複数の薄層からなる積層体が設けられたグレージング
【課題】太陽光に作用する薄層多層被覆膜が設けられ、グレージング機能を有する透明基板を提供する。
【解決手段】１つの誘電層を有する２つの透明層をそれぞれ両側に配置した、好適にはニオブ、タンタル、モリブデンおよびジルコニウムからなる群に属す金属に基づく、特に少なくとも１つの金属は部分的に又は完全に窒化されている、少なくとも２つの吸収性の機能層を有する薄層多層被覆膜が設けられた、太陽光に作用するグレージング機能を有する、特に建物および自動車分野で適用される透明基板。
【解決手段】１つの誘電層を有する２つの透明層をそれぞれ両側に配置した、好適にはニオブ、タンタル、モリブデンおよびジルコニウムからなる群に属す金属に基づく、特に少なくとも１つの金属は部分的に又は完全に窒化されている、少なくとも２つの吸収性の機能層を有する薄層多層被覆膜が設けられた、太陽光に作用するグレージング機能を有する、特に建物および自動車分野で適用される透明基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽放射線に作用する複数の薄膜多層被覆膜が設けられたグレージング、特に断熱および／又は太陽光保護を目的とするグレージングに関する。
【０００２】
また、本発明は、「カーテンウォール」と呼ばれる建物壁被覆パネルの一部を形成するように、ひとたび不透明にされると窓グレージングと組み合わせて、すべてガラスで作製された建物の外面の提供を可能にするタイプのグレージングに関する。
【０００３】
このタイプのグレージングは、一方では建物の断熱を改良するために、そして他方では建物の中に入り込む太陽放射の量を制限するため（言い換えれば、温室効果を制限するため）に建物部門で長年用いられてきた。そして、興味のある前記放射は、紫外線（約２９０ｎｍ相当の波長）から近赤外（約２５００ｎｍ相当の波長）までおよび赤外熱放射（約２５００ｎｍ〜５０μｍの波長を有する）まで幅がある光スペクトルを含む太陽放射である。
【０００４】
第１の解決策は、望ましい特性を得るためにガラスの組成を変えることにある。しかしながら、この解決策は、ガラス組成を変えるためにガラス製造加熱炉をあらかじめ空にすることが必要であり、費用がかかり且つ多くの時間を要するため、実際的でも経済的でもないことが判明する。それゆえ、ガラスの少なくとも１つの面に１つ以上の薄膜を堆積させる解決策を用いることが好適である。多層被覆膜において、複数の層のうち少なくとも２つの異なる種類の層は、多層被覆膜に実質的にその熱的特性の全てを与える機能層と主要な役割が機能層に化学的および／又は機械的保護を与えることである、通常透明誘電材料で作製される保護層とに区別され得る。
【０００５】
しかしながら、前記ガラスの特定の用途では、この材料の特定の等級が必要となる。それゆえ、建築および自動車分野では、強化ガラス（「安全ガラス」）、ガラスに良好な機械的強度を与える強化又は強化工程を用いることが望ましいかあるいは必要でさえある。残念なことに、強化ガラスは切断することができずそしてそれゆえにガラスにとって強化又は強化工程の前にその最終形状および寸法を有していることが必要である。ガラスの強化は、ガラスを高温（７００℃近く）への加熱、次いで急速に温度低下させる（それによってガラス内に機械的応力を生成させる）ことによって行われるため、強化又は強化工程の前にガラスに堆積した薄層はそのような処理に通常耐えられず且つその光学的および／又は熱的特性を失う。さらに、すでに強化されたガラスに複数の薄膜を堆積する前記解決策は、物流問題を引き起こし工業的に実行可能ではない。
【０００６】
ガラスにしばしば求められる他の特性は、ガラスに湾曲した又は曲がった形状を与えるために、加工されるように熱処理に耐え得ることであり、その結果このガラスは「曲げ可能」と呼ばれる。
それゆえ、解決されるべき１つの技術的問題は、多層薄膜が堆積されているガラスが強化および／又は曲げられるときに特性が低下しない多層被覆薄膜を開発することである。言い換えれば、多層薄膜は「強化可能」で且つ「曲げ可能」でなければならない。特に、低下してはならない薄膜の特性は、太陽放射ろ過性能および色と光透過強度のような光学的特性である。
【０００７】
解決策は、すでに比較的簡単な多層被覆膜の形態で提案されてきた。建築用太陽光保護グレージングの１つの例がヨーロッパ特許第０５１１９０１号およびヨーロッパ特許第第０６７８４８３号に示され、これは、太陽放射ろ過のために、任意的に窒化されたニッケル−クロム合金で作製された、又はステンレス鋼で作製されたあるいはタンタルで作製された複数の層の機能層を有し、そしてこれらはＳｎＯ２、ＴｉＯ２又はＴａ２Ｏ５のような金属酸化物で作製された誘電体からなる２つの層の間に設置される。しかしながら、そのようなグレージングは、機能層を取り囲んでいる酸化物層が曲げ又は強化の間にグレージング全体としての光透過率および外観の変化を伴う酸化を防止できないため、正確には「曲げ可能」又は「強化可能」ではない。
【０００８】
さらに最近、国際特許公開第２００１−２１５４０号では、金属（Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ）で作製された又はこの金属の窒化物で作製された機能層、および窒化又は酸窒化アルミニウムおよび／又は窒化又は酸窒化ケイ素で作製された上塗り層からなる薄膜多層被覆膜が設けられた透明基板を提案している。この解決策は、多層被覆膜が「曲げ可能」、「強化可能」であり且つ機械的に強く、そして良好な光学的特性を有しているため比較的満足のいくものである。しかしながら、光透過率ＴＬを低下させることが望ましい場合、特に建物の中で光反射を増加させる欠点を有する機能層の厚さを増大させることが必要である。外が暗いとき（又は夜に）は、建物の中では多層被覆薄膜のみを、その結果比較的強い且つ見栄えがしない、黄色／オレンジ色が優勢の色彩を呈するグレージングが見える傾向がある。ＣＩＥ（国際照明委員会）によって開発された色彩のＣＩＥ Ｌａｂモデルでは、これらの色彩は０より大きいａ＊および０より著しく大きいｂ＊に相当する。このモデルにおける理想は、より弱い色彩をもたらし、グレーの色合い（より中間色）にし、それ故により気持ちの良い傾向である構成要素ａ＊およびｂ＊が０に近い値を得ることである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明の目的は、改良された太陽光保護グレージングを製造するために太陽放射に作用する新規な薄膜多層被覆膜を提供することである。目的とする改良は、特に被覆膜を支えている基板がガラスタイプのものであるときに、どのような損傷もなく熱処理（強化および曲げのため）に耐える機能を維持しつつ反射の低減および／又は所定の光透過率値に対する色彩の中性化である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の１つの目的は、太陽放射線に作用する薄膜多層被覆膜が設けられたグレージング機能を有する透明基板である。本発明によれば、前記被覆膜は両側に誘電性材料を含む２つの透明層が配置された少なくとも２つの吸収性の機能層を有する。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
