】
（２）乾燥
本発明のフィルムは、支持体上に塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
【００４８】
溶剤を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開２００１−２８６８１７号、同２００１−３１４７９８号、同２００３−１２６７６８号、同２００３−３１５５０５号、同２００４−３４００２号などの各公報が挙げられる。
【００４９】
乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【００５０】
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が１〜５０％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
【００５１】
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
【００５２】
（３）硬化
本発明のフィルムは溶剤の乾燥の後に、ウエブで電離放射線および／または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
【００５３】
本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
【００５４】
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【００５５】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【００５６】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。
【００５７】
酸素濃度は６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。必要以上に酸素濃度を低減するためには、窒素などの不活性ガスの多量の使用量が必要であり、製造コストの観点から好ましくない。
【００５８】
硬化の際、フィルム面が６０℃以上１７０℃以下で加熱されることが好ましい。更にこの好ましい温度は６０℃〜１００℃である。フィルム面とは硬化しようとする層の膜面温度を指す。またフィルムが前記温度になる時間は、ＵＶ照射開始から０．１秒以上、３００秒以下が好ましく、更に１０秒以下が好ましい。
【００５９】
加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線あるいは赤外線の照射などが好ましい。特許２５２３５７４号に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用しても良い。
【００６０】
（４）ハンドリング
本発明のフィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
【００６１】
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
【００６２】
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【００６３】
本発明のフィルムを作成するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【００６４】
（５）鹸化処理
本発明のフィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【００６５】
ａ．アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
【００６６】
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
【００６７】
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【００６８】
鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
【００６９】
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度、さらに好ましくは４０度〜５０度となる。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、１０度未満では、フィルムが受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
【００７０】
ｂ．アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を塗布層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（ａ）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【００７１】
前記（ａ）、（ｂ）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。
【００７２】
ｃ．ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（ｂ）と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、塗布層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（ｂ）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【００７３】
ｄ．中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層のアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、たとえば防眩層とフッ素含有ゾルーゲル膜の低屈折率層とからなるフィルムにおいて、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【００７４】
ｅ．予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【００７５】
（６）偏光板の作製
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用し、偏光板を作製することができる。
【００７６】
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用いる、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
【００７７】
更には、本発明の偏光板において、片面が反射防止フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。
【００７８】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【００７９】
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【００８０】
（７）本発明の使用形態
本発明の積層フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルムは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレイ上に用いることができる。
【００８１】
（８）支持体
本発明のフィルムの支持体（ウエブ）としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム等が使用できる。
【００８２】
支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
【００８３】
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。
【００８４】
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることがさらに好ましい。
