説明

逆浸透膜分離装置

【課題】加圧ポンプの消費電力を抑制できる逆浸透膜分離装置を提供する。
【解決手段】逆浸透膜モジュール6と、供給水ラインL1と、入力された駆動周波数に応じた回転速度で駆動される加圧ポンプ4と、透過水ラインL2と、濃縮水ラインL3と、濃縮水ラインL3に送出された濃縮水W3の一部を供給水ラインL1における加圧ポンプ4よりも上流側に還流させる濃縮水循環ラインL4と、流量調節手段8と、供給水W1が流通する際に生じる負圧により濃縮水循環ラインL4に還流された濃縮水W3を吸引し、濃縮水W3が混合した供給水W1を送出するエゼクタ2と、入力された電流値信号に対応する駆動周波数を加圧ポンプ4に出力するインバータ5と、流量センサ7と、流量センサ7の検出流量値が目標流量値となるように、加圧ポンプ4の駆動周波数を演算し、当該駆動周波数の演算値に対応する電流値信号をインバータ5に出力する制御部10と、を備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、逆浸透膜モジュールを備えた逆浸透膜分離装置に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体の製造工程、電子部品や医療器具の洗浄等においては、不純物を含まない高純度の純水が使用される。この種の純水は、一般に、地下水や水道水等の原水を、逆浸透膜モジュール(以下、「RO膜モジュール」ともいう)で逆浸透膜分離処理することにより製造される。
【0003】
高分子材料からなる逆浸透膜は、温度により水透過係数が変化する特性を持つ。具体的には、RO膜モジュールの水透過係数は、供給された水(以下、「供給水」ともいう)の温度が低ければ小さくなり、供給水の温度が高ければ大きくなる。
【0004】
そのため、RO膜モジュールに供給水を送出する加圧ポンプを一定の運転圧力で運転した場合、供給水の温度が基準温度よりも低くなると、要求される生産水量に対して製造される透過水(純水)の水量が少なくなる。この場合、需要箇所への供給量が不足する。また、供給水の温度が基準温度よりも高くなると、要求される生産水量に対して透過水の水量が多くなる。この場合は、加圧ポンプの電力が無駄に消費される。
【0005】
そこで、供給水の温度にかかわらず、RO膜モジュールにおける透過水の流量を一定に保つため、流量フィードバック水量制御を行う水質改質システムが提案されている。この流量フィードバック水量制御では、RO膜モジュールで製造される透過水の流量が目標値となるように、加圧ポンプの駆動周波数がインバータにより制御される(特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2005−296945号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
上記水質改質システムにおいて、RO膜モジュールで製造された濃縮水は、RO膜モジュールの一次側出口ポートに接続された濃縮水ラインから送出される。その濃縮水ラインは、濃縮水循環ラインと濃縮水排水ラインとに分岐している。濃縮水循環ラインは、濃縮水ラインから送出された濃縮水の一部を、加圧ポンプの上流側における供給水ラインに還流させるラインである。濃縮水排水ラインは、濃縮水ラインから送出された濃縮水の残部を系外に排出するラインである。供給水ラインは、加圧ポンプを介してRO膜モジュールに供給水を供給するラインである。
【0008】
濃縮水循環ラインには、透過水の流量(Q)に対するROモジュールから流出する濃縮水の流量(Q)の比率Q/Qを3〜5倍程度に維持するために、定流量弁が設けられている。この定流量弁を動作させるためには、定流量弁の一次側と二次側との間において、圧力差が少なくとも約0.2MPa以上必要となる。そのため、濃縮水循環ラインに定流量弁を設けた実際のシステムでは、濃縮水循環ラインが合流する位置よりも上流側の供給水ラインに減圧弁(設定圧力0.1〜0.15MPa程度)を設けている。減圧弁を設けることにより、濃縮水循環ラインの二次側において圧力を下げることができる。
【0009】
しかし、減圧弁により供給水の圧力を下げると、その下流側に設けられた加圧ポンプでは、減圧弁により供給水の圧力が下がった分だけ、運転圧力を高くする必要があった。そのため、加圧ポンプにおいて、電力が無駄に消費されていた。
【0010】