有利には、
- 前記機能層が、ニオブ、タンタル、ジルコニウムおよびモリブデンからなる群に属し、好適にはニオブである金属に基づく、
- 前記機能層の少なくとも１つの金属が、部分的に又は全面的に窒化されている、
- 前記基板が、窒化された金属に基づく機能層と窒化されていない金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互、又は窒化されていない金属に基づく機能層と窒化された金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互を有し得る、
- 前記誘電材料が、アルミニウムを添加しているか又はしていない窒化ケイ素に基づき得る、
- 犠牲層が、場合によりチタン又はニッケル−クロムに基づき且つ厚さが１ｎｍ〜３ｎｍの間にあるほぼ数ｎｍ、又は１ｎｍ未満であり、側面に位置する機能層の少なくとも１つと誘電層の少なくとも１つとの間に間置され得る、
- 誘電層の少なくとも１つが、Ｓｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２又はＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２／Ｓｉ３Ｎ４のようなハイ・インデックス（高指数）とロウ・インデックス（低指数）との交互で構成され得る、
- 機能層の厚さの合計が最大限でも５０ｎｍであり且つ複数の機能層の厚さが実質的に同じである、
- 基板が強化可能、曲げ可能および／又はエナメル加工可能であり得る、および
- 基板が、透明な又は大部分薄い色のついたガラスで作製され、又は柔軟な又は剛性透明高分子材料で作製され得て、- 基板がラッカー又はエナメル状での被覆膜により少なくとも部分的に混濁され得る。
【００１２】
また、本発明は、上記の基板を組み込んでいる単一グレージング（すなわち、単一基板からなる）又は二重グレージングタイプの絶縁多重グレージングに関する。好適には、前記薄膜多層被覆膜は、基板を備えている客室又は部屋の外側から内側に基板の複数の面に番号を付けて面２にあり、グレージングに太陽放射線保護効果を与える。（従来は、基板の面１が外側に面し、そして二重グレージングの場合、面３が第１の基板の面２に面している第２の基板の内側の面を構成し、そして面４が第２の基板の外側面を構成している。）
【００１３】
有利には、本発明のグレージングは、特に負のａ＊およびｂ＊値を有して、ほとんど青色／緑色であり得る。
また、本発明は、上記の混濁した基板を組み込んでいる建築物の壁面のカーテンウォールタイプの被覆パネルに関する。
本発明の他の特徴および有利な点は限定しない実施例によって示される本発明の以下のいくつかの実施態様の記載を通じて明らかになるであろう。
【００１４】
それゆえ、本発明によって提供される解決策は、両側に透明誘電性材料からなる２つの層が配置された吸収性の機能層の少なくとも２つを有する薄膜多層被覆膜からなる。
有利には、
- 吸収性機能層が、それ自体又は混合して用いられる、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）およびジルコニウム（Ｚｒ）から選択される金属で作製されているか、又はこれら金属の１つの窒化物（ＭｏＮ、ＮｂＮ、ＴａＮ、ＺｒＮ）に基づく、
- 前記機能層が両側に位置する層の前記透明誘電性材料が好適には窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）である。
【００１５】
本発明によれば、前記多層被覆膜の実施態様は以下のもの：
- ガラス基板／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４、
- ガラス基板／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｎｂ／Ｓｉ３Ｎ４、
- ガラス基板／Ｓｉ３Ｎ４／Ｎｂ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４
であり得る。
各機能層Ｎｂ又はＮｂＮは、誘電材料（示した例ではＳｉ３Ｎ４）からなる２つの層が両側に配置されていることを指摘しなければならない。
【００１６】
前記のＭｏ、Ｎｂ、Ｔａ又はＺｒタイプの機能層は、特に安定であり光学的特性を低下させることなくさまざまな熱処理を受け得る。特に、例えばニオブは、光学的性質を変更するアニーリング処理の間に部分的に窒化されることになる。モリブデンは非常に容易に酸化され且つ透明になる傾向を有している。また、窒化タイプ、特には窒化ニオブからなる機能層は高い水準の化学安定性を有している。
【００１７】
機能層は、可視領域で吸収性であることを意味する吸収性でなければならない。一般的に、薄膜は可視領域におけるいくつかの光線を吸収するときに吸収性であるといわれる。
【００１８】
ＮｂＮ機能層の厚さは、それぞれ１０ｎｍ程度であり（２つの層の厚さの合計は４０〜５０ｎｍを越えない）、国際特許公開第２００１／２１５４０号に記載の単一の機能層のみが用いられている（Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４に相当する多層被覆膜）従来技術の解決策は、その厚さはむしろ数十ｎｍ程度である。前記複数の機能層の厚さは、被覆膜に必要とされる望ましい光透過率ＴＬに従って調整される。
【００１９】
有利には、複数の薄い機能層は、例えばチタンに基づく薄い犠牲層が両側に配置され得る。それゆえ、犠牲層は機能層と誘電層との間に挿入される。犠牲層の目的は、Ｎｂ、Ｔａ又はＺｒ層の金属特性（強化されていない状態での）を保護することである。１つの可能性のある例は、チタン（Ｔｉ）犠牲層を有する次の多層被覆膜：ガラス／Ｓｉ３Ｎ４／Ｔｉ／Ｎｂ／Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｔｉ／Ｎｂ／Ｔｉである。これらの犠牲層の厚さは１ｎｍ〜３ｎｍの数ｎｍ程度、又は１ｎｍ未満である。
変形として、チタンはニッケル−クロムで置き換えられ得る。
【００２０】
透明誘電層の厚さは、建物の内側からと外側からの両方で見た被覆膜の色彩を調整するために選択され得る。ＴＬの任意の値に対して、本発明による薄膜多層被覆膜の使用は、
- 反射の水準を著しく低減すること、および
- 反射での色彩をより中性にする（Ｌａｂ系でのａ＊およびｂ＊が０近づく傾向にある）又はほとんど青色／緑色（ａ＊およびｂ＊が負の値を有する）を得ること
を可能にする。
【００２１】
１つ以上の透明誘電層が、例えばＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２又はＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２／Ｓｉ３Ｎ４のようなハイ・インデックスおよびロー・インデックス層の交互で置き換えられ得る。
【００２２】