【００８５】
［実施例］
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００８６】
以下に示す塗布液を調整し、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士フイルム（株）製）上に、図２に示した積層フィルムの塗布装置２０を用いて塗布を行った。但し、比較例１では、同時重層の塗布装置を用いて塗布を行った。
【００８７】
そして、上層と下層は、図３の表に示す物性の塗布液を用いた。
【００８８】
即ち、実施例１では、図３の表に示すように、上層と下層の溶質の溶解度パラメータの差が０．１５であり、上流側から吐出される塗布液の粘度（上層）が下流側から吐出される塗布液（下層）の粘度の１．２倍であり、上層と下層の塗布液のキャピラリ数Ｃａがそれぞれ１．３、１．５であり、上層と下層の表面張力差が０．６(ｍＮ／ｍ)である塗布液を用いた。また、実施例１では、塗布条件を、上層の塗布液の塗布厚みとウエブ表面からの距離の比を０．１３、各隣り合うダイの吐出口間距離を１０（ｍｍ）とした。
【００８９】
同様に、実施例２〜１２、及び比較例１〜１６において、塗布液と塗布条件を図３の表に示したようにし、実験を行った。
【００９０】
実施例１〜１２、比較例１〜１６で製造された積層フィルムの白化状態、スジムラ、段ムラの発現状況を調べた。総合評価として、白化、スジムラ、段ムラの全てが発現しなかったものを○とした。結果を図3の表に示す。
【００９１】
図３の表から分かるように、本発明の条件を全て満たした実施例１〜12は、白化やスジムラや段ムラ、すなわち塗布ムラの発現は認められなかった。
【００９２】
したがって、本発明によれば、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる積層フィルムの製造方法を提供することができることが分かる。
【符号の説明】
【００９３】
１０…積層フィルム、１２，１４，１６，１８…塗布液（層）、２０…塗布装置、２２…単層エクストルージョン型ダイ（上流側）、２８…吐出口、３２…単層エクストルージョン型ダイ（下流側）、３８…吐出口、Ｗ…ウエブ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層フィルムの製造方法に係り、特に、少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイによって連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）など様々な画像表示装置に使用されている。
【０００３】
反射防止フィルムは塗布により形成する方法が提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、耐擦傷性防眩フィルムにおいて、耐擦傷性を確保する手法として、支持体上に塗布された塗膜を指触乾燥又はハーフキュアして半硬化状態にし、該半硬化塗膜の上にさらに塗膜を積層した後に２層の塗膜を同時に硬化させるフィルムが提案されている。
【０００５】
当該技術により耐擦傷性は、良化するものの未だ十分でなく、かつ指触乾燥又はハーフキュア状態の塗膜は膜硬度が柔らかく、ハンドリング中に傷が付きやすい。また、多層膜を形成するには、塗布工程を複数回行う必要があり、生産性が低下することがある。
【０００６】
ここで、特許文献２には、支持体に対して塗布を行う速度である塗布速度Ｕｃｍ／ｓｅｃと前記塗布液の粘度μＰと該塗布液の表面張力σｄｙｎｅ／ｃｍとによって定義される無次元数のキャピラリ数ＣａがＣａ＝μ・Ｕ／σ≦０．３を満たすようにすることで、高速で安定した薄膜塗布が可能となることが開示されている。
【０００７】
また、特許文献３には、塗布により形成される塗膜が少なくとも２層の多層同時塗布において、ウエブの走行方向における最上流側の先端リップ以外の少なくともひとつの先端リップの平坦部のウエブ走行方向における長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とすることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第３３１４９６５号公報
【特許文献２】特開平８−１６８７１９号公報
【特許文献３】特開２００３−２６０４００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記のように重層で塗布し積層を設けても、界面の乱れによる塗布ムラが発生する。界面の乱れによる塗布ムラとしては、分類すると、界面での塗布液の混合に起因する白化やスジムラや段ムラがある。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、前記目的を達成するために、少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイによって連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、前記それぞれの塗布液は、前記積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上であり、前記隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低く、前記それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、前記隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜が、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)であり、上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と、該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４とし、各隣り合う前記単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下にして塗布することを特徴とする積層フィルムの塗布方法を提供する。
【００１２】
本発明では、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設けるにあたり、同時重層するダイではなく、単層エクストルージョン型ダイでそれぞれの塗布液を塗布することとした（Ａ）。そして、それぞれの塗布液を塗布する単層エクストルージョン型ダイの間隔は、各隣り合う単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下にするようにした（Ｂ）。
【００１３】
さらに、それぞれの塗布液は、（Ｃ）積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上であり、（Ｄ）隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低く、（Ｅ）それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、（Ｆ）隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜が、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)であり、（Ｇ）上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４となるようにする。
【００１４】
本発明によれば、これらの条件を全て満たして積層を塗布することで、積層の界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる。
【００１５】
ここで、本発明では、（Ｆ）の表面張力差｜σ2−σ1｜が、０．５(ｍＮ／ｍ)＜｜σ2−σ1｜＜１５ (ｍＮ／ｍ)を満たすことがより好ましい。また、（Ｂ）の吐出口間距離Ｍが、２ｍｍ以上５００ｍｍ以下を満たすことがより好ましい。
【００１６】