従って、本発明は、加圧ポンプの消費電力を抑制できる逆浸透膜分離装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明は、供給水を透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜モジュールと、供給水を前記逆浸透膜モジュールに供給する供給水ラインと、入力された駆動周波数に応じた回転速度で駆動され、前記供給水ラインを流通する供給水を前記逆浸透膜モジュールに向けて圧送する加圧ポンプと、透過水を前記逆浸透膜モジュールから送出する透過水ラインと、濃縮水を前記逆浸透膜モジュールから送出する濃縮水ラインと、前記濃縮水ラインを流通する濃縮水の一部を前記供給水ラインにおける前記加圧ポンプよりも上流側に還流させる濃縮水循環ラインと、前記濃縮水循環ラインにおいて濃縮水の流量を定流量に調節する流量調節手段と、前記供給水ラインにおける前記加圧ポンプよりも上流側に接続され、供給水が流通する際に生じる負圧により前記濃縮水循環ラインに還流された濃縮水を吸引し、濃縮水が混合した供給水を前記加圧ポンプに向けて送出するエゼクタと、入力された電流値信号に対応する駆動周波数を前記加圧ポンプに出力するインバータと、前記透過水ラインに設けられ、透過水の流量を検出する流量センサと、前記流量センサの検出流量値が予め設定された目標流量値となるように、前記加圧ポンプの駆動周波数を演算し、当該駆動周波数の演算値に対応する電流値信号を前記インバータに出力する制御部と、を備える逆浸透膜分離装置に関する。
【0012】
また、前記流量調節手段は、定流量弁とすることが好ましい。
【0013】
また、供給水、透過水又は濃縮水の温度を検出する温度検出手段と、装置外へ排出される濃縮水の排水流量を調節可能な排水弁とを備え、前記制御部は、(i)予め取得された供給水のシリカ濃度、及び前記温度検出手段の検出温度値から決定したシリカ溶解度に基づいて、濃縮水におけるシリカの許容濃縮倍率を演算し、(ii)当該許容濃縮倍率の演算値、及び透過水の前記目標流量値から排水流量を演算し、(iii)濃縮水の実際排水流量が当該排水流量の演算値となるように、前記排水弁を制御することが好ましい。
【0014】
また、供給水のカルシウム硬度を測定する硬度測定手段と、装置外へ排出される濃縮水の排水流量を調節可能な排水弁とを備え、前記制御部は、(i)予め取得された炭酸カルシウム溶解度、及び前記硬度測定手段の測定硬度値に基づいて、濃縮水における炭酸カルシウムの許容濃縮倍率を演算し、(ii)当該許容濃縮倍率の演算値、及び透過水の前記目標流量値から排水流量を演算し、(iii)濃縮水の実際排水流量が当該排水流量の演算値となるように、前記排水弁を制御することが好ましい。
【0015】
また、透過水の電気伝導率を測定する電気伝導率測定手段と、装置外へ排出される濃縮水の排水流量を調節可能な排水弁とを備え、前記制御部は、前記電気伝導率測定手段の測定電気伝導率値が予め設定された目標電気伝導率値となるように、前記排水弁からの排水流量を制御することが好ましい。
【発明の効果】
【0016】
本発明によれば、加圧ポンプの消費電力を抑制できる逆浸透膜分離装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】第1実施形態に係る逆浸透膜分離装置1の全体構成図である。
【図2】第1実施形態の制御部10が流量フィードバック水量制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。
【図3】第1実施形態の制御部10が温度フィードフォワード回収率制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。
【図4】第2実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Aの全体構成図である。
【図5】第2実施形態の制御部10Aが水質フィードフォワード回収率制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。
【図6】第3実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Bの全体構成図である。
【図7】第3実施形態の制御部10Bが水質フィードバック回収率制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0018】
(第1実施形態)
まず、本発明の第1実施形態に係る逆浸透膜分離装置1について、図面を参照しながら説明する。本実施形態の逆浸透膜分離装置1は、例えば、淡水から純水を製造する純水製造システムに適用される。図1は、第1実施形態に係る逆浸透膜分離装置1の全体構成図である。図2は、制御部10が流量フィードバック水量制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。図3は、制御部10が温度フィードフォワード回収率制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。
【0019】
図1に示すように、第1実施形態に係る逆浸透膜分離装置1は、エゼクタ2と、温度検出手段としての温度センサ3と、加圧ポンプ4と、インバータ5と、逆浸透膜モジュールとしてのRO膜モジュール6と、流量センサ7と、流量調節手段としての定流量弁8と、制御部10と、排水弁としての第1排水弁11〜第3排水弁13と、を備える。図1では、電気的な接続の経路を破線で示す(後述する図1A、図1Bも同じ)。