また、有利には、窒化ケイ素に基づいている多層被覆膜の複数の層は、ケイ素と比べて小部分の金属、例えば特にアルミニウムを、透明誘電材料で作製されている層を構成する複合物の５〜１０質量％の含有量で含有し得る。これは、ケイ素ターゲットが、ドープされていない場合に伝導性が不足しているマグネトロンスパッタリング、すなわち磁気増幅スパッタリングによる膜の堆積速度を増加させるのに役立つ。
加えて、前記金属は窒化物により高い耐久性を与え得る。
【実施例】
【００２３】
以下の実施例は、本発明のさまざまな実施態様を示し、そして従来技術によって得られた多層被覆膜および本発明による多層被覆膜の特性を比較することを可能とする。
以下の実施例では、複数の層が磁気増幅（マグネトロン）スパッタリングにより、室温で厚さ４ｍｍのガラス基板上に堆積された。
【００２４】
これらの実施例では、
- 光学的透過率ＴＬは光源Ｄ６５の下での光透過率（％）であり、
- 外部反射率Ｒｏｕｔは、薄膜多層被覆膜で被覆されたガラスが面２（基板の面に番号をつける前記の従来のシステムを用いて）に多層被覆膜を用いた部屋の中の単一グレージングとして取り付けられているとき、部屋又は建物のガラス側で測定した反射率（％）であり、
- 内部反射率（Ｒｉｎ）は、薄膜多層被覆膜で被覆されたガラスが面２に多層被覆膜を用いた部屋の中の単一グレージングとして取り付けられているとき、部屋又は建物の被覆膜側で測定した反射率（％）であり、
- ａ＊およびｂ＊（外部）又はａ＊およびｂ＊（内部）は、（Ｌ、ａ＊、ｂ＊）比色分析モデルによる外部（又は内部）反射での比色分析座標である。
【００２５】
比較例１
【００２６】
【表１】
【００２７】
この比較例において、被覆膜Ｎｏ．１は、国際特許公開第２００１−２１５４０号に記載の従来技術に相当する単一のＮｂＮ層（機能層）が２５ｎｍの厚さを有するガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４タイプのものである。被覆膜Ｎｏ．２は、本発明によるガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４タイプのものであり、第１のＮｂＮ機能層の厚さが１０ｎｍで第２のＮｂＮ層の厚さが１３ｎｍである。被覆膜Ｎｏ．２の２つのＮｂＮ層の合計の厚さは被覆膜Ｎｏ．１の単一層の厚さと実質的に等しい（２５ｎｍと比較して１３＋１０ｎｍ）。被覆膜Ｎｏ．２の場合、第１のＳｉ３Ｎ４層（ガラスＶに隣接した層）の厚さは３０〜５０ｎｍであり、第２のＳｉ３Ｎ４層の厚さは６０〜８０ｎｍであり、第３の層の厚さは３０〜５０ｎｍである。
【００２８】
同じ光透過率ＴＬ（２０％）および同様のＮｂＮ厚さに対して、内部および外部のいずれも被覆膜Ｎｏ．２の反射係数が被覆膜Ｎｏ．１のそれよりも極めて低いことは指摘されるべきである。加えて、部屋の内側でのａ＊およびｂ＊値がわずかにマイナスである。これが相対的に中性色（被覆膜Ｎｏ．１よりも黄色の程度が低い）を作り出す。
【００２９】
比較例２
この実施例は、タイプ：
ガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４
の多層被覆膜に関する。
さまざまな層の厚さ（ｎｍ）が次の表に示されている。
【００３０】
【表２】
【００３１】
ほぼ２０％程度の光透過率ＴＬに対して、以下の結果が得られた。
ＴＬ＝２１％、
Ｒｏｕｔ＝９．０、ａ＊＝−２．５、ｂ＊＝−１８．１（ガラス側）、及び
Ｒｉｎ＝１６．９、ａ＊＝−４．８、ｂ＊＝０．７（被覆膜側）
【００３２】
Ｒｏｕｔはガラス側から見た被覆膜の反射係数であって、ａ＊およびｂ＊値はガラス側から見た色彩に相当し、Ｒｉｎおよび相当するａ＊およびｂ＊値は被覆膜から多層被覆膜を見たときの値である。ＮｂＮ二重層被覆膜の使用は被覆膜側およびガラス側で低い反射値が得られること、またガラス側での非常に顕著な青色と被覆膜側でわずかな緑色を可能とする。
【００３３】
以下の反対の例は、従来技術のガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４タイプの単一機能層を有する２つの被覆膜に関する。異なる厚さ（ｎｍ）の２つのシリーズが以下の表に示されている。
【００３４】
【表３】
【００３５】
同じ光透過率値ＴＬに対して、単一のＮｂＮ機能層を有する被覆膜の使用は、被覆膜側でのこの低いおよび／又は中性のおよび／又は青色／緑色の光反射値を得ることを可能にしないことは指摘されるべきである。
【００３６】
比較例３
いくつかの応用のために、機能層と誘電層との間に介在させた犠牲層を加えることが有益であり得る。犠牲層は、機能層の金属的特性（強化されていない状態で）を保護することを意図されている。有利には、この犠牲層は比較的小さい厚さ（通常は≦１ｎｍ）を有するチタンに基づき得る。
この実施例は、１つ又は複数のニオブ機能層の両側に位置しているチタン犠牲層が備わっている２つの多層被覆膜に関し、１つ（Ｎｏ．１）は従来技術により、
ガラス／Si３N４／Ti／Nb／Ti／Si３N４
そして、もう１つ（Ｎｏ．２）は本発明による。
ガラス／Si３N４／Ti／Nb／Ti／Si３N４／Ti／Nb／Ti／Si３N４
【００３７】
【表４】
【００３８】
被覆膜Ｎｏ．１のＮｂ層の厚さは３０ｎｍであり、被覆膜Ｎｏ．２の２つのＮｂ層の厚さの合計（２０ｎｍ）よりわずかに大きい。
同じ光透過率係数ＴＬに対して、２つの機能層を有する被覆膜Ｎｏ．２は、改善が約３０％である内側（Ｒｉｎ）に対しておよび外側（Ｒｏｕｔ）に対しての両方で、単一の機能層を有する被覆膜Ｎｏ．１よりも反射が大幅に低いことは指摘されるべきである。加えて、内側に対する１７〜−９のｂ＊値を有して、グレージングは黄色からもっと感じの良い青色に切り替わる。放射率εに対して得られた値は、被覆膜が比較的低いＥ特性（放射率は３〜５０μｍの波長を有する熱赤外放射線の大部分を反射する能力である。）を保っていることを示す。
【００３９】
６ｍｍ／４ｍｍタイプの二重ガラスに被覆膜Ｎｏ．２が組み込まれ、厚さ１５ｍｍのアルゴン層によって分けられたグレージング窓枠で、２．６Ｗ／ｍ２．ＫのＵ値が得られた同じタイプのグレージング（被覆膜Ｎｏ．２を有しない）と比較すべき１．５Ｗ／ｍ２．ＫのＵ倍数が得られていることは指摘されるべきである。
以下に、本発明による他の多層被覆膜構造が示されている（混成のＮｂＮ／Ｎｂ構造）。
【００４０】
実施例３
ガラス/Si３N４(40)/NbN(8)/Ti(1)／Si３N４(65)/Ti(1)/Nb(8)/Ti(1)／Si３N４(35)
ＴＬ、ａ＊ｏｕｔ、ｂ＊ｏｕｔおよびＲｏｕｔのデータが概して同じである実施例４（従来技術）、すなわち、
ガラス/Si３N４(80)/Nb(23)／Si３N４(28)
と比較される。
【００４１】
【表５】
【００４２】
以上のように、実施例３による被覆膜は、実施例４のそれと比較して内部の光学的パラメーター（ａ＊、ｂ＊）（反射での中間色）であるＲｉｎ値が著しく改良されていることが目につく。
【００４３】
また、変形として、混成のＮｂ／ＮｂＮ被覆膜構造が可能である。
【００４４】
本発明による多層被覆膜は、曲げ可能および／又は強化可能および／又はエナメル加工可能である。「曲げ可能」および「強化可能」被覆膜とは、本発明の文脈の範囲内で、基板に堆積されたとき、特に定量化され得るＣＩＥ Ｌａｂ色彩表示モデル（Ｌ、ａ＊、ｂ＊）の範囲内で次：