本発明の積層フィルムの製造方法で製造された積層フィルムは、塗布ムラのない積層を得ることができるので、特に、光学フィルム又は反射防止フィルムに好適である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる積層フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係る積層フィルムを模式的に示す概略断面図
【図２】本発明に係る積層フィルムの製造方法を示す説明図
【図３】実施例の結果を示す表図
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の積層フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について説明する。
【００２０】
本発明に係る積層フィルムについては、公知の層構成を使用することができる。たとえば、代表的な例としては以下のようなものがある。
【００２１】
ａ．支持体／ハードコート層／低屈折率層（図１（ａ））
ｂ．支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層（図１（ｂ））
ｃ．支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図1（ｃ））
本発明に係る積層フィルム１０は、図１（ａ）のように、支持体Ｗ上にハードコート層１２を塗布した上に、低屈折率層１４を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。低屈折率層１４はハードコート層１２の上に低屈折率層１４を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
【００２２】
また、図１（ｂ）のように支持体Ｗ上にハードコート層１２を塗布した上に、高屈折率層１４、低屈折率層１６を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
【００２３】
さらに、図１（ｃ）のように支持体Ｗ、ハードコート層１２、中屈折率層１４、高屈折率層１６、そして低屈折率層１８の順序の層構成を設置することにより、反射率を１％以下とすることができる。
【００２４】
図2は、本発明における塗布方法を適用する単層エクストルージョン型ダイの塗布装置の一例を示す全体構成図であり、２個の単層エクストルージョン型ダイでウエブ（支持体）Ｗに２種類の塗布液を多層塗布する例である。
【００２５】
図２に示すように、積層フィルムの塗布装置２０は、主として、連続走行するウエブＷと、ウエブＷに塗布液を塗布する２個の単層エクストルージョン型ダイ２２，３２とで構成される。
【００２６】
図１（ａ）の積層フィルムを製造する場合について説明する。単層エクストルージョン型ダイ２２，３２には、その内部にウエブＷの幅方向に平行なポケット部２４、３４が形成され、各ポケット部２４，３４と２種類の塗布液を貯留する各塗布液タンクとが定量送液ポンプを介して配管により接続される（不図示）。これにより、各塗布液タンクから塗布液１２，１４がそれぞれのポケット部２４，３４に供給されて塗布幅に対応する幅に拡流される。各ポケット部２４，３４で拡流された２つの塗布液１２，１４は、それぞれスリット２６，３６を介して、それぞれの吐出口２８、３８から吐出され、ウエブＷに塗布される。
【００２７】
なお、例えば、図１（ｃ）の積層フィルムを製造する場合には、２つの塗布液１２，１４は、中屈折率層１４及び高屈折率層１６の塗布液１４，１６であっても良いし、高屈折率層１６及び低屈折率層１８の塗布液１６，１８であっても良い。
【００２８】
すなわち、ウエブ走行方向の上流側の単層エクストルージョン型ダイ２２からは下層液（下層となる塗布液）が吐出され、下流側の単層エクストルージョン型ダイ３２からは上層液（上層となる塗布液）が吐出され、ウエブ１２の面に上層と下層の２層から成る積層を形成する。
【００２９】
そして、本発明では、それぞれの塗布液を塗布する単層エクストルージョン型ダイの間隔は、各隣り合う単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下になるようにする。吐出口間距離Ｍは、２ｍｍ以上５００ｍｍ以下を満たすことがより好ましい。
【００３０】
さらに、本発明では、それぞれの塗布液は、積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上のものを選択する。
【００３１】
そして、隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低いものを選択する。
【００３２】
また、次式（１）で計算されるそれぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７を満足するように調整して塗布するように構成したものである。
【００３３】
Ｃａ＝μ・Ｕ／σ ・・・（１）
ここで、μ：塗布液の平均ハイシェア粘度［Ｐａ・秒］、Ｕ：ウエブの走行速度［ｍ／秒］、σ：多層塗布された層のうちの最上層塗布液の表面張力［Ｎ／ｍ］である。
【００３４】
さらに、隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜を、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)となるよう塗布液を選択する。表面張力差｜σ2−σ1｜が、０．５(ｍＮ／ｍ)＜｜σ2−σ1｜＜１５ (ｍＮ／ｍ)を満たすことがより好ましい。
【００３５】
上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４となるように塗布する。
【００３６】
これらの条件を満たして図２の塗布装置２０で積層フィルムを製造することで、同時重層するときに発現しやすい積層の界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる。したがって、本発明の積層フィルムの製造方法で製造された積層フィルムは、塗布ムラのない積層を得ることができる。
【００３７】
以下、本発明に係る光学フィルム又は反射防止フィルムについて説明する。なお、本発明の積層フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
【００３８】
（１）塗布液の調整
＜処方＞
一例を挙げて説明する。
【００３９】
（上層(低屈折率層）)
平均粒子径２０ｎｍの中空シリカ粒子の表面を、3,3,3-トリフロロプロピルメチルジクロロシランによって処理して粒子の表面を疎水化した。また、下記組成物を８２質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。この系の臨界固形分濃度は７１％である。
・アクリル樹脂 １５質量部
・疎水性の粒子 ０．２質量部
上記を３．５〜５ｃｃ／ｍ2 で塗布した。
【００４０】
（下層(防眩層）)
［合成例１］｛オルガノシラン化合物（ＯＳ）溶液の調製｝
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物（ＯＳ）の溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィーによって分析したところ、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。
【００４１】
［防眩層塗布組成物（Ｈ−１）の調製］
攪拌機を備えた容器に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート変性多官能アクリレートモノマー「カヤラッドＤＰＣＡ−１２０」｛日本化薬（株）製｝３１．０質量部を充填し、これに重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝１．５質量部、下記フッ素系面状改良剤（Ｆ−１２）０．０４質量部、オルガノシラン化合物“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝６．２質量部、メチルイソブチルケトン ３１．０質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布したのち、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２であった。