【0020】
また、逆浸透膜分離装置1は、供給水ラインL1と、透過水ラインL2と、濃縮水ラインL3と、濃縮水循環ラインL4と、濃縮水排水ライン(第1濃縮水排水ラインL11、第2濃縮水排水ラインL12及び第3濃縮水排水ラインL13)と、を備える。本明細書における「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
【0021】
供給水ラインL1の上流側における端部は、供給水W1の供給源(不図示)に接続されている。供給水ラインL1において、前記供給源の下流側には、エゼクタ2のノズル部2a(後述)が接続されている。
【0022】
エゼクタ2は、供給水W1がノズル部2aから噴出される際に生じる負圧により濃縮水W3を吸引し、濃縮水W3が混合した供給水W1を加圧ポンプ4に向けて送出する装置である。
【0023】
エゼクタ2は、ノズル部2aと、ディフューザ部2bと、ノズル部2a及びディフューザ部2bの間に設けられた減圧吸引部2cと、を備える。ノズル部2aは、駆動流体としての供給水W1を流入させる部位である。減圧吸引部2cは、吸入流体としての濃縮水W3を吸引する部位である。ディフューザ部2bは、濃縮水W3が混合した供給水W1、すなわち混合流体を流出させる部位である。
【0024】
エゼクタ2は、供給水ラインL1において、加圧ポンプ4よりも上流側に接続されている。エゼクタ2は、ノズル部2a及びディフューザ部2bが供給水ラインL1に接続されている。エゼクタ2の減圧吸引部2cには、濃縮水循環ラインL4(後述)の下流側が接続されている。
【0025】
温度センサ3は、供給水W1の温度を検出する機器である。温度センサ3は、接続部J1において供給水ラインL1に接続されている。接続部J1は、エゼクタ2と加圧ポンプ4との間に配置されている。温度センサ3は、制御部10と電気的に接続されている。温度センサ3で検出された供給水W1の温度(以下、「検出温度値」ともいう)は、制御部10へ検出信号として送信される。
【0026】
加圧ポンプ4は、エゼクタ2から送出された供給水W1を吸入し、RO膜モジュール6に向けて吐出する装置である。加圧ポンプ4は、インバータ5(後述)と電気的に接続されている。加圧ポンプ4には、インバータ5から、周波数が変換された駆動電力が供給される。加圧ポンプ4は、入力された駆動周波数に応じた回転速度で駆動される。
【0027】
インバータ5は、加圧ポンプ4に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路である。インバータ5は、制御部10と電気的に接続されている。インバータ5には、制御部10から電流値信号が入力される。インバータ5は、入力された電流値信号に対応する駆動周波数を加圧ポンプ4に出力する。
【0028】
RO膜モジュール6は、供給水W1を、溶存塩類が除去された透過水W2と、溶存塩類が濃縮された濃縮水W3とに膜分離処理する設備である。RO膜モジュール6は、単一又は複数のRO膜エレメント(不図示)を備える。RO膜モジュール6は、これらRO膜エレメントにより供給水W1を膜分離処理し、透過水W2及び濃縮水W3を製造する。RO膜モジュール6の一次側入口ポートは、供給水ラインL1を介して加圧ポンプ4の下流側に接続されている。
【0029】
RO膜モジュール6の二次側ポートには、透過水ラインL2の上流側の端部が接続されている。RO膜モジュール6で製造された透過水W2は、透過水ラインL2を介して需要箇所等に純水として送出される。また、RO膜モジュール6の一次側出口ポートには、濃縮水ラインL3の上流側の端部が接続されている。RO膜モジュール6で製造された濃縮水W3は、濃縮水ラインL3を介して、RO膜モジュール6の外に排出される。
【0030】
濃縮水循環ラインL4は、RO膜モジュール6から送出された濃縮水W3の一部を、供給水ラインL1における加圧ポンプ4よりも上流側に還流させるラインである。濃縮水循環ラインL4の上流側の端部は、接続部J2において、濃縮水ラインL3に接続されている。また、濃縮水循環ラインL4の下流側の端部は、エゼクタ2の減圧吸引部2cに接続されている。
【0031】
濃縮水排水ライン(第1濃縮水排水ラインL11、第2濃縮水排水ラインL12及び第3濃縮水排水ラインL13)は、RO膜モジュール6から送出された濃縮水W4の残部を系外に排出するラインである。第1濃縮水排水ラインL11〜第3濃縮水排水ラインL13の上流側の端部は、接続部J4及びJ5において、濃縮水ラインL3に接続されている。
【0032】
流量センサ7は、透過水ラインL2を流通する透過水W2の流量を検出する機器である。流量センサ7は、接続部J3において透過水ラインL2に接続されている。流量センサ7は、制御部10と電気的に接続されている。流量センサ7で検出された透過水W2の流量(以下、「検出流量値」ともいう)は、制御部10へ検出信号として送信される。
【0033】