ΔＥ＝（ΔＬ２＋Δａ２＋Δｂ２）
（式中、ΔＬ、ΔａおよびΔｂは、熱処理の前と後とで測定されたＬ、ａ＊およびｂ＊の差である。）
と規定されるΔ値が３未満、特に２未満の限定的な光学的変化を受けることを意味すると理解すべきである。
【００４５】
本発明による多層被覆膜は、カーテンウォールの場合に特に有益であるエナメル加工処理を任意的に受け得る。エナメル加工はカーテンウォール状のグレージングを不透明にすることを可能にする。本発明による多層被覆膜は、同様の多層被覆膜を備えた窓グレージングと比べて外部反射における光学的外観の目に見える変化なくエナメルを堆積しそして焼き固めることが可能であるという意味でエナメル加工可能である。公知の方法でエナメル組成物が堆積され得る被覆膜は、被覆膜に光学的欠陥が見えず且つ上記のように定量化され得る限定された光学的変化しかない場合、「エナメル加工可能」であるといわれている。また、このことは、エナメルと接触している被覆膜の多層が、ひとたびグレージングが取付けられたらエナメルが焼き固められていようとあるいは時間が経過していようと、厄介な劣化を被ることなく満足のいく耐久性を有していることを意味する。
【００４６】
本発明による多層被覆膜は、透明なあるいは薄い色の付いたバルクガラス基板が用いられるときに有益である。しかしながら、その曲げ可能又は強化可能な特性を充分に引き出すことを求めないで、ガラス基板と、特にガラス代用品として剛性透明高分子材料、例えばポリカーボネート又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、又は他の柔軟な高分子材料、例えば特定のポリウレタン又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で作製された非ガラス基板の両方を用いて、単にその充分な耐久性を求めることも同様に可能であり、この場合柔軟な材料は様々な手段により又は積層工程を用いて、付着させて機能的にするように剛性基板につなぎ合わせ得る。
【００４７】
本発明は、単一の機能層を有する被覆膜を用いては容易に得られない低反射値および青色あるいは緑色を活用する色彩を有する太陽光制御グレージングを得ることを可能にする。
記載しそして示したもの以外の実施態様は、本発明の範囲を離れることなく当業者によって設計され得る。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽放射線に作用する複数の薄膜多層被覆膜が設けられたグレージング、特に断熱および／又は太陽光保護を目的とするグレージングに関する。
【０００２】
また、本発明は、「カーテンウォール」と呼ばれる建物壁被覆パネルの一部を形成するように、ひとたび不透明にされると窓グレージングと組み合わせて、すべてガラスで作製された建物の外面の提供を可能にするタイプのグレージングに関する。
【０００３】
このタイプのグレージングは、一方では建物の断熱を改良するために、そして他方では建物の中に入り込む太陽放射の量を制限するため（言い換えれば、温室効果を制限するため）に建物部門で長年用いられてきた。そして、興味のある前記放射は、紫外線（約２９０ｎｍ相当の波長）から近赤外（約２５００ｎｍ相当の波長）までおよび赤外熱放射（約２５００ｎｍ〜５０μｍの波長を有する）まで幅がある光スペクトルを含む太陽放射である。
【０００４】
第１の解決策は、望ましい特性を得るためにガラスの組成を変えることにある。しかしながら、この解決策は、ガラス組成を変えるためにガラス製造加熱炉をあらかじめ空にすることが必要であり、費用がかかり且つ多くの時間を要するため、実際的でも経済的でもないことが判明する。それゆえ、ガラスの少なくとも１つの面に１つ以上の薄膜を堆積させる解決策を用いることが好適である。多層被覆膜において、複数の層のうち少なくとも２つの異なる種類の層は、多層被覆膜に実質的にその熱的特性の全てを与える機能層と主要な役割が機能層に化学的および／又は機械的保護を与えることである、通常透明誘電材料で作製される保護層とに区別され得る。
【０００５】
しかしながら、前記ガラスの特定の用途では、この材料の特定の等級が必要となる。それゆえ、建築および自動車分野では、強化ガラス（「安全ガラス」）、ガラスに良好な機械的強度を与える強化又は強化工程を用いることが望ましいかあるいは必要でさえある。残念なことに、強化ガラスは切断することができずそしてそれゆえにガラスにとって強化又は強化工程の前にその最終形状および寸法を有していることが必要である。ガラスの強化は、ガラスを高温（７００℃近く）への加熱、次いで急速に温度低下させる（それによってガラス内に機械的応力を生成させる）ことによって行われるため、強化又は強化工程の前にガラスに堆積した薄層はそのような処理に通常耐えられず且つその光学的および／又は熱的特性を失う。さらに、すでに強化されたガラスに複数の薄膜を堆積する前記解決策は、物流問題を引き起こし工業的に実行可能ではない。
【０００６】
ガラスにしばしば求められる他の特性は、ガラスに湾曲した又は曲がった形状を与えるために、加工されるように熱処理に耐え得ることであり、その結果このガラスは「曲げ可能」と呼ばれる。
それゆえ、解決されるべき１つの技術的問題は、多層薄膜が堆積されているガラスが強化および／又は曲げられるときに特性が低下しない多層被覆薄膜を開発することである。言い換えれば、多層薄膜は「強化可能」で且つ「曲げ可能」でなければならない。特に、低下してはならない薄膜の特性は、太陽放射ろ過性能および色と光透過強度のような光学的特性である。
【０００７】
解決策は、すでに比較的簡単な多層被覆膜の形態で提案されてきた。建築用太陽光保護グレージングの１つの例がヨーロッパ特許第０５１１９０１号およびヨーロッパ特許第第０６７８４８３号に示され、これは、太陽放射ろ過のために、任意的に窒化されたニッケル−クロム合金で作製された、又はステンレス鋼で作製されたあるいはタンタルで作製された複数の層の機能層を有し、そしてこれらはＳｎＯ２、ＴｉＯ２又はＴａ２Ｏ５のような金属酸化物で作製された誘電体からなる２つの層の間に設置される。しかしながら、そのようなグレージングは、機能層を取り囲んでいる酸化物層が曲げ又は強化の間にグレージング全体としての光透過率および外観の変化を伴う酸化を防止できないため、正確には「曲げ可能」又は「強化可能」ではない。
【０００８】