フッ素系面状改良剤（Ｆ−１２）：
【００４２】
【化１】
さらにこの混合液に、平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５４０）をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散して３０質量％シクロヘキサノン分散液としたもの１０．０質量部を添加して撹拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層塗布組成物（Ｈ−１）を調製した。
【００４３】
上記を１４〜３０ｃｃ／ｍ2 で塗布した。
【００４４】
＜調製＞
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【００４５】
＜濾過＞
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルタは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜５０μｍのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜４０μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
【００４６】
濾過フィルタ部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物の濾過部材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【００４７】
（２）乾燥
本発明のフィルムは、支持体上に塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
【００４８】
溶剤を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開２００１−２８６８１７号、同２００１−３１４７９８号、同２００３−１２６７６８号、同２００３−３１５５０５号、同２００４−３４００２号などの各公報が挙げられる。
【００４９】
乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【００５０】
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が１〜５０％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
【００５１】
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
【００５２】
（３）硬化
本発明のフィルムは溶剤の乾燥の後に、ウエブで電離放射線および／または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
【００５３】
本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
【００５４】
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【００５５】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【００５６】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。
【００５７】
酸素濃度は６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。必要以上に酸素濃度を低減するためには、窒素などの不活性ガスの多量の使用量が必要であり、製造コストの観点から好ましくない。
【００５８】
硬化の際、フィルム面が６０℃以上１７０℃以下で加熱されることが好ましい。更にこの好ましい温度は６０℃〜１００℃である。フィルム面とは硬化しようとする層の膜面温度を指す。またフィルムが前記温度になる時間は、ＵＶ照射開始から０．１秒以上、３００秒以下が好ましく、更に１０秒以下が好ましい。
【００５９】
加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線あるいは赤外線の照射などが好ましい。特許２５２３５７４号に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用しても良い。
【００６０】
（４）ハンドリング
本発明のフィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
【００６１】
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
【００６２】
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【００６３】
本発明のフィルムを作成するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【００６４】
（５）鹸化処理
本発明のフィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【００６５】
ａ．アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
【００６６】
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
【００６７】
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【００６８】
鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
【００６９】
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度、さらに好ましくは４０度〜５０度となる。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、１０度未満では、フィルムが受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
【００７０】
ｂ．アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を塗布層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（ａ）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【００７１】
前記（ａ）、（ｂ）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。
【００７２】
ｃ．ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（ｂ）と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、塗布層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（ｂ）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【００７３】
ｄ．中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層のアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、たとえば防眩層とフッ素含有ゾルーゲル膜の低屈折率層とからなるフィルムにおいて、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【００７４】
ｅ．予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【００７５】
（６）偏光板の作製
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用し、偏光板を作製することができる。