定流量弁8は、濃縮水ラインL3から濃縮水循環ラインL4に流通する濃縮水W3の流量を定流量に調節する機器である。
【0034】
第1濃縮水排水ラインL11、第2濃縮水排水ラインL12及び第3濃縮水排水ラインL13には、それぞれ第1排水弁11、第2排水弁12及び第3排水弁13が設けられている。第1排水弁11〜第3排水弁13は、第1濃縮水排水ラインL11〜第3濃縮水排水ラインL13を個別に開閉することにより、濃縮水W3の排水流量を調節し、RO膜モジュール6での透過水W2の回収率を所望の値に設定することができる。
【0035】
第1排水弁11〜第3排水弁13は、それぞれ定流量弁機構(不図示)を備える。定流量弁機構は、第1排水弁11〜第3排水弁13において、それぞれ異なる流量値に設定されている。例えば、第1排水弁11は、開状態において、透過水W2の回収率が95%となるように排水流量が設定されている。第2排水弁12は、開状態において、透過水W2の回収率が90%となるように排水流量が設定されている。第3排水弁13は、開状態において、透過水W2の回収率が80%となるように排水流量が設定されている。
【0036】
第1濃縮水排水ラインL11〜第3濃縮水排水ラインL13から排出される濃縮水W3の排水流量は、第1排水弁11〜第3排水弁13を選択的に開閉することにより、段階的に調節できる。例えば、第2排水弁12のみを開状態とし、第1排水弁11及び第3排水弁13を閉状態とする。この場合には、透過水W2の回収率を90%とすることができる。また、第1排水弁11及び第2排水弁12を開状態とし、第3排水弁13のみを閉状態とする。この場合には、透過水W2の回収率を85%とすることができる。従って、本実施形態において、第1排水弁11〜第3排水弁13を選択的に開閉して濃縮水W3の排水流量を調節することにより、透過水W2の回収率を65%〜95%までの間で、5%毎に段階的に設定できる。
【0037】
第1排水弁11〜第3排水弁13は、それぞれ制御部10と電気的に接続されている。第1排水弁11〜第3排水弁13における弁体の開閉は、制御部10からの駆動信号により制御される。
【0038】
制御部10は、CPU及びメモリを含むマイクロプロセッサ(不図示)により構成される。制御部10は、流量センサ7の検出流量値が予め設定された目標流量値となるように、加圧ポンプ4を駆動するための駆動周波数を演算し、当該駆動周波数の演算値に対応する電流値信号をインバータ5に出力する(以下、「流量フィードバック水量制御」ともいう)。制御部10による流量フィードバック水量制御については後述する。
【0039】
また、制御部10は、供給水W1の温度に基づいて、透過水W2の回収率制御を行う(以下、「温度フィードフォワード回収率制御」ともいう)。この温度フィードフォワード回収率制御は、上述した流量フィードバック水量制御と並行して実行される。制御部10による温度フィードフォワード回収率制御については後述する。
【0040】
次に、制御部10による流量フィードバック水量制御を、図2を参照して説明する。図2に示すフローチャートの処理は、逆浸透膜分離装置1の運転中において、繰り返し実行される。
【0041】
図3に示すステップST101において、制御部10は、透過水W2の目標流量値Q´を取得する。この目標流量値Q´は、例えば、システムの管理者がユーザーインターフェース(不図示)を介して制御部10のメモリに入力した設定値である。
【0042】
ステップST102において、制御部10は、内部のタイマ(不図示)による計時tが制御周期である100msに達したか否かを判定する。このステップST102において、制御部10により、タイマによる計時が100msに達した(YES)と判定された場合に、処理はステップST103へ移行する。また、ステップST102において、制御部10により、タイマによる計時が100msに達していない(NO)と判定された場合に、処理はステップST102へ戻る。
【0043】
ステップST103(ステップST102:YES判定)において、制御部10は、流量センサ24で検出された透過水W2の検出流量値Qを取得する。
ステップST104において、制御部10は、ステップST103で取得した検出流量値(フィードバック値)QとステップST101で取得した目標流量値Q´との偏差がゼロとなるように、速度形デジタルPIDアルゴリズムにより操作量Uを演算する。なお、速度形デジタルPIDアルゴリズムでは、制御周期(100ms)毎に操作量の変化分を演算し、これを前回の操作量に加算することで今回の操作量を決定する。
【0044】
ステップST105において、制御部10は、操作量U、目標流量値Q´及び加圧ポンプ4の最大駆動周波数(50Hz又は60Hzの設定値)に基づいて、加圧ポンプ4の駆動周波数Fを演算する。
ステップST106において、制御部10は、駆動周波数Fの演算値を、対応する電流値信号(4〜20mA)に変換する。
ステップST107において、制御部10は、変換した電流値信号をインバータ5へ出力する。これにより本フローチャートの処理は終了する(ステップST101へリターンする)。