さらに最近、国際特許公開第２００１−２１５４０号では、金属（Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ）で作製された又はこの金属の窒化物で作製された機能層、および窒化又は酸窒化アルミニウムおよび／又は窒化又は酸窒化ケイ素で作製された上塗り層からなる薄膜多層被覆膜が設けられた透明基板を提案している。この解決策は、多層被覆膜が「曲げ可能」、「強化可能」であり且つ機械的に強く、そして良好な光学的特性を有しているため比較的満足のいくものである。しかしながら、光透過率ＴＬを低下させることが望ましい場合、特に建物の中で光反射を増加させる欠点を有する機能層の厚さを増大させることが必要である。外が暗いとき（又は夜に）は、建物の中では多層被覆薄膜のみを、その結果比較的強い且つ見栄えがしない、黄色／オレンジ色が優勢の色彩を呈するグレージングが見える傾向がある。ＣＩＥ（国際照明委員会）によって開発された色彩のＣＩＥ Ｌａｂモデルでは、これらの色彩は０より大きいａ＊および０より著しく大きいｂ＊に相当する。このモデルにおける理想は、より弱い色彩をもたらし、グレーの色合い（より中間色）にし、それ故により気持ちの良い傾向である構成要素ａ＊およびｂ＊が０に近い値を得ることである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明の目的は、改良された太陽光保護グレージングを製造するために太陽放射に作用する新規な薄膜多層被覆膜を提供することである。目的とする改良は、特に被覆膜を支えている基板がガラスタイプのものであるときに、どのような損傷もなく熱処理（強化および曲げのため）に耐える機能を維持しつつ反射の低減および／又は所定の光透過率値に対する色彩の中性化である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の１つの目的は、太陽放射線に作用する薄膜多層被覆膜が設けられたグレージング機能を有する透明基板である。本発明によれば、前記被覆膜は両側に誘電性材料を含む２つの透明層が配置された少なくとも２つの吸収性の機能層を有する。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
有利には、
- 前記機能層が、ニオブ、タンタル、ジルコニウムおよびモリブデンからなる群に属し、好適にはニオブである金属に基づく、
- 前記機能層の少なくとも１つの金属が、部分的に又は全面的に窒化されている、
- 前記基板が、窒化された金属に基づく機能層と窒化されていない金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互、又は窒化されていない金属に基づく機能層と窒化された金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互を有し得る、
- 前記誘電材料が、アルミニウムを添加しているか又はしていない窒化ケイ素に基づき得る、
- 犠牲層が、場合によりチタン又はニッケル−クロムに基づき且つ厚さが１ｎｍ〜３ｎｍの間にあるほぼ数ｎｍ、又は１ｎｍ未満であり、側面に位置する機能層の少なくとも１つと誘電層の少なくとも１つとの間に間置され得る、
- 誘電層の少なくとも１つが、Ｓｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２又はＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２／Ｓｉ３Ｎ４のようなハイ・インデックス（高指数）とロウ・インデックス（低指数）との交互で構成され得る、
- 機能層の厚さの合計が最大限でも５０ｎｍであり且つ複数の機能層の厚さが実質的に同じである、
- 基板が強化可能、曲げ可能および／又はエナメル加工可能であり得る、および
- 基板が、透明な又は大部分薄い色のついたガラスで作製され、又は柔軟な又は剛性透明高分子材料で作製され得て、- 基板がラッカー又はエナメル状での被覆膜により少なくとも部分的に混濁され得る。
【００１２】
また、本発明は、上記の基板を組み込んでいる単一グレージング（すなわち、単一基板からなる）又は二重グレージングタイプの絶縁多重グレージングに関する。好適には、前記薄膜多層被覆膜は、基板を備えている客室又は部屋の外側から内側に基板の複数の面に番号を付けて面２にあり、グレージングに太陽放射線保護効果を与える。（従来は、基板の面１が外側に面し、そして二重グレージングの場合、面３が第１の基板の面２に面している第２の基板の内側の面を構成し、そして面４が第２の基板の外側面を構成している。）
【００１３】
有利には、本発明のグレージングは、特に負のａ＊およびｂ＊値を有して、ほとんど青色／緑色であり得る。
また、本発明は、上記の混濁した基板を組み込んでいる建築物の壁面のカーテンウォールタイプの被覆パネルに関する。
本発明の他の特徴および有利な点は限定しない実施例によって示される本発明の以下のいくつかの実施態様の記載を通じて明らかになるであろう。
【００１４】
それゆえ、本発明によって提供される解決策は、両側に透明誘電性材料からなる２つの層が配置された吸収性の機能層の少なくとも２つを有する薄膜多層被覆膜からなる。
有利には、
- 吸収性機能層が、それ自体又は混合して用いられる、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）およびジルコニウム（Ｚｒ）から選択される金属で作製されているか、又はこれら金属の１つの窒化物（ＭｏＮ、ＮｂＮ、ＴａＮ、ＺｒＮ）に基づく、
- 前記機能層が両側に位置する層の前記透明誘電性材料が好適には窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）である。
【００１５】
本発明によれば、前記多層被覆膜の実施態様は以下のもの：
- ガラス基板／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４、
- ガラス基板／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｎｂ／Ｓｉ３Ｎ４、
- ガラス基板／Ｓｉ３Ｎ４／Ｎｂ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４
であり得る。
各機能層Ｎｂ又はＮｂＮは、誘電材料（示した例ではＳｉ３Ｎ４）からなる２つの層が両側に配置されていることを指摘しなければならない。
【００１６】
前記のＭｏ、Ｎｂ、Ｔａ又はＺｒタイプの機能層は、特に安定であり光学的特性を低下させることなくさまざまな熱処理を受け得る。特に、例えばニオブは、光学的性質を変更するアニーリング処理の間に部分的に窒化されることになる。モリブデンは非常に容易に酸化され且つ透明になる傾向を有している。また、窒化タイプ、特には窒化ニオブからなる機能層は高い水準の化学安定性を有している。
【００１７】
機能層は、可視領域で吸収性であることを意味する吸収性でなければならない。一般的に、薄膜は可視領域におけるいくつかの光線を吸収するときに吸収性であるといわれる。
【００１８】
ＮｂＮ機能層の厚さは、それぞれ１０ｎｍ程度であり（２つの層の厚さの合計は４０〜５０ｎｍを越えない）、国際特許公開第２００１／２１５４０号に記載の単一の機能層のみが用いられている（Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４に相当する多層被覆膜）従来技術の解決策は、その厚さはむしろ数十ｎｍ程度である。前記複数の機能層の厚さは、被覆膜に必要とされる望ましい光透過率ＴＬに従って調整される。
【００１９】
有利には、複数の薄い機能層は、例えばチタンに基づく薄い犠牲層が両側に配置され得る。それゆえ、犠牲層は機能層と誘電層との間に挿入される。犠牲層の目的は、Ｎｂ、Ｔａ又はＺｒ層の金属特性（強化されていない状態での）を保護することである。１つの可能性のある例は、チタン（Ｔｉ）犠牲層を有する次の多層被覆膜：ガラス／Ｓｉ３Ｎ４／Ｔｉ／Ｎｂ／Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｔｉ／Ｎｂ／Ｔｉである。これらの犠牲層の厚さは１ｎｍ〜３ｎｍの数ｎｍ程度、又は１ｎｍ未満である。