【００７６】
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用いる、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
【００７７】
更には、本発明の偏光板において、片面が反射防止フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。
【００７８】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【００７９】
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【００８０】
（７）本発明の使用形態
本発明の積層フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルムは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレイ上に用いることができる。
【００８１】
（８）支持体
本発明のフィルムの支持体（ウエブ）としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム等が使用できる。
【００８２】
支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
【００８３】
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。
【００８４】
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることがさらに好ましい。
【００８５】
［実施例］
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００８６】
以下に示す塗布液を調整し、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士フイルム（株）製）上に、図２に示した積層フィルムの塗布装置２０を用いて塗布を行った。但し、比較例１では、同時重層の塗布装置を用いて塗布を行った。
【００８７】
そして、上層と下層は、図３の表に示す物性の塗布液を用いた。
【００８８】
即ち、実施例１では、図３の表に示すように、上層と下層の溶質の溶解度パラメータの差が０．１５であり、上流側から吐出される塗布液の粘度（上層）が下流側から吐出される塗布液（下層）の粘度の１．２倍であり、上層と下層の塗布液のキャピラリ数Ｃａがそれぞれ１．３、１．５であり、上層と下層の表面張力差が０．６(ｍＮ／ｍ)である塗布液を用いた。また、実施例１では、塗布条件を、上層の塗布液の塗布厚みとウエブ表面からの距離の比を０．１３、各隣り合うダイの吐出口間距離を１０（ｍｍ）とした。
【００８９】
同様に、実施例２〜１２、及び比較例１〜１６において、塗布液と塗布条件を図３の表に示したようにし、実験を行った。
【００９０】
実施例１〜１２、比較例１〜１６で製造された積層フィルムの白化状態、スジムラ、段ムラの発現状況を調べた。総合評価として、白化、スジムラ、段ムラの全てが発現しなかったものを○とした。結果を図3の表に示す。
【００９１】
図３の表から分かるように、本発明の条件を全て満たした実施例１〜12は、白化やスジムラや段ムラ、すなわち塗布ムラの発現は認められなかった。
【００９２】
したがって、本発明によれば、連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、界面の乱れによる塗布ムラを抑えることができる積層フィルムの製造方法を提供することができることが分かる。
【符号の説明】
【００９３】
１０…積層フィルム、１２，１４，１６，１８…塗布液（層）、２０…塗布装置、２２…単層エクストルージョン型ダイ（上流側）、２８…吐出口、３２…単層エクストルージョン型ダイ（下流側）、３８…吐出口、Ｗ…ウエブ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイによって連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、
前記それぞれの塗布液は、前記積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上であり、
前記隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低く、
前記それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、
前記隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜が、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)であり、
上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と、該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４とし、
各隣り合う前記単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下にして塗布することを特徴とする積層フィルムの塗布方法。
【請求項２】
前記表面張力差｜σ2−σ1｜が０．５(ｍＮ／ｍ)＜｜σ2−σ1｜＜１５ (ｍＮ／ｍ)を満たすことを特徴とする請求項１に記載の積層フィルムの塗布方法。
【請求項３】
前記吐出口間距離Ｍを２ｍｍ以上５００ｍｍ以下にすることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層フィルムの塗布方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１に記載の積層フィルムは光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする積層フィルムの塗布方法。
【請求項１】
少なくとも２個の単層エクストルージョン型ダイによって連続的に走行する支持体にそれぞれ１つ以上のモノマーもしくはポリマーを含んだ塗布液を塗布して積層を設ける積層フィルムの塗布方法において、
前記それぞれの塗布液は、前記積層の隣り合う層の溶質との溶解度パラメータの差が０．１以上であり、
前記隣り合う層の下流側から吐出される塗布液の粘度が上流側から吐出される塗布液の粘度よりも低く、
前記それぞれの塗布液のキャピラリ数ＣａがＣａ＜１．７であり、
前記隣り合う層の上流側の塗布液の表面張力σ1と下流側の塗布液の表面張力σ2との表面張力差｜σ2−σ1｜が、｜σ2−σ1｜＞０．５(ｍＮ／ｍ)であり、
上層の塗布液の塗布厚みｈ1(μｍ)と、該上層の支持体表面からの距離Ｌ(μｍ)がｈ1／Ｌ＜０．１４とし、
各隣り合う前記単層エクストルージョン型ダイの吐出口間距離Ｍを１ｍｍ以上７００ｍｍ以下にして塗布することを特徴とする積層フィルムの塗布方法。
【請求項２】
前記表面張力差｜σ2−σ1｜が０．５(ｍＮ／ｍ)＜｜σ2−σ1｜＜１５ (ｍＮ／ｍ)を満たすことを特徴とする請求項１に記載の積層フィルムの塗布方法。
【請求項３】
前記吐出口間距離Ｍを２ｍｍ以上５００ｍｍ以下にすることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層フィルムの塗布方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１に記載の積層フィルムは光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする積層フィルムの塗布方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１１−１７３０９３（Ｐ２０１１−１７３０９３Ａ）
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−４０６３５（Ｐ２０１０−４０６３５）
【出願日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]