【0045】
なお、ステップST107において、制御部10が電流値信号をインバータ5へ出力すると、インバータ5は、入力された電流値信号に対応する周波数に変換された駆動電力を加圧ポンプ4に供給する。その結果、加圧ポンプ4は、インバータ5から入力された駆動周波数に応じた回転速度で駆動される。
【0046】
次に、制御部10による温度フィードフォワード回収率制御を、図3を参照して説明する。図3に示すフローチャートの処理は、逆浸透膜分離装置1の運転中において、繰り返し実行される。
【0047】
図3に示すステップST201において、制御部10は、透過水W2の目標流量値Q´を取得する。この目標流量値Q´は、例えば、システム管理者がユーザーインターフェース(不図示)を介してメモリに入力した設定値である。
【0048】
ステップST202において、制御部10は、供給水W1のシリカ(SiO)濃度Cを取得する。このシリカ濃度Cは、例えば、システム管理者がユーザーインターフェース(不図示)を介してメモリに入力した設定値である。供給水W1のシリカ濃度は、事前に供給水W1を水質分析することにより得ることができる。なお、透過水ラインL2において、不図示のセンサにより供給水W1のシリカ濃度を計測してもよい。
【0049】
ステップST203において、制御部10は、温度センサ3から供給水W1の検出温度値Tを取得する。
ステップST204において、制御部10は、取得した検出温度値Tに基づいて、水に対するシリカ溶解度Sを決定する。
【0050】
ステップST205において、制御部10は、前のステップで取得又は決定したシリカ濃度C、及びシリカ溶解度Sに基づいて、濃縮水W3におけるシリカの許容濃縮倍率Nを演算する。シリカの許容濃縮倍率Nは、下記の式(1)により求めることができる。
=S/C (1)
例えば、シリカ濃度Cが20mgSiO/L、25℃におけるシリカ溶解度Sが100mgSiO/Lであれば、許容濃縮倍率Nは“5”となる。
【0051】
ステップST206において、制御部10は、前のステップで取得又は演算した目標流量値Q´、及び許容濃縮倍率Nに基づいて、回収率が最大となる排水流量(目標排水流量Q´)を演算する。目標排水流量Q´は、下記の式(2)により求めることができる。
´=Q´/(N−1) (2)
【0052】
ステップST207において、制御部10は、濃縮水W3の実際排水流量QがステップST206で演算した目標排水流量Q´となるように、第1排水弁11〜第3排水弁13の開閉を制御する。これにより本フローチャートの処理は終了する(ステップST201へリターンする)。
【0053】
上述した第1実施形態に係る逆浸透膜分離装置1によれば、例えば、以下のような効果が得られる。
第1実施形態に係る逆浸透膜分離装置1では、加圧ポンプ4の上流側における供給水ラインL1にエゼクタ2を設けている。エゼクタ2では、供給水W1が流通する際に生じる負圧により濃縮水循環ラインL4に還流された濃縮水W3が吸引される。このため、濃縮水循環ラインL4に還流される濃縮水W3の循環水量を確保することができる。これによれば、加圧ポンプ4において、減圧弁により下げられた分だけ運転圧力を高くする必要がない。従って、加圧ポンプ4の消費電力を抑制できる。
【0054】
また、エゼクタ2を設けることにより、減圧弁が不要となる。更に、エゼクタ2を設けることにより、加圧ポンプ4の容量を小さくすることもできる。
【0055】
また、第1実施形態に係る逆浸透膜分離装置1では、温度フィードフォワード回収率制御を実行する。このため、逆浸透膜分離装置1において、透過水W2の回収率を最大としつつ、RO膜モジュール6におけるシリカ系スケールの析出をより確実に抑制することができる。
【0056】
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Aの構成について、図4を参照して説明する。図4は、第2実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Aの全体構成図である。なお、第2実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。第2実施形態では、第1実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第2実施形態では、第1実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
【0057】
図4に示すように、第2実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Aは、エゼクタ2と、加圧ポンプ4と、インバータ5と、RO膜モジュール6と、流量センサ7と、定流量弁8と、硬度測定手段としての硬度センサ9と、制御部10Aと、第1排水弁11〜第3排水弁13と、を備える。
【0058】