変形として、チタンはニッケル−クロムで置き換えられ得る。
【００２０】
透明誘電層の厚さは、建物の内側からと外側からの両方で見た被覆膜の色彩を調整するために選択され得る。ＴＬの任意の値に対して、本発明による薄膜多層被覆膜の使用は、
- 反射の水準を著しく低減すること、および
- 反射での色彩をより中性にする（Ｌａｂ系でのａ＊およびｂ＊が０近づく傾向にある）又はほとんど青色／緑色（ａ＊およびｂ＊が負の値を有する）を得ること
を可能にする。
【００２１】
１つ以上の透明誘電層が、例えばＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２又はＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２／Ｓｉ３Ｎ４のようなハイ・インデックスおよびロー・インデックス層の交互で置き換えられ得る。
【００２２】
また、有利には、窒化ケイ素に基づいている多層被覆膜の複数の層は、ケイ素と比べて小部分の金属、例えば特にアルミニウムを、透明誘電材料で作製されている層を構成する複合物の５〜１０質量％の含有量で含有し得る。これは、ケイ素ターゲットが、ドープされていない場合に伝導性が不足しているマグネトロンスパッタリング、すなわち磁気増幅スパッタリングによる膜の堆積速度を増加させるのに役立つ。
加えて、前記金属は窒化物により高い耐久性を与え得る。
【実施例】
【００２３】
以下の実施例は、本発明のさまざまな実施態様を示し、そして従来技術によって得られた多層被覆膜および本発明による多層被覆膜の特性を比較することを可能とする。
以下の実施例では、複数の層が磁気増幅（マグネトロン）スパッタリングにより、室温で厚さ４ｍｍのガラス基板上に堆積された。
【００２４】
これらの実施例では、
- 光学的透過率ＴＬは光源Ｄ６５の下での光透過率（％）であり、
- 外部反射率Ｒｏｕｔは、薄膜多層被覆膜で被覆されたガラスが面２（基板の面に番号をつける前記の従来のシステムを用いて）に多層被覆膜を用いた部屋の中の単一グレージングとして取り付けられているとき、部屋又は建物のガラス側で測定した反射率（％）であり、
- 内部反射率（Ｒｉｎ）は、薄膜多層被覆膜で被覆されたガラスが面２に多層被覆膜を用いた部屋の中の単一グレージングとして取り付けられているとき、部屋又は建物の被覆膜側で測定した反射率（％）であり、
- ａ＊およびｂ＊（外部）又はａ＊およびｂ＊（内部）は、（Ｌ、ａ＊、ｂ＊）比色分析モデルによる外部（又は内部）反射での比色分析座標である。
【００２５】
比較例１
【００２６】
【表１】
【００２７】
この比較例において、被覆膜Ｎｏ．１は、国際特許公開第２００１−２１５４０号に記載の従来技術に相当する単一のＮｂＮ層（機能層）が２５ｎｍの厚さを有するガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４タイプのものである。被覆膜Ｎｏ．２は、本発明によるガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４タイプのものであり、第１のＮｂＮ機能層の厚さが１０ｎｍで第２のＮｂＮ層の厚さが１３ｎｍである。被覆膜Ｎｏ．２の２つのＮｂＮ層の合計の厚さは被覆膜Ｎｏ．１の単一層の厚さと実質的に等しい（２５ｎｍと比較して１３＋１０ｎｍ）。被覆膜Ｎｏ．２の場合、第１のＳｉ３Ｎ４層（ガラスＶに隣接した層）の厚さは３０〜５０ｎｍであり、第２のＳｉ３Ｎ４層の厚さは６０〜８０ｎｍであり、第３の層の厚さは３０〜５０ｎｍである。
【００２８】
同じ光透過率ＴＬ（２０％）および同様のＮｂＮ厚さに対して、内部および外部のいずれも被覆膜Ｎｏ．２の反射係数が被覆膜Ｎｏ．１のそれよりも極めて低いことは指摘されるべきである。加えて、部屋の内側でのａ＊およびｂ＊値がわずかにマイナスである。これが相対的に中性色（被覆膜Ｎｏ．１よりも黄色の程度が低い）を作り出す。
【００２９】
比較例２
この実施例は、タイプ：
ガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４
の多層被覆膜に関する。
さまざまな層の厚さ（ｎｍ）が次の表に示されている。
【００３０】
【表２】
【００３１】
ほぼ２０％程度の光透過率ＴＬに対して、以下の結果が得られた。
ＴＬ＝２１％、
Ｒｏｕｔ＝９．０、ａ＊＝−２．５、ｂ＊＝−１８．１（ガラス側）、及び
Ｒｉｎ＝１６．９、ａ＊＝−４．８、ｂ＊＝０．７（被覆膜側）
【００３２】
Ｒｏｕｔはガラス側から見た被覆膜の反射係数であって、ａ＊およびｂ＊値はガラス側から見た色彩に相当し、Ｒｉｎおよび相当するａ＊およびｂ＊値は被覆膜から多層被覆膜を見たときの値である。ＮｂＮ二重層被覆膜の使用は被覆膜側およびガラス側で低い反射値が得られること、またガラス側での非常に顕著な青色と被覆膜側でわずかな緑色を可能とする。
【００３３】
以下の反対の例は、従来技術のガラス／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｂＮ／Ｓｉ３Ｎ４タイプの単一機能層を有する２つの被覆膜に関する。異なる厚さ（ｎｍ）の２つのシリーズが以下の表に示されている。
【００３４】
【表３】
【００３５】
同じ光透過率値ＴＬに対して、単一のＮｂＮ機能層を有する被覆膜の使用は、被覆膜側でのこの低いおよび／又は中性のおよび／又は青色／緑色の光反射値を得ることを可能にしないことは指摘されるべきである。
【００３６】
比較例３
いくつかの応用のために、機能層と誘電層との間に介在させた犠牲層を加えることが有益であり得る。犠牲層は、機能層の金属的特性（強化されていない状態で）を保護することを意図されている。有利には、この犠牲層は比較的小さい厚さ（通常は≦１ｎｍ）を有するチタンに基づき得る。
この実施例は、１つ又は複数のニオブ機能層の両側に位置しているチタン犠牲層が備わっている２つの多層被覆膜に関し、１つ（Ｎｏ．１）は従来技術により、
ガラス／Si３N４／Ti／Nb／Ti／Si３N４
そして、もう１つ（Ｎｏ．２）は本発明による。
ガラス／Si３N４／Ti／Nb／Ti／Si３N４／Ti／Nb／Ti／Si３N４
【００３７】
【表４】
【００３８】
被覆膜Ｎｏ．１のＮｂ層の厚さは３０ｎｍであり、被覆膜Ｎｏ．２の２つのＮｂ層の厚さの合計（２０ｎｍ）よりわずかに大きい。
同じ光透過率係数ＴＬに対して、２つの機能層を有する被覆膜Ｎｏ．２は、改善が約３０％である内側（Ｒｉｎ）に対しておよび外側（Ｒｏｕｔ）に対しての両方で、単一の機能層を有する被覆膜Ｎｏ．１よりも反射が大幅に低いことは指摘されるべきである。加えて、内側に対する１７〜−９のｂ＊値を有して、グレージングは黄色からもっと感じの良い青色に切り替わる。放射率εに対して得られた値は、被覆膜が比較的低いＥ特性（放射率は３〜５０μｍの波長を有する熱赤外放射線の大部分を反射する能力である。）を保っていることを示す。
【００３９】