硬度センサ9は、透過水ラインL2を流通する供給水W1のカルシウム硬度(炭酸カルシウム換算値)を測定する機器である。硬度センサ9は、接続部J1において供給水ラインL1に接続されている。接続部J1は、エゼクタ2と加圧ポンプ4との間に配置されている。硬度センサ9は、制御部10Aと電気的に接続されている。硬度センサ9で測定された供給水W1のカルシウム硬度(以下、「測定硬度値」ともいう)は、制御部10Aへ検出信号として送信される。
【0059】
制御部10Aは、CPU及びメモリ含むマイクロプロセッサ(不図示)により構成される。制御部10Aは、第1実施形態の制御部10と同じ流量フィードバック水量制御(図2参照)を実行する。
また、本実施形態の制御部10Aは、供給水W1の硬度に基づいて、透過水W2の回収率制御を行う(以下、「水質フィードフォワード回収率制御」ともいう)。この水質フィードフォワード回収率制御は、上述した流量フィードバック水量制御と並行して実行される。
【0060】
次に、制御部10Aによる水質フィードフォワード回収率制御について説明する。図5は、制御部10Aが水質フィードフォワード回収率制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。図5に示すフローチャートの処理は、逆浸透膜分離装置1の運転中において、繰り返し実行される。
【0061】
図5に示すステップST301において、制御部10Aは、透過水W2の目標流量値Q´を取得する。この目標流量値Q´は、例えば、システム管理者がユーザーインターフェース(不図示)を介してメモリに入力した設定値である。
ステップST302において、制御部10Aは、硬度センサ9で測定された供給水W1の測定硬度値Cを取得する。
【0062】
ステップST303において、制御部10Aは、水に対する炭酸カルシウム溶解度Sを取得する。この炭酸カルシウム溶解度Sは、例えば、システム管理者がユーザーインターフェース(不図示)を介してメモリに入力した設定値である。尚、水に対する炭酸カルシウム溶解度は、通常の運転温度(5〜35℃)では、ほぼ一定値と看做せる。
【0063】
ステップST304において、制御部10Aは、前のステップで取得した測定硬度値C、及び炭酸カルシウム溶解度Sに基づいて、濃縮水W3における炭酸カルシウムの許容濃縮倍率Nを演算する。炭酸カルシウムの許容濃縮倍率Nは、下記の式(3)により求めることができる。
=S/C (3)
例えば、測定硬度値Cが3mgCaCO/L、25℃における炭酸カルシウム溶解度Sが15mgCaCO/Lであれば、許容濃縮倍率Nは“5”となる。
【0064】
ステップST305において、制御部10Aは、前のステップで取得又は演算した目標流量値Q´、及び許容濃縮倍率Nに基づいて、回収率が最大となる排水流量(目標排水流量Q´)を演算する。目標排水流量Q´は、下記の式(4)により求めることができる。
´=Q´/(N−1) (4)
【0065】
ステップST306において、制御部10Aは、濃縮水W3の実際排水流量QがステップST305で演算した目標排水流量Q´となるように第1排水弁11〜第3排水弁13の開閉を制御する。これにより本フローチャートの処理は終了する(ステップST301へリターンする)。
【0066】
上述した第2実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Aによれば、透過水W2の流量フィードバック水量制御を実行するため、第1実施形態と同様の効果が得られる。また、第2実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Aでは、水質フィードフォワード回収率制御を実行する。このため、逆浸透膜分離装置1Aにおいては、透過水W2の回収率を最大としつつ、RO膜モジュール6における炭酸カルシウム系スケールの析出をより確実に抑制することができる。
【0067】
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Bの構成について、図6を参照して説明する。図6は、第3実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Bの全体構成図である。なお、第3実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。第3実施形態では、第1実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第3実施形態では、第1実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
【0068】
図6に示すように、第3実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Bは、エゼクタ2と、加圧ポンプ4と、インバータ5と、RO膜モジュール6と、流量センサ7と、定流量弁8と、制御部10Aと、第1排水弁11〜第3排水弁13と、電気伝導率測定手段としての電気伝導率センサ14と、を備える。
【0069】
電気伝導率センサ14は、透過水ラインL2を流通する透過水W2の電気伝導率を測定する機器である。電気伝導率センサ14は、接続部J6において透過水ラインL2に接続されている。電気伝導率センサ14は、制御部10Bと電気的に接続されている。電気伝導率センサ14で測定された透過水W2の電気伝導率(以下、「測定電気伝導率値」ともいう)は、制御部10Bへ検出信号として送信される。
【0070】
制御部10Bは、CPU及びメモリ含むマイクロプロセッサ(不図示)により構成される。制御部10Bは、第1実施形態の制御部10と同じ流量フィードバック水量制御(図2参照)を実行する。
また、本実施形態の制御部10Bは、透過水W2の電気伝導率に基づいて、透過水W2の回収率制御を行う(以下、「水質フィードバック回収率制御」ともいう)。この水質フィードバック回収率制御は、上述した流量フィードバック水量制御と並行して実行される。
【0071】
次に、制御部10Bによる水質フィードバック回収率制御について説明する。図7は、制御部10Bが水質フィードバック回収率制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。図7に示すフローチャートの処理は、逆浸透膜分離装置1の運転中において、繰り返し実行される。
【0072】
図7に示すステップST401において、制御部10Bは、透過水W2の目標電気伝導率値E´を取得する。目標電気伝導率値E´は、透過水W2に要求される純度の指標である。目標電気伝導率値E´は、例えば、システム管理者がユーザーインターフェース(不図示)を介してメモリに入力した設定値である。
【0073】
ステップST402において、制御部10Bは、電気伝導率センサ14で測定された透過水W5の測定電気伝導率値Eを取得する。
ステップST403において、制御部10Bは、ステップST402で取得した測定電気伝導率値(フィードバック値)EとステップST401で取得した目標電気伝導率値E´との偏差がゼロとなるように、第1排水弁11〜第3排水弁13の開閉を制御する。すなわち、濃縮水W3の排水流量を段階的に増減させることにより、要求純度の透過水W2が得られるように、膜表面の溶存塩類の濃度を変化させる。これにより本フローチャートの処理は終了する(ステップST401へリターンする)。
【0074】
上述した第3実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Bによれば、透過水W2の流量フィードバック水量制御を実行するため、第1実施形態と同様の効果が得られる。また、第3実施形態に係る逆浸透膜分離装置1Bでは、水質フィードフォワード回収率制御を実行する。このため、逆浸透膜分離装置1Bにおいては、透過水W2に要求される水質を満たしつつ、透過水W2の回収率を最大限にまで高めることができる。
【0075】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明した。しかし、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
例えば、第1実施形態では、温度フィードフォワード回収率制御において、供給水W1の温度を検出する例について説明した。これに限らず、例えば、RO膜モジュール6で得られた透過水W2又は濃縮水W3の温度を検出してもよい。
【0076】
第2実施形態では、水質フィードフォワード回収率制御において、炭酸カルシウムの許容濃縮倍率及び透過水W2の目標流量値に基づいて、回収率が最大となる排水流量を算出する例について説明した。これに限らず、次のような手法を採用してもよい。すなわち、炭酸カルシウムの許容濃縮倍率Nとシリカの許容濃縮倍率Nとを比較し、小さい側の許容濃縮倍率を選択する。そして、選択した許容濃縮倍率及び透過水W2の目標流量値に基づいて、回収率が最大となる排水流量を算出する。
【0077】
第1〜第3実施形態において、インバータ5から加圧ポンプ4に駆動周波数を出力した際に、エゼクタ2の下流側を流通する供給水W1の圧力値を圧力センサ(不図示)により検出し、その圧力値が予め設定された駆動周波数に対応する圧力範囲を外れる場合に、警報を発生させる構成としてもよい。第1〜第3実施形態では、エゼクタ2を設けているため、供給水W1の圧力低下を生じにくい。従って、上記構成とした場合において、警報の発生回数を少なくできる。
【0078】
第1〜第3実施形態において、供給水W1は、地下水や水道水等の原水であってもよい。また、供給水W1は、原水を濾過装置や硬水軟化装置により前処理した水であってもよい。
第1〜第3実施形態では、流量調整手段として定流量弁8を設けた例について説明した。これに限らず、例えば、比例制御弁等を設けた構成としてもよい。
【0079】