６ｍｍ／４ｍｍタイプの二重ガラスに被覆膜Ｎｏ．２が組み込まれ、厚さ１５ｍｍのアルゴン層によって分けられたグレージング窓枠で、２．６Ｗ／ｍ２．ＫのＵ値が得られた同じタイプのグレージング（被覆膜Ｎｏ．２を有しない）と比較すべき１．５Ｗ／ｍ２．ＫのＵ倍数が得られていることは指摘されるべきである。
以下に、本発明による他の多層被覆膜構造が示されている（混成のＮｂＮ／Ｎｂ構造）。
【００４０】
実施例３
ガラス/Si３N４(40)/NbN(8)/Ti(1)／Si３N４(65)/Ti(1)/Nb(8)/Ti(1)／Si３N４(35)
ＴＬ、ａ＊ｏｕｔ、ｂ＊ｏｕｔおよびＲｏｕｔのデータが概して同じである実施例４（従来技術）、すなわち、
ガラス/Si３N４(80)/Nb(23)／Si３N４(28)
と比較される。
【００４１】
【表５】
【００４２】
以上のように、実施例３による被覆膜は、実施例４のそれと比較して内部の光学的パラメーター（ａ＊、ｂ＊）（反射での中間色）であるＲｉｎ値が著しく改良されていることが目につく。
【００４３】
また、変形として、混成のＮｂ／ＮｂＮ被覆膜構造が可能である。
【００４４】
本発明による多層被覆膜は、曲げ可能および／又は強化可能および／又はエナメル加工可能である。「曲げ可能」および「強化可能」被覆膜とは、本発明の文脈の範囲内で、基板に堆積されたとき、特に定量化され得るＣＩＥ Ｌａｂ色彩表示モデル（Ｌ、ａ＊、ｂ＊）の範囲内で次：
ΔＥ＝（ΔＬ２＋Δａ２＋Δｂ２）
（式中、ΔＬ、ΔａおよびΔｂは、熱処理の前と後とで測定されたＬ、ａ＊およびｂ＊の差である。）
と規定されるΔ値が３未満、特に２未満の限定的な光学的変化を受けることを意味すると理解すべきである。
【００４５】
本発明による多層被覆膜は、カーテンウォールの場合に特に有益であるエナメル加工処理を任意的に受け得る。エナメル加工はカーテンウォール状のグレージングを不透明にすることを可能にする。本発明による多層被覆膜は、同様の多層被覆膜を備えた窓グレージングと比べて外部反射における光学的外観の目に見える変化なくエナメルを堆積しそして焼き固めることが可能であるという意味でエナメル加工可能である。公知の方法でエナメル組成物が堆積され得る被覆膜は、被覆膜に光学的欠陥が見えず且つ上記のように定量化され得る限定された光学的変化しかない場合、「エナメル加工可能」であるといわれている。また、このことは、エナメルと接触している被覆膜の多層が、ひとたびグレージングが取付けられたらエナメルが焼き固められていようとあるいは時間が経過していようと、厄介な劣化を被ることなく満足のいく耐久性を有していることを意味する。
【００４６】
本発明による多層被覆膜は、透明なあるいは薄い色の付いたバルクガラス基板が用いられるときに有益である。しかしながら、その曲げ可能又は強化可能な特性を充分に引き出すことを求めないで、ガラス基板と、特にガラス代用品として剛性透明高分子材料、例えばポリカーボネート又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、又は他の柔軟な高分子材料、例えば特定のポリウレタン又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で作製された非ガラス基板の両方を用いて、単にその充分な耐久性を求めることも同様に可能であり、この場合柔軟な材料は様々な手段により又は積層工程を用いて、付着させて機能的にするように剛性基板につなぎ合わせ得る。
【００４７】
本発明は、単一の機能層を有する被覆膜を用いては容易に得られない低反射値および青色あるいは緑色を活用する色彩を有する太陽光制御グレージングを得ることを可能にする。
記載しそして示したもの以外の実施態様は、本発明の範囲を離れることなく当業者によって設計され得る。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽放射線に作用する薄膜多層被覆膜が設けられたグレージング機能を有する透明基板であって、前記被覆膜が、両側に誘電性材料を含む２つの透明層がそれぞれ配置された、ニオブ、タンタル、モリブデンおよびジルコニウムからなる群に属す金属に基づく少なくとも２つの吸収性の機能層を有することを特徴とする、前記基板。
【請求項２】
前記機能層が、ニオブに基づくことを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項３】
前記機能層の少なくとも１つの金属が、部分的に又は完全に窒化されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板。
【請求項４】
前記機能層の全ての金属が、窒化されていることを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項５】
前記基板が、窒化された金属に基づく機能層と窒化されていない金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互、又は窒化されていない金属に基づく機能層と窒化された金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互を有することを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項６】
前記誘電材料が、窒化ケイ素に基づくことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板。
【請求項７】
前記誘電材料が、アルミニウムを添加されていることを特徴とする請求項６に記載の基板。
【請求項８】
前記アルミニウムが、５〜１０質量％の割合であることを特徴とする請求項７に記載の基板。
【請求項９】
前記機能層の少なくとも１つとその側面に位置する誘電層の少なくとも１つとの間に犠牲層が介在していることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１０】
前記犠牲層が、チタン又はニッケル−クロムに基づいていることを特徴とする請求項９に記載の基板。
【請求項１１】
前記犠牲層の厚さが、１ｎｍ〜３ｎｍの間にあるほぼ数ｎｍであることを特徴とする請求項９に記載の基板。
【請求項１２】
前記誘電層の少なくとも１つが、Ｓｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２又はＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２／Ｓｉ３Ｎ４のようなハイ・インデックスとロウ・インデックスの層の交互で作製されていることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１３】
前記複数の機能層の厚さの合計が最大でも５０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１４】
前記複数の機能層の厚さが実質的に同じであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１５】
基板が強化可能、曲げ可能および／又はエナメル加工可能であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１６】
基板が透明な又は薄い色のついたバルクガラスで作製されているか、又は柔軟なあるいは剛性な透明高分子材料で作製されていることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１７】
基板がラッカー又はエナメル状での被覆膜によって少なくとも部分的に不透明化されていることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１８】
前記薄層多層被覆膜が、基板を備えている客室又は部屋の外側から内側に基板の複数の面に番号を付けて好適には面２にあり、基板に太陽放射保護効果を与える、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の基板を組み込んだモノリスグレージング又は二重グレージング。
【請求項１９】
ほとんど青色／緑色であ、特に負のａ＊およびｂ＊値を有していることを特徴とする請求項１９に記載のガラス。
【請求項２０】
請求項１７に記載の不透明にした基板を組み込んだ、建築物の壁面のカーテンウォールタイプの被覆パネル。
【請求項１】
太陽放射線に作用する薄膜多層被覆膜が設けられたグレージング機能を有する透明基板であって、前記被覆膜が、両側に誘電性材料を含む２つの透明層がそれぞれ配置された、ニオブ、タンタル、モリブデンおよびジルコニウムからなる群に属す金属に基づく少なくとも２つの吸収性の機能層を有することを特徴とする、前記基板。
【請求項２】
前記機能層が、ニオブに基づくことを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項３】
前記機能層の少なくとも１つの金属が、部分的に又は完全に窒化されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板。
【請求項４】
前記機能層の全ての金属が、窒化されていることを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項５】
前記基板が、窒化された金属に基づく機能層と窒化されていない金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互、又は窒化されていない金属に基づく機能層と窒化された金属に基づく機能層との少なくとも１つの交互を有することを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項６】
前記誘電材料が、窒化ケイ素に基づくことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板。
【請求項７】
前記誘電材料が、アルミニウムを添加されていることを特徴とする請求項６に記載の基板。
【請求項８】
前記アルミニウムが、５〜１０質量％の割合であることを特徴とする請求項７に記載の基板。
【請求項９】
前記機能層の少なくとも１つとその側面に位置する誘電層の少なくとも１つとの間に犠牲層が介在していることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１０】
前記犠牲層が、チタン又はニッケル−クロムに基づいていることを特徴とする請求項９に記載の基板。
【請求項１１】
前記犠牲層の厚さが、１ｎｍ〜３ｎｍの間にあるほぼ数ｎｍであることを特徴とする請求項９に記載の基板。
【請求項１２】
前記誘電層の少なくとも１つが、Ｓｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２又はＳｉ３Ｎ４／ＳｉＯ２／Ｓｉ３Ｎ４のようなハイ・インデックスとロウ・インデックスの層の交互で作製されていることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１３】
前記複数の機能層の厚さの合計が最大でも５０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１４】
前記複数の機能層の厚さが実質的に同じであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１５】
基板が強化可能、曲げ可能および／又はエナメル加工可能であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１６】
基板が透明な又は薄い色のついたバルクガラスで作製されているか、又は柔軟なあるいは剛性な透明高分子材料で作製されていることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１７】
基板がラッカー又はエナメル状での被覆膜によって少なくとも部分的に不透明化されていることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１８】
前記薄層多層被覆膜が、基板を備えている客室又は部屋の外側から内側に基板の複数の面に番号を付けて好適には面２にあり、基板に太陽放射保護効果を与える、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の基板を組み込んだモノリスグレージング又は二重グレージング。
【請求項１９】
ほとんど青色／緑色であ、特に負のａ＊およびｂ＊値を有していることを特徴とする請求項１９に記載のガラス。
【請求項２０】
請求項１７に記載の不透明にした基板を組み込んだ、建築物の壁面のカーテンウォールタイプの被覆パネル。
【公表番号】特表２０１１−５２０７５５（Ｐ２０１１−５２０７５５Ａ）
【公表日】平成２３年７月２１日（２０１１．７．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５１００２３（Ｐ２０１１−５１００２３）
【出願日】平成２１年５月１３日（２００９．５．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００９／０５０８８１
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１５０３４３
【国際公開日】平成２１年１２月１７日（２００９．１２．１７）
【出願人】（５００３７４１４６）サン−ゴバン グラス フランス (388)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年７月２１日（２０１１．７．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月１３日（２００９．５．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００９／０５０８８１
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１５０３４３
【国際公開日】平成２１年１２月１７日（２００９．１２．１７）
【出願人】（５００３７４１４６）サン−ゴバン グラス フランス (388)
【Ｆターム（参考）】
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