第1〜第3実施形態では、各回収率制御において、第1排水弁11〜第3排水弁13を選択的に開閉することにより、濃縮水W3の排水流量を段階的に調節する例について説明した。これに限らず、濃縮水排水ラインを分岐せずに1本とし、このラインに比例制御弁を設けた構成としてもよい。その場合には、制御部10(10A,10B)から電流値信号(例えば、4〜20mA)を比例制御弁に送信して弁開度を制御することにより、濃縮水W3の排水流量を調節することができる。
【0080】
また、比例制御弁を設けた構成において、濃縮水排水ラインに流量センサを設けた構成としてもよい。流量センサで検出された流量値を、制御部10(10A,10B)にフィードバック値として入力する。これにより、濃縮水W3の実際排水流量をより正確に制御することができる。
【符号の説明】
【0081】
1,1A,1B 逆浸透膜分離装置
2 エゼクタ
3 温度センサ(温度検出手段)
4 加圧ポンプ
5 インバータ
6 RO膜モジュール(逆浸透膜モジュール)
7 流量センサ
8 定流量弁(流量調節手段)
9 硬度センサ(硬度測定手段)
10,10A,10B 制御部
11 第1排水弁(排水弁)
12 第2排水弁(排水弁)
13 第3排水弁(排水弁)
14 電気伝導率センサ(電気伝導率測定手段)
L1 供給水ライン
L2 透過水ライン
L3 濃縮水ライン
L4 濃縮水循環ライン
L11 第1濃縮水排水ライン
L12 第2濃縮水排水ライン
L13 第3濃縮水排水ライン
W1 供給水
W2 透過水
W3 濃縮水

【特許請求の範囲】
【請求項1】
供給水を透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜モジュールと、
供給水を前記逆浸透膜モジュールに供給する供給水ラインと、
入力された駆動周波数に応じた回転速度で駆動され、前記供給水ラインを流通する供給水を前記逆浸透膜モジュールに向けて圧送する加圧ポンプと、
透過水を前記逆浸透膜モジュールから送出する透過水ラインと、
濃縮水を前記逆浸透膜モジュールから送出する濃縮水ラインと、
前記濃縮水ラインを流通する濃縮水の一部を前記供給水ラインにおける前記加圧ポンプよりも上流側に還流させる濃縮水循環ラインと、
前記濃縮水循環ラインにおいて濃縮水の流量を定流量に調節する流量調節手段と、
前記供給水ラインにおける前記加圧ポンプよりも上流側に接続され、供給水が流通する際に生じる負圧により前記濃縮水循環ラインに還流された濃縮水を吸引し、濃縮水が混合した供給水を前記加圧ポンプに向けて送出するエゼクタと、
入力された電流値信号に対応する駆動周波数を前記加圧ポンプに出力するインバータと、
前記透過水ラインに設けられ、透過水の流量を検出する流量センサと、
前記流量センサの検出流量値が予め設定された目標流量値となるように、前記加圧ポンプの駆動周波数を演算し、当該駆動周波数の演算値に対応する電流値信号を前記インバータに出力する制御部と、
を備える逆浸透膜分離装置。
【請求項2】
前記流量調節手段が定流量弁である、
請求項1に記載の逆浸透膜分離装置。
【請求項3】
供給水、透過水又は濃縮水の温度を検出する温度検出手段と、
装置外へ排出される濃縮水の排水流量を調節可能な排水弁とを備え、
前記制御部は、(i)予め取得された供給水のシリカ濃度、及び前記温度検出手段の検出温度値から決定したシリカ溶解度に基づいて、濃縮水におけるシリカの許容濃縮倍率を演算し、(ii)当該許容濃縮倍率の演算値、及び透過水の前記目標流量値から排水流量を演算し、(iii)濃縮水の実際排水流量が当該排水流量の演算値となるように、前記排水弁を制御する、
請求項1又は2に記載の逆浸透膜分離装置。
【請求項4】
供給水のカルシウム硬度を測定する硬度測定手段と、
装置外へ排出される濃縮水の排水流量を調節可能な排水弁とを備え、
前記制御部は、(i)予め取得された炭酸カルシウム溶解度、及び前記硬度測定手段の測定硬度値に基づいて、濃縮水における炭酸カルシウムの許容濃縮倍率を演算し、(ii)当該許容濃縮倍率の演算値、及び透過水の前記目標流量値から排水流量を演算し、(iii)濃縮水の実際排水流量が当該排水流量の演算値となるように、前記排水弁を制御する、
請求項1又は2に記載の逆浸透膜分離装置。
【請求項5】
透過水の電気伝導率を測定する電気伝導率測定手段と、
装置外へ排出される濃縮水の排水流量を調節可能な排水弁とを備え、
前記制御部は、前記電気伝導率測定手段の測定電気伝導率値が予め設定された目標電気伝導率値となるように、前記排水弁からの排水流量を制御する、
請求項1又は2に記載の逆浸透膜分離装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【公開番号】特開2013−34926(P2013−34926A)
【公開日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−171644(P2011−171644)
【出願日】平成23年8月5日(2011.8.5)
【出願人】(000175272)三浦工業株式会社 (1,055)
【Fターム(参考)】